JP2005292662A - 波面補償装置、波面補償方法、プログラム、及び、記録媒体 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 105
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 31
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 97
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 62
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 59
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 33
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 45
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 44
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 33
- 230000006870 function Effects 0.000 description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 7
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000016507 interphase Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 238000013139 quantization Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
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- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】 波面変調デバイス40が入射光を位相変調して位相変調光を生成する。波面検出デバイス60が位相変調光を多点スポット画像に変換して撮影し、多点スポット画像の画像信号を制御装置80に送出する。制御装置80は、多点スポット画像のスポット重心と参照重心との差を重心シフトとして計算し、重心シフトと多項式の1次微分式との関係式に最小2乗法を適用して多項式の重み係数を算出して波面方程式を求める。波面方程式に各制御点の座標を代入することにより制御点毎の残差波面を算出し、帰還制御データを求め、さらにルックアップテーブルにより帰還制御データを制御信号に変換する。制御装置80は、制御信号を波面変調デバイス40に閉ループフィードバックすることにより、入射光の波面30を補償し、理想的な波面70を出力する。
【選択図】 図1
Description
(1)Vmax(j)<VMAX;
(2)Vmax(j)−Vmin<VPV;
(3)Varea(j)<VAREA;及び
(4)Veff(j)<VEFF。
10、30、70 波面
40 波面変調デバイス
50 ビームサンプラ
60 波面検出デバイス
80 制御装置
Claims (14)
- 複数の制御点が2次元状に配置された変調部を備え、前記変調部に入射した読み出し光の位相を前記制御点毎に変調する電気アドレス型空間光位相変調装置と、
複数のレンズが2次元状に配置され、前記電気アドレス型空間光位相変調装置で位相が変調された読み出し光を複数のスポットからなる多点スポット画像に変換するレンズアレイと、
前記多点スポット画像の光強度分布を検出する画像検出手段と、
前記検出された光強度分布に基づき前記複数のスポットの重心位置を示す複数のスポット重心を演算し、演算された前記複数のスポット重心と予め設定された複数の参照重心との差を示す複数の重心差を計算する重心差演算手段と、
演算された前記複数の重心差を最小2乗法を用いて所定の多項式の1次微分式にフィッティングすることより、所定の多項式の重み係数を求める重み係数演算手段と、
演算された前記重み係数を用いて各制御点の座標に対応する値を前記所定の多項式に代入することにより、前記制御点毎の残差歪を求める残差歪演算手段と、
演算された各制御点の前記残差歪に基づいて前記制御点用の閉ループ制御データを求める制御データ演算手段と、
前記電気アドレス型空間光位相変調装置の各制御点を前記閉ループ制御データに基づいて制御する制御手段とを備えることを特徴とする波面補償装置。 - 前記電気アドレス型空間光位相変調装置の各制御点は、入射した読み出し光を、入力された前記制御信号に対応した位相変調量にて変調し、
前記制御手段は信号変換手段を更に備え、前記信号変換手段は、各制御点の残差歪に基づいて各制御点が変調すべき位相変調量を決定し、予め設定されたルックアップテーブルを用いて前記決定した位相変調量を制御信号に変換し、前記制御信号に基づいて前記電気アドレス型空間光位相変調装置の各制御点を制御することを特徴とする請求項1に記載の波面補償装置。 - 前記重心差演算手段は、演算された前記複数のスポット重心の評価をし、前記重み係数演算手段は、前記複数のスポット重心のうち、無効なスポット重心として評価されたスポット重心以外のスポット重心に対して演算された重心差に基づいて前記重み係数を演算することを特徴とする請求項1に記載の波面補償装置。
- 前記電気アドレス型空間光位相変調装置の前記変調部のうち前記制御点が配列されている制御点領域の大きさが前記変調部に入射する読み出し光の大きさより大きいことを特徴とする請求項1に記載の波面補償装置。
- 2次元状に配置された複数の制御点を有する電気アドレス型空間光位相変調装置を閉ループフィードバック制御して読み出し光の波面を補償する波面補償方法であって、
前記電気アドレス型空間光位相変調装置により制御点毎に位相が変調された読み出し光が複数のレンズが2次元状に配置されたレンズアレイを透過することにより形成する複数のスポットからなる多点スポット画像の光強度分布を検出する画像検出工程と、
検出された前記光強度分布に基づき前記複数のスポットの重心位置を示す複数のスポット重心を演算し、演算された前記複数のスポット重心と予め設定された複数の参照重心との差を示す複数の重心差を計算する重心差演算工程と、
演算された前記複数の重心差を最小2乗法を用いて所定の多項式の1次微分式にフィッティングすることより、前記所定の多項式の重み係数を求める重み係数演算工程と、
演算された前記重み係数を用いて各制御点の座標に対応する値を前記所定の多項式に代入することにより、前記制御点毎の残差歪を求める残差歪演算工程と、
演算された各制御点の前記残差歪に基づいて前記制御点用の閉ループ制御データを求める制御データ演算工程と、
前記電気アドレス型空間光位相変調装置の各制御点を前記閉ループ制御データに基づいて制御する制御工程とを有し、
前記各工程を反復することを特徴とする波面補償方法。 - コンピュータに対し、2次元状に配置された複数の制御点を有する電気アドレス型空間光位相変調装置を閉ループフィードバック制御させ、読み出し光の波面を補償させるプログラムであって、
前記電気アドレス型空間光位相変調装置により制御点毎に位相が変調された読み出し光が複数のレンズが2次元状に配置されたレンズアレイを透過することにより形成する複数のスポットからなる多点スポット画像の光強度分布に基づき複数のスポットの重心位置を示す複数のスポット重心を算出し、算出された前記複数のスポット重心と予め設定された複数の参照重心との差を示す複数の重心差を計算する重心差演算手順と、
演算された前記複数の重心差を最小2乗法を用いて所定の多項式の1次微分式にフィッティングすることより、前記所定の多項式の重み係数を求める重み係数演算手順と、
演算された前記重み係数を用いて各制御点の座標に対応する値を所定の多項式に代入することにより、制御点毎の残差歪を求める残差歪演算手順と、
演算された各制御点の前記残差歪に基づいて前記制御点用の閉ループ制御データを求める制御データ演算手順と、
前記電気アドレス型空間光位相変調装置の各制御点を前記閉ループ制御データに基づいて制御する制御手順と、
前記各手順を反復する手順とを有することを特徴とするプログラム。 - 請求項6に記載のプログラムを記録した、コンピュータ読み取り可能な記録媒体。
- 複数の制御点が2次元状に配列され、読み出し光を制御点毎に制御データに基づいて位相変調して位相パターンを生成する電気アドレス型空間光位相変調装置と、
複数のレンズが2次元状に配列されたレンズアレイを備え、前記電気アドレス型空間光位相変調装置から出力された位相パターンを複数のスポットからなる多点スポット画像に変換し、前記多点スポット画像の光強度分布を検出する波面検出手段と、
検出された前記光強度分布に基づき前記複数のスポットの重心位置を示す複数のスポット重心を算出し、前記複数のスポット重心と予め設定された理想波面に対応する複数の参照重心との差を示す複数の重心差に基づき前記電気アドレス型空間光位相変調装置より出力された前記位相パターンと前記理想波面との位相差を表す波面方程式を算出し、前記波面方程式に前記制御点の座標に対応する値を代入して前記制御点毎の位相差を残差波面として算出する算出手段と、
前記残差波面と収差波面とを前記制御点毎に足し算し、その結果を前記制御点毎の新たな収差波面として記憶する収差波面算出記憶手段と、
前記新たな収差波面と前記理想波面とを前記制御点毎に足し算し、その結果に基づいて帰還制御データを作成する波面合成手段と、
前記帰還制御データを前記制御データとして前記電気アドレス型空間光位相変調装置に出力する制御手段とを有し、
前記電気アドレス型空間光位相変調装置が前記制御手段から入力される前記帰還制御データに基づき読み出し光の位相変調を繰り返すことを特徴とする波面補償装置。 - 前記波面方程式は多項式であり、前記算出手段は前記重心差と前記多項式の1次微分式との関係式に最小2乗法を適用して前記多項式の重み係数を算出し、もって、前記波面方程式を求めることを特徴とする請求項8に記載の波面補償装置。
- 2次元状に配列された複数の制御点を有する電気アドレス型空間光位相変調装置を閉ループフィードバック制御して、前記電気アドレス型空間光位相変調装置により制御点毎に制御データに基づいて位相変調された読み出し光の波面を補償する波面補償方法であって、
前記電気アドレス型空間光位相変調装置から出力された読み出し光が複数のレンズが2次元状に配列されたレンズアレイを透過することにより形成する複数のスポットからなる多点スポット画像の光強度分布を検出する波面検出工程と、
検出された前記光強度分布に基づき前記複数のスポットの重心位置を示す複数のスポット重心を算出し、前記複数のスポット重心と予め設定された理想波面に対応する複数の参照重心との差を示す複数の重心差に基づき前記電気アドレス型空間光位相変調装置より出力された読み出し光の波面と前記理想波面との位相差を表す波面方程式を算出し、前記波面方程式に前記制御点の座標に対応する値を代入して前記制御点毎の位相差を残差波面として算出する算出工程と、
前記残差波面と収差波面とを前記制御点毎に足し算し、その結果を前記制御点毎の新たな収差波面として記憶する収差波面算出記憶工程と、
前記新たな収差波面と前記理想波面とを前記制御点毎に足し算し、その結果に基づいて帰還制御データを作成する波面合成工程と、
前記帰還制御データを前記制御データとして前記電気アドレス型空間光位相変調装置に出力する制御工程と、
前記各工程を反復する工程とを有することを特徴とする波面補償方法。 - 前記波面方程式は多項式であり、前記算出工程は前記重心差と前記多項式の1次微分式との関係式に最小2乗法を適用して前記多項式の重み係数を算出し、もって、前記波面方程式を求めることを特徴とする請求項10に記載の波面補償方法。
- コンピュータに対し、2次元状に配列された複数の制御点を有する電気アドレス型空間光位相変調装置を閉ループフィードバック制御させ、前記電気アドレス型空間光位相変調装置により制御点毎に制御データに基づいて位相変調された読み出し光の波面を補償するプログラムであって、
前記電気アドレス型空間光位相変調装置から出力された読み出し光が複数のレンズが2次元状に配列されたレンズアレイを透過することにより形成する複数のスポットからなる多点スポット画像の光強度分布に基づき前記複数のスポットの重心位置を示す複数のスポット重心を算出し、前記複数のスポット重心と予め設定された理想波面に対応する複数の参照重心との差を示す複数の重心差に基づき前記電気アドレス型空間光位相変調装置より出力された読み出し光の波面と前記理想波面との位相差を表す波面方程式を算出し、前記波面方程式に前記制御点の座標に対応する値を代入して前記制御点毎の位相差を残差波面として算出する算出手順と、
前記残差波面と収差波面とを前記制御点毎に足し算し、その結果を前記制御点毎の新たな収差波面として記憶する収差波面算出記憶手順と、
前記新たな収差波面と前記理想波面とを前記制御点毎に足し算し、その結果に基づいて帰還制御データを作成する波面合成手順と、
前記帰還制御データを前記制御データとして前記電気アドレス型空間光位相変調装置に出力する制御手順と、
前記各手順を反復する手順とを有することを特徴とするプログラム。 - 前記波面方程式は多項式であり、前記算出手順は前記重心差と前記多項式の1次微分式との関係式に最小2乗法を適用して前記多項式の重み係数を算出し、もって、前記波面方程式を求めることを特徴とする請求項12に記載のプログラム。
- 請求項12に記載のプログラムを記録した、コンピュータ読み取り可能な記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004110303A JP4531431B2 (ja) | 2004-04-02 | 2004-04-02 | 波面補償装置、波面補償方法、プログラム、及び、記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004110303A JP4531431B2 (ja) | 2004-04-02 | 2004-04-02 | 波面補償装置、波面補償方法、プログラム、及び、記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005292662A true JP2005292662A (ja) | 2005-10-20 |
JP4531431B2 JP4531431B2 (ja) | 2010-08-25 |
Family
ID=35325618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004110303A Expired - Lifetime JP4531431B2 (ja) | 2004-04-02 | 2004-04-02 | 波面補償装置、波面補償方法、プログラム、及び、記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4531431B2 (ja) |
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JP2016109586A (ja) * | 2014-12-08 | 2016-06-20 | 浜松ホトニクス株式会社 | 位相特異点評価方法および位相特異点評価装置 |
JP2016028786A (ja) * | 2015-12-02 | 2016-03-03 | キヤノン株式会社 | 眼底撮像装置、眼底撮像装置の制御方法、およびプログラム |
US12124115B2 (en) | 2019-06-28 | 2024-10-22 | Essilor International | Optical article |
WO2021250993A1 (ja) * | 2020-06-07 | 2021-12-16 | ソニーグループ株式会社 | 信号処理装置、信号処理方法、プログラム、照明装置 |
JP7578139B2 (ja) | 2020-06-07 | 2024-11-06 | ソニーグループ株式会社 | 信号処理装置、信号処理方法、プログラム、照明装置 |
CN115220222A (zh) * | 2022-07-04 | 2022-10-21 | 清华大学 | 像差矫正方法、装置、计算机设备和存储介质 |
CN115220222B (zh) * | 2022-07-04 | 2024-04-19 | 清华大学 | 像差矫正方法、装置、计算机设备和存储介质 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4531431B2 (ja) | 2010-08-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070402 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100401 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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