JP2004300141A

JP2004300141A - フェニルピリミジン化合物及びその用途

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Publication number: JP2004300141A
Application number: JP2004057342A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Komori; 岳小森; Yasushi Sakaguchi; 裕史阪口
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2003-03-18
Filing date: 2004-03-02
Publication date: 2004-10-28

Abstract

【課題】
植物病害防除効力を有する新規な化合物を提供すること。
【解決手段】
式（１）

〔式中、Ｘ¹はＯＲ⁴を表し、Ｙ¹は水素原子を表すか、あるいはＸ¹とＹ¹とが一緒になって、ＮＯＲ⁵を表し、Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基等を表し、Ｒ³、Ｒ⁵はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ⁴は水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。〕で示されるフェニルピリミジン化合物は植物病害防除に効力を有する。

【選択図】なし

Description

本発明は、フェニルピリミジン化合物及びその用途に関する。

従来より、植物病害を防除するために多くの化合物が開発され、それらの化合物を有効成分とする植物病害防除剤が実用に供されている。

「ケミカルアンドファーマシューティカルブレティン（Ｃｈｅｍｉｃａｌ & ＰｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌＢｕｌｌｅｔｉｎ）」，１９７５年，第２３巻，第４号，ｐ．９１７−９１９

しかしながら、それらの植物病害防除剤では、十分な効力を示さない場合がある。
本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。

本発明者等は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（１）で示されるフェニルピリミジン化合物が優れた植物病害防除活性を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式（１）

〔式中、
Ｘ¹はＯＲ⁴を表し、Ｙ¹は水素原子を表すか、
あるいはＸ¹とＹ¹とが一緒になって、ＮＯＲ⁵を表し、
Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表すか、
あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基を表し、
Ｒ³はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
Ｒ⁴は水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
Ｒ⁵はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。〕
で示されるフェニルピリミジン化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤及び本発明化合物の有効量を植物または土壌に処理することを特徴とする植物病害防除方法を提供する。

本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。

本発明において、
Ｒ¹で表されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、
Ｒ²で表されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、
Ｒ³で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられ、
Ｒ⁴で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられ、
Ｒ⁵で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられる。

本発明化合物の態様としては、例えば以下の化合物があげられる。
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子またはメチル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ²が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ²が水素原子またはハロゲン原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ²が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；

式（１）において、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ³がメチル基または２−プロピニル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ³がメチル基であるフェニルピリミジン化合物；

式（１）において、Ｘ¹がＯＲ⁴であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ⁴であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ⁴がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ⁴であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ⁴がメチル基または２−プロピニル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ⁴であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ⁴が２−プロピニル基であるフェニルピリミジン化合物；

式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子またはメチル基であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；

式（１）において、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｘ¹がＯＲ⁴であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ⁴がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ³がメチル基であり、Ｘ¹がＯＲ⁴であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ⁴がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピリミジン化合物；

式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³がメチル基であり、Ｘ¹がＯＲ⁴であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ⁴がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ³がメチル基であり、Ｘ¹がＯＲ⁴であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ⁴がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピリミジン化合物；

次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の製造法１〜３により製造することができる。
製造法１
式（１）で示される本発明化合物のうち、式（１−ａ）で示される本発明化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｘ^1-1はＯＲ^4-1基を表し、Ｙ^1-1は水素原子を表すか、
あるいはＸ^1-1とＹ^1-1とが一緒になって、ＮＯＲ⁵を表し、
Ｒ^4-1はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、式（３）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−ａ）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（１−ａ）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

製造法２
式（１）で示される本発明化合物は、式（４）で示される化合物と式（５）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｌ¹は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｘ¹、Ｙ¹は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、式（５）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

製造法３
式（１）で示される本発明化合物は、式（６）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｘ¹、Ｙ¹は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す。）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、式（３）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物に希塩酸等の酸を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過し、濾液を濃縮する方法。
（ｉｉｉ）反応混合物を濾過した後、濾液を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（中間体製造法１）

〔式中、Ｒ⁶はメチル基、エチル基またはプロピル基を表し、Ｒ³、Ｌ¹は前記と同じ意味を表す。〕
（工程１−１）
式（９）で示される化合物は、式（７）で示される化合物と式（８）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（７）で示される化合物１モルに対して、式（８）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（９）で示される化合物を単離することができる。単離された式（９）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程１−２）
式（１１）で示される化合物は、式（９）で示される化合物と式（１０）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造させることができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（９）で示される化合物１モルに対して、式（１０）で示される化合物が通常１モル〜過剰量の割合であり、塩基が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に希塩酸等の酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる

（工程１−３）
式（１２）で示される化合物は、式（１１）で示される化合物とメチル化剤とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類があげられる。
反応に用いられるメチル化剤としては、例えばヨウ化メチル、硫酸ジメチルがあげられる。
反応に用いられる試剤の量は式（１１）で示される化合物１モルに対して、メチル化剤が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程１−４）
式（１３）で示される化合物は、式（１２）で示される化合物とホルムアミジンまたはその塩酸塩、酢酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１２）で示される化合物１モルに対して、ホルムアミジンまたはその塩が通常１〜３モルの割合であり、塩基が触媒量〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮し、濾過する等の後処理操作を行うことにより、式（１３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（中間体製造法２）

〔式中、Ｒ⁷はメチル基またはエチル基を表し、Ｍｓはメタンスルホニル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ^4-1は前記と同じ意味を表す。〕

（工程２−１）
式（１５）で示される化合物は、式（１４）で示される化合物と水素化ホウ素ナトリウムとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物が用いられる。
反応に用いられる水素化ホウ素ナトリウムの量は、式（１４）で示される化合物１モルに対して、通常０．２５〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜５０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮し、水を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程２−２）
式（１６）で示される化合物は、式（１５）で示される化合物と塩化メタンスルホニルとを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１５）で示される化合物１モルに対して、塩化メタンスルホニルが通常１〜３モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより、式（１６）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過し、濾液を濃縮する方法。
単離された式（１６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。

（工程２−３）
式（１８）で示される化合物は、式（１６）で示される化合物と式（１７）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる式（１７）で示される化合物の量は、式（１６）で示される化合物１モルに対して、通常１モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常５０℃〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより式（１８）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じてトルエン等の有機溶媒を加え、濃縮する方法。
単離された式（１８）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程２−４）
式（１９）で示される化合物は、式（１８）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応させることにより製造する事ができる。
該反応は、通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類があげられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（１８）で示される化合物１モルに対して、通常１〜２０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性にした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１９）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１９）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程２−５）
式（２０）で示される化合物は、式（１９）で示される化合物と塩化チオニルとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩化チオニルの量は、式（１９）で示される化合物１モルに対して、通常１モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２０）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２０）で示される化合物は、蒸留等によりさらに精製することができる。

（中間体製造法３）

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁷は前記と同じ意味を表す。〕
式（２１）で示される化合物は、中間体製造法２の（工程２−４）に準ずる方法で、式（１８）で示される化合物の代わりに式（１５）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。

（中間体製造法４）

〔式中、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｌ²は塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁶、Ｘ¹、Ｙ¹は前記と同じ意味を表す。〕
（工程４−１）〜（工程４−４）
式（２６）で示される化合物は、中間体製造法１の（工程１−１）〜（工程１−４）に準ずる方法で、式（８）で示される化合物の代わりに式（２２）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。

（工程４−５）
式（２７）で示される化合物は、式（２６）で示される化合物と水素とをパラジウム炭素の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、トルエン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられるパラジウム炭素の量は、式（２６）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１〜０．１モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過して、濾液を減圧下濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（工程４−６）
式（４）で示される化合物は、製造法３に準ずる方法で、式（３）で示される化合物の代わりに式（２７）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。

（中間体製造法５）

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁷は前記と同じ意味を表す。〕
（工程５−１）
式（２９）で示される化合物は、式（１４）で示される化合物と式（２８）で示される化合物またはその塩酸塩、硫酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１４）で示される化合物１モルに対して、式（２８）で示される化合物またはその塩が通常１〜５モルの割合であり、塩基が通常触媒量〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１２０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を必要により例えば希塩酸等の酸性水で洗浄し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２９）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２９）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。

（工程５−２）
式（３０）で示される化合物は、式（２９）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応をさせることにより製造することができる。
該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物があげられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（２９）で示される化合物１モルに対して、通常１〜２０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性にした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３０）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３０）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

次に、本発明化合物の具体例を以下に示す。
式（Ａ）で示される化合物

上記式（Ａ）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、以下の（表１）〜（表５）に記載する。

式（Ｂ）で示される化合物

上記式（Ｂ）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁵は、以下の（表６）〜（表８）に記載する。

本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害があげられ、具体的には例えば次の病害があげられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。

本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えばカオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体としては、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、水があげられる。

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤があげられる。
その他の製剤用補助剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤があげられる。

本発明の植物病害防除剤は、例えば植物体に処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合または土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ²あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は、通常水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。

また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。その方法としては、例えば本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。
本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／または病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。

本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／または肥料と共に用いることもできる。

かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ニコビフェン、フェンヘキサミド、キノキシフェン、ジエトフェンカルブ及びアシベンゾラールＳメチルがあげられる。

以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。

まず、本発明化合物の製造例を示す。
製造例１
４−アミノ−５−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン０．１５ｇと２−（２−プロピオニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸０．１６ｇとＷＳＣ０．１８ｇとをピリジン１０ｍｌに混合し、１００℃で２時間攪拌した。反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）に付し、Ｎ−｛５−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン−４−イル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（１−１）と記す。）０．０３９ｇを得た。
本発明化合物（１−１）

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、３．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、４．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、５．１０（１Ｈ，ｓ）、６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．２７−７．３５（４Ｈ，ｍ）、８．５６（１Ｈ，ｓ）、９．０１（１Ｈ，ｓ）、９．１１（１Ｈ，ｓ）

次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。
参考製造例１
４−クロロフェニルグリオキシル酸メチル８０．２ｇをメタノール５００ｍｌに溶解し、０〜５℃で水素化ホウ素ナトリウム３．８ｇを加え、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン／酢酸エチル＝５／１〜２／１）に付し、２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル６２．４ｇを得た。
２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、７．３１−７．３８（４Ｈ，ｍ）

参考製造例２
２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル６２．４ｇとトリエチルアミン４０．８ｇとをテトラヒドロフラン２００ｍｌに溶解し、０℃で塩化メタンスルホニル４２．８ｇを加え、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加えて濾過した。濾液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン／酢酸エチル＝３／１）に付し、２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル７５．６ｇを得た。
２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．１２（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、５．９２（１Ｈ，ｓ）、７．３６−７．４３（４Ｈ，ｍ）

参考製造例３
２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル７０ｇと２−プロピニルアルコール７０ｇとを混合し、８０℃で１．５時間攪拌した。その後、反応混合物にトルエンを加えて減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン／酢酸エチル＝１０／１）に付し、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）との混合物６４．６ｇを得た。
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．１２（３Ｈ，ｓ）、４．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、５．１９（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４２（４Ｈ，ｍ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、４．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、５．２３（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４２（４Ｈ，ｍ）

参考製造例４
参考製造例３で製造された２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）との混合物６４．６ｇをテトラヒドロフラン８００ｍｌに溶解し、０℃で水酸化リチウム水溶液（水酸化リチウム６．７４ｇと水２８０ｍｌとの混合物）を滴下し、０℃〜室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して、得られた結晶をヘキサンで洗浄して、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸４３．４ｇを得た。
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、５．２０（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４４（４Ｈ，ｍ）、８．７０−９．５０（１Ｈ，ｂｒ）

参考製造例５
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸４．７ｇと塩化チオニル３．０ｇとをトルエン５０mlと混合し、１００℃で２時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷してから反応混合物を減圧下濃縮して、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸塩化物５．０ｇを得た。
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸塩化物

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、５．３９（１Ｈ，ｓ）、７．３７−７．４４（４Ｈ，ｍ）

参考製造例６
水素化ナトリウム（重量％；６０％）６．８ｇをギ酸エチル５０ｍｌに混合し、ここに０℃で２−（３，４−ジメトキシフェニル）アセトニトリルのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２−（３，４−ジメトキシフェニル）アセトニトリル２５ｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌとの混合物）を滴下し、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を乾燥、濃縮した。得られた結晶をヘキサンで洗浄して２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル２２ｇを得た。
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル

融点：１１４℃

参考製造例７
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに、２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル１０ｇとヨウ化メチル４．５ｍｌと炭酸カリウム１１ｇと炭酸セシウム１６ｇとを混合し、室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、濃縮して２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−メトキシアクリロニトリル１１ｇを得た。
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−メトキシアクリロニトリル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．９８（３Ｈ，ｓ）、６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，ｓ）、７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．４Ｈｚ）
参考製造例８
ホルムアミジン酢酸塩６．４ｇをエタノール１２０ｍｌに混合し、０℃でナトリウムエトキシドのエタノール溶液（重量％；２０％）３１ｇを加えた。０℃で５分間攪拌した後、２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−メトキシアクリロニトリル１３ｇを加え、室温で３０分間、６５℃で４時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷してから反応混合物に水を加え、クロロホルムで３回抽出した。有機層を合わせて水で洗浄し、乾燥、濃縮した。残渣にトルエンを加えて、得られた結晶を冷トルエン、次いで冷ヘキサンで洗浄し、減圧乾燥して、４−アミノ−５−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン３．５ｇを得た。
５−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．９１（３Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、５．０９（２Ｈ，ｂｒ）、６．９１（１Ｈ，ｓ）、６．９８（２Ｈ，ｍ）、８．１７（１Ｈ，ｓ）、８．５５（１Ｈ，ｓ）

次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
製剤例１
本発明化合物（１−１）５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
製剤例２
本発明化合物（１−１）２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコール２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケート０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコール１０部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。
製剤例３
本発明化合物（１−１）２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
製剤例４
本発明化合物（１−１）５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、乳剤を得る。
製剤例５
本発明化合物（１−１）２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
製剤例６
本発明化合物（１−１）１０部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、フロアブル製剤を得る。

次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物（１−1）を製剤例６に準じてフロアブル製剤とした後、水で本発明化合物の濃度が５００ｐｐｍとなるように希釈して試験用薬液を調製した。この試験用薬液を上記のトマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、トマト疫病の遊走子嚢の水懸濁液（約１００００個／ｍｌ）を噴霧（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。その後、このトマト苗を２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、さらに昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して４日間栽培した後、植物上の病斑面積を調査した。上記本発明化合物（１−1）を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。

Claims

式（１）

〔式中、
Ｘ¹はＯＲ⁴を表し、Ｙ¹は水素原子を表すか、
あるいはＸ¹とＹ¹とが一緒になって、ＮＯＲ⁵を表し、
Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表すか、
あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基を表し、
Ｒ³はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
Ｒ⁴は水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
Ｒ⁵はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。〕
で示されるフェニルピリミジン化合物。
請求項１記載のフェニルピリミジン化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。
請求項１記載のフェニルピリミジン化合物の有効量を植物または土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法。