JP2004158123A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004158123A JP2004158123A JP2002323256A JP2002323256A JP2004158123A JP 2004158123 A JP2004158123 A JP 2004158123A JP 2002323256 A JP2002323256 A JP 2002323256A JP 2002323256 A JP2002323256 A JP 2002323256A JP 2004158123 A JP2004158123 A JP 2004158123A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording medium
- magnetic recording
- layer
- polyurethane resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】非磁性支持体上に、放射線硬化型化合物を放射線硬化して得られた平滑層と、少なくとも一層の強磁性粉末及びポリウレタン樹脂を含有する結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体であって、前記ポリウレタン樹脂がポリエステルポリオールと鎖延長剤とジイソシアネートとの反応生成物であり、前記ポリエステルポリオールは二塩基酸が脂肪族二塩基酸を含み、ジオール成分がアルキル分岐側鎖を有し、かつ環状構造を持たない脂肪族ジオールを含み、前記鎖延長剤はアルキル分岐側鎖を持つ脂肪族ジオールを含む。
【選択図】 なし
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、塗布型の磁気記録媒体に関する。特に本発明は、優れた電磁変換特性及び耐久性を有する高密度記録に適した磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体は、高記録密度化する傾向にあり、厚い磁性層を有する磁気記録媒体における出力低下に起因した記録時の自己減磁損失と再生時の厚み損失とが大きな問題となっている。これまでに磁性層の薄層化が盛んに行われているが、薄層(例えば2μm以下)の磁性層を直接支持体上に形成すると、磁性層表面に非磁性支持体の影響が表れやすくなり、電磁変換特性やドロップアウトの悪化する傾向がみられていた。
【0003】
このような状況に対し、これまで支持体と磁性層の間に、電子線などの放射線により硬化する官能基を有する化合物を塗設した後、放射線を照射して硬化させた平滑層を有する磁気記録媒体が報告されている(例えば、特許文献1〜4参照)。
【0004】
しかし、特許文献1〜4の磁気記録媒体では、平滑層と磁性層の密着性が弱く、例えばビデオテープをVTR内で繰り返し走行させると、磁性層の一部が剥離してドロップアウト等が多発し、電磁変換特性が低下すると共に、故障の原因となるという問題があった。
【0005】
一方、塗膜平滑性、電磁変換特性及び走行耐久性を向上するために、磁性層又は非磁性層に含まれる結合剤として放射線硬化型のポリウレタンを使用した磁気記録媒体が報告されている(例えば、特許文献5参照)。しかるに、特許文献5の磁気記録媒体では、磁性層の平滑性は未だ充分とは言えず、特に高記録密度化のために用いられる磁気記録媒体としては充分な電磁変換特性が得られないという問題があった。
【0006】
【特許文献1】
特公平5−57647号公報(特許請求の範囲、第2頁右欄第4行目〜第24行目)
【特許文献2】
特開昭60−133529号公報(特許請求の範囲(1)、第2頁右上欄第3行目〜第16行目)
【特許文献3】
特開昭60−133530号公報(特許請求の範囲(1)、第2頁右上欄第4行目〜欄第2〜第17行目)
【特許文献4】
特開昭60−133531号公報(特許請求の範囲(1)、第2頁右上欄第3行目〜欄第2〜第16行目)
【特許文献5】
特開2002−117521号公報(請求項1、2、第3頁段落[0008]〜[0010])
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、優れた塗膜平滑性が得られ、かつ優れた電磁変換特性及び走行耐久性を有する磁気記録媒体を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、塗布型の磁気記録媒体において、磁性層表面の平滑性を向上し、磁性層の密着性を高め、かつ優れた走行耐久性を得るための手段を鋭意検討した。その結果、優れた塗膜平滑性が得られ、かつ優れた電磁変換特性及び耐久性を有する磁気記録媒体の開発に成功し、本発明を完成するに至った。
【0009】
すなわち、本発明の目的は、以下の磁気記録媒体により達成される。
(1)非磁性支持体上に、放射線硬化型樹脂を放射線硬化して得られた平滑層と、少なくとも強磁性粉末及びポリウレタンを含有する結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体であって、前記ポリウレタンが脂肪族二塩基酸を含む二塩基酸とアルキル分岐側鎖を有する環状構造を持たない脂肪族ジオールから得られたポリエステルポリオールと、アルキル分岐側鎖を有する脂肪族ジオールと、ジイソシアネートとを重合して得られたものであることを特徴とする磁気記録媒体。
(2)非磁性支持体上に、放射線硬化型樹脂を放射線硬化して得られた平滑層と、非磁性粉末及び/又は強磁性粉末並びにポリウレタンを含有する結合剤を含む中間層と、強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体であって、前記ポリウレタンが脂肪族二塩基酸を含む二塩基酸とアルキル分岐側鎖を有する環状構造を持たない脂肪族ジオールから得られたポリエステルポリオールと、アルキル分岐側鎖を有する脂肪族ジオールと、ジイソシアネートとを重合して得られたものであることを特徴とする磁気記録媒体。
(3)前記放射線硬化型樹脂の25℃における粘度が300mPa・sある(1)又は(2)に記載の磁気記録媒体。
(4)前記放射線硬化型化合物の分子量が2000以下である(1)〜(3)のいずれかに記載の磁気記録媒体。
(5)前記ポリウレタン樹脂のウレタン基濃度が2.5〜4.5mmol/gである(1)〜(4)に記載の磁気記録媒体。
(6)前記ポリウレタン樹脂の重量平均分子量(Mw)が30,000〜150,000である(1)〜(5)のいずれかに記載の磁気記録媒体。
(7)前記ポリウレタン樹脂が−SO3M、−OSO3M、−PO3M2及び− COOM(但し、Mは水素原子、アルカリ金属、アンモニウムから選ばれる) から選ばれる少なくとも一種の極性基を1×10−5〜5×10−4eq/g含有 する(1)〜(6)のいずれかに記載の磁気記録媒体。
(8)前記ポリウレタン樹脂のガラス転移温度が30〜200℃である(1)〜(7)のいずれかに記載の磁気記録媒体。
(9)磁性層に磁気記録された信号を磁気抵抗型磁気ヘッドで再生する磁気記録再生システムで用いるための(1)〜(8)のいずれかに記載の磁気記録媒体
。
(10)磁性層に磁気記録された信号をMRヘッドで再生する磁気記録再生システムで用いるための(1)〜(9)のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の磁気記録媒体における実施の態様についてさらに詳細に説明する。
[平滑層]
本発明は、非磁性支持体上に放射線硬化型化合物を放射線硬化して得られた平滑層を有する。本発明では、この平滑層を有することにより、磁性層を極めて平滑な塗膜にすることができるため、優れた電磁変換特性が得られる。
【0011】
放射線硬化型化合物は、放射線、例えば、電子線、紫外線などによるエネルギーが与えられると重合又は架橋反応により高分子化し、かつ硬化する反面、これらのエネルギーが与えられない限り重合又は架橋反応が進まないという性質を有する化合物である。そのため、放射線硬化型化合物を含む塗布液は、放射線を照射しない限り粘度が安定しており、高い塗膜平滑性が得られる。さらに放射線硬化型化合物は、放射線による高いエネルギーにより瞬時に反応が進むため、高い塗膜強度も得られる。
【0012】
放射線硬化型化合物は、一般に数mPa・s〜300mPa・sという比較的低粘度の樹脂である。したがって、放射線硬化型化合物を含む平滑層用塗料を非磁性支持体上に塗布することにより、レベリング効果により非磁性支持体上の微小突起を遮蔽し、平滑な表面を有する非磁性支持体を得ることができる。そして、その平滑層上に非磁性層用塗料及び/又は磁性層用塗料を塗布することにより、優れた平滑性を有する磁性層が得られ、ひいては優れた電磁変換特性を有する磁気記録媒体が得られる。特に、この効果は、磁性層の厚みが2.0μm以下の比較的薄い場合に顕著であり、例えば、MRヘッドを用いた磁気記録においてノイズとなりやすい磁性層表面の微小突起を有効に低減できる。
【0013】
本発明における放射線硬化型化合物としては、放射線官能性二重結合を有する化合物であり、例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類などを挙げることができる。官能基数が多く、あるいは官能基濃度が高すぎると、放射線硬化した際に収縮が大きくなり、非磁性支持体との密着力が低下しすぎる。そこで、官能基数は2〜4程度であることが適当であり、2〜3程度であることが好ましく、中でも2官能のアクリレート化合物又はメタクリレート化合物が好ましい。
【0014】
本発明において放射線硬化型化合物の分子量は、2000以下であることが適当であり、1000以下であることが好ましく、200〜600であることがさらに好ましい。また、本発明において放射線硬化型化合物の粘度は、25℃において300mPa・s以下であり、5〜200mPa・sであることが好ましく、10〜100mPa・sであることがさらに好ましい。
【0015】
本発明で用いられる放射線硬化型化合物の具体例としては、例えば、以下のようなものを挙げることができる。
(1)官能基を2つ持つ放射線硬化型化合物
エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート;
シクロヘキサンジオールジアクリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレート、シクロヘキサンジメタノールのジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールのジメタクリレート、水素化ビスフェノールAのジアクリレート、水素化ビスフェノールAのジメタクリレート、水素化ビスフェノールFのジアクリレート、水素化ビスフェノールFのジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールのジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールのジメタクリレートなど脂環族ジオールのアクリレート化合物、メタクリレート化合物;
ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、などポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリオーテルポリオールにアクリル酸又はメタクリル酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタクリレート。
【0016】
官能基を2つ持つ放射線硬化型化合物は、公知の二塩基酸、グリコールから得られたポリエステルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレートを用いることもできる。さらに、公知のポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレートを用いてもよい。さらに、ビスフェノールA、ビスフェノールF、水素化ビスフェノールA、水素化ビスフェノールFやこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものやイソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジメタアクリレートなども用いることもできる。
【0017】
(2)官能基を3つ持つ放射線硬化型化合物
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリアクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ヒドロシキピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリメタクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ヒドロシキピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリメタクリレート。
【0018】
(3)官能基を4つ以上持つ放射線硬化型化合物
例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサアクリレートなど。
【0019】
上記の放射線硬化型化合物は、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、水素化ビスフェノールAのジアクリレート、水素化ビスフェノールAのジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールのジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールのジメタクリレートを用いることが特に好ましい。
上記の放射線硬化型化合物は、任意の割合で混合して使用することができる。
【0020】
市販されている具体的な放射線硬化型化合物としては、例えば、日本化薬製KAYARAD R−684、共栄社化学製ライトアクリレートDCP−A、大日本インキ製LUMICURE DCA−200などを挙げることができる。
【0021】
本発明の平滑層では、上記の放射線硬化型化合物に加えて、さらに、「低エネルギー電子線照射の応用技術(2000年 (株)シーエムシー発行)」「UV・EB硬化技術(1982年 (株)総合技術センター発行)」などに記載されている公知の1官能アクリレート又はメタクリレート化合物を併用することができ、これらを反応性希釈剤として用いることができる。反応性希釈剤は、平滑層用塗料の物性や硬化反応を調整する機能を有する。
【0022】
併用可能な化合物の具体例としては、1分子中に放射線硬化官能基を1個有する1官能基アクリレート化合物が挙げられ、例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。ここで、(メタ)アクリレートは、メタクリレート及びアクリレートを包含する意味で用いられる。
【0023】
併用可能な化合物の含有量は、本発明で用いられる放射線硬化型化合物100質量部に対して10〜90質量部、好ましくは、20〜50質量部であることが好ましい。
【0024】
本発明では、必要に応じて平滑層用塗料に溶媒を溶解することができる。そのような溶媒として、例えば、メチルエチルケトン(MEK)、メタノール、エタノール、トルエン等を用いることが好ましい。
【0025】
上記の平滑層用塗料は、非磁性支持体上に塗布し、乾燥した後に放射線を照射して硬化するが、硬化後の平滑層のガラス転移温度(Tg)は、80〜150℃であることが好ましく、さらに好ましくは100〜130℃である。Tgが80℃以上であれば、塗布工程で粘着故障を起こさず、またTgが150℃以下であれば塗膜が脆くなることはない。
【0026】
本発明における平滑層は、上記の放射線硬化型化合物を含む平滑層用塗料を非磁性支持体上に塗布した後、放射線を照射して硬化して得られる。放射線照射により放射線硬化型化合物の重合又は架橋反応が進み、平滑層は高い塗膜強度が得られる。
本発明において使用される放射線は、上記したように電子線や紫外線であることができる。紫外線を使用する場合には平滑層用塗料に光重合開始剤を添加することが必要となる。電子線硬化の場合、重合開始剤は不要であり、透過深さも深いので好ましい。
【0027】
電子線加速器としては、スキャニング方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できる。好ましくは、比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が通常、30〜1000kV、好ましくは50〜300kVであり、吸収線量として通常、0.5〜20Mrad、好ましくは2〜10Mradである。加速電圧が30kV以上であれば、エネルギーの透過量としては充分であり、300kV以下であれば、重合に用いられるエネルギー効率が低下して不経済となることはない。
【0028】
電子線を照射する雰囲気は、窒素パージにより酸素濃度を200ppm以下にすることが好ましい。酸素濃度200ppm以下であれば、放射線硬化型樹脂の表面近傍における架橋、硬化反応が阻害されることはない。
【0029】
紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は20〜240W/cmのランプを用い、速度0.3〜20m/分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般に1〜30cmであることが好ましい。
【0030】
紫外線硬化を行う場合、使用される光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤を挙げられる。詳細は、例えば「新高分子実験学第2巻 第6章 光・放射線重合」(共立出版1995発行、高分子学会編)記載されているものを使用できる。具体例としては、アセトフエノン、ベンゾフエノン、アントラキノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフエニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケトン、2−2ジエトキシアセトフエノンなどがある。
【0031】
光重合開始剤の含有量は、本発明で用いられる放射線硬化型樹脂100質量部に対し通常、0.5〜20質量部、好ましくは2〜15質量部、さらに好ましくは3〜10質量部である。
【0032】
本発明において、放射線照射は磁性層を塗布、乾燥、カレンダ処理した後に行うのが好ましい。放射線照射前の磁性層は柔らかくカレンダ処理により平滑化されやすい。カレンダ処理した後巻き取り、放射線を未照射の状態で長時間保存するとバック面の凹凸が転写して表面が粗くなることがある。したがって、カレンダ処理後、できるだけ早く放射線を照射し磁性層を硬化させることが好ましい。カレンダ処理と放射線照射工程を一貫で行うことはさらに好ましい。
【0033】
放射線硬化装置、条件などについては「UV・EB硬化技術」((株)総合技術センター発行)や「低エネルギー電子線照射の応用技術」(2000、(株)シーエムシー発行)などに記載されている公知のものを用いることができる。
【0034】
[ポリウレタン樹脂]
本発明において、上層磁性層又は中間層(非磁性層若しくは磁性層)で用いられる結合剤は、ポリエステルポリオールと鎖延長剤とジイソシアネートとの反応生成物であるポリウレタン樹脂を含む。
前記ポリウレタン樹脂は、前述の平滑層との密着力が高く、例えば、テープ状磁気記録媒体の場合、テープをスリットする工程でのテープエッジ部における磁性層の剥離及び脱落を改善することができる。その結果、脱落した磁性層の微小片が記録再生特性に悪影響を及ぼすことも少なく、例えばコンピューター用のテープではエラーレートを低減し、またビデオテープではドロップアウト故障を低減することができる。
【0035】
前記ポリウレタン樹脂の原料となるポリエステルポリオールは、二塩基酸が脂肪族二塩基酸を含む。脂肪族二塩基酸は、溶剤溶解性の低い環状構造をもたないので、溶剤中へ均一に溶解することができる。ポリエステルポリオールに用いることができる脂肪族二塩基酸としては、例えば、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸などを挙げることができる。これらのなかでも好ましいものは、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸である。ポリエステルポリオールの全二塩基酸成分のうち、脂肪族二塩基酸の含量が70モル%〜100モル%であることが、良好な溶解性を得るために好ましい。
【0036】
本発明において、上記ポリエステルポリオールに含まれるジオール成分は、アルキル分岐側鎖を有し、かつ環状構造をもたない脂肪族ジオールである。ポリエステルポリオール中のジオール成分にアルキル分岐側鎖を有することにより、ウレタン結合やエステル結合同士の会合を立体障害的に防止されるため、分子間相互作用が低減され結合剤の溶解性を向上することができる。また、芳香環やシクロヘキサン環などの溶解性の低い環状構造を持たないことによっても結合剤の溶解性を高めることができる。これにより、結合剤が溶剤中へ均一に溶解され、磁性体や非磁性粉末を高度に分散することが可能になる。
【0037】
ポリエステルポリオールのジオール成分として用いることができるアルキル分岐脂肪族ジオールとしては、例えば、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、3,3−ジメチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−3−エチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−3−プロピル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−3−ブチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、3,3−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−エチル−3−ブチル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、3−エチル−3−プロピル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジブチル−1,3−プロパンジオール、3,3−ジブチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジプロピル−1,3−プロパンジオール、3,3−ジプロピル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、3−ブチル−3−プロピル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−プロパンジオール、2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−エチル−1,5−ペンタンジオール、3−プロピル−1,5−ペンタンジオール、3−ブチル−1,5−ペンタンジオール、3−オクチル−1,5−ペンタンジオール、3−ミリスチル−1,5−ペンタンジオール、3−ステアリル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−1,6−ヘキサンジオール、2−プロピル−1,6−ヘキサンジオール、2−ブチル−1,6−ヘキサンジオール、5−エチル−1,9−ノナンジオール、5−プロピル−1,9−ノナンジオール、5−ブチル−1,9−ノナンジオールなどが挙げられる。
中でも好ましいものは、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオールである。ポリエステルポリオールの全ジオール成分中の分岐側鎖を有する脂肪族ジオールの含量は、良好な溶解性を得るために、50〜100モル%が好ましく、さらに好ましくは70〜100モル%である。
【0038】
本発明の結合剤中のポリウレタン樹脂の原料となる鎖延長剤は、アルキル側鎖を持つ脂肪族ジオールを含む。アルキル分子側鎖を持つことにより、ウレタン結合やエステル結合同士の会合を立体障害的に防止することができるので分子間相互作用が低減され結合剤の溶解性を向上することができる。前記鎖延長剤は、アルキル分岐側鎖を有し、かつ環状構造を持たない脂肪族ジオールであることもできる。鎖延長剤が芳香環やシクロヘキサン環などの環状構造を持たないことにより、結合剤が溶剤中へ均一に溶解され、磁性体や非磁性粉末を高度に分散することが可能になる。本発明において、鎖延長剤は前記ポリエステルポリオールに含まれるジオール成分と同一であってもよく、異なるものであってもよい。
【0039】
本発明において、好ましい鎖延長剤としては、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオールである。ポリウレタン樹脂中のアルキル分岐側鎖を有する脂肪族ジオールからなる鎖延長剤の含有量は、5〜30質量%が好ましく、10〜20質量%であることがさらに好ましい。
【0040】
結合剤中のポリウレタン樹脂の原料となるジイソシアネートは、公知のものを用いることができ、例えば2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、キシレン−1,4−ジイソシアネート、キシレン−1,3−ジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4−ジフェニルエーテルジイソシアネート、2−ニトロジフェニル−4.4’−ジイソシアネート、2,2’−ジフェニルプロパン−4,4’−ジイソシアネート、4,4’−ジフェニルプロパンジイソシアネート、o−フェニレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、ナフチレン−1,4−ジイソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシアネート、3,3’−ジメトキシジフェニル−4,4’−ジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添化トリレンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネートなどの脂環族ジイソシアネートなどを挙げることができる。好ましくは、TDI(トリレンジイソシアネート)、MDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)、p−フェニレンジイソシアネート、o−フェニレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどを用いることができる。
【0041】
本発明において、ポリウレタン樹脂中のイソシアネートの含有量は、下記のウレタン基濃度の範囲内になるように適宜設定することができる。
【0042】
上記ポリウレタン樹脂中のウレタン基濃度は、2.5〜4.5mmol/gであることが好ましく、より好ましくは3.0〜4,0mmol/gであることが適当である。ウレタン基濃度が2.5mmol/g以上であれば、塗膜のガラス転移温度(Tg)が向上し、耐久性が向上する。また、ウレタン基濃度が過度に高い場合には、必然的にポリオールを含有できなくなることにより分子量コントロールが困難になるなどの合成上の不都合が生じるため、かかる不都合を回避するために、ウレタン基濃度が4.5mmol/g以下であることが好ましい。
【0043】
結合剤中のポリウレタン樹脂は、重量平均分子量が30,000〜150,000であることが好ましく、より好ましくは40,000〜100,000であることが適当である。重量平均分子量が30,000以上であることにより、高い塗膜強度及び優れた耐久性を得ることができ、150,000以下であると溶剤への溶解性が良好であり結合剤の分散性を向上させることができる。
【0044】
本発明において、結合剤中のポリウレタン樹脂のガラス転移温度(Tg)は、30〜200℃であることが好ましく、より好ましくは70〜180℃、さらに好ましくは80〜170℃であることが適当である。ガラス転移温度が40℃以上であれば、高温での塗膜強度が良好であり、200℃以下であれば、カレンダ成形性に優れ、電磁変換特性が良好である。
【0045】
上記ポリウレタン樹脂の極性基としては、−SO3M、−OSO3M、−P03M2、−COOM(但し、Mは水素原子、アルカリ金属、アンモニウムから選ばれる)が好ましく、さらに好ましくは−SO3M、−OS03Mであることが適当である。極性基の含有量は、1×10−5〜5×10−4eq/gであることが好ましい。1×10−5eq/g以上であると、磁性体や非磁性粉体への吸着性が高く分散性が良好であり、5×10−4eq/g以下であることで高い溶剤溶解性を得ることができる。
【0046】
ポリウレタン樹脂中のOH基含有量は、1分子当たり2〜20個であることが好ましく、さらに好ましくは1分子当たり3〜15個であることが適当である。1分子当たり2個以上のOH基を含むことにより、磁性体や非磁性粉体への吸着性が高く分散性が良好であり、1分子当たりのOH基含有量が20個以下であることで高い溶剤溶解性を得ることができる。
【0047】
[その他の結合剤成分]
本発明において、結合剤には上記ポリウレタン樹脂以外に、その他の結合剤成分として、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独あるいは複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましい結合剤成分は、塩化ビニル系樹脂及びアクリル系樹脂である。
【0048】
上記結合剤成分には、磁性体、非磁性粉体の分散性を向上させるため、これらの粉体表面に吸着する官能基(極性基)を持つことが好ましい。好ましい官能基としては−SO3M、−SO4M、−PO(OM)2、−OPO(OM)2 、−COOM、>NSO3M、>NRSO3M、−NR1R2 、−N+R1R2R3X− などがある。ここでMは水素又はNa、Kなどのアルカリ金属、Rはアルキレン基、R1、R2、R3はアルキル基又はヒドロキシアルキル基又は水素、XはCl、Brなどのハロゲンである。結合剤中の官能基の量は10μeq/g〜200μeq/gが好ましく、さらに好ましくは30μeq/g〜120μeq/gであることが適当である。この範囲内であると、分散性が良好である。またこのほかに、OH基などの活性水素を持つ官能基を含んでいてもかまわない。
【0049】
塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニルモノマーに種々のモノマーと共重合したものを用いることができる。共重合モノマーとしては酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどの脂肪酸ビニルエステル類、 メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートなどのアクリレート、メタクリレート類、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテルなどのアルキルアリルエーテル類、その他スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、エチレン、ブタジエン、アクリルアミドを用いることができ、更に官能基をもつ共重合モノマーであるビニルアルコール、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルアリルエーテル、2−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、3−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、p−ビニルフェノール、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル、ホスホエチル(メタ)アクリレート、スルホエチル(メタ)アクリレート、p−スチレンスルホン酸、及びこれらのNa塩、K塩などを用いることができる。塩化ビニル系樹脂中の塩化ビニルモノマーの組成は60〜95質量%であることが好ましい。この範囲内であれば、力学強度が高く、さらに溶剤溶解性が高いため塗布液粘度が低く、分散性が良好である。
【0050】
吸着官能基(極性基)の導入方法は、上記の官能基含有モノマーを共重合しても良いし、塩化ビニル系樹脂を共重合した後、高分子反応で官能基を導入してもよい。好ましい重合度は200〜600であり、さらに好ましくは240〜450である。この範囲内であれば力学強度が高く、また、溶液粘度が低いため分散性が良好であり好ましい。
【0051】
上記ポリウレタン樹脂以外のその他の結合剤成分の分子量は、重量平均分子量(Mw)で20,000〜200,000であることが好ましく、さらに好ましくは20,000〜80,000であることが適当である。この範囲内であれば、塗膜強度及び塗布液粘度が良好である。
【0052】
上記ポリウレタン樹脂は、温度計、攪拌機及び還流式冷却器などを用いて、予め作製したポリエステルポリオールに鎖延長剤及びイソシアネートを反応させて作製することができる。ポリエステルポリオールは、所定のモル%の脂肪族二塩基酸とジオールを混合して触媒(例えば酢酸亜鉛、酢酸ナトリウムなど)の存在下で、エステル交換反応と重縮合反応により得ることができる。得られたポリエステルポリオールを鎖延長剤及びイソシアネートと重付加反応させることによりポリウレタン樹脂を得ることができる。
【0053】
本発明では、三層以上の層構成を有する場合、上記結合剤は、上層磁性層だけではなく、中間層磁性層又は中間層非磁性層の結合剤としても使用することができる。上記結合剤の含有量は、磁性層(上層及び中間層を含む)の場合は強磁性粉末100質量部に対して、非磁性層の場合は非磁性粉末100質量部に対して5〜30質量部が好ましく、さらに好ましくは10〜20質量部であることが適当である。
【0054】
次に、本発明の磁気記録媒体を構成する上層磁性層、中間層(非磁性又は磁性層)、非磁性支持体、バックコート層、層構成、製造方法、物理特性について説明する。
【0055】
[上層磁性層]
<強磁性粉末>
本発明において、上層磁性層に含まれる強磁性金属粉末としては、例えばα−Feを主成分とする強磁性金属粉末を挙げることができる。強磁性金属粉末には所定の原子以外にAl、Si、Ca、Mg、Ti、Cr、Cu、Y、Sn、Sb、Ba、W、La、Ce、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、Bなどの原子を含んでもかまわない。特に、Al、Ca、Mg、Y、Ba、La、Nd、Sm、Co、Niの少なくとも1つをα−Fe以外に含むことが好ましい。Coは、Feと合金を作ると飽和磁化が増加し、かつ減磁が改良されるので特に好ましい。Coの含有量はFeに対して1〜40原子%が好ましく、さらに好ましくは15〜35原子%、より好ましくは20〜35原子%である。
【0056】
Y等の希土類元素の含有量は、1.5〜12原子%であることが好ましく、3〜10原子%であることがより好ましく、4〜9原子%であることがさらに好ましい。Alは1.5〜12原子%であることが好ましく、3〜10原子%であることがより好ましく、4〜9原子%であることがさらに好ましい。Yを含む希土類やAlは焼結防止剤として機能しており、組み合わせて使用することでより高い焼結防止効果が得られる。これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。
【0057】
具体的には、特公昭44−14090号公報、特公昭45−18372号公報、特公昭47−22062号公報、特公昭47−22513号公報、特公昭46−28466号公報、特公昭46−38755号公報、特公昭47−4286号公報、特公昭47−12422号公報、特公昭47−17284号公報、特公昭47−18509号公報、特公昭47−18573号公報、特公昭39−10307号公報、特公昭46−39639号公報、米国特許第3026215号明細書、同3031341号明細書、同3100194号明細書、同3242005号明細書、同3389014号明細書等に記載されている。
【0058】
強磁性金属粉末には少量の水酸化物又は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。
焼結防止処理を行った含水酸化鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFe又はFe−Co粒子などを得る方法、複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)と水素などの還元性気体で還元する方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性金属粉末は、公知の徐酸化処理する。含水酸化鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと不活性ガスの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮膜を形成する方法が、減磁量が少なく好ましい。
【0059】
本発明において磁性層に含まれる強磁性金属粉末のBET法による比表面積(SBET)は、45〜80m2/gであり、好ましくは50〜70m2/gである。比表面積(SBET)が45〜80m2/gであれば、ノイズを抑えることができ、かつ平滑な表面を得ることができるため好ましい。本発明の上層磁性層における強磁性金属粉末の結晶子サイズは8〜35nm(80〜350Å)であり、好ましくは10〜25nm(100〜250Å)、さらに好ましくは14〜20nm(140〜200Å)である。強磁性金属粉末の平均長軸長は、0.02〜0.25μmであり、0.05〜0.15μmであることが好ましく、0.06〜0.1μmであることがさらに好ましい。
【0060】
強磁性金属粉末の平均針状比(長軸長/短軸長の平均)は、3〜15であることが好ましく、5〜12であることがさらに好ましい。強磁性金属粉末の飽和磁化σsは、通常、100〜180A・m2/kgであり、110〜170A・m2/kgであることが好ましく、125〜160A・m2/kgであることがさらに好ましい。強磁性金属粉末の抗磁力(Hc)は、111〜279kA/m(1400〜3500 Oe)が好ましく、143〜239kA/m(1800〜3000 Oe)であることがさらに好ましい。
【0061】
強磁性金属粉末の含水率は0.01〜2質量%とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金属粉末のpHは、用いる結合剤との組み合わせにより最適化することが好ましい。その範囲は4〜12であるが、好ましくは6〜10である。強磁性金属粉末のSA(ステアリン酸)吸着量(表面の塩基性点の尺度)は1〜15μmol/m2であり、2〜10μmol/m2であることが好ましく、3〜8μmol/m2であることがさらに好ましい。ステアリン酸吸着量が多い強磁性金属粉末を使用する場合には、表面に強く吸着する有機物で表面修飾して磁気記録媒体を作成することが好ましい。強磁性粉末は必要に応じ、Al、Si、Pまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し0.1〜10%であることが適当であり、表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が100mg/m2以下になり好ましい。強磁性金属粉末には可溶性のNa、Ca、Fe、Ni、Sr、NH4、SO4、Cl、NO2、NO3などの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的にない方が好ましい。各イオンの総和が300ppm以下程度であれば、特性には影響しない。また、本発明に用いられる強磁性金属粉末は、空孔が少ない方が好ましく、その値は20容量%以下であり、5容量%以下であることがさらに好ましい。形状については、先に示した粉体サイズ、磁気特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性金属粉末自体のSFD(switching field distribution)は小さい方が好ましく、0.8以下が適当であり、強磁性粉末のHc分布を小さくすることが好ましい。SFDが0.8以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。抗磁力(Hc)分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布をよくする、単分散α−Fe2O3を使用する、粒子間の焼結を防止するなどの方法がある。
【0062】
<六方晶系フェライト強磁性粉末>
本発明の上層磁性層の強磁性粉末としては、六方晶系フェライト強磁性粉末も使用できる。六方晶系フェライト強磁性粉末としてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Co置換体等がある。具体的には、マグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、さらに一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にAl、Si、S、Sc、Ti、V、Cr、Cu、Y、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、Ta、W、Re、Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、B、Ge、Nbなどの原子を含んでもかまわない。一般にはCo−Ti、Co−Ti−Zr、Co−Ti−Zn、Ni−Ti−Zn、Nb−Zn−Co、SbーZn−Co、Nb−Znなどの元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。
【0063】
粒子サイズは六角板径で10〜200nm、好ましくは20〜100nmであることが適当である。10nm以上であれば熱揺らぎが少なく安定な磁化を得ることができ、200nm以下であればノイズが低減されるため、高密度磁気記録には好適である。なお、磁気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は40nm以下が好ましい。板状比(板径/板厚)は1〜15が好ましく、より好ましくは2〜7であることが適当である。板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。15より大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のBET法による比表面積は10〜200m2/gを示す。前記比表面積は、概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と一致する。結晶子サイズは50〜450Å、好ましくは100〜350Åである。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子TEM写真より500粒子を無作為に測定することで比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ/平均サイズ=0.1〜2.0である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。例えば、酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。磁性体で測定される抗磁力Hcは40〜400kA/m(500〜5000 Oe)程度まで作成できる。Hcは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。通常64kA/m(800 Oe)から318kA/m(4000 Oe)程度であるが、好ましくは119kA/m(1500 Oe)以上、279kA/m(3500 Oe)以下である。ヘッドの飽和磁化が1.4テスラーを越える場合は、159kA/m(2000 Oe)以上にすることが好ましい。Hcは粒子サイズ(板径・板厚)、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σsは40〜80A・m2/kg(40〜80emu/g)である。飽和磁化σsは高い方が好ましいが、微粒子になるほど小さくなる傾向がある。飽和磁化σs改良のため、マグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等がよく知られている。またW型六方晶フェライトを用いることも可能である。
【0064】
六方晶系フェライトを分散する際に六方晶系フェライトの表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理剤は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはSi、Al、P、等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は六方晶系フェライト強磁性粉末に対して0.1〜10%であることが適当である。六方晶系フェライトのPHも分散に重要である。通常4〜12程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から6〜10程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常0.01〜2.0%が選ばれる。
【0065】
六方晶フェライトの製法としては、▲1▼酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、▲2▼バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後100℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、▲3▼バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し1100℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法などがあるが、本発明は製法を選ばない。
【0066】
<結合剤>
本発明において、上層磁性層で使用できる結合剤としては、前記のポリウレタン樹脂を含有する結合剤のほか、さらに従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を使用することができる。
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−100〜150℃、数平均分子量が1,000〜200,000、好ましくは10,000〜100,000、重合度が約50〜1000程度のものを使用することができる。
【0067】
このような熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等を構成単位として含む重合体又は共重合体、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物等が挙げられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。
【0068】
これらの例とその製造方法については、特開昭62−256219号公報に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独又は組み合わせて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体から選ばれる少なくとも1種とポリウレタン樹脂の組み合わせ、又はこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。
【0069】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体例としては、塩化ビニル系共重合体として、ユニオンカ−バイト社製VAGH、VYHH、VMCH、VAGF、VAGD、VROH、VYES、VYNC、VMCC、XYHL、XYSG、PKHH、PKHJ、PKHC、PKFE、日信化学工業社製MPR−TA、MPR−TA5、MPR−TAL、MPR−TSN、MPR−TMF、MPR−TS、MPR−TM、MPR−TAO、電気化学社製1000W、DX80、DX81、DX82、DX83、100FD、日本ゼオン社製MR−104、MR−105、MR110、MR100、MR555、400X−110A、ポリウレタン樹脂として日本ポリウレタン社製ニッポランN2301、N2302、N2304、大日本インキ社製パンデックスT−5105、T−R3080、T−5201、バ−ノックD−400、D−210−80、クリスボン6109、7209、東洋紡社製バイロンUR8200、UR8300、UR−8700、RV530、RV280、大日精化社製ポリカーボネートポリウレタン、ダイフェラミン4020、5020、5100、5300、9020、9022、7020、三菱化成社製ポリウレタン、MX5004、三洋化成社製ポリウレタン、サンプレンSP−150、旭化成社製ポリウレタン、サランF310、F210などが挙げられる。
【0070】
上層磁性層で用いられる結合剤は、強磁性粉末100質量部に対し、5〜30質量部、好ましくは10〜20質量部の範囲で用いることができる。
【0071】
上記の各成分を、通常、上層磁性層用塗料の調製の際に使用されているメチルエチルケトン、ジオキサン、シクロヘキサノン、酢酸エチルなどの溶剤とともに混練分散して上層磁性層用塗料とする。混練分散は通常の方法に従って行うことができる。尚、上層磁性層用塗料中には、上記成分以外に硬化剤、α−Al2O3、Cr2O3などの研磨剤、カーボンブラックなどの帯電防止剤、脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコーンオイルなどの潤滑剤、分散剤など通常使用されている添加剤又は充填剤を含んでもよい。
【0072】
本発明の上層磁性層で用いられる硬化剤はイソシアネート系硬化剤であることが好ましい。具体的には3官能基以上のイソシアネート類を用いることが好ましい。
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートL、コロネートHL、コロネート2030、コロネート2031、ミリオネートMR、ミリオネートMTL、武田薬品社製タケネートD−102、タケネートD−110N、タケネートD−200、タケネートD−202、住友バイエル社製デスモジュールL、デスモジュールIL、デスモジュールN、デスモジュールHL等があり、これらを単独又は硬化反応性の差を利用して2つ若しくはそれ以上の組み合わせて用いることができる。
【0073】
<カーボンブラック>
本発明の磁気記録媒体の上層磁性層で使用されるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を挙げることができる。比表面積は5〜500m2/g、DBP吸油量は10〜400ml/100g、平均粒子径は5〜300nm、pHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ密度は0.1〜1g/mlであることが好ましい。
【0074】
本発明の上層磁性層に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製BLACKPEARLS 2000、1300、1000、900、800、700、VULCANXC−72、旭カーボン社製#80、#60、#55、#50、#35、三菱化成工業社製#2400B、#2300、#900、#1000、#30、#40、#10B、コンロンビアカーボン社製CONDUCTEX SC、RAVEN 150、50、40、15などが挙げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用して表面の一部をグラファイト化したりしたものを使用してもかまわない。 また、カーボンブラックを磁性層用塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独又は組合せで使用することができる。
【0075】
上層磁性層でカーボンブラックを使用する場合、強磁性粉末に対する含有量は、0.1〜30質量%で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。したがって本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層、後述する中間層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、pHなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本発明の上層磁性層で使用できるカーボンブラックは、例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にすることができる。
【0076】
<研磨剤>
本発明において、上層磁性層では研磨剤を用いることができる。研磨剤としてはα化率90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度6以上の公知の材料が単独又は組み合わせで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体(研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの)を使用してもよい。
【0077】
本発明における研磨剤には、主成分以外の化合物又は元素が含まれる場合もあるが、主成分が90%以上であれば効果に変わりはない。これら研磨剤の平均粒子径は、0.01〜2μmであることが好ましく、特に電磁変換特性(S/N)を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには、必要に応じて粒子径の異なる研磨剤を組み合わせ、あるいは単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。
【0078】
研磨剤のタップ密度は、0.3〜2g/ml、含水率は0.1〜5%、pHは2〜11、比表面積は1〜30m2/gであることが好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は、針状、球状及びサイコロ状のいずれでもよいが、形状の一部に角を有するものは研磨性が高くて好ましい。
【0079】
本発明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製AKP−20、AKP−30、AKP−50、HIT−50、HIT−100、日本化学工業社製G5、G7、S1、戸田工業社製TF−100、TF−140が挙げられる。本発明に用いられる研磨剤は、磁性層(上中間層)、非磁性層で種類、量及び組合せを替え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明の磁気記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に存在する研磨剤は5個/100μm2以上であることが好ましい。
【0080】
<添加剤>
本発明の上層磁性層で使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などを有するものが使用され、組み合わせることにより総合的な性能向上が図れる。潤滑効果を示すものとしては、物質表面同士の摩擦により生じる凝着に著しい作用を示す潤滑剤が使用される。潤滑剤には2つの型のものがある。磁気記録媒体に使用される潤滑剤は、完全に流体潤滑か境界潤滑であるか判定することはできないが、一般的概念で分類すれば流体潤滑を示す高級脂肪酸エステル、流動パラフィン、シリコーン誘導体などや境界潤滑を示す長鎖脂肪酸、フッ素系界面活性剤、含フッ素系高分子などに分類される。塗布型媒体では、潤滑剤は結合剤に溶解した状態、また一部は強磁性粉末表面に吸着した状態で存在するものであり、磁性層表面に潤滑剤が移行してくるが、その移行速度は結合剤と潤滑剤との相溶性の良否によって決まる。結合剤と潤滑剤との相溶性が高いときは移行速度が小さく、相溶性の低いときには早くなる。相溶性の良否に対する一つの考え方として、両者の溶解パラメータの比較がある。流体潤滑には非極性潤滑剤が有効であり、境界潤滑には極性潤滑剤が有効である。
【0081】
本発明において、これら特性の異なる流体潤滑を示す高級脂肪酸エステルと境界潤滑を示す長鎖脂肪酸とを組み合わせることが好ましく、少なくとも3種組み合わせることがさらに好ましい。これらに組み合わせて固体潤滑剤を使用することもできる。
固体潤滑剤としては、例えば二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛などが使用される。境界潤滑を示す長鎖脂肪酸としては、炭素数10〜24の一塩基性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない)、及びこれらの金属塩(Li、Na、K、Cuなど)が挙げられる。フッ素系界面活性剤、含フッ素系高分子としてはフッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、フッ素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩などが挙げられる。流体潤滑を示す高級脂肪酸エステルとしては、炭素数10〜24の一塩基性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない)と炭素数2〜12の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない)とからなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステル又はトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステルなどが挙げられる。また流動パラフィン、そしてシリコーン誘導体としてジアルキルポリシロキサン(アルキルは炭素数1〜5個)、ジアルコキシポリシロキサン(アルコキシは炭素数1〜4個)、モノアルキルモノアルコキシポリシロキサン(アルキルは炭素数1〜5個、アルコキシは炭素数1〜4個)、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン(アルキルは炭素数1〜5個)などのシリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーンなどが挙げられる。
【0082】
その他の潤滑剤として炭素数12〜22の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない)、炭素数12〜22のアルコキシアルコール(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない)、フッ素含有アルコールなどのアルコール、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレングリコール、ポリエチレンオキシドワックスなどのポリグリコール、アルキル燐酸エステル及びそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、炭素数8〜22の脂肪酸アミド、炭素数8〜22の脂肪族アミンなどが挙げられる。
【0083】
これらの具体例としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコールが挙げられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体などのノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類などのカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等を挙げることができる。
【0084】
上記界面活性剤については、「界面活性剤便覧」(産業図書株式会社発行)に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は30%以下が好ましく、さらに好ましくは10%以下である。
【0085】
本発明において使用される潤滑剤は、特に脂肪酸と脂肪酸エステルであることが好ましい。具体的には、本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製NAA−102、NAA−415、NAA−312、NAA−160、NAA−180、NAA−174、NAA−175、NAA−222、NAA−34、NAA−35、NAA−171、NAA−122、NAA−142、NAA−160、NAA−173K、ヒマシ硬化脂肪酸、NAA−42、NAA−44、カチオンSA、カチオンMA、カチオンAB、カチオンBB、ナイミーンL−201、ナイミーンL−202、ナイミーンS−202、ノニオンE−208、ノニオンP−208、ノニオンS−207、ノニオンK−204、ノニオンNS−202、ノニオンNS−210、ノニオンHS−206、ノニオンL−2、ノニオンS−2、ノニオンS−4、ノニオンO−2、ノニオンLP−20R、ノニオンPP−40R、ノニオンSP−60R、ノニオンOP−80R、ノニオンOP−85R、ノニオンLT−221、ノニオンST−221、ノニオンOT−221、モノグリMB、ノニオンDS−60、アノンBF、アノンLG、ブチルステアレート、ブチルラウレート、エルカ酸、関東化学社製オレイン酸、竹本油脂社製FAL−205、FAL−123、新日本理化社製エヌジェルブLO、エヌジェルブIPM、サンソサイザーE4030、信越化学社製TA−3、KF−96、KF−96L、KF96H、KF410、KF420、KF965、KF54、KF50、KF56、KF907、KF851、X−22−819、X−22−822、KF905、KF700、KF393、KF−857、KF−860、KF−865、X−22−980、KF−101、KF−102、KF−103、X−22−3710、X−22−3715、KF−910、KF−3935、ライオンアーマー社製アーマイドP、アーマイドC、アーモスリップCP、ライオン油脂社製デュオミンTDO、日清製油社製BA−41G、三洋化成社製プロファン2012E、ニューポールPE61、イオネットMS−400、イオネットMO−200 イオネットDL−200、イオネットDS−300、イオネットDS−1000イオネットDO−200などが挙げられる。
【0086】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は、個々に異なる物理的作用を有するものであり、その種類、量及び相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比率は、目的に応じ最適に定められるべきものである。上層磁性層及び後述する中間層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への滲み出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル類を用い表面への滲み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。一般には潤滑剤の総量として磁性粉末、非磁性粉末又は磁性粉末及び非磁性粉末の100質量部に対し、0.1〜50質量部、好ましくは2〜25質量部の範囲で選択される。
【0087】
本発明で用いられる上記添加剤のすべて又はその一部は、磁性層用塗料(上中間層)及び平滑層用塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時又は逐次塗布で、添加剤の一部又は全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダした後、またはスリット終了後、上層磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【0088】
<有機溶媒>
本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフランなどのケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールなどのエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼンなどの塩素化炭化水素類、N、N−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は30%以下が好ましく、さらに好ましくは10%以下である。本発明で用いる有機溶媒は上層磁性層と後述する中間層でその種類は同じであることが好ましい。但し、その添加量は変えてもかまわない。中間層に表面張力の高い溶媒(シクロヘキサノン、ジオキサンなど)を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が中間層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためには、ある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成のうち、誘電率が15以上の溶剤が50%以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは8〜11であることが好ましい。
【0089】
[中間層の非磁性粉末及び/又は強磁性粉末を含む層]
本発明の磁気記録媒体は、三層以上の構造を有する場合、支持体と上層磁性層との間に、非磁性粉末及び結合剤を含む層(中間層非磁性層)、強磁性粉末及び結合剤を含む層、又は非磁性粉末、磁性粉末及び結合剤を含む層(以下、これらをまとめて「中間磁性層」ともいう)が設けられる。以下にこれらの層について詳細に説明する。
【0090】
<非磁性粉末>
本発明において中間非磁性層は、非磁性粉末と結合剤とを主体とする層であることが好ましい。中間非磁性層に用いられる非磁性粉末としては、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から選択することができる。無機化合物としては例えばα化率90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組み合わせで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、さらに好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。
【0091】
上記の非磁性粉末の平均粒子径は0.005〜2μmであることが好ましい。また、必要に応じて平均粒子径の異なる非磁性粉末を組み合わせることができ、さらに単独の非磁性粉末であっても粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の平均粒子径は0.01〜0.2μmである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径0.08μm以下であることが好ましく、針状金属酸化物である場合には、平均長軸長が0.3μm以下であることが好ましく、0.2μm以下であることがさらに好ましい。
【0092】
タップ密度は、通常、0.05〜2g/ml、好ましくは0.2〜1.5g/mlである。非磁性粉末の含水率は通常、0.1〜5質量%、好ましくは0.2〜3質量%、さらに好ましくは0.3〜1.5質量%である。非磁性粉末のpHは通常、2〜11であるが、pHは5.5〜10の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は通常、1〜100m2/gであり、5〜80m2/gであることが好ましく、10〜70m2/gであることがさらに好ましい。非磁性粉末の結晶子サイズは、0.004〜1μmであることが好ましく、0.04〜0.1μmであることがさらに好ましい。DBP(ジブチルフタレート)を用いた吸油量は通常、5〜100ml/100gであり、10〜80ml/100gであることが好ましく、20〜60ml/100gであることがさらに好ましい。比重は、通常、1〜12であり、3〜6であることがさらに好ましい。形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれであってもよい。モース硬度は、4〜10であることが好ましい。非磁性粉末のSA(ステアリン酸)吸着量は、1〜20μmol/m2であり、2〜15μmol/m2、であることがより好ましく、3〜8μmol/m2であることがさらに好ましい。pHは、3〜6の間にあることが好ましい。
【0093】
これらの非磁性粉末の表面には、表面処理によりAl2O3、SiO2、TiO2、ZrO2、SnO2、Sb2O3、ZnO、Y2O3が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはAl2O3、SiO2、TiO2、ZrO2であるが、さらに好ましいのはAl2O3、SiO2、ZrO2である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナを存在させた後にその表層にシリカを存在させる方法、又はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【0094】
上記非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製HIT−100、ZA−G1、戸田工業社製α−ヘマタイトDPN−250、DPN−250BX、DPN−245、DPN−270BX、DBN−SA1、DBN−SA3、石原産業製酸化チタンTTO−51B、TTO−55A、TTO−55B、TTO−55C、TTO−55S、TTO−55D、SN−100、α−ヘマタイトE270、E271、E300、E303、チタン工業製酸化チタンSTT−4D、STT−30D、STT−30、STT−65C、α−ヘマタイトα−40、テイカ製MT−100S、MT−100T、MT−150W、MT−500B、MT−600B、MT−100F、MT−500HD、堺化学製FINEX−25、BF−1、BF−10、BF−20、ST−M、同和鉱業製DEFIC−Y、DEFIC−R、日本アエロジル製AS2BM、TiO2P25、宇部興産製100A、500A、及びそれを焼成したものが挙げられる。 特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【0095】
<中間層用カーボンブラック>
本発明では、中間層(中間非磁性層又は中間磁性層)にカーボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Rsを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。また、中間層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラックなど用いることができる。中間層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【0096】
中間層のカーボンブラックの比表面積は100〜500m2/g、好ましくは150〜400m2/g、DBP吸油量は20〜400ml/100g、好ましくは30〜200ml/100gであることが適当である。カーボンブラックの粒子径は5〜80nm、好ましく10〜50nm、さらに好ましくは10〜40nmであることが適当である。カーボンブラックのpHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ密度は0.1〜1g/mlが好ましい。
【0097】
本発明において、中間層に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製 BLACKPEARLS 2000、1300、1000、900、800、880、700、VULCAN XC−72、三菱化成工業社製#3050B、#3150B、#3250B、#3750B、#3950B、#950、#650B、#970B、#850B、MA−600、MA−230、#4000、#4010、コンロンビアカーボン社製 CONDUCTEX SC、RAVEN 8800、8000、7000、5750、5250、3500、2100、2000、1800、1500、1255、1250、アクゾー社製ケッチェンブラックECなどが挙げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用したりしてもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記非磁性粉末又は後述する中間層で使用する磁性粉末の添加量に対して50質量%を越えない範囲、中間層総質量の40%を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独又は組合せで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」(カーボンブラック協会編)を参考にすることができる。
【0098】
また中間層には有機質粉末を目的に応じて添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂を使用することができる。その製法は特開昭62−18564号公報、特開昭60−255827号公報に記されているようなものが使用できる。
【0099】
<中間層用磁性粉末>
本発明の中間層では、上記非磁性粉末のほかに、磁性粉末を用いることもできる(中間層磁性層)。磁性粉末としては、γ−Fe2O3、Co変性γ−Fe2O3、α−Feを主成分とする合金、CrO2等が用いられる。特に、Co変性γ−Fe2O3が好ましい。本発明の中間層に用いられる磁性粉末は上層磁性層に用いられる強磁性粉末と同様な組成、性能を有することが好ましい。但し、目的に応じて、上中間層で性能を変化させることは公知の通りである。例えば、長波長記録特性を向上させるためには、中間層磁性層のHcは上層磁性層のそれより低く設定することが望ましく、また、中間層磁性層のBrを上層磁性層のそれより高くすることが有効である。それ以外にも、公知の重層構成を採ることによる利点を付与させることができる。
【0100】
本発明において中間層では、上記のポリウレタン樹脂を含む結合剤を使用する。またその他の、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法、含有量については、上記の上層磁性層のそれが適用できる。
【0101】
[非磁性支持体]
本発明で使用される支持体は、非磁性可撓性支持体であることが好ましく、支持体の面内各方向に対し、100℃30分での熱収縮率が0.5%以下であり、80℃30分での熱収縮率が0.5%以下、さらに好ましくは0.2%以下であることが好ましい。さらに前記支持体の100℃30分での熱収縮率及び80℃30分での熱収縮率が前記支持体の面内各方向に対し、10%以内の差で等しいことが好ましい。支持体は非磁性であることが好ましい。
これら支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、芳香族又は脂肪族ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリアラミド、ポリベンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが好ましい。また必要に応じて、磁性層面と支持体のベース面での表面粗さを変えることができ、例えば、特開平3−224127号公報に示されるような積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行ってもよい。また本発明の支持体としてアルミ又はガラス基板を適用することも可能である。
【0102】
本発明の目的を達成するには、支持体としてWYKO社製HD−2000型を用いて測定した中心面平均表面粗さRaが、カットオフ値0.25mmにおいて3〜10nmのものを使用することが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーとしては一例としてはCa、Si、Tiなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機粉末が挙げられる。支持体の最大高さRmaxは1μm以下、十点平均粗さRzは0.5μm以下、中心面山高さRpは0.5μm以下、中心面谷深さRvは0.5μm以下、中心面面積率Srは10〜90%、平均波長λaは5〜300μmが好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールできるものであり、0.01〜1μmの大きさのもの各々を0.1mm2当り0〜2000個の範囲でコントロールすることができる。
【0103】
本発明に用いられる支持体のF−5値は、49〜490MPa(5〜50kg/mm2)であることが好ましい。また、支持体の100℃30分での熱収縮率は、3%以下であることが好ましく、1.5%以下であることがさらに好ましい。80℃30分での熱収縮率は、1%以下であることが好ましく、0.5%以下であることがさらに好ましい。破断強度は、49〜980MPa(5〜100kg/mm2)であることが好ましい。また弾性率は、980〜19600MPa(100〜2000kg/mm2)であることが好ましい。温度膨張係数は10−4〜10−8/℃であり、10−5〜10−6/℃であることが好ましい。湿度膨張係数は10−4/RH%以下であり、好ましくは10−5/RH%以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は、支持体の面内各方向に対し10%以内の差でほぼ等しいことが好ましい。
【0104】
[バックコート層]
本発明の磁気記録媒体は、必要に応じて磁性層を有する面とは反対側の非磁性支持体上の面にバックコート層を設けることもできる。磁気ディスクでもバックコート層を設けることはできるが、例えばコンピューターデータ記録用の磁気テープの場合、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。このため、バックコート層には、無機粉末、結合剤のほか、カーボンブラック、研磨材、帯電防止剤などが含有されていることが好ましい。バックコート層でカーボンブラックを使用する場合、平均粒子径の異なる二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。なお、非磁性支持体の磁性層用塗料及びバックコート層用塗料の塗布面に接着剤層が設けられていてもよい。
【0105】
[層構成]
本発明の磁気記録媒体の厚み構成は、非磁性支持体が通常、1〜100μmであり、4〜80μmであることが好ましい。コンピューターテープの非磁性支持体は、3.0〜6.5μm(好ましくは、3.0〜6.0μm、さらに好ましくは、4.0〜5.5μm)の範囲の厚みのものが使用される。
【0106】
平滑層の厚みは、0.1〜1.0μmであることが好ましく、さらに好ましくは0.3〜0.7μmである。0.1μm以上であれば、磁性層において良好な平滑性を得ることができる。また、1.0μm以下であれば、塗膜が乾燥しやすく、粘着故障を起こしにくい。
【0107】
本発明の磁気記録媒体の磁性層及び中間層の厚みは、用いるヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化される。本発明では磁性層(単一層の場合)又は上層磁性層(二層以上の場合)の厚みは、0.01〜1.0μmであることが好ましく、0.01〜0.5μmであることが好ましい。磁性層の厚みを1.0μm以下とすることで、自己減磁損失が小さく出力を向上することができ、かつ良好なオーバーライト特性が得られ、高密度記録に有利となる。また、磁性層の厚みが1.0μm以下であれば、表面電気抵抗を低減させることができるため、MRヘッドが静電破壊されることはない。
【0108】
また、中間層(中間磁性層又は中間非磁性層)の厚みは、通常0.5〜3μmであり、0.8〜2.0μmであることが好ましく、1.0〜1.5μmであることがさらに好ましい。
【0109】
バックコート層を有する場合、バックコート層の厚みは、通常0.1〜2μmであり、0.3〜1.0μmであることが好ましい。
【0110】
[製法]
本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、及びこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程は、それぞれ2段階以上に別れていてもかまわない。本発明の磁気記録媒体に使用する磁性粉末、非磁性粉末、放射線硬化型樹脂、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などのすべての原料は、どの工程の最初又は途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を2つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。
【0111】
本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合、磁性粉末又は非磁性粉末と結合剤のすべて又はその一部(但し、全結合剤の30%以上が好ましい)は、磁性粉末100質量部に対し15〜500質量部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平1−106338号公報、特開平1−79274号公報に記載されている。また、磁性層用塗料及び非磁性層用塗料を分散させるには、ガラスビーズを用いることができるが、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。
【0112】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、例えば、非磁性支持体上に平滑層を乾燥後の層厚が1.0μm以下となるように平滑層用塗料を塗布し、放射線硬化した後、平滑層表面上に磁性層の乾燥後の層厚が5.0μm以下となるよう、又は中間層の乾燥後の層厚が3μm以下とし、さらに中間層表面上に上層磁性層の乾燥後の層厚が0.5μm以下になるように塗布することができる。
【0113】
磁性層用塗料を塗布する塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。 これらについては例えば株式会社総合技術センター発行の「最新コーティング技術」(昭和58年5月31日)を参考にできる。
【0114】
なお、本発明で三層以上の重層構成の磁気記録媒体を塗布する場合、以下のような方式を用いることが好ましい。
(1)磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず中間層を塗布し、中間層がウェット状態のうちに特公平1−46186号公報や特開昭60−238179号公報、特開平2−265672号公報に開示されている支持体加
圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布する方法。
(2)特開昭63−88080号公報、特開平2−17971号公報、特開平2−265672号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内
蔵する一つの塗布ヘッドにより上中間層をほぼ同時に塗布する方法。
(3)特開平2−174965号公報に開示されているバックアップロール付き
エクストルージョン塗布装置により上中間層をほぼ同時に塗布する方法。
【0115】
なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62−95174号公報や特開平1−236968号公報に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平3−8471号公報に開示されている数値範囲を満足する必要がある。
【0116】
ディスク状磁気記録媒体の場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。六方晶系フェライトは、一般的に面内及び垂直方向の3次元ランダムになりやすいが、面内2次元ランダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用い円周配向としてもよい。
【0117】
テープ状磁気記録媒体の場合は、コバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は20〜1000m/分、乾燥風の温度は60℃以上が好ましい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。
カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールまたは金属ロールで処理するが、特に両面磁性層とする場合は金属ロールどうしで処理することが好ましい。処理温度は、好ましくは60〜100℃の範囲、さらに好ましくは70〜100℃である。線圧力は好ましくは196kN/m(200kg/cm)以上、さらに好ましくは294kN/m(300kg/cm)以上である。
【0118】
[物理特性]
ディスク状磁気記録媒体の場合、角形比は2次元ランダムの場合、通常、0.55〜0.67であり、0.58〜0.64であることが好ましい。また、3次元ランダムの場合、角形比は0.45〜0.55であることが好ましい。垂直配向の場合、角形比は垂直方向に通常0.6以上であり、0.7以上であることが好ましい。また、反磁界補正を行った場合は、通常0.7以上であり、0.8以上であることが好ましい。2次元ランダム及び3次元ランダムとも配向度比は0.8以上であることが好ましい。2次元ランダムの場合、垂直方向の角形比、垂直方向のBr及び垂直方向のHcは面内方向の0.1〜0.5倍以内とすることが好ましい。テープ状磁気記録媒体の場合、角形比は0.7以上、好ましくは0.8以上である。
【0119】
本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は、温度−10〜40℃、湿度0〜95%の範囲において、通常0.5以下であり、0.3以下であることが好ましい。表面固有抵抗は、磁性面104〜1012Ω/sqであることが好ましく、帯電位は−500V〜+500Vであることが好ましい。磁性層の0.5%伸びでの弾性率は、面内各方向で980〜19600MPa(100〜2000kg/mm2)であることが好ましく、破断強度は、98〜686MPa(10〜70kg/mm2)であることが好ましい。磁気記録媒体の弾性率は、面内各方向で980〜14700MPa(100〜1500kg/mm2)であることが好ましい。残留伸びは、0.5%以下であることが好ましく、100℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、1%以下であることが好ましく、0.5%以下であることがより好ましく、0.1%以下であることがさらに好ましい。
【0120】
磁性層のガラス転移温度(110Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は、50〜120℃であることが好ましく、中間層(非磁性層)のそれは0〜100℃であることが好ましい。損失弾性率は、1×105〜8×108Paの範囲にあることが好ましく、損失正接は0.2以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で10%以内であり、かつ、ほぼ等しいことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は、100mg/m2以下であることが好ましく、10mg/m2以下であることがさらに好ましい。塗布層が有する空隙率は、非磁性層、磁性層とも30容量%以下であることが好ましく、20容量%以下であることがさらに好ましい。空隙率は、高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方がよい場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク状磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。
【0121】
本発明の磁性層における中心面平均表面粗さRa及び10点平均粗さRzは、前記のとおり、それぞれ5〜50nmである。また、磁性層の最大高さRmaxは0.5μm以下、中心面山高さRpは0.3μm以下、中心面谷深さRvは0.3μm以下、中心面面積率Srは20〜80%、平均波長λaは5〜300μmが好ましい。磁性層の表面の突起数は、前述のとおり10〜20nmの大きさのものを100μm2あたり5〜1000個の範囲であり、これによりサーマルアスペリティを小さくでき、電磁変換特性、摩擦係数を最適化することができる。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±3mm以内とすることが好ましい。本発明の磁気記録媒体は、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし、走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りをよくするなどである。
【0122】
本発明の磁気記録媒体は、上記の平滑層を形成し、次いで、平滑層上に中間層(非磁性層又は磁性層)を形成した後に上層磁性層を形成して作製される。平滑層は支持体の少なくとも一方に設けられ、両方に設けることもできる。
【0123】
マルチメデイア社会になり、画像記録へのニーズは産業界のみならず家庭でも益々強くなっており、本発明の磁気記録媒体は単に文字、数字などのデータ以外に、画像記録用媒体としての機能/コストの要請に十分応えられる能力を持つものである。
本発明の磁気記録媒体は、磁気抵抗型の再生ヘッド(MRヘッド)を用いる磁気記録再生システムに好適に用いることができる。MRヘッドの種類には特に制限はなく、GMRヘッドやTMRヘッドを用いることもできる。記録に用いるヘッドに特に制限はないが、飽和磁化量が1.2T以上であることが好ましく、2.0T以上がさらに好ましい。
本発明の磁気記録媒体は、コンピューターデータ記録用として好適である。
【0124】
【実施例】
以下に、本発明の具体的実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるべきものではない。なお、以下の「部」とは別段断らない限り「質量部」のことである。
【0125】
(実施例1)
1.ポリウレタン樹脂の合成
(1)ポリエステルポリオールの合成
温度計、攪拌機及び還流式冷却器を取り付けた反応容器に、表1に示した二塩基酸であるジメチルエステル及びジオールを仕込み、触媒として酢酸亜鉛4部及び酢酸ナトリウム6部を仕込み、160〜220℃で3時間、エステル交換反応を行い、さらに220〜280℃、1〜10mmHgの減圧下で4時間重縮合反応を行って、ポリエステルポリオールa〜dを得た。
得られたポリエステルポリオールのOH価から平均分子量を求め、さらにC13NMRから組成比を求めた。結果を表1に示す。
【0126】
【表1】
【0127】
(2)ポリウレタン樹脂の合成例
表2に示した組成のポリエステルポリオールと鎖延長剤(ジオール化合物)とを還流式冷却器、攪拌機を具備し、予め窒素置換した容器において、窒素気流下60℃でシクロヘキサノン30%溶液に溶解した。次いで表2に示されたジイソシアネート化合物を加えて、90℃で6時間加熱反応し、ポリウレタン樹脂溶液を得た。
得られたポリウレタン樹脂溶液はGPCを用いて重量平均分子量を測定した。結果を表2に示す。
【0128】
【表2】
【0129】
2.磁性層用及び非磁性層用塗料の調製
(1)磁性層用塗料の調製
強磁性合金粉末(組成:Fe 89atm%,Co 5atm%,Y 6atm%、Hc:151kA/m(1900Oe),結晶子サイズ:15nm,BET比表面積:60m2/g,長軸径:0.08μm,針状比:7,σs:150A・m2/kg(emu/g))100部をオープンニーダーで10分間粉砕し、次いで日本ゼオン(株)製塩化ビニル系樹脂MR110(重合度300)を10部及び表2のポリウレタンAのシクロヘキサノン溶液(固形分30%,SO3Na含量70μeq/g、重量平均分子量4万)を50部加えて60分間混練した。
【0130】
次いで、下記の成分を加えてサンドミルで120分間分散した。
研磨剤(Al2O3;粒子サイズ:0.3μm) 2部
カーボンブラック(粒子サイズ40μm) 2部
メチルエチルケトン/トルエン=1/1 200部
【0131】
さらに、下記の成分を加えて20分間攪拌混合した後、1μmの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層用塗料を得た。
ポリイソシアネート(日本ホ゜リウレタン製コロネート3041) 5部(固形分)
ブチルステアレート 2部
ステアリン酸 1部
メチルエチルケトン 50部
【0132】
(2)非磁性層用塗料(中間層用塗料)の調製
α−Fe2O3(平均粒径:0.15μm,SBET:52m2/g,表面処理Al2O3,SiO2,pH6.5〜8.0)100部 をオープンニーダーで10分間粉砕し、次いで日本ゼオン(株)製塩化ビニル系樹脂MR110(重合度300)を10部及び表2のポリウレタンAのシクロヘキサノン溶液(固形分30%、SO3Na含量70μeq/g、重量平均分子量4万)を50部を加えて60分間混練した。
【0133】
次いで、メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=6/4を200部加えて、サンドミルで120分間分散した。これに
ポリイソシアネート(日本ホ゜リウレタン製コロネート3041) 5部(固形分)
ブチルステアレート 2部
ステアリン酸 1部
メチルエチルケトン 50部
を加え、さらに20分間撹拌混合した後、1μmの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層用塗料を調製した。
【0134】
3.テープ状磁気記録媒体の作製
表3に示した放射線硬化型化合物を30質量%溶液(MEK/トルエン=7/3)に調製したものを乾燥後の厚さが0.5μmになるようにコイルバーを用いて厚さ7μm、中心平均表面粗さRa6.2nmのポリエチレンテレフタレート支持体の表面に塗布して乾燥させた後、塗膜表面に加速電圧150KVの電子線を吸収線量が1Mradになるように照射して平滑層を硬化させた。
その直後に平滑層上に非磁性層用塗料を、さらにその上に磁性層用塗料を乾燥後の厚みがそれぞれ1.5μm、0.1μmになるように、リバースロールを用いて同時重層塗布した。磁性層用塗料が未乾燥の状態で500T・m(5000ガウス)のCo磁石と400T・m(4000ガウス)のソレノイド磁石で磁場配向を行い、溶剤を乾燥したものを金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロールの組み合せによるカレンダー処理を(速度100m/min、線圧300kg/cm、温度90℃)で行った後、3.8mm幅にスリットしてテープ状磁気記録媒体を得た。
【0135】
(実施例2〜4)
実施例1の放射線硬化型化合物を表3に示されたものに変更した以外は、実施例1と同様の方法により実施例2〜4及び比較例1、2のテープ状磁気記録媒体を作製した。
【0136】
(実施例5、6)
実施例1の放射線硬化型化合物を表3に示されたものに変更し、かつ非磁性層を塗設しなかったこと以外は、実施例1と同様の方法により実施例5及び6のテープ状磁気記録媒体を作製した。
【0137】
(比較例1及び2)
実施例1の非磁性層及び磁性層で使用したポリウレタン樹脂を表3に示されたものに変更した以外は、実施例1と同様の方法により比較例1及び2のテープ状磁気記録媒体を作製した。
【0138】
(比較例3)
実施例1において平滑層を非磁性支持体上に塗設しなかったこと以外は、実施例1と同様の方法により比較例3のテープ状磁気記録媒体を作製した。
【0139】
(比較例4)
実施例5において磁性層で使用したポリウレタン樹脂を表3に示されたものに変更した以外は、実施例5と同様の方法により比較例4のテープ状磁気記録媒体を作製した。
【0140】
(比較例5)
実施例5において平滑層を塗設しなかったこと以外は実施例5と同様の方法により比較例5のテープ状磁気記録媒体を作製した。
【0141】
<磁気記録媒体の評価>
(1)平滑層の表面粗さRaの測定
平滑層用塗料を非磁性支持体上に塗布した後、電子線を照射して硬化させて平滑層を塗設したサンプルの表面をデジタルオプティカルプロフィメーター(WYKO製)を用いて光干渉法によりカットオッフ0.25mmの条件で中心平均粗さRaを測定した。結果を表3に示す。
【0142】
(2)磁性層の表面粗さの測定
(1)と同様の方法でテープ状磁気記録媒体のサンプルの表面粗さRaを測定した。
【0143】
(3)電磁変換特性の測定
DDS4ドライブにて4.7MHzの単一周波数信号を最適記録電流で記録し、その再生出力を測定した。比較例3の再生出力を0dBとした相対値で示した。
【0144】
(4)剥離強度の測定
テープ状磁気記録媒体のサンプルにおける磁性層面を両面テープでガラス板に固定し、固定しない部分のテープを折り返し、180度剥離法で剥離時の強度(gf)を測定した。結果を表3に示す。
【0145】
(5)剥離面の観察
剥離面の顕微鏡観察を行い、剥離した界面を調べた。結果を表3に示す。
【0146】
(6)スリット後のテープエッジ観察
3.6mm幅にスリットした後のテープエッジを走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、エッジ部にクラックが発生しているものを×、クラックが発生していないものを○とした。結果を表3に示す。
【0147】
(7)走行によるドロップアウト増加
23℃50%RH環境下で、DDS4ドライブを用いて10分長テープ状磁気記録媒体のサンプルを100回繰り返し走行させた。走行の前後におけるドロップアウト数をドロップアウトカウンターで1分間測定し、5秒以上初期出力に対して−5dB低下したものをドロップアウトとし、繰り返し走行前後でその個数の増加数を調べた。結果を表3に示す。
【0148】
【表3】
【0149】
表3より、ポリウレタン樹脂を原料となるジオールとしてアルキル分岐側鎖を有する脂肪族ジオールを使用した場合(実施例1、2)は、アルキル分岐側鎖を有しない脂肪族ジオールを使用した場合(比較例1、2)に比べて、剥離強度が増加し、テープエッジのクラックの発生はなく、さらに磁性層表面の表面粗さが小さくなり、ドロップアウト数が減少し、かつ再生出力が増加していた。
【0150】
一方、平滑層が設けられたテープ状磁気記録媒体(実施例1〜5)では、非磁性層が設けられた場合(実施例1〜4及び比較例3)及び設けられていない場合(実施例5、比較例4,5)のいずれの場合においても、平滑層が設けられていないテープ状磁気記録媒体(比較例3,4)よりも、剥離強度が遥かに増加し、テープエッジのクラックの発生はなく、さらに磁性層表面の表面粗さが小さくなり、ドロップアウト数が減少し、かつ再生出力が増加していた。
【0151】
これより、支持体上に平滑層を設け、さらに非磁性層において本発明の条件を満たすポリウレタン樹脂を含む結合剤を使用することにより、磁性層表面において良好な塗膜平滑性を示し、優れた電磁変換特性が得られると共に、磁性層の密着性が向上し、さらにドロップアウト数も減少できたことから走行耐久性が向上したことが分かる。
【0152】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に放射線硬化型化合物を放射線硬化して得られた平滑層を有し、さらにこの平滑層上に塗設される層で使用される結合剤が、ポリエステルポリオールと鎖延長剤とジイソシアネートとの反応生成物であって、前記ポリエステルポリオールは二塩基酸が脂肪族二塩基酸を含み、ジオール成分がアルキル分岐側鎖を有し、かつ環状構造を持たない脂肪族ジオールを含み、前記鎖延長剤はアルキル分岐側鎖を持つ脂肪族ジオールを含むポリウレタン樹脂を含有する。
したがって、本発明であれば、磁性層表面において良好な表面平滑性が得られるため、優れた電磁変換特性を有し、かつ磁性層の密着性が向上するため、優れた走行耐久性を有する磁気記録媒体を提供することができる。
Claims (9)
- 非磁性支持体上に、放射線硬化型化合物を放射線硬化して得られた平滑層と、少なくとも一層の強磁性粉末及びポリウレタン樹脂を含有する結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体であって、
前記ポリウレタン樹脂がポリエステルポリオールと鎖延長剤とジイソシアネートとの反応生成物であり、前記ポリエステルポリオールは二塩基酸が脂肪族二塩基酸を含み、ジオール成分がアルキル分岐側鎖を有し、かつ環状構造を持たない脂肪族ジオールを含み、前記鎖延長剤はアルキル分岐側鎖を持つ脂肪族ジオールを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 - 非磁性支持体上に、放射線硬化型化合物を放射線硬化して得られた平滑層と、非磁性粉末及び/又は磁性粉末並びにポリウレタン樹脂を含有する結合剤を含む中間層と、強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有する磁気記録媒体であって、
前記ポリウレタン樹脂がポリエステルポリオールと鎖延長剤とジイソシアネートとの反応生成物であり、前記ポリエステルポリオールは二塩基酸が脂肪族二塩基酸を含み、ジオール成分がアルキル分岐側鎖を有し、かつ環状構造を持たない脂肪族ジオールを含み、前記鎖延長剤はアルキル分岐側鎖を持つ脂肪族ジオールを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記放射線硬化型化合物の25℃における粘度が300mPa・s以下である請求項1又は2に記載の磁気記録媒体。
- 前記放射線硬化型化合物の分子量が2000以下である請求項1〜3のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 前記ポリウレタン樹脂のウレタン基濃度が2.5〜4.5mmol/gである請求項1〜4のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 前記ポリウレタン樹脂の重量平均分子量(Mw)が30,000〜150,000である請求項1〜5のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 前記ポリウレタン樹脂が−SO3M、−OSO3M、−PO3M2及び−COOM(但し、Mは水素原子、アルカリ金属、アンモニウムから選ばれる)から選ばれる少なくとも一種の極性基を1×10−5〜5×10−4eq/g含有する請求項1〜6のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 前記ポリウレタン樹脂のガラス転移温度が30〜200℃である請求項1〜7のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
- 磁性層に磁気記録された信号を磁気抵抗型磁気ヘッドで再生する磁気記録再生システムで用いるための請求項1〜8のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002323256A JP2004158123A (ja) | 2002-11-07 | 2002-11-07 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002323256A JP2004158123A (ja) | 2002-11-07 | 2002-11-07 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004158123A true JP2004158123A (ja) | 2004-06-03 |
Family
ID=32803159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002323256A Pending JP2004158123A (ja) | 2002-11-07 | 2002-11-07 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004158123A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013510929A (ja) * | 2009-11-10 | 2013-03-28 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 耐スミア性インクジェットインク |
-
2002
- 2002-11-07 JP JP2002323256A patent/JP2004158123A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013510929A (ja) * | 2009-11-10 | 2013-03-28 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 耐スミア性インクジェットインク |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20070009768A1 (en) | Magnetic recording medium and method for manufacturing the same | |
JP2006054018A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JP2004213828A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2007294085A (ja) | 磁気記録媒体、磁気信号再生システムおよび磁気信号再生方法 | |
JP2006092691A (ja) | クリーニング媒体 | |
EP1722362B1 (en) | Magnetic recording medium | |
US20060093869A1 (en) | Magnetic recording medium | |
JP2007048427A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JP4199934B2 (ja) | 磁気記録装置用クリーニング媒体 | |
JP2001325716A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2003132516A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2005276285A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2009205726A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP4521289B2 (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録再生システム | |
JP2001283420A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2002208130A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2004158123A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP4078133B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2002367140A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2006099837A (ja) | クリーニング媒体 | |
JP2005115988A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2007012225A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2005228392A (ja) | クリーニングテープ | |
JP2006338795A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2001325709A (ja) | 磁気記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061211 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070110 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070312 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070417 |