JP2004047681A - プリント配線板用銅箔 - Google Patents
プリント配線板用銅箔 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004047681A JP2004047681A JP2002202322A JP2002202322A JP2004047681A JP 2004047681 A JP2004047681 A JP 2004047681A JP 2002202322 A JP2002202322 A JP 2002202322A JP 2002202322 A JP2002202322 A JP 2002202322A JP 2004047681 A JP2004047681 A JP 2004047681A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper foil
- layer
- linear polymer
- coupling agent
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 38
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims abstract description 9
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 8
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 10
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 9
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 amide compounds Chemical class 0.000 description 6
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001367053 Autographa gamma Species 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical group [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 235000015393 sodium molybdate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011684 sodium molybdate Substances 0.000 description 1
- TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N sodium molybdate (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJMOHBDCGXJLNJ-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 NJMOHBDCGXJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
【課題】有害なクロムを含有せず環境への適合性に優れたプリント配線板用の電解銅箔を提供する。
【解決手段】銅箔上に、ニッケル、モリブデン、コバルト、亜鉛から選択される一種以上の金属からなる金属層が形成され、該金属層上にカップリング剤層が形成され、該カップリング剤層上に、線状重合体を含有する接着性付与層が形成されていることを特徴とするプリント配線板用銅箔である。線状重合体は、ポリアミドイミド樹脂重合体、または、エポキシ樹脂重合体である。
【選択図】 図なし
【解決手段】銅箔上に、ニッケル、モリブデン、コバルト、亜鉛から選択される一種以上の金属からなる金属層が形成され、該金属層上にカップリング剤層が形成され、該カップリング剤層上に、線状重合体を含有する接着性付与層が形成されていることを特徴とするプリント配線板用銅箔である。線状重合体は、ポリアミドイミド樹脂重合体、または、エポキシ樹脂重合体である。
【選択図】 図なし
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、有害なクロムを含有せず環境への適合性に優れたプリント配線板用銅箔に関する。
【従来の技術】
プリント配線板に用いられる電解銅箔には、空気酸化や湿気による表面の劣化を防止するためにクロメート処理が行なわれている。クロメート処理は6価クロムを含有する水溶液に電解銅箔を浸漬し、必要に応じて通電することにより行なわれ、クロメート処理により形成された皮膜は、主として6価クロムや3価クロムの酸化物または水酸化物からなる混合物であり、金属クロムは殆ど存在しない。
クロムを用いない防錆処理としては、圧延銅箔に慣用されているベンゾトリアゾールなどの有機系防錆剤を用いる処理があるが、これらの有機系防錆剤はプリント板の製造工程で用いられるエッチング液を汚染するなどの問題がある。一方、クロム以外の金属を用いる防錆処理としては、アルミニウム系の皮膜を形成することが特開2002−69692に記載されている。これは、電解銅箔の光沢面、すなわち、エッチングレジストを形成する側の面に対して金属コバルトと酸化アルミニウムとからなる混合皮膜を形成するもので、光沢面の劣化を防止し、かつ、半田広がり性やレジスト密着性などの光沢面に対して要求される特性を満足するものである。しかしながら、電解銅箔のマット面、すなわち基材と積層接着される側の面に対しては、基材と電解銅箔間の引きはがし強さが低く、プリント配線板としての信頼性に問題があるため適用できない。したがってマット面に対する防錆処理としてはクロメート処理が必須となっている。
【発明が解決しようとする課題】
クロムは毒性が強く、環境中に流出した場合には深刻な健康被害が発生するおそれがあり、欧州議会は鉛・水銀・カドミウム・PBB・PBDEに加えて2006年までに6価クロムの使用を段階的に廃止することとし、6価クロムを含む部品をすべての廃棄物から除去することを決定している。従来のクロムで防錆処理した電解銅箔を用いて製造したプリント配線板には、当然クロムが含有されることから、廃電子機器の処分が困難となるため、クロムを含有しない電解銅箔が強く求められている。
すなわち、本発明は、有害なクロムを含有せず環境への適合性に優れたプリント配線板用の電解銅箔に関する。
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、特定の金属層ないし合金層と特定の樹脂とを組み合わせることにより、クロメート処理を行なわなくてもプリント配線板に必要な基材と銅箔間の接着力が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、銅箔上に、ニッケル、モリブデン、コバルト、亜鉛から選択される一種以上の金属からなる金属層ないし合金層が形成され、該金属層上にカップリング剤層が形成され、該カップリング剤層上に、線状重合体を含有する接着性付与層が形成されていることを特徴とするプリント配線板用銅箔である。本発明の線状重合体は、ポリアミドイミド樹脂重合体であり、また、エポキシ樹脂重合体である。
【発明の実施の形態】
本発明のプリント配線板用銅箔に用いる銅箔の種類は、電解銅箔、圧延銅箔のいずれでもよく、厚さについては3〜70μmが好適であり、特に好ましくは3〜18μmである。銅箔が70μmよりも厚いとエッチング加工が困難となり、3μmよりも薄いと取扱いが困難となる。電解銅箔には光沢面と非光沢面の2種類の表面があり、各々表面形状と表面粗さが異なるが、本発明においては接着性付与層をどちらの表面上に設けてもよい。表面粗さは、10点平均粗さで0.5〜10μmが好適であり、特に好ましくは0.5〜3μmである。表面粗さが0.5μmよりも小さいと、銅箔自体の製造が困難になる。一方、3μmよりも大きいと、基材樹脂に埋没した部分が増加してエッチング加工が困難となる。さらに、表面粗さが大きいと高周波信号の波形に乱れが生じやすくなるので、高周波回路に用いる場合には、表面粗さが上記の範囲内で小さいことが好ましい。表面粗さが上記の範囲であれば、粗化処理が行われていない銅箔も使用することができる。粗化処理が行われていない銅箔を用いた銅張積層板は、基材樹脂に埋没した粗化粒子が存在しないため、特にエッチング加工性に優れるとともに、高周波回路に適する。
銅箔上に形成されるニッケル、モリブデン、コバルト、亜鉛から選択される一種以上の金属からなる金属層ないし合金層としては、前記金属のいずれを単独で用いてもよいし、二種以上を組合わせて用いてもよい。ニッケルからなる金属層は硫酸ニッケルや塩化ニッケルを含有するめっき浴から電気めっきにより形成する。添加剤としてホウ酸や亜リン酸などを用いてもよい。亜リン酸を添加剤として用いた場合には純ニッケルめっきではなくニッケル−リン合金めっきとなるが、いずれを用いてもよい。モリブデンはモリブデン酸ナトリウムを含有するめっき浴から電気めっきにより形成する。コバルトからなる金属層は硫酸コバルトを含有するめっき浴から電気めっきにより形成する。また、ニッケルとモリブデンとコバルトとからなる合金層は、特開平06−013749号公報記載の方法により形成することができる。また、亜鉛からなる金属層は硫酸亜鉛を含有するめっき浴から電気めっきにより形成する。なお、亜鉛は酸化物や水酸化物ではなく、金属亜鉛として析出させることが好ましい。これは、酸化物や水酸化物では耐塩酸性が十分ではないためである。
カップリング剤層は、各種のカップリング剤を用いて形成することができるが、特にシランカップリング剤を用いて好適に形成することができる。シランカップリング剤としては、各種のシランカップリング剤を単独あるいは混合して用いることができ、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等を用いることができる。さらには、上記したシランカップリング剤1種以上を混合して使用する。必要であれば上記のシランカップリング剤とテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシランあるいは水ガラス、ケイ酸リチウム、ケイ酸カリウム等のポリケイ酸塩と混合して使用してもよい。これらのカップリング剤の水溶液、水分散液、溶液等を防錆処理層上に塗工、噴霧等の各種の方法により形成する、カップリング剤層を形成することができる。
接着性付与層に含有されるエポキシ樹脂重合体としては、特開平4−120124号公報,特開平4−120125号公報、特開平5−93041号公報、並びに特開平5−93042号公報に記載のビスフェノールAジグリシジルエーテル等の二官能性エポキシ樹脂、ビスフェノールA等の二官能フェノール類及びメラミン、イソシアヌル酸等のトリアジン環若しくはイソシアヌル環を有する化合物との反応によりできるエポキシを用いることができる。このエポキシ樹脂重合体は、フィルム形成性や機械強度に優れることから、溶解度の許容する範囲で高分子量であることが好ましく、重量平均分子量で70,000以上、より好ましくは100,000以上である。上記のエポキシ樹脂重合体を溶剤に溶解し、濃度が1〜10%のワニスとして用いる。溶剤としては、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド化合物類、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類、アリルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル等のエポキシ化合物類、アミド化合物類とベンゼン、ヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、1一プロパノール、2一プロパノール等のアルコール類、アセトン、2−ブタノン、2−ペンタノン、3−ペンタノン等のケトン類、あるいは、ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類との混合溶剤を用いる。
接着性付与層に含有されるポリアミドイミド樹脂系線状重合体としては、無水トリメリット酸または無水トリメリット酸クロライドと各種ジアミンとの付加物を用いることができる。各種ジアミンの代わりに対応するイソシアネート化合物を用いてもよい。本発明においては、特開2001−139809号公報に記載されたシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂が特に好適である。このポリアミドイミド樹脂系線状重合体は、フィルム形成性や機械強度に優れることから、溶解度の許容する範囲で高分子量であることが好ましく、重量平均分子量で10,000以上、より好ましくは100,000以上である。上記のエポキシ樹脂重合体を溶剤に溶解し、濃度が1〜10%のワニスとして用いる。溶剤としては、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド化合物類、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類、アリルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル等のエポキシ化合物類、アミド化合物類とベンゼン、ヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、1一プロパノール、2一プロパノール等のアルコール類、アセトン、2−ブタノン、2−ペンタノン、3−ペンタノン等のケトン類、あるいは、ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類との混合溶剤を用いる。
上記のエポキシ樹脂系線状重合体やポリアミドイミド樹脂系線状重合体の熱硬化性を向上させる目的で、各種の硬化システムと組合わせることが好ましい。このような硬化システムとしては多官能エポキシ樹脂とポリフェノール類などの硬化剤の組合わせ、イソシアネート化合物との組合わせがある。また、イミダゾール類などの硬化促進剤を同時に使用してもよい。このような硬化システムは、線状重合体の有する可とう性を損なわない範囲で使用される。線状重合体の比率が低下すると、基材と電解銅箔間の引きはがし強さが低くなる。エポキシ樹脂系線状重合体やポリアミドイミド樹脂系線状重合体に硬化システムとの組合わせたワニスを、カップリング剤層上に塗布、乾燥することにより接着性付与層を形成する。上記ワニスには難燃剤、レベリング剤、酸化防止剤などの各種添加剤を添加することができ、乾燥後の樹脂組成物層の塗工量は、重量換算厚さで0.5〜5g/m2である。0.5g/m2未満では引きはがし強さが低く、5g/m2より厚くても引きはがし強さは向上しない。
接着性付与層を形成するためのワニスの塗布方法としては、上記ワニスを公知の塗工方式、例えば、転写方式(ローラ、ホイール、ダウバー)、触圧方式(ボールポイント)、噴射方式、自重滴下方式等を用いることができる。これらの中では、噴射方式あるいは自重滴下方式によって実施することが量産性、経済性の点で実用上望ましい。ワニスを塗工した後、加熱乾燥することにより、接着性付与層を半硬化状態とする。完全に硬化した状態ではガラス布エポキシ樹脂基材等の積層基材との積層成型に際して、接着性付与層と基材樹脂との一体化が十分ではなく、信頼性が低下する。一方、硬化が不十分な状態では、塗工品をロール状で保管した場合に接着性付与層が銅箔の他方の面を汚染する。乾燥温度は45〜300℃、好ましくは70〜250℃、乾燥時間は2秒〜60分、好ましくは10秒〜30分である。
シランカップリング剤処理と接着性付与層とを形成しない側の面に対しては、クロムを用いない公知の防錆処理を用いることができる。このような防錆処理としては、上記の金属コバルトと酸化アルミニウムとを用いた防錆処理や、インジウムと亜鉛とを用いた防錆処理がある。
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(実施例1)重量平均分子量が127,000のビスフェノールA系エポキシ樹脂重合体を含有する溶液(固形分30%、溶剤:ジメチルアセトアミド)100重量部に、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量:198)15重量部、フェノールノボラック(水酸基当量:106)7重量部、2−エチル−4−メチルイミダゾール1重量部を加え、ジメチルアセドアミド1878重量部を加えて攪拌し、エポキシ樹脂系線状重合体ワニスを調製した。このエポキシ樹脂系線状重合体ワニスを、ニッケルとモリブデンとコバルトからなる合金層と、シランカップリング剤層の形成された厚さ12μmの電解銅箔の非光沢面側(10点平均粗さ:Rz=2.2μm)にスプレー法により5秒間塗布し、直ちに温度70℃で30分間乾燥してプリント配線板用銅箔とした。接着性付与層の厚さは、重量換算厚さで2.0g/m2であった。プリント配線板用銅箔を、厚さ0.2mmのガラス布基材エポキシ樹脂プリプレグ(日立化成工業株式会社製、商品名 GEA−67N及びGEA−679N)8枚に、樹脂面(即ち、被接着面)がプリプレグに面するように積層し、温度168℃、圧力0.3MPa、時間90分の条件下で加熱加圧処理して銅張積層板を作製した。この銅張積層板の特性を表に示した。ただし、引きはがし強さの常態における値と塩酸劣化率、UL劣化率はFR−5グレードのプリプレグ(GEA−679N)を用いた銅張積層板における値であり、PCT劣化率はFR−4グレードのプリプレグ(GEA−67N)を用いた銅張積層板における値である。
(実施例2)塗布時間を10秒とした以外は、実施例1と同様にして処理をおこなった。接着性付与層の厚さは4.0g/m2であった。実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(実施例3)濃度2%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂系線状重合体を用いた他は実施例1と同様にして接着性付与層を形成した。接着性付与層の厚さは2.0g/m2であった。実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。なお、ポリアミドイミド樹脂系線状重合体ワニスは、KS6600(日立化成工業株式会社製、商品名)を用いた。
(実施例4)接着性付与層の厚さを4.0g/m2とした他は、実施例3と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(実施例5)光沢面側(10点平均粗さ:Rz=1.8μm)に対して処理を行なったほかは実施例4と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例1)接着剤付与層の厚さを0.5g/m2とした他は、実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例2)接着剤付与層の厚さを6.0g/m2とした他は、実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例3)カップリング剤層を形成しないことを除いては、実施例2と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例4)接着剤付与層の厚さを6.0g/m2とした他は、実施例5と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例5)接着性付与層を形成しないことを除いては、実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例6)厚さ12μmの電解銅箔の非光沢面側に硫酸銅めっきによる粗化処理を行ない、表面粗さを10点平均粗さ:Rz=5.5μmとした。ついでクロメート処理とカップリング剤処理を行ない、接着剤付与層を形成せずに基材と積層成形して銅張積層板とし、評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
【表1】
【発明の効果】
本発明のプリント配線板用銅箔を用いることにより、銅箔と樹脂基材間の引きはがし強さを高く保持する高信頼性のプリント配線板を製造できる。
本発明は、有害なクロムを含有せず環境への適合性に優れたプリント配線板用銅箔に関する。
【従来の技術】
プリント配線板に用いられる電解銅箔には、空気酸化や湿気による表面の劣化を防止するためにクロメート処理が行なわれている。クロメート処理は6価クロムを含有する水溶液に電解銅箔を浸漬し、必要に応じて通電することにより行なわれ、クロメート処理により形成された皮膜は、主として6価クロムや3価クロムの酸化物または水酸化物からなる混合物であり、金属クロムは殆ど存在しない。
クロムを用いない防錆処理としては、圧延銅箔に慣用されているベンゾトリアゾールなどの有機系防錆剤を用いる処理があるが、これらの有機系防錆剤はプリント板の製造工程で用いられるエッチング液を汚染するなどの問題がある。一方、クロム以外の金属を用いる防錆処理としては、アルミニウム系の皮膜を形成することが特開2002−69692に記載されている。これは、電解銅箔の光沢面、すなわち、エッチングレジストを形成する側の面に対して金属コバルトと酸化アルミニウムとからなる混合皮膜を形成するもので、光沢面の劣化を防止し、かつ、半田広がり性やレジスト密着性などの光沢面に対して要求される特性を満足するものである。しかしながら、電解銅箔のマット面、すなわち基材と積層接着される側の面に対しては、基材と電解銅箔間の引きはがし強さが低く、プリント配線板としての信頼性に問題があるため適用できない。したがってマット面に対する防錆処理としてはクロメート処理が必須となっている。
【発明が解決しようとする課題】
クロムは毒性が強く、環境中に流出した場合には深刻な健康被害が発生するおそれがあり、欧州議会は鉛・水銀・カドミウム・PBB・PBDEに加えて2006年までに6価クロムの使用を段階的に廃止することとし、6価クロムを含む部品をすべての廃棄物から除去することを決定している。従来のクロムで防錆処理した電解銅箔を用いて製造したプリント配線板には、当然クロムが含有されることから、廃電子機器の処分が困難となるため、クロムを含有しない電解銅箔が強く求められている。
すなわち、本発明は、有害なクロムを含有せず環境への適合性に優れたプリント配線板用の電解銅箔に関する。
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、特定の金属層ないし合金層と特定の樹脂とを組み合わせることにより、クロメート処理を行なわなくてもプリント配線板に必要な基材と銅箔間の接着力が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、銅箔上に、ニッケル、モリブデン、コバルト、亜鉛から選択される一種以上の金属からなる金属層ないし合金層が形成され、該金属層上にカップリング剤層が形成され、該カップリング剤層上に、線状重合体を含有する接着性付与層が形成されていることを特徴とするプリント配線板用銅箔である。本発明の線状重合体は、ポリアミドイミド樹脂重合体であり、また、エポキシ樹脂重合体である。
【発明の実施の形態】
本発明のプリント配線板用銅箔に用いる銅箔の種類は、電解銅箔、圧延銅箔のいずれでもよく、厚さについては3〜70μmが好適であり、特に好ましくは3〜18μmである。銅箔が70μmよりも厚いとエッチング加工が困難となり、3μmよりも薄いと取扱いが困難となる。電解銅箔には光沢面と非光沢面の2種類の表面があり、各々表面形状と表面粗さが異なるが、本発明においては接着性付与層をどちらの表面上に設けてもよい。表面粗さは、10点平均粗さで0.5〜10μmが好適であり、特に好ましくは0.5〜3μmである。表面粗さが0.5μmよりも小さいと、銅箔自体の製造が困難になる。一方、3μmよりも大きいと、基材樹脂に埋没した部分が増加してエッチング加工が困難となる。さらに、表面粗さが大きいと高周波信号の波形に乱れが生じやすくなるので、高周波回路に用いる場合には、表面粗さが上記の範囲内で小さいことが好ましい。表面粗さが上記の範囲であれば、粗化処理が行われていない銅箔も使用することができる。粗化処理が行われていない銅箔を用いた銅張積層板は、基材樹脂に埋没した粗化粒子が存在しないため、特にエッチング加工性に優れるとともに、高周波回路に適する。
銅箔上に形成されるニッケル、モリブデン、コバルト、亜鉛から選択される一種以上の金属からなる金属層ないし合金層としては、前記金属のいずれを単独で用いてもよいし、二種以上を組合わせて用いてもよい。ニッケルからなる金属層は硫酸ニッケルや塩化ニッケルを含有するめっき浴から電気めっきにより形成する。添加剤としてホウ酸や亜リン酸などを用いてもよい。亜リン酸を添加剤として用いた場合には純ニッケルめっきではなくニッケル−リン合金めっきとなるが、いずれを用いてもよい。モリブデンはモリブデン酸ナトリウムを含有するめっき浴から電気めっきにより形成する。コバルトからなる金属層は硫酸コバルトを含有するめっき浴から電気めっきにより形成する。また、ニッケルとモリブデンとコバルトとからなる合金層は、特開平06−013749号公報記載の方法により形成することができる。また、亜鉛からなる金属層は硫酸亜鉛を含有するめっき浴から電気めっきにより形成する。なお、亜鉛は酸化物や水酸化物ではなく、金属亜鉛として析出させることが好ましい。これは、酸化物や水酸化物では耐塩酸性が十分ではないためである。
カップリング剤層は、各種のカップリング剤を用いて形成することができるが、特にシランカップリング剤を用いて好適に形成することができる。シランカップリング剤としては、各種のシランカップリング剤を単独あるいは混合して用いることができ、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等を用いることができる。さらには、上記したシランカップリング剤1種以上を混合して使用する。必要であれば上記のシランカップリング剤とテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシランあるいは水ガラス、ケイ酸リチウム、ケイ酸カリウム等のポリケイ酸塩と混合して使用してもよい。これらのカップリング剤の水溶液、水分散液、溶液等を防錆処理層上に塗工、噴霧等の各種の方法により形成する、カップリング剤層を形成することができる。
接着性付与層に含有されるエポキシ樹脂重合体としては、特開平4−120124号公報,特開平4−120125号公報、特開平5−93041号公報、並びに特開平5−93042号公報に記載のビスフェノールAジグリシジルエーテル等の二官能性エポキシ樹脂、ビスフェノールA等の二官能フェノール類及びメラミン、イソシアヌル酸等のトリアジン環若しくはイソシアヌル環を有する化合物との反応によりできるエポキシを用いることができる。このエポキシ樹脂重合体は、フィルム形成性や機械強度に優れることから、溶解度の許容する範囲で高分子量であることが好ましく、重量平均分子量で70,000以上、より好ましくは100,000以上である。上記のエポキシ樹脂重合体を溶剤に溶解し、濃度が1〜10%のワニスとして用いる。溶剤としては、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド化合物類、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類、アリルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル等のエポキシ化合物類、アミド化合物類とベンゼン、ヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、1一プロパノール、2一プロパノール等のアルコール類、アセトン、2−ブタノン、2−ペンタノン、3−ペンタノン等のケトン類、あるいは、ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類との混合溶剤を用いる。
接着性付与層に含有されるポリアミドイミド樹脂系線状重合体としては、無水トリメリット酸または無水トリメリット酸クロライドと各種ジアミンとの付加物を用いることができる。各種ジアミンの代わりに対応するイソシアネート化合物を用いてもよい。本発明においては、特開2001−139809号公報に記載されたシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂が特に好適である。このポリアミドイミド樹脂系線状重合体は、フィルム形成性や機械強度に優れることから、溶解度の許容する範囲で高分子量であることが好ましく、重量平均分子量で10,000以上、より好ましくは100,000以上である。上記のエポキシ樹脂重合体を溶剤に溶解し、濃度が1〜10%のワニスとして用いる。溶剤としては、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド化合物類、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類、アリルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル等のエポキシ化合物類、アミド化合物類とベンゼン、ヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、1一プロパノール、2一プロパノール等のアルコール類、アセトン、2−ブタノン、2−ペンタノン、3−ペンタノン等のケトン類、あるいは、ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類との混合溶剤を用いる。
上記のエポキシ樹脂系線状重合体やポリアミドイミド樹脂系線状重合体の熱硬化性を向上させる目的で、各種の硬化システムと組合わせることが好ましい。このような硬化システムとしては多官能エポキシ樹脂とポリフェノール類などの硬化剤の組合わせ、イソシアネート化合物との組合わせがある。また、イミダゾール類などの硬化促進剤を同時に使用してもよい。このような硬化システムは、線状重合体の有する可とう性を損なわない範囲で使用される。線状重合体の比率が低下すると、基材と電解銅箔間の引きはがし強さが低くなる。エポキシ樹脂系線状重合体やポリアミドイミド樹脂系線状重合体に硬化システムとの組合わせたワニスを、カップリング剤層上に塗布、乾燥することにより接着性付与層を形成する。上記ワニスには難燃剤、レベリング剤、酸化防止剤などの各種添加剤を添加することができ、乾燥後の樹脂組成物層の塗工量は、重量換算厚さで0.5〜5g/m2である。0.5g/m2未満では引きはがし強さが低く、5g/m2より厚くても引きはがし強さは向上しない。
接着性付与層を形成するためのワニスの塗布方法としては、上記ワニスを公知の塗工方式、例えば、転写方式(ローラ、ホイール、ダウバー)、触圧方式(ボールポイント)、噴射方式、自重滴下方式等を用いることができる。これらの中では、噴射方式あるいは自重滴下方式によって実施することが量産性、経済性の点で実用上望ましい。ワニスを塗工した後、加熱乾燥することにより、接着性付与層を半硬化状態とする。完全に硬化した状態ではガラス布エポキシ樹脂基材等の積層基材との積層成型に際して、接着性付与層と基材樹脂との一体化が十分ではなく、信頼性が低下する。一方、硬化が不十分な状態では、塗工品をロール状で保管した場合に接着性付与層が銅箔の他方の面を汚染する。乾燥温度は45〜300℃、好ましくは70〜250℃、乾燥時間は2秒〜60分、好ましくは10秒〜30分である。
シランカップリング剤処理と接着性付与層とを形成しない側の面に対しては、クロムを用いない公知の防錆処理を用いることができる。このような防錆処理としては、上記の金属コバルトと酸化アルミニウムとを用いた防錆処理や、インジウムと亜鉛とを用いた防錆処理がある。
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(実施例1)重量平均分子量が127,000のビスフェノールA系エポキシ樹脂重合体を含有する溶液(固形分30%、溶剤:ジメチルアセトアミド)100重量部に、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量:198)15重量部、フェノールノボラック(水酸基当量:106)7重量部、2−エチル−4−メチルイミダゾール1重量部を加え、ジメチルアセドアミド1878重量部を加えて攪拌し、エポキシ樹脂系線状重合体ワニスを調製した。このエポキシ樹脂系線状重合体ワニスを、ニッケルとモリブデンとコバルトからなる合金層と、シランカップリング剤層の形成された厚さ12μmの電解銅箔の非光沢面側(10点平均粗さ:Rz=2.2μm)にスプレー法により5秒間塗布し、直ちに温度70℃で30分間乾燥してプリント配線板用銅箔とした。接着性付与層の厚さは、重量換算厚さで2.0g/m2であった。プリント配線板用銅箔を、厚さ0.2mmのガラス布基材エポキシ樹脂プリプレグ(日立化成工業株式会社製、商品名 GEA−67N及びGEA−679N)8枚に、樹脂面(即ち、被接着面)がプリプレグに面するように積層し、温度168℃、圧力0.3MPa、時間90分の条件下で加熱加圧処理して銅張積層板を作製した。この銅張積層板の特性を表に示した。ただし、引きはがし強さの常態における値と塩酸劣化率、UL劣化率はFR−5グレードのプリプレグ(GEA−679N)を用いた銅張積層板における値であり、PCT劣化率はFR−4グレードのプリプレグ(GEA−67N)を用いた銅張積層板における値である。
(実施例2)塗布時間を10秒とした以外は、実施例1と同様にして処理をおこなった。接着性付与層の厚さは4.0g/m2であった。実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(実施例3)濃度2%のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂系線状重合体を用いた他は実施例1と同様にして接着性付与層を形成した。接着性付与層の厚さは2.0g/m2であった。実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。なお、ポリアミドイミド樹脂系線状重合体ワニスは、KS6600(日立化成工業株式会社製、商品名)を用いた。
(実施例4)接着性付与層の厚さを4.0g/m2とした他は、実施例3と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(実施例5)光沢面側(10点平均粗さ:Rz=1.8μm)に対して処理を行なったほかは実施例4と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例1)接着剤付与層の厚さを0.5g/m2とした他は、実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例2)接着剤付与層の厚さを6.0g/m2とした他は、実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例3)カップリング剤層を形成しないことを除いては、実施例2と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例4)接着剤付与層の厚さを6.0g/m2とした他は、実施例5と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例5)接着性付与層を形成しないことを除いては、実施例1と同様にして評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
(比較例6)厚さ12μmの電解銅箔の非光沢面側に硫酸銅めっきによる粗化処理を行ない、表面粗さを10点平均粗さ:Rz=5.5μmとした。ついでクロメート処理とカップリング剤処理を行ない、接着剤付与層を形成せずに基材と積層成形して銅張積層板とし、評価を行なった。結果を合わせて表に示した。
【表1】
【発明の効果】
本発明のプリント配線板用銅箔を用いることにより、銅箔と樹脂基材間の引きはがし強さを高く保持する高信頼性のプリント配線板を製造できる。
Claims (3)
- 銅箔上に、ニッケル、モリブデン、コバルト、亜鉛から選択される一種以上の金属からなる金属層ないし合金層が形成され、該金属層ないし合金層上にカップリング剤層が形成され、該カップリング剤層上に、線状重合体を含有する接着性付与層が形成されていることを特徴とするプリント配線板用銅箔。
- 線状重合体がポリアミドイミド樹脂重合体であることを特徴とする請求項1のプリント配線板用銅箔。
- 線状重合体がエポキシ樹脂重合体であることを特徴とする請求項1のプリント配線板用銅箔。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002202322A JP2004047681A (ja) | 2002-07-11 | 2002-07-11 | プリント配線板用銅箔 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002202322A JP2004047681A (ja) | 2002-07-11 | 2002-07-11 | プリント配線板用銅箔 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004047681A true JP2004047681A (ja) | 2004-02-12 |
Family
ID=31708540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002202322A Pending JP2004047681A (ja) | 2002-07-11 | 2002-07-11 | プリント配線板用銅箔 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004047681A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005268518A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 配線板 |
JP2005344174A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 表面処理銅箔及びその表面処理銅箔を用いて製造したフレキシブル銅張積層板並びにフィルムキャリアテープ |
JP2006142514A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 銅張り積層板 |
WO2008053878A1 (en) | 2006-10-31 | 2008-05-08 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Surface treated copper foil, surface treated copper foil with very thin primer resin layer, method for manufacturing the surface treated copper foil, and method for manufacturing the surface treated copper foil with very thin primer resin layer |
JP2011066431A (ja) * | 2010-10-20 | 2011-03-31 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 銅張り積層板の製造方法 |
JP2011129685A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-06-30 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 環境配慮型プリント配線板用銅箔 |
US8187723B2 (en) | 2005-06-13 | 2012-05-29 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Surface-treated copper foil, manufacturing method of the surface-treated copper foil, and surface-treated copper foil coated with very thin primer resin layer |
KR101224034B1 (ko) | 2010-05-03 | 2013-01-18 | 엘에스엠트론 주식회사 | 인쇄회로용 동박 및 그 제조방법 |
-
2002
- 2002-07-11 JP JP2002202322A patent/JP2004047681A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005268518A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 配線板 |
JP2005344174A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 表面処理銅箔及びその表面処理銅箔を用いて製造したフレキシブル銅張積層板並びにフィルムキャリアテープ |
JP2006142514A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 銅張り積層板 |
US8187723B2 (en) | 2005-06-13 | 2012-05-29 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Surface-treated copper foil, manufacturing method of the surface-treated copper foil, and surface-treated copper foil coated with very thin primer resin layer |
WO2008053878A1 (en) | 2006-10-31 | 2008-05-08 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Surface treated copper foil, surface treated copper foil with very thin primer resin layer, method for manufacturing the surface treated copper foil, and method for manufacturing the surface treated copper foil with very thin primer resin layer |
JP2008111169A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 表面処理銅箔、極薄プライマ樹脂層付表面処理銅箔及びその表面処理銅箔の製造方法並びに極薄プライマ樹脂層付表面処理銅箔の製造方法 |
JP2011129685A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-06-30 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 環境配慮型プリント配線板用銅箔 |
KR101224034B1 (ko) | 2010-05-03 | 2013-01-18 | 엘에스엠트론 주식회사 | 인쇄회로용 동박 및 그 제조방법 |
JP2011066431A (ja) * | 2010-10-20 | 2011-03-31 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 銅張り積層板の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9120293B2 (en) | Preliminary-cured material, roughened preliminary-cured material, and laminated body | |
TWI760370B (zh) | 層間絕緣材料及多層印刷佈線板 | |
JP4379854B2 (ja) | 表面処理銅箔 | |
JP5482524B2 (ja) | 銅張積層板 | |
JP5378620B2 (ja) | 積層板及びプリント配線板の製造方法 | |
JP6215711B2 (ja) | 接着剤層付銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | |
JP6408847B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
JP5625566B2 (ja) | 銅箔付き接着フィルム | |
KR101902128B1 (ko) | 표면 처리 동박, 구리 피복 적층판, 프린트 배선판, 전자 기기, 반도체 패키지용 회로 형성 기판, 반도체 패키지 및 프린트 배선판의 제조 방법 | |
US20070295607A1 (en) | Resin composition for interlayer insulating layer of multi-layer printed wiring board | |
TWI570147B (zh) | Insulating resin materials and multilayer substrates | |
JP5521099B1 (ja) | キャリア付銅箔、プリント配線板、プリント回路板、銅張積層板、及びプリント配線板の製造方法 | |
JP2007262126A (ja) | フレキシブル印刷回路用接着剤組成物およびそれを用いたカバーレイフィルム、銅張り積層板、接着剤シート、リードフレーム固定テープ | |
JP2004047681A (ja) | プリント配線板用銅箔 | |
WO2014045625A1 (ja) | 絶縁樹脂フィルム、予備硬化物、積層体及び多層基板 | |
JP4370074B2 (ja) | プリント配線板用銅箔とその製造方法 | |
JP3458050B2 (ja) | 印刷回路用銅箔 | |
WO2020162068A1 (ja) | 表面処理銅箔、並びに、それを用いた銅張積層板、樹脂付銅箔および回路基板 | |
JP5216164B2 (ja) | 粗化硬化物及び積層体 | |
JP2006218855A (ja) | 接着補助剤付き金属箔並びにこれを用いたプリント配線板及びその製造方法 | |
JP2011051247A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物層付き金属箔、金属張積層板及びプリント配線板 | |
JP2017035843A (ja) | 接着層付き金属箔、これを用いた金属張積層板および多層プリント配線板 | |
JP5364972B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JP2007207912A (ja) | 金属箔及び接着補助剤付金属箔、及びこれらを用いた金属箔張積層板及びプリント配線板 | |
JP2012235135A (ja) | 接着補助剤付金属箔、およびこれを用いたプリント配線板およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050705 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20050705 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20061010 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070613 |