JP2004311530A

JP2004311530A - Pattern forming method, device and its manufacturing method, method of manufacturing liquid crystal display device, method of manufacturing plasma display panel, method of manufacturing organic el device, method of manufacturing field emission display, electro-optical device, and electronic apparatus

Info

Publication number: JP2004311530A
Application number: JP2003099629A
Authority: JP
Inventors: Kazuaki Sakurada; 和昭桜田; Mitsuru Kuribayashi; 満栗林
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2003-04-02
Filing date: 2003-04-02
Publication date: 2004-11-04

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To form a thick pattern on a substrate by applying a larger amount of functional liquid than usual on the substrate exposed between the banks. <P>SOLUTION: The method of forming a pattern by applying functional liquid X on a substrate P comprises processes of forming banks B corresponding to a region where the pattern is formed on the substrate P, applying a larger volume of the functional liquid X than that formed by a region surrounded with the banks B on the substrate P exposed in a gap 34 between the banks B, and forming the pattern 33 by subjecting the applied functional liquid X to the prescribed processing. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、線パターン形成方法、デバイスとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子回路または集積回路などに使われる配線を有するデバイス製造には、例えばフォトリソグラフィ法が用いられている。このリソグラフィ法は、予め導電膜を形成した基板上にレジストと呼ばれる感光材を塗布し、回路パターンを照射して現像し、レジストパターンに応じて導電膜をエッチングすることで薄膜の配線パターン（パターン）を形成するものである。このリソグラフィ法は真空装置などの大掛かりな設備と複雑な工程を必要とし、また材料使用効率も数％程度でそのほとんどを廃棄せざるを得ず、製造コストが高い。
【０００３】
これに対して、液滴吐出ヘッドから液体材料である機能液を液滴状に吐出する液滴吐出法、いわゆるインクジェット法を用いて基板上に線パターンを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この方法では、金属微粒子等の導電性微粒子を分散させた機能液である配線パターン用インクを基板に直接パターンの形成領域に塗布し、その後熱処理やレーザー照射を行って薄膜の導電膜パターンに変換する。この方法によれば、フォトリソグラフィが不要となり、プロセスが大幅に簡単なものになるとともに、原材料の使用量も少なくてすむというメリットがある。
【０００４】
【特許文献１】
米国特許５１３２２４８号明細書
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、導電膜パターンは、通常、基板上に配線パターンの形成領域に応じて形成されたバンクの間に配線パターン用インクを塗布し、その配線パターン用インクに対し上述のように熱処理やレーザー照射を行うことによって形成される。ところが、バンクの間に露出した基板上に塗布した配線パターン用インクの量が少ないと、最終的に形成された導電膜パターンの厚みが薄くなり、導電膜パターンが断線しやすくなるという問題が生じる。
【０００６】
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、従来と比較し多量の機能液をバンク間に露出した基板上に塗布することによって厚いパターンを形成することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係るパターン形成方法は、機能液を基板上に塗布してパターンを形成する方法であって、上記基板上に上記パターンの形成領域に応じたバンクを形成する工程と、上記バンクの間に露出した上記基板上に上記バンクに囲まれた領域によって形成される容積よりも多い上記機能液を塗布する工程と、上記バンクの間に塗布した上記機能液に所定の処理を施すことによって上記パターンを形成する工程とを有することを特徴とする。
【０００８】
このような特徴を有する本発明に係るパターン形成方法では、バンク間に露出した基板上に、バンクに囲まれた領域によって形成される容積（以下バンク間容量と言う）よりも多い機能液が塗布される。このため、基板上に塗布した機能液に対して所定の処理（例えば、乾燥処理、熱処理やレーザー照射処理）を施すことによって、従来と比較して厚いパターンをバンク間に形成することが可能となる。
なお、バンク間に露出した基板上には、バンク間容量に対して１倍〜２０倍の量の機能液を塗布することが好ましい。
【０００９】
また、バンクの材料として予め撥液性を有していない材料を用いる場合には、上述した機能液を塗布する工程より前に、バンクの表面に撥液性を与える工程を有することが好ましい。
【００１０】
バンクの表面が撥液化されることによって、バンク間容量より多量の機能液をバンク間に露出した基板上に吐出した場合に、機能液はバンク表面からはじかれる。そのため、機能液はバンクの上面に溢れ出さず、全ての機能液を基板上に貯留することが可能となる。
【００１１】
また、上述した機能液を塗布する工程より前に、バンク間に露出した基板の表面に親液性を与える工程を有することが好ましい。
このように、バンク間に露出した基板の表面に親液性を与えると、基板上に吐出された機能液はバンク間の延在方向に濡れ拡がるため、機能液をバンク間の延在方向に対して均一な厚みで塗布することが可能となる。
【００１２】
また、上述した機能液を塗布する工程において、複数回に分けて機能液をバンク間に吐出することによって、バンク間に露出した基板上にバンク間容量よりも多量の機能液を塗布することが好ましい。
このように、機能液を複数回に分けてバンク間に吐出することによって、より安定してバンク間容量より多量の機能液を基板上に塗布することが可能となる。また、機能液を吐出する吐出ヘッドの機構的な制約によって１度にバンク間容量の機能液を吐出できない場合であっても、上記吐出ノズルから複数回機能液を吐出することによって、バンク間容量より多量の機能液を基板上に塗布することが可能となる。
【００１３】
なお、機能液に導電性微粒子が含まれている場合には、パターンを配線パターンとすることができ、各種デバイスの配線パターンに応用することが可能となる。また、導電性微粒子の他の例としては、レジスト、線状絶縁材料としてのアクリル樹脂、加熱してシリコンになるシラン化合物（例えば、トリシラン、ペンタシラン、シクロトリシラン、１，１′−ビスシクロブタシラン等）、金属錯体等が挙げられる。これらは液体中に微粒子として分散されていても良く、溶解されて存在してもよい。
【００１４】
一方、本発明に係るデバイス製造方法は、基板に形成されたパターンを備えるデバイスの製造方法であって、上記パターン形成方法によって上記基板に上記パターンを形成することを特徴とする。
本発明に係るパターン形成方法によれば、厚いパターンを形成することができるので、断線が防止されたパターンを有したデバイスを製造することが可能となる。
【００１５】
また、上記パターンがスイッチング素子に接続される配線を構成する場合には、スイッチング素子に接続される配線（ゲート線、ソース線、ドレイン線）の断線を防止することが可能となる。
【００１６】
そして、本発明に係る電気光学装置は、上記のデバイス製造方法を用いて製造されたデバイスを備えることを特徴としている。
また、本発明に係る電子機器は、上記の電気光学装置を備えることを特徴としている。
これによって、本発明では、パターンの断線が防止されることによって、より信頼性の向上した電気光学装置及び電子機器を得ることが可能となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明に係るパターン形成方法、デバイスとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器の一実施形態について説明する。なお、参照する各図において、図面上で認識可能な大きさとするために縮尺は各層や各部材ごとに異なる場合がある。
【００１８】
（第１実施形態）
本実施の形態では、液滴吐出法によって液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから導電性微粒子を含む配線パターン（パターン）用インク（機能液）を液滴状に吐出し、基板上に配線パターンに応じて形成されたバンクの間に導電性膜からなる配線パターンを形成する場合の例を用いて説明する。
【００１９】
この配線パターン用インクは、導電性微粒子を分散媒に分散させた分散液からなるものである。
本実施の形態では、導電性微粒子として、例えば、金、銀、銅、パラジウム、及びニッケルのうちのいずれかを含有する金属微粒子の他、これらの酸化物、並びに導電性ポリマーや超電導体の微粒子などが用いられる。
これらの導電性微粒子は、分散性を向上させるために表面に有機物などをコーティングして使うこともできる。
導電性微粒子の粒径は１ｎｍ以上０．１μｍ以下であることが好ましい。０．１μｍより大きいと、後述する液滴吐出ヘッドの吐出ノズルに目詰まりが生じるおそれがある。また、１ｎｍより小さいと、導電性微粒子に対するコーティング剤の体積比が大きくなり、得られる膜中の有機物の割合が過多となる。
【００２０】
分散媒としては、上記の導電性微粒子を分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水の他に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテル系化合物、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を例示できる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴吐出法（インクジェット法）への適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、より好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。
【００２１】
上記導電性微粒子の分散液の表面張力は０．０２Ｎ／ｍ以上０．０７Ｎ／ｍ以下の範囲内であることが好ましい。インクジェット法にて液体を吐出する際、表面張力が０．０２Ｎ／ｍ未満であると、インク組成物の吐出ノズル面に対する濡れ性が増大するため飛行曲りが生じやすくなり、０．０７Ｎ／ｍを超えると吐出ノズル先端でのメニスカスの形状が安定しないため吐出量や、吐出タイミングの制御が困難になる。表面張力を調整するため、上記分散液には、基板との接触角を大きく低下させない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調節剤を微量添加するとよい。ノニオン系表面張力調節剤は、液体の基板への濡れ性を向上させ、膜のレベリング性を改良し、膜の微細な凹凸の発生などの防止に役立つものである。上記表面張力調節剤は、必要に応じて、アルコール、エーテル、エステル、ケトン等の有機化合物を含んでもよい。
【００２２】
上記分散液の粘度は１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。インクジェット法を用いて液体材料を液滴として吐出する際、粘度が１ｍＰａ・ｓより小さい場合には吐出ノズル周辺部がインクの流出により汚染されやすく、また粘度が５０ｍＰａ・ｓより大きい場合は、吐出ノズル孔での目詰まり頻度が高くなり円滑な液滴の吐出が困難となる。
【００２３】
配線パターンが形成される基板としては、ガラス、石英ガラス、Ｓｉウエハ、プラスチックフィルム、金属板など各種のものを用いることができる。また、これら各種の素材基板の表面に半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜などが下地層として形成されたものも含む。
【００２４】
ここで、液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。帯電制御方式は、材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御して吐出ノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に３０ｋｇ／ｃｍ２程度の超高圧を印加して吐出ノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進して吐出ノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散して吐出ノズルから吐出されない。また、電気機械変換方式は、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。
【００２５】
また、電気熱変換方式は、材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル（泡）を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、吐出ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すものである。また、この他に、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術も適用可能である。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。なお、液滴吐出法により吐出される液状材料（流動体）の一滴の量は、例えば１〜３００ナノグラムである。
【００２６】
次に、本発明に係るデバイスを製造する際に用いられるデバイス製造装置について説明する。
このデバイス製造装置としては、液滴吐出ヘッドから基板に対して液滴を吐出（滴下）することによりデバイスを製造する液滴吐出装置（インクジェット装置）が用いられる。
【００２７】
図１は、液滴吐出装置ＩＪの概略構成を示す斜視図である。
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１と、Ｘ軸方向駆動軸４と、Ｙ軸方向ガイド軸５と、制御装置ＣＯＮＴと、ステージ７と、クリーニング機構８と、基台９と、ヒータ１５とを備えている。
ステージ７は、この液滴吐出装置ＩＪにより液体材料（配線パターン用インク）を塗布する基板Ｐを支持するものであって、基板Ｐを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
【００２８】
液滴吐出ヘッド１は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とＸ軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド１の下面に一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド１の吐出ノズルからは、ステージ７に支持されている基板Ｐに対して、上述した導電性微粒子を含む配線パターン用インクが吐出される。
【００２９】
Ｘ軸方向駆動軸４には、Ｘ軸方向駆動モータ２が接続されている。Ｘ軸方向駆動モータ２はステッピングモータ等であり、制御装置ＣＯＮＴからＸ軸方向の駆動信号が供給されると、Ｘ軸方向駆動軸４を回転させる。Ｘ軸方向駆動軸４が回転すると、液滴吐出ヘッド１はＸ軸方向に移動する。
Ｙ軸方向ガイド軸５は、基台９に対して動かないように固定されている。ステージ７は、Ｙ軸方向駆動モータ３を備えている。Ｙ軸方向駆動モータ３はステッピングモータ等であり、制御装置ＣＯＮＴからＹ軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ７をＹ軸方向に移動する。
【００３０】
制御装置ＣＯＮＴは、液滴吐出ヘッド１に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、Ｘ軸方向駆動モータ２に液滴吐出ヘッド１のＸ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Ｙ軸方向駆動モータ３にステージ７のＹ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
クリーニング機構８は、液滴吐出ヘッド１をクリーニングするものである。クリーニング機構８には、図示しないＹ軸方向の駆動モータが備えられている。このＹ軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構は、Ｙ軸方向ガイド軸５に沿って移動する。クリーニング機構８の移動も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
ヒータ１５は、ここではランプアニールにより基板Ｐを熱処理する手段であり、基板Ｐ上に塗布した液体材料に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒータ１５の電源の投入及び遮断も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００３１】
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１と基板Ｐを支持するステージ７とを相対的に走査しつつ基板Ｐに対して、液滴吐出ヘッド１の下面にＸ軸方向に配列された複数の吐出ノズルから液滴を吐出する。
【００３２】
図２は、ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図である。
図２において、液体材料（配線パターン用インク、機能液）を収容する液体室２１に隣接してピエゾ素子２２が設置されている。液体室２１には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系２３を介して液体材料が供給される。ピエゾ素子２２は駆動回路２４に接続されており、この駆動回路２４を介してピエゾ素子２２に電圧を印加し、ピエゾ素子２２を変形させることにより、液体室２１が変形し、吐出ノズル２５から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子２２の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子２２の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
【００３３】
次に、本発明の薄膜パターン形成方法の実施形態の一例として、基板上に導電膜配線を形成する方法について図３及び図４を参照して説明する。本実施形態に係るパターン形成方法は、上述した配線パターン用のインクを基板上に配置し、その基板上に配線用の導電膜パターンを形成するものであり、ＨＭＤＳ膜形成工程、バンク形成工程、ＨＭＤＳ膜パターニング工程、残渣処理工程（親液化処理工程）、撥液化処理工程、材料配置工程、中間乾燥工程及び熱処理／光処理工程から概略構成される。
以下、各工程毎に詳細に説明する。
【００３４】
（ＨＭＤＳ形成工程）
ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）膜は、基板とバンクとの密着性を向上させるものであり、例えばＨＭＤＳを蒸気状にして対象物に対して塗布する方法（ＨＭＤＳ処理）によって形成される。これによって、図３（ａ）に示すように、基板Ｐ上にＨＭＤＳ膜３２が形成される。
【００３５】
（バンク形成工程）
バンクは、仕切部材として機能する部材であり、バンクの形成はリソグラフィ法や印刷法等、任意の方法で行うことができる。例えば、リソグラフィ法を使用する場合は、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコート等所定の方法で、図３（ｂ）に示すように、基板Ｐ上にバンクの高さに合わせて有機系感光性材料３１を塗布し、その上にレジスト層を塗布する。そして、バンク形状（配線パターンの形成領域）に合わせてマスクを施しレジストを露光・現像することによりバンク形状に合わせたレジストを残す。最後にエッチングしてマスク以外の部分のバンク材料を除去する。また、下層が無機物（例えば、ＳｉＯ_２）で上層が有機物（例えば、ポリイミド）で構成された２層以上でバンク（凸部）を形成してもよい。
これによって、図３（ｃ）に示されるように、配線パターンを形成すべき領域（例えば１０μｍ幅）の周辺を囲むようにバンクＢ、Ｂが形成され、上述のバンク間３４が形成される。
【００３６】
バンクＢを形成する有機材料としては、液体材料に対して撥液性を示す材料でも良いし、後述するように、プラズマ処理による撥液化（テフロン（登録商標）化）が可能で下地基板との密着性が良くフォトリソグラフィによるパターニングがし易い絶縁有機材料でも良い。例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、オレフィン樹脂、メラミン樹脂等の高分子材料を用いることが可能である。
【００３７】
（ＨＭＤＳ膜パターニング工程）
基板Ｐ上にバンクＢが形成されると、続いてバンク間３４のＨＭＤＳ膜３２（バンクＢ、Ｂ間の底部）をエッチングすることによって図３（ｄ）に示すようにＨＭＤＳ膜３２をパターニングする。具体的には、バンクＢが形成された基板Ｐに対してバンクＢをマスクとして、例えば２．５％フッ酸水溶液でエッチングを施すことでＨＭＤＳ膜をエッチングする。これによって基板ＰがバンクＢ、Ｂ間の底部に露出される。
【００３８】
（残渣処理工程（親液化処理工程））
次に、バンク間３４におけるバンク形成時のレジスト（有機物）残渣を除去するために、基板Ｐに対して残渣処理を施す。
残渣処理としては、紫外線を照射することにより残渣処理を行う紫外線（ＵＶ）照射処理や大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするＯ_２プラズマ処理等を選択できるが、ここではＯ_２プラズマ処理を実施する。
【００３９】
具体的には、基板Ｐに対しプラズマ放電電極からプラズマ状態の酸素を照射することで行う。Ｏ_２プラズマ処理の条件としては、例えばプラズマパワーが５０〜１０００Ｗ、酸素ガス流量が５０〜１００ｍｌ／ｍｉｎ、プラズマ放電電極に対する基板Ｐの板搬送速度が０．５〜１０ｍｍ／ｓｅｃ、基板温度が７０〜９０℃とされる。
なお、基板Ｐがガラス基板の場合、その表面は配線パターン形成材料に対して親液性を有しているが、本実施の形態のように残渣処理のためにＯ_２プラズマ処理や紫外線照射処理を施すことで、バンク間３４の底部に露出した基板Ｐの親液性を高めることができる。
【００４０】
（撥液化処理工程）
続いて、バンクＢに対し撥液化処理を行い、その表面に撥液性を付与する。撥液化処理としては、例えば大気雰囲気中でテトラフルオロメタンを処理ガスとするプラズマ処理法（ＣＦ_４プラズマ処理法）を採用することができる。ＣＦ_４プラズマ処理の条件は、例えばプラズマパワーが５０〜１０００ｋＷ、４フッ化メタンガス流量が５０〜１００ｍｌ／ｍｉｎ、プラズマ放電電極に対する基体搬送速度が０．５〜１０２０ｍｍ／ｓｅｃ、基体温度が７０〜９０℃とされる。
なお、処理ガスとしては、テトラフルオロメタン（四フッ化炭素）に限らず、他のフルオロカーボン系のガスを用いることもできる。
【００４１】
このような撥液化処理を行うことにより、バンクＢにはこれを構成する樹脂中にフッ素基が導入され、基板Ｐに対して高い撥液性が付与される。なお、上述した親液化処理としてのＯ_２プラズマ処理は、バンクＢの形成前に行っても良いが、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等は、Ｏ_２プラズマによる前処理がなされた方がよりフッ素化（撥液化）されやすいという性質があるため、バンクＢを形成した後にＯ_２プラズマ処理することが好ましい。
なお、バンクＢに対する撥液化処理により、先に親液化処理した基板Ｐ表面に対し多少は影響があるものの、特に基板Ｐがガラス等からなる場合には、撥液化処理によるフッ素基の導入が起こらないため、基板Ｐはその親液性、すなわち濡れ性が実質上損なわれることはない。
また、バンクＢについては、撥液性を有する材料（例えばフッ素基を有する樹脂材料）によって形成することにより、その撥液処理を省略するようにしても良い。
【００４２】
（材料配置工程）
次に、上述の液滴吐出装置ＩＪを用いて、配線パターン用インク（機能液）をバンク間３４に露出した基板Ｐ上に吐出して塗布する。なお、ここでは、導電性微粒子として銀を用い、溶媒（分散媒）としてジエチレングリコールジエチルエーテルを用いたインク（分散液）を吐出する。なお、液滴吐出の条件としては、例えば、インク重量４ｎｇ／ｄｏｔ、インク速度（吐出速度）５〜７ｍ／ｓｅｃで行うことできる。また、液滴を吐出する雰囲気は、温度６０℃以下、湿度８０％以下に設定されていることが好ましい。これにより、液滴吐出ヘッド１の吐出ノズルが目詰まりすることなく安定した液滴吐出を行うことができる。
【００４３】
この材料配置工程では、図４（ｅ）に示すように、液滴吐出ヘッド１から配線パターン用インクＸを液滴にして吐出し、その液滴をバンク間３４に露出した基板Ｐ上に塗布する。
このとき、バンク間３４に露出した基板ＰはバンクＢに囲まれているので、配線パターン用インクＸが所定位置以外に拡がることを阻止できる。また、バンクＢの表面は撥液性が付与されているため、吐出された配線パターン用インクＸの一部がバンクＢ上にのっても、バンクＢ表面が撥液性となっていることによりバンクＢからはじかれ、バンク間３４に流れ落ちるようになる。さらに、バンク間３４に露出した基板Ｐは親液性を付与されているため、吐出された配線パターン用インクＸがバンク間３４に露出した基板Ｐ上において拡がり易くなる。これによって図４（ｆ）に示すように配線パターン用インクＸをバンク間３４の延在方向において均一にすることができる。
【００４４】
そして、上記液滴吐出ヘッド１から複数回に亘って配線パターン用インクＸをバンク間３４に向けて吐出することによって、図４（ｇ）に示すように、バンクＢに囲まれた領域によって形成される容積よりも多い、好ましくは１倍〜２０倍（本実施形態においては約３倍）の量の配線パターン用インクＸをバンク間３４に露出した基板Ｐ上に塗布する。
なお、配線パターン用インクＸをバンク間３４に向けて複数回に亘って吐出する方法としては、バンク間３４の同一箇所に一度に複数回配線パターン用インクＸを吐出することによって液滴吐出ヘッド１をバンク間３４の延在方向に掃引を１度だけ行う方法を採用しても良いし、液滴吐出ヘッド１をバンク間３４の延在方向に複数回掃引させることによってバンク間３４の同一箇所に１度の掃引毎に配線パターン用インクＸを吐出する方法を採用しても良い。
また、上述の撥液化処理工程によってバンクＢの表面が撥液化されているので、バンク間容量より多量の配線パターン用インクＸは、バンクＢ表面からはじかれる。そのため、配線パターン用インクＸはバンクＢの上面に溢れ出さず、全ての配線パターン用インクＸをバンク間３４に露出した基板Ｐ上に貯留することが可能となる。
【００４５】
（中間乾燥工程）
基板Ｐに所定量の配線パターン用インクＸを吐出した後、分散媒の除去のため、必要に応じて乾燥処理をする。乾燥処理は、例えば基板Ｐを加熱する通常のホットプレート、電気炉などによる処理の他、ランプアニールによって行うこともできる。ランプアニールに使用する光の光源としては、特に限定されないが、赤外線ランプ、キセノンランプ、ＹＡＧレーザー、アルゴンレーザー、炭酸ガスレーザー、ＸｅＦ、ＸｅＣｌ、ＸｅＢｒ、ＫｒＦ、ＫｒＣｌ、ＡｒＦ、ＡｒＣｌなどのエキシマレーザーなどを光源として使用することができる。これらの光源は一般には、出力１０Ｗ以上５０００Ｗ以下の範囲のものが用いられるが、本実施形態では１００Ｗ以上１０００Ｗ以下の範囲で十分である。
そして、この中間乾燥工程によって、図４（ｈ）に示すように、膜厚の厚い配線パターン（線パターン）３３が形成される。
【００４６】
（熱処理／光処理工程）
吐出工程後の乾燥膜は、微粒子間の電気的接触をよくするために、分散媒を完全に除去する必要がある。また、導電性微粒子の表面に分散性を向上させるために有機物などのコーティング材がコーティングされている場合には、このコーティング材も除去する必要がある。そのため、吐出工程後の基板Ｐには熱処理及び／又は光処理が施される。
【００４７】
熱処理及び／又は光処理は通常大気中で行なわれるが、必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中で行うこともできる。熱処理及び／又は光処理の処理温度は、分散媒の沸点（蒸気圧）、雰囲気ガスの種類や圧力、微粒子の分散性や酸化性等の熱的挙動、コーティング材の有無や量、基材の耐熱温度などを考慮して適宜決定される。
例えば、有機物からなるコーティング材を除去するためには、約３００℃で焼成することが必要である。また、プラスチックなどの基板を使用する場合には、室温以上１００℃以下で行うことが好ましい。
以上の工程により配線パターン３３は微粒子間の電気的接触が確保されて導電性膜に変換され、バンク間３４に厚い配線が形成される。
【００４８】
以上説明したように、本実施形態では、バンク間３４に露出した基板Ｐ上にバンク間容量より多量の配線パターン用インクＸを塗布するので、従来と比較して厚い配線をバンク間３４に形成することが可能となる。
【００４９】
（第２実施形態）
第２実施形態として、本発明の電気光学装置の一例である液晶表示装置について説明する。図５は、本発明に係る液晶表示装置について、各構成要素とともに示す対向基板側から見た平面図であり、図６は図５のＨ−Ｈ’線に沿う断面図である。図７は、液晶表示装置の画像表示領域においてマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図で、図８は、液晶表示装置の部分拡大断面図である。
【００５０】
図５及び図６において、本実施の形態の液晶表示装置（電気光学装置）１００は、対をなすＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが光硬化性の封止材であるシール材５２によって貼り合わされ、このシール材５２によって区画された領域内に液晶５０が封入、保持されている。シール材５２は、基板面内の領域において閉ざされた枠状に形成されている。
【００５１】
シール材５２の形成領域の内側の領域には、遮光性材料からなる周辺見切り５３が形成されている。シール材５２の外側の領域には、データ線駆動回路２０１及び実装端子２０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路２０４が形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺には、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路２０４の間を接続するための複数の配線２０５が設けられている。また、対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所においては、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的導通をとるための基板間導通材２０６が配設されている。
【００５２】
なお、データ線駆動回路２０１及び走査線駆動回路２０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に形成する代わりに、例えば、駆動用ＬＳＩが実装されたＴＡＢ（ＴａｐｅＡｕｔｏｍａｔｅｄＢｏｎｄｉｎｇ）基板とＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に形成された端子群とを異方性導電膜を介して電気的及び機械的に接続するようにしてもよい。なお、液晶表示装置１００においては、使用する液晶５０の種類、すなわち、ＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）モード、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）モード等の動作モードや、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、位相差板、偏光板等が所定の向きに配置されるが、ここでは図示を省略する。また、液晶表示装置１００をカラー表示用として構成する場合には、対向基板２０において、ＴＦＴアレイ基板１０の後述する各画素電極に対向する領域に、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタをその保護膜とともに形成する。
【００５３】
このような構造を有する液晶表示装置１００の画像表示領域においては、図７に示すように、複数の画素１００ａがマトリクス状に構成されているとともに、これらの画素１００ａの各々には、画素スイッチング用のＴＦＴ（スイッチング素子）３０が形成されており、画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを供給するデータ線６ａがＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次で供給してもよく、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。また、ＴＦＴ３０のゲートには走査線３ａが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍをこの順に線順次で印加するように構成されている。
【００５４】
画素電極１９はＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけオン状態とすることにより、データ線６ａから供給される画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを各画素に所定のタイミングで書き込む。このようにして画素電極１９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、図６に示す対向基板２０の対向電極１２１との間で一定期間保持される。なお、保持された画素信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎがリークするのを防ぐために、画素電極１９と対向電極１２１との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量６０が付加されている。例えば、画素電極１９の電圧は、ソース電圧が印加された時間よりも３桁も長い時間だけ蓄積容量６０により保持される。これにより、電荷の保持特性は改善され、コントラスト比の高い液晶表示装置１００を実現することができる。
【００５５】
図８はボトムゲート型ＴＦＴ３０を有する液晶表示装置１００の部分拡大断面図であって、ＴＦＴアレイ基板１０を構成するガラス基板Ｐには、上記実施形態のパターン形成方法によって形成されたゲート配線６１が形成されている。なお、本実施形態では、ゲート配線６１を形成する際に、後述するアモルファスシリコン層を形成するプロセスで約３５０℃まで加熱されるため、その温度に耐えられる材料として無機質のバンク材を用いている。
【００５６】
ゲート配線６１上には、ＳｉＮｘからなるゲート絶縁膜６２を介してアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）層からなる半導体層６３が積層されている。このゲート配線部分に対向する半導体層６３の部分がチャネル領域とされている。半導体層６３上には、オーミック接合を得るための例えばｎ＋型ａ−Ｓｉ層からなる接合層６４ａ及び６４ｂが積層されており、チャネル領域の中央部における半導体層６３上には、チャネルを保護するためのＳｉＮｘからなる絶縁性のエッチストップ膜６５が形成されている。なお、これらゲート絶縁膜６２、半導体層６３、及びエッチストップ膜６５は、蒸着（ＣＶＤ）後にレジスト塗布、感光・現像、フォトエッチングを施されることで、図示されるようにパターニングされる。
【００５７】
さらに、接合層６４ａ、６４ｂ及びＩＴＯからなる画素電極１９も同様に成膜するとともに、フォトエッチングを施されることで、図示するようにパターニングされる。そして、画素電極１９、ゲート絶縁膜６２及びエッチストップ膜６５上にそれぞれバンク６６…を形成し、これらバンク６６…間に上述した液滴吐出装置ＩＪを用いて、銀化合物の液滴を吐出することでソース線、ドレイン線を形成することができる。なお、これらのソース線及びドレイン線も本発明に係るパターン形成方法によって形成することが可能である。
【００５８】
したがって、本実施形態では、ゲート線６１、ソース線及びドレイン線を厚く形成することができ、ゲート線６１、ソース線及びドレイン線の断線を防止した液晶表示装置１００を得ることができる。
【００５９】
（第３実施形態）
上記実施の形態では、ＴＦＴ３０を液晶表示装置１００の駆動のためのスイッチング素子として用いる構成としたが、液晶表示装置以外にも例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示デバイスに応用が可能である。有機ＥＬ表示デバイスは、蛍光性の無機および有機化合物を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有し、上記薄膜に電子および正孔（ホール）を注入して再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、このエキシトンが失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用して発光させる素子である。そして、上記のＴＦＴ３０を有する基板上に、有機ＥＬ表示素子に用いられる蛍光性材料のうち、赤、緑および青色の各発光色を呈する材料すなわち発光層形成材料及び正孔注入／電子輸送層を形成する材料をインクとし、各々をパターニングすることで、自発光フルカラーＥＬデバイスを製造することができる。
本発明におけるデバイス（電気光学装置）の範囲にはこのような有機ＥＬデバイスをも含むものである。
【００６０】
（第４実施形態）
第４実施形態として、非接触型カード媒体の実施形態について説明する。図９に示すように、本実施形態に係る非接触型カード媒体（電子機器）４００は、カード基体４０２とカードカバー４１８から成る筐体内に、半導体集積回路チップ４０８とアンテナ回路４１２を内蔵し、図示されない外部の送受信機と電磁波または静電容量結合の少なくとも一方により電力供給あるいはデータ授受の少なくとも一方を行うようになっている。
【００６１】
本実施形態では、上記アンテナ回路４１２が、上記実施形態に係る線パターン形成方法によって形成されている。
したがって、断線が防止されたアンテナ回路４１２を備えた非接触型カード媒体を製造することができる。
なお、本発明に係るデバイス（電気光学装置）としては、上記の他に、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）や、基板上に形成された小面積の薄膜に膜面に平行に電流を流すことにより、電子放出が生ずる現象を利用する表面伝導型電子放出素子を備えるＦＥＤ（フィールドエミッションデバイス）等にも適用可能である。
【００６２】
（第５実施形態）
第５実施形態として、本発明の電子機器の具体例について説明する。
図１０（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１０（ａ）において、６００は携帯電話本体を示し、６０１は上記実施形態の液晶表示装置を備えた液晶表示部を示している。
図１０（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１０（ｂ）において、７００は情報処理装置、７０１はキーボードなどの入力部、７０３は情報処理本体、７０２は上記実施形態の液晶表示装置を備えた液晶表示部を示している。
図１０（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１０（ｃ）において、８００は時計本体を示し、８０１は上記実施形態の液晶表示装置を備えた液晶表示部を示している。
図１０（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、上記実施形態の液晶表示装置を備えたものであるので、断線が防止されることによって信頼性が向上した電子機器を提供することが可能となる。
なお、本実施形態の電子機器は液晶装置を備えるものとしたが、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ型表示装置等、他の電気光学装置を備えた電子機器とすることもできる。
【００６３】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】液滴吐出装置の概略斜視図である。
【図２】ピエゾ方式による液状体の吐出原理を説明するための図である。
【図３】配線パターン形成する手順を示す図である。
【図４】配線パターン形成する手順を示す図である。
【図５】液晶表示装置を対向基板の側から見た平面図である。
【図６】図５のＨ−Ｈ’線に沿う断面図である。
【図７】液晶表示装置の等価回路図である。
【図８】同、液晶表示装置の部分拡大断面図である。
【図９】非接触型カード媒体の分解斜視図である。
【図１０】本発明の電子機器の具体例を示す図である。
【符号の説明】
Ｂ……バンク、Ｐ……基板、Ｘ……配線パターン用インク（機能液）、３０……ＴＦＴ（スイッチング素子）、３３……配線パターン（パターン）、３４……バンク間、１００……液晶表示装置（電気光学装置）、４００……非接触型カード媒体（電子機器）、６００……携帯電話本体（電子機器）、７００……情報処理装置（電子機器）、８００……時計本体（電子機器）[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a line pattern forming method, a device and a method for manufacturing the same, an electro-optical device, and an electronic apparatus.
[0002]
[Prior art]
For example, a photolithography method is used for manufacturing a device having a wiring used for an electronic circuit or an integrated circuit. In this lithography method, a photosensitive material called a resist is applied on a substrate on which a conductive film has been formed in advance, a circuit pattern is irradiated and developed, and the conductive film is etched according to the resist pattern to form a thin film wiring pattern (pattern). ). This lithography method requires large-scale equipment such as a vacuum apparatus and complicated steps, has a material use efficiency of about several percent, and has to dispose most of the material, resulting in high manufacturing costs.
[0003]
On the other hand, there has been proposed a method of forming a line pattern on a substrate using a droplet discharge method of discharging a functional liquid, which is a liquid material, in a droplet form from a droplet discharge head, that is, a so-called inkjet method (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-157556). And Patent Document 1). According to this method, a wiring pattern ink, which is a functional liquid in which conductive fine particles such as metal fine particles are dispersed, is applied directly to a pattern formation region on a substrate, and then subjected to heat treatment or laser irradiation to convert the film into a thin conductive film pattern. I do. According to this method, there is an advantage that photolithography is not required, the process is greatly simplified, and the amount of raw materials used can be reduced.
[0004]
[Patent Document 1]
US Pat. No. 5,132,248
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, the conductive film pattern is usually formed by applying a wiring pattern ink between banks formed on a substrate in accordance with a wiring pattern forming region, and subjecting the wiring pattern ink to heat treatment or laser irradiation as described above. Is formed. However, when the amount of the ink for the wiring pattern applied on the substrate exposed between the banks is small, the thickness of the finally formed conductive film pattern becomes thin, and there is a problem that the conductive film pattern is easily broken. .
[0006]
The present invention has been made in view of the above-described problems, and has as its object to form a thick pattern by applying a larger amount of functional liquid on a substrate exposed between banks than in the related art.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a pattern forming method according to the present invention is a method of forming a pattern by applying a functional liquid on a substrate, and forming a bank on the substrate in accordance with the pattern formation region. And applying the functional liquid on the substrate exposed between the banks, the functional liquid being larger than the volume formed by the region surrounded by the banks; and applying the functional liquid applied between the banks to the functional liquid. Forming the pattern by performing a predetermined process.
[0008]
In the pattern forming method according to the present invention having such features, a larger amount of the functional liquid is applied to the substrate exposed between the banks than the volume formed by the region surrounded by the banks (hereinafter referred to as the inter-bank capacity). Is done. Therefore, by performing a predetermined process (for example, a drying process, a heat treatment, or a laser irradiation process) on the functional liquid applied on the substrate, it is possible to form a thicker pattern between banks as compared with the related art. Become.
In addition, it is preferable to apply 1 to 20 times the amount of the functional liquid to the inter-bank capacity on the substrate exposed between the banks.
[0009]
When a material that does not have liquid repellency is used as a material of the bank, it is preferable to include a step of giving liquid repellency to the surface of the bank before the step of applying the functional liquid described above.
[0010]
When the surface of the bank is made lyophobic and a larger amount of functional liquid than the interbank capacity is discharged onto the substrate exposed between the banks, the functional liquid is repelled from the bank surface. Therefore, the functional liquid does not overflow to the upper surface of the bank, and all the functional liquids can be stored on the substrate.
[0011]
It is preferable that the method further includes a step of giving lyophilic property to the surface of the substrate exposed between the banks before the step of applying the functional liquid.
When lyophilicity is given to the surface of the substrate exposed between the banks as described above, the functional liquid discharged onto the substrate spreads in the extending direction between the banks. On the other hand, it is possible to apply with a uniform thickness.
[0012]
In the above-described step of applying the functional liquid, the functional liquid is discharged between the banks in a plurality of times, so that a larger amount of the functional liquid than the interbank capacity can be applied to the substrate exposed between the banks. preferable.
In this manner, by discharging the functional liquid between the banks in a plurality of times, it becomes possible to more stably apply a larger amount of the functional liquid than the interbank capacity to the substrate. Even when the functional liquid of the inter-bank capacity cannot be ejected at a time due to the mechanical restriction of the ejection head that ejects the functional liquid, the inter-bank capacity can be ejected from the ejection nozzle a plurality of times. A larger amount of the functional liquid can be applied on the substrate.
[0013]
When the functional liquid contains conductive fine particles, the pattern can be used as a wiring pattern, which can be applied to wiring patterns of various devices. Other examples of the conductive fine particles include a resist, an acrylic resin as a linear insulating material, and a silane compound that becomes silicon when heated (for example, trisilane, pentasilane, cyclotrisilane, 1,1′-biscyclobutaline). Silane, etc.), metal complexes and the like. These may be dispersed as fine particles in the liquid, or may be dissolved and present.
[0014]
On the other hand, a device manufacturing method according to the present invention is a method for manufacturing a device having a pattern formed on a substrate, wherein the pattern is formed on the substrate by the pattern forming method.
According to the pattern forming method of the present invention, a thick pattern can be formed, so that a device having a pattern in which disconnection is prevented can be manufactured.
[0015]
Further, when the pattern constitutes a wiring connected to the switching element, disconnection of the wiring (gate line, source line, drain line) connected to the switching element can be prevented.
[0016]
An electro-optical device according to the present invention includes a device manufactured using the above-described device manufacturing method.
According to another aspect of the invention, an electronic apparatus includes the above-described electro-optical device.
As a result, in the present invention, it is possible to obtain an electro-optical device and an electronic device with improved reliability by preventing disconnection of the pattern.
[0017]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of a pattern forming method, a device, a method of manufacturing the same, an electro-optical device, and an electronic apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. In each of the drawings referred to, the scale may be different for each layer or each member in order to make the size recognizable in the drawings.
[0018]
(1st Embodiment)
In this embodiment mode, ink (functional liquid) for a wiring pattern (pattern) containing conductive fine particles is discharged in a droplet form from a discharge nozzle of a droplet discharge head by a droplet discharge method, and is formed on a substrate according to the wiring pattern. This will be described using an example in which a wiring pattern made of a conductive film is formed between banks formed by the above method.
[0019]
This wiring pattern ink is composed of a dispersion in which conductive fine particles are dispersed in a dispersion medium.
In the present embodiment, as the conductive fine particles, for example, other than metal fine particles containing any of gold, silver, copper, palladium, and nickel, oxides thereof, and fine particles of a conductive polymer or a superconductor Are used.
These conductive fine particles can be used by coating the surface with an organic substance or the like in order to improve dispersibility.
The particle size of the conductive fine particles is preferably 1 nm or more and 0.1 μm or less. If it is larger than 0.1 μm, clogging may occur in a discharge nozzle of a droplet discharge head described later. On the other hand, if it is smaller than 1 nm, the volume ratio of the coating agent to the conductive fine particles becomes large, and the ratio of the organic substance in the obtained film becomes excessive.
[0020]
The dispersion medium is not particularly limited as long as it can disperse the above-described conductive fine particles and does not cause aggregation. For example, in addition to water, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, n-heptane, n-octane, decane, dodecane, tetradecane, toluene, xylene, cymene, durene, indene, dipentene, tetrahydronaphthalene, decahydro Hydrocarbon compounds such as naphthalene and cyclohexylbenzene, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, bis (2- Methoxyethyl) ether, ether compounds such as p-dioxane, propylene carbonate, γ- Butyrolactone, N- methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, can be exemplified polar compounds such as cyclohexanone. Of these, water, alcohols, hydrocarbon compounds, and ether compounds are preferred in terms of the dispersibility of the fine particles and the stability of the dispersion, and the ease of application to the droplet discharge method (inkjet method). More preferred dispersion media include water and hydrocarbon compounds.
[0021]
The surface tension of the dispersion liquid of the conductive fine particles is preferably in the range of 0.02 N / m to 0.07 N / m. When the surface tension is less than 0.02 N / m when the liquid is ejected by the ink jet method, the wettability of the ink composition with respect to the ejection nozzle surface increases, so that flight bending is likely to occur. If it exceeds, the shape of the meniscus at the tip of the discharge nozzle becomes unstable, so that it becomes difficult to control the discharge amount and discharge timing. In order to adjust the surface tension, a small amount of a surface tension regulator such as a fluorine-based, silicone-based, or nonionic-based surfactant may be added to the above-mentioned dispersion liquid within a range that does not significantly reduce the contact angle with the substrate. The nonionic surface tension modifier improves the wettability of the liquid to the substrate, improves the leveling property of the film, and helps prevent the occurrence of fine irregularities on the film. The surface tension adjuster may contain an organic compound such as alcohol, ether, ester, and ketone, if necessary.
[0022]
The dispersion preferably has a viscosity of 1 mPa · s or more and 50 mPa · s or less. When the liquid material is ejected as droplets using the ink jet method, if the viscosity is smaller than 1 mPa · s, the periphery of the ejection nozzle is easily contaminated by the outflow of ink. If the viscosity is larger than 50 mPa · s, the ejection is performed. The frequency of clogging in the nozzle holes increases, making it difficult to discharge droplets smoothly.
[0023]
Various substrates such as glass, quartz glass, Si wafer, plastic film, and metal plate can be used as the substrate on which the wiring pattern is formed. In addition, a substrate in which a semiconductor film, a metal film, a dielectric film, an organic film, or the like is formed as a base layer on the surface of these various material substrates is also included.
[0024]
Here, as a discharge technique of the droplet discharge method, there are a charge control method, a pressure vibration method, an electromechanical conversion method, an electrothermal conversion method, an electrostatic suction method, and the like. In the charging control method, a charge is applied to a material by a charging electrode, and the material is ejected from an ejection nozzle by controlling the flight direction of the material with a deflection electrode. The pressurized vibration method is to apply a super-high pressure of about 30 kg / cm2 to the material to discharge the material toward the tip of the discharge nozzle. When no control voltage is applied, the material moves straight and moves from the discharge nozzle. When the material is ejected and a control voltage is applied, electrostatic repulsion occurs between the materials, and the material scatters and is not ejected from the ejection nozzle. The electromechanical conversion method utilizes the property that a piezo element (piezoelectric element) is deformed by receiving a pulse-like electric signal, and the piezo element is deformed into a space in which a material is stored through a flexible substance. Pressure is applied to push out the material from this space and discharge it from the discharge nozzle.
[0025]
In the electrothermal conversion method, a material is rapidly vaporized by a heater provided in a space in which the material is stored to generate bubbles (bubbles), and the material in the space is discharged by the pressure of the bubbles. In the electrostatic suction method, a minute pressure is applied to a space in which a material is stored, a meniscus of the material is formed in a discharge nozzle, and in this state, the material is pulled out by applying an electrostatic attraction. In addition, other techniques such as a method using a change in viscosity of a fluid due to an electric field and a method using a discharge spark are also applicable. The droplet discharge method has an advantage that a useless amount of material is reduced and a desired amount of material can be accurately arranged at a desired position. The amount of one droplet of the liquid material (fluid) discharged by the droplet discharge method is, for example, 1 to 300 nanograms.
[0026]
Next, a device manufacturing apparatus used when manufacturing the device according to the present invention will be described.
As the device manufacturing apparatus, a droplet discharge apparatus (inkjet apparatus) that manufactures a device by discharging (dropping) droplets from a droplet discharge head to a substrate is used.
[0027]
FIG. 1 is a perspective view illustrating a schematic configuration of the droplet discharge device IJ.
The droplet discharge device IJ includes a droplet discharge head 1, an X-axis drive shaft 4, a Y-axis guide shaft 5, a control unit CONT, a stage 7, a cleaning mechanism 8, a base 9, a heater 15 is provided.
The stage 7 supports a substrate P to which a liquid material (ink for wiring pattern) is applied by the droplet discharge device IJ, and includes a fixing mechanism (not shown) for fixing the substrate P at a reference position.
[0028]
The droplet discharge head 1 is a multi-nozzle type droplet discharge head having a plurality of discharge nozzles, and the longitudinal direction and the X-axis direction are matched. The plurality of discharge nozzles are provided at regular intervals on the lower surface of the droplet discharge head 1. From the discharge nozzle of the droplet discharge head 1, the wiring pattern ink containing the conductive fine particles described above is discharged onto the substrate P supported on the stage 7.
[0029]
The X-axis direction drive motor 4 is connected to the X-axis direction drive shaft 4. The X-axis direction drive motor 2 is a stepping motor or the like, and rotates the X-axis direction drive shaft 4 when a drive signal in the X-axis direction is supplied from the control device CONT. When the X-axis direction drive shaft 4 rotates, the droplet discharge head 1 moves in the X-axis direction.
The Y-axis direction guide shaft 5 is fixed so as not to move with respect to the base 9. The stage 7 has a Y-axis direction drive motor 3. The Y-axis direction drive motor 3 is a stepping motor or the like, and moves the stage 7 in the Y-axis direction when a drive signal in the Y-axis direction is supplied from the control device CONT.
[0030]
The control device CONT supplies the droplet discharge head 1 with a voltage for controlling the droplet discharge. A drive pulse signal for controlling the movement of the droplet discharge head 1 in the X-axis direction is sent to the X-axis direction drive motor 2, and a drive pulse signal for controlling the movement of the stage 7 in the Y-axis direction is sent to the Y-axis direction drive motor 3. Supply.
The cleaning mechanism 8 is for cleaning the droplet discharge head 1. The cleaning mechanism 8 includes a drive motor (not shown) in the Y-axis direction. The driving of the drive motor in the Y-axis direction causes the cleaning mechanism to move along the Y-axis direction guide shaft 5. The movement of the cleaning mechanism 8 is also controlled by the controller CONT.
Here, the heater 15 is means for heat-treating the substrate P by lamp annealing, and performs evaporation and drying of a solvent contained in the liquid material applied on the substrate P. The turning on and off of the power of the heater 15 is also controlled by the controller CONT.
[0031]
The droplet discharge device IJ is arranged on the lower surface of the droplet discharge head 1 in the X-axis direction with respect to the substrate P while relatively scanning the droplet discharge head 1 and the stage 7 supporting the substrate P. Droplets are ejected from the ejection nozzles.
[0032]
FIG. 2 is a diagram for explaining the principle of discharging the liquid material by the piezo method.
In FIG. 2, a piezo element 22 is provided adjacent to a liquid chamber 21 containing a liquid material (ink for a wiring pattern, functional liquid). The liquid material is supplied to the liquid chamber 21 via a liquid material supply system 23 including a material tank for storing the liquid material. The piezo element 22 is connected to a drive circuit 24, and a voltage is applied to the piezo element 22 via the drive circuit 24 to deform the piezo element 22, whereby the liquid chamber 21 is deformed. The material is discharged. In this case, the amount of distortion of the piezo element 22 is controlled by changing the value of the applied voltage. Further, by changing the frequency of the applied voltage, the strain rate of the piezo element 22 is controlled. The droplet discharge by the piezo method does not apply heat to the material, and thus has an advantage that the composition of the material is hardly affected.
[0033]
Next, a method of forming a conductive film wiring on a substrate will be described as an example of an embodiment of the method of forming a thin film pattern of the present invention with reference to FIGS. The pattern forming method according to the present embodiment includes arranging the above-described ink for a wiring pattern on a substrate and forming a conductive film pattern for the wiring on the substrate. The HMDS film forming step, the bank forming step, It roughly comprises an HMDS film patterning step, a residue treatment step (a lyophilic treatment step), a lyophobic treatment step, a material arrangement step, an intermediate drying step, and a heat treatment / light treatment step.
Hereinafter, each step will be described in detail.
[0034]
(HMDS forming step)
The HMDS (hexamethyldisilazane) film is for improving the adhesion between the substrate and the bank, and is formed by, for example, a method of applying HMDS in a vapor state to an object (HMDS treatment). Thereby, the HMDS film 32 is formed on the substrate P as shown in FIG.
[0035]
(Bank forming process)
The bank is a member that functions as a partition member, and the bank can be formed by an arbitrary method such as a lithography method or a printing method. For example, when a lithography method is used, a predetermined method such as spin coating, spray coating, roll coating, die coating, and dip coating is applied to the substrate P on the substrate P so as to match the height of the bank as shown in FIG. An organic photosensitive material 31 is applied, and a resist layer is applied thereon. Then, a mask is applied in accordance with the bank shape (region where the wiring pattern is formed), and the resist is exposed and developed to leave the resist in accordance with the bank shape. Finally, etching is performed to remove the bank material other than the mask. The lower layer is made of an inorganic material (for example, SiO 2). ₂ ), A bank (convex portion) may be formed of two or more layers whose upper layer is made of an organic substance (for example, polyimide).
As a result, as shown in FIG. 3C, the banks B are formed so as to surround the periphery (for example, 10 μm width) of the region where the wiring pattern is to be formed, and the above-mentioned bank 34 is formed.
[0036]
As the organic material for forming the bank B, a material having liquid repellency to a liquid material may be used, or as will be described later, liquid repellency (Teflon (registered trademark)) by plasma treatment can be used to form the bank B. An insulating organic material having good adhesion and easy to be patterned by photolithography may be used. For example, a polymer material such as an acrylic resin, a polyimide resin, an olefin resin, and a melamine resin can be used.
[0037]
(HMDS film patterning step)
After the bank B is formed on the substrate P, the HMDS film 32 between the banks 34 (the bottom portion between the banks B and B) is subsequently etched to pattern the HMDS film 32 as shown in FIG. . Specifically, the HMDS film is etched by etching the substrate P on which the bank B is formed, using the bank B as a mask, for example, with a 2.5% hydrofluoric acid aqueous solution. As a result, the substrate P is exposed at the bottom between the banks B.
[0038]
(Residue treatment step (lyophilic treatment step))
Next, residue processing is performed on the substrate P in order to remove a resist (organic substance) residue at the time of forming the bank between the banks 34.
As the residue treatment, an ultraviolet (UV) irradiation treatment in which the residue treatment is performed by irradiating an ultraviolet ray or O in which oxygen is used as a treatment gas in the air atmosphere is used. ₂ Plasma treatment or the like can be selected. ₂ Perform a plasma treatment.
[0039]
Specifically, this is performed by irradiating the substrate P with oxygen in a plasma state from a plasma discharge electrode. O ₂ The conditions for the plasma treatment include, for example, a plasma power of 50 to 1000 W, an oxygen gas flow rate of 50 to 100 ml / min, a plate transport speed of the substrate P to the plasma discharge electrode of 0.5 to 10 mm / sec, and a substrate temperature of 70 to 90. ° C.
When the substrate P is a glass substrate, the surface thereof has lyophilic property for the wiring pattern forming material, but it is difficult to remove the residue due to residue treatment as in the present embodiment. ₂ By performing the plasma treatment or the ultraviolet irradiation treatment, the lyophilic property of the substrate P exposed at the bottom of the space 34 between the banks can be increased.
[0040]
(Liquid repellent treatment process)
Subsequently, a lyophobic treatment is performed on the bank B to impart lyophobic properties to the surface thereof. As the lyophobic treatment, for example, a plasma treatment method (CF ₄ (Plasma treatment method). CF ₄ The conditions of the plasma treatment include, for example, a plasma power of 50 to 1000 kW, a flow rate of methane fluoride gas of 50 to 100 ml / min, a transfer speed of the substrate to the plasma discharge electrode of 0.5 to 1020 mm / sec, and a substrate temperature of 70 to 90 ° C. Is done.
The processing gas is not limited to tetrafluoromethane (carbon tetrafluoride), and other fluorocarbon-based gases can be used.
[0041]
By performing such lyophobic treatment, a fluorine group is introduced into the resin constituting the bank B, and high lyophobicity is imparted to the substrate P. In addition, O as the lyophilic treatment described above ₂ The plasma treatment may be performed before the bank B is formed. ₂ Since the plasma pretreatment has a property of being more likely to be fluorinated (liquid-repellent), the O ₂ Preferably, plasma treatment is performed.
Although the lyophobic treatment on the bank B has a slight effect on the surface of the substrate P that has been previously lyophilic, the introduction of fluorine groups due to the lyophobic treatment occurs particularly when the substrate P is made of glass or the like. Since there is no substrate P, its lyophilic property, that is, wettability is not substantially impaired.
The bank B may be made of a material having liquid repellency (for example, a resin material having a fluorine group), so that the liquid repellent treatment may be omitted.
[0042]
(Material placement process)
Next, using the above-described droplet discharge device IJ, the wiring pattern ink (functional liquid) is discharged and applied onto the substrate P exposed in the space 34 between the banks. Here, an ink (dispersion liquid) using silver as the conductive fine particles and diethylene glycol diethyl ether as the solvent (dispersion medium) is ejected. The droplets can be ejected at an ink weight of 4 ng / dot and an ink speed (ejection speed) of 5 to 7 m / sec, for example. Further, it is preferable that the atmosphere for discharging the droplets is set to a temperature of 60 ° C. or less and a humidity of 80% or less. Thereby, stable droplet discharge can be performed without the discharge nozzle of the droplet discharge head 1 being clogged.
[0043]
In this material disposing step, as shown in FIG. 4E, the ink X for the wiring pattern is ejected as droplets from the droplet ejection head 1, and the droplets are applied onto the substrate P exposed in the spaces 34 between the banks. I do.
At this time, since the substrate P exposed between the banks 34 is surrounded by the banks B, it is possible to prevent the wiring pattern ink X from spreading to a position other than the predetermined position. Further, since the surface of the bank B is provided with liquid repellency, even if a part of the discharged wiring pattern ink X is on the bank B, the surface of the bank B must be liquid repellent. As a result, it is repelled from the bank B and flows down to the bank 34. Furthermore, since the substrate P exposed in the inter-bank area 34 is provided with lyophilicity, the discharged wiring pattern ink X easily spreads on the substrate P exposed in the inter-bank area 34. This makes it possible to make the wiring pattern ink X uniform in the extending direction of the bank 34 as shown in FIG.
[0044]
By discharging the wiring pattern ink X from the droplet discharge head 1 a plurality of times toward the inter-bank space 34, the wiring pattern ink X is formed by a region surrounded by the bank B as shown in FIG. The wiring pattern ink X is applied to the substrate P exposed in the inter-bank space 34 in an amount larger than the volume to be formed, preferably 1 to 20 times (about 3 times in the present embodiment).
In addition, as a method of discharging the wiring pattern ink X a plurality of times toward the inter-bank 34, a method of discharging the wiring pattern ink X to the same portion of the inter-bank 34 a plurality of times at a time may be used. 1 may be swept only once in the direction in which the banks 34 extend, or by causing the droplet discharge head 1 to sweep a plurality of times in the direction in which the banks 34 extend, so that the bank 34 is identical. A method of ejecting the wiring pattern ink X to the spot every time once is performed may be adopted.
In addition, since the surface of the bank B is made lyophobic by the above-mentioned lyophobic treatment process, a larger amount of the wiring pattern ink X than the interbank capacity is repelled from the surface of the bank B. Therefore, the wiring pattern ink X does not overflow onto the upper surface of the bank B, and all the wiring pattern ink X can be stored on the substrate P exposed in the space 34 between the banks.
[0045]
(Intermediate drying process)
After discharging a predetermined amount of the wiring pattern ink X onto the substrate P, a drying process is performed as necessary to remove the dispersion medium. The drying process can be performed by lamp annealing, for example, in addition to a process using a normal hot plate for heating the substrate P, an electric furnace, or the like. The light source of the light used for lamp annealing is not particularly limited, but may be an infrared lamp, a xenon lamp, a YAG laser, an argon laser, a carbon dioxide laser, an excimer laser such as XeF, XeCl, XeBr, KrF, KrCl, ArF, ArCl, or the like. Can be used as a light source. These light sources generally have an output of 10 W or more and 5000 W or less, but in this embodiment, a range of 100 W or more and 1000 W or less is sufficient.
Then, by this intermediate drying step, as shown in FIG. 4H, a thick wiring pattern (line pattern) 33 is formed.
[0046]
(Heat treatment / light treatment process)
It is necessary to completely remove the dispersion medium from the dried film after the discharge step in order to improve the electrical contact between the fine particles. When the surface of the conductive fine particles is coated with a coating material such as an organic substance in order to improve dispersibility, it is necessary to remove the coating material. Therefore, the substrate P after the discharge process is subjected to a heat treatment and / or a light treatment.
[0047]
The heat treatment and / or light treatment is usually performed in the atmosphere, but may be performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen, argon, or helium, if necessary. The processing temperature of the heat treatment and / or light treatment includes the boiling point (vapor pressure) of the dispersion medium, the type and pressure of the atmospheric gas, the thermal behavior such as the dispersibility and oxidizing property of the fine particles, the presence and amount of the coating material, and the It is appropriately determined in consideration of the heat resistance temperature and the like.
For example, it is necessary to bake at about 300 ° C. in order to remove a coating material made of an organic substance. In the case where a substrate such as a plastic substrate is used, it is preferable to perform the heating at room temperature or higher and 100 ° C. or lower.
Through the steps described above, the wiring pattern 33 is converted into a conductive film by ensuring electrical contact between the fine particles, and a thick wiring is formed between the banks 34.
[0048]
As described above, in the present embodiment, a larger amount of wiring pattern ink X than the inter-bank capacitance is applied to the substrate P exposed in the inter-bank space 34, so that a thicker wiring is formed in the inter-bank space 34 than in the related art. It is possible to do.
[0049]
(2nd Embodiment)
As a second embodiment, a liquid crystal display device as an example of the electro-optical device according to the invention will be described. FIG. 5 is a plan view showing the liquid crystal display device according to the present invention together with each component as viewed from the counter substrate side, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line HH ′ of FIG. FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of various elements, wiring, and the like in a plurality of pixels formed in a matrix in an image display area of the liquid crystal display device. FIG. 8 is a partially enlarged cross-sectional view of the liquid crystal display device.
[0050]
5 and 6, in the liquid crystal display device (electro-optical device) 100 according to the present embodiment, a pair of the TFT array substrate 10 and the opposing substrate 20 are attached to each other by a sealing material 52 which is a photo-curing sealing material. The liquid crystal 50 is sealed and held in a region defined by the sealing material 52. The sealing material 52 is formed in a closed frame shape in a region within the substrate surface.
[0051]
A peripheral partition 53 made of a light-shielding material is formed in a region inside the formation region of the sealing material 52. In a region outside the sealing material 52, a data line driving circuit 201 and mounting terminals 202 are formed along one side of the TFT array substrate 10, and a scanning line driving circuit 204 is formed along two sides adjacent to this one side. Is formed. On one remaining side of the TFT array substrate 10, a plurality of wirings 205 for connecting between the scanning line driving circuits 204 provided on both sides of the image display area are provided. In at least one of the corners of the opposing substrate 20, an inter-substrate conducting material 206 for establishing electric conduction between the TFT array substrate 10 and the opposing substrate 20 is provided.
[0052]
Instead of forming the data line driving circuit 201 and the scanning line driving circuit 204 on the TFT array substrate 10, for example, a TAB (Tape Automated Bonding) substrate on which a driving LSI is mounted and a peripheral portion of the TFT array substrate 10 May be electrically and mechanically connected to the terminal group formed through the anisotropic conductive film. In the liquid crystal display device 100, the type of the liquid crystal 50 to be used, that is, an operation mode such as a TN (Twisted Nematic) mode, an STN (Super Twisted Nematic) mode, or a normally white mode / normally black mode. Thus, a retardation plate, a polarizing plate and the like are arranged in a predetermined direction, but are not shown here. When the liquid crystal display device 100 is configured for color display, for example, red (R), green (G), blue The color filter (B) is formed together with the protective film.
[0053]
In the image display area of the liquid crystal display device 100 having such a structure, as shown in FIG. 7, a plurality of pixels 100a are arranged in a matrix, and each of the pixels 100a has a pixel switching device. , And a data line 6a for supplying pixel signals S1, S2,..., Sn is electrically connected to the source of the TFT 30. The pixel signals S1, S2,..., Sn to be written to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied to a plurality of adjacent data lines 6a for each group. . The scanning line 3a is electrically connected to the gate of the TFT 30, and the scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the scanning line 3a in a pulsed manner in this order at a predetermined timing. It is configured.
[0054]
The pixel electrode 19 is electrically connected to the drain of the TFT 30. By turning on the TFT 30 as a switching element for a certain period, the pixel signals S1, S2,... Write to a pixel at a predetermined timing. The predetermined-level pixel signals S1, S2,..., Sn written to the liquid crystal via the pixel electrodes 19 are held for a certain period between the counter electrodes 121 of the counter substrate 20 shown in FIG. Note that a storage capacitor 60 is added in parallel with a liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 19 and the counter electrode 121 to prevent the held pixel signals S1, S2,..., And Sn from leaking. For example, the voltage of the pixel electrode 19 is held by the storage capacitor 60 for a time that is three orders of magnitude longer than the time when the source voltage is applied. Thereby, the charge retention characteristics are improved, and the liquid crystal display device 100 having a high contrast ratio can be realized.
[0055]
FIG. 8 is a partially enlarged cross-sectional view of the liquid crystal display device 100 having the bottom gate type TFT 30. A gate wiring 61 formed by the pattern forming method of the above embodiment is formed on a glass substrate P constituting the TFT array substrate 10. Is formed. In the present embodiment, when the gate wiring 61 is formed, since it is heated to about 350 ° C. in a process of forming an amorphous silicon layer described later, an inorganic bank material is used as a material that can withstand the temperature. .
[0056]
On the gate line 61, a semiconductor layer 63 made of an amorphous silicon (a-Si) layer is stacked via a gate insulating film 62 made of SiNx. The portion of the semiconductor layer 63 facing the gate wiring portion is a channel region. Junction layers 64a and 64b made of, for example, an n + type a-Si layer for obtaining an ohmic junction are stacked on the semiconductor layer 63, and the channel is protected on the semiconductor layer 63 at the center of the channel region. An insulating etch stop film 65 made of SiNx is formed. The gate insulating film 62, the semiconductor layer 63, and the etch stop film 65 are patterned as shown by applying resist, exposing / developing, and photoetching after vapor deposition (CVD).
[0057]
Further, the pixel electrodes 19 made of the bonding layers 64a and 64b and ITO are formed in the same manner, and are subjected to photoetching to be patterned as shown in the drawing. Then, a bank 66 is formed on each of the pixel electrode 19, the gate insulating film 62, and the etch stop film 65, and a droplet of a silver compound is discharged between the banks 66 by using the above-described droplet discharge device IJ. Thus, a source line and a drain line can be formed. Note that these source lines and drain lines can also be formed by the pattern forming method according to the present invention.
[0058]
Therefore, in the present embodiment, the gate line 61, the source line, and the drain line can be formed thick, and the liquid crystal display device 100 in which disconnection of the gate line 61, the source line, and the drain line is prevented can be obtained.
[0059]
(Third embodiment)
In the above embodiment, the TFT 30 is used as a switching element for driving the liquid crystal display device 100. However, the present invention is applicable to an organic EL (electroluminescence) display device other than the liquid crystal display device. An organic EL display device has a configuration in which a thin film containing a fluorescent inorganic and organic compound is sandwiched between a cathode and an anode, and is excited by injecting electrons and holes into the thin film and recombining them. This is an element that generates electrons (excitons) and emits light by using light emission (fluorescence / phosphorescence) when the excitons are deactivated. Then, on the substrate having the above-described TFT 30, among the fluorescent materials used for the organic EL display element, materials exhibiting respective luminescent colors of red, green and blue, that is, a luminescent layer forming material and a hole injection / electron transport layer are provided. A self-luminous full-color EL device can be manufactured by using a material to be formed as ink and patterning each of them.
The range of the device (electro-optical device) in the present invention includes such an organic EL device.
[0060]
(Fourth embodiment)
As a fourth embodiment, an embodiment of a non-contact type card medium will be described. As shown in FIG. 9, a non-contact type card medium (electronic device) 400 according to the present embodiment has a semiconductor integrated circuit chip 408 and an antenna circuit 412 built in a housing composed of a card base 402 and a card cover 418. At least one of power supply and data transfer is performed by at least one of electromagnetic waves or capacitive coupling with an external transceiver (not shown).
[0061]
In the present embodiment, the antenna circuit 412 is formed by the line pattern forming method according to the embodiment.
Therefore, it is possible to manufacture a non-contact card medium including the antenna circuit 412 in which disconnection is prevented.
In addition, as a device (electro-optical device) according to the present invention, in addition to the above, a PDP (plasma display panel) or a small-area thin film formed on a substrate is supplied with a current in parallel with the film surface. The present invention is also applicable to an FED (field emission device) having a surface conduction electron-emitting device utilizing a phenomenon in which electron emission occurs.
[0062]
(Fifth embodiment)
As a fifth embodiment, a specific example of the electronic device of the invention will be described.
FIG. 10A is a perspective view illustrating an example of a mobile phone. In FIG. 10A, reference numeral 600 denotes a mobile phone main body, and reference numeral 601 denotes a liquid crystal display unit provided with the liquid crystal display device of the above embodiment.
FIG. 10B is a perspective view illustrating an example of a portable information processing device such as a word processor or a personal computer. 10B, reference numeral 700 denotes an information processing device, 701 denotes an input unit such as a keyboard, 703 denotes an information processing main body, and 702 denotes a liquid crystal display unit provided with the liquid crystal display device of the above embodiment.
FIG. 10C is a perspective view illustrating an example of a wristwatch-type electronic device. In FIG. 10C, reference numeral 800 denotes a watch main body, and reference numeral 801 denotes a liquid crystal display unit including the liquid crystal display device of the above embodiment.
Since the electronic devices shown in FIGS. 10A to 10C include the liquid crystal display device of the above embodiment, it is possible to provide an electronic device with improved reliability by preventing disconnection. It becomes.
Although the electronic device of the present embodiment includes a liquid crystal device, the electronic device may include another electro-optical device such as an organic electroluminescence display device and a plasma display device.
[0063]
As described above, the preferred embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings. However, it goes without saying that the present invention is not limited to the embodiments. The shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are merely examples, and can be variously changed based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view of a droplet discharge device.
FIG. 2 is a diagram for explaining a principle of discharging a liquid material by a piezo method.
FIG. 3 is a diagram showing a procedure for forming a wiring pattern.
FIG. 4 is a diagram showing a procedure for forming a wiring pattern.
FIG. 5 is a plan view of the liquid crystal display device as viewed from a counter substrate side.
FIG. 6 is a sectional view taken along the line HH ′ of FIG. 5;
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the liquid crystal display device.
FIG. 8 is a partially enlarged cross-sectional view of the same liquid crystal display device.
FIG. 9 is an exploded perspective view of a non-contact type card medium.
FIG. 10 is a diagram illustrating a specific example of an electronic apparatus according to the invention.
[Explanation of symbols]
B: Bank, P: Substrate, X: Wiring pattern ink (functional liquid), 30: TFT (switching element), 33: Wiring pattern (pattern), 34: Between banks, 100: Liquid crystal Display device (electro-optical device), 400 contactless card medium (electronic device), 600 mobile phone body (electronic device), 700 information processing device (electronic device), 800 watch body (electronic device) machine)

Claims

A method for forming a pattern by applying a functional liquid on a substrate,
Forming a bank corresponding to the pattern formation region on the substrate;
Applying the functional liquid on the substrate exposed between the banks in an amount larger than a volume formed by a region surrounded by the banks;
Subjecting the applied functional liquid to a predetermined process to form the pattern.

2. The pattern forming method according to claim 1, wherein the functional liquid is applied in an amount of 1 to 20 times the volume formed by the region surrounded by the bank.

3. The pattern forming method according to claim 1, further comprising a step of giving liquid repellency to the surface of the bank before the step of applying the functional liquid.

The pattern forming method according to any one of claims 1 to 3, wherein a lyophilic property is given to the surface of the substrate exposed between the banks before the step of applying the functional liquid.

5. The pattern forming method according to claim 1, wherein in the step of applying the functional liquid, the functional liquid is discharged between the banks in a plurality of times.

The pattern forming method according to claim 1, wherein the functional liquid contains conductive fine particles.

A method for manufacturing a device including a pattern formed on a substrate,
The step of forming the pattern,
Forming a bank corresponding to the pattern formation region on the substrate;
Applying the functional liquid on the substrate exposed between the banks in an amount larger than a volume formed by a region surrounded by the banks;
Subjecting the applied functional liquid to a predetermined process to form the pattern.

The method according to claim 7, wherein when the device includes a switching element, a wiring connected to the switching element is formed by a step of forming the pattern.

A method for manufacturing a liquid crystal display device including a pattern formed on a substrate,
The step of forming the pattern,
Forming a bank corresponding to the pattern formation region on the substrate;
Applying the functional liquid on the substrate exposed between the banks in an amount larger than a volume formed by a region surrounded by the banks;
Forming the pattern by subjecting the applied functional liquid to a predetermined treatment.

A method for manufacturing a plasma display panel including a pattern formed on a substrate,
The step of forming the pattern,
Forming a bank corresponding to the pattern formation region on the substrate;
Applying the functional liquid on the substrate exposed between the banks in an amount larger than a volume formed by a region surrounded by the banks;
Performing a predetermined process on the applied functional liquid to form the pattern.

A method for manufacturing an organic EL device having a pattern formed on a substrate, comprising:
The step of forming the pattern,
Forming a bank corresponding to the pattern formation region on the substrate;
Applying the functional liquid on the substrate exposed between the banks in an amount larger than a volume formed by a region surrounded by the banks;
Performing a predetermined process on the applied functional liquid to form the pattern.

A method for manufacturing a field emission display including a pattern formed on a substrate,
The step of forming the pattern,
Forming a bank corresponding to the pattern formation region on the substrate;
Applying the functional liquid on the substrate exposed between the banks in an amount larger than a volume formed by a region surrounded by the banks;
Performing a predetermined process on the applied functional liquid to form the pattern.

A device manufactured by the device manufacturing method according to claim 7.

An electro-optical device comprising the device according to claim 13.

An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 14.