JP2004085914A - Digital camera - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a digital camera which can perform more adequate exposure control when a manual focusing operation is further performed after an automatic focusing operation. <P>SOLUTION: The digital camera has three exposure control systems. The one is an averaged light measuring system and the other two are a follow system and a non-follow system. In the follow systems, the light measuring pattern (light measuring region) meeting the lens position of a photographing lens 2 is selected as an objective light measuring pattern (objective light measuring region) from a plurality of the light measuring patterns varying in the central position of the light measuring after the direct manual focusing operation and the exposure control is performed in accordance with the evaluation value relating to the objective light measuring pattern. In the non-follow system, the exposure control is performed by using the predetermined light measuring pattern as the objective light measuring pattern without changing the objective light measuring patterns. In the averaged light measuring system, the exposure control is performed in accordance with the predetermined light measuring patterns to be exclusively used. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【００３８】
後述するように、このデジタルカメラ１は複数の露出制御方式を有しており、重み付け係数Ｋｉｊの値は方式毎に異なっている。
【００３９】
画像メモリ３４は、本撮影時にＣＣＤ撮像素子１０で取得され上記の画像処理が施された画像データを一時的に記憶するメモリである。画像メモリ３４は、少なくとも１フレーム分の記憶容量を有している。そして本撮影後に画像のアフタービュー表示等が行われる場合には、画像メモリ３４から表示制御部３３に画像データが与えられ、撮影画像を確認するための画像表示が行われる。また、ユーザによって記録指示が与えられた場合には、画像メモリ３４からメモリカード９０に対して画像データが転送され、画像データの記録保存が行われる。
【００４０】
カードインタフェース（カードＩ／Ｆ）３７は、デジタルカメラ１側面の挿入装着部に対して装着されるメモリカード９０への画像データの書込み及び読出しを行うためのインタフェースである。メモリカード９０に対する画像データの読み書き時には、圧縮・伸張部３６において例えばＪＰＥＧ方式で画像データの圧縮処理又は伸張処理が行われる。また、外部接続インタフェース（外部接続Ｉ／Ｆ）３８は通信ケーブル等を介して外部コンピュータ９１と通信可能にするためのインタフェースであり、例えばＵＳＢ規格に準拠した通信用インタフェース等で実現される。これらカードＩ／Ｆ３７、外部接続Ｉ／Ｆ３８を介して、メモリカード９０や外部コンピュータ９１にセットされるＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体に記録される制御プログラムを、全体制御部２０のＲＡＭ２０ａ又はＲＯＭ２０ｂ内に取り込むことができる。
【００４１】
操作部３５は、上述したモード切替えダイアル３、メニューボタン６、コントロールボタン７、シャッタボタン９、ＡＥロックボタン４２、及び拡大ボタン３５ａ等を含む操作部であり、ユーザがデジタルカメラ１の設定を操作する部材である。
【００４２】
全体制御部２０は内部にＲＡＭ２０ａ及びＲＯＭ２０ｂを備えたマイクロコンピュータによって構成され、マイクロコンピュータが所定の制御プログラムを実行することにより、上記各部を統括的に制御する制御手段として機能する。
【００４３】
図６は、全体制御部２０の一部の機能的構成を示す機能ブロック図である。図６に示すように、全体制御部２０は、自動合焦動作を制御する自動合焦制御部（ＡＦ制御部とも称する）２１と、手動合焦動作を制御する手動合焦制御部（ＭＦ制御部とも称する）２２と、露出制御を行う露出制御部２３とを有している。上記のＤＭＦ動作は、ＡＦ制御部２１とＭＦ制御部２２とが協動することによって実現される。また、露出制御部２３は、撮影者の操作により設定された露出制御方式（測光モード）に基づいて露出制御を行う。なお、露出制御方式および各部の動作については後述する。
【００４４】
＜ＡＥについて＞
次に、デジタルカメラ１の自動露出制御（ＡＥ）について説明する。
【００４５】
デジタルカメラ１は、露出制御方式として、平均測光方式と要部重点測光方式とを切り替え可能に備えている。また、後者の要部重点測光方式は２つのサブモード（追従方式および非追従方式）にさらに区別される。したがって、このデジタルカメラ１は、合計３つの露出制御方式を備えていることになる。また、「露出制御方式」は、「測光モード」の種類によって区別することができる。言い換えれば、測光モードを選択することによって露出制御方式を選択することができる。すなわち、測光モードを選択することは、露出制御方式を選択することと等価である。
【００４６】
これらの露出制御方式（測光モード）の切り替えはメニューボタン６およびコントロールボタン７を用いた操作により行われる。
【００４７】
具体的には、操作者は、メニューボタン６およびコントロールボタン７を用いた適宜の操作によって図７のようなメニュー画面Ｐ１をＬＣＤ５等に表示させ、コントロールボタン７の十字カーソルボタン７Ｕ，７Ｄ，７Ｌ，７Ｒ及び決定ボタン７Ｃを用いて所望の測光モードを選択する。より詳細には、平均測光モードと要部重点測光モードとのうちの所望のモードを選択する。これにより、デジタルカメラ１の露出制御方式は、平均測光方式と要部重点測光方式とのいずれかに選択的に設定される。
【００４８】
また、操作者は、要部重点測光方式を選択した場合には、図８に示されるメニュー画面Ｐ２を用いて、さらに追従方式と非追従方式とのいずれかを選択することができる。具体的には、操作者は、メニューボタン６およびコントロールボタン７を用いた適宜の操作によって図８のようなメニュー画面Ｐ１をＬＣＤ５等に表示させ、コントロールボタン７の十字カーソルボタン７Ｕ，７Ｄ，７Ｌ，７Ｒ及び決定ボタン７Ｃを用いて所望の測光モードを選択する。より詳細には、追従モードと非追従モードとのうちの所望のモードを選択する。これにより、デジタルカメラ１の露出制御方式は、追従方式と非追従方式とのいずれかに選択的に設定される。
【００４９】
以上の操作によって、デジタルカメラ１における露出制御方式は、３つの測光方式、すなわち、平均測光方式、追従方式、および非追従方式のうちの所望の方式に設定される。
【００５０】
各測光モードの説明を大略的に行うと、まず、平均測光モードは、ＬＣＤ５などに表示されるライブビュー画像の全体、例えば図５に示す画像Ｇ０の全領域に基づいて、その領域全体について均一なウエイト配分で測光を行うモードである。このとき、数１における重み付け係数（以下、単に係数とも称する）Ｋｉｊは、全て同一の値となる。言い換えれば、平均測光モードは、係数Ｋｉｊが全て同一となる測光パターンを用いて、露出制御を行うモードである。
【００５１】
また、要部重点測光モードは、画面（画像）内での位置に応じてその測光輝度の重要度を変更するモードである。このモードにおいては、係数Ｋｉｊは、画面内の所定の測光中心位置からの距離に応じて変更される。より詳細には、測光中心位置からの距離が大きいほど係数Ｋｉｊは小さな値となる。このように、要部重点測光モードは、係数Ｋｉｊの値が測光中心位置からの距離に応じて変化する測光パターン（以下、測光パターンＰＥＡとも称する）を用いて露出制御を行うモードである。
【００５２】
図９、図１０、および図１１は、この要部重点測光モードにおいて用いられる３つの測光パターンＰＥＣ，ＰＥＬ，ＰＥＲを示す図である。
【００５３】
より詳細には、要部重点測光モードのうち「追従モード」においては、３つの測光パターンＰＥＣ，ＰＥＬ，ＰＥＲのうちのいずれかがレンズ位置に応じて選択的に採用される。また、要部重点測光モードのうち「非追従モード」においては、ＤＭＦ後のレンズ位置にかかわらず、常に測光パターンＰＥＣが用いられる。なお、図９〜図１１においては、破線で囲まれる小さな矩形領域が、それぞれ、画像Ｇ０における各ブロックＢｉｊを示している。
【００５４】
これらの図に示されるように、３つの測光パターンは、測光における重点部分（言い換えれば、「測光中心位置」）が互いに異なっている。
【００５５】
図９は、画像Ｇ０の中央部の測光輝度を他の部分に比べて重要視する測光パターン（以下、「中央重点パターン」とも称する）ＰＥＣを示す図である。中央重点パターンＰＥＣの測光中心位置は、画像Ｇ０の中央部に存在する。
【００５６】
図１０は、画像Ｇ０の中央左寄りの部分の測光輝度を他の部分に比べて重要視する測光パターン（以下、「左重点パターン」とも称する）ＰＥＬを示す図である。左重点パターンＰＥＬの測光中心位置は画像Ｇ０内の左寄りの位置に存在する。
【００５７】
図１１は、画像Ｇ０の中央右寄りの部分の測光輝度を他の部分に比べて重要視する測光パターン（以下、「右重点パターン」とも称する）ＰＥＲを示す図である。右重点パターンＰＥＲの測光中心位置は画像Ｇ０内の右寄りの位置に存在する。
【００５８】
画像Ｇ０は、図５に示すように、縦方向に１５ブロック、横方向に２０ブロック、合計３００のブロックＢｉｊに分割されている。図９〜図１１においては、各ブロックＢｉｊに対応する係数Ｋｉｊの大きさを濃淡で区別して示している。ここでは、係数Ｋｉｊは、４段階の値（たとえば、１，２／３，１／３，０）のいずれかを有するものとする。図においては、これらの４段階の値のそれぞれは４段階の濃淡で区別して示されている。具体的には、図中において、ブロックＢｉｊの濃度が小さくなるにつれて係数値Ｋｉｊが徐々に小さくなり、最も薄い部分（白色部分）は最も小さな係数値を表現している。
【００５９】
たとえば、図９の中央重点パターンＰＥＣにおいては、係数Ｋｉｊは次のような配分となる。具体的には、係数Ｋｉｊは、中央の８つの濃色ブロック（たとえば（ｉ，ｊ）＝（８，１０）のブロックＢｉｊなど）において最も大きな値（たとえば１．０）となり、逆に最も外側の白色ブロックにおいて最も小さな値（たとえば０．０）になる。また、両者の中間に位置するブロックの係数Ｋｉｊは、両者の中間的な値（たとえば２／３または１／３）となり、ブロックの色が濃い方が大きな値（たとえば２／３）になる。中央重点パターンＰＥＣにおいては、図９に示すように、係数Ｋｉｊは中央に近づくほど段階的に大きな値になる。
【００６０】
また、図１０の左重点パターンＰＥＬは、中央左寄りの位置のブロックＢｉｊを最重要視するパターンである。具体的には、左寄りの位置（ｉ，ｊ）＝（８，７），（８，８）を中心とする８つのブロックＢｉｊにおいて、係数Ｋｉｊは最も大きな値となり、この左寄りの位置から遠ざかるにつれて、係数Ｋｉｊは段階的に小さな値となる。
【００６１】
さらに、図１１の右重点パターンＰＥＲは、中央右寄りの位置のブロックＢｉｊを最重要視するパターンである。具体的には、右寄りの位置（ｉ，ｊ）＝（８，１３），（８，１４）を中心とする８つのブロックＢｉｊにおいて係数Ｋｉｊは最も大きな値となり、この右寄りの位置から遠ざかるにつれて、係数Ｋｉｊは段階的に小さな値となる。
【００６２】
なお、上記の３つの測光パターンＰＥＣ，ＰＥＬ，ＰＥＲにおいては、その測光中心位置（言い換えれば、係数Ｋｉｊの平面的配置における仮想的な重心位置）が互いに異なっており、その測光対象となる主要エリアが互いに相違している。特に、各測光パターンにおける最も外側の部分（図の白色ブロック）の係数Ｋｉｊがゼロの場合には、実際に測光制御の対象となるエリア（白色以外のブロックから構成されるエリア）が、３つの測光パターンＰＥＣ，ＰＥＬ，ＰＥＲの間で互いに相違する。また、各測光パターンにおける最も外側の部分の係数Ｋｉｊがゼロ以外の値の場合であっても、３つの測光パターンＰＥＣ，ＰＥＬ，ＰＥＲは、その測光中心位置が互いに異なっている。したがって、上記の３つの測光パターンＰＥＣ，ＰＥＬ，ＰＥＲは、その測光中心位置が互いに異なる「測光エリア（ないし測光領域）」であるとも表現できる。
【００６３】
この要部重点測光モードにおいては、これらの３つの測光パターンＰＥＣ，ＰＥＬ，ＰＥＲの中から選択されたいずれかの測光パターンを用いて露出制御が行われる。要部重点測光モードにおいては、上述したように、２つのサブモードが存在する。これらの２つのサブモードは、測光パターンの決定手法（選択手法）において互いに相違する。次に、各サブモードにおける測光パターンの決定手法について説明する。
【００６４】
２つのサブモードのうちの一方は、「追従モード」（ないし「測光エリア追従モード」）である。この追従モードは、ダイレクトマニュアルフォーカス（ＤＭＦ）時において、手動操作によるレンズ位置の移動に応じて、測光パターン（測光エリアないし測光領域）を追従させて変更するモードである。また、他の一方は、「非追従モード」（ないし「測光エリア非追従モード」）である。この非追従モードは、ＤＭＦ時において、手動操作によるレンズ位置が移動しても測光パターン（測光エリア）を変更しない（追従させない）モードである。なお、このサブモードの設定は、上述したように、図８のようなメニュー画面Ｐ２を用いて行うことができる。
【００６５】
まず、「追従モード」における測光パターンの選択動作について説明する。
【００６６】
ここでは、オートフォーカス動作に伴って複数のＡＦエリアにおける合焦用評価値（ＡＦ評価値）の変化情報を取得しておき、取得した変化情報に基づいて主被写体の画面内での位置を推定する場合について説明する。
【００６７】
図１２は被写体の一例を示す図であり、最前列中央に二人の人物ＰＮ１，ＰＮ２、その後列の左寄りの位置に一人の人物ＰＮ３が並んでいる。また、図１３は図１２のような被写体を撮像する際のＡＦ動作に伴って取得される合焦用評価値（ＡＦ評価値）の変化情報を示す図である。図１３のグラフにおいては、横軸は撮影レンズ２のレンズ位置Ｘを示しており、縦軸はＡＦ評価値Ｖｆを示している。すなわち、図１３は、レンズ位置Ｘに対するＡＦ評価値Ｖｆの変化を示すグラフである。また、図１３においては、３つのＡＦエリアＦＣ，ＦＬ，ＦＲのそれぞれについてのＡＦ評価値Ｖｆの変化曲線ＬＣ，ＬＬ，ＬＲが示されている。
【００６８】
図１４、図１５、および図１６は、それぞれ、各ＡＦエリアＦＣ，ＦＬ，ＦＲを示す図である。なお、図１４〜図１６においては、破線で囲まれる小さな矩形領域が、それぞれ、画像Ｇ０における各ブロックＢｉｊを示している。
【００６９】
ＡＦエリアＦＣ（図１４の太枠内の領域）は、撮影画像Ｇ０の中央部に設けられている。また、ＡＦエリアＦＬ（図１５の太枠内の領域）は、撮影画像Ｇ０の中央左寄りの位置に設けられている。さらに、ＡＦエリアＦＲ（図１６の太枠内の領域）は、撮影画像の中央右寄りの位置に設けられている。
【００７０】
測光パターンの選択に際して、３つのＡＦエリアと３つの測光パターンとの対応関係を予め規定しておく。具体的には、ＡＦエリアＦＣと測光パターンＰＥＣとを対応付け、ＡＦエリアＦＬと測光パターンＰＥＬとを対応付け、ＡＦエリアＦＲと測光パターンＰＥＲとを対応付けておく。この対応関係は、各ＡＦエリア（合焦状態評価領域）の中心位置と各測光パターンについての測光中心位置（ないし重心位置）との近接度に基づいて設定される。具体的には、画面中央にその測光中心位置を有する測光パターンＰＥＣ（図９）に対しては、画面中央にその中心位置が存在するＡＦエリアＦＣ（図１４）が対応付けられる。また、画面の中央左寄りにその測光中心位置を有する測光パターンＰＥＬ（図１０）に対しては、画面の中央左寄りにその中心位置が存在するＡＦエリアＦＬ（図１５）が対応付けられる。そして、画面の中央右寄りにその測光中心位置を有する測光パターンＰＥＲ（図１１）に対しては、画面の中央右寄りにその中心位置が存在するＡＦエリアＦＲ（図１６）が対応付けられる。
【００７１】
ＡＦエリアＦＣは、画面内において、最前列中央の人物ＰＮ１に対応する位置に存在する。したがって、ＡＦエリアＦＣに関する変化曲線ＬＣが極大値になるときのレンズ位置ＸＣ（図１３）は、この最前列中央の人物ＰＮ１を合焦状態にするレンズ位置となる。
【００７２】
同様に、ＡＦエリアＦＬは、画面内において、左側後列の人物ＰＮ３に対応する位置に存在する。したがって、ＡＦエリアＦＬに関する変化曲線ＬＬが極大値になるときのレンズ位置ＸＬ（図１３）は、この左側後列の人物ＰＮ３を合焦状態にするレンズ位置となる。
【００７３】
また、ＡＦエリアＦＲは、画面内において、手前側の人物には対応せず奥の背景（具体的には、遠方の山）に対応する位置に存在する。したがって、ＡＦエリアＦＲに関する変化曲線ＬＬに示されるように、ＡＦエリアＦＲにおけるＡＦ評価値は、無限遠で最も大きくなり、極大値を有していない。
【００７４】
この実施形態においては、オートフォーカス動作は、３つのＡＦエリアのうち、ＡＦエリアＦＬ，ＦＲの変化情報を用いず、中央のＡＦエリアＦＣの変化情報のみに基づいて、オートフォーカス動作を行うものとする。その一方で、ＡＦエリアＦＬ，ＦＲの変化情報を用いて、露光制御における測光パターンを選択する。
【００７５】
具体的には、オートフォーカス動作は中央のＡＦエリアＦＣの変化情報に基づいて行われるため、オートフォーカス動作終了後において撮影レンズ２は位置ＸＣに一旦移動される。これにより、画面においてＡＦエリアＦＣ内に存在する、最前列中央の人物ＰＮ１が合焦状態にされる。
【００７６】
しかしながら、撮影者が本来はこの人物ＰＮ１ではなく左側後列の人物ＰＮ３を合焦状態にしたい場合等が想定される。この場合には、撮影者は、自動合焦動作後の手動合焦動作、すなわちダイレクトマニュアルフォーカス（ＤＭＦ）動作によってレンズ位置を移動させて、所望の被写体、すなわち人物ＰＮ３を合焦状態にすることができる。
【００７７】
この実施形態の追従モードでは、ＤＭＦ動作によって合焦状態にされた被写体が画面内のどの位置に存在するかを、３つのＡＦエリアＦＣ，ＦＬ，ＦＲについてのＡＦ評価値に基づいて決定する。
【００７８】
ここでは、ＤＭＦ動作によって、位置ＸＬに近い位置Ｘａ９（図１３）にレンズ位置が変更されて、左側後列の人物ＰＮ３が合焦状態にされたと仮定する。このとき、位置Ｘａ９においては、３つの曲線ＬＣ，ＬＬ，ＬＲのうち曲線ＬＬにおけるＡＦ評価値が、最も大きな評価値を有している。したがって、この曲線ＬＬに対応するＡＦエリアＦＬが、主被写体の画像内における存在位置として推定される。そこで、露出制御部２３は、このＡＦエリアＦＬに対応する測光パターンＰＥＬを、ＤＭＦ動作後の露出制御の対象となる測光パターン（以下、「対象測光パターン」ないし「対象測光領域」とも称する）として選択する。これにより、ＤＭＦ動作後のレンズ位置に応じて、複数の測光パターンの中から、対象測光パターン（対象測光領域）を選択することができる。その後、この対象測光パターンに関する評価値に基づいて露出制御値（たとえばシャッタスピードおよび絞り値など）が定められる。
【００７９】
以上のように、追従モードにおいては、ＤＭＦ動作後のレンズ位置に応じて、対象測光パターンが選択され、選択された対象測光パターンに基づいて露出制御が行われる。
【００８０】
一方、非追従モードにおいては、ＤＭＦ動作後のレンズ位置ではなく、所定の測光パターンに基づいて露光制御が行われる。この実施形態においては、上述したように、常に測光パターンＰＥＣに基づいて露光制御を行うものとする。
【００８１】
＜Ｂ．動作＞
＜動作概要＞
図１７は、デジタルカメラ１におけるＡＦ動作およびＡＥ動作を示すフローチャートである。また、図１８および図１９は、一部の動作の詳細を示すフローチャートである。なお、これらの動作は、全体制御部２０で実行される。
【００８２】
まず、ステップＳＰ１では、シャッタボタン９が撮影者によって半押し状態（Ｓ１）にされたか否かを判定する。ここで、半押し状態Ｓ１にされたと判定される場合にはステップＳＰ２に進む。
【００８３】
ステップＳＰ２では、合焦位置を自動的に検出する処理、すなわちＡＦ処理を行う。このＡＦ処理の詳細については後述する。また、このＡＦ処理が終了すると、デジタルカメラ１におけるＤＭＦ操作が可能になる。
【００８４】
ステップＳＰ３では、ＡＥ制御に用いられる測光パターンの選択動作が行われる。具体的には、設定された露出制御方式に応じて適宜の測光パターンが選択される。この選択動作の詳細については後述する。
【００８５】
次のステップＳＰ５では、ステップＳＰ３で選択された測光パターンを用いて測光値演算が行われ、算出されたＡＥ評価値に基づいてシャッタスピードおよび絞り値などの露出制御パラメータが決定される。なお、ここでは、露出制御パラメータのうち撮像感度については固定値を用いるものとするが、撮像感度の値をＡＥ評価値に基づいて変更するようにしてもよい。
【００８６】
ステップＳＰ６においては、所定時間内にシャッタボタン９が全押し状態Ｓ２にされたか否かを判定する。
【００８７】
具体的には、所定時間内に全押し状態Ｓ２にされなかったと判定される場合には、この処理を終了する。また、この所定時間内にシャッタボタン９の押下が解除された場合にもこの処理を終了する。
【００８８】
一方、全押し状態Ｓ２にされていると判定される場合には、ステップＳＰ７に進み、ステップＳＰ５で決定されたシャッタスピードおよび絞り値などの露出制御パラメータを用いて、撮像処理が実行される。その後、メモリカード９０への記録処理が実行される。これにより、ＡＦ動作およびＡＥ動作を伴った撮影動作が完了する。
【００８９】
＜ＡＦ処理＞
次に、図１８を参照しながら、ステップＳＰ２における処理、すなわち、ＡＦ処理について詳細に説明する。ＡＦ処理は、ＡＦ制御部２１の制御下において行われる。このＡＦ処理に際しては、撮影レンズ２を駆動しながら各ＡＦエリアについて、撮影レンズ２の可動範囲を所定ピッチで区分した複数の位置ＸａｉにおけるＡＦ評価値が求められる。ここでは、複数の位置Ｘａｉとして、レンズ位置Ｘａ１〜Ｘａ１２（図１３参照）の１２段階に設定した場合を例示する。なお、その後、中央のＡＦエリアＦＣのＡＦ評価値に基づいて合焦位置が検出され、撮影レンズ２はその合焦位置に移動され、自動合焦動作が終了する。
【００９０】
詳細にはまず、ステップＳＰ２１において、カウンタｉに初期値として１を代入する。
【００９１】
ステップＳＰ２２では、カウンタｉに対応するレンズ位置Ｘａｉに撮影レンズ２を移動させる。
【００９２】
ステップＳＰ２３では、中央のＡＦエリアＦＣについての合焦評価値を求める。具体的には、ＡＦエリアＦＣに対応する画像データを取得し、その画像データに基づいてＡＦ評価値を算出する。そして、算出したＡＦ評価値をレンズ位置Ｘａｉに対応付けて格納する。より詳細には、ＶＣ（ｉ）に格納する。
【００９３】
また、ステップＳＰ２４では、同様に、左側のＡＦエリアＦＬについての合焦評価値を求める。具体的には、ＡＦエリアＦＬに対応する画像データを取得し、その画像データに基づいてＡＦ評価値を算出する。そして、算出したＡＦ評価値をレンズ位置Ｘａｉに対応付けて格納する。より詳細には、ＶＬ（ｉ）に格納する。
【００９４】
さらに、ステップＳＰ２５では、同様に、右側のＡＦエリアＦＲについての合焦評価値を求める。具体的には、ＡＦエリアＦＲに対応する画像データを取得し、その画像データに基づいてＡＦ評価値を算出する。そして、算出したＡＦ評価値をレンズ位置Ｘａｉに対応付けて格納する。より詳細には、ＶＲ（ｉ）に格納する。
【００９５】
次のステップＳＰ２６では、カウンタｉが１２であるか否かを判定する。ここで、ｉが１２でない場合にはステップＳＰ２７に進み、ｉを１つインクリメントしてステップＳＰ２２に戻り同様の処理を繰り返す。
【００９６】
一方、ｉが１２である場合にはステップＳＰ２８に進む。言い換えれば、３つのＡＦエリアについて、それぞれ、１２段階のＡＦ評価値の変化状況を取得すると、ステップＳＰ２８に進む。
【００９７】
ステップＳＰ２８では、中央のＡＦエリアＦＣにおけるＡＦ評価値の変化情報を用いて合焦位置を算出する。具体的には、その変化曲線ＬＣ（図１３参照）の極大値を求め、極大値に対応するレンズ位置を合焦位置として求める。このとき、補間演算を用いれば、合焦位置を高精度に求めることが可能である。図１３の場合には、位置ＸＣが合焦位置として求められる。
【００９８】
ステップＳＰ２９においては、ステップＳＰ２８で特定された合焦位置（ＸＣ）にまで撮影レンズ２を駆動する。この結果、上述したように、画面中央のＡＦエリアＦＣ内に存在する被写体が合焦状態となるように焦点位置が調整される。
【００９９】
＜露出制御＞
次に、図１９を参照しながら、ステップＳＰ３における処理、具体的には、ＡＥ制御に用いられる測光パターンの選択処理について詳細について説明する。
【０１００】
ステップＳＰ３１においては測光モードが平均測光モードであるか否かが判定される。
【０１０１】
平均測光モードであると判定される場合には、ステップＳＰ４１に進む。ステップＳＰ４１では、平均測光モードに用いられる測光パターンＰＥＡが対象測光パターンとして選択され、ステップＳＰ４４に進む。この測光パターンＰＥＡは、係数Ｋｉｊが全て同一の測光パターンである。これにより、画面内の輝度がムラ無く全体的に判断される。
【０１０２】
このように、測光モード（露出制御方式）として平均測光モード（平均測光方式）が設定されているときには、レンズ位置の変更に応じて測光領域を変更して露出制御が行われるのではなく、平均測光方式に用いられる所定の測光パターンＰＥＡ（測光領域）に関する評価値に基づいて露出制御が行われる。
【０１０３】
一方、平均測光モードでないと判定される場合、言い換えれば、要部重点測光モードであると判定される場合には、ステップＳＰ３２に進む。
【０１０４】
ステップＳＰ３２においては、この要部重点測光モードにおけるサブモードが、追従モードと非追従モードとのいずれであるかを判定する。
【０１０５】
非追従モードであると判定される場合にはステップＳＰ４２に進む。ステップＳＰ４２においては、測光パターンＰＥＣが対象測光パターンとして選択され、ステップＳＰ４４に進む。これにより、測光モードとして非追従モードが設定されているときには、レンズ位置の変更に応じて測光領域を変更することなく、予め定められた中央重点パターンＰＥＣに基づいて露出制御を行うことになる。
【０１０６】
一方、追従モードであると判定される場合にはステップＳＰ３３に進む。ステップＳＰ３３においては、ＡＥロックボタン４２が押下されているか否かを判定する。
【０１０７】
ＡＥロックボタン４２が押下されていると判定される場合には、ステップＳＰ４２に進む。ステップＳＰ４２においては、中央重点パターンＰＥＣが対象測光パターンとして選択される。したがって、ＡＥロックが設定されているときには、このＡＥロックは、測光パターンの変更を伴う追従モードにおける露光制御に対して優先される。そして、手動操作によりレンズ位置が移動されたときでも、測光パターンは変更されず露出状態の変動は禁止される。具体的には、露出制御部２３は、レンズ位置の変更に応じて測光パターンを変更することなく、予め定められた中央重点パターンＰＥＣを対象測光パターンとして決定する。一方、ＡＥロックボタン４２が押下されていないと判定される場合には、ステップＳＰ３４に進む。
【０１０８】
ステップＳＰ３４においては、フォーカスリング８が回転されたか否かが判定される。フォーカスリング８が回転されていないと判定される場合には、ステップＳＰ４２に進む。一方、フォーカスリング８が回転されたと判定される場合には、ステップＳＰ３５に進む。
【０１０９】
ステップＳＰ３５においては、現在のレンズ位置Ｘｐが取得される。言い換えれば、ダイレクトマニュアルフォーカス（ＤＭＦ）操作によるフォーカスリング８の回転後のレンズ位置Ｘｐが取得される。
【０１１０】
ステップＳＰ３６においては、現在のレンズ位置Ｘｐに対応する３つの評価値ＶＣ（Ｘｐ），ＶＬ（Ｘｐ），ＶＲ（Ｘｐ）のうちの最大値Ｖｍａｘを求める。なお、各評価値ＶＣ，ＶＬ，ＶＲは、それぞれ、レンズ位置Ｘｐを変数とする関数である。
【０１１１】
そして、ステップＳＰ３７においては、その最大値Ｖｍａｘが所定の閾値ＴＨ１よりも大きい（Ｖｍａｘ＞ＴＨ１）という条件Ｃ１に適合するか否かが判定される。最大値Ｖｍａｘが閾値ＴＨ１よりも大きいという条件Ｃ１に適合する場合には、ステップＳＰ４３に進み、最大値Ｖｍａｘが閾値ＴＨ１以下の場合（すなわち、この条件Ｃ１に適合しない場合）にはステップＳＰ４２に進む。なお、最大値Ｖｍａｘが閾値ＴＨ１に等しい場合にはステップＳＰ４３に進むようにしてもよい。
【０１１２】
現在のレンズ位置Ｘｐにおいて、閾値ＴＨ１よりも大きなＡＦ評価値を有するという条件Ｃ１に適合するＡＦエリアを「適合領域」と称するものとする。ステップＳＰ３７においては、そのＡＦ評価値が最大値ＶｍａｘとなるＡＦエリアが適合領域であるか否かが判定されることになる。
【０１１３】
ステップＳＰ４３においては、そのＡＦ評価値がレンズ位置Ｘｐにおいて最大値ＶｍａｘとなるＡＦエリアに対応する測光パターンを求める。たとえば、レンズ位置Ｘｐにおいて、３つのＡＦエリアＦＣ，ＦＬ，ＦＲのうち左寄りのＡＦエリアＦＬの評価値が最大となるとき（言い換えれば、最適化されるとき）には、この左寄りのＡＦエリアＦＬに対応する測光パターンＰＥＬが、ＡＥ制御に用いられる測光パターン（すなわち対象測光パターン）として決定される。
【０１１４】
ステップＳＰ４４においては、現時点で主被写体を含む領域であるとデジタルカメラ１によって認識されている領域をＬＣＤ５（又はＥＶＦ４）に表示する。
【０１１５】
具体的には、ＤＭＦ操作後に合焦状態とされた主被写体を含むＡＦエリアを表示する。たとえば図１２には、ＡＦエリアＦＬが示されている。ここでは、そのＡＦエリアＦＬの境界領域を示す太枠が、ＡＦエリアの代表として、ライブビュー画像に重ねて表示されている。
【０１１６】
このステップＳＰ４４の後、ステップＳＰ５，ＳＰ７に進み、上述したように、対象測光パターンに基づく露出制御が行われる。
【０１１７】
以上のように、この実施形態のデジタルカメラ１によれば、その測光中心位置が互いに異なる複数の測光パターン（測光領域）の中から、手動合焦動作後のレンズ位置に応じた測光パターンを対象測光パターン（対象測光領域）として選択し、当該対象測光パターンに関する露出制御用の評価値に基づいて露出制御パラメータの値が決定される。したがって、自動合焦動作後にさらに手動合焦動作を行う場合において、より正確な露出制御を行うことができる。
【０１１８】
また、自動合焦動作後にさらに手動合焦動作を行う場合において、手動合焦動作後のレンズ位置でそのＡＦ評価値（合焦用評価値）が最適化されるＡＦエリア（合焦状態評価領域）に対応する測光パターンを対象測光パターンとして選択することによって、画面内での主被写体の位置をより正確に推定できる。したがって、さらに正確な露出制御を行うことができる。
【０１１９】
さらに、メニュー画面Ｐ１，Ｐ２などを用いて撮影者によって設定された露出制御方式に基づいて露出制御が行われるので、撮影者の意図を反映させた露出制御を行うことが可能である。たとえば、露出制御方式として平均測光方式が撮影者によって設定されているときには、平均測光方式に用いられる所定の測光領域に関する評価値に基づいて露出制御が行われる。あるいは、非追従方式が露出制御方式として設定されている場合には、ＤＭＦ操作により撮影レンズ２のレンズ位置が変更されても、測光中心位置を変更せず、常に中央重点パターンＰＥＣに基づいて露出制御が行われる。このように、撮影者の意図に沿う露出制御を行うことが可能である。
【０１２０】
また、ＡＥロックが設定されているときには、設定された制御方式に対してＡＥロックが優先的に機能するので、撮影者の意図を反映させた露出制御が行われる。
【０１２１】
さらに、ステップＳＰ３７において適合領域の有無を判定しているので、主被写体の位置が所定程度にまで正確に推定されないときには測光パターン（測光領域）が変更されない。したがって、主被写体の誤検出に起因して、対象測光パターンが不適切な測光パターンに変更されることを防止することができる。また、一般に主被写体は中央に位置することが多いので、このような場合に、中央の測光パターンＰＥＣに基づいて露出制御を行えば、より的確な露出制御を行うことが可能になる。
【０１２２】
また、ＤＭＦ操作後に露出制御の対象となる対象測光領域または対象測光領域に対応する合焦状態評価領域がＬＣＤ５及びＥＶＦ４に表示されるので、どの位置を中心とする測光結果に基づいて露出制御が行われるかが明示される。したがって、操作性を向上させることができる。
【０１２３】
さらに、ステップＳＰ４２において選択される中央重点パターンＰＥＣは、複数のＡＦエリアのうちＡＦ動作において採用されたＡＦエリアＦＣに対応する測光パターンである。したがって、非追従モードの場合、あるいは、追従モードにおいて適合条件が満たされない場合においても、露出制御の対象被写体を自動合焦動作の対象被写体と同一にすることができるので、自然な画像を撮影することが可能になる。
【０１２４】
＜Ｃ．その他＞
上記実施形態においては、その測光中心位置が互いに異なる複数の測光パターン（測光領域）として、要部重点測光モード（より詳細には追従モード）における３つの測光パターンを例示しているが、これに限定されない。より具体的には、選択対象となる複数の測光領域は、測光中心位置が異なっていれば、輝度値の重み付けが領域内で一定であってもよい。たとえば、上記のＡＦエリアＦＣ，ＦＬ，ＦＲと同一領域であって輝度値の重み付けがその内部で均一な領域を測光領域として用いてもよい。なお、この場合においては、各ＡＦエリアＦＣ，ＦＬ，ＦＲに対応する測光領域として、各ＡＦエリア自身を対応させればよい。
【０１２５】
また、上記実施形態においては、ＤＭＦ操作後に合焦状態とされたと推定される主被写体を含むＡＦエリアＦＬをＬＣＤ５（又はＥＶＦ４）に表示する（ステップＳＰ４４）に際して、ＡＦエリアＦＬを示す「枠」が用いられている（図１２）。ただし、これに限定されず、枠ではなく、たとえば、ＡＦエリアＦＬの中心位置を示す記号（十字カーソル）などを、ＡＦエリアを（代表して）示すものとして表示しても良い。
【０１２６】
あるいは、ＤＭＦ操作後に合焦状態とされたと推定される主被写体を含むエリアとして、ＡＦエリアではなく、ＤＭＦ操作後に合焦状態とされた主被写体がその測光中心位置付近に存在する測光パターン（ないし測光エリア）を表示するようにしてもよい。より詳細には、測光パターン内の最重要ブロックの境界領域（ないし主要エリア）を示す枠をその測光パターンの代表として表示するようにしてもよい。あるいは、測光パターンの重要領域の中心位置を示す記号（十字カーソル）などをその測光パターンの代表として表示しても良い。これによっても、どの位置を中心とする測光結果に基づいて露出制御が行われるかが明示されるので、操作性を向上させることができる。
【０１２７】
なお、上述した具体的実施形態には以下の構成を有する発明が含まれている。
【０１２８】
（１）請求項１に記載のデジタルカメラにおいて、
前記複数の測光領域のそれぞれが複数の合焦状態評価領域のうちのいずれの合焦評価領域に対応するかについての対応関係が規定されており、
前記露出制御手段は、前記第１方式の露出制御において、複数の合焦状態評価領域の中から、前記手動合焦動作後の前記レンズ位置でその合焦用評価値が最適化される合焦状態評価領域を選択し、当該選択した合焦状態評価領域に対応する測光領域を当該対象測光領域として選択することを特徴とするデジタルカメラ。
【０１２９】
これによれば、自動合焦動作後にさらに手動合焦動作を行う場合において、手動合焦動作後のレンズ位置でその合焦用評価値が最適化される合焦状態評価領域に対応する測光領域を対象測光領域として選択することによって、画面内での主被写体の位置をより正確に推定できる。したがって、より正確な露出制御を行うことができる。
【０１３０】
（２）前記（１）に記載のデジタルカメラにおいて、
前記対応関係は、各合焦状態評価領域の中心位置と各測光領域の測光中心位置との近接度に基づいて定められることを特徴とするデジタルカメラ。
【０１３１】
（３）請求項５に記載のデジタルカメラにおいて、
前記予め定められた測光領域は、複数の合焦状態評価領域のうち前記自動合焦動作において採用された合焦状態評価領域に対応する測光領域であることを特徴とするデジタルカメラ。
【０１３２】
これによれば、自動合焦動作時の対象被写体を露出制御時の対象被写体とすることが可能である。
【０１３３】
（４）請求項１に記載のデジタルカメラにおいて、
前記対象測光領域を表示する表示手段、
をさらに備えることを特徴とするデジタルカメラ。
【０１３４】
これによれば、操作性を向上させることができる。
【０１３５】
（５）請求項１に記載のデジタルカメラにおいて、
前記対象測光領域に対応する合焦状態評価領域を表示する表示手段、
をさらに備えることを特徴とするデジタルカメラ。
【０１３６】
これによれば、操作性を向上させることができる。
【０１３７】
【発明の効果】
以上のように、請求項１に記載の発明によれば、その測光中心位置が互いに異なる複数の測光領域の中から、手動合焦動作後のレンズ位置に応じた測光領域を対象測光領域として選択し、当該対象測光領域に関する露出制御用の評価値に基づいて露出制御パラメータの値が決定されるので、自動合焦動作後にさらに手動合焦動作を行う場合において、より正確な露出制御を行うことができる。
【０１３８】
請求項２に記載の発明によれば、露出制御方式として平均測光方式が撮影者によって設定されているときには、平均測光方式に用いられる所定の測光領域に関する評価値に基づいて露出制御が行われるので、撮影者の意図に沿う露出制御が行われる。
【０１３９】
請求項３に記載の発明によれば、露出制御手段は、設定手段により設定された方式に基づいて露出制御を行うので、撮影者の意図を反映させた露出制御が行われる。
【０１４０】
請求項４に記載の発明によれば、露出制御手段は、ＡＥロックが設定されているときには、ＡＥロックを第１方式の露光制御に優先させるので、撮影者の意図を反映させた露出制御が行われる。
【０１４１】
請求項５に記載の発明によれば、適合領域が存在しないときには、所定の測光領域を対象測光領域として選択して露出制御が行われる。言い換えれば、主被写体の位置が所定程度正確に推定されないときには測光領域が変更されない。したがって、主被写体の誤検出に起因する測光領域の変更を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】デジタルカメラの外観構成を示す正面図である。
【図２】デジタルカメラの外観構成を示す上面図である。
【図３】デジタルカメラの外観構成を示す背面図である。
【図４】デジタルカメラの内部機能を示すブロック図である。
【図５】ライブビュー画像を複数の小ブロックに区分した状態を示す概念図である。
【図６】全体制御部の一部の機能的構成等を示す機能ブロック図である。
【図７】測光モードを設定するメニュー画面を示す図である。
【図８】サブモードを設定するメニュー画面を示す図である。
【図９】中央重点パターンを示す概念図である。
【図１０】左重点パターンを示す概念図である。
【図１１】右重点パターンを示す概念図である。
【図１２】被写体の一例を示す図である。
【図１３】ＡＦ評価値の変化状況を示す図である。
【図１４】中央に設けられるＡＦエリアを示す図である。
【図１５】左寄りの位置に設けられるＡＦエリアを示す図である。
【図１６】右寄りの位置に設けられるＡＦエリアを示す図である。
【図１７】デジタルカメラにおけるＡＦ動作およびＡＥ動作を示すフローチャートである。
【図１８】ＡＦ動作等を示すフローチャートである。
【図１９】ＡＥ動作の一部を示すフローチャートである。
【符号の説明】
１　デジタルカメラ
２　撮影レンズ
４　電子ビューファインダ（ＥＶＦ）
５　液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）
６　メニューボタン
７　コントロールボタン
８　フォーカスリング
９　シャッタボタン
１０　撮像素子
４２　ロックボタン
ＦＣ，ＦＬ，ＦＲ　合焦状態評価領域（ＡＦエリア）
Ｇ０　撮影画像
Ｐ１，Ｐ２　メニュー画面
ＰＥＡ，ＰＥＣ，ＰＥＬ，ＰＥＲ　測光パターン（測光領域）
ＰＮ１〜ＰＮ３　人物[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a digital camera, and more particularly, to an exposure control technique for a digital camera.
[0002]
[Prior art]
Some digital cameras control automatic exposure control based on a luminance value in a predetermined AE area in an image, and control a focus state based on a contrast value in a predetermined AF area in an image. There are those that perform automatic focusing control. In such a digital camera, the AE area for automatic exposure control is generally set so as to coincide with the AF area for automatic focusing control of a hill-climbing method. Such a technique is described in, for example, JP-A-11-239291.
[0003]
Incidentally, in the automatic focusing control, a desired subject may not be in a focused state due to a perspective conflict or the like. In order to solve such a situation, direct manual focus (hereinafter, also simply referred to as DMF) for performing a manual focusing operation after the automatic focusing operation may be performed. Such a technique is described in, for example, JP-A-11-174314.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in a case where the focusing operation is further performed by the manual operation after the automatic focusing operation (that is, when the DMF operation is performed), even if the focusing state becomes an appropriate state by the manual operation, the AE for the exposure control is controlled. Since the area is not changed, there is a problem that appropriate exposure control may not be performed.
[0005]
In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a digital camera capable of performing more appropriate exposure control when performing a manual focusing operation after an automatic focusing operation.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, an invention according to claim 1 is a digital camera, comprising: a photographing lens; an image pickup unit for picking up an image of a subject via the photographing lens; Automatic focusing control means for adjusting the focal position of the photographic lens using the focusing evaluation value for the focusing state evaluation area, and after adjusting the focal position by the automatic focusing control means, Manual focusing control means for performing a manual focusing operation for further adjusting the focal position by moving the lens position of the photographing lens; and performing the manual focusing operation from a plurality of photometric regions whose photometric center positions are different from each other. A first type of exposure method in which a photometry area corresponding to the subsequent lens position is selected as a target photometry area, and a value of an exposure control parameter is determined based on an evaluation value for exposure control related to the target photometry area. And exposure control means capable of controlling, characterized in that it comprises a.
[0007]
According to a second aspect of the present invention, in the digital camera according to the first aspect of the present invention, setting means for setting an exposure control method by the exposure control means to one of a plurality of methods including the first method and an average photometry method. The exposure control means, when the average photometry method is set as the exposure control method, instead of performing exposure control by changing the photometry area according to the change of the lens position, The exposure control is performed based on an evaluation value regarding a predetermined photometry area used in the average photometry method.
[0008]
According to a third aspect of the present invention, in the digital camera according to the first aspect of the present invention, a plurality of types of exposure control by the exposure control means including the first type and the second type without changing the photometric area. The exposure control means performs exposure control based on a method set by the setting means.
[0009]
According to a fourth aspect of the present invention, in the digital camera according to the first aspect of the present invention, the digital camera further comprises AE lock setting means for setting an AE lock for inhibiting a change in an exposure state and fixing a value of an exposure control parameter. The means, when the AE lock is set, gives priority to the AE lock over the exposure control of the first method, and prohibits a change in the exposure state even when the lens position is moved by a manual operation. And
[0010]
According to a fifth aspect of the present invention, in the digital camera according to the first aspect of the present invention, in the first type of exposure control, the exposure control means selects a focus evaluation value from a plurality of focus state evaluation areas. When there is a matching area that is a focusing state evaluation area that satisfies the condition that the lens position after the manual focusing operation has a value larger than a predetermined value at the lens position, the light metering area corresponding to the matching area is set as the target. A photometric area is selected, and when the matching area does not exist, a predetermined photometric area is selected as the target photometric area.
[0011]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0012]
<A. Configuration>
<Configuration Overview>
1, 2 and 3 are views showing the external configuration of a digital camera (digital still camera) 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a front view, FIG. FIG. 3 corresponds to a rear view. These drawings do not always conform to the triangular projection, and the main purpose is to exemplify the appearance of the digital camera 1.
[0013]
A photographing lens 2 is provided on the front side of the digital camera 1. The photographing lens 2 has a zoom function, and is configured so that the photographing magnification can be changed by manually rotating the zoom ring 2a.
[0014]
A focus ring 8 is provided on an outer peripheral portion (in other words, a lens barrel portion) 2b of the photographing lens 2. The focus ring 8 is rotatable with respect to the lens barrel 2b, and the amount of rotation is detected by a predetermined sensor (not shown). Then, by changing the lens position of the photographing lens 2 according to the amount of rotation, the focus position is adjusted according to the manual operation, that is, manual focusing (hereinafter, referred to as “manual focus” or simply “MF”). Operation) becomes possible.
[0015]
In the digital camera 1, the focus position is adjusted by changing the lens position of the photographing lens 2 (more specifically, the lens position in the optical axis direction), that is, only the manual focus operation is performed as the focus operation. Instead, an automatic focusing (hereinafter, also referred to as “autofocus” or simply “AF”) operation is also performed. This AF operation is specifically realized by using a focus evaluation value (for example, contrast or the like) relating to a focus state evaluation area in an image.
[0016]
Further, in the digital camera 1, it is also possible to perform an operation of performing a manual focus operation after the autofocus operation, that is, a direct manual focus (hereinafter, also referred to as DMF) operation.
[0017]
A shutter button (release button) 9 is provided on the upper surface of the digital camera 1, and the shutter button 9 is in a half-pressed state (also referred to as state S1) and a fully-pressed state (also referred to as state S2) by the user. It is a two-stage push-in switch that can be distinguished and detected. When the auto-focus mode is set, the auto-focus control is started when the switch is half-pressed, and the recording image is displayed when the switch is fully pressed. The actual shooting operation for shooting is started.
[0018]
On the upper surface of the digital camera 1, there is provided a mode switching dial 3 for switching between "shooting mode", "reproduction mode" and "communication mode". The shooting mode is a mode in which a subject is shot to generate image data, and the shooting mode is further divided into a still image shooting mode and a moving image shooting mode. The reproduction mode is a mode in which image data recorded on the memory card 90 is reproduced and displayed on a liquid crystal display (LCD) 5 provided on the back side of the digital camera 1. Further, the communication mode is a mode in which data is transferred to an external computer 91 or the like via the external connection interface 38 provided on the side of the digital camera 1. As described above, the digital camera 1 has an image capturing function and an image reproducing function.
[0019]
On the back of the digital camera 1, a liquid crystal display 5 (hereinafter also referred to as LCD) for displaying a preview (ie, a live view display) and a reproduction display of a recorded image before the actual shooting operation, and an electronic viewfinder (Hereinafter, also referred to as EVF) 4. Each of the LCD 5 and the EVF 4 displays a color image.
[0020]
The LCD 5 is a display unit configured using a liquid crystal and a light source. Various information including images such as a live view image and a photographed image is displayed on the LCD 5.
[0021]
Further, a menu button 6 is provided on the back of the digital camera 1, and when the menu button 6 is pressed, various menu screens are displayed on the LCD 5. Further, on the back of the digital camera 1, there is provided a control comprising cross cursor buttons 7U, 7D, 7L, 7R for moving a display cursor on the LCD 5 in four directions, and a decision button 7C provided at the center of the cross cursor button. Button 7 is provided. By using the menu button 6 and the control button 7, setting operations of various photographing parameters are performed. For example, a setting operation is performed on which method is to be adopted as the exposure control method.
[0022]
Further, an AE lock button 42 is arranged on the back of the digital camera 1. At the time of automatic exposure (AE) control, the automatic adjustment function of the exposure state is temporarily stopped by pressing the AE lock button (hereinafter, also simply referred to as a lock button) 42, in other words, the exposure is controlled. It is possible to prohibit the change of the state and fix the value of the exposure control parameter (ie, AE lock).
[0023]
Various operation buttons such as an enlarge button 35a are arranged on the back of the digital camera 1 in addition to the above.
[0024]
Further, on the side of the digital camera 1, an insertion mounting portion for a memory card 90, which is a detachable recording medium, is provided, and image data obtained by actual shooting is stored in the memory card 90 set in the insertion mounting portion. Be recorded.
[0025]
<Internal configuration>
Next, the internal configuration of the digital camera 1 will be described. FIG. 4 is a block diagram illustrating internal functions of the digital camera 1.
[0026]
The photographing lens 2 is driven by a lens driving unit 31 and is configured to change the focus state of an image formed on the CCD image sensor 10. At the time of automatic focusing (autofocus) setting, the overall control unit 20 automatically determines the lens driving amount of the photographing lens 2 from the image, and the photographing lens 2 is driven based on this lens driving amount. At the time of manual focusing (manual focus) setting, the lens driving amount is determined according to the operation amount (rotation amount) of the focus ring 8 by the user, and the photographing lens 2 is driven based on this lens driving amount.
[0027]
The CCD imaging device 10 functions as an imaging unit that captures a subject image and generates an electronic image signal, has a predetermined number of pixels, and converts a light image of the subject formed by the photography lens 2 into a light image. For each pixel, the image signal is photoelectrically converted into an image signal of R (red), G (green), and B (blue) components (a signal composed of a signal sequence of pixel signals received by each pixel) and output. The timing generator 32 generates various timing pulses for controlling the driving of the CCD imaging device 10.
[0028]
An image signal obtained from the CCD image pickup device 10 is provided to a signal processing circuit 11, which performs predetermined analog signal processing on the image signal (analog signal). The signal processing circuit 11 has a correlated double sampling circuit (CDS) and an automatic gain control circuit (AGC). The signal processing circuit 11 performs noise reduction processing of the image signal by the correlated double sampling circuit, and controls the gain by the auto gain control circuit. By performing the adjustment, the level of the image signal is adjusted.
[0029]
The A / D converter 12 converts each pixel signal of the image signal into a 12-bit digital signal. The A / D converter 12 converts each pixel signal (analog signal) into a 12-bit digital signal based on an A / D conversion clock input from the overall control unit 20.
[0030]
The WB (white balance) circuit 13 performs level conversion of each of R, G, and B color components. The WB circuit 13 converts the levels of the R, G, and B color components using the level conversion table stored in the overall control unit 20. The parameters (gradients of the characteristics) of each color component of the level conversion table are set by the general control unit 20 automatically or manually for each captured image. The γ correction circuit 14 corrects the gradation of the pixel data.
[0031]
The color correction unit 15 performs color correction on the image data input from the γ correction circuit 14 based on parameters related to color correction set by the user, and converts color information expressed in the RGB color space into a YCrCb color space. Is converted to the color information represented by. By this color system conversion, a luminance component value is obtained for all pixels.
[0032]
The resolution conversion unit 16 performs a predetermined resolution conversion on the image data obtained from the CCD image pickup device 10 and cuts out an area.
[0033]
At the time of live view display, the image data (image signal) subjected to the predetermined resolution conversion by the resolution conversion unit 16 is provided to the display control unit 33 via the overall control unit 20, and is displayed on the LCD 5 and the EVF 4 live. The display of the view image is performed, and the display image is also provided to the photometry calculation unit 18 to calculate an evaluation value for automatic exposure (AE) control. On the other hand, at the time of the automatic focusing control, the image data subjected to the predetermined resolution conversion by the resolution conversion unit 16 is given to the AF evaluation value calculation unit 17 and the evaluation value for the automatic focusing (AF) control (“ The focusing evaluation value or the AF evaluation value is calculated, and is also given to the photometry operation unit 18 so that the evaluation value for automatic exposure (AE) control (also referred to as the AE evaluation value) is obtained. Is calculated. As described above, at the time of live view and at the time of automatic focusing control, predetermined processing is performed, and an image of the subject is displayed on the LCD 5 or the like.
[0034]
The AF evaluation value calculation unit 17 functions when the user presses the shutter button 9 halfway (S1), and performs an evaluation value calculation operation for performing automatic focusing control of the contrast method. Here, based on the image components of the AF evaluation area obtained from the resolution conversion unit 16, the sum of the absolute difference values between two horizontally adjacent pixels is calculated as the AF evaluation value Vf. The AF evaluation value Vf calculated by the AF evaluation value calculator 17 is output to the overall controller 20.
[0035]
As shown in FIG. 5, the photometry calculation unit 18 divides the image data output from the resolution conversion unit 16 into blocks, and calculates an AE evaluation value Ve based on the luminance value of each block. The AE evaluation value Ve calculated by the photometry calculation unit 18 is output to the overall control unit 20.
[0036]
FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating a calculation process in the photometry calculation unit 18. FIG. 5 illustrates a case where the image G0 is divided into small blocks Bij having a size of 16 pixels × 16 pixels. As a result, the image G0 having a size of 320 pixels × 240 pixels is divided into a total of 300 blocks Bij, 20 blocks in the horizontal direction and 15 blocks in the vertical direction. The AE evaluation value Ve is a value obtained by multiplying the luminance value Pij obtained for each block Bij by a weighting coefficient Kij, as shown in the following Expression 1, and summing them.
[0037]
(Equation 1)

[0038]
As will be described later, the digital camera 1 has a plurality of exposure control methods, and the value of the weighting coefficient Kij differs for each method.
[0039]
The image memory 34 is a memory for temporarily storing image data obtained by the CCD image pickup device 10 and subjected to the above-described image processing at the time of actual photographing. The image memory 34 has a storage capacity of at least one frame. When an after-view display or the like of an image is performed after the main shooting, image data is provided from the image memory 34 to the display control unit 33, and an image display for confirming the shot image is performed. When a recording instruction is given by the user, the image data is transferred from the image memory 34 to the memory card 90, and the image data is recorded and stored.
[0040]
The card interface (card I / F) 37 is an interface for writing and reading image data to and from the memory card 90 mounted on the insertion mounting section on the side of the digital camera 1. When reading / writing image data from / to the memory card 90, the compression / expansion unit 36 performs a compression process or an expansion process on the image data by, for example, the JPEG method. An external connection interface (external connection I / F) 38 is an interface for enabling communication with an external computer 91 via a communication cable or the like, and is realized by, for example, a communication interface conforming to the USB standard. Via the card I / F 37 and the external connection I / F 38, a control program recorded on a recording medium such as a CD-ROM set in the memory card 90 or the external computer 91 is stored in the RAM 20a or the ROM 20b of the overall control unit 20. Can be captured.
[0041]
The operation unit 35 is an operation unit including the above-described mode switching dial 3, the menu button 6, the control button 7, the shutter button 9, the AE lock button 42, the enlargement button 35a, and the like. It is a member that does.
[0042]
The overall control unit 20 is configured by a microcomputer including a RAM 20a and a ROM 20b therein, and the microcomputer executes a predetermined control program, thereby functioning as control means for controlling the above units in an integrated manner.
[0043]
FIG. 6 is a functional block diagram illustrating a functional configuration of a part of the overall control unit 20. As shown in FIG. 6, an overall control unit 20 includes an automatic focusing control unit (also referred to as an AF control unit) 21 for controlling an automatic focusing operation, and a manual focusing control unit (MF control) for controlling a manual focusing operation. ), And an exposure control unit 23 that performs exposure control. The above-described DMF operation is realized by the cooperation of the AF control unit 21 and the MF control unit 22. The exposure control unit 23 performs exposure control based on an exposure control method (photometry mode) set by a photographer's operation. The exposure control method and the operation of each unit will be described later.
[0044]
<About AE>
Next, automatic exposure control (AE) of the digital camera 1 will be described.
[0045]
The digital camera 1 is provided with an exposure control method so as to be switchable between an average light measurement method and a main part weighted light measurement method. In addition, the latter main part weighted metering method is further distinguished into two sub-modes (tracking method and non-tracking method). Therefore, the digital camera 1 has a total of three exposure control methods. The “exposure control method” can be distinguished by the type of the “photometry mode”. In other words, the exposure control method can be selected by selecting the photometry mode. That is, selecting the photometry mode is equivalent to selecting the exposure control method.
[0046]
Switching between these exposure control methods (photometric modes) is performed by an operation using the menu button 6 and the control button 7.
[0047]
Specifically, the operator displays a menu screen P1 as shown in FIG. 7 on the LCD 5 or the like by an appropriate operation using the menu button 6 and the control button 7, and the cross cursor buttons 7U, 7D, 7L of the control button 7 , 7R and the enter button 7C to select a desired photometric mode. More specifically, a desired mode is selected from the average photometry mode and the principal part photometry mode. As a result, the exposure control method of the digital camera 1 is selectively set to one of the average metering method and the principal part metering method.
[0048]
In addition, when the operator selects the main part weighted metering method, the operator can further select one of the following method and the non-following method using the menu screen P2 shown in FIG. Specifically, the operator displays a menu screen P1 as shown in FIG. 8 on the LCD 5 or the like by an appropriate operation using the menu button 6 and the control button 7, and the cross cursor buttons 7U, 7D, 7L of the control button 7 , 7R and the enter button 7C to select a desired photometric mode. More specifically, a desired mode is selected from the following mode and the non-following mode. As a result, the exposure control method of the digital camera 1 is selectively set to one of the tracking method and the non-tracking method.
[0049]
By the above operation, the exposure control system in the digital camera 1 is set to a desired one of three photometric systems, namely, an average photometric system, a tracking system, and a non-tracking system.
[0050]
A brief description of each photometric mode is as follows. First, the average photometric mode is based on the entire live view image displayed on the LCD 5 or the like, for example, based on the entire area of the image G0 shown in FIG. In this mode, photometry is performed with an appropriate weight distribution. At this time, the weighting coefficients Kij in Equation 1 (hereinafter, also simply referred to as coefficients) all have the same value. In other words, the average photometry mode is a mode in which exposure control is performed using a photometry pattern in which the coefficients Kij are all the same.
[0051]
In addition, the main part weighted photometry mode is a mode in which the importance of the photometric brightness is changed according to the position in the screen (image). In this mode, the coefficient Kij is changed according to the distance from a predetermined photometry center position in the screen. More specifically, the coefficient Kij has a smaller value as the distance from the photometry center position is larger. As described above, the principal part weighted photometry mode is a mode in which exposure control is performed using a photometry pattern (hereinafter, also referred to as a photometry pattern PEA) in which the value of the coefficient Kij changes according to the distance from the photometry center position.
[0052]
FIG. 9, FIG. 10, and FIG. 11 are diagrams showing three photometric patterns PEC, PEL, and PER used in the principal part photometric mode.
[0053]
More specifically, in the “follow-up mode” of the main part-weighted photometry mode, any one of the three photometry patterns PEC, PEL, and PER is selectively adopted according to the lens position. Further, in the “non-follow-up mode” of the main part weighted photometry mode, the photometry pattern PEC is always used regardless of the lens position after DMF. In FIGS. 9 to 11, small rectangular regions surrounded by broken lines indicate the blocks Bij in the image G0, respectively.
[0054]
As shown in these figures, the three photometry patterns differ from each other in the focus portion in photometry (in other words, the “photometry center position”).
[0055]
FIG. 9 is a diagram illustrating a photometric pattern (hereinafter, also referred to as a “center-weighted pattern”) PEC in which the photometric luminance at the center of the image G0 is regarded as more important than other portions. The photometry center position of the center-weighted pattern PEC exists at the center of the image G0.
[0056]
FIG. 10 is a diagram illustrating a photometric pattern (hereinafter, also referred to as a “left emphasis pattern”) PEL in which the photometric luminance of a portion near the center left of the image G0 is regarded as more important than other portions. The photometry center position of the left emphasis pattern PEL is located at a position closer to the left in the image G0.
[0057]
FIG. 11 is a diagram illustrating a photometric pattern (hereinafter, also referred to as a “right-weighted pattern”) PER in which the photometric luminance of a portion near the center right of the image G0 is regarded as more important than other portions. The photometry center position of the right emphasis pattern PER exists at a position closer to the right in the image G0.
[0058]
As shown in FIG. 5, the image G0 is divided into a total of 300 blocks Bij, 15 blocks in the vertical direction and 20 blocks in the horizontal direction. 9 to 11, the magnitudes of the coefficients Kij corresponding to the respective blocks Bij are distinguished by shading. Here, it is assumed that the coefficient Kij has one of four values (for example, 1, 2/3, 1/3, 0). In the figure, each of these four levels is distinguished by four levels of shading. Specifically, in the figure, the coefficient value Kij gradually decreases as the density of the block Bij decreases, and the thinnest portion (white portion) represents the smallest coefficient value.
[0059]
For example, in the center emphasis pattern PEC of FIG. 9, the coefficient Kij is distributed as follows. Specifically, the coefficient Kij has the largest value (for example, 1.0) in the central eight dark color blocks (for example, the block Bij of (i, j) = (8, 10)), and conversely, the outermost one. Is the smallest value (for example, 0.0) in the white block of. The coefficient Kij of a block located between the two becomes an intermediate value (for example, ／ or ３) of the two, and a darker block has a larger value (for example, ／). In the center-weighted pattern PEC, as shown in FIG. 9, the coefficient Kij gradually increases as it approaches the center.
[0060]
In addition, the left emphasis pattern PEL in FIG. 10 is a pattern in which the block Bij at the position closer to the center left is regarded as the most important. Specifically, in eight blocks Bij centered on the left-side position (i, j) = (8, 7), (8, 8), the coefficient Kij has the largest value, and as the distance from the left-side position increases. , Coefficient Kij becomes smaller gradually.
[0061]
Further, the right emphasis pattern PER in FIG. 11 is a pattern in which the block Bij at the position near the center right is regarded as the most important. Specifically, the coefficient Kij has the largest value in eight blocks Bij centered on the right position (i, j) = (8, 13), (8, 14), and as the distance from the right position increases, The coefficient Kij becomes smaller gradually.
[0062]
In the three photometric patterns PEC, PEL, and PER, the photometric center positions (in other words, the virtual centroid positions in the two-dimensional arrangement of the coefficients Kij) are different from each other, and the main area to be subjected to photometric measurement Are different from each other. In particular, when the coefficient Kij of the outermost part (white block in the figure) of each photometric pattern is zero, there are three areas (areas composed of blocks other than white) that are actually subjected to photometric control. The photometric patterns PEC, PEL, and PER are different from each other. Even when the coefficient Kij of the outermost part in each photometric pattern is a value other than zero, the three photometric patterns PEC, PEL, and PER have different photometric center positions. Therefore, the three photometric patterns PEC, PEL, and PER can be expressed as “photometric areas (or photometric areas)” whose photometric center positions are different from each other.
[0063]
In this main part-weighted photometry mode, exposure control is performed using any one of the three photometry patterns PEC, PEL, and PER. In the main part weighted metering mode, as described above, there are two sub modes. These two sub-modes are different from each other in a method of determining a photometric pattern (selection method). Next, a method of determining a photometric pattern in each sub mode will be described.
[0064]
One of the two sub-modes is a “follow-up mode” (or “photometric area follow-up mode”). This tracking mode is a mode in which, during direct manual focus (DMF), the light metering pattern (light metering area or light metering area) is changed by following the movement of the lens position by manual operation. The other is a “non-tracking mode” (or “a photometric area non-tracking mode”). The non-follow-up mode is a mode in which the photometric pattern (photometric area) is not changed (does not follow) even if the lens position is moved by a manual operation in DMF. The setting of the sub mode can be performed using the menu screen P2 as shown in FIG. 8, as described above.
[0065]
First, the operation of selecting a photometric pattern in the “follow-up mode” will be described.
[0066]
Here, change information of focus evaluation values (AF evaluation values) in a plurality of AF areas is acquired in association with the autofocus operation, and the position of the main subject in the screen is estimated based on the acquired change information. Will be described.
[0067]
FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a subject, in which two persons PN1 and PN2 are arranged in the center of the front row, and one person PN3 is arranged at a position to the left of the subsequent row. FIG. 13 is a diagram showing change information of the focus evaluation value (AF evaluation value) acquired along with the AF operation at the time of imaging the subject as shown in FIG. In the graph of FIG. 13, the horizontal axis represents the lens position X of the photographing lens 2, and the vertical axis represents the AF evaluation value Vf. That is, FIG. 13 is a graph showing a change in the AF evaluation value Vf with respect to the lens position X. FIG. 13 shows change curves LC, LL, and LR of the AF evaluation value Vf for each of the three AF areas FC, FL, and FR.
[0068]
FIGS. 14, 15, and 16 are diagrams showing the AF areas FC, FL, and FR, respectively. In FIGS. 14 to 16, small rectangular areas surrounded by broken lines indicate each block Bij in the image G0.
[0069]
The AF area FC (the area within the thick frame in FIG. 14) is provided at the center of the captured image G0. In addition, the AF area FL (the area within the thick frame in FIG. 15) is provided at a position closer to the center left of the captured image G0. Further, the AF area FR (the area within the bold frame in FIG. 16) is provided at a position closer to the center right of the captured image.
[0070]
When selecting a photometric pattern, the correspondence between the three AF areas and the three photometric patterns is defined in advance. Specifically, the AF area FC is associated with the photometric pattern PEC, the AF area FL is associated with the photometric pattern PEL, and the AF area FR is associated with the photometric pattern PER. This correspondence relationship is set based on the proximity between the center position of each AF area (focusing state evaluation area) and the photometry center position (or the center of gravity) for each photometry pattern. Specifically, the photometry pattern PEC (FIG. 9) having the photometry center position at the center of the screen is associated with the AF area FC (FIG. 14) having the center position at the center of the screen. Further, the photometry pattern PEL (FIG. 10) having the photometry center position near the center left of the screen is associated with the AF area FL (FIG. 15) having the center position near the center left of the screen. Then, with the photometric pattern PER (FIG. 11) having the photometric center position near the center right of the screen, an AF area FR (FIG. 16) having the central position near the center right of the screen is associated.
[0071]
The AF area FC exists at a position corresponding to the person PN1 in the center of the front row in the screen. Therefore, the lens position XC (FIG. 13) when the change curve LC relating to the AF area FC reaches the maximum value is the lens position that brings the person PN1 in the center of the front row into the focused state.
[0072]
Similarly, the AF area FL exists at a position corresponding to the person PN3 in the left rear row on the screen. Therefore, the lens position XL (FIG. 13) when the change curve LL relating to the AF area FL reaches a maximum value is a lens position that brings the person PN3 in the left rear row into focus.
[0073]
Further, the AF area FR does not correspond to the person on the near side but exists at a position corresponding to the back background (specifically, a distant mountain) on the screen. Therefore, as shown in the change curve LL relating to the AF area FR, the AF evaluation value in the AF area FR is largest at infinity and has no local maximum value.
[0074]
In this embodiment, the autofocus operation is performed based on only the change information of the central AF area FC without using the change information of the AF areas FL and FR among the three AF areas. I do. On the other hand, a photometric pattern in exposure control is selected using the change information of the AF areas FL and FR.
[0075]
Specifically, since the autofocus operation is performed based on the change information of the central AF area FC, the photographing lens 2 is temporarily moved to the position XC after the end of the autofocus operation. Thereby, the person PN1 in the center of the front row, which is present in the AF area FC on the screen, is brought into the focused state.
[0076]
However, it is assumed that the photographer originally wants to focus not on the person PN1 but on the person PN3 in the left rear row. In this case, the photographer moves the lens position by a manual focusing operation after the automatic focusing operation, that is, a direct manual focus (DMF) operation to bring a desired subject, that is, a person PN3 into a focused state. Can be.
[0077]
In the tracking mode of this embodiment, the position in the screen where the subject focused by the DMF operation is located is determined based on the AF evaluation values for the three AF areas FC, FL, and FR.
[0078]
Here, it is assumed that the lens position is changed to the position Xa9 (FIG. 13) close to the position XL by the DMF operation, and the person PN3 in the left rear row is brought into focus. At this time, at the position Xa9, among the three curves LC, LL, and LR, the AF evaluation value on the curve LL has the largest evaluation value. Therefore, the AF area FL corresponding to the curve LL is estimated as the position of the main subject in the image. Therefore, the exposure control unit 23 sets the photometric pattern PEL corresponding to the AF area FL as a photometric pattern to be subjected to exposure control after the DMF operation (hereinafter, also referred to as “target photometric pattern” or “target photometric area”). select. Thus, a target photometric pattern (target photometric region) can be selected from a plurality of photometric patterns according to the lens position after the DMF operation. Thereafter, an exposure control value (for example, a shutter speed and an aperture value) is determined based on the evaluation value regarding the target photometric pattern.
[0079]
As described above, in the following mode, the target photometric pattern is selected according to the lens position after the DMF operation, and the exposure control is performed based on the selected target photometric pattern.
[0080]
On the other hand, in the non-follow-up mode, the exposure control is performed based on a predetermined photometric pattern instead of the lens position after the DMF operation. In this embodiment, as described above, exposure control is always performed based on the photometric pattern PEC.
[0081]
<B. Operation>
<Operation overview>
FIG. 17 is a flowchart illustrating the AF operation and the AE operation in the digital camera 1. FIGS. 18 and 19 are flowcharts showing details of some operations. Note that these operations are executed by the overall control unit 20.
[0082]
First, in step SP1, it is determined whether or not the shutter button 9 has been half-pressed (S1) by the photographer. Here, if it is determined that the half-pressed state S1 has been set, the process proceeds to step SP2.
[0083]
In step SP2, a process of automatically detecting a focus position, that is, an AF process is performed. Details of this AF processing will be described later. When the AF process is completed, DMF operation in the digital camera 1 becomes possible.
[0084]
In step SP3, an operation of selecting a photometric pattern used for AE control is performed. Specifically, an appropriate photometric pattern is selected according to the set exposure control method. Details of this selection operation will be described later.
[0085]
In the next step SP5, a photometric value calculation is performed using the photometric pattern selected in step SP3, and exposure control parameters such as a shutter speed and an aperture value are determined based on the calculated AE evaluation value. Here, among the exposure control parameters, a fixed value is used for the imaging sensitivity, but the value of the imaging sensitivity may be changed based on the AE evaluation value.
[0086]
In step SP6, it is determined whether or not the shutter button 9 is fully pressed S2 within a predetermined time.
[0087]
Specifically, if it is determined that the full-press state S2 has not been reached within the predetermined time, this process ends. This processing is also terminated when the pressing of the shutter button 9 is released within the predetermined time.
[0088]
On the other hand, if it is determined that the switch is in the fully-pressed state S2, the process proceeds to step SP7, and an imaging process is performed using the exposure control parameters such as the shutter speed and the aperture value determined in step SP5. After that, a recording process on the memory card 90 is executed. Thus, the photographing operation involving the AF operation and the AE operation is completed.
[0089]
<AF processing>
Next, the processing in step SP2, that is, the AF processing will be described in detail with reference to FIG. The AF process is performed under the control of the AF control unit 21. In the AF process, the AF evaluation values at a plurality of positions Xai obtained by dividing the movable range of the photographing lens 2 at a predetermined pitch are obtained for each AF area while driving the photographing lens 2. Here, a case where the plurality of positions Xai are set to 12 levels of lens positions Xa1 to Xa12 (see FIG. 13) will be exemplified. After that, the focusing position is detected based on the AF evaluation value of the central AF area FC, the photographic lens 2 is moved to the focusing position, and the automatic focusing operation ends.
[0090]
More specifically, first, in step SP21, 1 is substituted into a counter i as an initial value.
[0091]
In step SP22, the photographic lens 2 is moved to the lens position Xai corresponding to the counter i.
[0092]
In step SP23, a focus evaluation value for the central AF area FC is obtained. Specifically, image data corresponding to the AF area FC is obtained, and an AF evaluation value is calculated based on the image data. Then, the calculated AF evaluation value is stored in association with the lens position Xai. More specifically, it is stored in VC (i).
[0093]
In step SP24, similarly, a focus evaluation value for the left AF area FL is obtained. Specifically, image data corresponding to the AF area FL is obtained, and an AF evaluation value is calculated based on the image data. Then, the calculated AF evaluation value is stored in association with the lens position Xai. More specifically, it is stored in VL (i).
[0094]
Further, in step SP25, similarly, a focus evaluation value for the right AF area FR is obtained. Specifically, image data corresponding to the AF area FR is obtained, and an AF evaluation value is calculated based on the image data. Then, the calculated AF evaluation value is stored in association with the lens position Xai. More specifically, it is stored in VR (i).
[0095]
In the next step SP26, it is determined whether or not the counter i is 12. If i is not 12, the process proceeds to step SP27, increments i by 1, returns to step SP22, and repeats the same processing.
[0096]
On the other hand, if i is 12, the process proceeds to step SP28. In other words, when the change state of the AF evaluation value of each of the 12 levels is acquired for each of the three AF areas, the process proceeds to step SP28.
[0097]
In step SP28, the in-focus position is calculated using the change information of the AF evaluation value in the central AF area FC. Specifically, the maximum value of the change curve LC (see FIG. 13) is obtained, and the lens position corresponding to the maximum value is obtained as the focus position. At this time, if the interpolation calculation is used, the in-focus position can be obtained with high accuracy. In the case of FIG. 13, the position XC is obtained as the focus position.
[0098]
In step SP29, the photographic lens 2 is driven to the in-focus position (XC) specified in step SP28. As a result, as described above, the focal position is adjusted so that the subject existing in the AF area FC at the center of the screen is in focus.
[0099]
<Exposure control>
Next, the processing in step SP3, specifically, the processing of selecting a photometric pattern used for AE control will be described in detail with reference to FIG.
[0100]
In step SP31, it is determined whether the photometry mode is the average photometry mode.
[0101]
If it is determined that the mode is the average photometry mode, the process proceeds to step SP41. In step SP41, the photometric pattern PEA used in the average photometric mode is selected as the target photometric pattern, and the process proceeds to step SP44. This photometric pattern PEA is a photometric pattern in which the coefficients Kij are all the same. Thereby, the luminance in the screen is entirely determined without unevenness.
[0102]
As described above, when the average photometry mode (average photometry method) is set as the photometry mode (exposure control method), the exposure control is not performed by changing the photometry area according to the change in the lens position. Exposure control is performed based on an evaluation value relating to a predetermined photometric pattern PEA (photometric area) used in the photometric method.
[0103]
On the other hand, when it is determined that the mode is not the average photometry mode, in other words, when it is determined that the mode is the main part weighted photometry mode, the process proceeds to step SP32.
[0104]
In step SP32, it is determined whether the sub-mode in the main-part weighted metering mode is the tracking mode or the non-tracking mode.
[0105]
If it is determined that the mode is the non-follow-up mode, the process proceeds to step SP42. In step SP42, the photometric pattern PEC is selected as the target photometric pattern, and the process proceeds to step SP44. Thus, when the non-following mode is set as the photometry mode, the exposure control is performed based on the predetermined center-weighted pattern PEC without changing the photometry area according to the change in the lens position.
[0106]
On the other hand, when it is determined that the mode is the following mode, the process proceeds to step SP33. In step SP33, it is determined whether or not the AE lock button 42 has been pressed.
[0107]
If it is determined that the AE lock button 42 has been pressed, the process proceeds to step SP42. In step SP42, the center-weighted pattern PEC is selected as the target photometric pattern. Therefore, when the AE lock is set, this AE lock is prioritized over the exposure control in the following mode that involves a change in the photometric pattern. Then, even when the lens position is moved by a manual operation, the light metering pattern is not changed, and the fluctuation of the exposure state is prohibited. Specifically, the exposure control unit 23 determines the predetermined center-weighted pattern PEC as the target photometric pattern without changing the photometric pattern according to the change in the lens position. On the other hand, if it is determined that the AE lock button 42 has not been pressed, the process proceeds to step SP34.
[0108]
In step SP34, it is determined whether or not the focus ring 8 has been rotated. If it is determined that the focus ring 8 has not been rotated, the process proceeds to step SP42. On the other hand, when it is determined that the focus ring 8 has been rotated, the process proceeds to step SP35.
[0109]
In step SP35, the current lens position Xp is obtained. In other words, the lens position Xp after the rotation of the focus ring 8 by the direct manual focus (DMF) operation is obtained.
[0110]
In step SP36, the maximum value Vmax of the three evaluation values VC (Xp), VL (Xp), VR (Xp) corresponding to the current lens position Xp is determined. Each evaluation value VC, VL, VR is a function that uses the lens position Xp as a variable.
[0111]
Then, in step SP37, it is determined whether or not a condition C1 that the maximum value Vmax is larger than a predetermined threshold value TH1 (Vmax> TH1) is satisfied. When the condition C1 that the maximum value Vmax is larger than the threshold value TH1 is satisfied, the process proceeds to step SP43. When the maximum value Vmax is equal to or less than the threshold value TH1 (that is, when the condition C1 is not satisfied), the process proceeds to step SP42. . When the maximum value Vmax is equal to the threshold value TH1, the process may proceed to step SP43.
[0112]
At the current lens position Xp, an AF area that satisfies the condition C1 that has an AF evaluation value larger than the threshold value TH1 is referred to as an “adaptive area”. In step SP37, it is determined whether or not the AF area whose AF evaluation value is the maximum value Vmax is a suitable area.
[0113]
In step SP43, a photometric pattern corresponding to the AF area where the AF evaluation value has the maximum value Vmax at the lens position Xp is obtained. For example, at the lens position Xp, when the evaluation value of the left-side AF area FL among the three AF areas FC, FL, and FR becomes the maximum (in other words, when the optimization is performed), the left-side AF area FL Is determined as a photometric pattern used for AE control (ie, a target photometric pattern).
[0114]
In step SP44, an area recognized by the digital camera 1 as an area including the main subject at the present time is displayed on the LCD 5 (or the EVF 4).
[0115]
Specifically, an AF area including the main subject brought into focus after the DMF operation is displayed. For example, FIG. 12 shows an AF area FL. Here, a thick frame indicating the boundary area of the AF area FL is displayed as a representative of the AF area so as to overlap the live view image.
[0116]
After step SP44, the process proceeds to steps SP5 and SP7, and exposure control based on the target photometric pattern is performed as described above.
[0117]
As described above, according to the digital camera 1 of the present embodiment, the light metering pattern corresponding to the lens position after the manual focusing operation is selected from a plurality of light metering patterns (light metering areas) having different light metering center positions. The exposure control parameter is selected as a light metering pattern (target light metering area), and the value of the exposure control parameter is determined based on the exposure control evaluation value related to the target light metering pattern. Therefore, when performing a manual focusing operation after the automatic focusing operation, more accurate exposure control can be performed.
[0118]
In the case where a manual focusing operation is further performed after the automatic focusing operation, an AF area (focusing state evaluation area) in which the AF evaluation value (focusing evaluation value) is optimized at the lens position after the manual focusing operation. By selecting the photometric pattern corresponding to (1) as the target photometric pattern, the position of the main subject on the screen can be more accurately estimated. Therefore, more accurate exposure control can be performed.
[0119]
Further, since the exposure control is performed based on the exposure control method set by the photographer using the menu screens P1, P2, etc., it is possible to perform the exposure control reflecting the intention of the photographer. For example, when the average photometry method is set by the photographer as the exposure control method, the exposure control is performed based on an evaluation value regarding a predetermined photometry area used in the average photometry method. Alternatively, when the non-following method is set as the exposure control method, even if the lens position of the photographing lens 2 is changed by the DMF operation, the light metering center position is not changed and the exposure is always performed based on the center-weighted pattern PEC. Control is performed. Thus, it is possible to perform exposure control according to the intention of the photographer.
[0120]
When the AE lock is set, the AE lock functions with priority to the set control method, so that the exposure control reflecting the intention of the photographer is performed.
[0121]
Furthermore, since the presence or absence of a matching area is determined in step SP37, the light metering pattern (light metering area) is not changed when the position of the main subject is not accurately estimated to a predetermined degree. Therefore, it is possible to prevent the target photometric pattern from being changed to an inappropriate photometric pattern due to erroneous detection of the main subject. In general, the main subject is often located at the center. In such a case, if the exposure control is performed based on the central photometric pattern PEC, more accurate exposure control can be performed.
[0122]
Also, after the DMF operation, the target photometry area to be subjected to the exposure control or the focusing state evaluation area corresponding to the target photometry area is displayed on the LCD 5 and the EVF 4, so that the exposure control can be performed based on the photometry result centered on any position. It is specified whether it will be performed. Therefore, operability can be improved.
[0123]
Further, the center emphasis pattern PEC selected in step SP42 is a photometric pattern corresponding to the AF area FC adopted in the AF operation among the plurality of AF areas. Therefore, even in the case of the non-tracking mode or in the case where the matching condition is not satisfied in the tracking mode, the subject to be subjected to the exposure control can be the same as the subject to be subjected to the automatic focusing operation. It becomes possible.
[0124]
<C. Others>
In the above-described embodiment, three photometric patterns in the main part-weighted photometric mode (more specifically, the following mode) are exemplified as a plurality of photometric patterns (photometric regions) whose photometric center positions are different from each other. Not limited. More specifically, the weighting of the brightness values may be constant in the plurality of photometric regions to be selected as long as the photometric center positions are different. For example, the same area as the above-described AF areas FC, FL, and FR, in which the weighting of the luminance value is uniform inside, may be used as the photometric area. In this case, each AF area itself may be made to correspond to a photometric area corresponding to each of the AF areas FC, FL, and FR.
[0125]
Further, in the above embodiment, when displaying the AF area FL including the main subject which is assumed to be in focus after the DMF operation on the LCD 5 (or the EVF 4) (step SP44), a “frame” indicating the AF area FL is displayed. (FIG. 12). However, the present invention is not limited to this. For example, a symbol (cross cursor) indicating the center position of the AF area FL may be displayed as (typically) indicating the AF area instead of the frame.
[0126]
Alternatively, as the area including the main subject estimated to be in focus after the DMF operation, not the AF area, but the photometric pattern in which the main subject in focus after the DMF operation exists near the photometry center position (or (A photometric area) may be displayed. More specifically, a frame indicating the boundary area (or main area) of the most important block in the photometric pattern may be displayed as a representative of the photometric pattern. Alternatively, a symbol (cross cursor) indicating the center position of the important area of the photometric pattern may be displayed as a representative of the photometric pattern. This also clearly indicates on which position the exposure control is to be performed based on the result of photometry, so that operability can be improved.
[0127]
The specific embodiments described above include inventions having the following configurations.
[0128]
(1) In the digital camera according to claim 1,
A correspondence relation as to which of the plurality of focus state evaluation areas corresponds to which of the plurality of focus state evaluation areas is defined,
In the exposure control of the first method, the exposure control means optimizes the focus evaluation value at the lens position after the manual focusing operation from among a plurality of focus state evaluation areas. A digital camera, wherein a state evaluation area is selected, and a photometry area corresponding to the selected focus state evaluation area is selected as the target photometry area.
[0129]
According to this, when the manual focusing operation is further performed after the automatic focusing operation, the photometry area corresponding to the focusing state evaluation area in which the focusing evaluation value is optimized at the lens position after the manual focusing operation By selecting as the target photometric region, the position of the main subject in the screen can be more accurately estimated. Therefore, more accurate exposure control can be performed.
[0130]
(2) In the digital camera according to (1),
The digital camera according to claim 1, wherein the correspondence is determined based on a proximity between a center position of each focusing state evaluation area and a photometry center position of each photometry area.
[0131]
(3) In the digital camera according to claim 5,
A digital camera, wherein the predetermined photometric area is a photometric area corresponding to a focus state evaluation area adopted in the automatic focusing operation among a plurality of focus state evaluation areas.
[0132]
According to this, it is possible to set the target subject during the automatic focusing operation as the target subject during the exposure control.
[0133]
(4) In the digital camera according to claim 1,
Display means for displaying the target photometric area,
A digital camera, further comprising:
[0134]
According to this, operability can be improved.
[0135]
(5) In the digital camera according to claim 1,
Display means for displaying a focus state evaluation area corresponding to the target photometry area,
A digital camera, further comprising:
[0136]
According to this, operability can be improved.
[0137]
【The invention's effect】
As described above, according to the first aspect of the present invention, a photometry area corresponding to the lens position after the manual focusing operation is selected as a target photometry area from a plurality of photometry areas whose photometry center positions are different from each other. Then, since the value of the exposure control parameter is determined based on the evaluation value for exposure control relating to the target photometric region, more accurate exposure control is performed when performing a manual focusing operation after the automatic focusing operation. Can be.
[0138]
According to the second aspect of the invention, when the average photometry method is set by the photographer as the exposure control method, the exposure control is performed based on the evaluation value regarding a predetermined photometry area used in the average photometry method. Exposure control according to the photographer's intention is performed.
[0139]
According to the third aspect of the present invention, since the exposure control means performs the exposure control based on the method set by the setting means, the exposure control reflecting the intention of the photographer is performed.
[0140]
According to the fourth aspect of the present invention, when the AE lock is set, the exposure control means gives priority to the AE lock over the exposure control of the first method, so that the exposure control reflecting the photographer's intention is performed. Done.
[0141]
According to the invention described in claim 5, when there is no suitable area, the exposure control is performed by selecting a predetermined photometric area as the target photometric area. In other words, when the position of the main subject is not accurately estimated to a predetermined extent, the photometric area is not changed. Therefore, it is possible to prevent a change in the photometry area due to erroneous detection of the main subject.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view showing an external configuration of a digital camera.
FIG. 2 is a top view illustrating an external configuration of the digital camera.
FIG. 3 is a rear view illustrating an external configuration of the digital camera.
FIG. 4 is a block diagram showing internal functions of the digital camera.
FIG. 5 is a conceptual diagram showing a state in which a live view image is divided into a plurality of small blocks.
FIG. 6 is a functional block diagram illustrating a functional configuration and the like of a part of the overall control unit.
FIG. 7 is a diagram showing a menu screen for setting a photometry mode.
FIG. 8 is a diagram showing a menu screen for setting a sub mode.
FIG. 9 is a conceptual diagram showing a center emphasis pattern.
FIG. 10 is a conceptual diagram showing a left emphasis pattern.
FIG. 11 is a conceptual diagram showing a right emphasis pattern.
FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a subject.
FIG. 13 is a diagram showing a change state of an AF evaluation value.
FIG. 14 is a diagram showing an AF area provided at the center.
FIG. 15 is a diagram showing an AF area provided at a position closer to the left.
FIG. 16 is a diagram illustrating an AF area provided at a position closer to the right.
FIG. 17 is a flowchart showing an AF operation and an AE operation in the digital camera.
FIG. 18 is a flowchart illustrating an AF operation and the like.
FIG. 19 is a flowchart showing a part of the AE operation.
[Explanation of symbols]
1 Digital camera
2 Shooting lens
4 Electronic viewfinder (EVF)
5 Liquid crystal display (LCD)
6 Menu button
7 Control buttons
8 Focus ring
9 Shutter button
10 Image sensor
42 Lock Button
FC, FL, FR Focusing state evaluation area (AF area)
G0 photographed image
P1, P2 menu screen
PEA, PEC, PEL, PER Photometric pattern (photometric area)
PN1 to PN3 People

Claims (5)

A digital camera,
A shooting lens,
Imaging means for capturing an image of a subject via the photographing lens;
An automatic focusing control unit that adjusts a focal position of the photographing lens using a focusing evaluation value for a focusing state evaluation region in an image captured by the imaging unit;
After the adjustment of the focal position by the automatic focusing control unit, a manual focusing control unit that performs a manual focusing operation of further adjusting the focal position by moving a lens position of the taking lens according to a manual operation;
From the plurality of photometry areas whose photometry center positions are different from each other, a photometry area corresponding to the lens position after the manual focusing operation is selected as a target photometry area, and based on an evaluation value for exposure control related to the target photometry area. Exposure control means capable of performing a first type of exposure control for determining the value of the exposure control parameter by
A digital camera, comprising: The digital camera according to claim 1,
Setting means for setting the exposure control method by the exposure control means to one of a plurality of methods including the first method and the average photometry method;
Further comprising
When the average photometry method is set as the exposure control method, the exposure control means does not perform exposure control by changing the photometry area according to the change in the lens position, but uses the average photometry method. A digital camera that performs exposure control based on an evaluation value regarding a predetermined photometry area. The digital camera according to claim 1,
Setting means for setting an exposure control method by the exposure control means to one of a plurality of methods including the first method and a second method without changing the photometric area;
Further comprising
The digital camera according to claim 1, wherein the exposure control unit performs exposure control based on a method set by the setting unit. The digital camera according to claim 1,
AE lock setting means for setting an AE lock for inhibiting a change in the exposure state and fixing the value of the exposure control parameter;
Further comprising
When the AE lock is set, the exposure control means gives priority to the AE lock over the exposure control of the first method, and prohibits a change in the exposure state even when the lens position is moved by a manual operation. A digital camera characterized in that: The digital camera according to claim 1,
In the exposure control of the first method, the exposure control unit may be configured such that, out of the plurality of focus state evaluation areas, the focus evaluation value is greater than a predetermined value at the lens position after the manual focusing operation. When there is an adaptation area that is a focus state evaluation area that meets the condition of having, the photometric area corresponding to the adaptation area is selected as the target photometry area, and when the adaptation area does not exist, a predetermined A digital camera, wherein a photometry area is selected as the target photometry area.

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