JP2006245101A - カラーフィルタを有する撮像装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明は、上記混色の問題を解決するためになされたものであり、隣接するマイクロレンズ間の隙間部に入射し、画素境界部のカラーフィルタを透過する光の量を減らし、カメラ画像の混色を低減させることを目的とする。
【解決手段】 本発明は、入射光を各色に分離するための複数のカラーフィルタと、カラーフィルタの一方の側に設けられた光電変換部とを有する撮像装置であって、カラーフィルタの周辺部の厚さが中央部の厚さよりも厚いことを特徴とする撮像装置である。
【選択図】 図６

Description

本発明は、カラー画像を撮像するためのカラーフィルタを備えた撮像装置に関する。

カラービデオカメラやカラースチルカメラ等で用いるカラー撮像装置は、例えば、特許文献１等に開示されている。赤色、緑色、青色の３原色フィルタあるいは、シアン、マゼンタ等の補色フィルタ等の色フィルタを、光電変換部となる光電変換素子上に形成し、色フィルタを透過した光を光電変換素子に入射させ、各色の画像信号に分離している。カラー信号は、分離された各色の画像信号を合成することにより得ることができる。このように色フィルタを光電変換素子上に形成したものをオンチップカラーフィルタと称す。

従来のオンチップカラーフィルタを有する撮像装置の一般的な例を、図面を用いて詳細に説明する。

図１は、オンチップカラーフィルタを有する撮像装置の構造を示す概略断面図で、半導体基板１００に、入射光量に応じた信号電荷を発生する光電変換部１１０が形成されている。光電変換部１１０は、格子状に配列され、画素ごとに設けられている。

各画素には、光電変換部１１０で発生した信号電荷に対応する画素信号を生成し、受光領域の周辺に設けられた垂直走査回路（不図示）からの制御信号に従って、水平走査回路（不図示）へ画素信号を転送するための駆動回路が形成されている。

半導体基板１００上には、上記駆動回路を構成するトランジスタのゲート電極１０９が形成され、その上には、駆動回路の回路構成に応じて、複数の層に配線が形成されている。なお、図１では、２層の配線層が形成された構成例を示している。また、半導体基板１００には、トランジスタのソース、ドレインとなる不純物拡散領域が形成されている。

配線１０５，１０７は、アルミニウム等を用いて、所望の形状にパターニングされ、各配線およびゲート電極間は、例えばＳｉＯ₂等からなる層間絶縁膜１０６、１０８で絶縁されている。また、最も上の配線層１０５は、例えばＳｉＮからなる保護膜（以下、パッシベーション膜（不図示）と称す）によって被覆されている。

パッシベーション膜の上層には、例えば、アクリル系樹脂からなる第１の平坦化膜１０４が形成され、第１の平坦化膜１０４上には、各画素に対応して、入射光を分光するためのカラーフィルタ１０３が設けられている。カラーフィルタ１０３は、例えば、赤、青、緑の３原色の顔料を含むフォトレジストを用いて、画素ごとに、赤、青、緑のいずれか１色で覆われるように形成される。

カラーフィルタ１０３上には、光透過性を有する第２の平坦化膜１０２が形成され、その上に、光電変換部１１０へ入射光を効率良く集光するための集光レンズであるマイクロレンズ１０１が形成されている場合が多いが、マイクロレンズ１０１を配置しない場合もある。

図２は、図１に示した従来のカラーフィルタの形成手順を示す工程断面図である。

図１に示したカラーフィルタを形成する場合、まず、パッシベーション膜（不図示）の表面に第１の平坦化膜１０４を形成した後、第１の平坦化膜１０４の表面に、例えば、緑の顔料が分散されたネガ型のカラーレジストを塗布する。続いて、緑のカラーフィルタ（以下、Ｇフィルタと称す）の形成すべき位置を除いて遮光部が形成されたマスクを用いて、例えば、波長３６５ｎｍの紫外線を照射し、現像することで、図２（ａ）に示すように、第１の平坦化膜上にＧフィルタ１０３Ｇを形成する。

次に、図２（ｂ）に示すように、例えば、赤の顔料が分散されたネガ型のカラーレジスト１０３Ａを、Ｇフィルタ１０３Ｇを覆うように、第１の平坦化膜１０４上の全面に塗布する。続いて、赤のカラーフィルタ（以下、Ｒフィルタと称す）の形成すべき位置を除いて遮光部が形成されているマスクを用いて、例えば、３６５ｎｍの紫外線を照射し、現像することで、図２（ｃ）に示すように、Ｒフィルタ１０３Ｒを形成する。

さらに、図示していないが、例えば、青の顔料が分散されたネガ型のカラーレジストを、Ｇフィルタ、Ｒフィルタを覆うように、第１の平坦化膜上の全面に塗布する。続いて、青のカラーフィルタ（以下、Ｂフィルタと称す）の形成すべき位置を除いて遮光部が形成されているマスクを用いて、例えば、３６５ｎｍの紫外線を照射し、現像することで、Ｂフィルタを形成する。

２色目以降に形成されるカラーフィルタは、事前に形成されているカラーフィルタによって、画素端部が若干隆起した形状となるが、このようにして形成されるカラーフィルタは、大まかには画素内部の膜厚が略均一に形成される。

図３は、図１に示したマイクロレンズの形成手順を示す断面図である。図１に示したマイクロレンズを形成する場合、まず、第２の平坦化膜１０２の表面に、例えば、ポジ型の透明レジストを塗布する。続いて、画素と画素の境界部を除いて遮光部が形成されているマスクを用いて、例えば、３６５ｎｍの紫外線を照射し、現像することで、図３（ａ）に示すように、直方体の構造物１０１Ａを形成する。その後、直方体の構造物１０１Ａを熱溶融させることで、図３（ｂ）に示すように、上面を凸レンズ形状に整形し、マイクロレンズ１０１を形成する。

また、特許文献２にはオンチップレンズ付カラー固体撮像素子の分光の調整を容易に行うために、オンチップレンズを曲率、厚さが画素毎に均一になるように形成し、その表面に薄い３原色のカラーフィルタ膜を、色毎に所望の分光特性が得られるように制御することで高い色再現性を得ることが開示されている。

また特許文献３には、多層配線を有する撮像装置の場合、斜め入射光の配線層による蹴られを抑制し、感度シェーディング、感度のＦ値依存性、混色の改善を図るために、配線層間に埋め込まれるように形成されたオンチップカラーフィルタの構成が開示されている。

図４は、一例として、正八角形のマイクロレンズを取り上げている。ここで、隣接するマイクロレンズ間の隙間を、マイクロレンズギャップ１０１Ｂと呼ぶ。マイクロレンズギャップ１０１Ｂは、センサー感度を向上させるため、可能な限り小さく形成される。

しかしながら、マイクロレンズギャップ１０１Ｂは、画素の配列方向に対して平行な方向より４５度方向の方が大きく、画素の配列方向に対して平行な方向のマイクロレンズギャップをゼロに近付けても、画素の配列方向に対して４５度方向のマイクロレンズギャップをゼロに近付けることは技術的に困難であった。またたとえ、レンズギャップがゼロとなっても、レンズギャップがある場合に比べて混色の程度は小さくなるもののやはり混色の問題は生じる。
特開平９−１４８５４９号公報 特開２０００−０１２８１４号公報 特開２００４−２８１９１１号公報

特許文献３は、多層配線によりカラーフィルタと光電変換部との距離が離間することによる混色等を低減させるためにカラーフィルタと光電変換部との光学路が短くなるように、カラーフィルタを配線間に設けている。ここで、混色に関して更に詳細に説明する。

入射光は、例えば、図５のａまたはｂに示すような光路で、固体撮像素子の表面に形成されたマイクロレンズ１０１に入射される。ここで、光線ａは、マイクロレンズ１０１、第２の平坦化膜１０２、カラーフィルタ１０３、第１の平坦化膜１０４、及び、複数の層間絶縁膜１０６、１０８を透過して、光電変換部１１０へ到達する。また、光線ｂは、画素の境界部、即ち、隣接するマイクロレンズ間の隙間部に入射した光であり、隣接するカラーフィルタの境界部や配線層１０７、１０５で、反射、散乱、屈折、回折などを繰り返し、迷光となって、その成分の一部が光電変換部へ到達する。

迷光成分は、本来、到達すべきではない画素の光電変換部に到達することで、混色等の問題を引き起こし、カメラ画像を劣化させていた。

迷光成分の大部分を占める成分は、隣接するカラーフィルタの境界部を透過して、配線層で反射する成分である。この成分は、白色光が入射する場合、隣接するカラーフィルタ間に隙間が無ければ、少なくともカラーフィルタを透過することで、約３分の１に減衰される。従って、迷光成分を減らすためには、隣接するカラーフィルタ間に隙間を作らないことが重要である。

例えば、赤の被写体からの入射光が青の画素に入ってくる場合、マイクロレンズに入射する光は、青のカラーフィルタにほとんど吸収される。しかしながら、隣接するマイクロレンズ間の隙間部に入射する迷光成分は、青のカラーフィルタとその隣に形成されている緑のカラーフィルタの両方に入射し、緑のカラーフィルタに入射する成分は、完全には吸収されず、一部が透過してしまう。その後、反射、散乱、屈折、回折などを繰り返すことにより、その一部が青の画素の光電変換部に到達する。このように、赤の被写体からの情報が、本来、到達すべきではない青の画素の光電変換部に到達することで混色が起こる。従って、混色を減らすためには、画素境界部のカラーフィルタを透過する光の量を減らすことが重要である。

しかしながら、特許文献１、３の構成によっても、やはり、レンズギャップ間を抜けてきた光による混色がおこってしまう。また、特許文献２の構成においても、隣接色のカラーフィルタを通過した光が、光電変換部に入射することによる混色がおこってしまう。

本発明は、上記混色の問題を解決するためになされたものであり、各画素に対応するマイクロレンズどうしの間に入射し、画素境界部のカラーフィルタを透過する光の量を減らし、カメラ画像の混色を低減させることを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明は、マトリクス状に配列された複数個の光電変換部と前記光電変換部上に対応して設けられた複数個のカラーフィルタからなる複数個の画素を備えた固体撮像素子であって、前記カラーフィルタは、前記画素内部で膜厚分布を有し、画素中央部より画素端部の膜厚が厚いことを特徴とするものである。

本発明の撮像装置によれば、１画素内で画素周辺部のカラーフィルタをその他の部分より厚く形成しているので、迷光成分を減らし、混色を低減させることが可能となる。

本発明は、迷光成分を減らし、混色を低減することを目的とするもので、入射光を各色に分離するためのカラーフィルタと、カラーフィルタの一方の側に設けられた光電変換部とを有する撮像装置であって、カラーフィルタは、対応する１画素内において、その周辺部の厚さが中央部の厚さよりも厚くすることで達成できる。
また、カラーフィルタの他方の側が、概ね平坦であり、カラーフィルタの他方の側にマイクロレンズが形成されていることが好ましい。

また、カラーフィルタは、画素に対応した各色が全体形状は平坦な膜状の形状をし、外周囲に膜厚が中央部の膜厚よりも厚い形状をしていることが好ましい。カラーフィルタの他方の側にマイクロレンズを形成する場合、隣接するカラーフィルタの境界部に段差が発生する場合があるので、カラーフィルタの他方の側に平坦化膜を形成することが好ましい。

カラーフィルタの各色を、周辺部の厚さが中央部の厚さよりも厚くすることは、カラーフィルタの一方の側に、各色の中央部に対応する位置の膜厚が周辺部に比べて厚い部材を形成することで実現することができる。これはパターニングして中央部にのみ部材を設けることによっても形成可能である。その表面は、平坦な形状あるいは凸レンズ状の形状をしていてもよく、この場合、カラーフィルタの一方の側も平坦な形状であることが好ましい。
各色の中央部に対応する位置の膜厚が周辺部に比べて厚い部材の表面が平坦な形状をしている場合、その材料は、カラーフィルタと屈折率が同等の材質であることが好ましく、カラーフィルタを形成する際に用いるポジ型のレジストを用いることが好ましい。一方、前記部材が凸レンズ形状をしている場合は、カラーフィルタと屈折率が同等の材料を用いることも可能であるが、カラーフィルタよりも屈折率の大きな材料である方がレンズとしての特性を上げることができるので好ましく、例えば、ＳｉＮのような材料を用いることができる。

次に、本発明について、図面を参照して、詳しく説明する。

（第１の実施形態）
図６は、本発明の第１の実施形態の撮像装置の構造を示す側断面図である。Ｐ型の半導体領域６００に光電変換部６１０となるＮ型の半導体領域が形成されている。更に、画素を構成するＭＯＳトランジスタのゲート電極６０９が形成され、ゲート電極６０９と第１の配線６０７とを分離するための第１の層間絶縁膜６０８が形成されている。

更に、第２の配線６０５と第１の配線６０７とを分離する第２の層間絶縁膜６０６が形成され、第１の配線６０５上に第１の平坦化膜６０４が形成され、光電変換部６１０に対向する平坦化膜６０４上に赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）を透過する３種類のカラーフィルタ６０３（Ｒ、Ｇ、Ｂの区別は不図示）が形成されている。３原色となるＲ、ＧおよびＢからなるカラーフィルタの場合、配列は、ベイヤ配列、インタライン配列あるいはストライブ配列等があり、補色フィルタを用いた場合は、色差順配列等がある。本発明の場合、カラーフィルタの配列によって影響を受けるものではないが、３原色のカラーフィルタを用いる場合は、ベイヤ配列を用いることが好ましく、配線はカラーフィルタと光電変換部との間にのみ配置されていることが好ましい。

カラーフィルタ６０３の光電変換部６１０と対向する側には入射光に対して透明なカラーフィルタ下透明構造物６１１が形成され、このカラーフィルタ下透明構造物６１１によって、カラーフィルタ６０３の周辺部の厚さが中央部の厚さよりも厚くなっている。部材１１１は、カラーフィルタ６０３と同等の屈折率である透明な材料であると凹部での光が反射することがないので好ましい。

カラーフィルタ６０３上に第２の平坦化膜６０２、マイクロレンズ６０１が形成されている。マイクロレンズ６０１は、カラーフィルタ６０３上にオンチップで形成しなくとも良いが、カラーフィルタ６０３とマイクロレンズ６０１との間に間隙があると迷光が発生しやすくなるのでマイクロレンズ６０１もオンチップであることが好ましいことは言うまでもない。

また、カラーフィルタの厚さは画素周辺部の膜厚の厚い領域で透明なカラーフィルタ下透明構造物６１１の２倍程度とした。従って、カラーフィルタ形成時には、画素境界部が開口している状態となり、そこにカラーフィルタを形成することにより、画素境界部の膜厚が他の領域の２倍の厚みを有するカラーフィルタを形成することが可能となる。

なお、透明なカラーフィルタ下透明構造物６１１は、光吸収がほとんどなく、カラーフィルタと同等の屈折率を有することが好ましく、ここでは、例えば、カラーフィルタを形成する際に用いたレジストの主成分である（顔料を分散させる前の）アクリル系のネガ型レジストを使用することが好ましい。

また、カラーフィルタ材料には、画素境界部の溝を埋め込む場合にも凹凸ができにくい、平坦化性能の高い材料を使用し、カラーフィルタ間で間隙が生じないようにすることが好ましい。さらに、カラーフィルタ下透明構造物６１１は、マイクロレンズ６０１と相似形で、かつ、マイクロレンズ１０１と相対的に同じ位置に配置されていることが好ましい。マイクロレンズ６０１とカラーフィルタ下透明構造物６１１とが相似で、かつ、相対的に同じ位置に配置されていれば、隣接するマイクロレンズ間の隙間部を通過する光がカラーフィルタの膜厚の厚い部分を通過するので迷光の光量を低減することができる。

このために、マイクロレンズが正八角形で形成されている場合、カラーフィルタ下透明構造物６１１の形状も正八角形とすることが好ましい。

本実施形態の撮像装置では、隣接するマイクロレンズどうしの間に対応する部分カラーフィルタの膜厚をより厚く、具体的には２倍厚く形成しているので、隣接するマイクロレンズどうしの間に対応する部分に入射し、この部分のカラーフィルタを透過する迷光成分を大幅に減らし、カメラ画像の混色を低減させることが可能となる。厚さはこの値に限られるものではなく、カラーフィルタが、画素内部で膜厚分布を有し、画素中央部より画素端部の膜厚が厚い構成であれば、本実施形態の効果を得ることができる。

（第２の実施形態）
図７は、本発明の第２の実施形態の撮像装置の構造を示す断面図である。

Ｐ型の半導体領域７００に光電変換部７１０となるＮ型の半導体領域が形成されている。更に、画素を構成するＭＯＳトランジスタのゲート電極７０９が形成され、ゲート電極７０９と第１の配線７０７とを分離するための第１の層間絶縁膜７０８が形成されている。

更に、第２の配線７０５と第１の配線７０７とを分離する第２の層間絶縁膜７０６が形成され、第１の配線７０５上に第１の平坦化膜７０４が形成され、光電変換部７１０に対向する平坦化膜６０４上に赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）を透過する３種類のカラーフィルタ７０３（Ｒ、Ｇ、Ｂの区別は不図示）が形成されている。３原色となるＲ、ＧおよびＢからなるカラーフィルタの場合、配列は、ベイヤ配列、インタライン配列あるいはストライブ配列等があり、補色フィルタを用いた場合は、色差順配列等がある。本発明の場合、カラーフィルタの配列によって影響を受けるものではないが、３原色のカラーフィルタを用いる場合は、ベイヤ配列を用いることが好ましく、配線はカラーフィルタと光電変換部との間にのみ配置されていることが好ましい。

尚、カラーフィルタの配置は、第１の実施の形態と同じく、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色のカラーフィルタを用いる場合は、ベイヤ配列された構成であることが好ましい。本実施形態において第１の実施形態と異なる点は、実施形態１のカラーフィルタ下透明構造物６１１の形状が凸レンズ状に形成され、層内レンズ７１２となっている点である。

層内レンズ７１２はＳｉＮからなる。層内レンズ７１２は、カラーフィルタ７０３の寸法よりも小さく、光電変換部７１０の開口面積と同等あるいは若干大きい方が好ましい。また、層内レンズ７１２の高さは、カラーフィルタの中央部の最も薄い部分の厚さと概略同等とした。従って、カラーフィルタ形成時には、隣接するマイクロレンズどうしの間に対応する部が開口している状態となり、そこにカラーフィルタを形成することにより、画素境界部の膜厚が画素中心部の２倍の厚みを有するカラーフィルタを形成した。

なお、層内レンズのサイズ、及び、高さは、マイクロレンズからの入射光を光電変換部へ効率良く導くことができるように、カメラレンズの開口数やマイクロレンズから光電変換部までの距離などを考慮して、最適設計されたものである。

またカラーフィルタ材料には、上記開口部を埋め込む場合にも凹凸ができにくい、平坦化性能の高い材料を使用した。

また上部にマイクロレンズを形成する場合には、カラーフィルタの平坦性がより要求されるため、カラーフィルタの上面を平坦化する工程を設けてもよい。上面を平坦化する工程を経ることにより、平坦化工程を経ない場合に比べて、その上に形成する平坦化膜の膜厚を薄くすることが可能となる。

また層内レンズとカラーフィルタの間に、その界面での反射を低減させるための膜を設けてもよい。特に、層内レンズをＳｉＮで形成した場合には屈折率が２程度となり、一般的にカラーフィルタを形成する有機材料が１．５程度であるため、その屈折率差が大きくなるため、特に好適である。

本実施形態の撮像装置では、画素境界部のカラーフィルタを画素中心部の最も薄い領域より２倍厚く形成しているので、隣接するマイクロレンズ間の隙間部に入射し、隣接する光電変換素子のカラーフィルタを透過する迷光成分を大幅に減らし、カメラ画像の混色を低減させることができた。また、層内レンズの直上にカラーフィルタを形成したので、光電変換部とマイクロレンズまでの距離を厚くすることなく、即ち、斜め入射光の感度低下を招くことなく、前述の迷光成分を大幅に減らすことが可能となる。したがってこれは、複数の配線層を有する構造に適用すると特に効果が大きい。また、通常の工程では、層内レンズ形成後にその後に形成するマイクロレンズ等のために平坦化膜を形成するが、その工程を削減することが可能となる。
また、膜厚の関係はこの値に限られるものではなく、カラーフィルタが、画素内部で、画素中央部より画素端部の膜厚が厚い構成であれば、本実施形態の効果を得ることが可能である。

（デジタルカメラへの応用）
図８は、本発明による撮像装置をカメラに応用する場合の回路ブロックの一例を示したものであり、撮影レンズ１００２の手前にはシャッター１００１があり、露出を制御する。絞り１００３により必要に応じ光量を制御し、固体撮像装置１００４に結像させる。固体撮像装置１００４から出力された信号は信号処理回路１００５で処理され、Ａ／Ｄ変換器１００６によりアナログ信号からディジタル信号に変換される。出力されるディジタル信号はさらに信号処理部１００７で演算処理される。処理されたディジタル信号はメモリ１０１０に蓄えられたり、外部Ｉ／Ｆ１０１３を通して外部の機器に送られる。固体撮像装置１００４、撮像信号処理回路１００５、Ａ／Ｄ変換器１００６、信号処理部１００７はタイミング発生部１００８により制御される他、システム全体は全体制御部・演算部１００９で制御される。記録媒体１０１２に画像を記録するために、出力ディジタル信号は全体制御部・演算部で制御される記録媒体制御Ｉ／Ｆ部１０１１を通して、記録される。

従来の固体撮像素子の構造を示す側断面図である。 従来のカラーフィルタの形成手順を示す側断面図である。 マイクロレンズの形成手順を示す側断面図である。 マイクロレンズの上面から見た形状例を示す上面図である。 固体撮像素子に入射される被写体からの光の光路例を示す側断面図である。 本発明の第１の実施形態の固体撮像素子の構造を示す側断面図である。 本発明の第２の実施形態の固体撮像素子の構造を示す側断面図である。 本発明のデジタルカメラの回路ブロック図である。

符号の説明

１００ 半導体基板
１０１ マイクロレンズ
１０１Ａ 直方体の構造物
１０１Ｂ 隣接するマイクロレンズ間の隙間
１０２ 第２の平坦化膜
１０３ カラーフィルタ
１０３Ａ カラーレジスト
１０３Ｇ Ｇフィルタ
１０３Ｒ Ｒフィルタ
１０４ 第１の平坦化膜
１０５ 配線層
１０６ 層間絶縁膜
１０７ 配線層
１０８ 層間絶縁膜
１０９ ゲート電極
１１０ 光電変換部
１１１ カラーフィルタ下透明構造物
１１２ 層内レンズ
６００ 半導体基板
６０１ マイクロレンズ
６０２ 第２の平坦化膜
６０３ カラーフィルタ
６０４ 第１の平坦化膜
６０５ 配線層
６０６ 層間絶縁膜
６０７ 配線層
６０８ 層間絶縁膜
６０９ ゲート電極
６１０ 光電変換部
６１１ カラーフィルタ下透明構造物
７００ 半導体基板
７０１ マイクロレンズ
７０２ 第２の平坦化膜
７０３ カラーフィルタ
７０４ 第１の平坦化膜
７０５ 配線層
７０６ 層間絶縁膜
７０７ 配線層
７０８ 層間絶縁膜
７０９ ゲート電極
７１０ 光電変換部
７１２ 層内レンズ

Claims (7)

1. 複数の光電変換部と、各色が該各光電変換部に対応して設けられたカラーフィルタとからなる複数の画素を備えた撮像装置であって、前記カラーフィルタは、画素中央部より画素端部の膜厚が厚いことを特徴とする撮像装置。
2. 前記カラーフィルタよりも前記光電変換部側に、入射光に対して透明な膜が設けられており、該透明膜は前記画素に対応して設けられ、その面積が画素面積よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
3. 前記カラーフィルタよりも前記光電変換部側に、入射光に対して凸型のレンズが配されており、前記カラーフィルタの上面が略平坦になっていることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の撮像装置。
4. 前記カラーフィルタ上に平坦化膜が設けられ、該平坦化膜上に、画素に対応したマイクロレンズが形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の撮像装置。
5. 更に、前記カラーフィルタよりも前記光電変換部側に、複数の配線層を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の撮像装置。
6. 前記層内レンズとカラーフィルタ間に、その界面での反射を低減させる反射防止膜を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の撮像装置。
7. 請求項１〜６のいずれかの請求項に記載の撮像装置と、該撮像装置へ光を結像する光学系と、該撮像装置からの出力信号を処理する信号処理回路とを有することを特徴とする撮像システム。

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