JP2006321880A - ポリアセタール樹脂組成物及び成形品 - Google Patents

Abstract

【課題】 ホルムアルデヒドの発生量を極めて低レベルに抑制でき、モールドデポジットやブリードアウトを抑制できるポリアセタール樹脂組成物及び成形品を提供する。
【解決手段】 ポリアセタール樹脂と、式（１）
【化１】

（式中、Ｒ¹は炭素数１〜３０の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又はアシル基を示し、ａは１〜４の整数、ｂは０〜４の整数を示す）
で表される単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドとで構成する。前記単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）は、特に、Ｃ_1-8アルキル基を有する安息香酸ヒドラジドであってもよい。前記ポリアセタール樹脂は、共重合単位として環状エーテル及び／又は環状ホルマールで構成された単位を有するコポリマーであってもよい。
【選択図】 なし

Description

本発明は、ホルムアルデヒドの発生量を極めて低レベルに抑制でき、成形における金型への付着物（モールドデポジット）の発生や成形品におけるブリードアウトを抑制できるポリアセタール樹脂組成物及びこの樹脂組成物で形成された成形品に関する。

ポリアセタール樹脂は、機械的性質、耐疲労性、耐摩擦・摩耗性、耐薬品性及び成形性に優れているため、自動車部品、電気・電子機器部品、その他の精密機械部品、建材・配管部材、生活・化粧用部品、医用部品などの分野において広く利用されている。しかし、用途の拡大及び多様化に伴って、より熱安定性に優れ、ホルムアルデヒドの発生量が極めて少ないポリアセタール樹脂が求められている。

一般にホルムアルデヒドは化学的に活性であり、酸化によりギ酸となり耐熱性に悪影響を及ぼしたり、電気・電子機器の部品などに用いると、金属製接点部品が腐蝕したり有機化合物の付着により変色し、接点不良を生じる。また、通常の使用条件下においてポリアセタール樹脂成形品から発生するホルムアルデヒドは極めて微少量であるが、部品組立工程での作業環境や最終製品の使用周辺の生活環境を汚染する要因の１つとなる。さらに、成形における多量のホルムアルデヒドの発生は金型表面でパラホルムアルデヒドを生成させ、モールドデポジットの原因となる。

従来、ポリアセタール樹脂の化学的構造を安定化するため、ホモポリマーについては、重合体の末端をアセチル化などによりエステル化する方法、コポリマーについては、重合時にトリオキサンと環状エーテル、環状ホルマールなどの隣接炭素結合を有するモノマーとを共重合した後、不安定な末端部分を分解除去して不活性な安定末端とする方法などが知られている。しかし、加熱時にはポリマーの主鎖部分での解裂分解も起こり、その防止には、上記処理のみでは対処できず、実用的には安定剤（酸化防止剤、その他の安定剤など）の添加が必須とされている。

例えば、ポリアセタール樹脂に添加する酸化防止剤としては、立体障害を有するフェノール化合物(ヒンダードフェノール)、立体障害を有するアミン化合物(ヒンダードアミン)が知られており、その他の安定剤として、メラミン、アルカリ金属水酸化物やアルカリ土類金属水酸化物、有機又は無機酸塩など知られている。また、通常、酸化防止剤は他の安定化剤と組み合わせて用いられる。しかし、このような添加剤を用いても、ポリアセタール樹脂の成形品から発生するホルムアルデヒドを大幅に抑制することは困難である。

米国特許第３１５２１０１号公報（特許文献１）には、ポリアセタールコポリマーとジカルボン酸ジヒドラジド（炭素数３〜１０の脂肪族ジカルボン酸ジヒドラジド、芳香族ジカルボン酸ジヒドラジド、脂環族ジカルボン酸ジヒドラジドなど）とを含む組成物が開示されている。この文献には、短鎖脂肪族カルボン酸ヒドラジドについて具体的に記載されている。

しかし、短鎖脂肪族カルボン酸ヒドラジドを用いると、ある程度は、熱安定性が向上し、ホルムアルデヒドの発生を抑制できるものの、成形性を著しく悪化させ、カルボン酸ヒドラジド化合物に由来するモールドデポジットが発生したり、成形品からカルボン酸ヒドラジドのブリードアウト（染み出し）が起こる。また、この文献には、どのようなアリーレンジカルボン酸ジヒドラジドを使用すれば樹脂組成物の熱安定性が改善されるか具体的に開示されていない。

一方、特開平１０−３６６８１号公報（特許文献２）には、合成樹脂と、ヒドラジド化合物（サリチル酸ヒドラジド、ｐ−ヒドロキシ安息香酸ヒドラジド、ナフトエ酸ヒドラジドなどを含むモノヒドラジド化合物；ポリアクリル酸ヒドラジドなどを含むポリヒドラジド化合物など）とを含有する樹脂組成物が、アセトアルデヒドやホルムアルデヒドなどに対する消臭効果を有することが開示されている。

この文献には、たばこ煙の悪臭や新建材からのアルデヒド臭を消臭するために、各種の樹脂とヒドラジド化合物とを組み合わせることは記載されているが、ポリアセタール樹脂は記載されていない。さらに、この文献では、ジヒドラジド化合物が好ましいと記載され、実施例では、アジピン酸ジヒドラジドが使用されている。
米国特許第３１５２１０１号公報（第１欄及び第３欄） 特開平１０−３６６８１号公報（請求項１、段落番号［0011］［0015］［0016］［0020］［0025］）

従って、本発明の目的は、ホルムアルデヒドの発生量を極めて低レベルに抑制でき、かつ添加剤に由来するモールドデポジットやブリードアウトを抑制できるポリアセタール樹脂組成物及び成形品を提供することにある。

本発明の他の目的は、ホルムアルデヒドの発生量を低レベルに抑制できるとともに、耐候（光）性、耐衝撃性、摺動性などの物性が改善されたポリアセタール樹脂組成物及び成形品を提供することにある。

本発明者は、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、ポリアセタール樹脂と特定の単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドとを組み合わせると、ホルムアルデヒドの発生量を極めて低レベルに抑制できるだけでなく、添加剤に由来するモールドデポジットやブリードアウトを抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明のポリアセタール樹脂組成物は、ポリアセタール樹脂と、式（１）

（式中、Ｒ¹は炭素数１〜３０の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又はアシル基を示し、ａは１〜４の整数、ｂは０〜４の整数を示す）
で表される単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドとで構成されている。

前記単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）は、式（１）において、ａが１〜２の整数であり、かつｂが０〜２の整数である芳香族モノカルボン酸ヒドラジド、例えば、Ｒ¹がＣ_1-8アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であり、ａが１〜２の整数であり、かつｂが０〜１の整数である芳香族モノカルボン酸ヒドラジドであってもよい。前記単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）は、特に、Ｃ_1-8アルキル基を有する安息香酸ヒドラジド（３，５−ジＣ_1-4アルキル−４−ヒドロキシ安息香酸ヒドラジドやＣ_1-8アルキル安息香酸ヒドラジドなど）であってもよい。このような単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、例えば、０．００１〜２０重量部程度であってもよい。

前記ポリアセタール樹脂は、共重合単位として環状エーテル及び／又は環状ホルマールで構成された単位を有するコポリマーであってもよい。特に、ホルムアルデヒドの環状オリゴマー単位と、環状エーテル単位及び／又は環状ホルマールとで構成されたコポリマーであってもよく、環状オリゴマー単位と、環状エーテル単位及び／又は環状ホルマール単位との割合（重量比）が、（環状オリゴマー単位）／（環状エーテル単位及び／又は環状ホルマール単位）＝９９．５／０．５〜８０／２０であってもよい。

本発明のポリアセタール樹脂組成物は、さらに、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工安定剤、耐候（光）安定剤、耐衝撃性改良剤、摺動性改良剤、光沢制御剤、充填剤及び着色剤から選択された少なくとも一種を含んでいてもよい。前記酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系化合物及び／又はヒンダードアミン系化合物であってもよい。また、前記耐熱安定剤は、例えば、有機カルボン酸金属塩、アミノトリアジン化合物、グアニジン化合物、尿素化合物、アミノ酸化合物、アミノアルコール化合物、イミド化合物、アミド化合物、ヒドラジン化合物、アルカリ又はアルカリ土類金属化合物、ハイドロタルサイト、ゼオライト、ホスフィン系化合物などであってもよい。また、前記加工安定剤は、長鎖脂肪酸又はその誘導体、ポリアルキレングリコール、シリコーン系化合物などであってもよい。さらに、前記耐候(光)安定剤は、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、芳香族ベンゾエート系化合物、シアノアクリレート系化合物、シュウ酸アニリド系化合物、ヒドロキシフェニル−１，３，５−トリアジン系化合物などであってもよい。

本発明には、前記ポリアセタール樹脂組成物で形成されている成形品も含まれる。この成形品は、（１）温度６０℃で飽和湿度の密閉空間に厚さ２ｍｍの成形品を３時間保存したときに発生するホルムアルデヒド量が、成形品の単位重量当り２μｇ／ｇ以下、及び／又は（２）温度８０℃の密閉空間に厚さ２ｍｍの成形品を２４時間保存したときに発生するホルムアルデヒド量が、成形品の単位重量当り２μｇ／ｇ以下であってもよい。前記成形品は、自動車部品、電気・電子部品、建材・配管部品、生活・化粧品用部品、医用部品などに適している。

本発明では、ポリアセタール樹脂に特定の単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドを添加しているので、ホルムアルデヒドの発生量を極めて低レベルに抑制できる。さらに、添加剤に由来するモールドデポジットや、成形品におけるブリードアウトを著しく抑制できるため、成形性及び成形品の品質を改善できる。さらに、他の添加剤（酸化防止剤、耐熱安定剤、加工安定剤、耐候（光）安定剤、耐衝撃性改良剤、摺動性改良剤、光沢制御剤、充填剤、着色剤など）を添加すると、ホルムアルデヒドの発生を抑制できるとともに、耐候（光）性、耐衝撃性、摺動性などの物性も改善できる。

本発明の樹脂組成物は、ポリアセタール樹脂と単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）とで構成されている。

（ポリアセタール樹脂）
ポリアセタール樹脂は、オキシメチレン基（−ＯＣＨ₂−）を主たる構成単位とする高分子化合物であり、実質的にオキシメチレン単位の繰返しのみからなるポリアセタールホモポリマー又はポリオキシメチレン（例えば、米国デュポン社製、商品名「デルリン」；旭化成工業（株）製、商品名「テナック４０１０」など）、オキシメチレン単位以外に、他のコモノマー単位を少なくとも一種含有するポリアセタールコポリマー（例えば、ポリプラスチックス（株）製、商品名「ジュラコン」など）などが代表的な樹脂である。さらに、ポリアセタール樹脂には、慣用のポリアセタール樹脂、例えば、分岐形成成分や架橋形成成分を共重合することにより分岐構造や架橋構造が導入された共重合体、更には、オキシメチレン基の繰返しを構成単位として有するブロック共重合体やグラフト共重合体なども含まれる。これらのポリアセタール樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

本発明では、ポリアセタール樹脂は、オキシメチレン単位を有するポリアセタール樹脂であれば特に限定されないが、特に、ホルムアルデヒドが発生し易いポリアセタールコポリマーに対して効果的である。

一般に、ポリアセタールホモポリマーは、無水ホルムアルデヒドやトリオキサン（ホルムアルデヒドの環状三量体）の重合により製造され、通常、その末端をエステル化することにより、熱分解に対して安定化されている。

これに対して、ポリアセタールコポリマーは、一般的に、ホルムアルデヒド又は一般式(ＣＨ₂Ｏ)_n［式中、ｎは３以上の整数を示す］で表されるホルムアルデヒドの環状オリゴマー（例えばトリオキサン）と、環状エーテルや環状ホルマールなどのコモノマーとを共重合することによって製造され、通常、加水分解によって末端の不安定部分を除去して熱分解に対して安定化される。本発明では、特に、このようなポリアセタールコポリマーが、ホルムアルデヒドの発生を抑制する観点から好適に使用される。

ポリアセタールコポリマーの主原料としては、トリオキサンやテトラオキサンなどが挙げられ、通常、トリオキサンが使用される。トリオキサンは、一般的に、酸性触媒の存在下でホルムアルデヒド水溶液を反応させた後、蒸留などの方法で精製して得られる。重合に用いるトリオキサンは、水、メタノール、蟻酸などの不純物を実質的に含まないのが好ましい。

コモノマーには、環状エーテル、グリシジルエーテル化合物、環状ホルマール、環状エステル（例えば、β−プロピオラクトンなど）、ビニル化合物（例えば、スチレン、ビニルエーテルなど）などが含まれる。

環状エーテルとしては、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、シクロヘキセンオキサイド、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、スチレンオキシド、オキセタン、３，３−ビス（クロロメチル）オキセタン、テトラヒドロフラン、トリオキセパン、１，３−ジオキサンなどが挙げられる。

グリシジルエーテル化合物としては、例えば、アルキル又はアリールグリシジルエーテル（例えば、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ナフチルグリシジルエーテルなど）、アルキレン又はポリアルキレングリコールジグリシジルエーテル（例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテルなど）、アルキル又はアリールグリシジルアルコールなどが挙げられる。

環状ホルマールとしては、例えば、１，３−ジオキソラン、プロピレングリコールホルマール、ジエチレングリコールホルマール、トリエチレングリコールホルマール、１，４−ブタンジオールホルマール、１，５−ペンタンジオールホルマール、１，６−ヘキサンジオールホルマールなどが挙げられる。

これらのコモノマーは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのコモノマーのうち、通常、環状エーテル及び／又は環状ホルマールが用いられ、特に、エチレンオキシドなどの環状エーテルや、１，３−ジオキソラン、１，４−ブタンジオールホルマール、ジエチレングリコールホルマールなどの環状ホルマールなどが好ましい。

これらのコモノマー（例えば、環状エーテル及び／又は環状ホルマール）単位の割合は、ポリアセタール樹脂全体に対して、例えば、０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜２０重量％、さらに好ましくは０．５〜１５重量％（特に１〜１０重量％）程度である。例えば、コポリマーがホルムアルデヒドの環状オリゴマー単位と、環状エーテル単位及び／又は環状ホルマール単位とで構成されている場合、両者の割合（重量比）は、例えば、（環状オリゴマー単位）／（環状エーテル単位及び／又は環状ホルマール単位）＝９９．５／０．５〜８０／２０、好ましくは９９．５／０．５〜８５／１５程度である。

コモノマーを共重合して得られたコポリマーは、一般には、さらに適量の分子量調整剤を添加して、カチオン重合触媒を用いてカチオン重合される。分子量調整剤としては、例えば、アルコキシ基を有してもよい低分子量アセタール化合物（例えば、メチラール、メトキシメチラール、ジメトキシメチラール、トリメトキシメチラール、オキシメチレンジ−ｎ−ブチルエーテルなど）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、ブタノールなど）、エステル化合物、酸化合物、水などが例示される。これらのうち、アルコキシ基を有する低分子量アセタール化合物が好ましい。

カチオン重合触媒としては、例えば、金属塩化物（四塩化鉛、四塩化スズ、四塩化チタン、三塩化アルミニウム、塩化亜鉛、三塩化バナジウム、三塩化アンチモンなど）、金属フッ化物（五フッ化リン、五フッ化アンチモン、三フッ化ホウ素など）、三フッ化ホウ素配位化合物（三フッ化ホウ素ジエチルエーテラート、三フッ化ホウ素ジブチルエーテラート、三フッ化ホウ素ジオキサネート、三フッ化ホウ素アセチックアンハイドレート、三フッ化ホウ素トリエチルアミン錯化合物など）、無機及び有機酸（過塩素酸、アセチルパークロレート、ｔ−ブチルパークロレート、ヒドロキシ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸など）、複合塩化合物（トリエチルオキソニウムテトラフロロボレート、トリフェニルメチルヘキサフロロアンチモネート、アリルジアゾニウムヘキサフロロホスフェート、アリルジアゾニウムテトラフロロボレートなど）、アルキル金属塩（ジエチル亜鉛、トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライドなど）、ポリリン酸（ヘテロポリ酸、イソポリ酸など）が挙げられる。これらの触媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素配位化合物、ヘテロポリ酸、トリフルオロメタンスルホン酸が好ましい。これらの触媒は有機溶剤などで予め希釈して用いることもできる。

ポリアセタールコポリマーの製造方法は、特に限定されないが、例えば、以下の方法によって得られたコポリマーを用いてもよい。重合装置としては、慣用の重合装置が使用されるが、特に、２軸のパドルなどを付した連続式の重合装置が好適に使用される。また、重合温度は５０〜１５０℃（好ましくは６５〜１３５℃）程度に保持される。重合終了後は、通常、中和剤を添加し、前記触媒を中和し、失活させる。中和剤は、重合反応後、重合装置より排出される生成反応物に添加してもよく、重合装置中の反応生成物に添加してもよい。特に、重合反応後、速やかに中和剤を添加するのが好ましい。中和剤は、慣用の触媒失活剤であれば特に限定されないが、通常、塩基性化合物である。塩基性化合物としては、例えば、アンモニア、アミン類（トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、トリブタノールアミンなど）、アミノトリアジン化合物、グアニジン化合物、尿素化合物、アミノ酸化合物、アミノアルコール化合物、イミド化合物、アミド化合物、ヒドラジン化合物、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物塩類などが挙げられる。これらの中和剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。さらに、中和剤は水溶液の形態で使用してもよい。このようにして得られたコポリマーは、必要に応じて、さらに洗浄、未反応モノマーの分離回収、乾燥などを慣用の方法で行ってもよい。

ポリアセタール樹脂のメルトインデックスは、特に限定されないが、例えば、０．０１〜５００ｇ／１０分程度の範囲から選択でき、好ましくは０．１〜１００ｇ／１０分、さらに好ましくは０．５〜８０ｇ／１０分（特に１〜５０ｇ／１０分）程度である。本発明では、メルトインデックスは、ＡＳＴＭ−Ｄ１２３８に準じて、１９０℃、２.１６ｋｇｆ（２１．２Ｎ）の条件下で測定した値である。

ポリアセタール樹脂の分子量も、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量５，０００〜５００，０００、好ましくは１０，０００〜４００，０００程度である。

（単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド）
本発明の特色は、前記式（１）で表される単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドをポリアセタール樹脂に添加することにより、ホルムアルデヒドの発生を著しく抑制でき、ポリアセタール樹脂の加工安定性を著しく向上させる点にある。

式（１）において、Ｒ¹で表される炭化水素基は、炭素数１〜３０の炭化水素基、例えば、アルキル基やシクロアルキル基であってもよい。アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル基などのＣ_1-30直鎖又は分岐状アルキル基などが挙げられる。シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基やシクロヘキシル基などのＣ_3-30シクロアルキル基などが挙げられる。これらの炭化水素基のうち、メチル、エチル、プロピル、ブチル基、エチルヘキシル基などのＣ_1-8アルキル基、特にメチルやｔ−ブチル基などのＣ_1-4アルキル基が好ましい。

Ｒ¹の個数ａは１〜４の整数であり、好ましくは１〜３、さらに好ましくは１〜２の整数である。なお、ａが２以上の場合、基Ｒ¹は、各々同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ²は、水素原子、Ｃ_1-30アルキル基、Ｃ_1-30アシル基である。アルキル基としては、Ｒ¹で例示されたアルキルが挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル、エチルカルボニル、ブチルカルボニル基などが挙げられる。これらの基も複数の場合、同一であってもよく、二種以上の組み合わせであってもよい。基−ＯＲ²は、通常、ヒドロキシル基である（すなわち、Ｒ²＝Ｈ）が、ヒドロキシル基の誘導体基［例えば、メトキシ基などのＣ_1-4アルコキシ基（すなわち、Ｒ²はメチル基などのＣ_1-4アルキル基）、アセトキシ基などのＣ_2-5アシルオキシ基など］などであってもよい。

基−ＯＲ²の個数ｂは０〜４の整数であり、好ましくは０〜３、さらに好ましくは０〜２（特に０又は１）の整数である。なお、ｂが２以上の場合、基−ＯＲ²は、各々同一であってもよく、異なっていてもよい。

これらの単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドは、カルボン酸誘導体を用いた慣用のカルボン酸ヒドラジドの製造方法、例えば、(１)カルボン酸のエステル（アルキルエステルなど）と、ヒドラジン（ヒドラジン水化物を含む）とを加熱下で反応させる方法、(２)カルボン酸のハライド（クロライドなど）と、ヒドラジンとを反応させる方法、(３)カルボン酸塩と、ヒドラジンとを加熱下で反応させる方法、(４)カルボン酸に対応する酸アミドと、ヒドラジンとを加熱下で反応させる方法、(５)カルボン酸のウレイドと、次亜ハロゲン酸塩とを反応させる方法などの方法により製造できる。

これらの製造方法において、中間原料として使用されるカルボン酸誘導体を構成するモノカルボン酸としては、例えば、安息香酸、アルキル安息香酸［例えば、トルイル酸（ｏ−トルイル酸、ｍ−トルイル酸、ｐ−トルイル酸）、２−エチル安息香酸、３−エチル安息香酸、４−エチル安息香酸、４−イソプロピル安息香酸、４−ｎ−プロピル安息香酸、４−ｔ−ブチル安息香酸、４−（２−エチルヘキシル）安息香酸などのＣ_1-8アルキル安息香酸；２，３−ジメチル安息香酸、２，４−ジメチル安息香酸、２，５−ジメチル安息香酸、２，６−ジメチル安息香酸、３，４−ジメチル安息香酸、３，５−ジメチル安息香酸などのジＣ_1-8アルキル安息香酸；２，３，４−トリメチル安息香酸、２，３，５−トリメチル安息香酸、２，３，６−トリメチル安息香酸、２，４，５−トリメチル安息香酸、２，４，６−トリメチル安息香酸、３，４，５−トリメチル安息香酸などのトリＣ_1-8アルキル安息香酸；２，３，４，５−テトラメチル安息香酸などのテトラＣ_1-8アルキル安息香酸；ペンタメチル安息香酸などのペンタＣ_1-8アルキル安息香酸など］、ヒドロキシ安息香酸（例えば、２−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸などのモノヒドロキシ安息香酸；２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、３，４−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸などのジヒドロキシ安息香酸；３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸、２，３，４−トリヒドロキシ安息香酸、２，４，５−トリヒドロキシ安息香酸、２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸などのトリヒドロキシ安息香酸など）、アルキルサリチル酸（例えば、３−メチルサリチル酸、４−メチルサリチル酸、５−メチルサリチル酸など）、ヒドロキシアルキル安息香酸（例えば、３−ヒドロキシ−２−メチル安息香酸、２−ヒドロキシ−３，５−ジメチル安息香酸、３−ヒドロキシ−４−イソプロピル安息香酸、２−ヒドロキシ−３−イソプロピル−６−メチル安息香酸、４，６−ジヒドロキシー２−メチル安息香酸、２，６−ジヒドロキシ−４−メチル安息香酸、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸など）、オルセリン酸、アルキルオルセリン酸（例えば、メチルオルセリン酸など）、ヒドロキシオルセリン酸（例えば、４−ヒドロキシオルセリン酸、６−ヒドロキシオルセリン酸など）、ジバール酸、オリベトールカルボン酸、スフェロホロルカルボン酸などが挙げられる。これらのカルボン酸及びその誘導体は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

このような構造を有する単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）のうち、具体的には、Ｃ_1-8アルキル基を有する安息香酸ヒドラジド、特に、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヒドラジド、３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヒドラジドなどの３，５−ジＣ_1-4アルキル−４−ヒドロキシ安息香酸ヒドラジドや、トルイル酸ヒドラジド（ｏ−トルイル酸ヒドラジド、ｍ−トルイル酸ヒドラジド、ｐ−トルイル酸ヒドラジド）、４−ｔ−ブチル安息香酸ヒドラジド、４−（２−エチルヘキシル）安息香酸ヒドラジドが好ましい。これらの単環式芳香族モノカルボン酸は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、例えば、０．００１〜２０重量部、好ましくは０．００５〜１０重量部、さらに好ましくは０．０１〜５重量部（特に０．０１〜１重量部）程度である。前記カルボン酸ヒドラジドの割合が、少なすぎるとホルムアルデヒド発生量を効果的に低減するのが困難となり、多すぎると成形性や機械的強度が低下し易い。

本発明では、このような特定のヒドラジド化合物を用いることにより、ホルムアルデヒド発生量を大幅に低減するとともに、成形加工性（モールドデポジットの抑制）、成形品からの染み出し特性（ブリードアウトの抑制）に優れたポリアセタール樹脂組成物を得ることができる。

（他の添加剤）
本発明のポリアセタール樹脂組成物には、さらに、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工安定剤、耐候（光）安定剤、耐衝撃性改良剤、摺動性改良剤、光沢制御剤、充填剤、着色剤などの添加剤が含まれていてもよい。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

（１）酸化防止剤
酸化防止剤には、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、ヒドロキノン系化合物、キノリン系化合物などが含まれる。これらの酸化防止剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、ヒンダードフェノール系化合物及びヒンダードアミン系化合物が好ましい。

ヒンダードフェノール系化合物としては、例えば、単環式ヒンダードフェノール化合物（２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールなど）、炭化水素基又はイオウ原子を含む基で連結された多環式ヒンダードフェノール化合物［２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタンなどのＣ_1-10アルキレンビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；４，４′−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）などのＣ_2-10アルケニレン又はジエニレンビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンなどのＣ_6-20アリーレン又はアラルキレンビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）などのイオウ原子を有する基で連結されたビス（ｔ−ブチルフェノール）類など］、エステル基又はアミド基を有するヒンダードフェノール化合物［ｎ−オクタデシル−３−（４′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、ｎ−オクタデシル−２−（４′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネートなどのＣ_2-10アルキレンカルボニルオキシ基を有するｔ−ブチルフェノール；１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などの脂肪酸のポリオールエステルで連結されたビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンなどのヘテロ環基とＣ_2-10アルキレンカルボニルオキシ基とを有するビス乃至テトラキス（ｔ−ブチルフェノール）類；２−ｔ−ブチル−６−（３′−ｔ−ブチル−５′−メチル−２′−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレートなどのＣ_3-10アルケニレンカルボニルオキシ基を有するｔ−アルキルフェノール（例えば、ｔ−ブチルフェノール及びｔ−ペンチルフェノールなど）；ジ−ｎ−オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートなどのホスホン酸エステル基を有するヒンダードフェノール化合物；Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ジヒドロシンナムアミド、Ｎ，Ｎ′−エチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］、Ｎ，Ｎ′−テトラメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］、Ｎ，Ｎ′−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレートなどのアミド単位を有するヒンダードフェノール化合物など］などが含まれる。中でも、ｔ−ブチル（特に複数のｔ−ブチル）基を有するフェノール化合物（特に複数のｔ−ブチルフェノール部位を有する化合物）が好ましい。これらのヒンダードフェノール系化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

前記ヒンダードアミン系化合物としては、例えば、エステル基含有ピペリジン誘導体［４−アセトキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどの脂肪族アシルオキシピペリジン（Ｃ_2-20脂肪族アシルオキシ−テトラメチルピペリジンなど）；４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどの芳香族アシルオキシピペリジン（Ｃ_7-11芳香族アシルオキシ−テトラメチルピペリジンなど）；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）オギザレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）マロネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アジペート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アジペート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートなどの脂肪族ジ又はトリカルボン酸−ビス又はトリスピペリジルエステル（Ｃ_2-20脂肪族ジカルボン酸−ビスピペリジルエステルなど）；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）テレフタレート、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ベンゼン−１，３，５−トリカルボキシレートなどの芳香族ジ乃至テトラカルボン酸−ビス乃至テトラキスピペリジルエステル（芳香族ジ又はトリカルボン酸−ビス又はトリスピペリジルエステルなど）など］、エーテル基含有ピペリジン誘導体［４−メトキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのＣ_1-10アルコキシピペリジン（Ｃ_1-6アルコキシ−テトラメチルピペリジンなど）；４−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのＣ_5-8シクロアルキルオキシ−ピペリジン；４−フェノキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのアリールオキシピペリジン；４−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどＣ_6-10アリール−Ｃ_1-4アルキルオキシ−ピペリジン；１，２−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシ）エタンなどのアルキレンジオキシビスピペリジン（Ｃ_1-10アルキレンジオキシ−ビスピペリジンなど）など］、アミド基含有ピペリジン誘導体［４−（フェニルカルバモイルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどのカルバモイルオキシピペリジン；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレン−１，６−ジカルバメートなどのカルバモイルオキシ置換アルキレンジオキシ−ビスピペリジンなど］などが挙げられる。また、高分子量のピペリジン誘導体重縮合物（コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ｛６−［（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［２−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）アミノ］ヘキサメチレン［４−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）イミノ］｝など）なども含まれる。これらのヒンダードアミン系化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

これらの酸化防止剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。前記酸化防止剤の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、０．００１〜５重量部、好ましくは０．００５〜３重量部、さらに好ましくは０．０１〜２重量部（特に０．０１〜１重量部）程度であってもよい。

（２）耐熱安定剤
前記耐熱安定剤には、（ａ）有機カルボン酸金属塩、（ｂ）塩基性窒素化合物（例えば、アミノトリアジン化合物、グアニジン化合物、尿素化合物、アミノ酸化合物、アミノアルコール化合物、イミド化合物、アミド化合物、ヒドラジン化合物など）、（ｃ）アルカリ又はアルカリ土類金属化合物、（ｄ）ハイドロタルサイト、（ｅ）ゼオライト、（ｆ）ホスフィン化合物などが含まれる。

（ａ）有機カルボン酸金属塩
有機カルボン酸金属塩としては、有機カルボン酸と金属（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋなどのアルカリ金属；Ｍｇ，Ｃａなどのアルカリ土類金属；Ｚｎなどの遷移金属など）との塩が挙げられる。

前記有機カルボン酸は、低分子又は高分子のいずれであってもよく、後述する加工安定剤における長鎖脂肪酸の項で例示される長鎖飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸などの他、炭素数１０未満の低級の飽和又は不飽和脂肪族カルボン酸、不飽和脂肪族カルボン酸の重合体なども使用できる。また、これらの脂肪族カルボン酸はヒドロキシル基を有していてもよい。前記低級の飽和脂肪族カルボン酸としては、飽和Ｃ_1-9モノカルボン酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、カプリル酸など）、飽和Ｃ_2-9ジカルボン酸（シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コルク酸、アゼライン酸など）、及びこれらのオキシ酸（グリコール酸、乳酸、グリセリン酸、ヒドロキシ酪酸、クエン酸など）などが例示できる。

低級の不飽和脂肪族カルボン酸としては、不飽和Ｃ_3-9モノカルボン酸［（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸など］、不飽和Ｃ_4-9ジカルボン酸（マレイン酸、フマル酸など）、及びこれらのオキシ酸（プロピオール酸など）などが例示できる。

また、不飽和脂肪族カルボン酸の重合体としては、重合性不飽和カルボン酸［α，β−エチレン性不飽和カルボン酸、例えば、（メタ）アクリル酸などの重合性不飽和モノカルボン酸、重合性不飽和多価カルボン酸（イタコン酸、マレイン酸、フマル酸など）、前記多価カルボン酸の酸無水物又はモノエステル（マレイン酸モノエチルなどのモノＣ_1-10アルキルエステルなど）など］とオレフィン（エチレン、プロピレンなどのα−Ｃ_2-10オレフィンなど）との共重合体などが挙げられる。

これらの有機カルボン酸金属塩は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

好ましい有機カルボン酸金属塩は、アルカリ金属有機カルボン酸塩（クエン酸リチウム、クエン酸カリウム、クエン酸ナトリウム、ステアリン酸リチウム、１２−ヒドロキシステアリン酸リチウムなど）、アルカリ土類金属有機カルボン酸塩（酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、クエン酸マグネシウム、クエン酸カルシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、１２−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、１２−ヒドロキシステアリン酸カルシウムなど）、アイオノマー樹脂（前記重合性不飽和多価カルボン酸とオレフィンとの共重合体に含有されるカルボキシル基の少なくとも一部が前記金属のイオンにより中和されている樹脂）などである。前記アイオノマー樹脂は、例えば、ＡＣＬＹＮ（アライド・シグナル社製）、ハイミラン（三井デュポンポリケミカル社製）、サーリン（デュポン社製）などとして市販されている。

前記金属塩のうち、安定化効果の点で、クエン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、１２−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、１２−ヒドロキシステアリン酸カルシウムなどのアルカリ土類金属塩（特に、クエン酸カルシウム）が好ましい。

（ｂ）塩基性窒素化合物
塩基性窒素化合物としては、アミノトリアジン化合物、グアニジン化合物、尿素化合物、アミノ酸化合物、アミノアルコール化合物、イミド化合物、アミド化合物、ヒドラジン化合物などが挙げられる。これらの塩基性窒素化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

アミノトリアジン化合物には、メラミン又はその誘導体［メラミン、メラミン縮合体（メラム、メレム、メロン）など］、グアナミン又はその誘導体、及びアミノトリアジン樹脂［メラミンの共縮合樹脂（メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−メラミン樹脂、メラミン−フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−メラミン樹脂、芳香族ポリアミン−メラミン樹脂など）、グアナミンの共縮合樹脂（ベンゾグアナミンーホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−フェノール−ホルムアルデヒド樹脂など）など］が含まれる。

前記アミノトリアジン化合物のうち、グアナミン誘導体には、脂肪族グアナミン化合物［モノグアナミン類（バレログアナミン、カプログアナミン、ヘプタノグアナミン、カプリログアナミン、ステアログアナミンなどのＣ_1-24アルキル置換グアナミンなど）、アルキレンビスグアナミン類（サクシノグアナミン、グルタログアナミン、アジポグアナミン、ピメログアナミン、スベログアナミン、アゼログアナミン、セバコグアナミンなどのＣ_1-24アルキレン−ビスグアナミンなど）］、脂環族グアナミン系化合物［モノグアナミン類（シクロヘキサンカルボグアナミン、ノルボルネンカルボグアナミン、シクロヘキセンカルボグアナミン、ノルボルナンカルボグアナミン及びそれらの官能基置換体（アルキル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アセトアミノ基、ニトリル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルコキシ基、フェニル基、クミル基、ヒドロキシフェニル基などの官能基がシクロアルカン残基に１〜３個置換した誘導体など）など）など］、芳香族グアナミン系化合物［モノグアナミン類（ベンゾグアナミン及びその官能基置換体（アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基、アセトアミノ基、ニトリル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルコキシ基、フェニル基、クミル基、ヒドロキシフェニル基などの官能基がベンゾグアナミンのフェニル残基に１〜５個置換した誘導体など：例えば、ｏ−、ｍ−又はｐ−トルグアナミン、ｏ−、ｍ−又ｐ−キシログアナミン、ｏ−、ｍ−又はｐ−フェニルベンゾグアナミン、ｏ−、ｍ−又はｐ−ヒドロキシベンゾグアナミン、４−（４′−ヒドロキシフェニル）ベンゾグアナミン、ｏ−、ｍ−又はｐ−ニトリルベンゾグアナミン、３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンゾグアナミン、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾグアナミンなど）、α−又はβ−ナフトグアナミン及びそれらの官能基置換誘導体、ポリグアナミン類（フタログアナミン、イソフタログアナミン、テレフタログアナミン、ナフタレンジグアナミン、ビフェニレンジグアナミンなど）、アラルキル又はアラルキレングアナミン類（フェニルアセトグアナミン、β−フェニルプロピオグアナミン、ｏ−、ｍ−又はｐ−キシリレンビスグアナミンなど）など）など］、ヘテロ原子含有グアナミン系化合物［アセタール基含有グアナミン類（２，４−ジアミノ−６−（３，３−ジメトキシプロピル−ｓ−トリアジンなど）、ジオキサン環含有グアナミン類（［２−（４′，６′−ジアミノ−ｓ−トリアジン−２’−イル）エチル］−１，３−ジオキサン、［２−（４′，６′−ジアミノ−ｓ−トリアジン−２’−イル）エチル］−４−エチル−４−ヒドロキシメチル−１，３−ジオキサンなど）、テトラオキソスピロ環含有グアナミン類（ＣＴＵ−グアナミン、ＣＭＴＵ−グアナミンなど）、イソシアヌル環含有グアナミン類（１，３，５−トリス［２−（４′，６′−ジアミノ−ｓ−トリアジン−２′−イル）エチル］イソシアヌレート、１，３，５−トリス［３−（４′，６′−ジアミノ−ｓ−トリアジン−２′−イル）プロピル］イソシアヌレートなど）、イミダゾール環含有グアナミン類（特開昭４７−４１１２０号公報記載のグアナミン化合物など）、特開２０００−１５４１８１号記載のグアナミン化合物など）などが挙げられる。また、前記メラミン、メラミン誘導体、グアナミン系化合物のアルコキシメチル基がアミノ基に置換した化合物［例えば、モノ乃至ヘキサメトキシメチルメラミン、モノ乃至テトラメトキシメチルベンゾグアナミン、モノ乃至オクタメトキシメチルＣＴＵ−グアナミンなど］なども含まれる。

グアニジン化合物には、例えば、非環状グアニジン（グリコシアミン、グアノリン、グアニジン、シアノグアニジンなど）、環状グアニジン（グリコシアミジン、クレアチニンなどのグリコシアミジン類；オキサリルグアニジン、２，４−ジイミノパラバン酸などのオキサリルグアニジン又はその構造と類似の環状グアニジンなど）；イミノ基置換ウラゾール化合物（イミノウラゾール、グアナジンなど）；イソシアヌール酸イミド類（イソアンメリド、イソアンメリンなど）；マロニルグアニジン、タルトロニルグアニジン；メソキサリルグアニジンなどが挙げられる。

尿素化合物としては、例えば、非環状尿素化合物［尿素、アルキル基などの置換基が置換したＮ−置換尿素、非環状の尿素縮合体（ビウレット、ビウレアなどの尿素の多量体；メチレン二尿素、ホルム窒素などの尿素とアルデヒド化合物との縮合体、オリゴ又はポリＣ_1-12アルキレン尿素（オリゴ又はポリノナメチレン尿素など）など）、環状尿素化合物［環状モノウレイド、例えば、Ｃ_1-10アルキレン尿素（エチレン尿素、クロトニリデン尿素など）、アリーレン尿素（イメサチンなど）、ジカルボン酸のウレイド（パラバン酸、バルビツル酸、イソシアヌール酸、ウラミルなど）、β−アルデヒド酸のウレイド（ウラシル、チミン、ウラゾールなど）、α−オキシ酸のウレイド（ヒダントイン類、例えば、ヒダントイン；５−メチルヒダントインなどの５−直鎖又は分岐Ｃ_1-6アルキル−ヒダントイン；５−フェニルヒダントイン、５−（ｏ−、ｍ−、又はｐ−ヒドロキシフェニル）ヒダントイン、５−（ｏ−、ｍ−、又はｐ−アミノフェニル）ヒダントインなどのアリール基にヒドロキシル基やアミノ基などの置換基を有していてもよい５−Ｃ_6-10アリールヒダントイン；５−ベンジルヒダントインなどの５−Ｃ_6-10アリールＣ_1-4アルキル−ヒダントイン；５，５−ジメチルヒダントインなどの５，５−ジ直鎖又は分岐Ｃ_1-6アルキル−ヒダントイン；５−メチル−５−フェニルヒダントインなどの５−直鎖又は分岐Ｃ_1-6アルキル−５−Ｃ_6-10アリールヒダントイン；５，５−ジフェニルヒダントインなどの５，５−ジＣ_6-10アリールヒダントイン；５，５−ジベンジルヒダントインなどの５，５−ビス（Ｃ_6-10アリールＣ_1-4アルキル）ヒダントイン；ペンタメチレンビスヒダントインなどのＣ_1-10アルキレン−ビスヒダントイン；アラントイン又はその金属塩（アラントインジヒドロキシアルミニウム塩などのＡｌ塩など）など）；環状ジウレイド、例えば、尿酸、アルキル置換尿酸、アセチレン尿素（グリコールウリル）又はその誘導体（モノ乃至テトラ（Ｃ_1-4アルコキシＣ_1-4アルキル）グリコールウリルなど）、クロチリデンジウレア、α−オキシ酸のジウレイド（１，１，−メチレンビス（５，５−ジメチルヒダントイン）など）、ｐ−ウラジンなどのジウレア、ジカルボン酸のジウレイド（アロキサンチン、プルプル酸など）など］などが例示できる。

アミノ酸化合物としては、α−アミノ酸［モノアミノモノカルボン酸類（グリシン、アラニン、バリン、ノルバリン、ロイシン、ノルロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、チロシン、ジヨードチロシン、スリナミン、トレオニン、セリン、プロリン、ヒドロキシプロリン、トリプトファン、メチオニン、シスチン、システイン、シトルリン、α−アミノ酪酸、ヘキサヒドロピコリン酸、テアニン、ｏ−又はｍ−チロシンなど）、モノアミノジカルボン酸類（アスパラギン酸、グルタミン酸、アスパラギン、グルタミン、ヘキサヒドロジピコリン酸、ヘキサヒドロキノリン酸など）、ジアミノモノカルボン酸類（リジン、ヒドロキシリジン、アルギニン、ヒスチジンなど）など］、β−アミノ酸（β−アラニン、β−アミノ酪酸、ヘキサヒドロシンコメロン酸など）、γ−アミノ酸（γ−アミノ酪酸など）、δ−アミノ酸（δ−アミノ−ｎ−吉草酸など）などが例示できる。なお、アミノ酸化合物は、Ｄ−体、Ｌ−体、ＤＬ体の何れであってもよく、さらに、カルボルキシル基が金属塩化（アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩など）、アミド化、ヒドラジド化、エステル化（メチルエステル、エチルエステルなど）されたアミノ酸誘導体も含む。

アミノアルコール化合物には、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、２−アミノ−１−ブタノール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパンジオール、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンなどのアミノＣ_1-10脂肪族モノ又はポリオールが挙げられる。

イミド化合物としては、フタル酸イミド、トリメリット酸イミド、ピロメリット酸イミドなどの芳香族多価カルボン酸イミドなどが使用できる。

アミド化合物には、脂肪族カルボン酸アミド類（マロンアミド、アジピン酸アミド、セバシン酸アミド、ドデカンニ酸アミドなど）、環状カルボン酸アミド類（ε−カプロラクタムなど）、芳香族カルボン酸アミド（安息香酸アミド、ｏ−、ｍ−又はｐ−アミノベンズアミド、イソフタル酸ジアミド、テレフタル酸アミドなど）、ポリアミド系樹脂［例えば、ポリアミド３（ポリβ−アラニン）、ポリアミド４６、ポリアミド６、ポリアミド６６、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリアミドＭＸＤ６、ポリアミド６−１０、ポリアミド６−１１、ポリアミド６−１２、ポリアミド６−６６−６１０、ポリアミド９Ｔなど］、ポリエステルアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、架橋体であってもよいポリ（メタ）アクリル酸アミド単独又は共重合体［米国特許第５０１１８９０号公報に記載の重合体など］、ポリ（ビニルラクタム）単独又は共重合体［ポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）の単独又は共重合体など］（例えば、特開昭５５−５２３３８号公報、米国特許第３２０４０１４号公報に記載の単独又は共重合体など）、ポリ（Ｎ−ビニルカルボン酸アミド）、Ｎ−ビニルカルボン酸アミドと他のビニルモノマーとの共重合体（例えば、特開２００１−２４７７４５号公報、特開２００１−１３１３８６号公報、特開平８−３１１３０２号公報、特開昭５９−８６６１４号公報、米国特許第５４５５０４２号公報、米国特許第５４０７９９６号公報、米国特許第５３３８８１５号公報に記載の単独又は共重合体など）が挙げられる。

ヒドラジン化合物には、脂肪族又は脂環族カルボン酸ヒドラジド（ラウリン酸ヒドラジド、ステアリン酸ヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、ソルビン酸ヒドラジドなどの飽和又は不飽和脂肪酸ヒドラジド、α−オキシ酪酸ヒドラジド、グリセリン酸ヒドラジドなどのオキシ脂肪酸ヒドラジドなど）、芳香族ポリカルボン酸ヒドラジド（フタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジドなど）などが含まれる。

（ｃ）アルカリ又はアルカリ土類金属化合物
アルカリ又はアルカリ土類金属化合物には、ＣａＯ、ＭｇＯなどの金属酸化物、ＬｉＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）₂、Ｍｇ（ＯＨ）₂などの金属水酸化物、金属無機酸塩（Ｌｉ₂ＣＯ₃、Ｎａ₂ＣＯ₃、Ｋ₂ＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＭｇＣＯ₃などの金属炭酸塩、ホウ酸塩やリン酸塩などの無機酸塩など）などの無機化合物が含まれ、特に、金属酸化物及び金属水酸化物が好ましい。また、前記化合物のうち、アルカリ土類金属化合物が好ましい。

これらのアルカリ又はアルカリ土類金属化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

（ｄ）ハイドロタルサイト
ハイドロタルサイトとしては、特開昭６０−１２４１号公報及び特開平９−５９４７５号公報などに記載されているハイドロタルサイト類、例えば、下記式で表されるハイドロタルサイト化合物などが使用できる。

［Ｍ²⁺ _1-xＭ³⁺ _x（ＯＨ）₂］^x+［Ａ^n- _x/n・ｍＨ₂Ｏ］^x-
（式中、Ｍ²⁺はＭｇ²⁺、Ｍｎ²⁺、Ｆｅ²⁺、Ｃｏ²⁺などの２価金属イオンを示し、Ｍ³⁺はＡｌ³⁺、Ｆｅ³⁺、Ｃｒ³⁺などの３価金属イオンを示す。Ａ^n-はＣＯ₃ ^2-、ＯＨ^-、ＨＰＯ₄ ^2-、ＳＯ₄ ^2-などのｎ価（特に１価又は２価）のアニオンを示す。ｘは、０＜ｘ＜０．５であり、ｍは、０≦ｍ＜１である）
これらのハイドロタルサイトは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

なお、ハイドロタルサイトは、「ＤＨＴ−４Ａ」、「ＤＨＴ−４Ａ−２」、「アルカマイザー」などとして協和化学工業（株）から入手可能である。

（ｅ）ゼオライト
ゼオライトとしては、特に制限されないが、Ｈ型以外のゼオライト、例えば、特開平７−６２１４２号公報に記載されているゼオライト［最小単位セルがアルカリ及び／又はアルカリ土類金属の結晶性アルミノケイ酸塩であるゼオライト（Ａ型、Ｘ型、Ｙ型、Ｌ型、及びＺＳＭ型ゼオライト、モルデン沸石型ゼオライト；チャバザイト、モルデン沸石、ホージャサイトなどの天然ゼオライトなど）など］などが使用できる。

これらのゼオライトは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

なお、Ａ型ゼオライトは、「ゼオラムシリーズ（Ａ−３、Ａ−４、Ａ−５）」、「ゼオスターシリーズ（ＫＡ−１００Ｐ、ＮＡ−１００Ｐ、ＣＡ−１００Ｐ）」などとして、また、Ｘ型ゼオライトは、「ゼオラムシリーズ（Ｆ−９）」、「ゼオスターシリーズ（ＮＸ−１００Ｐ）」、Ｙ型ゼオライトは、「ＨＳＺシリーズ（３２０ＮＡＡ）」などとして東ソー（株）、日本化学工業（株）から入手可能である。

（ｆ）ホスフィン化合物
ホスフィン化合物には、アルキルホスフィン（例えば、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィンなどのトリＣ_1-10アルキルホスフィンなど）、シクロアルキルホスフィン（例えば、トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリＣ_5-12シクロアルキルホスフィンなど）、アリールホスフィン（例えば、トリフェニルホスフィン、ｐ−トリルジフェニルホスフィン、ジ−ｐ−トリルフェニルホスフィン、トリ−ｍ−アミノフェニルホスフィン、トリ（２，４−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリ（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィン、トリ（ｏ−、ｍ−又はｐ−トリル）ホスフィンなどのアミノ基やＣ_1-4アルキル基などの置換基を有していてもよいトリＣ_6-12アリールホスフィンなど）、アラルキルホスフィン（例えば、トリ（ｏ−、ｍ−又はｐ−アニシルホスフィンなどのトリ（Ｃ_6-12アリールＣ_1-4アルキル）ホスフィンなど）、アリールアルケニルホスフィン（例えば、ジフェニルビニルホスフィン、アリルジフェニルホスフィンなどのモノ又はジＣ_6-12アリール−ジ又はモノＣ_2-10アルケニルホスフィンなど）、アリールアラルキルホスフィン（例えば、ｐ−アニシルジフェニルホスフィン、ジ（ｐ−アニシル）フェニルホスフィンなどのモノ又はジＣ_6-12アリール−ジ又はモノ（Ｃ_6-12アリールＣ_1-4アルキル）ホスフィン；メチルフェニル−ｐ−アニシルホスフィンなどのＣ_1-10アルキル基などの置換基を有していてもよいＣ_6-12アリール−（Ｃ_6-12アリールＣ_1-4アルキル）ホスフィンなど）、ビスホスフィン類［例えば、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタンなどのビス（ジＣ_6-12アリールホスフィノ）Ｃ_1-10アルカン］などのホスフィン化合物などが例示できる。これらのホスフィン化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

これらの耐熱安定剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。耐熱安定剤の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、例えば、０．００１〜１０重量部、好ましくは０．００１〜５重量部、さらに好ましくは０．０１〜２重量部程度である。

（３）加工安定剤
加工安定剤には、（ａ）長鎖脂肪酸又はその誘導体、（ｂ）ポリアルキレングリコール、（ｃ）シリコーン化合物などが含まれる。これらの加工安定剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

（ａ）長鎖脂肪酸又はその誘導体
長鎖脂肪酸は、飽和脂肪酸であってもよく、不飽和脂肪酸であってもよい。また、一部の水素原子がヒドロキシル基などの置換基で置換された脂肪酸も使用できる。このような長鎖脂肪酸としては、炭素数１０以上の一価又は二価の脂肪酸、例えば、炭素数１０以上の一価の飽和脂肪酸［カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、べヘン酸、モンタン酸などのＣ_10-34飽和脂肪酸（好ましくはＣ_10-30飽和脂肪酸）など］、炭素数１０以上の一価の不飽和脂肪酸［オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、エルカ酸などのＣ_10-34不飽和脂肪酸（好ましくはＣ_10-30不飽和脂肪酸）など］、炭素数１０以上の二価の脂肪酸（二塩基性脂肪酸）［セバシン酸、ドデカン二酸、テトラデカン二酸、タプシア酸などの二価のＣ_10-30飽和脂肪酸（好ましくは二価のＣ_10-26飽和脂肪酸）；デセン二酸、ドデセン二酸などの二価のＣ_10-30不飽和脂肪酸（好ましくは二価のＣ_10-26不飽和脂肪酸）など］が例示できる。前記脂肪酸には、１つ又は複数のヒドロキシル基を分子内に有する脂肪酸（例えば、１２−ヒドロキシステアリン酸などのヒドロキシ飽和Ｃ_10-26脂肪酸など）も含まれる。これらの脂肪酸は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。前記脂肪酸のうち、一価のＣ_10-26飽和又は不飽和脂肪酸、及び二価のＣ_10-20飽和又は不飽和脂肪酸が好ましい。

長鎖脂肪酸の誘導体には、脂肪酸エステル及び脂肪酸アミドなどが含まれる。前記脂肪酸エステルとしては、その構造は特に制限されず、直鎖状又は分岐状脂肪酸エステルのいずれも使用でき、前記長鎖脂肪酸とアルコールとのエステル（モノエステル、ジエステル、トリエステル及びテトラエステルなどの１つ又は複数のエステル結合を有するエステルなど）が挙げられる。長鎖脂肪酸エステルを構成するアルコールは、特に制限されず、一価アルコールでもよいが、通常、多価アルコールを使用する場合が多い。

前記多価アルコールとしては、炭素数が２〜８程度、好ましくは２〜６程度の多価アルコール又はその重合体、例えば、アルキレングリコール［エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコールなどのＣ_2-8アルキレングリコール（好ましくはＣ_2-6アルキレングリコール）など］などのジオール類；グリセリン、トリメチロールプロパン又はこれらの誘導体などのトリオール類；ペンタエリスリトール、ソルビタン又はこれらの誘導体などのテトラオール類；及びこれらの多価アルコール類の単独又は共重合体（例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのアルキレングリコールの単独又は共重合体、ポリグリセリン、ジペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトールなど）などが例示できる。前記ポリアルキレングリコールの平均重合度は２以上（例えば、２〜５００）、好ましくは２〜４００（例えば、２〜３６０）程度であり、さらに好ましくは平均重合度１６以上（例えば、２０〜２００程度）である。なお、多価アルコールとして、ポリアルキレングリコールを用いる場合、エステルを構成する長鎖脂肪酸として、炭素数１２以上の脂肪酸、例えば、一価のＣ_12-26飽和又は不飽和脂肪酸、及び二価のＣ_12-20飽和又は不飽和脂肪酸などを使用するのが好ましい。前記アルコールも単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

このような長鎖脂肪酸エステルの例としては、エチレングリコールモノ又はジパルミチン酸エステル、エチレングリコールモノ又はジステアリン酸エステル、エチレングリコールモノ又はジベヘン酸エステル、エチレングリコールモノ又はジモンタン酸エステル、グリセリンモノ乃至トリパルミチン酸エステル、グリセリンモノ乃至トリステアリン酸エステル、グリセリンモノ乃至トリベヘン酸エステル、グリセリンモノ乃至トリモンタン酸エステル、ペンタエリスリトールモノ乃至テトラパルミチン酸エステル、ペンタエリスリトールモノ乃至テトラステアリン酸エステル、ペンタエリスリトールモノ乃至テトラベヘン酸エステル、ペンタエリスリトールモノ乃至テトラモンタン酸エステル、ポリグリセリントリステアリン酸エステル、トリメチロールプロパンモノパルミチン酸エステル、ペンタエリスリトールモノウンデシル酸エステル、ソルビタンモノステアリン酸エステル、ポリアルキレングリコール（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなど）のモノ又はジラウレート、モノ又はジパルミテート、モノ又はジステアレート、モノ又はジベヘネート、モノ又はジモンタネート、モノ又はジオレート、モノ又はジリノレートなどが挙げられる。

前記誘導体のうち、脂肪酸アミドとしては、前記長鎖脂肪酸（一価又は二価の長鎖脂肪酸）とアミン類（モノアミン、ジアミン、ポリアミン類など）との酸アミド（モノアミド、ビスアミドなど）が使用できる。酸アミドのうち、特にビスアミドが好ましい。

モノアミドとしては、例えば、カプリン酸アミド、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、アラキン酸アミド、ベヘン酸アミド、モンタン酸アミドなどの飽和脂肪酸の第１級酸アミド、オレイン酸アミドなどの不飽和脂肪酸の第１級酸アミド、ステアリルステアリン酸アミド、ステアリルオレイン酸アミドなどの飽和及び／又は不飽和脂肪酸とモノアミンとの第２級酸アミドなどが例示できる。

ビスアミドにはＣ_1-6アルキレンジアミン（特に、Ｃ_1-2アルキレンジアミン）と前記脂肪酸とのビスアミドなどが含まれ、その具体例としては、エチレンジアミン−ジパルミチン酸アミド、エチレンジアミン−ジステアリン酸アミド（エチレンビスステアリルアミド）、ヘキサメチレンジアミン−ジステアリン酸アミド、エチレンジアミン−ジベヘン酸アミド、エチレンジアミン−ジモンタン酸アミド、エチレンジアミン−ジオレイン酸アミド、エチレンジアミン−ジエルカ酸アミドなどが挙げられ、さらにエチレンジアミン−（ステアリン酸アミド）オレイン酸アミドなどのアルキレンジアミンのアミン部位に異なるアシル基が結合した構造を有するビスアミドなども使用できる。前記酸アミドにおいて、酸アミドを構成する脂肪酸は飽和脂肪酸であるのが好ましい。

これらの長鎖脂肪酸又はその誘導体は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

（ｂ）ポリアルキレングリコール
ポリアルキレングリコールには、アルキレングリコール［例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコールなどのＣ_2-6アルキレングリコール（好ましくはＣ_2-4アルキレングリコール）など］の単独又は共重合体、それらの誘導体などが含まれる。

ポリアルキレングリコールの具体例としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリＣ_2-6アルキレングリコール（好ましくはポリＣ_2-4アルキレングリコール）、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン共重合体（ランダム又はブロック共重合体など）、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンモノブチルエーテルなどの共重合体などが挙げられる。これらのうち、オキシエチレン単位を有する重合体、例えば、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体及びそれらの誘導体などが好ましい。

ポリアルキレングリコールの数平均分子量は、３×１０²〜１×１０⁶（例えば、５×１０²〜５×１０⁵）、好ましくは１×１０³〜１×１０⁵（例えば、１×１０³〜５×１０⁴）程度である。ポリアルキレングリコールは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

（ｃ）シリコーン系化合物
シリコーン系化合物には、（ポリ）オルガノシロキサンなどが含まれる。（ポリ）オルガノシロキサンとしては、ジアルキルシロキサン（例えば、ジメチルシロキサンなど）、アルキルアリールシロキサン（例えば、フェニルメチルシロキサンなど）、ジアリールシロキサン（例えば、ジフェニルシロキサンなど）などのモノオルガノシロキサン、これらの単独重合体（例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリフェニルメチルシロキサンなど）又は共重合体などが例示できる。なお、ポリオルガノシロキサンは、オリゴマーであってもよい。

また、（ポリ）オルガノシロキサンには、分子末端や主鎖に、エポキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基又は置換アミノ基（ジアルキルアミノ基など）、エーテル基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などの置換基を有する変性（ポリ）オルガノシロキサン（例えば、変性シリコーン）なども含まれる。これらのシリコーン系化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

前記加工安定剤の割合は、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、例えば、０．００１〜１０重量部、好ましくは０．０１〜５重量部、さらに好ましくは０．０３〜３重量部程度から選択でき、特に０．０３〜２重量部程度であってもよい。

（４）耐候（光）安定剤
耐候（光）安定剤としては、（ａ）ベンゾトリアゾール系化合物、（ｂ）ベンゾフェノン系化合物、（ｃ）芳香族ベンゾエート系化合物、（ｄ）シアノアクリレート系化合物、（ｅ）シュウ酸アニリド系化合物、（ｆ）ヒドロキシアリール−１，３，５−トリアジン系化合物、（ｇ）ヒンダードアミン系化合物などが挙げられる。これらの耐候（光）安定剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

（ａ）ベンゾトリアゾール系化合物
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ（ｔ−ブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ（ｔ−アミル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジイソアミルフェニル）ベンゾトリアゾールなどのヒドロキシル基及びＣ_1-6アルキル基で置換されたアリール基を有するベンゾトリアゾール類；２−［２′−ヒドロキシ−３′，５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどのヒドロキシル基及びアラルキル（又はアリール）基で置換されたアリール基を有するベンゾトリアゾール類；２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾールなどのヒドロキシル基及びアルコキシ（Ｃ_1-12アルコキシ）基で置換されたアリール基を有するベンゾトリアゾール類などが挙げられる。

これらのベンゾトリアゾール系化合物のうち、特に、ヒドロキシル基及びＣ_3-6アルキル基置換Ｃ_6-10アリール（特にフェニル）基を有するベンゾトリアゾール類、並びにヒドロキシル基及びＣ_6-10アリール−Ｃ_1-6アルキル（特にフェニル−Ｃ_1-4アルキル）基置換アリール基を有するベンゾトリアゾール類などが好ましい。

（ｂ）ベンゾフェノン系化合物
ベンゾフェノン系化合物としては、複数のヒドロキシル基を有するベンゾフェノン類（２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンなどのジ乃至テトラヒドロキシベンゾフェノン；２−ヒドロキシ−４−オキシベンジルベンゾフェノンなどのヒドロキシル基、及びヒドロキシル置換アリール又はアラルキル基を有するベンゾフェノン類など）；ヒドロキシル基及びアルコキシ（Ｃ_1-16アルコキシ）基を有するベンゾフェノン類（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノンなど）などが挙げられる。

これらのベンゾフェノン系化合物のうち、ヒドロキシル基と共にヒドロキシル基置換Ｃ_6-10アリール（又はＣ_6-10アリール−Ｃ_1-4アルキル）基を有するベンゾフェノン類、特に、ヒドロキシル基と共にヒドロキシル基置換フェニル−Ｃ_1-4アルキル基を有するベンゾフェノン類などが好ましい。

（ｃ）芳香族ベンゾエート系化合物
芳香族ベンゾエート系化合物としては、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレートなどのアルキルアリールサリシレート類（特にアルキルフェニルサリシレートなど）が挙げられる。

（ｄ）シアノアクリレート系化合物
シアノアクリレート系化合物としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートなどのシアノ基含有ジアリールアクリレート類（特にシアノ基含有ジフェニルアクリレートなど）などが挙げられる。

（ｅ）シュウ酸アニリド系化合物
シュウ酸アニリド系化合物としては、Ｎ−（２−エチルフェニル）−Ｎ′−（２−エトキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）シュウ酸ジアミド、Ｎ−（２−エチルフェニル）−Ｎ′−（２−エトキシ−フェニル）シュウ酸ジアミドなどの窒素原子上に置換されていてもよいアリール基（フェニル基など）などを有するシュウ酸ジアミド類が挙げられる。

（ｆ）ヒドロキシアリール−１，３，５−トリアジン系化合物
ヒドロキシアリール−１，３，５−トリアジン系化合物としては、２，４−ジＣ_6-10アリール−６−（モノ又はジヒドロキシＣ_6-10アリール）−１，３，５−トリアジン［アリール基にＣ_1-10アルキル基、Ｃ_1-18アルコキシ基、Ｃ_1-10アルコキシＣ_1-10アルコキシ基、Ｃ_6-10アリールオキシ基、Ｃ_6-10アリールＣ_1-6アルコキシ基などの置換基を有していてもよい２，４−ジＣ_6-10アリール−６−（モノ又はジヒドロキシＣ_6-10アリール）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのヒドロキシアリールトリアジン；２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、これらの２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−アルコキシフェニル）−１，３，５−トリアジンに対応する２，４−ジ（ｐ−トリル又は２′，４′−ジメチルフェニル）６−（２−ヒドロキシ−Ｃ_1-16アルコキシフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのヒドロキシアルコキシアリールトリアジン；２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（ｐ−トリル又は２′，４′−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのヒドロキシアラルキルオキシアリールトリアジン；２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−（２−ブトキシエトキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ−ｐ−トリル−６−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヘキシルオキシエトキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジンなどのヒドロキシアルコキシアルコキシアリールトリアジンなどが挙げられる。

（ｇ）ヒンダードアミン系化合物
ヒンダードアミン系化合物としては、酸化防止剤の項で例示されたヒンダードアミン系化合物などが使用できる。

これらの耐候（光）安定剤は、単独で用いてもよく、また、同種又は異種の耐候（光）安定剤を二種以上組み合わせて用いてもよい。特に、ベンゾトリアゾール系化合物とヒンダードアミン系化合物とを併用するのが好ましく、両者の割合（重量比）は、ベンゾトリアゾール系化合物／ヒンダードアミン系化合物＝１００／０〜２０／８０、好ましくは９０／１０〜３０／７０、さらに好ましくは８０／２０〜４０／６０程度であってもよい。

耐候（光）安定剤の割合は、例えば、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、０〜５重量部（例えば、０．０１〜５重量部）、好ましくは０〜４重量部（例えば、０．１〜４重量部）、さらに好ましくは０〜２重量部（例えば、０．１〜２重量部）程度である。

（５）耐衝撃性改良剤
耐衝撃性改良剤としては、例えば、熱可塑性ポリウレタン系樹脂、アクリル系コアシェルポリマー、熱可塑性ポリエステル系エラストマー、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、ゴム成分（天然ゴムなど）などが挙げられる。これらの耐衝撃性改良剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの耐衝撃性改良剤のうち、熱可塑性ポリウレタン系樹脂、アクリル系コアシェルポリマー、熱可塑性ポリエステル系エラストマー、スチレン系エラストマーなどが汎用される。

耐衝撃性改良剤の割合は、例えば、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、例えば、０〜５０重量部（例えば、０．１〜５０重量部）、好ましくは１〜３０重量部、さらに好ましくは３〜２０重量部程度である。

（６）摺動性改良剤
摺動性改良剤としては、例えば、オレフィン系ポリマー（例えば、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリＣ_2-4オレフィン系樹脂など）、ワックス類（例えば、ポリエチレンワックスなどのオレフィン系ワックスなど）、シリコーン系樹脂（例えば、前記加工安定剤の項で例示されたシリコーン系化合物など）、フッ素系樹脂（例えば、ポリテトラフルオロエチレンなど）などが挙げられる。これらの摺動性改良剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの摺動性改良剤のうち、ポリエチレンなどのオレフィン系ポリマー、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂などが汎用される。

摺動性改良剤の割合は、例えば、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、例えば、０〜３０重量部（例えば、０．０１〜２０重量部）、好ましくは０．１〜２０重量部、さらに好ましくは０．５〜１０重量部程度である。

（７）光沢制御剤
光沢制御剤としては、透明性樹脂、例えば、耐衝撃性改良剤の項で例示された樹脂の他、Ｃ_1-6アルキル（メタ）アクリレートの単独又は共重合体（例えば、ポリメチルメタクリレートなど）、ポリカーボネート系樹脂（例えば、ビスフェノールＡ型フェノール樹脂などのビスフェノール型樹脂など）、スチレン系樹脂（例えば、ポリスチレン、ＡＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂など）、オレフィン系樹脂（例えば、ポリプロピレンや環状ポリオレフィンなど）などが挙げられる。これらの光沢制御剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの光沢制御剤のうち、メタクリル酸メチル単位を有するホモ又はコポリマー（例えば、ポリメチルメタクリレートなど）が汎用される。

光沢制御剤の割合は、例えば、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、例えば、０〜３０重量部（例えば、０．０１〜２０重量部）、好ましくは０．１〜２０重量部、さらに好ましくは０．５〜１０重量部程度である。

（８）充填剤
充填剤としては、例えば、各種ポリマー（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系エラストマー、ポリビニルアルコール系樹脂、脂肪族ポリエステル系樹脂など）、繊維状充填剤［例えば、無機繊維（例えば、ガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、チタン酸カリウム繊維（ウイスカー）など）、有機繊維（例えば、アミド繊維など）など］、板状充填剤（例えば、ガラスフレーク、マイカ、グラファイト、各種金属箔など）、粉粒状充填剤［例えば、金属酸化物（酸化亜鉛、アルミナなど）、硫酸塩（硫酸カルシウム、硫酸マグネシウムなど）、炭酸塩（炭酸カルシウムなど）、ガラス類（ミルドファイバー、ガラスビーズ、ガラスバルーンなど）、ケイ酸塩（タルク、カオリン、シリカ、ケイソウ土、クレー、ウォラスナイトなど）、硫化物（二硫化モリブデン、二硫化タングステンなど）、炭化物（フッ化黒鉛、炭化ケイ素など）、窒化ホウ素など］などが挙げられる。これらの充填剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの充填剤のうち、ガラス繊維や炭素繊維などの繊維状充填剤、ガラスフレークやマイカなどの板状充填剤、タルクやシリカなどの粉粒状充填剤などが汎用される。

充填剤の割合は、例えば、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、例えば、０〜１５０重量部（例えば、１〜１５０重量部）、好ましくは３〜１００重量部、さらに好ましくは５〜５０重量部程度である。

（９）着色剤
着色剤としては、各種染料又は顔料が使用できる。染料はソルベント染料が好ましく、アゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、又はナフトキノン系染料などが挙げられる。顔料については、無機顔料及び有機顔料のいずれも使用できる。

無機顔料としては、チタン系顔料、亜鉛系顔料、カーボンブラック（ファーネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラックなど）、鉄系顔料、モリブデン系顔料、カドミウム系顔料、鉛系顔料、コバルト系顔料、及びアルミニウム系顔料などが例示できる。

有機顔料としては、アゾ系顔料、アンスラキノン系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、イソインドリン系顔料、ジオキサジン系顔料、又はスレン系顔料などが例示できる。

これらの着色剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、光遮蔽効果の高い着色剤（カーボンブラック、チタン白（酸化チタン）、フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔料（特に、カーボンブラック、ペリレン系黒色顔料）など）を用いると、耐候（光）性を向上できる。

着色剤の割合は、例えば、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、０〜５重量部（例えば、０．０１〜５重量部）、好ましくは０．１〜４重量部、さらに好ましくは０．１〜２重量部程度である。

本発明のポリアセタール樹脂組成物には、必要に応じて、他の慣用の添加剤、例えば、離型剤、核剤、帯電防止剤、難燃剤、発泡剤、界面活性剤、抗菌剤、抗カビ剤、芳香剤、香料、などが含まれていてもよい。これらの他の添加剤も、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

（ポリアセタール樹脂組成物の製造方法）
本発明のポリアセタール樹脂組成物は、粉粒状混合物や溶融混合物であってもよく、ポリアセタール樹脂と、単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）と、必要により他の添加剤［酸化防止剤、耐熱安定剤、加工安定剤、耐候（光）安定剤、耐衝撃性改良剤、摺動性改良剤、光沢制御剤、充填剤、着色剤など］とを慣用の方法で混合することにより調製できる。例えば、（１）全成分を主フィード口からフィードして、押出機（一軸又は二軸押出機など）により混練して押出してペレットを調製した後、成形する方法、（２）前記単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドを含まない成分（ポリアセタール樹脂、前記他の添加剤など）を主フィード口から、そして少なくとも前記単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドを含む成分（他成分として、ポリアセタール樹脂、前記他の添加剤など）をサイドフィード口からフィードして、押出機により混練押出してペレットを調製した後、成形する方法、（３）前記単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドの一部を含む成分（他成分として、ポリアセタール樹脂、他の添加剤など）を主フィード口から、そして残りの前記単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドを含む成分（他成分として、ポリアセタール樹脂、他の添加剤など）をサイドフィード口からフィードして、押出機により混練押出してペレットを調製した後、成形する方法（４）一旦組成の異なるペレット（マスターバッチ）を調製し、そのペレットを所定量混合（希釈）して成形に供し、所定の組成の成形品を得る方法、（５）ポリアセタール樹脂のペレットに前記単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドを散布、コーティング（表面コートなど）などにより共存又は付着させた後、成形し、所定の組成の成形品を得る方法などが採用できる。

これらの方法のうち、上記（１）、（２）及び（３）の方法が好ましく、特に、一カ所以上の脱揮ベント口を有する一軸又は二軸押出機で、溶融混合するのが好ましい。溶融混合温度は樹脂の融点以上、通常、１７０〜２７０℃程度であり、１８０〜２５０℃程度が好ましい。また、単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドのサイドフィードは、脱揮ベント口の前及び後の何れのフィード口からも可能であるが、特に、脱揮ベント口の後でフィードする方法が好ましい。さらに、押出調製過程において、水及び／又はアルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコールなど）などの加工助剤をプリブレンド又は脱揮ベント口より前のフィード口より注入し、脱揮ベント口より水及び／又はアルコール類を含む揮発成分を脱揮除去することにより成形品から発生するホルムアルデヒド量をさらに低減することもできる。前記加工助剤としての水及び／又はアルコール類の割合は、特に制限されず、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、通常、０〜２０重量部の範囲から選択でき、好ましくは０．０１〜１０重量部、さらに好ましくは０．１〜５重量部程度であってもよい。

なお、成形品に用いられる組成物の調製において、基体であるポリアセタール樹脂の粉粒体（例えば、ポリアセタール樹脂の一部又は全部を粉砕した粉粒体）と他の成分（前記単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）、他の添加剤とを混合して溶融混練すると、添加物の分散を向上させるのに有利である。

本発明のポリアセタール樹脂組成物は、特に成形加工（特に溶融成形加工）工程において、ポリアセタール樹脂の酸化又は熱分解などによるホルムアルデヒドの生成を顕著に抑制でき、作業環境を改善できる。また、金型への分解物や添加物などの付着（モールドデポジット）、成形品からの分解物や添加物の浸出（ブリードアウト）を顕著に抑制できる。

（成形品）
本発明には、前記樹脂組成物で形成された成形品も含まれる。成形品は、ポリアセタール樹脂と単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）とを組み合わせて含んでおり、押出及び／又は成形加工安定性に優れるとともに、ホルムアルデヒド発生量が極めて少ない。すなわち、従来のポリアセタール樹脂で構成された成形品は、比較的多量のホルムアルデヒドを生成し、腐食や変色などの他、生活環境や作業環境を汚染し、モールドデポジットが発生し易い。

これに対して、本発明のポリアセタール樹脂成形品は、ホルムアルデヒドの発生を大幅に抑制できる。具体的には、湿式において、ホルムアルデヒド発生量が成形品の単位重量当たり２μｇ／ｇ以下（０〜２μｇ／ｇ程度）、好ましくは０〜１μｇ／ｇ、さらに好ましくは０〜０．３μｇ／ｇ程度も達成可能である。また、乾式において、ホルムアルデヒド発生量が成形品の単位重量当たり２μｇ／ｇ以下（０〜２μｇ／ｇ）、好ましくは０〜１μｇ／ｇ、さらに好ましくは０〜０．３μｇ／ｇ程度も達成可能である。

本発明の成形品は、湿式及び乾式のいずれか一方において、前記ホルムアルデヒド発生量を有していればよいが、特に、湿式及び乾式の双方において、前記ホルムアルデヒド発生量を有している場合が多い。本発明の成形品は、より過酷な環境に対応できる材料として使用することもできる。

なお、湿式でのホルムアルデヒド発生量は、次のようにして測定できる。ポリアセタール樹脂成形品（厚さ２ｍｍ）を、蒸留水５０ｍｌを含む密閉容器（容量１Ｌ）の蓋に吊下げて密閉し、恒温槽内に温度６０℃で３時間放置する。その後、室温で１時間放置し、密閉容器中の水溶液のホルムアルデヒド量をＪＩＳ Ｋ０１０２，２９（ホルムアルデヒドの項）に従って定量し、成形品の単位重量当たりのホルムアルデヒド発生量（μｇ／ｇ）を求める。

一方、乾式でのホルムアルデヒド発生量は、次のようにして測定できる。ポリアセタール樹脂成形品（厚さ２ｍｍ）を密閉容器（容量２０ｍｌ）に入れ、温度８０℃で２４時間放置する。その後、この密閉容器中に水を５ｍｌ注入し、この水溶液のホルムアルデヒド量をＪＩＳ Ｋ０１０２，２９（ホルムアルデヒドの項）に従って定量し、成形品の単位重量当たりのホルムアルデヒド発生量（μｇ／ｇ）を求める。なお、密閉容器に入れる前段階において、樹脂成形品は、常態（２０℃、６５％ＲＨ程度）で調製される。

本発明の樹脂組成物は、慣用の成形方法（例えば、射出成形、押出成形、圧縮成形、ブロー成形、真空成形、発泡成形、回転成形、ガスインジェクションモールディングなどの方法）で、種々の成形品を成形するのに有用である。

また、本発明の成形品（成形体）は、ホルムアルデヒドが弊害となるいずれの用途（例えば、自転車部品としてのノブ、レバーなど）にも使用可能であるが、自動車部品や電気・電子部品（能動部品や受動部品など）、建材・配管部品、日用品（生活）・化粧品用部品、及び医用（医療・治療）部品として好適に使用される。

より具体的には、自動車部品としては、インナーハンドル、フェーエルトランクオープナー、シートベルトバックル、アシストラップ、各種スイッチ、ノブ、レバー、クリップなどの内装部品、メーターやコネクターなどの電気系統部品、オーディオ機器やカーナビゲーション機器などの車載電気・電子部品、ウインドウレギュレーターのキャリアープレートに代表される金属と接触する部品、ドアロックアクチェーター部品、ミラー部品、ワイパーモーターシステム部品、燃料系統の部品などの機構部品が例示できる。

電気・電子部品（機構部品）としては、ポリアセタール樹脂成形品で構成され、かつ金属接点が多数存在する機器の部品又は部材［例えば、カセットテープレコーダなどのオーディオ機器、ＣＤ・ＤＶＤプレイヤーなどのオーディオ機器、ＶＴＲ（ビデオテープレコーダー）、８ｍｍビデオカメラ、デジタルビデオカメラなどのビデオ機器、又はコピー機、ファクシミリ、ワードプロセサー、コンピューターなどのＯＡ（オフィスオートメーション）機器、更にはモーター、発条などの駆動力で作動する玩具、電話機、コンピュータなどに付属するキーボードなど］などが例示できる。これらの部品又は部材の具体例としては、シャーシ（基盤）、ギヤー、レバー、カム、プーリー、軸受けなどが挙げられる。さらに、少なくとも一部がポリアセタール樹脂成形品で構成された光及び磁気メディア部品（例えば、金属薄膜型磁気テープカセット、磁気ディスクカートリッジ、光磁気ディスクカートリッジなど）、更に詳しくは、音楽用メタルテープカセット、デジタルオーディオテープカセット、８ｍｍビデオテープカセット、デジタルビデオカセット、フロッピー（登録商標）ディスクカートリッジ、ミニディスクカートリッジ、ＤＶＤディスクカートリッジなどにも適用可能である。光及び磁気メディア部品の具体例としては、テープカセット部品（テープカセットの本体、リール、ハブ、ガイド、ローラー、ストッパー、リッドなど）、ディスクカートリッジ部品（ディスクカートリッジの本体（ケース）、シャッター、クランピングプレートなど）などが挙げられる。

さらに、本発明のポリアセタール樹脂成形品は、照明器具、建具、配管、コック、蛇口、トイレ周辺機器部品などの建材・配管部品、ファスナー類（スライドファスナー、スナップファスナー、面ファスナー、レールファスナーなど）、文具、リップクリーム・口紅容器、洗浄器、浄水器、スプレーノズル、スプレー容器、エアゾール容器、一般的な容器、注射針のホルダーなどの広範な生活関係部品・化粧関係部品・医用関係部品に好適に使用される。

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。

なお、実施例及び比較例において、成形品からのホルムアルデヒドの発生量、成形性（モールドデポジット）、及び成形品からの染み出し性（ブリードアウト）について、以下のようにして評価した。

［湿式での成形品からのホルムアルデヒド発生量］
平板状試験片（１００ｍｍ×４０ｍｍ×２ｍｍ、成形温度１９０℃）を、蒸留水５０ｍｌを含むポリエチレン製瓶（容量１Ｌ）の蓋に２枚吊下げて密閉し、恒温槽内に温度６０℃で３時間放置した後、室温で１時間静置した。ポリエチレン製瓶中の水溶液のホルムアルデヒド量をＪＩＳＫ０１０２，２９（ホルムアルデヒドの項）に従って定量し、単位重量当たりのホルムアルデヒド発生量（μｇ／ｇ）を算出した。

［乾式での成形品からのホルムアルデヒド発生量］
角柱状試験片（２ｍｍ×２ｍｍ×５０ｍｍ、成形温度１９０℃）を密閉容器（容量２０ｍｌ）に１０個入れ、温度８０℃で２４時間、恒温構内で加熱した後、室温に空冷し、蒸留水５ｍｌをシリンジにて注入した。この水溶液のホルムアルデヒド量を、ＪＩＳＫ０１０２，２９（ホルムアルデヒドの項）に従って定量し、単位重量当たりのホルムアルデヒド発生量（μｇ／ｇ）を算出した。

［成形性（モールドデポジット）］
ポリアセタール樹脂組成物で形成されたペレットから円板形状の成形品（成形温度２００℃、径２０ｍｍ×１ｍｍ）を、３０ｔ射出成形機を用いて連続成形（１００ショット）し、金型付着物（モールドデポジット）の程度を以下の基準で評価した。

○：全くモールドデポジットが見られない
△：わずかにモールドデポジットが見られる
×：著しいモールドデポジットが見られる。

［成形品からのブリードアウト］
湿式での成形品からのホルムアルデヒド発生試験において、試験後の平板状試験片の成形品の表面を目視で観察し、染み出し物（ブリードアウト）の程度を以下の基準で評価した。

○：全くブリードアウトが見られない
△：僅かなブリードアウトが見られる
×：著しいブリードアウトが見られる。

実施例１〜２５
ポリアセタール樹脂コポリマー１００重量部に、単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工安定剤、耐候（光）安定剤、及び他の添加剤を表１〜３に示す割合でプリブレンドした後、１ヶ所のベント口を有する３０ｍｍ径の二軸押出機の主フィード口に投入して２００℃で溶融混合し、ペレット状の組成物を調製した。得られたペレットを用いて、射出成形機により、所定の試験片を成形し、試験片からのホルムアルデヒド発生量、モールドデポジット、ブリードアウトの評価を行った。結果を表１〜３に示す。

比較例１〜１７
比較のために、単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド化合物を添加しない例、他のカルボン酸ヒドラジド（アジピン酸ジヒドラジド）を添加した例について、前記と同様にして評価した。結果を表１〜３に示す。

実施例および比較例で使用したポリアセタール樹脂コポリマー、カルボン酸ヒドラジド化合物、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工安定剤、耐候（光）安定剤、他の添加剤は以下の通りである。

１．ポリアセタール共重合体ａ
（ａ−１）：ポリアセタール樹脂コポリマー（トリオキサンと１，３−ジオキソランとの共重合体、１，３−ジオキソランを３．８重量％共重合、メルトインデックス＝９ｇ／１０分）
（ａ−２）：ポリアセタール樹脂コポリマー（トリオキサンと１，３−ジオキソランとの共重合体、１，３−ジオキソランを３．６重量％共重合、メルトインデックス＝２７ｇ／１０分）
尚、メルトインデックスは、ＡＳＴＭ−Ｄ１２３８に準じ、温度１９０℃、荷重２.１６ｋｇｆ（２１．２Ｎ）の条件下で求めた値である。

２．カルボン酸ヒドラジドｂ
（単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド）
（ｂ−１）：３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヒドラジド
（ｂ−２）：３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヒドラジド
（ｂ−３）：ｐ−トルイル酸ヒドラジド
（ｂ−４）：４−ｔ−ブチル安息香酸ヒドラジド
（他のカルボン酸ヒドラジド）
（ｂ−５）：アジピン酸ジヒドラジド
（ｂ−６）：安息香酸ヒドラジド。

３．酸化防止剤ｃ
（ｃ−１）：トリエチレングリコールビス［３−（３−ｔ−ブチル５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］
（ｃ−２）：ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］。

４．耐熱安定剤ｄ
（ｄ−１）：ステアリン酸カルシウム
（ｄ−２）：クエン酸カルシウム
（ｄ−３）：１２−ヒドロキシステアリン酸カルシウム
（ｄ−４）：酸化マグネシウム。

５．加工安定剤ｅ
（ｅ−１）エチレンビスステアリルアミド
（ｅ−２）：モンタン酸エステル［東洋ペトロライト（株）製、ＬＵＺＡ ＷＡＸ−ＥＰ］
（ｅ−３）：ポリエチレンオキシド［分子量：３５０００］。

６．耐候（光）安定剤ｆ
（ｆ−１）：２−［２′−ヒドロキシ−３′，５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール
（ｆ−２）：ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート。

７．他の添加剤ｇ
（ｇ−１）アクリル系コアシェルポリマー［武田薬品工業（株）製、スタフィロイドＰＯ］
（ｇ−２）熱可塑性ポリウレタン［日本ミラクトロン（株）製、ミラクトランＥ］
（ｇ−３）：カーボンブラック（アセチレンブラック）
（ｇ−４）：ガラス繊維（直径９μｍ、長さ３ｍｍのチョップドストランド）。

表より明らかなように、比較例に比べて、実施例の樹脂組成物は、ホルムアルデヒドの発生量が極めて少ない。さらに、モールドデポジットの発生を抑制して成形加工性を向上できるとともに、染み出しを防止して、成形品の品質を向上できる。

Claims (16)

1. ポリアセタール樹脂と、式（１）
   （式中、Ｒ¹は炭素数１〜３０の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又はアシル基を示し、ａは１〜４の整数、ｂは０〜４の整数を示す）
   で表される単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジドとで構成されているポリアセタール樹脂組成物。
2. 式（１）において、ａが１〜２の整数であり、かつｂが０〜２の整数である請求項１記載の樹脂組成物。
3. 式（１）において、Ｒ¹がＣ_1-8アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であり、ａが１〜２の整数であり、かつｂが０〜１の整数である請求項１記載の樹脂組成物。
4. 単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）が、Ｃ_1-8アルキル基を有する安息香酸ヒドラジドである請求項１記載の樹脂組成物。
5. 単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）が、３，５−ジＣ_1-4アルキル−４−ヒドロキシ安息香酸ヒドラジド及びＣ_1-8アルキル安息香酸ヒドラジドから選択された少なくとも一種である請求項１記載の樹脂組成物。
6. 単環式芳香族モノカルボン酸ヒドラジド（１）の割合が、ポリアセタール樹脂１００重量部に対して、０．００１〜２０重量部である請求項１記載の樹脂組成物。
7. ポリアセタール樹脂が、共重合単位として環状エーテル及び環状ホルマールから選択された少なくとも一種で構成された単位を有するコポリマーである請求項１記載の樹脂組成物。
8. ポリアセタール樹脂が、ホルムアルデヒドの環状オリゴマー単位と、環状エーテル単位及び／又は環状ホルマール単位とで構成されたコポリマーであって、環状オリゴマー単位と、環状エーテル単位及び／又は環状ホルマール単位との割合（重量比）が、（環状オリゴマー単位）／（環状エーテル単位及び／又は環状ホルマール単位）＝９９．５／０．５〜８０／２０である請求項１記載の樹脂組成物。
9. さらに、酸化防止剤、耐熱安定剤、加工安定剤、耐候（光）安定剤、耐衝撃性改良剤、摺動性改良剤、光沢制御剤、充填剤及び着色剤から選択された少なくとも一種を含む請求項１記載の樹脂組成物。
10. 酸化防止剤が、ヒンダードフェノール系化合物及びヒンダードアミン系化合物から選択された少なくとも一種を含む請求項９記載の樹脂組成物。
11. 耐熱安定剤が、有機カルボン酸金属塩、アミノトリアジン化合物、グアニジン化合物、尿素化合物、アミノ酸化合物、アミノアルコール化合物、イミド化合物、アミド化合物、ヒドラジン化合物、アルカリ又はアルカリ土類金属化合物、ハイドロタルサイト、ゼオライト、及びホスフィン系化合物から選択された少なくとも一種を含む請求項９記載の樹脂組成物。
12. 加工安定剤が、長鎖脂肪酸又はその誘導体、ポリアルキレングリコール及びシリコーン系化合物から選択された少なくとも一種を含む請求項９記載の樹脂組成物。
13. 耐候(光)安定剤が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、芳香族ベンゾエート系化合物、シアノアクリレート系化合物、シュウ酸アニリド系化合物及びヒドロキシフェニル−１，３，５−トリアジン系化合物から選択された少なくとも一種を含む請求項９記載の樹脂組成物。
14. 請求項１記載のポリアセタール樹脂組成物で形成されている成形品。
15. （１）温度６０℃で飽和湿度の密閉空間に厚さ２ｍｍの成形品を３時間保存したときに発生するホルムアルデヒド量が、成形品の単位重量当り２μｇ／ｇ以下、及び／又は（２）温度８０℃の密閉空間に厚さ２ｍｍの成形品を２４時間保存したときに発生するホルムアルデヒド量が、成形品の単位重量当り２μｇ／ｇ以下である請求項１４記載の成形品。
16. 自動車部品、電気・電子部品、建材・配管部品、生活・化粧品用部品又は医用部品である請求項１４記載の成形品。