JP2005051157A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体装置にかかり、特に樹脂封止型半導体装置の半導体素子チップの割れや欠けの低減に関する。 The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to reduction of cracks and chips in a semiconductor element chip of a resin-encapsulated semiconductor device.
近年、環境汚染の問題が深刻化しており、パーソナルコンピュータ、携帯電話に代表される電子機器などの電子部品の分野でも、鉛を使用しない半田いわゆる鉛フリー半田の使用が進められている。
共晶半田の融点が約183℃であったのに対し、鉛フリー半田の場合、半田融点が、通常は約220℃と、共晶半田に比べ約40℃程度高い。そこで従来はせいぜい230℃程度に設定されていたリフロー温度が、最近では240℃から245℃となっており、高い物では260℃とされているものもある。
このように、リフロー工程で使用する半田が、共晶半田から鉛フリーとなるのに伴い、リフロー炉の温度設定を高くしているものが多い。
例えば、図14および図15に示すように、樹脂パッケージ101の一方の側面から3本のリード102a、b、cが導出されるとともに、この側面と相対向する側面から2本のリード103a,bが導出されたデュアルインライン型の半導体装置が提案されている。
In recent years, the problem of environmental pollution has become serious, and the use of so-called lead-free solder that does not use lead is also being promoted in the field of electronic components such as electronic devices such as personal computers and mobile phones.
Whereas eutectic solder has a melting point of about 183 ° C., lead-free solder usually has a solder melting point of about 220 ° C., which is about 40 ° C. higher than eutectic solder. Therefore, the reflow temperature, which has been set to about 230 ° C. at the past, has recently been changed from 240 ° C. to 245 ° C., and some of the higher reflow temperatures are set to 260 ° C.
Thus, as the solder used in the reflow process becomes lead-free from eutectic solder, the temperature setting of the reflow furnace is often increased.
For example, as shown in FIGS. 14 and 15, three leads 102a, b, c are led out from one side surface of the
この半導体装置は、図15に示すように、2個のトランジスタチップ(半導体素子チップ)104a,104bに搭載してなるもので、リードフレームに形成された半導体素子搭載部である第1および第2のダイパッド105a、105bにそれぞれ搭載されている。これら第1および第2のダイパッド105a、105bのうち、第1のダイパッド105aは、第2のトランジスタとの接続を容易にするために、隣接する第2のダイパッドの方向に伸長する伸長部105eを備えている。この伸長部105eは、樹脂パッケージ101の長手方向に沿って伸長している。この半導体装置を、鉛フリー半田を用いてプリント配線基板上の配線パターンに実装する場合、前述したように、245℃程度の高温となるため、図16乃至図19に説明図を示すように、熱ストレスにより、チップにクラックが入りやすいという問題があった。
As shown in FIG. 15, this semiconductor device is mounted on two transistor chips (semiconductor element chips) 104a and 104b, and is a first and second semiconductor element mounting portion formed on a lead frame. Are mounted on the
すなわち、図16に示すように樹脂パッケージ101の長辺方向の反りが大きく、この樹脂パッケージの反りにより、図17に示すように第1のダイパッド105aは伸長部105eを有しているため、長手方向に引っ張り力が働き、この引っ張り力がトランジスタチップに作用し、この引っ張り力によりチップクラックが生じてしまうという問題があった。これは図17および図18にパッケージの短辺方向および長辺方向のリードフレームの変形状況を示すように、長辺方向で特に大きい。
That is, the warp in the long side direction of the
従来、鉛半田を用いた実装工程を用いる場合には、熱ストレス(熱歪)を減少させ収縮応力の低減をはかるべく、半導体素子搭載部の角部に切欠きを設けた方法も提案されている。(特許文献1参照) Conventionally, when a mounting process using lead solder is used, a method has been proposed in which notches are provided at corners of a semiconductor element mounting portion in order to reduce thermal stress (thermal strain) and reduce shrinkage stress. Yes. (See Patent Document 1)
しかしながら、近年、鉛フリー化により、従来よりもリフロー温度は40℃程度も高くなっており、この温度差は大きいため、種々のプロセスで不良発生の原因となっている。このため特許文献1で示されているような従来の手法では到底対応しえない程度の大きな熱歪が発生する。
特に、前述したように、縦横の長さの異なる断面長方形の樹脂パッケージの場合、熱歪の影響は受けやすい。そしてさらに、リードフレームの半導体素子チップ搭載部である、ダイパッドが長い場合、この長手部分に歪がかかると、このリードフレームの受けた応力が半導体チップに伝搬し、チップクラック発生の原因となっていた。
However, in recent years, due to the lead-free process, the reflow temperature is about 40 ° C. higher than before, and this temperature difference is large, which causes defects in various processes. For this reason, a large thermal strain that cannot be dealt with by the conventional method as disclosed in
In particular, as described above, in the case of a resin package having a rectangular cross section with different lengths and widths, it is easily affected by thermal strain. In addition, when the die pad, which is the semiconductor element chip mounting portion of the lead frame, is long, if the longitudinal portion is distorted, the stress received by the lead frame propagates to the semiconductor chip, causing chip cracking. It was.
本発明は、前記実情に鑑みてなされたものであり、チップクラックの発生を低減し、リフロー工程においてもチップクラック発生を引き起こすことのない半導体装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a semiconductor device that reduces the occurrence of chip cracks and does not cause chip cracks even in a reflow process.
本発明は、半導体素子搭載領域と、前記半導体素子搭載領域から少なくとも一方向に伸長せしめられた伸長部とを備えた半導体素子搭載部と、前記半導体素子搭載部の近傍に、一端が位置するように配設された複数のリードと、前記半導体素子搭載領域に搭載され、前記リードの少なくとも1つに電気的に接続された半導体素子チップと、前記半導体素子チップを被覆すると共に、前記リードの外方の端部を外部に露呈せしめる樹脂パッケージとを備えた半導体装置であって、前記樹脂パッケージは、前記リードが導出される面を境として上下の樹脂の厚さ比が、前記導出される面よりも上方の樹脂量と下方の樹脂量とがほぼ同一となるように決定される。 The present invention provides a semiconductor element mounting portion including a semiconductor element mounting region and an extending portion extending in at least one direction from the semiconductor element mounting region, and one end is positioned in the vicinity of the semiconductor element mounting portion. A plurality of leads disposed on the semiconductor element mounting region, a semiconductor element chip mounted on the semiconductor element mounting region and electrically connected to at least one of the leads, and covering the semiconductor element chip, And a resin package that exposes one end to the outside, wherein the resin package has a surface where the thickness ratio of the upper and lower resins is derived from the surface from which the leads are derived. The upper resin amount and the lower resin amount are determined to be substantially the same.
半導体素子搭載領域と、前記半導体素子搭載領域から少なくとも一方向に伸長せしめられた伸長部とを備えた半導体素子搭載部と、前記半導体素子搭載部の近傍に、一端が位置するように配設された複数のリードとを備えたリードフレームのリード面が、樹脂封止に際し、上型と下型の境界となり、このリード面を境に、上下の樹脂量がほぼ等しくなるように構成されるため、リフロー工程において245℃以上の高温となっても、樹脂パッケージ自体が歪むのを防ぐことができる。このため、樹脂パッケージの熱歪が半導体チップに伝搬してチップクラックが発生する確率は大きく低減される。このように、この構成によれば、熱により樹脂パッケージが歪を生じるのを防止することが可能となる。 A semiconductor element mounting region including a semiconductor element mounting region and an extending portion extending in at least one direction from the semiconductor element mounting region, and one end is disposed in the vicinity of the semiconductor element mounting portion. The lead surface of the lead frame with a plurality of leads is the boundary between the upper mold and the lower mold when resin is sealed, and the upper and lower resin amounts are almost equal with this lead surface as the boundary. Even if the temperature is higher than 245 ° C. in the reflow process, the resin package itself can be prevented from being distorted. For this reason, the probability that the thermal strain of the resin package propagates to the semiconductor chip and chip cracks occur is greatly reduced. Thus, according to this configuration, it is possible to prevent the resin package from being distorted by heat.
また本発明では、前記半導体装置において、前記半導体素子搭載領域は矩形部を構成しており、前記伸長部は、矩形部の一端部から垂直方向に伸長する。
この構成によれば、特に、伸長部が応力を受けやすいが、結晶界面がこの伸長部と垂直にならないように配されているため、チップクラックを防止することができる。
According to the present invention, in the semiconductor device, the semiconductor element mounting region forms a rectangular portion, and the extending portion extends in a vertical direction from one end portion of the rectangular portion.
According to this configuration, the elongated portion is particularly susceptible to stress, but chip cracks can be prevented because the crystal interface is arranged so as not to be perpendicular to the elongated portion.
また本発明では、前記半導体装置において、リードは、前記樹脂パッケージの一方向または2方向に形成される。
リードが4方向にのびるいわゆるクアッド(Quad)タイプの半導体装置の場合、樹脂パッケージは縦横比がほぼ1であることが多く、変形しにくい。しかしリードが樹脂パッケージの一方向または2方向に形成される構造の場合、樹脂パッケージ自体変形し易く、特に、伸長部が応力を受けやすいが、この構成によれば、結晶界面がこの伸長部と垂直にならないように配されているため、チップクラックを防止することができる。
According to the present invention, in the semiconductor device, the lead is formed in one direction or two directions of the resin package.
In the case of a so-called quad type semiconductor device in which leads extend in four directions, the resin package often has an aspect ratio of approximately 1, and is not easily deformed. However, in the case of a structure in which the leads are formed in one direction or two directions of the resin package, the resin package itself is easily deformed, and in particular, the elongated portion is easily subjected to stress. Since they are arranged so as not to be vertical, chip cracks can be prevented.
また本発明では、前記半導体装置において、前記樹脂パッケージは主面が長方形である。
樹脂パッケージが正方形に近い場合は変形しにくい。しかし樹脂パッケージ主面が長方形である場合、樹脂パッケージ自体変形し易く、リードフレームでは、特に、伸長部が応力を受けやすいが、この構成によれば、結晶界面がこの伸長部と垂直にならないように配されているため、チップクラックを防止することができる。
In the present invention, in the semiconductor device, the resin package has a rectangular main surface.
When the resin package is nearly square, it is difficult to deform. However, when the main surface of the resin package is rectangular, the resin package itself is easily deformed, and in the lead frame, the extension portion is particularly susceptible to stress. However, according to this configuration, the crystal interface is not perpendicular to the extension portion. Therefore, chip cracks can be prevented.
また本発明では、前記半導体装置において、前記前記半導体素子搭載領域と前記伸長部との境界に応力緩衝部を備えている。 According to the present invention, in the semiconductor device, a stress buffering portion is provided at a boundary between the semiconductor element mounting region and the extending portion.
この構成によれば、前記半導体素子搭載領域と前記伸長部との境界に応力緩衝部を備えているため、熱ストレスにより大きな力のかかる部分で、応力が緩和され、チップの応力を受けるのを防止することができる。従ってクラックの発生は低減され、鉛フリー化によるリフロー温度の上昇によってもチップクラックの発生することのない樹脂封止型半導体装置を提供することができる。 According to this configuration, since the stress buffer portion is provided at the boundary between the semiconductor element mounting region and the extension portion, the stress is relieved and the chip stress is received at a portion where a large force is applied due to thermal stress. Can be prevented. Therefore, the occurrence of cracks is reduced, and a resin-encapsulated semiconductor device can be provided in which chip cracks do not occur even when the reflow temperature increases due to lead-free.
また本発明では、前記半導体装置において、前記応力緩衝部は、切欠きである。 In the present invention, in the semiconductor device, the stress buffering portion is a notch.
この構成によれば、前記応力緩衝部が切欠きであるため、若干の抜き型あるいはマスクの変更により、リードフレームの打ち抜きあるいは打ち抜き後エッチングを行うなどの方法によって容易に形成することができる。 According to this configuration, since the stress buffer portion is notched, it can be easily formed by a method such as punching the lead frame or performing etching after punching, by slightly changing the die or mask.
また本発明では、前記半導体装置において、前記伸長部の相対向する辺から交互に複数形成されている。
この構成により、半導体装置の強度低下を招くことなく、十分な応力緩衝効果を得ることができる。
According to the present invention, in the semiconductor device, a plurality of the extending portions are alternately formed from opposite sides of the extending portion.
With this configuration, a sufficient stress buffering effect can be obtained without reducing the strength of the semiconductor device.
また本発明では、前記半導体装置において、前記半導体素子搭載部は、前記樹脂パッケージ内に複数個配置されており、前記半導体素子搭載部に搭載される複数個の半導体素子チップが前記パッケージ内で互いに電気的に接続される。
この場合、断面長方形のパッケージとなっており、特に第1および第2の半導体素子搭載部の間に相互接続のためのパッドとしての伸長部を必要とすることが多いが、結晶界面がこの伸長部と垂直にならないように配されているため、チップクラックを防止することができる。
According to the present invention, in the semiconductor device, a plurality of the semiconductor element mounting portions are arranged in the resin package, and a plurality of semiconductor element chips mounted on the semiconductor element mounting portion are mutually connected in the package. Electrically connected.
In this case, the package has a rectangular cross section, and in particular, an extension part as a pad for interconnection is often required between the first and second semiconductor element mounting parts. Since it is arranged so as not to be perpendicular to the portion, chip cracks can be prevented.
また本発明では、前記半導体装置において、前記半導体素子搭載部は、それぞれ、前記半導体素子搭載部の配列方向に直交して前記樹脂パッケージの外部に導出された吊りリードを備え、第1の半導体素子チップを搭載する第1の半導体素子搭載部と、第2の半導体素子チップを搭載する第2の半導体素子搭載部とを備え、前記伸長部は前記第1の半導体素子搭載部から、前記第2の半導体素子搭載部の近傍まで、伸長しており、前記第1および第2の半導体素子搭載部の配列方向に平行に、これらと相対向して配列され、それぞれ、先端に接続領域を備えた複数のリードを具備し、前記接続領域と前記第1および第2の半導体素子チップはボンディングワイヤを介して電気的に接続されている。
また本発明では、前記半導体装置において、前記半導体素子搭載部は、矩形部と前記矩形部に連続的に形成された前記伸長部とを備え、前記半導体素子チップはその角部が、前記矩形部の角部に相当するように位置づけられている。
According to the present invention, in the semiconductor device, each of the semiconductor element mounting portions includes a suspension lead that is led out of the resin package so as to be orthogonal to the arrangement direction of the semiconductor element mounting portions. A first semiconductor element mounting portion for mounting a chip; and a second semiconductor element mounting portion for mounting a second semiconductor element chip; and the extending portion extends from the first semiconductor element mounting portion to the second semiconductor element mounting portion. Extending to the vicinity of the semiconductor element mounting portion, arranged in parallel to the arrangement direction of the first and second semiconductor element mounting portions, opposite to each other, and each having a connection region at the tip A plurality of leads are provided, and the connection region and the first and second semiconductor element chips are electrically connected via bonding wires.
According to the present invention, in the semiconductor device, the semiconductor element mounting portion includes a rectangular portion and the elongated portion continuously formed in the rectangular portion, and the corner portion of the semiconductor element chip has the rectangular portion. It is positioned so as to correspond to the corners.
本発明の半導体装置によれば、鉛フリー工程において、高温でのリフロー工程を経ても、チップクラックの発生もなく、高歩留まりの半導体装置を提供することが可能となる。 According to the semiconductor device of the present invention, it is possible to provide a semiconductor device with a high yield without generation of chip cracks even after a reflow process at a high temperature in a lead-free process.
次に本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態の半導体装置を示す斜視図、図2は同半導体装置の樹脂パッケージを除いた図、図3は同実施の形態に用いられるリードフレームを示す図、図4は同半導体装置の製造工程の一部であって、半導体素子チップを搭載しワイヤボンディングを行った状態を示す図、図5は、この半導体装置の樹脂封止工程を示す説明図である。
この半導体装置は、樹脂パッケージ1は、リード2a、2b、2c、3a、3bが導出される面を境として上下の樹脂1a、1bの厚さ比が、前記導出される面よりも上方の樹脂量と下方の樹脂量とがほぼ同一となるように決定されることを特徴とするものである。また、半導体素子搭載部が、矩形の半導体素子搭載領域としてのダイパッド5a、5bと、このダイパッド5aに連続的に形成された伸長部5eとを備え、この伸長部5eと半導体素子搭載領域との間に応力緩衝部としての切欠き7を具備しており、前記半導体素子チップはその角部が、前記ダイパッド5a、5bに相当するように位置づけられ、半導体素子チップの(111)が前記伸長部5eの伸長方向と45°の角度をなしていることを特徴とする。ここではリードが導出される面から樹脂パッケージ上面までの距離Laと、リード導出面から樹脂パッケージ下面までの距離LbとはLa=0.55mm、Lb=0.55mmであった。またこの樹脂パッケージの外径は2.9mm×1.5mm×1.1mmであった。
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view excluding a resin package of the semiconductor device, and FIG. 3 is a view showing a lead frame used in the same embodiment. 4 is a diagram showing a part of the manufacturing process of the semiconductor device, showing a state in which the semiconductor element chip is mounted and wire bonding is performed, and FIG. 5 is an explanatory diagram showing a resin sealing process of the semiconductor device. is there.
In this semiconductor device, the
すなわち、この半導体装置は、リードフレームと、半導体素子チップ4a、4bと、この周りを囲む樹脂パッケージ1とで構成される。そして2個のトランジスタチップを構成する半導体素子チップ4a、4bを、リードフレームのダイパッド5a、5bにそれぞれ載置固定するとともに、この半導体素子チップ4a、4bのパッドを、リード端子2a、2b、2c、3a、3bに夫々ボンディングワイヤ6を介して電気的接続を行うものである。このように、リードフレーム上に電気的接続のなされた半導体素子チップを樹脂パッケージ1a、1bで封止し、樹脂パッケージ1a、1bから導出されたリードをガルウィング型に成形したものである。このリード端子2a、2b、2c、3a、3bの外方端を、図9に示すように鉛フリー半田層22を介してプリント基板20表面上の回路パターンに載置し、リフロー法により、245℃程度で加熱することにより、プリント基板20表面の回路パターン21上への実装が鉛フリー半田22を介してなされる。
In other words, this semiconductor device includes a lead frame,
ここで伸長部5eはボンディングパッドとして用いられることが多いが、パッドとして用いられない機種もある。パッドとして用いられない場合は不要であるが、少量多品種化に伴い同一のリードフレームで多品種に対応させる汎用型リードフレームとして用いるため、本実施の形態のリードフレームは伸長部5eを備えている。
Here, the extending
さらに、本実施の形態では、第1および第2の半導体素子搭載部であるダイパッド5a、5bの配列方向に直交して樹脂パッケージ1の外部に導出された吊りリードとしてのリード端子3a、3bを備えている。これらダイパッド5a、5bのうちの一方5aは、他方のダイパッドの近傍まで、伸長する伸長部5eを具備しており、さらにこれらダイパッド5aの配列方向に平行に、これらと相対向して配列され、それぞれ、先端に接続領域を備えた複数のリード2a、2b、2cを具備し、前記接続領域と前記第1および第2の半導体素子チップ5a、5bはボンディングワイヤ6を介して電気的に接続されている。
Furthermore, in the present embodiment, the
また本発明では、前記半導体装置において、前記半導体素子搭載部は、矩形部と前記矩形部に連続的に形成された前記伸長部とを備え、前記半導体素子チップはその角部が、前記矩形部の角部に相当するように位置づけられている。
このダイパッドにはAgめっき、リード端子には、Sn−PbやSn−Biに代表されるPbフリー半田メッキ層を備えている。
According to the present invention, in the semiconductor device, the semiconductor element mounting portion includes a rectangular portion and the elongated portion continuously formed in the rectangular portion, and the corner portion of the semiconductor element chip has the rectangular portion. It is positioned so as to correspond to the corners.
This die pad is provided with Ag plating, and the lead terminal is provided with a Pb-free solder plating layer typified by Sn—Pb or Sn—Bi.
そしてこのリードフレームは、図3に要部拡大断面図を示すように、送り穴9を備えた2本のサイドバー8の間に、第1および第2の半導体素子チップ搭載部としてのダイパッド5a、5bと、これを支持する吊りリード3a、3bと、この吊りリードに相対向してリード端子2a、2b、2cとからなるリードフレームユニットが多数個順次配設されたものである。また、ダイパッド5aと伸長部5eとの境界に切り欠け7が形成されている。
As shown in the enlarged cross-sectional view of the main part in FIG. 3, this lead frame has a
次に、この半導体装置の実装方法について説明する。
まず、このリードフレームの製造方法について説明する。
この方法では、金属製の板状体(銅板)からなる条材を打ち抜き加工し、図3に示すように、送り穴9を備えたサイドバー8の間に、ダイパッド5a、5bと、これを支持する吊りリード3a、3bと、リード端子2a、2b、2cとからなるリードフレームユニットが多数個順次配設されたリードフレーム本体の形状加工を行う。このとき抜き型を変更し、打ち抜きと同時に切り欠けが形成できるようになっている。そしてこのようにして形成されたリードフレーム本体表面に、電解めっきによりAgメッキ層を形成した。
Next, a method for mounting the semiconductor device will be described.
First, a method for manufacturing the lead frame will be described.
In this method, a strip made of a metal plate (copper plate) is punched out, and as shown in FIG. 3, die
次にこのリードフレームを用いた半導体装置の製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing a semiconductor device using this lead frame will be described.
まず図4に示すように、図3に示したリードフレームのダイパッド5a、5bに半導体素子チップ4a、4bの裏面が搭載されるように固着し、ボンディングワイヤ12によって半導体素子チップ4a、4bとリード端子2a、2b、2cとの電気的接続を行う。
First, as shown in FIG. 4, the
この後、図5に示すように、上金型10aによって形成されるキャビティ空間11a内の半導体素子チップを除く空間領域の体積が、ほぼ等しくなるようにキャビティ空間の厚さLa、Lbが調整される。そして上金型10aと下金型10bによって形成されるキャビティ空間11a、11b内の空間領域にエポキシ樹脂がインジェクトされ、樹脂封止を行い、樹脂パッケージ1で被覆された半導体装置を形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 5, the thicknesses La and Lb of the cavity space are adjusted so that the volume of the space region excluding the semiconductor element chip in the
そして最後に、サイドバー8を除去し、リード端子をガルウイング形状に成形し、図1に示した半導体装置が形成される。
Finally, the
そして、プリント基板などへの装着時には鉛フリー半田により、効率よくリフローされる。 And, when mounted on a printed circuit board or the like, it is efficiently reflowed with lead-free solder.
このように、本実施の形態では、樹脂パッケージ1を、このリード面を境に、上下の樹脂量がほぼ等しくなるように構成しているため、リフロー工程において245℃以上の高温となっても、樹脂パッケージ自体が歪むのを防ぐことができる。このため、樹脂パッケージの熱歪が半導体チップに伝搬してチップクラックが発生する確率は大きく低減される。このように、この構成によれば、熱により樹脂パッケージが歪を生じるのを防止することが可能となる。
As described above, in the present embodiment, the
それぞれ本発明の実施の形態の半導体装置における、半導体素子チップのダイパッド5aへの載置方向と結晶界面CBとの関係を説明するとともに最大引っ張り応力Fの方向とクラックCの発生との関係とを測定した。その結果を、図12(a)および(b)に示す。
In the semiconductor device of the embodiment of the present invention, respectively, to the relationship between the occurrence of direction and the crack C in the maximum tensile stress F with explaining the relationship between the placing direction of the
かかる構成によれば、最も弱い部分である結晶界面すなわちシリコン結晶のへき開面である(111)面が伸長部の伸長方向と45°をなすように配され、垂直となるのを避けて配されるため、リフロー時の熱ストレスにより最も大きな力のかかる部分がチップの最も弱い部分を避けて配置されることになる。従ってクラックの発生は低減され、鉛フリー化によるリフロー温度の上昇によってもクラックの発生することのない樹脂封止型半導体装置を提供することができる。特に、伸長部5eが応力を受け、変形しやすいが、本実施の形態では図12(b)(d)に示すように結晶界面CBがこの伸長部5eと垂直にならないように配されているため、伸長部5eの変形による最大引っ張り応力Fに垂直にはなっていないため、クラックCの発生は抑制される。これに対し、従来例では図12(a)(c)に示すように、結晶界面CBがこの伸長部5eと垂直となり、伸長部5eの変形による最大引っ張り応力Fに垂直にはなってこの応力を最大の状態で受けることになる。このためチップクラックが発生しやすい。
According to such a configuration, the crystal interface which is the weakest part, that is, the (111) plane which is the cleavage plane of the silicon crystal is arranged so as to form 45 ° with the extension direction of the extension part, and is arranged so as to avoid being perpendicular. Therefore, the portion to which the greatest force is applied due to the thermal stress at the time of reflow is arranged avoiding the weakest portion of the chip. Therefore, the generation of cracks is reduced, and a resin-encapsulated semiconductor device can be provided in which cracks do not occur even when the reflow temperature is increased due to lead-free operation. In particular,
また本実施の形態では、リードフレームにおけるダイパッド5aとこれとL字状をなすように伸長する伸長部5eとの境界に応力緩衝部としての切り欠き7を形成しているため、最も応力の集中しやすい場所に応力緩衝部が設けられているため、半導体素子チップ4aに応力が伝搬するのを防止することができ、チップクラックの発生を抑制することができる。
Further, in the present embodiment, the
また、半導体装置の封止樹脂から露呈するリード部が、半田層となっているため、安定な外部端子構造を形成することが可能となる。
なおこの封止樹脂から露呈するリード部の最外層としては、金、錫、パラジウム半田など、安定で半田と共晶を形成し易い金属で構成すればよい。
Further, since the lead portion exposed from the sealing resin of the semiconductor device is a solder layer, a stable external terminal structure can be formed.
The outermost layer of the lead portion exposed from the sealing resin may be made of a metal that is stable and easily forms a eutectic with solder, such as gold, tin, and palladium solder.
また、本発明のリードフレームにおいては、前記最外層は、半田と共晶を形成し易い金などの金属で構成すれば、プリント基板などへの実装に際し、良好に接続を行うことが可能となる。 In the lead frame of the present invention, if the outermost layer is made of a metal such as gold, which is easy to form a eutectic with solder, it is possible to make a good connection when mounted on a printed circuit board. .
また、本発明のリードフレームの製造方法では、打ち抜き法によって形成したが、打ち抜き法とエッチング法との組み合わせあるいはエッチング法を用いるようにしてもよい。 Further, although the lead frame manufacturing method of the present invention is formed by the punching method, a combination of the punching method and the etching method or an etching method may be used.
更にまた樹脂パッケージについても、前記実施の形態では、リードが導出される面から樹脂パッケージ上面までの距離Laと、リード導出面から樹脂パッケージ下面までの距離LbとはLa=0.55mm、Lb=0.55mmとしたが、これに限定されることなく上部と下部の形状にもよるが、La=0.2mm、Lb=0.9mmとしたもの、La=0.3mm、Lb=0.8mmとしたものも有効であった。 Further, regarding the resin package, in the embodiment, the distance La from the surface from which the lead is led out to the upper surface of the resin package and the distance Lb from the lead lead-out surface to the lower surface of the resin package are La = 0.55 mm, Lb = 0.55 mm, but not limited to this, but depending on the shape of the upper and lower parts, La = 0.2 mm, Lb = 0.9 mm, La = 0.3 mm, Lb = 0.8 mm It was also effective.
また、前記実施の形態では、リードフレームにおいて半導体素子搭載領域と伸長部との境界に切欠きを形成したが、この切欠きは、前記半導体素子搭載領域と伸長部との境界に配置するのが望ましいが、境界近傍から伸長部の長手方向に沿って切り欠きを入れ、伸長部の幅を狭くしたり、伸長部の長さを小さくしたり、してもよく、応力低減のための構造を形成しこれを応力緩衝部としてもよい。 In the above embodiment, a notch is formed at the boundary between the semiconductor element mounting region and the extending portion in the lead frame. However, this notch is disposed at the boundary between the semiconductor element mounting region and the extending portion. Although it is desirable, a notch may be cut from the vicinity of the boundary along the longitudinal direction of the extended portion to reduce the width of the extended portion or to reduce the length of the extended portion. It may be formed and used as a stress buffer portion.
(第2の実施の形態)
次に本発明の第2の実施の形態について説明する。
前記第1の実施の形態では、リードフレームのダイパッド5aとその伸長部5eとの境界部に応力緩衝部としての切欠き7を形成したが、これに代えて、本実施の形態では、図6(a)に示すように、伸長部5eの長さを、ダイパッドの半導体素子チップ搭載領域である矩形領域の1辺の長さと同程度以上とならないようにしたことを特徴とするもので、従来よりも短く形成している。他の部分については前記第1の実施の形態と同様である。
またこの例でも、半導体素子チップ4a、4bはへき開面と伸長部の伸長方向とは45°の角度をなすように形成される。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
In the first embodiment, the
Also in this example, the
この構成によれば、伸長部が短く形成されているため、この伸長部からダイパッド5aが受ける引っ張り応力は低減され、従ってチップクラックの発生率は低減される。
なお、図6(b)に示すように、半導体素子チップの搭載方向は従来と同様にしても、従来例で示した伸長部をダイパッド5b近傍まで伸長させたものに比べて、大幅にチップクラックの発生率が低減される。
According to this configuration, since the elongated portion is formed short, the tensile stress received by the
As shown in FIG. 6B, even if the mounting direction of the semiconductor element chip is the same as the conventional one, the chip crack is significantly larger than that in the conventional example in which the extended portion is extended to the vicinity of the
(第3の実施の形態)
次に本発明の第3の実施の形態について説明する。
前記第1の実施の形態では、リードフレームのダイパッド5aとその伸長部5eとの境界部に応力緩衝部としての切欠き7を形成したが、これに代えて、本実施の形態では、図7(a)に示すように、伸長部5eの長さを、ダイパッドの半導体素子チップ搭載領域である矩形領域の1辺の長さと同程度以上とならないようにすると共に幅wをリード端子の幅w0よりも小さくしたことを特徴とするもので、従来よりも短く形成している。他の部分については前記第1および第2の実施の形態と同様である。
またこの例でも、半導体素子チップ4a、4bはへき開面と伸長部の伸長方向とは45°の角度をなすように形成される。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described.
In the first embodiment, the
Also in this example, the
この構成によれば、伸長部が短くかつ幅を小さくして形成されているため、この伸長部からダイパッド5aが受ける引っ張り応力は低減され、従ってチップクラックの発生率は低減される。
なお、図7(b)に示すように、半導体素子チップの搭載方向は従来と同様にしても、従来例で示した伸長部をダイパッド5b近傍まで伸長させたものに比べて、大幅にチップクラックの発生率が低減される。
According to this configuration, since the elongated portion is formed with a short width and a small width, the tensile stress received by the
As shown in FIG. 7B, even if the mounting direction of the semiconductor element chip is the same as the conventional one, the chip crack is significantly larger than that in the conventional example in which the extending portion is extended to the vicinity of the
(第4の実施の形態)
次に本発明の第4の実施の形態について説明する。
前記第2および第3の実施の形態では、リードフレームのダイパッド5aからの伸長部5eを、短くしたり、幅を小さくしたりしたが、本実施の形態では、図8(a)に示すように、伸長部を切除し、長手方向のダイパッドの形状を線対称としたものである。他の部分については前記第1および第2の実施の形態と同様である。これにより、伸長部をパッドとして使用できなくなり、適用品種が少なくなるという欠点があるが、引っ張り応力は低減される、チップクラックの発生は低減される。
またこの例でも、半導体素子チップ4a、4bはへき開面と伸長部の伸長方向とは45°の角度をなすように形成される。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.
In the second and third embodiments, the extending
Also in this example, the
この構成によれば、伸長部を削除して形成されているため、伸長部からダイパッド5aが受ける引っ張り応力はなくなり、従ってチップクラックの発生率は低減される。
なお、図8(b)に示すように、半導体素子チップの搭載方向は従来と同様にしても、従来例で示した伸長部をダイパッド5b近傍まで伸長させたものに比べて、大幅にチップクラックの発生率が低減される。
According to this configuration, since the elongated portion is eliminated, the tensile stress received by the
Note that, as shown in FIG. 8B, even if the mounting direction of the semiconductor element chip is the same as the conventional one, the chip crack is significantly larger than that in the conventional example in which the extending portion is extended to the vicinity of the
なお、前記第1乃至第4の実施の形態のリードフレームにおける半導体チップ4aの受ける応力値を測定した結果を図11に示す。Pは図14および図15に示した従来例の半導体装置、N1は第2の実施の形態の半導体装置、N2は第3の実施の形態の半導体装置、N3は第4の実施の形態の半導体装置、N4は第1の実施の形態の半導体装置における半導体チップの受ける応力値を示す。これらの比較から、本発明の第1乃至第4の実施の形態によれば応力が低減され、チップクラックの発生率の低下をはかることが可能となることがわかる。
FIG. 11 shows the result of measuring the stress value received by the
また、チップの方向と応力との関係を測定した結果を図13(a)乃至(d)に示す。この図から明らかなように、チップ底面即ちリードフレームとの接着面近傍における応力を測定した結果を示すもので、位置としては図13(c)および図13(d)に示すように、C1−C2、C4−C1の方向での応力を測定した結を示す図である。これらの図からわかるように、チップを45°回転したときの応力値は辺C1―C2において増大するものの、辺C4―C1においては減少する。またチップを45°回転するとともにリードフレームの伸長部5eを切除したものは辺C1―C2および、辺C4―C1において共に減少する。図中曲線aは従来例のリードフレームを用いて従来例のチップ配置をしたもの、曲線bはチップ配置を45°回転したもの、曲線cはチップ配置を45°回転するとともに伸長部5eを切除したものを示す。
また、リードフレームのダイパッド5aと伸長部5eとの間に切り欠き7を形成し応力緩衝部を設けたが、本実施の形態では、図10に示すように、応力緩衝部としての切り欠き7を形成することなく形成したもので、他の部分については前記第1の実施の形態と同様である。
これにより、伸長部5eの受ける引っ張り応力は従来と同様であるが、半導体素子チップ4aのへき開面が、引っ張り応力が最大となる伸長部eの伸張方向から45°回転して形成されるため、引っ張り応力は理論的には3分の2程度に低減されるため引っ張り応力は低減される、チップクラックの発生は低減される。
この構成によれば、リードフレームおよびボンディング工程を変更することなく実現でき、半導体素子チップの装着方向を45°回転するのみで形成することができるため、製造も容易である。なおこの回転方向としては、ワイヤボンディングのワイヤの方向を考慮して決定する必要がある。
また、半導体素子チップ4a、4bはへき開面と伸長部の伸長方向とのなす角度は45°に限定されることなく、30°とするなど適宜調整可能である。
Moreover, the result of having measured the relationship between the direction of a chip | tip and stress is shown to Fig.13 (a) thru | or (d). As is apparent from this figure, the result of the measurement of the stress in the vicinity of the chip bottom surface, that is, the adhesion surface with the lead frame, is shown. As shown in FIGS. 13 (c) and 13 (d), the position is C1- It is a figure which shows the result which measured the stress in the direction of C2, C4-C1. As can be seen from these figures, the stress value when the chip is rotated by 45 ° increases on the side C1-C2, but decreases on the side C4-C1. Further, when the tip is rotated by 45 ° and the
Further, the
Thereby, the tensile stress received by the
According to this configuration, it can be realized without changing the lead frame and the bonding process, and the semiconductor element chip can be formed by simply rotating the mounting direction of the semiconductor element chip by 45 °. The direction of rotation needs to be determined in consideration of the wire direction of wire bonding.
Further, the angle formed between the cleavage plane and the extending direction of the extending portion of the
(第5の実施の形態)
次に本発明の第5の実施の形態について説明する。
前記第1の実施の形態では、リードフレームのダイパッド5aと伸長部5eとの間に切り欠き7を形成し応力緩衝部を設けたが、本実施の形態では、図10に示すように、応力緩衝部としての切り欠き7を形成することなく形成したもので、他の部分については前記第1の実施の形態と同様である。
これにより、伸長部5eの受ける引っ張り応力は従来と同様であるが、半導体素子チップ4aのへき開面が引っ張り応力が最大となる伸長部eの伸張方向から45°回転して形成されるため、引っ張り応力は理論的には3分の2程度に低減されるため引っ張り応力は低減される、チップクラックの発生は低減される。
この構成によれば、リードフレームおよびボンディング工程を変更することなく実現でき、半導体素子チップの装着方向を45°回転するのみで形成することができるため、製造も容易である。なおこの回転方向としては、ワイヤボンディングのワイヤの方向を考慮して決定する必要がある。
また、半導体素子チップ4a、4bはへき開面と伸長部の伸長方向とのなす角度は45°に限定されることなく、30°とするなど適宜調整可能である。
また、図10に破線で示すように、リードフレームのダイパッド5aと伸長部5eとの間に円形孔7Sを形成し応力緩衝部を構成してもよい。また円形孔に限らず★状孔、□穴なども有効である。これらの孔もここでは切り欠きの一部とする。
(Fifth embodiment)
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.
In the first embodiment, the
As a result, the tensile stress received by the
According to this configuration, it can be realized without changing the lead frame and the bonding process, and the semiconductor element chip can be formed by simply rotating the mounting direction of the semiconductor element chip by 45 °. The direction of rotation needs to be determined in consideration of the wire direction of wire bonding.
Further, the angle formed between the cleavage plane and the extending direction of the extending portion of the
Further, as indicated by a broken line in FIG. 10, a circular hole 7S may be formed between the
なお、前記実施の形態では、2個のトランジスタの実装について説明したが、1個のトランジスタを実装する場合にも適用可能であり、またこのようなディスクリート素子に限定されることなく、ICやLSIなどにも適用可能であることはいうまでもない。 In the above-described embodiment, the mounting of two transistors has been described. However, the present invention can also be applied to a case where a single transistor is mounted, and is not limited to such a discrete element. Needless to say, the present invention is also applicable.
以上説明してきたように、本発明の半導体装置によれば、鉛フリー工程において、高温でのリフロー工程によって実装される半導体装置の、チップクラックの低減に有効であり、特に長方形の樹脂パッケージをもつシングルインライン型あるいはデュアルインライン型の半導体装置の歩留まりの向上に有効である。 As described above, according to the semiconductor device of the present invention, in the lead-free process, the semiconductor device mounted by the reflow process at a high temperature is effective in reducing chip cracks, and particularly has a rectangular resin package. This is effective in improving the yield of a single in-line type or dual in-line type semiconductor device.
1 樹脂パッケージ
1a、1b 上下の樹脂
2a、2b、2c リード端子
3a、3b 吊りリード
4a、4b 半導体素子チップ
5a、5b ダイパッド(半導体素子搭載部)
5e 伸長部
6 ボンディングワイヤ
7 切欠き
8 サイドバー
9 送り穴
10 金型
11 キャビティ
101 樹脂パッケージ
102a、102b、102c リード端子
103a、103b 吊りリード
104a、104b 半導体素子チップ
105a、105b ダイパッド(半導体素子搭載部)
105e 伸長部
DESCRIPTION OF
105e extension part
Claims (11)
前記半導体素子搭載部の近傍に、一端が位置するように配設された複数のリードと、
前記半導体素子搭載領域に搭載され、前記リードの少なくとも1つに電気的に接続された半導体素子チップと、
前記半導体素子チップを被覆すると共に、前記リードの外方の端部を外部に露呈せしめる樹脂パッケージとを備えた半導体装置であって、
前記樹脂パッケージは、前記リードが導出される面を境として上下の樹脂の厚さ比が、前記導出される面よりも上方の樹脂量と下方の樹脂量とがほぼ同一となるように設定された半導体装置。 A semiconductor element mounting portion comprising: a semiconductor element mounting region; and an extending portion extended in at least one direction from the semiconductor element mounting region;
A plurality of leads disposed so that one end is positioned in the vicinity of the semiconductor element mounting portion;
A semiconductor element chip mounted in the semiconductor element mounting region and electrically connected to at least one of the leads; and
A semiconductor device comprising a resin package that covers the semiconductor element chip and exposes an outer end of the lead to the outside,
The resin package is set so that the thickness ratio of the upper and lower resins with respect to the surface from which the leads are led out is substantially the same as the amount of resin above and below the surface from which the leads are derived. Semiconductor device.
前記半導体素子搭載領域は矩形部を構成しており、前記伸長部は、矩形部の一端部から垂直方向に伸長する半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1,
The semiconductor element mounting region forms a rectangular portion, and the extending portion extends in a vertical direction from one end of the rectangular portion.
リードは、前記樹脂パッケージの一方向または2方向に形成される半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1, wherein
The lead is a semiconductor device formed in one direction or two directions of the resin package.
前記樹脂パッケージは主面が長方形である半導体装置。 A semiconductor device according to any one of claims 1 to 3,
The resin package is a semiconductor device having a rectangular main surface.
前記半導体素子搭載領域と前記伸長部との境界に応力緩衝部を備えたことを特徴とする半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1,
A semiconductor device comprising a stress buffering portion at a boundary between the semiconductor element mounting region and the extending portion.
前記応力緩衝部は、切欠きである半導体装置。 The semiconductor device according to claim 5,
The stress buffer portion is a semiconductor device having a notch.
前記切欠きは、前記伸長部の相対向する辺から交互に複数形成されている半導体装置。 The semiconductor device according to claim 5,
A plurality of the cutouts are alternately formed from opposite sides of the elongated portion.
前記半導体素子チップは、その結晶界面が、前記伸長部の伸長方向に垂直となるのを避けて配される半導体装置。 A semiconductor device according to claim 1,
The semiconductor device is a semiconductor device in which the crystal interface is arranged to avoid being perpendicular to the extending direction of the extending portion.
前記半導体素子搭載部は、前記樹脂パッケージ内に複数個配置されており、前記半導体素子搭載部に搭載される複数個の半導体素子チップが前記パッケージ内で互いに電気的に接続された半導体装置。 A semiconductor device according to claim 1,
A plurality of the semiconductor element mounting portions are arranged in the resin package, and a plurality of semiconductor element chips mounted on the semiconductor element mounting portion are electrically connected to each other in the package.
前記半導体素子搭載部は、それぞれ、前記半導体素子搭載部の配列方向に直交して前記樹脂パッケージの外部に導出された吊りリードを備え、第1の半導体素子チップを搭載する第1の半導体素子搭載部と、第2の半導体素子チップを搭載する第2の半導体素子搭載部とを備え、
前記伸長部は前記第1の半導体素子搭載部から、前記第2の半導体素子搭載部の近傍まで、伸長しており、
前記第1および第2の半導体素子搭載部の配列方向に平行に、これらと相対向して配列され、それぞれ、先端に接続領域を備えた複数のリードを具備し、
前記接続領域と前記第1および第2の半導体素子チップはボンディングワイヤを介して電気的に接続されている半導体装置。 The semiconductor device according to claim 9,
Each of the semiconductor element mounting portions includes a suspension lead led out to the outside of the resin package perpendicular to the arrangement direction of the semiconductor element mounting portions, and mounts a first semiconductor element chip. And a second semiconductor element mounting part for mounting the second semiconductor element chip,
The extending part extends from the first semiconductor element mounting part to the vicinity of the second semiconductor element mounting part,
Parallel to the arrangement direction of the first and second semiconductor element mounting portions, arranged opposite to each other, each having a plurality of leads provided with a connection region at the tip,
A semiconductor device in which the connection region and the first and second semiconductor element chips are electrically connected via bonding wires.
前記半導体素子搭載部は、矩形部と前記矩形部に連続的に形成された前記伸長部とを備え、前記半導体素子チップはその角部が、前記矩形部の角部に相当するように位置づけられている半導体装置。 The semiconductor device according to claim 10,
The semiconductor element mounting portion includes a rectangular portion and the elongated portion formed continuously in the rectangular portion, and the semiconductor element chip is positioned such that a corner portion thereof corresponds to a corner portion of the rectangular portion. Semiconductor device.
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JP2012099842A (en) * | 2011-12-29 | 2012-05-24 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor module |
JP2015198216A (en) * | 2014-04-03 | 2015-11-09 | 富士電機株式会社 | semiconductor device |
-
2003
- 2003-07-31 JP JP2003283874A patent/JP2005051157A/en active Pending
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