JP2006192536A - Surface finishing device and method, dimple die and head suspension - Google Patents
Surface finishing device and method, dimple die and head suspension Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006192536A JP2006192536A JP2005007627A JP2005007627A JP2006192536A JP 2006192536 A JP2006192536 A JP 2006192536A JP 2005007627 A JP2005007627 A JP 2005007627A JP 2005007627 A JP2005007627 A JP 2005007627A JP 2006192536 A JP2006192536 A JP 2006192536A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water jet
- surface finishing
- dimple
- fine particles
- fine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000725 suspension Substances 0.000 title claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 49
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 10
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 7
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/08—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for polishing surfaces, e.g. smoothing a surface by making use of liquid-borne abrasives
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明は、コンピュータ等の情報処理装置に内蔵されるディスク装置のヘッド・サスペンションのディンプルをプレス加工するディンプル・ダイの表面仕上げを行う表面仕上げ装置及び方法、表面仕上げしたディンプル・ダイ、表面仕上げしたディンプル・ダイによりプレス加工したヘッド・サスペンションに関する。 The present invention relates to a surface finishing apparatus and method for performing surface finishing of a dimple die for pressing a dimple of a head suspension of a disk device incorporated in an information processing apparatus such as a computer, a surface finished dimple die, and a surface finish The head suspension is press-processed with a dimple die.
ハード・ディスクを用いる磁気ディスク駆動装置(HDD)のヘッドは、高速で回転するハード・ディスク上をスライダが僅かに浮上した状態となり、スライダに内蔵されたトランスジューサを介してハード・ディスクに対するデータの書き込み、読み取りを行う。このためスライダは、ヘッド・サスペンションによって支持され、ハード・ディスクから浮上可能となっている。 The head of a magnetic disk drive (HDD) that uses a hard disk is such that the slider slightly floats on the hard disk that rotates at high speed, and data is written to the hard disk via a transducer built in the slider. Read. For this reason, the slider is supported by the head suspension and can float from the hard disk.
このヘッド・サスペンションは、フレキシャ先端のタングにスライダが支持され、スライダに負荷を与えつつ可動支持するディンプルがロード・ビームに設けられている。このディンプルは、ロード・ビームにプレス成形により表面球面状に形成され、ヘッド・サスペンションが浮上した状態でスライダがディンプルに支持され、この状態でディスク回転時にスライダの揺動が許容され、ハード・ディスクに対する円滑な動作を行わせることができる。 In this head suspension, a slider is supported by a tongue at the tip of the flexure, and dimples are provided on the load beam to support the slider while applying a load. This dimple is formed into a spherical surface by press molding on the load beam, and the slider is supported by the dimple in a state where the head suspension is lifted. In this state, the slider is allowed to swing when the disk is rotated. Smooth operation can be performed.
従って、ディンプルの球状の表面は、精度を極めて高くしなければならないという要求がある。 Therefore, the spherical surface of the dimple is required to have extremely high accuracy.
ここで、前記ディンプルのプレス加工には、球面状の加工用の凹面を有するディンプル・ダイを用いて行われ、ディンプル・ダイの凹面は、放電加工により形成されている。放電加工による凹面には、低融点化合物の付着やマイクロ・クラック(Micro Crack)の発生があり、表面粗度が、凹凸の振幅に関する中心線平均あらさでRa=300〜400nmと極めて荒く、その改善が望まれていた。 Here, the press working of the dimple is performed by using a dimple die having a spherical processing concave surface, and the concave surface of the dimple die is formed by electric discharge machining. On the concave surface due to electric discharge machining, there is adhesion of low melting point compounds and generation of micro cracks, and the surface roughness is extremely rough with Ra = 300 to 400 nm in terms of the center line average roughness related to the amplitude of the irregularities, which is improved. Was desired.
これに対し、従来の液体ホーニングやドライ・ホーにングの技術を用いて表面仕上げをすることもできる。液体ホーニング処理は、粒径8μm程度の研磨剤を流水と共に30〜60m/s程度で噴射して表面仕上げを行う。ドライ・ホーニングは、粒径6μm程度の研磨剤をエアと共に噴射して表面仕上げを行う。 On the other hand, surface finishing can also be performed using conventional liquid honing and dry honing techniques. In the liquid honing treatment, a surface finish is performed by spraying an abrasive having a particle diameter of about 8 μm with running water at about 30 to 60 m / s. In the dry honing, an abrasive having a particle size of about 6 μm is sprayed together with air to finish the surface.
しかし、液体ホーニングでは、使用可能な粒径が8μm程度であり、これ以下の粒径になると研磨剤が水溶液中で凝縮してしまい、結果的に粒径が大きくなるという問題がある。ドライ・ホーニングでは、研磨剤が空気中に浮遊し、良好な作業環境の維持が困難となる。 However, in liquid honing, there is a problem that the usable particle size is about 8 μm, and if the particle size is smaller than this, the abrasive is condensed in the aqueous solution, resulting in a large particle size. In dry honing, the abrasive floats in the air, making it difficult to maintain a good working environment.
解決しようとする問題点は、ワークの立体的な表面の鏡面状の表面仕上げに限界がある点である。 The problem to be solved is that there is a limit to the mirror-like surface finish of the three-dimensional surface of the workpiece.
本発明は、立体的な表面の鏡面状の表面仕上げを可能とするため、ワークの立体的な表面に、ウォーター・ジェットを噴射するウォーター・ジェット供給部と、前記ウォーター・ジェットにより前記表面に衝突させる微細粒を供給する微細粒供給部とからなり、前記ウォーター・ジェットにより前記表面に前記微細粒を衝突させて鏡面状に表面仕上げを行うことを最も主要な特徴とする。 In order to enable a mirror-like surface finish of a three-dimensional surface, the present invention impinges on the three-dimensional surface of a workpiece with a water jet supply unit that injects a water jet, and collides with the surface by the water jet. The most important feature is that the surface is finished in a mirror surface by causing the fine particles to collide with the surface by the water jet.
本発明の表面仕上げ装置は、ワークの立体的な表面に、ウォーター・ジェットを噴射するウォーター・ジェット供給部と、前記ウォーター・ジェットにより前記表面に衝突させる微細粒を供給する微細粒供給部とからなり、前記ウォーター・ジェットにより前記表面に前記微細粒を衝突させて鏡面状に表面仕上げを行うため、鏡面状の表面仕上げを確実に行わせることができる。 The surface finishing apparatus according to the present invention includes a water jet supply unit that injects a water jet onto a three-dimensional surface of a work, and a fine particle supply unit that supplies fine particles that collide with the surface by the water jet. Thus, the surface finish is mirror-finished by causing the fine particles to collide with the surface by the water jet, so that the mirror-like surface finish can be surely performed.
ワークの立体的な表面の鏡面状の表面仕上げを可能にするという目的を、ウォーター・ジェット及び水溶液中に分散した微細粒を用いることにより実現した。 The object of enabling a mirror-like surface finish of the three-dimensional surface of the workpiece was realized by using fine particles dispersed in a water jet and an aqueous solution.
[表面仕上げ装置]
図1は、本発明実施例1に係り、表面仕上げ装置の概略図である。
[Surface finishing equipment]
FIG. 1 is a schematic diagram of a surface finishing apparatus according to
図1のように、表面仕上げ装置1は、ジェット・ノズル3と、微細流供給管5と、ワーク・テーブル7とを備えている。
As shown in FIG. 1, the
前記ジェット・ノズル3は、ウォーター・ジェット供給部を構成し、圧力水供給源に接続され、ワークの立体的な表面にウォーター・ジェット9を噴射する。ウォーター・ジェット9の噴射速度は、例えば200m/sec〜1000m/sec範囲で設定されている。 The jet nozzle 3 constitutes a water jet supply unit, is connected to a pressure water supply source, and injects the water jet 9 onto the three-dimensional surface of the workpiece. The jet speed of the water jet 9 is set in the range of 200 m / sec to 1000 m / sec, for example.
前記微細粒供給管5は、微細流供給部を構成し、微細粒を分散させた水溶液の供給源に接続されると共に、前記ジェット・ノズル3に結合され、前記ウォーター・ジェット9に、予め微細粒を分散させた水溶液10を供給する。微細粒としては、例えば超微細ダイヤモンド(UDD「Ultra−Dispersed Diamonds」)が用いられ、粒径は、造粒可能な最小粒径として、例えば6nm〜100nmの範囲で設定されている。
The fine particle supply pipe 5 constitutes a fine flow supply unit, is connected to a supply source of an aqueous solution in which fine particles are dispersed, and is coupled to the jet nozzle 3 so as to be finely connected to the water jet 9 in advance. An
前記ワーク・テーブル7は、ジェット・ノズル3の噴車軸Jに対し角度θだけ傾斜して設けられ、傾斜した回転軸Cを中心に回転駆動可能且つ回転軸Cの平行方向へ移動可能となっている。ワーク・テーブル7にワークとしてのディンプル・ダイ11を支持することができる。この支持により、ワークであるディンプル・ダイ11を可動支持し、ディンプル・ダイ11の立体的な表面である加工用の凹面全体にウォーター・ジェット9を当てることを可能としている。
[ディンプル・ダイ]
図2〜図5は、ディンプル・ダイに係り、図2は、断面図、図3は、平面図、図4は、要部拡大平面図、図5は、要部拡大断面図である。
The work table 7 is provided so as to be inclined by an angle θ with respect to the jet axis A of the jet nozzle 3, and can be driven to rotate about the inclined rotation axis C and move in a direction parallel to the rotation axis C. Yes. A
[Dimple Die]
2 to 5 relate to a dimple die, FIG. 2 is a cross-sectional view, FIG. 3 is a plan view, FIG. 4 is a main part enlarged plan view, and FIG. 5 is a main part enlarged cross-sectional view.
図2〜図5のように、ワークとしてのディンプル・ダイ11は、円柱形状に形成され、中央に加工用の凹面13を有している。凹面13は、加工するディンプルの大きさに対応している。
[表面仕上げ]
図2〜図5で示すディンプル・ダイ11は、凹面13を放電加工により形成する。この放電加工の状態では、凹面13に、低融点化合物の付着やマイクロ・クラックの発生があり、表面粗度が、凹凸の振幅に関する中心線平均あらさでRa=300〜400nmと極めて荒くなっている。
As shown in FIGS. 2 to 5, the
[Surface finish]
The
次いで、図1の表面仕上げ装置1により、ディンプル・ダイ11の凹面13に、ウォーター・ジェット9により微細粒を衝突させて鏡面状の表面仕上げを行う。
Next, the
図1において、ワーク・テーブル7に、放電加工後のディンプル・ダイ11を心合わせをして支持する。
In FIG. 1, a
前記ジェット・ノズル3からウォーター・ジェット9を噴射しつつ、ワーク・テーブル7を回転軸Cを中心に回転させつつS方向へ往復平行移動させる。 While jetting the water jet 9 from the jet nozzle 3, the work table 7 is reciprocally translated in the S direction while rotating around the rotation axis C.
前記ウォーター・ジェット9の噴射により微細粒を分散させた水溶液10がエジェクト作用により微細粒供給管5から吸い出され、ウォーター・ジェット9と共にワーク・テーブル7上のディンプル・ダイ11に噴射される。ワーク・テーブル7は、上記のように回転軸Cを中心に回転しつつS方向へ往復平行移動するから、前記噴射されたウォーター・ジェット9の噴流によりディンプル・ダイ11の凹面13全体に微細粒を衝突させることができる。
The
前記微細粒は、微細粒が4nm〜100nmの範囲の粒径であっても凝縮して粒径が増大するようなことが無いように作られたものを用いることで、水溶液に分散することができる。また、微細粒が超微細ダイヤモンドであり、微細粒の凝縮を確実に抑制することができる。従って、前記ディンプル・ダイ11の凹面13全体への微細粒の衝突を確実に行わせることができる。
The fine particles can be dispersed in an aqueous solution by using fine particles that are made so that the fine particles do not increase in size even if the fine particles have a particle size in the range of 4 nm to 100 nm. it can. Further, the fine particles are ultrafine diamond, and the condensation of the fine particles can be reliably suppressed. Therefore, the collision of fine particles to the entire
このような微細粒の衝突により、ディンプル・ダイ11の凹面13を鏡面状の表面仕上げとすることができる。凹面13の表面粗度は、例えば、Ra=30nmである。
[ヘッド・サスペンション]
図6〜図8は、前記鏡面状の凹面13を有するディンプル・ダイ11によりディンプルをプレス成形したヘッド・サスペンションに係り、図6は、ヘッド・サスペンションの平面図、図7は、同要部拡大平面図、図8は、図7のSA−SA矢視における要部断面図である。
Due to such collision of fine grains, the
[Head suspension]
FIGS. 6 to 8 relate to a head suspension in which dimples are press-molded by the
図6〜図8のように、ヘッド・サスペンション15は、ロード・ビーム17と、ベース部19と、フレキシャ21とを備えている。
As shown in FIGS. 6 to 8, the
前記ロード・ビーム17は、ヘッド23に負荷荷重を与えるもので、剛体部25とばね部27とを備えている。前記剛体部25は、例えばステンレス鋼で形成され、その厚みは比較的厚く、例えば100μm程度に設定されている。
The
前記ばね部27は、前記剛体部25とは別体に形成されたもので、例えばばね性のある薄いステンレス鋼圧延板からなり、前記剛体部25よりもそのばね定数が低く、精度の高い低ばね定数を有している。ばね部27の板厚は例えば、t=40μm程度に設定されている。このばね部27は、その一端部が前記剛体部25の後端部にレーザ溶接などによって固着されている。前記ばね部27の他部には、補強プレート29が一体に設けられている。
The
前記ベース部19は、ベース・プレート31を有している。このベース・プレート31は前記補強プレート29に重ね合わされ、レーザ溶接などによって相互に固着されている。従って、ベース・プレート31が補強プレート29により補強されてベース部19が構成されている。このベース部19が、キャリッジのアームに取り付けられ、軸回りに回転駆動される。従って、ベース部19は、ロード・ビーム17を弾性支持するアーム側の構成となっている。
The
前記フレキシャ21は、ばね性を有する薄いステンレス鋼圧延板などの金属基板の表面に、電気絶縁層を介して導電配線33が形成され、レーザ溶接などによって剛体部25に固着されている。前記導電配線33の一端は、ヘッド23の書き込み、読み取り用の端子35に導通接続され、他端はベース部19側に延設されている。
The
前記ヘッド23には、タング37が片持ち状に設けられている。タング37は、前記ロード・ビーム17側のディンプル39に当接している。ディンプル39の高さは、70μm程度であり、タング37がディンプル39に当接することでヘッド23の揺動自由度を保持している。このタング37に、図8で示す書き込み、読み取り用のスライダ41が装着されている。スライダ41には、前記端子35に対応した端子が備えられ、相互に導通接続されている。
The
前記ディンプル39は、前記ロード・ビーム17のエッチング等による形状形成後に前記鏡面状の凹面13を有するディンプル・ダイ11によりプレス成形されている。
The
従って、ヘッド・サスペンションが15が、ディスクの回転により浮上したとき、タング37及びスライダ41をディンプル39により揺動可能とする。前記ディンプル39は、鏡面状の凹面13を有するディンプル・ダイ11によりプレス成形されたことにより、ディンプル39の球状の表面を、極めて高い精度に形成することができた。このため、ディンプル39によりタング37を介してスライダ41に負荷を与えながら揺動可能に的確に支持することができる。このことより、ディスクに対しスライダ41による情報の書き込み、読み取りを正確に行わせることができ、且つ耐久性も向上することができる。
Therefore, the
前記微細粒は、水溶液10に分散させた状態でウォーター・ジェット9の噴射により衝突させるから、微細粒が空気中に飛散することが無く、作業環境を良好に維持することができる。
Since the fine particles are caused to collide with the water jet 9 while being dispersed in the
以上、ディンプル・ダイ11の凹面13(ワークの立体的な表面)に、ウォーター・ジェット9の噴流を噴射するジェット・ノズル3(ウォーター・ジェット供給部)と、前記ウォーター・ジェット9により前記凹面13に衝突させる超微細ダイヤモンド(微細粒)を供給する微細粒供給管5(微細粒供給部)とからなり、前記ウォーター・ジェット9により前記凹面13に前記超微細ダイヤモンドを衝突させて鏡面状に表面仕上げを行うことができる。
As described above, the jet nozzle 3 (water jet supply unit) that injects the jet of the water jet 9 onto the concave surface 13 (three-dimensional surface of the workpiece) of the dimple die 11 and the
前記微細粒供給管5は、前記ジェット・ノズル3(ウォーター・ジェット供給部)に連結され前記ウォーター・ジェット9に予め前記超微細ダイヤモンドを分散させた水溶液10を供給するため、ウォーター・ジェット9により水溶液10が容易に吸引され、微細粒が凝縮することなく前記凹面13に的確に衝突させることができる。
The fine particle supply pipe 5 is connected to the jet nozzle 3 (water jet supply unit) and supplies the
前記ディンプル・ダイ11(ワーク)を可動支持して凹面13全体に前記ウォーター・ジェット9を当てることを可能としたため、凹面13の鏡面状の表面仕上げを確実に行わせることができる。
Since the water jet 9 can be applied to the entire
前記微細粒は、粒径を4nm〜100nmの範囲としたため、凹面13の鏡面状の表面仕上げを確実に行わせることができる。
Since the fine particles have a particle size in the range of 4 nm to 100 nm, the mirror-like surface finish of the
前記表面仕上げ装置1により、ハード・ディスク装置におけるヘッド・サスペンション15のディンプル39をプレス成形するディンプル・ダイ11の加工用の凹面13を鏡面状に表面仕上げを行ったため、ディンプル39のプレス成形を的確に行わせることができる。
The
前記ディンプル・ダイ11により前記ヘッド・サスペンション15のディンプル39をプレス加工したため、ディスクに対しスライダ41による情報の書き込み、読み取りを正確に行わせることができ、且つ耐久性も向上することができる。
Since the
図9は、本発明の実施例2に係り、表面仕上げ装置の概略図である。なお、基本的な構成は、実施例1と同様であり、同一又は対応する構成部分には同符号又は同符号にAを付して説明する。 FIG. 9 is a schematic diagram of a surface finishing apparatus according to a second embodiment of the present invention. The basic configuration is the same as that of the first embodiment, and the same or corresponding components are denoted by the same reference numerals or the same reference numerals with an A.
図9のように、本実施例の表面仕上げ装置1Aは、微細粒供給部を、ウォーター・ジェット9周囲に微細粒を分散させた水溶液10Aを満たす容器5Aとした。
As shown in FIG. 9, in the
前記ウォーター・ジェット9により周囲の水溶液10Aが引き込まれ、微細粒を分散させた水溶液10Aが、ウォーター・ジェット9と共にワーク・テーブル7上のディンプル・ダイ11に噴射される。
The surrounding
従って、本実施例でも、実施例1と同様な作用効果を奏することができる。 Therefore, this embodiment can achieve the same effects as those of the first embodiment.
また、本実施例では、水溶液10Aを容器5Aに溜めておくだけであり、構造が簡単である。
Further, in this embodiment, the
なお、上記各実施例では、微細粒として水溶液に分散させることができる超微細ダイヤモンドを用いたが、水溶液に分散させることが可能であれば、他の微細粒を用いることもできる。 In each of the above embodiments, ultrafine diamond that can be dispersed in an aqueous solution as fine particles is used, but other fine particles can be used as long as they can be dispersed in an aqueous solution.
本発明は、ディンプルの鏡面状の表面仕上げに限らず、他の立体的な面の鏡面状の表面仕上げにも適用することができる。 The present invention can be applied not only to the mirror-like surface finishing of dimples but also to the mirror-like surface finishing of other three-dimensional surfaces.
1,1A 表面仕上げ装置
3 ジェット・ノズル(ウォーター・ジェット供給部)
5 微細粒供給管(微細粒供給部)
5A 容器(微細粒供給部)
7 ワーク・テーブル
9 ウォーター・ジェット
10,10A 水溶液
11 ディンプル・ダイ(ワーク)
15 ヘッド・サスペンション
17 ロード・ビーム
21 フレキシャ
23 ヘッド
37 タング
39 ディンプル
41 スライダ
1,1A Surface finishing device 3 Jet nozzle (water jet supply unit)
5 Fine grain supply pipe (fine grain supply section)
5A container (fine grain supply unit)
7 Work table 9
15
Claims (9)
前記ウォーター・ジェットにより前記表面に衝突させる微細粒を供給する微細粒供給部とからなり、
前記ウォーター・ジェットにより前記表面に前記微細粒を衝突させて鏡面状に表面仕上げを行う
ことを特徴とする表面仕上げ装置。 A water jet supply section for injecting a water jet on the three-dimensional surface of the workpiece;
A fine particle supply unit that supplies fine particles that collide with the surface by the water jet,
A surface finishing apparatus characterized in that the fine particles collide with the surface by the water jet to perform a mirror finish.
前記微細粒供給部は、前記ウォーター・ジェット供給部に連結され前記ウォーター・ジェットに、予め前記微細粒を分散させた水溶液を供給する微細粒供給管である
ことを特徴とする表面仕上げ装置。 The surface finishing device according to claim 1,
The surface finishing apparatus, wherein the fine particle supply unit is a fine particle supply pipe connected to the water jet supply unit and supplying an aqueous solution in which the fine particles are dispersed in advance to the water jet.
前記微細粒供給部は、前記ウォーター・ジェット周囲に前記微細粒を分散させた水溶液を満たす容器である
ことを特徴とする表面仕上げ装置。 The surface finishing device according to claim 1,
The surface finishing apparatus, wherein the fine particle supply unit is a container filled with an aqueous solution in which the fine particles are dispersed around the water jet.
前記ワークを可動支持して前記立体的な表面全体に前記ウォーター・ジェットを当てることを可能とした
ことを特徴とする表面仕上げ装置。 The surface finishing apparatus according to any one of claims 1 to 3,
A surface finishing apparatus characterized in that the water jet can be applied to the entire three-dimensional surface by movably supporting the workpiece.
前記微細粒は、粒径を4nm〜100nmの範囲とした
ことを特徴とする表面仕上げ装置。 The surface finishing device according to any one of claims 1 to 4,
The fine particle has a particle size in a range of 4 nm to 100 nm.
ことを特徴とするディンプル・ダイ。 A dimple die characterized in that the processing concave surface for press-molding the dimples of the head suspension in the hard disk drive is mirror-finished by the surface finishing device according to any one of claims 1 to 5. .
ことを特徴とするヘッド・サスペンション。 7. A head suspension, wherein the dimple is pressed by the dimple die according to claim 6.
ことを特徴とする表面仕上げ方法。 A surface finishing method characterized in that a fine surface collides with a three-dimensional surface of a workpiece by a water jet to perform a mirror finish.
前記ワークの立体的な表面に、前記ウォーター・ジェットにより微細粒を衝突させて鏡面状に表面仕上げを行う
ことを特徴とする表面仕上げ方法。
The surface finishing apparatus according to any one of claims 1 to 5,
A surface finishing method characterized in that a fine grain collides with the three-dimensional surface of the workpiece by the water jet to perform a mirror surface finish.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005007627A JP2006192536A (en) | 2005-01-14 | 2005-01-14 | Surface finishing device and method, dimple die and head suspension |
US11/332,069 US20060160471A1 (en) | 2005-01-14 | 2006-01-13 | Surface finishing apparatus and method, dimple die, and head suspension |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005007627A JP2006192536A (en) | 2005-01-14 | 2005-01-14 | Surface finishing device and method, dimple die and head suspension |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006192536A true JP2006192536A (en) | 2006-07-27 |
Family
ID=36684573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005007627A Pending JP2006192536A (en) | 2005-01-14 | 2005-01-14 | Surface finishing device and method, dimple die and head suspension |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060160471A1 (en) |
JP (1) | JP2006192536A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8120879B2 (en) | 2007-10-03 | 2012-02-21 | Nhk Spring Co., Ltd. | Head suspension, load beam, method of manufacturing load beam, and method of processing work |
US8125736B2 (en) | 2007-10-04 | 2012-02-28 | Nhk Spring Co., Ltd. | Head suspension, load beam, and method of manufacturing load beam |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104569482B (en) * | 2014-12-31 | 2018-01-16 | 江苏大学 | A kind of high-velocity liquid jet superficial velocity measurement apparatus and method |
CN107791154B (en) * | 2017-09-28 | 2019-06-28 | 盐城市大丰三星机械有限公司 | A kind of transmission line of electricity power tower shotblaster |
US11491724B2 (en) | 2017-12-05 | 2022-11-08 | Postprocess Technologies, Inc. | Method and apparatus for surface finishing and support material removal (deci duo) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5778713A (en) * | 1997-05-13 | 1998-07-14 | Waterjet Technology, Inc. | Method and apparatus for ultra high pressure water jet peening |
AU2002232735A1 (en) * | 2000-12-21 | 2002-07-01 | Qed Technologies, Inc. | Jet-induced finishing of a substrate surface |
US6688947B2 (en) * | 2002-02-05 | 2004-02-10 | The Johns Hopkins University | Porous, lubricated nozzle for abrasive fluid suspension jet |
US6981906B2 (en) * | 2003-06-23 | 2006-01-03 | Flow International Corporation | Methods and apparatus for milling grooves with abrasive fluidjets |
JP4623710B2 (en) * | 2003-09-05 | 2011-02-02 | 衛 光石 | Curved surface processing method |
US6905396B1 (en) * | 2003-11-20 | 2005-06-14 | Huffman Corporation | Method of removing a coating from a substrate |
-
2005
- 2005-01-14 JP JP2005007627A patent/JP2006192536A/en active Pending
-
2006
- 2006-01-13 US US11/332,069 patent/US20060160471A1/en not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8120879B2 (en) | 2007-10-03 | 2012-02-21 | Nhk Spring Co., Ltd. | Head suspension, load beam, method of manufacturing load beam, and method of processing work |
US8125736B2 (en) | 2007-10-04 | 2012-02-28 | Nhk Spring Co., Ltd. | Head suspension, load beam, and method of manufacturing load beam |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060160471A1 (en) | 2006-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH11511395A (en) | Deterministic magnetorheological finishing equipment | |
JP4919446B2 (en) | Fine groove machining method and apparatus | |
WO2002083363A1 (en) | Grinding device, grinding method, control program for letting computer execute grinding, and storage medium | |
CN108564969B (en) | The manufacturing method of substrate for magnetic disc and the grinding pad used in the manufacture of substrate for magnetic disc | |
CN107615381B (en) | The manufacturing method of glass substrate for disc, disk, glass substrate intermediate and glass substrate for disc | |
JP2006192536A (en) | Surface finishing device and method, dimple die and head suspension | |
CN113103070A (en) | Method for machining microgrooves by shearing, thickening and abrasive flow combined grinding | |
JPH01155517A (en) | Working method for magnetic disk base | |
US9403258B2 (en) | Method for forming an abrasive lapping plate | |
JP2005217037A (en) | Method for conditioning semiconductor wafer polishing pad | |
US7513820B2 (en) | Method and apparatus for producing micro-texture on a slider substrate using chemical and mechanical polishing techniques | |
JP6534506B2 (en) | Method of manufacturing substrate, method of manufacturing substrate with multilayer reflective film, method of manufacturing mask blank, method of manufacturing transfer mask, and substrate processing apparatus | |
JP3813737B2 (en) | Spherical surface generating device and spherical surface generating method | |
US7758403B2 (en) | System, method and apparatus for lapping workpieces with soluble abrasives | |
Qu et al. | Material removal rate prediction and surface quality study for ultrasonic vibration polishing of monocrystalline silicon | |
CN101404162B (en) | Head suspension, load beam, method of manufacturing load beam, and method of processing work | |
US7147540B2 (en) | Magnetic head slider and method of manufacturing the same | |
JPH07254144A (en) | Production of magnetic disk | |
JP6121759B2 (en) | Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk | |
CN104603876B (en) | The manufacturing method of glass substrate for information recording medium | |
JP5234409B2 (en) | Fluid polishing equipment | |
JP3671250B2 (en) | Diamond grinding wheel and its truing device | |
JP5510855B2 (en) | Fluid polishing equipment | |
JPH0852979A (en) | Manufacture of tip of ball-point pen | |
JP6400360B2 (en) | Substrate manufacturing method, mask blank substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, transfer mask manufacturing method, and substrate manufacturing apparatus |