JP2003327911A5 - - Google Patents

Claims (4)

1. （ａ）下記一般式（１）で表されるオルガノシラン類、下記一般式（２）で表されるアルミニウムアルコキシド類、下記一般式（３）で表されるチタンアルコキシド類又はジルコニウムアルコキシド類、及びそれらの部分縮合物からなる群から選ばれる１種類以上の化合物、（ｂ）アルミニウム錯体、チタン錯体及びジルコニウム錯体からなる群から選ばれる１種類以上の金属錯体、及び（ｃ）有機溶媒を含有し、含水率が０〜０．４質量％である組成物を基材に塗布した後、前記有機溶媒を蒸発させることを特徴とする被膜の形成方法。
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４のうちの１〜４つは、それぞれ独立的に、(a)水酸基、アルコキシル基、アリールオキシ基及びアシルオキシ基から成るＡ群から選ばれる基を表わし、残りは、(b)水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、及び、一部の水素原子がハロゲン原子、芳香族基、脂環基、エポキシ基、ビニル基、メルカプト基及びアミノ基からなる群から選ばれる基で置換されたアルキル基の部分の炭素原子数が１〜８のアルキル基からなるＢ群から選ばれる基を表わす。）
   

   

   （式中、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立的に、水素原子、アルキル基、アリール基又はアシル基を表わす。）
   

   

   （式中、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアシル基を表わす。Ｍは、チタン又はジルコニウムを表わす。）
2. 請求項１に記載された形成方法を用いて形成されたことを特徴とする被膜。
3. 請求項１に記載された形成方法を用いて形成されたことを特徴とする反射防止膜。
4. 請求項１に記載された形成方法を用いて形成されたことを特徴とする光触媒膜。