JP2003293121A - 蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝 - Google Patents
蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝におい
て、蒸着材料を坩堝へ任意の方向から連続的に供給でき
る蒸着材料供給手段を提供すること。 【解決手段】 坩堝１０内の蒸着材料４０は、蒸着材料
供給手段２０によりホッパー３０から連続的に供給され
る。蒸着材料供給手段２０は、円筒状部２１，２２内に
スクリュウ２３，２４を有し、スクリュウ２３，２４に
は螺旋状の溝２３３，２４２を形成してある。蒸着材料
４０は、スクリュウ２３，２４が回転すると、溝２３
３，２４２により移動する。坩堝１０は、電極部１２
１，１２２に印加する電圧により加熱する。坩堝１０内
の蒸着材料４０は、その加熱によって蒸発し、開口部１
４１から真空室内へ放出される。
て、蒸着材料を坩堝へ任意の方向から連続的に供給でき
る蒸着材料供給手段を提供すること。 【解決手段】 坩堝１０内の蒸着材料４０は、蒸着材料
供給手段２０によりホッパー３０から連続的に供給され
る。蒸着材料供給手段２０は、円筒状部２１，２２内に
スクリュウ２３，２４を有し、スクリュウ２３，２４に
は螺旋状の溝２３３，２４２を形成してある。蒸着材料
４０は、スクリュウ２３，２４が回転すると、溝２３
３，２４２により移動する。坩堝１０は、電極部１２
１，１２２に印加する電圧により加熱する。坩堝１０内
の蒸着材料４０は、その加熱によって蒸発し、開口部１
４１から真空室内へ放出される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、蒸着材料供給手
段を備えた蒸着用坩堝に関し、特に蒸着用坩堝へ蒸着材
料を連続的に供給する蒸着材料供給手段に関する。
段を備えた蒸着用坩堝に関し、特に蒸着用坩堝へ蒸着材
料を連続的に供給する蒸着材料供給手段に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の蒸着材料供給手段を備えた蒸着用
坩堝について、図６、図７、図８を用いて説明する。ま
ず図６について説明する。図６は、従来の蒸着材料供給
手段を備えた蒸着用坩堝の断面図を示す。真空室７６の
底部７６１に設けた回転軸７７に回転アーム７２を取り
付け、その回転アーム７２に２個の坩堝７１１，７１２
を取り付けてある。坩堝７１１，７１２は、上部に開口
部７１ｋを有し、蒸着材料７５を充填してある。蒸着材
料７５は、蒸着材料供給手段のホッパー７３から坩堝７
１１，７１２へ落下させて供給する。２個の坩堝の内坩
堝７１１は、電子ビーム源７４から放射される電子ビー
ムの照射によって加熱される。坩堝７１１内の蒸着材料
７５は、その加熱によって蒸発し、開口部７１ｋから矢
印方向へ放出される。放出された蒸着材料は、図示しな
い基板、フィルム等の被蒸着材に被着して蒸着膜を形成
する。
坩堝について、図６、図７、図８を用いて説明する。ま
ず図６について説明する。図６は、従来の蒸着材料供給
手段を備えた蒸着用坩堝の断面図を示す。真空室７６の
底部７６１に設けた回転軸７７に回転アーム７２を取り
付け、その回転アーム７２に２個の坩堝７１１，７１２
を取り付けてある。坩堝７１１，７１２は、上部に開口
部７１ｋを有し、蒸着材料７５を充填してある。蒸着材
料７５は、蒸着材料供給手段のホッパー７３から坩堝７
１１，７１２へ落下させて供給する。２個の坩堝の内坩
堝７１１は、電子ビーム源７４から放射される電子ビー
ムの照射によって加熱される。坩堝７１１内の蒸着材料
７５は、その加熱によって蒸発し、開口部７１ｋから矢
印方向へ放出される。放出された蒸着材料は、図示しな
い基板、フィルム等の被蒸着材に被着して蒸着膜を形成
する。
【０００３】坩堝７１１内の蒸着材７５が蒸発して、坩
堝７１１が空になると、回転アーム７２を回転して、坩
堝７１１を坩堝７１２と置き換える。ここで蒸着材料７
５の加熱は、図６のように坩堝７１１に電子ビームを照
射する代わりに、蒸着材料７５に直接電子ビームを照射
してもよい。また蒸着材料７５の加熱には、電子ビーム
による加熱の外、抵抗加熱、高周波加熱等の加熱方法も
用いられている。
堝７１１が空になると、回転アーム７２を回転して、坩
堝７１１を坩堝７１２と置き換える。ここで蒸着材料７
５の加熱は、図６のように坩堝７１１に電子ビームを照
射する代わりに、蒸着材料７５に直接電子ビームを照射
してもよい。また蒸着材料７５の加熱には、電子ビーム
による加熱の外、抵抗加熱、高周波加熱等の加熱方法も
用いられている。
【０００４】次に図７について説明する。図７は、従来
の蒸着材料を連続的に供給する蒸着材料供給手段を備え
た蒸着用坩堝の断面図を示す。図６の場合、加熱中の坩
堝７１１が空になると、回転アーム７２を回転して坩堝
７１２と置き換えなければならないため、その間蒸着は
中断してしまう。そこでその中断をなくすため、図７の
蒸着材料供給手段が提案されている（例えば特開平６−
２８００１６公報参照）。真空室７６の底部７６１に取
り付けた坩堝７１には、蒸着材料７５を充填してある。
蒸着材料７５は、図６で説明した周知の加熱方法により
加熱されて蒸発し、坩堝７１の開口部７１ｋから真空室
内へ放出される。蒸着材料７５は、蒸着材料供給手段の
ホッパー７３１とパイプ７３２を落下して、坩堝７１へ
連続的に供給される。
の蒸着材料を連続的に供給する蒸着材料供給手段を備え
た蒸着用坩堝の断面図を示す。図６の場合、加熱中の坩
堝７１１が空になると、回転アーム７２を回転して坩堝
７１２と置き換えなければならないため、その間蒸着は
中断してしまう。そこでその中断をなくすため、図７の
蒸着材料供給手段が提案されている（例えば特開平６−
２８００１６公報参照）。真空室７６の底部７６１に取
り付けた坩堝７１には、蒸着材料７５を充填してある。
蒸着材料７５は、図６で説明した周知の加熱方法により
加熱されて蒸発し、坩堝７１の開口部７１ｋから真空室
内へ放出される。蒸着材料７５は、蒸着材料供給手段の
ホッパー７３１とパイプ７３２を落下して、坩堝７１へ
連続的に供給される。
【０００５】次に図８について説明する。図８は、従来
の密封型坩堝の断面図を示す。図６．図７の坩堝は、と
もに坩堝に大きな開口部を形成した、いわゆる開放型坩
堝であるが、開放型坩堝の場合、蒸発した蒸着材料は、
坩堝の開口部から真空室内へ半球状の広い範囲に放出さ
れ、目的の被蒸着材以外の領域にも飛散する。また開放
型坩堝の場合には、坩堝内の蒸着材料の蒸気圧を高くし
て蒸着材料の放出速度を大きくし、運動エネルギーを大
きくすることができない。そのため、坩堝内の蒸着材料
の蒸気圧を高くし、放出方向をそろえてビーム状に、高
速で放出する必要のある場合には、図８の坩堝７１のよ
うに図７、図８の坩堝の開口部を塞ぎ、小径の噴出孔或
いはノズル７１ｈを設けた、いわゆる密封型坩堝が用い
られている（例えば特開昭５２−１０８６９号公報参
照）。
の密封型坩堝の断面図を示す。図６．図７の坩堝は、と
もに坩堝に大きな開口部を形成した、いわゆる開放型坩
堝であるが、開放型坩堝の場合、蒸発した蒸着材料は、
坩堝の開口部から真空室内へ半球状の広い範囲に放出さ
れ、目的の被蒸着材以外の領域にも飛散する。また開放
型坩堝の場合には、坩堝内の蒸着材料の蒸気圧を高くし
て蒸着材料の放出速度を大きくし、運動エネルギーを大
きくすることができない。そのため、坩堝内の蒸着材料
の蒸気圧を高くし、放出方向をそろえてビーム状に、高
速で放出する必要のある場合には、図８の坩堝７１のよ
うに図７、図８の坩堝の開口部を塞ぎ、小径の噴出孔或
いはノズル７１ｈを設けた、いわゆる密封型坩堝が用い
られている（例えば特開昭５２−１０８６９号公報参
照）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】図６、図７の場合、蒸
着材料の供給は、蒸着材料の落下を利用しているから、
蒸着材料供給手段は、坩堝よりも高い位置に配置し、か
つ蒸着材料は、坩堝上部の開口部から供給しなければな
らないため、蒸着材料供給手段の設置位置が制約されて
しまう。また図７の場合、蒸着材料供給手段から放出さ
れた蒸着材料は、坩堝の蒸発空間を通過して坩堝の底部
に蓄積している蒸着材料に補充されるが、図７の坩堝は
開放型であるから、坩堝の底部に蓄積している蒸着材料
との温度差が大きい。そのため図７の場合、蒸着材料は
坩堝へ連続的に供給できるが、坩堝内の温度を安定的に
一定に保つことが困難であった。
着材料の供給は、蒸着材料の落下を利用しているから、
蒸着材料供給手段は、坩堝よりも高い位置に配置し、か
つ蒸着材料は、坩堝上部の開口部から供給しなければな
らないため、蒸着材料供給手段の設置位置が制約されて
しまう。また図７の場合、蒸着材料供給手段から放出さ
れた蒸着材料は、坩堝の蒸発空間を通過して坩堝の底部
に蓄積している蒸着材料に補充されるが、図７の坩堝は
開放型であるから、坩堝の底部に蓄積している蒸着材料
との温度差が大きい。そのため図７の場合、蒸着材料は
坩堝へ連続的に供給できるが、坩堝内の温度を安定的に
一定に保つことが困難であった。
【０００７】また坩堝が図８の密封型の場合には、図
６、図７の蒸着材料供給手段は使用できないから、蒸着
材料を噴出孔から押し入れなければならない。したがっ
て密封型坩堝の場合には、蒸着材料を連続的に坩堝へ供
給することは不可能であった。図６、図７の場合、坩堝
の開口部は、上方向に向けて（真空室の底部と反対方向
に向けて）設置しなければならないから、被蒸着材は、
真空室の上部に設けなければならない。
６、図７の蒸着材料供給手段は使用できないから、蒸着
材料を噴出孔から押し入れなければならない。したがっ
て密封型坩堝の場合には、蒸着材料を連続的に坩堝へ供
給することは不可能であった。図６、図７の場合、坩堝
の開口部は、上方向に向けて（真空室の底部と反対方向
に向けて）設置しなければならないから、被蒸着材は、
真空室の上部に設けなければならない。
【０００８】本願発明は、これらの点に鑑み、坩堝の任
意の方向から蒸着材料を連続的に供給でき、蒸着材料の
蒸気の放出方向を任意に設定でき、かつ坩堝内の温度を
一定に保ちつつ蒸着材料を連続的に供給できる蒸着材料
供給手段を備えた蒸着用坩堝を提供することを目的とす
る。
意の方向から蒸着材料を連続的に供給でき、蒸着材料の
蒸気の放出方向を任意に設定でき、かつ坩堝内の温度を
一定に保ちつつ蒸着材料を連続的に供給できる蒸着材料
供給手段を備えた蒸着用坩堝を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に記載の蒸着用坩堝は、筒状部の内部に螺
旋状の溝を有するスクリュウを有し、坩堝の蒸着材料の
補充口部に通じる蒸着材料の供給口部を有する蒸着材料
供給手段を備えていることを特徴とする。また請求項２
に記載の蒸着用坩堝は、請求項１に記載の蒸着用坩堝に
おいて、坩堝は密封型であることを特徴とする。請求項
３に記載の蒸着用坩堝は、請求項２に記載の蒸着用坩堝
において、蒸着材料供給手段を複数個備えていることを
特徴とする。請求項４に記載の蒸着用坩堝は、請求項２
に記載の蒸着用坩堝において、坩堝は蒸着材料の蒸気を
放出する噴出孔又はスリットを有することを特徴とす
る。請求項５に記載の蒸着用坩堝は、請求項２に記載の
蒸着用坩堝において、坩堝は蒸着材料の蒸気を複数方向
へ放出する噴出孔又はスリットを有することを特徴とす
る。請求項６に記載の蒸着用坩堝は、請求項１に記載の
蒸着用坩堝において、蒸着材料供給手段の筒状部は円筒
状であることを特徴とする。請求項７に記載の蒸着用坩
堝は、請求項１に記載の蒸着用坩堝において、蒸着材料
供給手段のスクリュウの端部が坩堝の補充口部から坩堝
の内部へ突出していることを特徴とする。
に、請求項１に記載の蒸着用坩堝は、筒状部の内部に螺
旋状の溝を有するスクリュウを有し、坩堝の蒸着材料の
補充口部に通じる蒸着材料の供給口部を有する蒸着材料
供給手段を備えていることを特徴とする。また請求項２
に記載の蒸着用坩堝は、請求項１に記載の蒸着用坩堝に
おいて、坩堝は密封型であることを特徴とする。請求項
３に記載の蒸着用坩堝は、請求項２に記載の蒸着用坩堝
において、蒸着材料供給手段を複数個備えていることを
特徴とする。請求項４に記載の蒸着用坩堝は、請求項２
に記載の蒸着用坩堝において、坩堝は蒸着材料の蒸気を
放出する噴出孔又はスリットを有することを特徴とす
る。請求項５に記載の蒸着用坩堝は、請求項２に記載の
蒸着用坩堝において、坩堝は蒸着材料の蒸気を複数方向
へ放出する噴出孔又はスリットを有することを特徴とす
る。請求項６に記載の蒸着用坩堝は、請求項１に記載の
蒸着用坩堝において、蒸着材料供給手段の筒状部は円筒
状であることを特徴とする。請求項７に記載の蒸着用坩
堝は、請求項１に記載の蒸着用坩堝において、蒸着材料
供給手段のスクリュウの端部が坩堝の補充口部から坩堝
の内部へ突出していることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１〜図５に基づいて本願発明の
実施の形態に係る蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝
を説明する。なお各図に共通の部分は、同じ符号を使用
している。図１は、本願発明の第１実施形態に係る坩堝
と蒸着材料供給手段の断面図である。図１（ａ）は、坩
堝と蒸着材料供給手段の全体の断面図、図１（ｂ）は、
図１（ａ）のＸ１−Ｘ１部分の矢印方向の断面図、図１
（ｃ）は、坩堝と蒸着材料供給手段の結合部分の断面図
である。
実施の形態に係る蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝
を説明する。なお各図に共通の部分は、同じ符号を使用
している。図１は、本願発明の第１実施形態に係る坩堝
と蒸着材料供給手段の断面図である。図１（ａ）は、坩
堝と蒸着材料供給手段の全体の断面図、図１（ｂ）は、
図１（ａ）のＸ１−Ｘ１部分の矢印方向の断面図、図１
（ｃ）は、坩堝と蒸着材料供給手段の結合部分の断面図
である。
【００１１】図１において、１０は坩堝、１１は円筒状
部、１２１，１２２は電極部、１３は結合部、１４１は
開口部、１４２は蒸着材料の補充口部、２０は蒸着材料
供給手段、２１，２２は円筒状部、２３，２４はスクリ
ュウ（ネジ状部材）、２３１はスクリュウ２３の端部、
２３２，２４１はスクリュウ２３，２４の回転軸、２３
３，２４２はスクリュウ２３，２４に形成した螺旋状の
溝（凹状部）、２５は蒸着材料の供給口部、３０はホッ
パー、３１は筒状部、４０はＳｉＯ等の蒸着材料、５０
は真空室の底部である。
部、１２１，１２２は電極部、１３は結合部、１４１は
開口部、１４２は蒸着材料の補充口部、２０は蒸着材料
供給手段、２１，２２は円筒状部、２３，２４はスクリ
ュウ（ネジ状部材）、２３１はスクリュウ２３の端部、
２３２，２４１はスクリュウ２３，２４の回転軸、２３
３，２４２はスクリュウ２３，２４に形成した螺旋状の
溝（凹状部）、２５は蒸着材料の供給口部、３０はホッ
パー、３１は筒状部、４０はＳｉＯ等の蒸着材料、５０
は真空室の底部である。
【００１２】坩堝１０と蒸着材料供給手段２０は、坩堝
１０のリング状の結合部１３により結合され、坩堝１０
の補充口１４２は、蒸着材料供給手段２０の供給口部２
５に通じている。坩堝１０は、開放型坩堝で、タングス
テン、カーボン等の高抵抗の導電材料からなり、電極部
１２１，１２２に直流電圧又は交流電圧を印加して加熱
する、いわゆる抵抗加熱型坩堝である。坩堝１０の円筒
状部１１内の蒸着材４０は、坩堝１０の加熱により蒸発
し、開口部１４１から真空室内へ放出される。
１０のリング状の結合部１３により結合され、坩堝１０
の補充口１４２は、蒸着材料供給手段２０の供給口部２
５に通じている。坩堝１０は、開放型坩堝で、タングス
テン、カーボン等の高抵抗の導電材料からなり、電極部
１２１，１２２に直流電圧又は交流電圧を印加して加熱
する、いわゆる抵抗加熱型坩堝である。坩堝１０の円筒
状部１１内の蒸着材４０は、坩堝１０の加熱により蒸発
し、開口部１４１から真空室内へ放出される。
【００１３】蒸着材料４０は、ホッパー３０から蒸着材
料供給手段２０を介して坩堝１０へ供給する。蒸着材料
供給手段２０は、円筒状部２１，２２、スクリュウ２
３，２４からなり、スクリュウ２３，２４は、円筒状部
２１，２２の内部で回転軸２３２，２４１により回転す
る。スクリュウ２３，２４が、回転すると、螺旋状の溝
２４２，２３３により蒸着材料４０を移動する。即ちホ
ッパー３０から供給された蒸着材料４０は、スクリュウ
２４の螺旋状の溝２４２によりスクリュウ２３側へ移動
し、スクリュウ２３の螺旋状の溝２３３により蒸着材料
供給口部２５へ移動し、坩堝１０の補充口部１４２から
円筒状部１１内へ供給される。
料供給手段２０を介して坩堝１０へ供給する。蒸着材料
供給手段２０は、円筒状部２１，２２、スクリュウ２
３，２４からなり、スクリュウ２３，２４は、円筒状部
２１，２２の内部で回転軸２３２，２４１により回転す
る。スクリュウ２３，２４が、回転すると、螺旋状の溝
２４２，２３３により蒸着材料４０を移動する。即ちホ
ッパー３０から供給された蒸着材料４０は、スクリュウ
２４の螺旋状の溝２４２によりスクリュウ２３側へ移動
し、スクリュウ２３の螺旋状の溝２３３により蒸着材料
供給口部２５へ移動し、坩堝１０の補充口部１４２から
円筒状部１１内へ供給される。
【００１４】蒸着材料４０は、スクリュウ２３，２４の
回転により移動するから、従来の落下方式と違い、坩堝
１０の底部（真空室の底部５０側）から供給することも
できる。また蒸着材４０の供給量は、スクリュウ２３，
２４の回転速度を変えるのみで任意に調節できる。
回転により移動するから、従来の落下方式と違い、坩堝
１０の底部（真空室の底部５０側）から供給することも
できる。また蒸着材４０の供給量は、スクリュウ２３，
２４の回転速度を変えるのみで任意に調節できる。
【００１５】図１の場合、蒸着材料供給手段２０は、坩
堝１０の加熱により温められるから、蒸着材料４０は、
蒸着材料供給手段２０の内部を移動している間に温めら
れ、温められた状態で坩堝１０へ補充される。即ち蒸着
材料供給手段２０は、蒸着材料４０の予備加熱手段とし
ての機能も兼ね備えている。したがって坩堝１０は、内
部の温度を安定的に一定に保つことができ、かつ蒸着材
料を短時間で加熱し蒸気化できる。
堝１０の加熱により温められるから、蒸着材料４０は、
蒸着材料供給手段２０の内部を移動している間に温めら
れ、温められた状態で坩堝１０へ補充される。即ち蒸着
材料供給手段２０は、蒸着材料４０の予備加熱手段とし
ての機能も兼ね備えている。したがって坩堝１０は、内
部の温度を安定的に一定に保つことができ、かつ蒸着材
料を短時間で加熱し蒸気化できる。
【００１６】図２は、本願発明の第２実施形態に係る坩
堝と蒸着材料供給手段の断面図で、蒸着材料供給手段２
０は、図１と同じである。図２（ａ）は、密封型坩堝の
例で、円筒状部１１の上部を塞ぎ、蒸発材料４０の蒸気
の噴出孔（或いはノズル）１１ｈを形成してある。密封
型坩堝の場合、従来は、蒸着材料を連続して坩堝に供給
することは不可能であったが、本実施形態の場合には、
スクリュウ２３により蒸着材料４０を移動することによ
り、蒸着材料を連続して密封型坩堝１０にも供給するこ
とができる。なお噴出孔１１ｈは、１個乃至複数個形成
する。
堝と蒸着材料供給手段の断面図で、蒸着材料供給手段２
０は、図１と同じである。図２（ａ）は、密封型坩堝の
例で、円筒状部１１の上部を塞ぎ、蒸発材料４０の蒸気
の噴出孔（或いはノズル）１１ｈを形成してある。密封
型坩堝の場合、従来は、蒸着材料を連続して坩堝に供給
することは不可能であったが、本実施形態の場合には、
スクリュウ２３により蒸着材料４０を移動することによ
り、蒸着材料を連続して密封型坩堝１０にも供給するこ
とができる。なお噴出孔１１ｈは、１個乃至複数個形成
する。
【００１７】蒸着材料４０は、坩堝１０の加熱により蒸
発して円筒状部１１内に蓄積され、その一部が噴出孔１
１ｈから真空室内へ放出される。円筒状部１１内の蒸気
圧は、坩堝１０の加熱によって上昇し、蒸着材料４０の
蒸気は、その蒸気圧に対応する速度で噴出孔１１ｈから
ビーム状に放出される。円筒状部１１内の蒸気圧は、坩
堝１０の加熱温度を変えることにより、したがって電極
部１２１と電極部１２２に印加する電圧を変えることに
より調節することができる。なお噴出孔１１ｈは、電極
部１２１と電極部１２２の間に横向きに形成し、蒸着材
料の蒸気を真空室の底部と平行する方向へ放出させるこ
ともできる。
発して円筒状部１１内に蓄積され、その一部が噴出孔１
１ｈから真空室内へ放出される。円筒状部１１内の蒸気
圧は、坩堝１０の加熱によって上昇し、蒸着材料４０の
蒸気は、その蒸気圧に対応する速度で噴出孔１１ｈから
ビーム状に放出される。円筒状部１１内の蒸気圧は、坩
堝１０の加熱温度を変えることにより、したがって電極
部１２１と電極部１２２に印加する電圧を変えることに
より調節することができる。なお噴出孔１１ｈは、電極
部１２１と電極部１２２の間に横向きに形成し、蒸着材
料の蒸気を真空室の底部と平行する方向へ放出させるこ
ともできる。
【００１８】図２（ｂ）は、図２（ａ）と同じ密封型坩
堝の例であるが、坩堝１０の円筒状部１１の直径を蒸着
材料供給手段２０の円筒状部２１の直径よりも大きく
し、円筒状部１１の内部にスクリュウ２３の端部２３１
を突出（延在）させた点が、図２（ａ）と相違してい
る。図２（ｂ）の場合には、噴出孔１１ｈを広い範囲に
形成できるから、被蒸着材の広い範囲を一度に蒸着する
ことができる。
堝の例であるが、坩堝１０の円筒状部１１の直径を蒸着
材料供給手段２０の円筒状部２１の直径よりも大きく
し、円筒状部１１の内部にスクリュウ２３の端部２３１
を突出（延在）させた点が、図２（ａ）と相違してい
る。図２（ｂ）の場合には、噴出孔１１ｈを広い範囲に
形成できるから、被蒸着材の広い範囲を一度に蒸着する
ことができる。
【００１９】円筒状部１１の直径が大きい場合には、坩
堝１０の熱が円筒状部１１内に充填された蒸着材料４０
に均一伝導されないため、特に蒸着材料４０の中央部は
熱が伝導され難いため、蒸着材料４０の蒸発が不均一に
なる。本実施形態は、円筒状部１１の内部にスクリュウ
２３の端部２３１を突出させることにより、円筒状部１
１内の中央部には蒸着材料４０が存在しないため、蒸着
材料４０を均一に加熱することができる。図２の場合、
坩堝１０と蒸着材料供給手段２０は、結合部１３によっ
て結合されているから、坩堝１０の円筒状部１１の直径
が相違する場合にも、同じ蒸着材料供給手段２０を使用
することができる。
堝１０の熱が円筒状部１１内に充填された蒸着材料４０
に均一伝導されないため、特に蒸着材料４０の中央部は
熱が伝導され難いため、蒸着材料４０の蒸発が不均一に
なる。本実施形態は、円筒状部１１の内部にスクリュウ
２３の端部２３１を突出させることにより、円筒状部１
１内の中央部には蒸着材料４０が存在しないため、蒸着
材料４０を均一に加熱することができる。図２の場合、
坩堝１０と蒸着材料供給手段２０は、結合部１３によっ
て結合されているから、坩堝１０の円筒状部１１の直径
が相違する場合にも、同じ蒸着材料供給手段２０を使用
することができる。
【００２０】ここでいう密封型坩堝とは、加熱により坩
堝内部における蒸着材料の蒸気の熱擾乱運動を激しく
し、内部圧力を高めることのできる構造の坩堝を指して
いる。図２の坩堝１０は、噴出孔１１ｈの外に、蒸着材
料の補充口１４２（図１（ｃ））を有するから、坩堝１
０内部において圧力の高められた蒸気は、噴射孔１１ｈ
から噴出するとともに、補充口１４２から蒸着材料供給
手段２０の円筒状部１１の内部へも逃げようとするが、
円筒状部１１の内部の温度は、坩堝１０の内部の温度よ
りも低いから、円筒状部１１の内部へ逃げようとした蒸
気は、スクリュウ２３により移動している蒸着材料と同
じ状態の液体或いは固体（粉体）に戻る。そのため円筒
状部１１の内部へ逃げようとした蒸気は、蒸着材料供給
手段２０の外へ漏れることはない。即ち図２の坩堝１０
は、従来の密封型坩堝と同様に坩堝内部の圧力を高める
ことができる。
堝内部における蒸着材料の蒸気の熱擾乱運動を激しく
し、内部圧力を高めることのできる構造の坩堝を指して
いる。図２の坩堝１０は、噴出孔１１ｈの外に、蒸着材
料の補充口１４２（図１（ｃ））を有するから、坩堝１
０内部において圧力の高められた蒸気は、噴射孔１１ｈ
から噴出するとともに、補充口１４２から蒸着材料供給
手段２０の円筒状部１１の内部へも逃げようとするが、
円筒状部１１の内部の温度は、坩堝１０の内部の温度よ
りも低いから、円筒状部１１の内部へ逃げようとした蒸
気は、スクリュウ２３により移動している蒸着材料と同
じ状態の液体或いは固体（粉体）に戻る。そのため円筒
状部１１の内部へ逃げようとした蒸気は、蒸着材料供給
手段２０の外へ漏れることはない。即ち図２の坩堝１０
は、従来の密封型坩堝と同様に坩堝内部の圧力を高める
ことができる。
【００２１】図３は、本願発明の第３実施形態に係る坩
堝と蒸着材料供給手段の断面図である。図３は、坩堝１
０の円筒状部１１の中心線が真空室の底部５０とほぼ平
行するように、坩堝１０を設置した例である。
堝と蒸着材料供給手段の断面図である。図３は、坩堝１
０の円筒状部１１の中心線が真空室の底部５０とほぼ平
行するように、坩堝１０を設置した例である。
【００２２】図３（ａ）は、蒸発した蒸着材料を真空室
の底部５０とほぼ平行する方向へ噴出するように、噴出
孔１１ｈを形成してある。図３（ａ）の場合には、被蒸
着材は、真空室の底部５０と垂直な面に保持して蒸着で
きる。また蒸着材料４０は、真空室の底部５０とほぼ平
行する方向からスクリュウ２３により坩堝１０へ供給す
る。なお図３の場合、噴出孔１１ｈは、蒸発した蒸着材
料を真空室の底部５０と垂直な方向へ放出するように、
電極部１２１と電極部１２２の間に形成することもでき
る。
の底部５０とほぼ平行する方向へ噴出するように、噴出
孔１１ｈを形成してある。図３（ａ）の場合には、被蒸
着材は、真空室の底部５０と垂直な面に保持して蒸着で
きる。また蒸着材料４０は、真空室の底部５０とほぼ平
行する方向からスクリュウ２３により坩堝１０へ供給す
る。なお図３の場合、噴出孔１１ｈは、蒸発した蒸着材
料を真空室の底部５０と垂直な方向へ放出するように、
電極部１２１と電極部１２２の間に形成することもでき
る。
【００２３】図３（ｂ）は、坩堝１０を図３（ａ）と同
様の方向に設置して、蒸着材料供給手段２０を坩堝１０
の両側に２個設置した例である。噴出孔１１ｈは、蒸発
した蒸着材料が真空室の底部５０と垂直な方向へ噴出す
るように、電極部１２１と電極部１２２の間に形成して
ある。図３（ｂ）の場合には、電極部１２１と電極部１
２２の間の円筒状部１１を長くし、噴出孔１１ｈを複数
個形成して被蒸着材の広い範囲を一度に蒸着することが
できる。その際、蒸着材料４０は、坩堝１０の両側から
供給するから、円筒状部１１が長くても、各噴出孔１１
ｈから放出される蒸着材料の量を均一にすることができ
る。また図３の場合には、真空蒸着装置全体の高さを低
くして、横長にすることができる。
様の方向に設置して、蒸着材料供給手段２０を坩堝１０
の両側に２個設置した例である。噴出孔１１ｈは、蒸発
した蒸着材料が真空室の底部５０と垂直な方向へ噴出す
るように、電極部１２１と電極部１２２の間に形成して
ある。図３（ｂ）の場合には、電極部１２１と電極部１
２２の間の円筒状部１１を長くし、噴出孔１１ｈを複数
個形成して被蒸着材の広い範囲を一度に蒸着することが
できる。その際、蒸着材料４０は、坩堝１０の両側から
供給するから、円筒状部１１が長くても、各噴出孔１１
ｈから放出される蒸着材料の量を均一にすることができ
る。また図３の場合には、真空蒸着装置全体の高さを低
くして、横長にすることができる。
【００２４】図４は、本願発明の第４実施形態に係る坩
堝と蒸着材料供給手段の断面図である。図４は、坩堝１
０の円筒状部１１の両側に小径の補助円筒状部１１１，
１２２を設け、それら補助円筒状部の端部に電極部１２
１，１２２を形成するとともに、蒸着材料供給手段２０
を結合してある。また蒸着材料供給手段２０のスクリュ
ウ２３は、補助円筒状部１１１，１１２の部分まで延長
してある。
堝と蒸着材料供給手段の断面図である。図４は、坩堝１
０の円筒状部１１の両側に小径の補助円筒状部１１１，
１２２を設け、それら補助円筒状部の端部に電極部１２
１，１２２を形成するとともに、蒸着材料供給手段２０
を結合してある。また蒸着材料供給手段２０のスクリュ
ウ２３は、補助円筒状部１１１，１１２の部分まで延長
してある。
【００２５】図４（ａ）の場合、噴出孔１１ｈは、蒸着
材料の蒸気を真空室の底面５０と垂直な方向へ噴出する
ように形成し、図４（ｂ）の場合、噴出孔１１ｈは、蒸
着材料の蒸気を真空室の底面５０と平行に両方向へ噴出
するように形成してある。図４（ｂ）の場合は、蒸着材
料の蒸気を同時に２方向へ放出することができるから、
同一真空室の２箇所に被蒸着材を配置し、同時に２個の
被蒸着材に蒸着することができる。
材料の蒸気を真空室の底面５０と垂直な方向へ噴出する
ように形成し、図４（ｂ）の場合、噴出孔１１ｈは、蒸
着材料の蒸気を真空室の底面５０と平行に両方向へ噴出
するように形成してある。図４（ｂ）の場合は、蒸着材
料の蒸気を同時に２方向へ放出することができるから、
同一真空室の２箇所に被蒸着材を配置し、同時に２個の
被蒸着材に蒸着することができる。
【００２６】図４の場合には、補助円筒状部１１１，１
１２において蒸着材料の蒸発が始まり、円筒状部１１に
は、蒸着材料の蒸気が充填され、かつ仮に蒸着材料の液
体（蒸着材料が蒸発する前の状態）が、補助円筒状部１
１１，１１２から円筒状部１１へ飛散しても、円筒状部
１１の加熱により完全に蒸気化されるから、蒸着材料の
液体が噴出孔１１ｈから噴出することはない。なお蒸着
材料が昇華する場合は、蒸着材料の液体が噴出孔１１ｈ
から噴出することはない。
１２において蒸着材料の蒸発が始まり、円筒状部１１に
は、蒸着材料の蒸気が充填され、かつ仮に蒸着材料の液
体（蒸着材料が蒸発する前の状態）が、補助円筒状部１
１１，１１２から円筒状部１１へ飛散しても、円筒状部
１１の加熱により完全に蒸気化されるから、蒸着材料の
液体が噴出孔１１ｈから噴出することはない。なお蒸着
材料が昇華する場合は、蒸着材料の液体が噴出孔１１ｈ
から噴出することはない。
【００２７】図５は、本願発明の第５実施形態に係る坩
堝と蒸着材料供給手段の断面図である。図５は、蒸着材
料供給手段２０を坩堝１０の上部（真空室の底部５０と
反対の側）に設け、噴出孔１１ｈを坩堝１０の円筒状部
１１に横向きに形成し、蒸着材料の蒸気を真空室の底部
５０と平行する方向へ放出させている。図５の場合、蒸
着材料４０は、蒸着材料供給手段２０のスクリュウ２３
によって坩堝１０の上方から供給され、円筒状部１１内
を落下して円筒状部１１の底部に到達する。蒸着材料４
０は、落下の過程で加熱されるから、円筒状部１１の底
部に到達した蒸着材料４０は均一に加熱され、蒸気化が
均一になる。また円筒状部１１は、長くすることができ
るから、噴出孔を多数形成することができ、被蒸着材の
広い範囲を一度に蒸着できる。また円筒状部１１は長く
なっても、蒸着材料供給手段２０は、１個でよい。
堝と蒸着材料供給手段の断面図である。図５は、蒸着材
料供給手段２０を坩堝１０の上部（真空室の底部５０と
反対の側）に設け、噴出孔１１ｈを坩堝１０の円筒状部
１１に横向きに形成し、蒸着材料の蒸気を真空室の底部
５０と平行する方向へ放出させている。図５の場合、蒸
着材料４０は、蒸着材料供給手段２０のスクリュウ２３
によって坩堝１０の上方から供給され、円筒状部１１内
を落下して円筒状部１１の底部に到達する。蒸着材料４
０は、落下の過程で加熱されるから、円筒状部１１の底
部に到達した蒸着材料４０は均一に加熱され、蒸気化が
均一になる。また円筒状部１１は、長くすることができ
るから、噴出孔を多数形成することができ、被蒸着材の
広い範囲を一度に蒸着できる。また円筒状部１１は長く
なっても、蒸着材料供給手段２０は、１個でよい。
【００２８】前記実施形態は、密封型坩堝に蒸着材料の
蒸気の噴出孔（或いはノズル）を形成する例について説
明したが、噴出孔は、スリットであってもよい。スリッ
トの場合には、幅の広い蒸気ビームを発生することがで
きるから、一度に被蒸着材の広い範囲に蒸着できる。
蒸気の噴出孔（或いはノズル）を形成する例について説
明したが、噴出孔は、スリットであってもよい。スリッ
トの場合には、幅の広い蒸気ビームを発生することがで
きるから、一度に被蒸着材の広い範囲に蒸着できる。
【００２９】前記実施形態において、坩堝は、その中心
線が真空室の底部と垂直又は平行な方向に設置する例に
ついて説明したが、設置方向は、真空室の底部に対して
任意の角度に設定できる。また蒸発した蒸着材料の放出
方向も任意に設定でき、かつ同時に複数の方向へ放出す
るように設定できる。前記実施形態は、円筒状部からな
る坩堝について説明したが、楕円筒状部、多角筒状部等
の筒状部からなるものでよい。また坩堝は、筒状に限ら
ず球状のものであってもよい。
線が真空室の底部と垂直又は平行な方向に設置する例に
ついて説明したが、設置方向は、真空室の底部に対して
任意の角度に設定できる。また蒸発した蒸着材料の放出
方向も任意に設定でき、かつ同時に複数の方向へ放出す
るように設定できる。前記実施形態は、円筒状部からな
る坩堝について説明したが、楕円筒状部、多角筒状部等
の筒状部からなるものでよい。また坩堝は、筒状に限ら
ず球状のものであってもよい。
【００３０】前記実施形態は、円筒状部からなる蒸着材
料供給手段について説明したが、楕円筒状部、多角筒状
部等の筒状部からなるものでよい。なお蒸着材料供給手
段が、例えば４角筒状部からなる場合、蒸着材料は、筒
状部の４角に滞留することがあるが、蒸着材料の供給に
は支障がない。
料供給手段について説明したが、楕円筒状部、多角筒状
部等の筒状部からなるものでよい。なお蒸着材料供給手
段が、例えば４角筒状部からなる場合、蒸着材料は、筒
状部の４角に滞留することがあるが、蒸着材料の供給に
は支障がない。
【００３１】前記実施形態は、蒸着材料の加熱方法とし
て、坩堝の抵抗加熱について説明したが、電子ビーム加
熱、高周波加熱等周知の加熱方法を採用することができ
る。
て、坩堝の抵抗加熱について説明したが、電子ビーム加
熱、高周波加熱等周知の加熱方法を採用することができ
る。
【００３２】
【発明の効果】本願発明は、蒸着材料の供給手段に螺旋
状の溝を有するスクリュウを使用しているから、坩堝が
開放型、密封型のいずれの場合にも、坩堝の任意の箇所
或いは任意の方向から蒸着材料を連続的に供給できる。
またスクリュウの回転速度を変えることにより、蒸着材
料の供給量を任意に調節することができる。また密封型
坩堝の場合には、坩堝を真空室の底部に対して任意の角
度で設置できる。したがって本願発明は、真空蒸着装置
の使用目的や設置条件を考慮して、効率のよい、使い易
い、設置スペースの小さい真空蒸着装置を造ることがで
きる。
状の溝を有するスクリュウを使用しているから、坩堝が
開放型、密封型のいずれの場合にも、坩堝の任意の箇所
或いは任意の方向から蒸着材料を連続的に供給できる。
またスクリュウの回転速度を変えることにより、蒸着材
料の供給量を任意に調節することができる。また密封型
坩堝の場合には、坩堝を真空室の底部に対して任意の角
度で設置できる。したがって本願発明は、真空蒸着装置
の使用目的や設置条件を考慮して、効率のよい、使い易
い、設置スペースの小さい真空蒸着装置を造ることがで
きる。
【００３３】本願発明は、坩堝の任意の箇所或いは任意
の方向から蒸着材料を連続的に供給できるから、蒸着材
料の蒸気は、坩堝から任意の方向へ放出でき、かつ同時
に複数の方向へ放出できる。したがって本願発明は、真
空室内の被蒸着材の位置を任意に設定でき、かつ同一真
空室内で同時に複数の被蒸着材に蒸着できる。
の方向から蒸着材料を連続的に供給できるから、蒸着材
料の蒸気は、坩堝から任意の方向へ放出でき、かつ同時
に複数の方向へ放出できる。したがって本願発明は、真
空室内の被蒸着材の位置を任意に設定でき、かつ同一真
空室内で同時に複数の被蒸着材に蒸着できる。
【００３４】本願発明の蒸着材料供給手段は、蒸着材料
の予備加熱手段としての機能も兼ね備えているから、坩
堝は、内部の温度を安定的に一定に保ちつつ蒸着材料を
連続的に補充することができ、かつ蒸着材料を短時間で
加熱し蒸気化できる。
の予備加熱手段としての機能も兼ね備えているから、坩
堝は、内部の温度を安定的に一定に保ちつつ蒸着材料を
連続的に補充することができ、かつ蒸着材料を短時間で
加熱し蒸気化できる。
【００３５】本願発明の坩堝と蒸着材料供給手段は、坩
堝の補充口部に蒸着材料供給手段の供給口部を結合して
一体化できるから、大きさや形状の異なる坩堝に対し
て、同一の蒸着材料供給手段を利用できる。
堝の補充口部に蒸着材料供給手段の供給口部を結合して
一体化できるから、大きさや形状の異なる坩堝に対し
て、同一の蒸着材料供給手段を利用できる。
【図１】本願発明の第１実施形態に係る坩堝と蒸着材料
供給手段の断面図である。
供給手段の断面図である。
【図２】本願発明の第２実施形態に係る坩堝と蒸着材料
供給手段の断面図である。
供給手段の断面図である。
【図３】本願発明の第３実施形態に係る坩堝と蒸着材料
供給手段の断面図である。
供給手段の断面図である。
【図４】本願発明の第４実施形態に係る坩堝と蒸着材料
供給手段の断面図である。
供給手段の断面図である。
【図５】本願発明の第５実施形態に係る坩堝と蒸着材料
供給手段の断面図である。
供給手段の断面図である。
【図６】従来の坩堝と蒸着材料供給手段の断面図であ
る。
る。
【図７】従来の坩堝と蒸着材料供給手段の断面図であ
る。
る。
【図８】従来の密封型坩堝の断面図である。
１０ 蒸着用坩堝
１１ 円筒状部
１１ｈ 噴出孔
１１１，１１２ 補助円筒状部
１２１，１２２ 電極部
１３ 結合部
１４１ 開口部
１４２ 蒸着材料の補充口部
２０ 蒸着材料供給手段
２１，２２ 円筒状部
２３，２４ スクリュウ
２３１ スクリュウの端部
２３３，２４２ 螺旋状の溝
２５ 蒸着材料の供給口部
３０ ホッパー
４０ 蒸着材料
５０ 真空室の底部
フロントページの続き
(72)発明者 臼井 博明
東京都西東京市中町３−５−21ＲＡ52
(72)発明者 中村 宏毅
千葉県船橋市山手２丁目２−１−203
(72)発明者 川口 晴彦
千葉県千葉市緑区土気町1809−106
(72)発明者 渡辺 寛
千葉県千葉市緑区おゆみ野南５−24−１お
ゆみ野ハイムＡ−106
Ｆターム(参考） 4K029 DB10 DB12 DB15
Claims (7)
- 【請求項１】 筒状部の内部に螺旋状の溝を有するスク
リュウを有し、坩堝の蒸着材料の補充口部に通じる蒸着
材料の供給口部を有する蒸着材料供給手段を備えている
ことを特徴とする蒸着用坩堝。 - 【請求項２】 請求項１に記載の蒸着用坩堝において、
坩堝は密封型であることを特徴とする蒸着用坩堝。 - 【請求項３】 請求項２に記載の蒸着用坩堝において、
蒸着材料供給手段を複数個備えていることを特徴とする
蒸着用坩堝。 - 【請求項４】 請求項２に記載の蒸着用坩堝において、
坩堝は蒸着材料の蒸気を放出する噴出孔又はスリットを
有することを特徴とする蒸着用坩堝。 - 【請求項５】 請求項２に記載の蒸着用坩堝において、
坩堝は蒸着材料の蒸気を複数方向へ放出する噴出孔又は
スリットを有することを特徴とする蒸着用坩堝。 - 【請求項６】 請求項１に記載の蒸着用坩堝において、
蒸着材料供給手段の筒状部は円筒状であることを特徴と
する蒸着用坩堝。 - 【請求項７】 請求項１に記載の蒸着用坩堝において、
蒸着材料供給手段のスクリュウの端部が坩堝の補充口部
から坩堝の内部へ突出していることを特徴とする蒸着用
坩堝。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002104280A JP2003293121A (ja) | 2002-04-05 | 2002-04-05 | 蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002104280A JP2003293121A (ja) | 2002-04-05 | 2002-04-05 | 蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003293121A true JP2003293121A (ja) | 2003-10-15 |
Family
ID=29242893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002104280A Pending JP2003293121A (ja) | 2002-04-05 | 2002-04-05 | 蒸着材料供給手段を備えた蒸着用坩堝 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003293121A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006043723A1 (ja) * | 2004-10-21 | 2006-04-27 | Futaba Corporation | 蒸発源装置 |
| KR100677908B1 (ko) * | 2005-05-24 | 2007-02-05 | (주)하나기술 | 유기물 증착장치의 도가니 및 이를 장착한 유기물 증착장치 |
| WO2007137345A1 (en) | 2006-06-01 | 2007-12-06 | Vereniging Voor Christelijk Hoger Onderwijs, Wetenschappelijk Onderzoek En Patiëntenzorg | PLANT NUCLEIC ACIDS ASSOCIATED WITH CELLULAR pH AND USES THEREOF |
| JP2008513965A (ja) * | 2004-09-21 | 2008-05-01 | イーストマン コダック カンパニー | 気化ゾーンへの粒子状材料の供給 |
| WO2008117690A1 (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-02 | Ulvac, Inc. | 蒸着源、蒸着装置、成膜方法 |
| JP2008540829A (ja) * | 2005-05-03 | 2008-11-20 | イーストマン コダック カンパニー | 粉末材料または粒状材料の制御可能な供給 |
| JP2009084665A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-04-23 | Ulvac Japan Ltd | 供給装置、及び蒸着装置 |
| US7625601B2 (en) * | 2005-02-04 | 2009-12-01 | Eastman Kodak Company | Controllably feeding organic material in making OLEDs |
| JP2010245036A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-10-28 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 照明装置の製造装置及び製造方法 |
| KR100994233B1 (ko) | 2004-04-09 | 2010-11-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 셀 장착 장치 세트 |
| US7989021B2 (en) * | 2005-07-27 | 2011-08-02 | Global Oled Technology Llc | Vaporizing material at a uniform rate |
| US8012537B2 (en) | 2004-11-09 | 2011-09-06 | Global Oled Technology Llc | Controlling the vaporization of organic material |
| EP2239352B1 (en) * | 2004-09-21 | 2013-06-05 | Global OLED Technology LLC | Delivering particulate material to a vaporization zone. |
| CN104711514A (zh) * | 2015-04-07 | 2015-06-17 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种成膜装置及方法 |
| CN114507844A (zh) * | 2022-02-25 | 2022-05-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备 |
-
2002
- 2002-04-05 JP JP2002104280A patent/JP2003293121A/ja active Pending
Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100994233B1 (ko) | 2004-04-09 | 2010-11-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 셀 장착 장치 세트 |
| EP1809784B1 (en) * | 2004-09-21 | 2018-11-07 | Global OLED Technology LLC | Delivering particulate material to a vaporization source |
| EP1794345B1 (en) * | 2004-09-21 | 2015-11-18 | Global OLED Technology LLC | Delivering particulate material to a vaporization zone |
| JP2008513965A (ja) * | 2004-09-21 | 2008-05-01 | イーストマン コダック カンパニー | 気化ゾーンへの粒子状材料の供給 |
| EP2239352B1 (en) * | 2004-09-21 | 2013-06-05 | Global OLED Technology LLC | Delivering particulate material to a vaporization zone. |
| JP4886694B2 (ja) * | 2004-09-21 | 2012-02-29 | グローバル オーエルイーディー テクノロジー リミティド ライアビリティ カンパニー | 気化ゾーンへの粒子状材料の供給 |
| US20080128094A1 (en) * | 2004-10-21 | 2008-06-05 | Tatsuo Fukuda | Evaporation Source Device |
| WO2006043723A1 (ja) * | 2004-10-21 | 2006-04-27 | Futaba Corporation | 蒸発源装置 |
| JP4787170B2 (ja) * | 2004-10-21 | 2011-10-05 | 双葉電子工業株式会社 | 蒸発源装置 |
| US8012537B2 (en) | 2004-11-09 | 2011-09-06 | Global Oled Technology Llc | Controlling the vaporization of organic material |
| TWI382099B (zh) * | 2004-11-09 | 2013-01-11 | Global Oled Technology Llc | 有機材料汽化之控制 |
| US7625601B2 (en) * | 2005-02-04 | 2009-12-01 | Eastman Kodak Company | Controllably feeding organic material in making OLEDs |
| JP2008540829A (ja) * | 2005-05-03 | 2008-11-20 | イーストマン コダック カンパニー | 粉末材料または粒状材料の制御可能な供給 |
| US7625602B2 (en) * | 2005-05-03 | 2009-12-01 | Eastman Kodak Company | Controllably feeding powdered or granular material |
| KR100677908B1 (ko) * | 2005-05-24 | 2007-02-05 | (주)하나기술 | 유기물 증착장치의 도가니 및 이를 장착한 유기물 증착장치 |
| US7989021B2 (en) * | 2005-07-27 | 2011-08-02 | Global Oled Technology Llc | Vaporizing material at a uniform rate |
| WO2007137345A1 (en) | 2006-06-01 | 2007-12-06 | Vereniging Voor Christelijk Hoger Onderwijs, Wetenschappelijk Onderzoek En Patiëntenzorg | PLANT NUCLEIC ACIDS ASSOCIATED WITH CELLULAR pH AND USES THEREOF |
| WO2008117690A1 (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-02 | Ulvac, Inc. | 蒸着源、蒸着装置、成膜方法 |
| JP5081899B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2012-11-28 | 株式会社アルバック | 蒸着源、蒸着装置、成膜方法 |
| KR101167547B1 (ko) * | 2007-03-26 | 2012-07-20 | 가부시키가이샤 알박 | 증착원, 증착 장치, 성막 방법 |
| JP2009084665A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-04-23 | Ulvac Japan Ltd | 供給装置、及び蒸着装置 |
| US9214632B2 (en) | 2009-03-18 | 2015-12-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing apparatus and manufacturing method of lighting device |
| JP2010245036A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-10-28 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 照明装置の製造装置及び製造方法 |
| CN104711514A (zh) * | 2015-04-07 | 2015-06-17 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种成膜装置及方法 |
| CN104711514B (zh) * | 2015-04-07 | 2017-05-31 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种成膜装置及方法 |
| CN114507844A (zh) * | 2022-02-25 | 2022-05-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备 |
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