JP2005112995A - ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ヘミホルマール末端基量が1mmol/kg以下、ホルミル末端基量が2mmol/kg以下、かつメルトインデックスが0.1〜100g/10分であるポリアセタール共重合体と、ホルムアルデヒド抑制剤とでポリアセタール樹脂組成物を構成する。前記ポリアセタール共重合体において、ヘミホルマール末端基とホルミル末端基との割合は、前者/後者(モル比)=100/0〜5/95程度、不安定末端基量は0.5重量%以下であってもよい。前記ホルムアルデヒド抑制剤は、アミノトリアジン系化合物、グアニジン系化合物、尿素系化合物、ヒドラジン系化合物、アミノ酸系化合物、アミノアルコール系化合物、イミド系化合物、アミド系化合物などで構成できる。ホルムアルデヒド抑制剤の割合は、ポリアセタール共重合体100重量部に対して、0.001〜20重量部程度である。
【選択図】 なし
Description
本発明で使用するポリアセタール共重合体は、ヘミホルマール末端基量、ホルミル末端基量、及びメルトインデックス(メルトフローレート)の3つの指標を特定の割合で含んでいる。なお、本明細書において、「ヘミホルマール末端基」とは、ポリアセタール共重合体の末端(及び側鎖)に位置するヒドロキシメトキシ基(−OCH2OH)を意味し、「ヘミアセ夕―ル末端基」と同じである。
ホルムアルデヒド抑制剤としては、塩基性窒素化合物、活性メチレン化合物、ポリフェノール系化合物などの活性水素含有化合物が挙げられる。ホルムアルデヒド抑制剤は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。
塩基性窒素化合物としては、アミノトリアジン系化合物、グアニジン系化合物、尿素系化合物、ヒドラジン系化合物、アミノ酸系化合物、アミノアルコール系化合物、イミド系化合物及びアミド系化合物が挙げられる。
活性メチレン化合物には、β−ジケトン化合物[β−ケト酸類[(シクロ)アルキルカルボニル酢酸、アリールカルボニル酢酸及びアラルキルカルボニル酢酸のエステル誘導体又は金属塩類(多価アルコールのエステル誘導体:例えば、ポリビニルアルコール単独又は共重合体のアセト酢酸エステル誘導体又はベンゾイル酢酸エステル誘導体、特開平11−114041号公報記載のアセト酢酸基含有飽和ポリエステル系樹脂など)]、アセチルアセトン類(アセチルアセトン、1,3−アセトンジカルボン酸ジメチル、1,3−アセトンジカルボン酸ジアミド、ポリ−1,3−アセトンジカルボン酸エステルなど)、シクロヘキサン−1,3−ジオン、ジメドンなど]などが挙げられる。
酸化防止剤には、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、アミン系酸化防止剤[フェニルナフチルアミン、N,N′−ジフェニル−1,4−フェニレンジアミン、4,4′−ジ(α,α−ジメチルベンジル)ジフェニルアミンなど]、リン系酸化防止剤(トリフェニルホスファイトなどのホスファイト系化合物、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフェートなどのトリフェニルホスフェート系化合物、ジホスフォナイト系化合物、次亜リン酸金属塩など)、イオウ系酸化防止剤(ジラウリルチオジプロピオネートなど)、ハイド口キノン系酸化防止剤(2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノンなど)、キノリン系酸化防止剤(6−エトキシ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリンなど)などが含まれる。なお、ヒンダードアミン系化合物は、種類にもよるが、後述するように、耐候安定剤としての機能も有している。これらの酸化防止剤のうち、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物が好ましく、酸化防止剤は、通常、ヒンダードフェノール系化合物で構成されている場合が多い。
ヒンダードフェノール系化合物には、慣用のフェノール系酸化防止剤、例えば、単環式ヒンダードフェノール化合物(2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールなど)、炭化水素基又はイオウ原子を含む基で連結された多環式ヒンダードフェノール化合物[2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタンなどのC1-10アルキレンビス乃至テトラキス(t−ブチルフェノール)類;4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)などのC2-10アルケニレン又はジエニレンビス乃至テトラキス(t−ブチルフェノール)類;1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼンなどのC6-20アリーレン又はアラルキレンビス乃至テトラキス(t−ブチルフェノール)類;4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)などのイオウ原子を有する基で連結されたビス(t−ブチルフェノール)類など]、エステル基又はアミド基を有するヒンダードフェノール化合物[n−オクタデシル−3−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネート、n−オクタデシル−2−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)プロピオネートなどのC2-10アルキレンカルボニルオキシ基を有するt−ブチルフェノール;1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]などの脂肪酸のポリオールエステルで連結されたビス乃至テトラキス(t−ブチルフェノール)類;3,9−ビス[2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンなどのヘテロ環基とC2-10アルキレンカルボニルオキシ基とを有するビス乃至テトラキス(t−ブチルフェノール)類;2−t−ブチル−6−(3’−t−ブチル−5’−メチル−2’−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートなどのC3-10アルケニルカルボニルオキシ基を有するt−アルキルフェノール(例えば、t−ブチルフェノール及びt−ペンチルフェノールなど);ジ−n−オクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートなどのホスホン酸エステル基を有するヒンダードフェノール化合物;N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシジヒド口シンナムアミド、N,N’−エチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N’−テトラメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N’−エチレンビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N’−ヘキサメチレンビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N’−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレートなどのアミド単位を有するヒンダードフェノール化合物など)などが含まれる。中でも、t−ブチル(特に複数のt−ブチル)基を有するフェノール化合物(特に複数のt−ブチルフェノール部位を有する化合物)が好ましい。ヒンダードフェノール系化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。
ヒンダードアミン系化合物としては、立体障害性基を有するピペリジン誘導体、例えば、エステル基含有ピペリジン誘導体[4−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどの脂肪族アシルオキシピペリジン(C2-20脂肪族アシルオキシ−テトラメチルピペリジンなど);4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどの芳香族アシルオキシピペリジン(C7-11芳香族アシルオキシテトラメチルピペリジンなど);ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)オギザレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)マロネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アジペート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アジペート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケートなどの脂肪族ジ又はトリカルボン酸−ビス又はトリスピペリジルエステル(C2-20脂肪族ジカルボン酸−ビスピペリジルエステルなど);ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)テレフタレート、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレートなどの芳香族ジ乃至テトラカルボン酸−ビス乃至テトラキスピペリジルエステル(芳香族ジ又はトリカルボン酸−ビス又はトリスピペリジルエステルなど)など]、エーテル基含有ピペリジン誘導体[4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどのC1-10アルコキシピペリジン(C1-6アルコキシ−テトラメチルピペリジンなど);4−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどのC5-8シクロアルキルオキシピペリジン;4−フェノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどのC6-10アリールオキシピペリジン;4−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどC6-10アリール−C1-4アルキルオキシピペリジン;1,2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)エタンなどのアルキレンジオキシビスピペリジン(C1-10アルキレンジオキシビスピペリジンなど)など]、アミド基含有ピペリジン誘導体[4−(フェニルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどのカルバモイルオキシピペリジン;ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレン−1,6−ジカルバメートなどのカルバモイルオキシ置換アルキレンジオキシ−ビスピペリジンなど]などが挙げられる。また、高分子量のピペリジン誘導体重縮合物(コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ{6−[(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][2−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)アミノ]ヘキサメチレン[4−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)イミノ]}など)などが含まれる。ヒンダードアミン系化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。
加工安定剤としては、長鎖脂肪酸又はその誘導体、ポリオキシアルキレングリコール、シリコーン化合物、フッ素化合物(ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニルデンフルオライド、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体などのフッ素含有オリゴマーやフッ素系樹脂など)、ワックス類(ポリエチレンワックスなどのポリオレフィン系ワックス、エチレン共重合体ワックスなどのオレフィン共重合体ワックス、これらの部分酸化物又は混合物など)などが例示できる。
長鎖脂肪酸は、飽和脂肪酸であってもよく、不飽和脂肪酸であってもよい。また、一部の水素原子がヒドロキシル基などの置換基で置換されたものも使用できる。このような長鎖脂肪酸としては、炭素数10以上の1価又は2価の脂肪酸、例えば、炭素数10以上の1価の飽和脂肪酸[カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、べヘン酸、モンタン酸などのC10-34飽和脂肪酸(好ましくはC10-30飽和脂肪酸)など]、炭素数10以上の1価の不飽和脂肪酸[オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、エルカ酸などのC10-34不飽和脂肪酸(好ましくはC10-30不飽和脂肪酸)など]、炭素数10以上の2価の脂肪酸(二塩基性脂肪酸)[セバシン酸、ドデカン酸、テトラデカン酸、タプシア酸などの2価のC10-30飽和脂肪酸(好ましくは2価のC10-20飽和脂肪酸)、デセン二酸、ドデセン二酸などの2価のC10-30不飽和脂肪酸(好ましくは2価のC10-20不飽和脂肪酸)など]が例示できる。これらの脂肪酸は一種で又は二種以上組合せて使用できる。前記脂肪酸には、1つ又は複数のヒドロキシル基を分子内に有する脂肪酸(例えぱ、12−ヒドロキシステアリン酸などのヒドロキシ飽和C10-26脂肪酸など)も含まれる。
前記ポリオキシアルキレングリコールには、アルキレングリコール(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコールなどのC2-6アルキレングリコール(好ましくはC2-4アルキレングリコール)など)の単独重合体、共重合体、及びそれらの誘導体などが含まれる。具体例としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリC2-6オキシアルキレングリコール(好ましくはポリC2-4オキシアルキレングリコール)、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン共重合体(ランダム又はブロック共重合体など)、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリセリルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンモノブチルエーテルなどの共重合体類が挙げられる。好ましいポリオキシアルキレングリコールは、オキシエチレン単位を有する重合体、例えば、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体及びそれらの誘導体などである。また、前記ポリオキシアルキレングリコールの数平均分子量は、3×102〜1×106(例えば、5×102〜5×105)、好ましくは1×103〜1×105(例えば、1×103〜5×104)程度である。
シリコーン系化合物には、ポリオルガノシロキサンなどが含まれる。ポリオルガノシロキサンとしてはジアルキルシロキサン(例えば、ジメチルシロキサンなど)、アルキルアリールシロキサン(例えば、メチルフェニルシロキサンなど)、ジアリールシロキサン(例えば、ジフェニルシロキサンなど)などの単独重合体(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリフェニルメチルシロキサンなど)又は共重合体などが例示できる。ポリオルガノシロキサンは、オリゴマーであってもよい。また、ポリオルガノシロキサンには、分子末端や主鎖に、エポキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミノ基又は置換アミノ基(ジアルキルアミノ基など)、エーテル基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などの置換基を有する変性ポリオルガノシロキサン(例えば、変性シリコーン)なども含まれる。これらのシリコーン系化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
前記耐熱安定剤には、(a)ホスフィン系化合物、(b)有機カルボン酸又は有機カルボン酸金属塩、(c)アルカリ又はアルカリ土類金属化合物、(d)ハイドロタルサイト、(e)ゼオライトなどが含まれる。
ホスフィン系化合物には、アルキルホスフィン(例えば、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィンなどのトリC1-10アルキルホスフィンなど)、シクロアルキルホスフィン(例えば、トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリC5-12シクロアルキルホスフィンなど)、アリールホスフィン(例えば、トリフェニルホスフィン、p−トリルジフェニルホスフィン、ジ−p−トリルフェニルホスフィン、トリ−m−アミノフェニルホスフィン、トリ−2,4−ジメチルフェニルホスフィン、トリ−2,4,6−トリメチルフェニルホスフィン、トリ−o−トリルホスフィン、トリ−m−トリルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィンなどのトリC6-12アリールホスフィンなど)、アラルキルホスフィン(例えば、トリ−o−アニシルホスフィン、トリ−p−アニシルホスフィンなどのトリC6-12アリールC1-4アルキルホスフィンなど)、アリールアルケニルホスフィン(例えば、ジフェニルビニルホスフィン、アリルジフェニルホスフィンなどのジC6-12アリールC2-10アルケニルホスフィンなど)、アリールアラルキルホスフィン(例えば、p−アニシルジフェニルホスフィンなどのジC6-12アリール(C6-12アリールC1-4アルキル)ホスフィンやジ−p−アニシルフェニルホスフィンなどのC6-12アリールジ(C6-12アリールC1-4アルキル)ホスフィンなど)、アルキルアリールアラルキルホスフィン(例えば、メチルフェニル−p−アニシルホスフィンなどのC1-10アルキルC6-12アリール(C6-12アリールC1-4アルキル)ホスフィンなど)、ビスホスフィン類[例えば、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタンなどのビス(ジC6-12アリールホスフィノ)C1-10アルカン]などが例示できる。これらのホスフィン化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
有機カルボン酸としては、pKaが3.6以上のカルボキシル基含有化合物が挙げられ、このような化合物には、特開2000−239484号公報に記載の有機カルボン酸などが含まれる。
アルカリ又はアルカリ土類金属化合物には、CaO、MgOなどの金属酸化物、LiOH、Ca(OH)2、Mg(OH)2などの金属水酸化物、金属無機酸塩(Li2CO3、Na2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3などの金属炭酸塩、ホウ酸塩やリン酸塩などの無機酸塩など)などの無機化合物が含まれ、特に、金属酸化物及び金属水酸化物が好ましい。前記化合物のうち、アルカリ土類金属化合物が好ましい。
ハイドロタルサイトとしては、特開昭60−1241号公報及び特開平9−59475号公報などに記載されているハイドロタルサイト類、例えば、下記式で表されるハイドロタルサイト化合物などが使用できる。
(式中、M2+はMg2+、Mn2+、Fe2+、Co2+などの2価金属イオンを示し、M3+はAl3+、Fe3+、Cr3+などの3価金属イオンを示す。An-はCO3 2-、OH−、HPO4 2-、SO4 2-などのn価(特に1価又は2価)のアニオンを示す。xは、0<x<0.5であり、mは、0≦m<1である。)
これらのハイドロタルサイトは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
ゼオライトとしては、特に制限されないが、例えば、特開平7−62142号公報に記載されているゼオライト[最小単位セルがアルカリ及び/又はアルカリ土類金属の結晶性アルミノケイ酸塩であるゼオライト(A型、X型、Y型、L型及びZSM型ゼオライト、モルデン沸石型ゼオライト;チャバザイト、モルデン沸石、ホージャサイトなどの天然ゼオライトなど)など]などが使用できる。
また、本発明のポリアセタール樹脂組成物は、さらに耐侯(光)安定剤を含んでいてもよい。耐侯(光)安定剤としては、(a)ベンゾトリアゾール系化合物、(b)ベンゾフェノン系化合物、(c)芳香族ベンゾエート系化合物、(d)シアノアクリレート系化合物、(e)シュウ酸アニリド系化合物、(f)ヒドロキシフェニル−1,3,5−トリアジン系化合物、(g)ヒンダードアミン系化合物などが挙げられる。
ヒンダードアミン系化合物としては、前記酸化防止剤の項で例示の化合物などが挙げられる。
安定剤の割合は、その種類に応じて選択できる。例えば、酸化防止剤(特に、ヒンダードフェノール系化合物及び/又はヒンダードアミン系化合物)の割合は、ポリアセタール共重合体100重量部に対して、0.001〜5重量部、好ましくは0.005〜3重量部、さらに好ましくは0.01〜2重量部程度である。
耐侯(光)安定剤の含有量は、例えば、ポリアセタール共重合体100重量部に対して、0〜5重量部(例えば、0.01〜5重量部)、好ましくは0.1〜4重量部、さらに好ましくは0.1〜2重量部程度であってもよい。
耐衝撃性改良剤又は低光沢性付与剤としては、アクリル系コアシェルポリマー(特開平12−26705号公報に記載のコアシェルポリマーなど)、ポリウレタン系樹脂(熱可塑性ポリウレタン)、ポリエステル系樹脂(熱可塑性ポリエステル)などが例示できる。耐衝撃性改良剤の使用量は、ポリアセタール共重合体100重量部に対して、例えば、0〜100重量部(例えば、1〜100重量部)、好ましくは2〜75重量部、さらに好ましくは3〜60重量部程度であってもよい。
摺動性改良剤としては、オレフィン系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂などが例示できる。摺動性改良剤の使用量は、ポリアセタール共重合体100重量部に対して、例えば、0〜50重量部(例えば、0.1〜50重量部)、好ましくは1〜30重量部、さらに好ましくは3〜20重量部程度であってもよい。
前記着色剤としては、各種染料または顔料が使用できる。染料はソルベント染料が好ましく、アゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、又はナフトキノン系染料などが挙げられる。顔料については、無機顔料及び有機顔料のいずれも使用できる。
本発明の樹脂組成物では、成形品の性能を向上させるために、さらに、慣用の繊維状、板状、粉粒状などの充填剤を単独で又は二種以上組み合わせて配合してもよい。繊維状充填剤としては、無機繊維(ガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、チタン酸カリウム繊維(ウイスカー)等)、有機繊維(アミド繊維など)等が例示できる。板状充填剤としては、ガラスフレーク、マイカ、グラファイト、各種金属箔などが例示できる。粉粒状充填剤としては、金属酸化物(酸化亜鉛、アルミナなど)、硫酸塩(硫酸カルシウム、硫酸マグネシウムなど)、炭酸塩(炭酸カルシウムなど)、ガラス類(ミルドファイバー、ガラスビーズ、ガラスバルーンなど)、ケイ酸塩(タルク、カオリン、シリカ、ケイソウ土、クレー、ウォラスナイトなど)、硫化物(二硫化モリブデン、二硫化タングステンなど)、炭化物(フッ化黒鉛、炭化ケイ素など)、活性炭、窒化ホウ素などが例示できる。
ポリアセタール樹脂組成物は、粉粒状混合物や、溶融混合物であってもよく、ポリアセタール共重合体とホルムアルデヒド抑制剤(以下、単に抑制剤ということがある)、必要により他の添加剤[酸化防止剤(ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物など)、加工安定剤、耐熱安定剤、耐侯(光)安定剤、耐衝撃改良剤、摺動性改良剤、着色剤、充填剤など]とを慣用の方法で混合することにより調製できる。なお、前記粉粒状混合物では、ポリアセタール共重合体の粉粒体(特にペレット)と抑制剤とが共存していればよく、「共存」とは、ポリアセタ−ル共重合体の粉粒体(ペレット)の近傍に抑制剤を存在させることを意味する。好ましい「共存」の方法としては、ポリアセタール共重合体の粉粒体(ペレット)と、抑制剤又は抑制剤を含むマスターバッチとを共存させる方法が挙げられ、例えば、ポリアセタール共重合体、特に安定化されたポリアセタール共重合体の粉粒体に抑制剤を付着させる方法、ポリアセタール共重合体の粉粒体と粉粒状抑制剤(粉粒状マスターバッチなど)とを添加又は混合し、粉粒状混合物とする方法などが含まれる。
前記ポリアセタール樹脂組成物で構成された本発明のポリアセタール樹脂成形品は、特定のポリアセタール共重合体とホルムアルデヒド抑制剤とを組み合わせて含んでおり、押出及び/又は成形加工安定性に優れるとともに、ホルムアルデヒド発生量が極めて少ない。すなわち、酸化防止剤などの安定剤を含む従来のポリアセタール樹脂で構成された成形品は、比較的多量のホルムアルデヒドを生成し、腐食や変色などの他、生活環境や作業環境を汚染する。例えば、一般に市販されているポリアセタール樹脂成形品からのホルムアルデヒド発生量は、乾式(恒温乾燥雰囲気下)において、表面積1cm2当たり2〜5μg程度、または、湿式(恒温湿潤雰囲気下)において、表面積1cm2当たり3〜6μg程度である。
試験片(2mm×2mm×50mm)10個(総表面積約40cm2)の樹脂サンプルを密閉容器(容量20ml)に入れ、温度80℃で24時間、恒温槽内で加熱した後、室温に空冷し、蒸留水5mlをシリンジにて注入した。この水溶液のホルムアルデヒド量を、JIS K0102,29(ホルムアルデヒドの項)に従って定量し、表面積当たりのホルムアルデヒドガス発生量(μg/cm2)を算出した。
平板状試験片(100mm×40mm×2mm;総表面積85.6cm2)を蒸留水50mlを含むポリエチレン製瓶(容量1L)の蓋に2枚吊下げて密閉し、恒温槽内に温度60℃で3時間放置した後、室温で1時間静置した。ポリエチレン製瓶中の水溶液のホルマリン量をJIS K0102,29(ホルムアルデヒドの項)に従って定量し、表面積当たりのホルムアルデヒド発生量(μg/cm2)を算出した。
特定のポリマー品質指標を有するポリアセタール共重合体100重量部に、ホルムアルデヒド抑制剤、酸化防止剤、加工安定剤、耐熱安定剤、着色剤、耐候(光)安定剤、加工助剤(水)を表1〜表2に示す割合でプリブレンドした後、1ヶ所のベント口を有する30mm径の二軸押出機の主フィード口に投入して溶融混合(押出条件:L/D=35、押出し温度=200℃、スクリュー回転数=100rpm、ベント真空度=70cmHg、吐出量=15kg/hr、滞留時間=100秒)し、ペレット状の組成物を調製した。
特定のポリマー品質指標を有するポリアセタール共重合体95重量部に、酸化防止剤、加工安定剤、耐熱安定剤、耐候(光)安定剤、着色剤を表1〜表2に示す割合で混合したプリブレンド材を調製し、1ヶ所のベント口を有する30mm径の二軸押出機を用い、プリブレンド材を主フィード口より投入して溶融混合(押出条件:L/D=35、押出し温度=200℃、スクリュー回転数=100rpm、ベント真空度=70cmHg、吐出量=15kg/hr、滞留時間=100秒)し、更に、特定のポリマー品質指標を有するポリアセタール共重合体の粉粒体5重量部とホルムアルデヒド抑制剤のブレンド材を押出機のベント口後のサイドフィード口よりサイドフィードしてペレット状の組成物を調製した。
特定なポリマー品質指標を有するポリアセタール共重合体のペレット100重量部にホルムアルデヒド抑制剤を表2に示す割合でポリエチレン袋に入れブレンドして混合ペレット組成物を得た。この混合ペレット組成物を用いて射出成形機により所定の試験片を成形し、この試験片からのホルムアルデヒド発生量の評価を行った。結果を表3に示す。
実施例8で得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットを、1ヶ所のベント口を有する30mm径の二軸押出機の主フィード口に投入して溶融混合(押出条件:L/D=35、押出し温度=200℃、スクリュー回転数=100rpm、ベント真空度=70cmHg、吐出量=15kg/hr)する方法を二回繰り返し、総滞留時間=300秒のペレット状の組成物を調製した。
実施例8で得られたポリアセタール樹脂組成物ペレットの代わりに、実施例13で得たポリアセタール樹脂組成物ペレットを用いる以外は、実施例33と同様の押出し処理を行い溶融混練時間(総滞留時間=300秒)の長いペレット状の組成物を調製して、射出成形機により、所定の試験片を成形し、この試験片からのホルムアルデヒド発生量の評価を行った。このホルムアルデヒド発生量は、乾式=0.55μg/cm2,湿式=0.85μg/cm2であった。
なお、比較のために、ホルムアルデヒド抑制剤を添加しない例、及びポリマー品質指標の異なるポリアセタール共重合体に、ホルムアルデヒド抑制剤を添加しない例と添加した例について、上記と同様にして評価した。結果を表4に示す。
(a−1):ポリアセタール共重合体[ヘミホルマール末端基量=0.35mmol/kg、ホルミル末端基量=0.1mmol/kg、不安定末端基量=0.12重量%、メルトインデックス=9g/10分]
(a−2):ポリアセタール共重合体[0.03重量%のトリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]を含有するヘミホルマール末端基量=0.35mmol/kg、ホルミル末端基量=0.7mmol/kg、不安定末端基量=0.23重量%、メルトインデックス=9g/10分のポリアセタール共重合体]
(a−3):ポリアセタール共重合体[0.05重量%のペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]を含有するヘミホルマール末端基量=0.40mmol/kg、ホルミル末端基量=1.0mmol/kg、不安定末端基量=0.20重量%、メルトインデックス=9g/10分のポリアセタール共重合体]
(a−4):ポリアセタール共重合体[0.2重量%のビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケートを含有するヘミホルマール末端基量=0.52mmol/kg、ホルミル末端基量=1.3mmol/kg、不安定末端基量=0.24重量%、メルトインデックス=9g/10分のポリアセタール共重合体]
(a−5):ポリアセタール共重合体[0.3重量%のトリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、0.05重量%の平均粒子径3μmのナイロン66樹脂、0.05重量%のステアリン酸カルシウム、0.05重量%のエチレングリコールジステアリン酸エステルを含有するヘミホルマール末端基量=0.53mmol/kg、ホルミル末端基量=0.4mmol/kg、不安定末端基量=0.15重量%、メルトインデックス=9g/10分のポリアセタール共重合体]
(a−6):ポリアセタール共重合体[0.3重量%のトリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、0.05重量%のナイロン6−66−610樹脂[デュポン(株)製、Elvamide 8063R]、0.10重量%のクエン酸カルシウム、0.20重量%のエチレンジステアリルアミドを含有するヘミホルマール末端基量=0.29mmol/kg、ホルミル末端基量=0.4mmol/kg、不安定末端基量=0.15重量%、メルトインデックス=9g/10分のポリアセタール共重合体]
(a−7):ポリアセタール共重合体[0.05重量%のべンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]を含有するヘミホルマール末端基量=0.82mmol/kg、ホルミル末端基量=2.4mmol/kg、不安定末端基量=0.52重量%、メルトインデックス=9g/10分のポリアセタール共重合体]
なお、ポリアセタール共重合体のヘミホルマール末端基量及びホルミル基末端基量は、Bruker(株)製のAVANCE400型FT−NMR装置を用いて、特開2001−11143号公報に記載の方法に準じて測定を行って得られた値(mmol/kg)である。
(b−1):ベンゾグアナミン
(b−2):CTU−グアナミン[味の素ファインテクノ(株)製]
(b−3):フタログアナミン
(b−4):2,4−ジアミノ−6−(2’−ウンデシルイミダゾリル−1’)−エ
チル−s−トリアジン[四国化成工業(株)製,キュアゾールC11Z−A]
(b−5):ビウレア
(b−6):L−ヒスチジン
(b−7):アラントイン
(b−8):ステアリン酸ヒドラジド
(b−9):1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジヒドラジド
(b−10):ドデカン二酸ジヒドラジド
(b−11):2,6−ナフタレンジカルボン酸ジヒドラジド
(b−12):ポリアクリル酸ヒドラジド[大塚化学(株)製、APA]
(b−13):ナイロン6−66−610[デュポン(株)製、Elvamide 8063R]
(b−14):セバシン酸ジヒドラジド10重量%を担持したハイドロタルサイト[ハイドロタルサイト(協和化学工業(株)製、DMT−4A)]
(c−1):トリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
(c−2):ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
(c−3):2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)
(d−1):エチレンビスステアリルアミド
(d−2):モンタン酸エステル[東洋ペトロライト(株)製、LUZA WAX−EP]
(d−3):ポリエチレンオキシド[数平均分子量:35000]
(e−1):12−ヒドロキシステアリン酸カルシウム
(e−2):ステアリン酸マグネシウム
(e−3):酸化マグネシウム
(e−4):クエン酸カルシウム
(e−5):アイオノマー[三井・デュポンポリケミカル(株)製、ハイミラン1702]
(e−6):エチレン−メタクリル酸共重合体[三井・デュポンポリケミカル(株)製、ニュクレルN0908C]
(f−1):カーボンブラック(アセチレンブラック)
(f−2):酸化チタン
(g−1):2−[2’−ヒドロキシ−3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール
(g−2):ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート
(h−1):蒸留水
Claims (30)
- ポリアセタール共重合体と、ホルムアルデヒド抑制剤とで構成されたポリアセタール樹脂組成物であって、前記ポリアセタール共重合体において、ヘミホルマール末端基量が1mmol/kg以下であり、ホルミル末端基量が2mmol/kg以下であり、かつメルトインデックスが0.1〜100g/10分であるポリアセタール樹脂組成物。
- ヘミホルマール末端基とホルミル末端基との割合が、前者/後者(モル比)=100/0〜5/95である請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ポリアセタール共重合体において、さらに、不安定末端基量が0.5重量%以下である請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ポリアセタール共重合体において、ヘミホルマール末端基量が0.05〜0.8mmol/kgであり、ホルミル末端基量が0〜1.5mmol/kgであり、ヘミホルマール末端基とホルミル末端基との割合が、前者/後者(モル比)=100/0〜10/90であり、不安定末端基量が0.01〜0.4重量%であり、かつメルトインデックスが0.5〜80g/10分である請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ホルムアルデヒド抑制剤が、塩基性窒素化合物、活性メチレン基含有化合物、およびポリフェノール化合物から選択され、かつ活性水素原子を有する少なくとも1種の化合物で構成されている請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ホルムアルデヒド抑制剤が、アミノトリアジン系化合物、グアニジン系化合物、尿素系化合物、ヒドラジン系化合物、アミノ酸系化合物、アミノアルコール系化合物、イミド系化合物及びアミド系化合物から選択された少なくとも1種の塩基性窒素化合物で構成されている請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ホルムアルデヒド抑制剤が、グアナミン系化合物、鎖状尿素系化合物、環状尿素系化合物、カルボン酸ヒドラジド系化合物、α,β,γ又はδ−アミノ酸類、ポリアミド系樹脂及びポリ(メタ)アクリル酸アミド系樹脂から選択された少なくとも1種の塩基性窒素化合物で構成されている請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ホルムアルデヒド抑制剤が、グアナミン系化合物、鎖状尿素系化合物、環状尿素系化合物及びカルボン酸ヒドラジド系化合物から選択された少なくとも1種と、ポリアミド系樹脂及びポリ(メタ)アクリル酸アミド系樹脂から選択された少なくとも一種とで構成されている請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ホルムアルデヒド抑制剤の割合が、ポリアセタール共重合体100重量部に対して、0.001〜20重量部である請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- さらに、酸化防止剤、加工安定剤、耐熱安定剤及び耐候安定剤から選択された少なくとも一種の安定剤を含む請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 酸化防止剤が、ヒンダードフェノール系化合物およびヒンダードアミン系化合物から選択された少なくとも1種で構成されている請求項10記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 加工安定剤が、長鎖脂肪酸又はその誘導体、ポリオキシアルキレングリコール及びシリコーン系化合物から選択された少なくとも1種である請求項10記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 耐熱安定剤が、ホスフィン系化合物、有機カルボン酸又は有機カルボン酸金属塩、アルカリ又はアルカリ土類金属化合物、ハイドロタルサイト及びゼオライトから選択された少なくとも1種である請求項10記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 耐侯安定剤が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、芳香族ベンゾエート系化合物、シアノアクリレート系化合物、シュウ酸アニリド系化合物、ヒドロキシフェニル−1,3,5−トリアジン系化合物、及びヒンダードアミン系化合物から選択された少なくとも1種である請求項10記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ポリアセタール共重合体が、塩基性窒素化合物、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、加工安定剤、および耐熱安定剤から選択された少なくとも1種を予め含んでいる請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 0.8mmol/kg以下のヘミホルマール末端基量、1.5mmol/kg以下のホルミル末端基量、0.4重量%以下の不安定末端基量、および0.5〜80g/10分のメルトインデックスを有するポリアセタール共重合体と、ホルムアルデヒド抑制剤と、ヒンダードフェノール系化合物及び/又はヒンダードアミン系化合物と、加工安定剤と、耐熱安定剤とで構成されたポリアセタール樹脂組成物であって、前記ポリアセタール共重合体100重量部に対して、ホルムアルデヒド抑制剤0.01〜10重量部、ヒンダードフェノール系化合物及び/又はヒンダードアミン系化合物0.005〜3重量部、加工安定剤0.01〜5重量部、および耐熱安定剤0.001〜5重量部の割合で含む請求項10記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 0.6mmol/kg以下のヘミホルマール末端基量、1.0mmol/kg以下のホルミル末端基量、0.3重量%以下の不安定末端基量、および1.0〜60g/10分のメルトインデックスを有するポリアセタール共重合体と、ホルムアルデヒド抑制剤と、ヒンダードフェノール系化合物およびヒンダードアミン系化合物から選択された少なくとも1種と、加工安定剤と、耐熱安定剤とで構成されたポリアセタール樹脂組成物であって、ポリアセタール共重合体100重量部に対して、ホルムアルデヒド抑制剤0.02〜5重量部、ヒンダードフェノール系化合物及び/又はヒンダードアミン系化合物0.01〜2重量部、加工安定剤0.03〜3重量部、および耐熱安定剤0.01〜2重量部の割合で含む請求項10記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 0.5mmol/kg以下のヘミホルマール末端基量、0.8mmol/kg以下のホルミル末端基量、0.25重量%以下の不安定末端基量、および1.0〜50g/10分のメルトインデックスを有するポリアセタール共重合体と、ホルムアルデヒド抑制剤と、ヒンダードフェノール系化合物およびヒンダードアミン系化合物から選択された少なくとも1種と、加工安定剤と、耐熱安定剤とで構成されたポリアセタール樹脂組成物であって、ポリアセタール共重合体100重量部に対して、ホルムアルデヒド抑制剤0.02〜2重量部、ヒンダードフェノール系化合物及び/又はヒンダードアミン系化合物0.01〜2重量部、加工安定剤0.03〜3重量部、および耐熱安定剤0.01〜2重量部の割合で含む請求項10記載のポリアセタール樹脂組成物。
- さらに、耐衝撃性改良剤又は低光沢性付与剤、摺動性改良剤、着色剤及び充填剤から選択された少なくとも1種の添加剤を含む請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 耐衝撃性改良剤又は低光沢性付与剤が、熱可塑性ポリエステル、熱可塑性ポリウレタン及びアクリル系コアシェルポリマーから選択された少なくとも1種である請求項19記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 摺動性改良剤が、オレフィン系ポリマー、シリコーン系樹脂及びフッ素系樹脂から選択された少なくとも1種である請求項19記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ポリアセタール共重合体のペレットと、ホルムアルデヒド抑制剤又はホルムアルデヒド抑制剤を含むマスターバッチとが共存している請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 請求項1記載のポリアセタール共重合体と、ホルムアルデヒド抑制剤とを混合するポリアセタール樹脂組成物の製造方法。
- 請求項1記載のポリアセタール共重合体と、ホルムアルデヒド抑制剤とを、脱揮口を有する押出機で溶融混合するポリアセタール樹脂組成物の製造方法であって、前記溶融混合過程において、水及びアルコール類から選択された少なくとも1種の加工助剤を添加し、前記脱揮口から揮発成分を脱揮除去する請求項23記載の製造方法。
- 請求項1記載のポリアセタール共重合体と、ホルムアルデヒド抑制剤とを脱揮口を有する押出機で溶融混合するポリアセタール樹脂組成物の製造方法であって、ホルムアルデヒド抑制剤の一部又は全部を押出機の途中部から供給する請求項23記載の製造方法。
- 請求項1記載のポリアセタール共重合体と、尿素系化合物およびヒドラジド系化合物から選択された少なくとも1種のホルムアルデヒド抑制剤とを押出機で溶融混合するポリアセタール樹脂組成物の製造方法であって、溶融混練時間が300秒以下である請求項23記載の製造方法。
- 請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物で構成されたポリアセタール樹脂成形品。
- (1)温度80℃で24時間密閉空間で保存した時、発生ホルムアルデヒド量が成形品の表面積1cm2当り0.1μg以下及び/又は(2)温度60℃、飽和湿度の密閉空間で3時間保存した時、発生ホルムアルデヒド量が成形品の表面積1cm2当り0.2μg以下である請求項27記載のポリアセタール樹脂成形品。
- (1)温度80℃で24時間密閉空間で保存した時、発生ホルムアルデヒド量が成形品の表面積1cm2当り0.005〜0.09μg及び/又は(2)温度60℃、飽和湿度の密閉空間で3時間保存した時、発生ホルムアルデヒド量が成形品の表面積1cm2当り0.005〜0.1μgである請求項27記載のポリアセタール樹脂成形品。
- 成形品が、自動車部品、電気・電子部品、建材・配管部品、生活・化粧品用部品及び医用部品から選択された少なくとも1種である請求項27記載のポリアセタール樹脂成形品。
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Cited By (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005162909A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物およびそれからなる成形品 |
JP2006321880A (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及び成形品 |
JP2006321929A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物およびそれを含む樹脂成形品 |
WO2007020931A1 (ja) * | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物及び樹脂成形体 |
JP2007084714A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びリサイクル加工品 |
JPWO2005033201A1 (ja) * | 2003-10-01 | 2007-11-15 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
WO2008001557A1 (fr) | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Polyplastics Co., Ltd. | Composition de résine polyacétalique |
WO2008066053A1 (fr) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Polyplastics Co., Ltd. | Composition de résine de polyacétal et article moulé à partir de celle-ci |
WO2008078572A1 (ja) | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
WO2008078571A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物 |
WO2008078570A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物 |
WO2009081517A1 (ja) | 2007-12-26 | 2009-07-02 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2009286874A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
JP2010006903A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2010006904A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2010037445A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
WO2010119826A1 (ja) * | 2009-04-15 | 2010-10-21 | ポリプラスチックス株式会社 | セルロース繊維強化ポリアセタール樹脂組成物 |
WO2010119810A1 (ja) * | 2009-04-15 | 2010-10-21 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2011510145A (ja) * | 2008-01-22 | 2011-03-31 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 被覆ポリオキシメチレン |
JP2011511872A (ja) * | 2008-02-13 | 2011-04-14 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 被覆されたポリオキシメチレン |
JP2011219594A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 自動車内装・機構部品 |
WO2012049927A1 (ja) * | 2010-10-15 | 2012-04-19 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 |
JP2012107150A (ja) * | 2010-11-19 | 2012-06-07 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物及びそれからなる成形品 |
JP2013040221A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-28 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 |
JP2013067569A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規ヒドラジド化合物及びそれを用いた樹脂組成物 |
JP2013103958A (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-30 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2013155285A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
US8921471B2 (en) | 2009-08-07 | 2014-12-30 | Ticona Llc | Low formaldehyde emission polyacetal composition |
US8975313B2 (en) | 2011-09-29 | 2015-03-10 | Ticona Llc | Polymer composition for producing articles having a metallic appearance |
JP2016537492A (ja) * | 2013-10-01 | 2016-12-01 | ハンツマン ペトロケミカル エルエルシーHuntsman Petrochemical LLC | アミン触媒中のアルデヒドの減少 |
WO2017200069A1 (ja) * | 2016-05-19 | 2017-11-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 |
JP2018080305A (ja) * | 2016-11-18 | 2018-05-24 | 旭化成株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
WO2023136298A1 (ja) * | 2022-01-17 | 2023-07-20 | 旭化成株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4516301B2 (ja) * | 2003-11-10 | 2010-08-04 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP4568018B2 (ja) * | 2004-04-30 | 2010-10-27 | ポリプラスチックス株式会社 | 消臭剤及び樹脂組成物 |
DE102005044515A1 (de) * | 2005-09-16 | 2007-05-24 | Ticona Gmbh | Polyoxymethylen Formmassen, deren Verwendung und daraus hergestellte Formkörper |
JP4889999B2 (ja) * | 2005-10-24 | 2012-03-07 | ポリプラスチックス株式会社 | 不安定末端基分解処理剤及びそれを用いた安定化ポリアセタール樹脂の製造方法 |
US20080234413A1 (en) * | 2007-03-20 | 2008-09-25 | Kenichi Shinohara | Polyacetal resin composition |
EP2240537B1 (de) * | 2008-02-06 | 2012-04-25 | Basf Se | Beschichtete polyoxymethylene |
FR2929952B1 (fr) * | 2008-04-11 | 2011-02-11 | Saint Gobain Isover | Composition d'encollage pour fibres minerales et produits resultants |
FR2929953B1 (fr) * | 2008-04-11 | 2011-02-11 | Saint Gobain Isover | Composition d'encollage pour fibres minerales et produits resultants |
CN103044852A (zh) * | 2013-01-18 | 2013-04-17 | 云南云天化股份有限公司 | 一种聚缩醛树脂组合物 |
CN109983076A (zh) | 2016-10-11 | 2019-07-05 | 塞拉尼斯销售德国有限公司 | 具有改进表面外观的耐磨聚合物组合物 |
CN110651006B (zh) | 2017-04-07 | 2023-04-18 | 提克纳有限责任公司 | 低排放聚甲醛组合物 |
JP6931312B2 (ja) * | 2017-10-04 | 2021-09-01 | 旭化成株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63196615A (ja) * | 1987-02-07 | 1988-08-15 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシャフト | 粗オキシメチレン共重合体から不安定成分を除く連続法 |
JPH07238209A (ja) * | 1994-03-02 | 1995-09-12 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン樹脂組成物及びその成形体 |
JP2000026704A (ja) * | 1998-05-08 | 2000-01-25 | Polyplastics Co | ポリアセタ―ル樹脂組成物およびその製造方法 |
JP2000026705A (ja) * | 1998-05-07 | 2000-01-25 | Polyplastics Co | ポリアセタ―ル樹脂組成物 |
JP2001011143A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-01-16 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン共重合体、その製造方法及び分析方法 |
JP2002256134A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-09-11 | Asahi Kasei Corp | ポリオキシメチレン樹脂組成物及びその成形体 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4731397A (en) * | 1985-09-20 | 1988-03-15 | Celanese Corporation | Thermal stabilization of acetal polymers |
CA2273098C (en) * | 1996-12-27 | 2008-03-18 | Polyplastics Co., Ltd. | Polyacetal resin composition and moldings |
CN1196726C (zh) * | 1999-12-10 | 2005-04-13 | 汎塑料株式会社 | 聚缩醛共聚物 |
-
2003
- 2003-10-07 JP JP2003348765A patent/JP2005112995A/ja active Pending
-
2004
- 2004-10-07 ES ES04256195T patent/ES2271796T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2004-10-07 AT AT04256195T patent/ATE346117T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-10-07 EP EP04256195A patent/EP1522554B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-10-07 DE DE602004003321T patent/DE602004003321T2/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63196615A (ja) * | 1987-02-07 | 1988-08-15 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシャフト | 粗オキシメチレン共重合体から不安定成分を除く連続法 |
JPH07238209A (ja) * | 1994-03-02 | 1995-09-12 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン樹脂組成物及びその成形体 |
JP2000026705A (ja) * | 1998-05-07 | 2000-01-25 | Polyplastics Co | ポリアセタ―ル樹脂組成物 |
JP2000026704A (ja) * | 1998-05-08 | 2000-01-25 | Polyplastics Co | ポリアセタ―ル樹脂組成物およびその製造方法 |
JP2001011143A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-01-16 | Polyplastics Co | ポリオキシメチレン共重合体、その製造方法及び分析方法 |
JP2002256134A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-09-11 | Asahi Kasei Corp | ポリオキシメチレン樹脂組成物及びその成形体 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
高野菊雄編, ポリアセタール樹脂 ハンドブック, vol. 初版1刷, JPN7009003878, 28 February 1992 (1992-02-28), JP, pages 232 - 3, ISSN: 0001399069 * |
Cited By (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2005033201A1 (ja) * | 2003-10-01 | 2007-11-15 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2005162909A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物およびそれからなる成形品 |
JP2006321880A (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及び成形品 |
JP2006321929A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物およびそれを含む樹脂成形品 |
WO2007020931A1 (ja) * | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物及び樹脂成形体 |
JP2007051205A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及び樹脂成形体 |
JP2007084714A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びリサイクル加工品 |
WO2008001557A1 (fr) | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Polyplastics Co., Ltd. | Composition de résine polyacétalique |
US7893140B2 (en) | 2006-06-30 | 2011-02-22 | Polyplastics Co., Ltd. | Polyacetal resin composition |
WO2008066053A1 (fr) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Polyplastics Co., Ltd. | Composition de résine de polyacétal et article moulé à partir de celle-ci |
JP2008127556A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
WO2008078572A1 (ja) | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
WO2008078571A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物 |
WO2008078570A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2008156489A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
JP2008156505A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2008156504A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物 |
US8633264B2 (en) | 2007-12-26 | 2014-01-21 | Polyplastics Co., Ltd. | Polyacetal resin composition |
WO2009081517A1 (ja) | 2007-12-26 | 2009-07-02 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2009155418A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2011510145A (ja) * | 2008-01-22 | 2011-03-31 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 被覆ポリオキシメチレン |
JP2011511872A (ja) * | 2008-02-13 | 2011-04-14 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 被覆されたポリオキシメチレン |
JP2009286874A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
JP2010006903A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2010006904A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2010037445A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
WO2010119826A1 (ja) * | 2009-04-15 | 2010-10-21 | ポリプラスチックス株式会社 | セルロース繊維強化ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2010265439A (ja) * | 2009-04-15 | 2010-11-25 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物 |
WO2010119810A1 (ja) * | 2009-04-15 | 2010-10-21 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
US8921471B2 (en) | 2009-08-07 | 2014-12-30 | Ticona Llc | Low formaldehyde emission polyacetal composition |
JP2011219594A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 自動車内装・機構部品 |
WO2012049927A1 (ja) * | 2010-10-15 | 2012-04-19 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 |
JP2012087158A (ja) * | 2010-10-15 | 2012-05-10 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 |
JP2012107150A (ja) * | 2010-11-19 | 2012-06-07 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物及びそれからなる成形品 |
JP2013040221A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-28 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 |
JP2013067569A (ja) * | 2011-09-21 | 2013-04-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規ヒドラジド化合物及びそれを用いた樹脂組成物 |
US8975313B2 (en) | 2011-09-29 | 2015-03-10 | Ticona Llc | Polymer composition for producing articles having a metallic appearance |
JP2013103958A (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-30 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2013155285A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2016537492A (ja) * | 2013-10-01 | 2016-12-01 | ハンツマン ペトロケミカル エルエルシーHuntsman Petrochemical LLC | アミン触媒中のアルデヒドの減少 |
US20190276659A1 (en) * | 2016-05-19 | 2019-09-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyacetal resin composition and method for producing the same |
CN109071917A (zh) * | 2016-05-19 | 2018-12-21 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚缩醛树脂组合物及其制造方法 |
KR20190010577A (ko) * | 2016-05-19 | 2019-01-30 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 폴리아세탈 수지 조성물 및 그의 제조 방법 |
WO2017200069A1 (ja) * | 2016-05-19 | 2017-11-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 |
CN109071917B (zh) * | 2016-05-19 | 2021-08-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚缩醛树脂组合物及其制造方法 |
KR102314247B1 (ko) * | 2016-05-19 | 2021-10-18 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 폴리아세탈 수지 조성물 및 그의 제조 방법 |
US11390740B2 (en) | 2016-05-19 | 2022-07-19 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyacetal resin composition and method for producing the same |
JP2018080305A (ja) * | 2016-11-18 | 2018-05-24 | 旭化成株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
WO2023136298A1 (ja) * | 2022-01-17 | 2023-07-20 | 旭化成株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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