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JP2004515365A - 半導体材料のレーザー加工 - Google Patents

半導体材料のレーザー加工 Download PDF

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JP2004515365A JP2002549424A JP2002549424A JP2004515365A JP 2004515365 A JP2004515365 A JP 2004515365A JP 2002549424 A JP2002549424 A JP 2002549424A JP 2002549424 A JP2002549424 A JP 2002549424A JP 2004515365 A JP2004515365 A JP 2004515365A
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Abstract

高出力のグリーンレーザーを向けることにより半導体がカットされ、続いてUVビームが向けられる。第一のビームは比較的粗いエッジと高い材料除去率で切断を行い、第二のビームは、少量の材料除去で、要求された仕上がりのためにエッジにおける切断を完成させる。

Description

【0001】
(発明の分野)
本発明は、半導体材料または広く同様の特性を有する他の材料の加工におけるレーザーの使用に関する。一例として、ウェハ上の集積回路の配列から、単一の集積回路をシンギュレーションするために半導体を加工することがある。別の例としては、ウェハまたはダイに開口部(アパーチャ)を設定するために、レーザーにより半導体材料を除去することなどが挙げられる。
(従来の技術の解説)
集積回路は、出発原料として半導体のウェハを使用して製造される。複数の集積回路は、複数のリソグラフステップにより、同時に製造される。集積回路製造の最終段階のうちの一つは、集積回路チップを、それが形成されているウェハーからシンギュレーションすることである。
【0002】
現在、この業界においては、この機能を実行するために、ダイヤモンドブレードの高精度メカニカルソー(機械のこぎり)が使用されている。これは、一般に認められている技術であるが、欠損、デブリ(破片)の発生、過剰な熱負荷のもとになるようなメカニカルソーの使用には問題点が見られる。
【0003】
製造におけるレーザー加工とレーザーの使用は広く行われているが、半導体材料の機械加工と他の同様のアプリケーションに対しては、レーザー技術がうまく適用されてきたように思われない。その理由は、レーザー切断加工により形成されるエッジの品質が、集積回路製造のような精密な用途において、受け入れられないことである。また、加工速度は、高い処理能力を持つ生産プロセスには不十分である。また、切断面で熱が発生することが多いので、そもそもその部品が製造された目的である電気的機能に、損傷を生じてしまう場合もある。
【0004】
US4958900は、加工物を照明するための複数の光ファイバを保持するホルダーを記載している。
【0005】
US5922224は、レーザービームからの光を二つのビームに集光させるシステムを記載している。半導体ウェハをこれらのビームに対して相対的に移動させると、これらのビームは、順々に同じ経路を進行する。
【0006】
本発明は、レーザービームを利用して、半導体及び同様の材料の、改良された加工を提供することに向けられている。加工速度、そして品質と精度に関し、所望の改善が見られる。
(発明の開示)
本発明によれば、
加工作業を行うために少なくとも二つのレーザービームを材料に向けるステップを有する、材料の加工方法において、
これらのレーザービームが、異なる光学特性を有することを特徴とする加工方法が提供される。
【0007】
実施例の1つにおいて、これらのビームは、異なる波長を有する。最大波長を有するビームが、初期に、最も高い材料除去率を得るために用いられ、それより短い波長を有するビームは、加工作業を完了するために引き続き使用される。
【0008】
実施例の1つにおいて、最大波長を有するビームは、また、最大出力を有する。
【0009】
別の実施例において、最大波長を有するビームは、基本波または第二次高調波のレーザー周波数のパルスを有するパルス列を備え、これより短い波長を有するビームは、第三次、第四次または第五次高調波の周波数のパルスを有するパルス列を備える。
【0010】
実施例の1つにおいて、基本波の周波数が近赤外線スペクトル域にあり、第二次高調波の周波数が近赤外線可視域にある、基本波または第二次高調波の波長を用いて最大出力のビームが固体レーザーから生成される。また、これより短いwavelenthのビームは、第三次、第四次または第五次高調波の周波数を生成することにより、紫外線域にある波長で生成される。
【0011】
別の実施例において、これらのビームは、300ナノ秒よりも短いパルス幅を有する。
【0012】
実施例の一つにおいて、これらのビームは各々、1kHzよりも大きいパルス繰返し周波数を有する。
【0013】
実施例の一つにおいて、ガルバノメーターおよび光学系がビームを出力し、光学系は、目標送出量(target transmission)とビームサイズを提供する。
【0014】
実施例の一つにおいて、材料は、半導体材料のウェハである。
【0015】
実施例の一つにおいて、材料は、半導体材料と誘電体とからなる複合材料である。
【0016】
さらに別の実施例においては、最大波長のビームは、カットラインに沿って片側からバルク状半導体を除去するために使用され、これより短い波長のビームは、カットラインに沿って反対側からより低量の誘電体を除去するために使用される。
【0017】
実施例の一つにおいて、材料は、半導体集積回路ダイであり、加工は、ウェハまたはチップ配列からダイをシンギュレーションするためにダイの端部周辺で行われる。
【0018】
実施例の一つにおいて、本発明の方法は、切断前の材料の画像を、機械視覚システムを使用して撮影し、確認された基準に従ってカットラインを決定するステップ、をさらに含む。
【0019】
他の態様によれば、本発明は、
材料を切断するための装置であって、
当該装置は、
レーザー光源手段と、
レーザービームガイド手段と、
前記光源手段と前記ガイド手段を、加工作業を行うよう制御するための手段を備えた制御装置と、
を備え、
前記レーザー光源手段は、異なる光学特性を有するレーザービームを、各々が生成する複数のレーザー光源を備え、
前記制御装置は、上記の方法で加工作業を制御する手段を備えることを特徴とする装置を提供する。
(発明の詳細な説明)
(図面の簡単な説明)
本発明は、以下のいくつかの実施例の説明により、さらに明確に理解される。尚、以下の実施例は、添付の図面を参照した例示として記載される。
【0020】
図1(a)及び図1(b)は、トレンチを加工するための二つのレーザービームの使用を表した図である。
【0021】
図2(a)は、一連の段階を通して、二つのビームをそれぞれ使用して加工された、深いトレンチを示す観念断面図であり、図2(b)は、あらくカットされたトレンチに対し、高品質仕上げを完了させるためのUVレーザービームの使用を示す概略断面図である。
【0022】
図3(a)、図3(b)、図3(c)および図3(d)は、ガラス誘電オーバーレイヤを用いた半導体ウェハの加工を表す連続図である。
(実施の形態の説明)
本発明は、異なる光学特性の二つの別々のレーザービームを使用して、誘発されたフォトアブレーションおよび他の基礎物理的プロセスの手段により、半導体ウェハをミクロ加工するシステムおよび方法を提供する。ビームを生成するためのレーザーシステムには、例えば、第一次(1,064nmのNd:YVO)、第二次(532nm)、第三次(355nm)、第四次(266nm)または第五次(213nm)の高調波発光を有するダイオード励起固体レーザーシステムがある。1,064nmレーザーは高速度、532nmと355nレーザーは適度な品質を伴った高速度、266nmと213nmシステムは、最良のレーザー加工品質をもたらすが低速度である。発光の正確な波長によっては、これらの高調波の波長はわずかに変化する場合もある(例えば、Nd:YAG)。
【0023】
第一ビームは、好ましくは、基本波周波数または第二次高調波周波数のパルスを有するパルス列から成る。第二ビームは、好ましくは、第三次、第四次、または第五次高調波周波数のパルスを有するパルス列から成る。
【0024】
例えば、第一ビームは、1064nmの基本波周波数のNd:YAGビームまたは532nmの第二次高調波であってもよい。第二ビームは、Nd:YAG、第三次高調波355nmビームであってもよい。
【0025】
両方のビームが、300nsより小さいパルス幅、および、1kHzより大きいパルス繰返し周波数を有することが好ましい。
【0026】
本システムは、二つの別体のヘッドを備え、第一のヘッドは、赤外線または可視波長レーザー(グリーンなど)を使用し、第二のヘッドは、UVレーザーを使用する。本システムは、高解像度のx−yステージと二軸ガルバノメーターを有する精密走査位置決めシステムとを備える。ウェハの正確な位置決めおよびミクロ加工された特徴の検査のために、高解像度の二台のカメラによる画像処理システムが使用される。中央処理装置に位置情報を供給するため、上部視覚システムが用いられる。この視覚システムは、ウェハが「アートワークアップ」位置にあるときに作動する。上部視覚システムは、レーザービーム位置決めシステムに対して、固定されたオフセット位置にあってもよいし、または、ビーム伝送経路と集光レンズを通って作動してもよい。材料ハンドリングシステムは、アートワークを上向きまたは下向きにして、x−yテーブルチャック内にウェハーを配置するように設計されている。下部視覚システムは、アートワークを下向きした状態で、ウェハのための位置情報を供給するために使用される。また、本システムは、ウェハーを装填し、それらを一つのヘッドから他方のヘッドに移動させるハンドリングロボットを使用する。
【0027】
また、本システムは、ガス吹き付けおよびデブリ除去システムを備える。このデブリ除去装置によれば、確実にデブリが基準位置に載らないようにできるので、正確なビジョンおよびアライメントが可能となる。エアアシスト装置により、ウェハ上部からデブリ除去システムへと、デブリが加工前面から離れるように確実に方向付けがなされる。このデブリ除去とエアアシストにより、さらに、加工速度と品質が改善される。
【0028】
本システムは、ブラインドおよびカットアウトというような複雑な形状を、半導体ウェハの両面に高速で加工することを可能とする。
【0029】
実施例の一つにおいて、高い加工速度と高い材料除去率を実現するために、第一ビームは、1064nmまたは532nmレーザービームである。第二ビームは、仕上がり品質を高めるために355nmまたは266nmビームである。
【0030】
上記のように、本レーザー加工システムは、二つのヘッド(ヘッド1およびヘッド2)とハンドリングロボットとを備える。ヘッド1は、6ワットよりも大きい平均出力のパルスグリーンレーザー光源を制御する。一方、ヘッド2は、1.5ワットよりも大きい平均出力のパルス266nmUVレーザー光源を制御する。ヘッド1とヘッド2の双方において、適切な波長、レーザー出力、偏光および照射角度に設計された誘電ミラーを用いて、ビームをウェハへ伝送する。ガルバノメーターへの入力時におけるビームの直径を設定するためにテレスコープが使用される。その後、このビームは、二軸ガルバノメーターへ向けられる。ガルバノメーターには、テレセントリック、Fシータの、フラットフィールドレンズが取り付けられており、これは、100mm×100mmまでの領域に集光ビームを均一に送出する。ウェハの全領域を加工するために、x−yステージが使用される。このx−yステージにはウェハホルダーが組み込まれている。該x−yステージは、ガルバノメーターの視界外部の領域をつなぐように制御され、ウェハー全体の長いチャネルの加工を可能とする。ハンドリングロボットは、必要に応じてアートワークを上向きまたは下向きにして、x−yテーブルにウェハを配置するために使用される。これにより、ウェハの両面を加工することが可能となる。ウェハホルダーは、特定の直径を有するウェハ用に設計されている。しかしながら、200nmや300nmウェハを含む、より小さいまたは大きい直径のウェハに適用させるように簡単に調整することができる。
【0031】
すべての制御システム、データシステム、モーションシステム、視覚システムおよびビーム出力は、プロセッサにより制御される。
【0032】
ウェハは、まず、ヘッド1により加工される。ヘッド1のグリーンレーザーは、材料除去を実現するために効果的であるが、カットエッジ全体の品質は、UVレーザーシステムを使用して実現できる品質よりも低い。内部カット部分の品質および上面の品質は、UVにより得られる品質よりも劣る。しかし、グリーンレーザーは高出力を持ち、比較的コストが低く、より安定している。ヘッド1におけるグリーンレーザーがチャネルまたはトレンチから大部分の材料を除去した後に、ヘッド2のUVレーザーを使用して、トレンチ内部やエッジから材料を取り除くことができるので、正味加工速度が改善され、優れた仕上がり品質が得られるという効果がある。
実施例1:デュアルヘッドシステムにおける二つのレーザー波長を用いた700μmのシリコンウェハの加工
本実施例において、ウェハは、デュアルヘッド構成を用いて加工される。これにより、第1のヘッド、ヘッド1は、6ワットよりも大きい平均出力のパルスグリーンレーザー光源を使用し、ヘッド2は、1.5ワットよりも大きい平均出力のパルス266nmUVレーザー光源を使用する。ここで、図1(a)と図1(b)を参照する。
【0033】
ウェハは、まず、ヘッド1により加工される。材料除去を実現するためにはグリーンレーザーが効果的であるが、カットエッジの全体的な品質は、UVレーザーシステムにより実現される品質よりも低い。内部カット部分の品質および上面の品質は、UVにより得られる品質よりも劣る。ヘッド1のグリーンレーザーが大半の材料を除去して外形2を形成した後、ヘッド2のUVレーザーを使用して、トレンチ内部およびエッジから材料を除去し外形3を生成する。
実施例2:ディープトレンチの加工(図2)
図2(a)を参照すると、実施例1について上記したグリーン及びUVレーザービームが、幅S、深さDを有するディープトレンチ50を加工するために使用されている。
【0034】
第一の段階において、グリーンレーザーの第一走査により、粗いサブトレンチ51が加工される。これに続いて横方向に、このレーザービームのオフセット走査によりサブトレンチ52と53が加工される。横方向オフセットパラメータは、“Ocentre”で表されている。
【0035】
第二の段階において、グリーンレーザーは、サブトレンチ54、55および56を次々に加工して、鈍い切れ目の深さDに近づけるために使用される(ただし粗い仕上がりで)。
【0036】
その後、UVレーザーを使用して、サブトレンチ51から56を組み合わせて形成されるトレンチを横方向に引き延ばす。より詳細に説明すると、第三の段階において、上側エッジ部周辺にこのUVレーザーを走査させて、深さおよそD/3のところまで矩形ボリューム57と58を作り出す。第四段階において、合計深さ2*D/3のところまでボリューム59と61を除去するために、このUVレーザーを、矩形の経路内で次々と走査させる。最後に、第五段階において、UVビームを使用してボリューム61と62を加工し、深さDおよび幅Sのトレンチ50について正確かつ均一な外形を完成させる。
【0037】
図2(a)は、明確化のために観念的に表した図である。図2(b)を参照すると、シリコンウェハ150のトレンチに対する第二のビームの作用方法が描写されている。ここでは、第一のレーザーによって作られるトレンチの粗さが描写されている。シリコンウェハ150の断面が、図2(b)において図式的に表現されている。532nmの10Wレーザーがシリコン基板の高速加工のために最初に使用される。要求されるトレンチ深さとトレンチ幅Sは、パラレル走査の数(n)と、所定のレーザーカーフ幅Kに対するその走査間の横方向オフセット(Ocenter)を適切に選択することによって実現される。nとOcenterの値は、所望の壁外形151に加工するために、基板材料を通る連続走査により変化する場合がある。その後、トレンチカット品質を改善し、高出力532nmレーザー光152による加工中に生じる欠損や損傷を減少させるために、トレンチ全体に低めの出力のUVレーザービームを走査させる。このマルチレーザーアプローチにより、単にUVレーザーを使用した場合に実現できる速度よりも速い速度で、シリコンウェハー基板に高品質のトレンチを加工することが可能となる。シリコンにおける30μmの深さのトレンチの通常の加工速度は、10W532nmレーザーでは、60mm/sよりも速い。仕上げの速度は、使用されるレーザーの出力と波長により異なり、これらの仕上げ段階を利用して、最終的なトレンチの仕上がりとテクスチャを制御することが可能である。
実施例3:30μmの石英または融解シリカのオーバーレイヤーを用いた700μmのシリコンウェハの加工
図3(a)を参照すると、受動及び能動光学部品で使用されるのと同様な、670ミクロンのシリコンレイヤー141及び30ミクロンの石英または融解シリカのオーバーレイヤー142を有する700ミクロンのウェハ140が図示されている。図3(b)において、532nmの9Wレーザー145が、ウェハーの下側から、シリコンレイヤーを高速加工するために使用される。続いて、低めの出力のUVレーザービーム146を使用して、ウェハーの上側から加工を行うことにより、石英または融解シリカレイヤー142を正確に除去する。この加工方法は、チャネルの生成に適し、ダイシングアプリケーションにも適する。
【0038】
図3(c)に示すように、石英または融解シリカレイヤーを超えてシリコン基板内へと切り込むよう、数回の横方向オフセットUVレーザー走査を行うことにより直線的なウォール切断が実現でき、これにより、シンギュレーションされたダイ148を得る。あるいは、UVレーザーによってウェハの上側面に加工されたトレンチSの幅を、ウェハの下側面から532nmレーザーによって加工されたトレンチ幅に応じて増加させることが可能である。このようにすると、より幅の狭いオーバーレイヤー147を有する階段機構を生成することができる。これは、図3(d)に示され、ここでは、二つの部品がこのようにしてダイスされている。直線的なウォールチャネルのための通常の加工速度は、10W532nmと1.5W266nmレーザーでは、1.3から2.0mm/sの範囲にあり、要求仕上がり品質により定まる。
【0039】
本発明は、上記の実施例に限定されず、構造および詳細において変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1(a)】トレンチを加工するための二つのレーザービームの使用を表した図。
【図1(b)】トレンチを加工するための二つのレーザービームの使用を表した図。
【図2(a)】一連の段階を通して、二つのビームをそれぞれ使用して加工された、深いトレンチを示す観念断面図。
【図2(b)】あらくカットされたトレンチに対し、高品質仕上げを完了させるためのUVレーザービームの使用を示す概略断面図。
【図3】ガラス誘電オーバーレイヤを用いた半導体ウェハの加工を表す連続図。

Claims (14)

  1. 加工作業を行うために少なくとも二つのレーザービームを材料に向けるステップを有する、材料の加工方法であって、
    前記レーザービームは、異なる光学特性を有する、
    ことを特徴とする方法。
  2. 請求項1記載の方法であって、
    前記ビームは、異なる波長を有し、
    最大波長を有するビームは、初めに、最高の材料除去率を得るために用いられ、
    それより短い波長を有するビームは、加工作業を完了するために引き続いて用いられる、
    ことを特徴とする方法。
  3. 請求項2記載の方法であって、
    前記最大波長を有するビームは、また、最大出力を有する、
    ことを特徴とする方法。
  4. 先行する、いずれかの請求項に記載の方法であって、
    前記最大波長を有するビームは、基本波または第二次高調波のレーザー周波数のパルスを有するパルス列を備え、
    これより短い波長を有するビームは、第三次、第四次または第五次高調波の周波数のパルスを有するパルス列を備える、
    ことを特徴とする方法。
  5. 先行する、いずれかの請求項に記載の方法であって、
    前記最大出力のビームは、
    基本波の周波数を近赤外線スペクトル域とし、第二次高調波の周波数を近赤外線可視域として、基本波または第二次高調波の波長で固体レーザーから生成され、
    これより短い波長のビームは、第三次、第四次または第五次の高調波の周波数の生成により、紫外線域のwavelenthで生成される、
    ことを特徴とする方法。
  6. 先行する、いずれかの請求項に記載の方法であって、
    前記ビームは、300ナノ秒よりも短いパルス幅を有する、
    ことを特徴とする方法。
  7. 先行する、いずれかの請求項に記載の方法であって、
    前記ビームは、各々、1kHzよりも大きいパルス繰返し周波数を有する、
    ことを特徴とする方法。
  8. 先行する、いずれかの請求項に記載の方法であって、
    ガルバノメーターおよび光学系が前記ビームを出力し、光学系は目標送出量とビームサイズを提供する、
    ことを特徴とする方法。
  9. 先行する、いずれかの請求項に記載の方法であって、
    前記材料は、半導体材料のウェハである、
    ことを特徴とする方法。
  10. 先行する、いずれかの請求項に記載の方法であって、
    前記材料は、半導体材料と誘電体とからなる複合材料である、
    ことを特徴とする方法。
  11. 請求項10記載の方法であって、
    前記最大波長のビームは、カットラインに沿って片側からバルク状半導体を除去するために用いられ、これより短い波長のビームは、カットラインに沿って反対側からより低量の誘電体を除去するために用いられることを特徴とする方法。
  12. 先行する、いずれかの請求項に記載の方法であって、
    前記材料は、半導体集積回路ダイであり、
    加工は、ダイのエッジ周辺で、ダイをウェハまたはダイ配列からシンギュレーションするために行われる、
    ことを特徴とする方法。
  13. 先行する、いずれかの請求項に記載の方法であって、
    機械視覚システムを用いて、切断前の材料の画像を撮像し、確認された基準にしたがってカットラインを決定するステップをさらに含む、
    ことを特徴とする方法。
  14. 材料を切断するための装置であって、
    当該装置は、
    レーザー光源手段と、
    レーザービームガイド手段と、
    加工作業を行うように前記光源手段及び前記ガイド手段を制御する手段を備えた制御装置と、
    を備え、
    前記レーザー光源手段は、異なる光学特性を有するレーザービームを各々が生成する複数のレーザー光源を備え、
    前記制御装置は、先行する、いずれかの請求項に記載の方法で加工作業を制御する手段を備える、
    ことを特徴とする装置。
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