JP2004011974A - 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

【課題】加熱室内に設けられた蒸気発生部からの加熱室外への水漏れに対する安全対策をすること。
【解決手段】高周波発生部３と、前記加熱室２内で蒸気を発生する蒸気発生部４とを備え、前記蒸気発生部４の下部に水受け用仕切部３４を設けたことにより、加熱室２外へ滴下した水を、水受け用仕切部３４に滞留することにより、装置本体外に水が、こぼれるという製品の品位の低下を防ぎ、そして水の浸入による製品の誤動作の防止及び感電事故からの防止等、安全性を向上させることができる。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせて被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置において、蒸気発生部の水漏れに対する安全対策に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
高周波加熱の利便性、電熱加熱の調理範囲の多さ、蒸気加熱の特化した調理性能を融合した加熱調理器を実現したものが、例えば特開昭５４−１１５４４８号公報に開示されている。ところが、上記広報の構成によれば、加熱蒸気発生のための気化室が加熱室の下方に埋設されているために、日常における加熱室周辺の清掃作業が行いにくく、カビ等の繁殖しやすい不衛生な環境となる問題があった。また、加熱室の外側にボイラ等により蒸気を発生させ、加熱室に供給する方式も考えられるが、蒸気導入のためのパイプに雑菌が繁殖したり、加熱手段の清掃が困難であるという問題があった。このように、食品を扱うため、特に衛生面の配慮が要求される加熱調理器においては、外部から蒸気を導入する方式は採用し難いものであった。
【０００３】
そこで、加熱室内に蒸気発生部を設けた構成の蒸気発生機能付き高周波加熱調理器が、本願に先だって考案されている。
【０００４】
図５は本願に先だって考案された蒸気発生機能付き高周波加熱調理器の開閉扉９を開けた状態を示す正面図である。図５おいて、被加熱物を収納する加熱室２に、高周波を発生する高周波発生部としてのマグネトロン３が、前記加熱室の底面に設けられている。また、加熱室２内で蒸気を発生する蒸気発生部４が加熱室２の奥側に設けられている。図６（ａ）は、同蒸気発生機能付き高周波加熱調理器の加熱室２の構成を示す斜視図、図６（ｂ）は、同加熱室の構成を示す底部分解斜視図、そして図７は、同蒸気発生機能付き高周波加熱調理器の蒸気発生部の構成を示す横断面図である。図６（ａ）、（ｂ）おいて、加熱室２は、加熱室上面部４５、加熱室後・側面部４６、加熱室底面部２１、蒸気発生部４を構成する蒸発皿１６等の部材をカシメやスポット溶接等により結合することにより構成している。図７おいて、蒸気発生部４を構成する蒸発皿１６は、結合部ａ４７・結合部ｂ４８を、カシメやスポット溶接することにより各々加熱室底面部２１と加熱室後面部１１と結合している。また、蒸発皿１６前部には、シリコンゴム製のシール材２８で外周部を覆われた被加熱物を載置するためのセラミック製の皿受け台２９が、加熱室底面部の窪み部に圧入することにより取付けられている。前記蒸発皿１６には、加熱室２外より水が補給され、その補給された水が、前記蒸発皿１６の下部に設置している蒸発皿加熱ヒータ（図示せず）を加熱することにより蒸気を発生する構成である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来の構成では、蒸発皿１６に正常に給水が行われている場合は、水が蒸発皿１６の水溜め用凹部１５の範囲内にあれば問題ないのであるが、給水制御が誤動作をした場合、予備用水溜め凹部４３の範囲を水位が超えることが生じる。蒸発皿１６の前部には、前述したシリコンゴム製のシール材２８が設けられており、溢れた水は加熱室２内に滞留し、蒸気発生機能付き高周波加熱装置本体外に水が、こぼれることによる製品品位を損なうことはないが、加熱室２後部と蒸発皿１６の接合部２２からは水が滴り落ち、装置本体外への水の滴下が生じる。また、加熱室２内の飽和した水蒸気が加熱室後面部１１に結露成長し滴下した場合にも、前述したように、加熱室２後部と蒸発皿１６の接合部２２より水が滴り落ちることが正常動作時でも生じる恐れがある。
【０００６】
このように調理器本体外に水が、こぼれるという製品品位を損なう課題に加え、前記加熱室２の底部には、調理器本体の動作を制御する制御回路等の制御部が設けられており、この部分に滴下水が浸入した場合には、制御不能になるという大きな課題がある。特に図８に示すように蒸発皿１６の奥側端部には、鋼板の成形上の制約から隙間が必然的に生じるため、この部分に水が達した場合には、容易に加熱室２外に滴下するという課題を有していた。
【０００７】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、加熱室内で蒸気を発生する構成の蒸気発生機能付き高周波加熱装置における蒸気発生部から加熱室外への水漏れに対する保護を行なうことにより、製品の品位の低下を防ぎ、そして水の浸入による製品の誤動作の防止及び感電事故からの防止等、安全性を向上させた蒸気発生機能付き高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記従来の課題を解決するために、本発明の請求項１記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部とを備え、前記蒸気発生部の下部に水受け用仕切部を備えたことを特徴とする。
【０００９】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部の下部に水受け用仕切部を設けているので、給水装置の異常動作時や正常動作時に起こる加熱室内の飽和した水蒸気が加熱室後面部に結露成長し滴下し、加熱室後部と蒸発皿の接合部から滴り落ちた水を、水受け用仕切部に滞留することにより、装置本体外に水が、こぼれるという製品の品位の低下を防ぎ、そして水の浸入による製品の誤動作の防止及び感電事故からの防止等、安全性を向上させることができる。
【００１０】
請求項２記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、蒸気発生部が、加熱により蒸気を発生する水溜凹所を有した蒸発皿を前記加熱室内に備えてなるものであることを特徴とする。
【００１１】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、加熱室内に蒸発皿配し、その蒸発皿の水溜凹所に溜めた水を加熱することにより蒸気を発生するようにしているので、加熱室内の清掃と同時に、蒸気を発生する部分の清掃を簡単に行なうことができる。これは即ち、蒸気発生の過程で、水分中のカルシウムやマグネシウム等が濃縮されて蒸発皿の底部に沈殿固着することがあるが、蒸発皿の表面に付着したものを取り除くだけで簡単に清掃が完了するので、常に加熱室内の環境を衛生的に保つことができる。
【００１２】
請求項３記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部と、前記加熱室内に設けられ、水溜凹所を有した蒸発皿を蒸発皿用加熱ヒータで加熱しながら蒸気を発生させる蒸気発生部とを備え、前記蒸発皿用加熱ヒータの下部に水受け用仕切部を備えたことを特徴とする。
【００１３】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸発皿加熱ヒータで蒸発皿を加熱することにより蒸気を発生するようにしているので、簡単な構造で効率良く蒸気を発生することができる。
【００１４】
請求項４記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部と、前記加熱室内に設けられ、水溜凹所を有した蒸発皿を蒸発皿用加熱ヒータで加熱しながら蒸気を発生させる蒸気発生部と、前記蒸発皿用加熱ヒータからの輻射熱を蒸発皿へ反射する反射板を備え、前記反射板の下部に水受け用仕切部を備えたことを特徴とする。
【００１５】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸発皿用加熱ヒータからの輻射熱を反射板により蒸発皿に向けて反射するようにしているので、ヒータの発生する熱を高効率で蒸気発生のために利用することができる。さらに、前記反射板の下部に水受け用仕切部を備えているので自然対流による前記反射板の表面温度の低下を防止することができるので、より効率良く蒸気を発生させることができる。
【００１６】
請求項５記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、水受け用仕切部を蒸発皿と加熱室の結合部分の底面積より大きくしたことを特徴とする。
【００１７】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、加熱室の結合部分の底面積より、水受け用仕切部の底面積を大きくしているので、加熱室の結合部より滴下する水を全て水受け用仕切部に滞留することができる。
【００１８】
請求項６記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、水受け用仕切部を凹部形状にしたことを特徴とする。
【００１９】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、水受け用仕切部を凹部形状にしているので、蒸発皿用加熱ヒータ及び反射板を覆うように構成することが可能となり、反射板の放熱による低温化を防止する保温効果が生じ、より効率良く蒸気を発生させることができる。
【００２０】
請求項７記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、水受け用仕切部に水が溜まるための水溜まり部を備えたことを特徴とする。
【００２１】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、水受け用仕切部に水が溜まるための水溜まり部を設けているので、前記加熱室の結合部より滴下する水を滞留することが可能となり、調理器本体外に水が、こぼれるという製品品位の低下を防ぎ、そして水の浸入による製品の誤動作の防止及び感電事故からの防止等、安全性を向上させることができる。
【００２２】
請求項８記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、水受け用仕切部は、アルミメッキ処理や亜鉛メッキ処理などの表面処理を施した鋼板を用いたことを特徴とする。
【００２３】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、水受け用仕切部をアルミメッキ処理や亜鉛メッキ処理などの表面処理を施した鋼板を用いているので、樹脂の成形品で構成する場合と比較して、省スペースで安価なものに構成することができる。さらに、表面処理を施しているので基材のままと比較して熱線の反射率が高く、より効率良く蒸気を発生させることができる。
【００２４】
請求項９記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、蒸発皿用加熱ヒータの加熱を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００２５】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸発皿用加熱ヒータの加熱を制御する制御手段を設けているので、蒸発皿の温度を制御することが可能となり、各々の被加熱物に適した蒸気量を発生させることができる。また、蒸気発生の過程で、水分中のカルシウムやマグネシウム等が濃縮されて蒸発皿の底部に沈殿固着する物質が、蒸発皿表面に焼き付くことを防止することが可能となり、清掃が容易に行なえ、加熱室を清潔に保つことができる。
【００２６】
請求項１０記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、制御手段は、水受け用仕切部に溜まっている水を蒸発させるために調理終了後も加熱制御を行うことを特徴とする。
【００２７】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、調理終了後も加熱制御を行うようにしているので、正常な動作により発生した飽和水蒸気が、加熱室後面部に結露成長し、水受け用仕切部に滴下した水を蒸発（気化）することが可能となり、カビ等の菌の繁殖を防止することができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
請求項１に記載の発明は、被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部とを備え、前記蒸気発生部の下部に水受け用仕切部を備えたことにより、給水装置の異常動作時や正常動作時に起こる加熱室内の飽和した水蒸気が加熱室後面部に結露成長し滴下し、加熱室後部と蒸発皿の接合部から滴り落ちた水を、水受け用仕切部に滞留することにより、装置本体外に水が、こぼれるという製品の品位の低下を防ぎ、そして水の浸入による製品の誤動作の防止及び感電事故からの防止等、安全性を向上させることができる。
【００２９】
【実施例】
以下本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。
【００３０】
図２は、本発明の一実施例における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図３は、この装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を前後から見た斜視図、図１は、蒸発皿と蒸発皿加熱ヒータ及び、この装置の底部の構造を示す横断面図である。
【００３１】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置１は、被加熱物を収納する加熱室２に、高周波（マイクロ波）と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、高周波を発生する高周波発生部としてのマグネトロン３と、加熱室２内で蒸気を発生する蒸気発生部４と、加熱室２内の空気を攪拌・循環させる循環ファン５と、加熱室２内を循環する空気を加熱する加熱室内気加熱ヒータとしてのコンベクションヒータ６と、加熱室２の壁面に設けた検出用孔を通じて加熱室２内の温度を検出する赤外線センサ７とを備えている。
【００３２】
加熱室２は、前面開放の箱形の本体ケース８内部に形成されており、本体ケース８の前面に、加熱室２の被加熱物取出し口を開閉する透光窓９ａ付きの開閉扉９が設けられている。開閉扉９は、下端が本体ケース８の下縁にヒンジ結合されることで、上下方向に開閉可能となっている。加熱室２と本体ケース８との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。特に加熱室２の背後の空間は、循環ファン５及びその駆動にモータ（図示せず）を収納した循環ファン室１０となっており、加熱室２の後面の壁が、加熱室２と循環ファン室１０とを画成する加熱室後面壁１１となっている。加熱室後面壁１１には、加熱室２側から循環ファン室１０側への吸気を行なう吸気用通風孔１２と、循環ファン室１０側から加熱室２側への送風を行なう送風用通風孔１３とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔１２，１３は、多数の金型のパンチにより打抜かれて形成されている。
【００３３】
循環ファン５は、加熱室後面壁１１の中央部に回転中心を位置させて配置し、そして循環ファン５の外周部に、コンベクションヒータ６を配置、さらに吸気用通風孔１２を循環ファン５の中心部に、そして送風用通風孔１３をコンベクションヒータ６の外周部に配置することにより、循環ファン５により加熱室２から吸気された室内気は、循環ファン室１０のコンベクションヒータ６へ送られ、その温度を加昇した後、送風用通風孔１３より加熱室２へ送風される。このように、加熱室内気の温度を加昇しながら加熱室内気を攪拌する循環サイクルを行なうことにより、加熱室２内の保加熱物を電熱加熱する構成である。
【００３４】
マグネトロン３は、例えば加熱室２内の下側の空間に配置されており、マグネトロン３より発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根１４が設けられている。そして、マグネトロン３からの高周波を、回転するスタラー羽根１４に照射することにより、該スタラー羽根１４によって高周波を加熱室２に攪拌しながら供給し、加熱室２内の保加熱物を高周波加熱する構成である。なお、マグネトロン３やスタラー羽根１４は、加熱室２の底部に限らず、加熱室２の上面や側面側に設けることもできる。
【００３５】
図３は、蒸気発生部４の一部分である給水した水を加熱し蒸気を発生する水溜凹所を１５を有した蒸発皿１６の斜視図である。図３に示すように、蒸発皿１６は鋼板を成形加工して形成されている。蒸発皿１６の外周部には加熱室２を構成する加熱室側面壁・加熱室底面壁・加熱室後面壁１１の結合部とカシメ及びスポット溶接等により結合するためのフランジ状の結合部ａ１７・結合部ｂ１８・結合部ｃ１９がもうけられている。蒸発皿１６には、鋼板を成形加工する制約上、加熱室後面壁１１と接触する両端部には隙間２０がある。
【００３６】
図１に示すように、蒸気発生部４の一部分である蒸発皿１６は、前述した結合部ｂにより加熱室底面壁２１と、結合部ｃにより加熱室後面壁１１と、結合されている。結合は、カシメ及びスポット溶接等の方法でするため結合面の水密性は完全ではなく、例えば蒸発皿１６の結合部ｃ１９と加熱室後面壁１１の合せ部２２に水が存在した場合には、下方へ微量ではあるが滴下する。前記蒸発皿１６の水溜凹所を１５の下方には、ガラス管２３とヒータ線２４から構成された蒸発皿加熱ヒータ２５が設けられている。その蒸発皿加熱ヒータ２５の外側には、該ヒータ２５の輻射熱を蒸発皿１６に向けて反射する断面略Ｕ字形の反射板２６を、そして反射板２６の外側には、主に反射板２６の温度低下を防止するための遮熱板２７が設けられている。また、蒸発皿１６前部には、シリコンゴム製のシール材２８で外周部を覆われた被加熱物を載置するためのセラミック製の皿受け台２９が、加熱室底面部の窪み部に圧入することにより取付けられている。
【００３７】
加熱室後面壁１１の後方には、循環ファン室１０を構成する裏板３０を設け、その裏板３０の下方には装置本体を支持する底板３１と装置本体の設置面と当接する脚ゴム４２を設けている。底板３１と蒸気発生部４を構成する遮熱板２７間の空間には、蒸気発生機能付き高周波加熱装置１の加熱動作を制御するマイコン・リレー等の電子部品３２を搭載した制御基板３３が設けられている。この空間には、もう一つの部品が設けられており、それは、前述した制御基板３３と遮熱板２７との間にある水受け用仕切り部３４である。この水受け用仕切り部３４の後端部は、蒸発皿１６の結合部ｃ及び加熱室後面壁１１の結合部の端部より延出しているとともに、その中央部には水が溜るように凹形状に形成している。
【００３８】
図４は、装置本体のケース（キャビネット）・開閉扉９・底板３１等を除いた状態にして蒸発皿１６への給水構成を示す左側面図である。図４において、加熱室２を構成する加熱室後面壁１１と加熱室側面壁３５、そして開閉扉９と対向する扉板３６の内側には、加熱室側面壁３５からの遮熱・断熱をするタンクケース３７が設けられている。そのタンクケース３７の内側には水を貯えるタンク３８があり、タンク３８内の水は、ポンプ３９により、ノズル・ホースから構成される吸入部４０からポンプ３９へ、そして２つのノズル・ホースから構成される吐出部４１を経て加熱室２内へ導かれて、蒸発皿１６へ到達する。
【００３９】
以上のように構成された蒸気発生機能付き高周波加熱装置の、蒸気加熱とその発生蒸気が結露することによる装置本体内外への損傷を防止する動作、作用について説明する。
【００４０】
まず、被加熱物を加熱室２内へ収納し、操作部（図示せず）から蒸気加熱を設定すると、制御基板３３の制御により、タンク３８に貯水された水がポンプ３９によって吸入部４０・吐出部４１を経て加熱室２内の蒸発皿１６に給水される。次に蒸発皿加熱ヒータ２５を動作し、蒸発皿１６の水溜凹所１５を集中加熱し蒸気を発生させる。設定した加熱パターンに応じて高周波加熱やコンベクションヒータ６による電熱加熱と組合わせることにより、被加熱物を最適な状態に加熱することができる。加熱室２内の温度等に応じて決まる過飽和蒸気は、加熱室２内の壁面に結露・成長し、壁面を滴下する。滴下した水は、加熱室２の底面に設けられたシリコンゴム製のシール材２８により皿受け台２９上に溜まるため、加熱室２外に滴下することなく装置本体を損傷することはないが、加熱室後面壁１１を滴下した水は、蒸発皿１６の結合部ｃ１９と加熱室後面壁１１の合せ部２２より結合部の微少な隙間から裏板３０・底板３１、そして脚ゴム４２を伝って装置本体外へ滴下し、装置の品位を低下する危険性がある。特に蒸発皿１６の奥側両端部は鋼板加工の制約から隙間２０があり、この部分に滴下すると容易に上記現象が起こる。また、ポンプ３９等の制御が誤動作し過給水されて、予備用水溜凹所４３を超えた場合も、同様な結果になる。さらに、危険なことは万が一、水溜凹所１５にクラック等の貫通部が発生した場合には、水溜凹所１５の下部にある制御基板３３に滴下し、製品の誤動作や感電事故を招く危険性がある。
【００４１】
本実施例においては、水溜凹所１５の下部には、蒸発皿１６の結合部ｃ及び加熱室後面壁１１の結合部の端部より延出している形状にした、しかもその中央部には水が溜る凹形状に形成している水受け用仕切り部３４が設けられており、蒸発皿１６の結合部ｃ１９と加熱室後面壁１１の合せ部２２より滴下する水を全て貯水部４４に滞留することができる。この貯水部４４の貯水量は任意に設定できるので、タンク３８の容量より多くすることが可能であり、タンク３８の全ての水が蒸発皿１６の結合部ｃ１９と加熱室後面壁１１の合せ部２２より滴下するという通常では起こり得ない事態にも対応することができる。
【００４２】
以上のように、本実施例においては、給水装置の異常動作時や正常動作時に起こる加熱室内の飽和した水蒸気が加熱室後面部に結露成長し滴下し、加熱室後部と蒸発皿の接合部から滴り落ちた水を、水受け用仕切部に滞留することにより、装置本体外に水が、こぼれるという製品の品位の低下を防ぎ、そして水の浸入による製品の誤動作の防止及び感電事故からの防止等、安全性を向上させることができる。
【００４３】
また、本実施例では、アルミメッキ処理や亜鉛メッキ処理などの表面処理を施した鋼板を用いて水受け用仕切り部３４を構成しているので、樹脂の成形品で構成する場合と比較して、省スペースで安価なものすることができ、そして、基材のままと比較して熱線の反射率が高く、より効率良く蒸気を発生させることもでき、さらに、水受け用仕切部を凹部形状にし反射板を覆うように構成しているので遮熱板２７の自然対流による温度低下を防止でき、より効率良く蒸気を発生させることができる。
【００４４】
また、本実施例では、調理終了後も加熱制御を行うようにしているので、正常な動作により発生した飽和水蒸気が、加熱室後面壁１１に結露成長し、水受け用仕切部に滴下した水を蒸発（気化）することが可能となり、カビ等の雑菌の繁殖を防止することができる。
【００４５】
【発明の効果】
本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置によれば、給水装置の異常動作時や正常動作時に起こる加熱室内の飽和した水蒸気が加熱室後面部に結露成長し滴下し、加熱室後部と蒸発皿の接合部から滴り落ちた水を、水受け用仕切部に滞留することにより、装置本体外に水が、こぼれるという製品の品位の低下を防ぎ、そして水の浸入による製品の誤動作の防止及び感電事故からの防止等、安全性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸発皿と蒸発皿加熱ヒータ及び、この装置の底部の構造を示す横断面図
【図２】同蒸気発生機能付き高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図
【図３】同蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸気発生部の蒸発皿を前後から見た斜視図
【図４】同蒸気発生機能付き高周波加熱装置の装置本体のケース（キャビネット）・開閉扉・底板等を除いた状態での蒸発皿への給水構成を示す左側面図
【図５】従来例の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図
【図６】（ａ）同蒸気発生機能付き高周波加熱装置の加熱室２の構成を示す斜視図
（ｂ）同加熱室の構成を示す底部分解斜視図
【図７】同蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸気発生部の構成を示す横断面図
【図８】同蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸気発生部の結合状態を示す部分斜視図
【符号の説明】
１０　循環ファン室
１１　加熱室後面壁
１３　送風用通風孔
１５　水溜凹所
１６　蒸発皿
１８　結合部ｂ
１９　結合部ｃ
２１　加熱室底面壁
２２　合せ部
２３　ガラス管
２４　ヒータ線
２５　蒸発皿加熱ヒータ
２６　反射板
２７　遮熱板
２８　シール材
２９　皿受け台
３０　裏板
３１　底板
３２　電子部品
３３　制御基板
３４　水受け用仕切り部
４２　脚ゴム
４３　予備用水溜凹所
４４　貯水部

Claims (10)

1. 被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部とを備え、前記蒸気発生部の下部に水受け用仕切部を備えたことを特徴とする蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
2. 蒸気発生部が、加熱により蒸気を発生する水溜凹所を有した蒸発皿を前記加熱室内に備えてなるものであることを特徴とする請求項１に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
3. 被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部と、前記加熱室内に設けられ、水溜凹所を有した蒸発皿を蒸発皿用加熱ヒータで加熱しながら蒸気を発生させる蒸気発生部とを備え、前記蒸発皿用加熱ヒータの下部に水受け用仕切部を備えたことを特徴とする蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
4. 被加熱物を収容する加熱室に、高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、高周波発生部と、前記加熱室内に設けられ、水溜凹所を有した蒸発皿を蒸発皿用加熱ヒータで加熱しながら蒸気を発生させる蒸気発生部と、前記蒸発皿用加熱ヒータからの輻射熱を蒸発皿へ反射する反射板を備え、前記反射板の下部に水受け用仕切部を備えたことを特徴とする蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
5. 水受け用仕切部は蒸発皿と加熱室の結合部分の底面積より大きくしたことを特徴とする請求項２〜３のいずれか１項に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
6. 水受け用仕切部を凹部形状にしたことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
7. 水受け用仕切部に水が溜まるための水溜まり部を備えたことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
8. 水受け用仕切部は、アルミメッキ処理や亜鉛メッキ処理などの表面処理を施した鋼板を用いたことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
9. 蒸発皿用加熱ヒータの加熱を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする請求項３または４に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
10. 制御手段は、水受け用仕切部に溜まっている水を蒸発させるために調理終了後も加熱制御を行うことを特徴とする請求項９に記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。

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