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JP2003262852A - Transflective liquid crystal device and electronic apparatus using the same - Google Patents

Transflective liquid crystal device and electronic apparatus using the same

Info

Publication number
JP2003262852A
JP2003262852A JP2003036587A JP2003036587A JP2003262852A JP 2003262852 A JP2003262852 A JP 2003262852A JP 2003036587 A JP2003036587 A JP 2003036587A JP 2003036587 A JP2003036587 A JP 2003036587A JP 2003262852 A JP2003262852 A JP 2003262852A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
layer
region
transmissive
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2003036587A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kinya Ozawa
欣也 小澤
Nobutaka Urano
信孝 浦野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2003036587A priority Critical patent/JP2003262852A/en
Publication of JP2003262852A publication Critical patent/JP2003262852A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide constitution by which high-definition display can be performed even when the orientation of liquid crystal is confused at the boundaries of transmissive display regions and reflective display regions in a multi-gap type liquid crystal device and an electronic apparatus using the same. <P>SOLUTION: A liquid crystal device 1 includes a transparent first substrate 10 having first transparent electrodes 11 on the surface thereof, a transparent second substrate 20 having second transparent electrodes 21, and a liquid crystal layer 50. Pixel regions 3 have a light-reflecting layer 4 defining the reflective display regions 31 and the transmissive display regions 32. A thickness-adjusting layer 6 having opening 61 defining the transmissive display regions 32 is formed on the light-reflecting layer 4. The thickness-adjusting layer 6 forms slopes 60 at the boundaries between the reflective display regions 31 and the transmissive display regions 32. The top edges 65 of the slopes are aligned flatly with the edges 45 of the light-reflecting layer 4. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半透過・反射型液
晶装置に関するものである。さらに詳しくは、1画素内
で透過表示領域と反射表示領域との間で液晶層の層厚を
適正な値に変えたマルチギャップタイプの液晶装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semi-transmissive / reflective liquid crystal device. More specifically, the present invention relates to a multi-gap type liquid crystal device in which the thickness of the liquid crystal layer is changed to an appropriate value between the transmissive display area and the reflective display area within one pixel.

【0002】[0002]

【従来の技術】各種の液晶装置のうち、透過モードおよ
び反射モードの双方で画像を表示可能なものは半透過・
反射型液晶装置と称せられ、あらゆるシーンで使用され
ている。
2. Description of the Related Art Among various liquid crystal devices, those capable of displaying an image in both transmissive mode and reflective mode are semi-transmissive.
It is called a reflective liquid crystal device and is used in every scene.

【0003】この半透過・反射型液晶装置では、図24
(A)、(B)、(C)に示すように、表面に第1の透
明電極11が形成された透明な第1の基板10と、第1
の電極11と対向する面側に第2の透明電極21が形成
された透明な第2の基板20と、第1の基板10と第2
の基板20との間に保持されたTN(ツイステッドネマ
ティック)モードの液晶層5とを有している。また、第
1の基板10には、第1の透明電極11と第2の透明電
極21とが対向する画素領域3に反射表示領域31を構
成する光反射層4が形成され、この光反射層4の開口4
0に相当する領域が透過表示領域32になっている。第
1の基板10および第2の基板20の各々の外側の面に
は偏光板41、42が配置され、偏光板41の側にはバ
ックライト装置7が対向配置されている。
In this semi-transmissive / reflective liquid crystal device, FIG.
As shown in (A), (B), and (C), a transparent first substrate 10 having a first transparent electrode 11 formed on the surface thereof, and a first
Transparent second substrate 20 having a second transparent electrode 21 formed on the side facing the electrode 11 of the first substrate 10, the second substrate 20, and the second substrate 20.
And a liquid crystal layer 5 of TN (twisted nematic) mode held between the substrate 20 and the substrate 20. Further, on the first substrate 10, a light reflection layer 4 constituting a reflection display area 31 is formed in the pixel area 3 where the first transparent electrode 11 and the second transparent electrode 21 face each other. Opening 4
The area corresponding to 0 is the transparent display area 32. Polarizing plates 41 and 42 are arranged on the outer surfaces of the first substrate 10 and the second substrate 20, respectively, and the backlight device 7 is arranged to face the polarizing plate 41.

【0004】このような構成の液晶装置1では、バック
ライト装置7から出射された光のうち、透過表示領域3
2に入射した光は、矢印L1で示すように、第1の基板
10の側から液晶層5に入射し、液晶層5で光変調され
た後、第2の基板20の側から透過表示光として出射さ
れて画像を表示する(透過モード)。
In the liquid crystal device 1 having such a structure, of the light emitted from the backlight device 7, the transmissive display region 3 is included.
The light incident on 2 enters the liquid crystal layer 5 from the side of the first substrate 10 and is modulated by the liquid crystal layer 5 as shown by an arrow L1, and then transmitted display light from the side of the second substrate 20. And is displayed as an image (transmission mode).

【0005】また、第2の基板20の側から入射した外
光のうち、反射表示領域31に入射した光は、矢印L2
で示すように、液晶層5を通って反射層4に届き、この
反射層4で反射されて再び、液晶層5を通って第2の基
板20の側から反射表示光として出射されて画像を表示
する(反射モード)。
Of the external light incident from the second substrate 20 side, the light incident on the reflective display area 31 is indicated by the arrow L2.
As shown by, the light reaches the reflection layer 4 through the liquid crystal layer 5, is reflected by the reflection layer 4, and is emitted again as reflection display light from the second substrate 20 side through the liquid crystal layer 5 to display an image. Display (reflection mode).

【0006】ここで、第1の基板10上には、反射表示
領域31および透過表示領域32の各々に反射表示用カ
ラーフィルタ81および透過表示用カラーフィルタ82
が形成されているので、カラー表示が可能である。
Here, on the first substrate 10, a reflective display color filter 81 and a transmissive display color filter 82 are provided in each of the reflective display area 31 and the transmissive display area 32.
Is formed, color display is possible.

【0007】このような光変調が行われる際、液晶のツ
イスト角を小さく設定した場合には、偏光状態の変化が
屈折率差Δnと液晶層5の層厚dの積(リターデーショ
ンΔn・d)の関数になるため、この値を適正化してお
けば視認性のよい表示を行うことができる。しかしなが
ら、半透過・反射型の液晶装置1において、透過表示光
は、液晶層5を一度だけ通過して出射されるのに対し
て、反射表示光は、液晶層5を2度、通過することにな
るため、透過表示光および反射表示光の双方において、
リターデーションΔn・dを最適化することは困難であ
る。従って、反射モードでの表示が視認性のよいものと
なるように液晶層5の層厚dを設定すると、透過モード
での表示が犠牲となる。逆に、透過モードでの表示が視
認性のよいものとなるように液晶層5の層厚dを設定す
ると、反射モードでの表示が犠牲となる。
When such a light modulation is performed, when the twist angle of the liquid crystal is set to be small, the change in the polarization state is caused by the product of the refractive index difference Δn and the layer thickness d of the liquid crystal layer 5 (retardation Δn · d). ), The display with good visibility can be performed by optimizing this value. However, in the semi-transmissive / reflective liquid crystal device 1, the transmissive display light passes through the liquid crystal layer 5 only once and is emitted, whereas the reflective display light passes through the liquid crystal layer 5 twice. Therefore, in both the transmitted display light and the reflected display light,
It is difficult to optimize the retardation Δn · d. Therefore, when the layer thickness d of the liquid crystal layer 5 is set so that the display in the reflective mode has good visibility, the display in the transmissive mode is sacrificed. On the contrary, when the layer thickness d of the liquid crystal layer 5 is set so that the display in the transmissive mode has good visibility, the display in the reflective mode is sacrificed.

【0008】そこで、特開平11−242226号に
は、反射表示領域31における液晶層の層厚dを透過表
示領域32における液晶層5の層厚dよりも小さくする
構成が開示されている。このような構成はマルチギャッ
プタイプと称せられ、例えば、図24(A)、(B)、
(C)に示すように、第1の透明電極11の下層側、か
つ、光反射層4の上層側に、透過表示領域32に相当す
る領域が開口61となっている層厚調整層6によって実
現できる。すなわち、透過表示領域32では、反射表示
領域31と比較して、層厚調整層6の膜厚分だけ、液晶
層5の層厚dが大きいので、透過表示光および反射表示
光の双方に対してリターデーションΔn・dを最適化す
ることが可能である。ここで、層厚調整層6で液晶層5
の層厚dを調整するには、層厚調整層6を分厚く形成す
る必要があり、このような分厚い層の形成には感光性樹
脂などが用いられる。
Therefore, Japanese Patent Laid-Open No. 11-242226 discloses a structure in which the layer thickness d of the liquid crystal layer in the reflective display area 31 is made smaller than the layer thickness d of the liquid crystal layer 5 in the transmissive display area 32. Such a configuration is called a multi-gap type, and for example, FIGS.
As shown in (C), on the lower layer side of the first transparent electrode 11 and the upper layer side of the light reflection layer 4, the layer thickness adjusting layer 6 having an opening 61 in a region corresponding to the transmissive display region 32 is formed. realizable. That is, in the transmissive display region 32, the layer thickness d of the liquid crystal layer 5 is larger than that in the reflective display region 31 by the film thickness of the layer thickness adjusting layer 6, and therefore, for both the transmissive display light and the reflective display light. It is possible to optimize the retardation Δn · d. Here, the liquid crystal layer 5 is formed by the layer thickness adjusting layer 6.
In order to adjust the layer thickness d, the layer thickness adjusting layer 6 needs to be formed thick, and a photosensitive resin or the like is used for forming such a thick layer.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、感光性
樹脂層で層厚調整層6を形成する際、フォトリソグラフ
ィ技術が用いられるが、その際の露光精度、あるいは現
像の際のサイドエッチングなどが原因で、層厚調整層6
は、反射表示領域31と透過表示領域32との境界部分
で斜め上向きの斜面60となってしまう。その結果、反
射表示領域31と透過表示領域32との境界部分では、
液晶層5の層厚dが連続的に変化する結果、リターデー
ションΔn・dも連続的に変化してしまう。また、液晶
層5に含まれる液晶分子は、第1の基板10および第2
の基板20の最表層に形成した配向膜12、22によっ
て初期の配向状態が規定されているが、斜面60では、
配向膜12の配向規制力が斜めに作用するので、この部
分では、図25に模式的に示すように、液晶分子の配向
の乱れ、いわゆるディスクリネーションが発生してい
る。
However, when the layer thickness adjusting layer 6 is formed of the photosensitive resin layer, a photolithography technique is used, which is caused by exposure accuracy at that time or side etching at the time of development. Then, the layer thickness adjusting layer 6
Becomes an obliquely upward slope 60 at the boundary between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32. As a result, in the boundary portion between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32,
As a result of the layer thickness d of the liquid crystal layer 5 changing continuously, the retardation Δn · d also changes continuously. In addition, the liquid crystal molecules included in the liquid crystal layer 5 are
Although the initial alignment state is defined by the alignment films 12 and 22 formed on the outermost surface of the substrate 20 of FIG.
Since the alignment regulating force of the alignment film 12 acts obliquely, in this part, as shown schematically in FIG. 25, alignment disorder of liquid crystal molecules, so-called disclination occurs.

【0010】このため、従来の液晶装置1では、例え
ば、ノーマリホワイトで設計した場合、電場を印加状態
において全面黒表示となるはずであるが、斜面60に相
当する部分で光が漏れてしまい、コントラストが低下す
るなどといった表示不良が発生してしまう。例えば、図
26(A)に、黒表示時において、反射表示領域31か
ら透過表示領域32にかけての反射光強度の分布を各ラ
ビング方向についてシュミレーションした結果を示すよ
うに、反射表示領域31と透過表示領域32との境界領
域では、光の漏れが発生する。ここで、光の漏れが連続
的に変化しているのはリターデーションΔn・dが不適
合であることに起因し、光の漏れが急激なピークを示し
ているのは、液晶の配向不良に起因するものである。ま
た、図26(B)に、黒表示時において、反射表示領域
31から透過表示領域32にかけての透過光強度の分布
を各ラビング方向についてシュミレーションした結果を
示すように、反射表示領域31と透過表示領域32との
境界領域では、光の漏れが発生する。ここでも、光の漏
れが連続的に変化しているのはリターデーションΔn・
dが不適合であることに起因し、光の漏れが急激なピー
クを示しているのは、液晶の配向不良に起因するもので
あるが、透過光の場合には、反射光に比較して漏れの度
合いが著しくレベルが低い。
For this reason, in the conventional liquid crystal device 1, for example, when it is designed in normally white, it is supposed that black display is made in the entire state when an electric field is applied, but light leaks at a portion corresponding to the slope 60. However, a display defect such as a decrease in contrast occurs. For example, as shown in FIG. 26A, when the black display is performed, the distribution of the reflected light intensity from the reflective display area 31 to the transmissive display area 32 is simulated in each rubbing direction. In the boundary area with the area 32, light leakage occurs. Here, the fact that the light leakage changes continuously is due to the incompatibility of the retardation Δn · d, and the light leakage shows a sharp peak due to the alignment failure of the liquid crystal. To do. In addition, as shown in FIG. 26B, when the black display is performed, the distribution of the transmitted light intensity from the reflective display area 31 to the transmissive display area 32 is simulated in each rubbing direction. In the boundary area with the area 32, light leakage occurs. Here again, the reason why the light leakage changes continuously is that the retardation Δn ·
The sudden peak of light leakage due to d incompatibility is due to the alignment failure of the liquid crystal, but in the case of transmitted light, the leakage of light is greater than that of reflected light. The level is extremely low.

【0011】以上の問題点に鑑みて、本発明では、1画
素領域内で透過表示領域と反射表示領域との間で液晶層
の層厚を適正な値に変えたマルチギャップタイプの液晶
装置、およびそれを用いた電子機器において、透過表示
領域と反射表示領域との境界部分でリターデーションが
不適正な状態、あるいは液晶分子の配向が乱れている状
態にあっても、品位の高い表示を行うことのできる構成
を提供することにある。
In view of the above problems, in the present invention, a multi-gap type liquid crystal device in which the layer thickness of the liquid crystal layer is changed to an appropriate value between the transmissive display region and the reflective display region within one pixel region, And in electronic devices using the same, high-quality display is performed even if the retardation is inappropriate at the boundary between the transmissive display area and the reflective display area or the alignment of liquid crystal molecules is disturbed. It is to provide a configuration capable of doing.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、表面に第1の透明電極が形成された第
1の基板と、前記第1の電極と対向する面側に第2の透
明電極が形成された第2の基板と、前記第1の基板と前
記第2の基板との間に保持された液晶層とを有し、前記
第1の基板は、前記第1の透明電極と前記第2の透明電
極とが対向する画素領域に反射表示領域を構成し、当該
画素領域の残りの領域を透過表示領域とする光反射層、
前記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前記透過
表示領域における前記液晶層の層厚よりも小さくする層
厚調整層、および前記第1の透明電極を下層側から上層
側に向かってこの順に備える半透過・反射型液晶装置に
おいて、 前記反射表示領域と前記透過表示領域との境
界領域では、前記光反射層の端縁が、前記層厚調整層の
端部に形成されている斜面と平面的にほぼ重なる領域内
に存在していることを特徴とする。
In order to solve the above problems, according to the present invention, a first substrate having a surface on which a first transparent electrode is formed and a surface opposite to the first electrode are provided with a first substrate. A second substrate on which two transparent electrodes are formed, and a liquid crystal layer held between the first substrate and the second substrate, wherein the first substrate is the first substrate. A light-reflecting layer that forms a reflective display area in a pixel area where the transparent electrode and the second transparent electrode face each other, and uses the remaining area of the pixel area as a transmissive display area;
A layer thickness adjusting layer for making the layer thickness of the liquid crystal layer in the reflective display region smaller than the layer thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region, and the first transparent electrode in this order from the lower layer side to the upper layer side. In the semi-transmissive / reflective liquid crystal device, the edge of the light-reflecting layer in the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area has a flat surface and a flat surface formed at the end of the layer thickness adjusting layer It is characterized in that it exists in a region that substantially overlaps.

【0013】本発明によれば、反射表示領域と前記透過
表示領域との境界領域のうち、光反射層と層厚調整層の
端部に形成されている斜面とが平面的に重なっている部
分では光が透過しないので、透過モードにおいて、前記
斜面を透過して出射される光を低減させることができ
る。これにより、反射表示領域と透過表示領域との境界
領域において、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリ
ターデーションΔn・dが連続的に変化したとしても、
また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、透過モー
ドにおいて、このような領域を透過して出射される光を
低減させることができる。
According to the present invention, in the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, the portion where the light reflecting layer and the slope formed at the end of the layer thickness adjusting layer overlap in a plane. In the transmission mode, the light that passes through the slope and is emitted can be reduced because light does not pass therethrough. Thereby, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer continuously changes and the retardation Δn · d continuously changes in the boundary region between the reflective display region and the transmissive display region,
Further, even if the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed, it is possible to reduce the light emitted through such a region in the transmission mode.

【0014】又、反射表示領域と前記透過表示領域との
境界領域のうち、光反射層と層厚調整層の端部に形成さ
れている斜面とが平面的に重なっていない部分では光が
反射しないので、反射モードにおいて、前記斜面を透過
して出射される反射光を低減させることができる。これ
により、反射表示領域と透過表示領域との境界領域にお
いて、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリターデー
ションΔn・dが連続的に変化したとしても、また、液
晶分子の配向が乱れていたとしても、反射モードにおい
て、このような領域を透過して出射される光を低減させ
ることができる。
Further, in the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, light is reflected at a portion where the light reflecting layer and the slope formed at the end portion of the layer thickness adjusting layer do not planarly overlap each other. Therefore, in the reflection mode, it is possible to reduce the reflected light that passes through the slope and is emitted. As a result, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer continuously changes and the retardation Δn · d continuously changes in the boundary region between the reflective display region and the transmissive display region, the alignment of the liquid crystal molecules is also suppressed. Even if the light is disturbed, it is possible to reduce the light emitted through such a region in the reflection mode.

【0015】よって、透過モードおよび反射モードのそ
れぞれにおいて、コントラストを向上させ、表示の品位
を向上させることができる。また、反射表示領域と透過
表示領域との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較
して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うこ
とができる。
Therefore, in each of the transmission mode and the reflection mode, the contrast can be improved and the display quality can be improved. Further, as compared with the case where the entire boundary region between the reflective display region and the transmissive display region is covered with the light shielding film, the amount of display light is not reduced, so that bright display can be performed.

【0016】特に、反射表示領域と透過表示領域との境
界領域において、光反射層の端縁が、層厚調整層の端部
に形成されている斜面の上端縁と平面的に重なっている
構成とすれば、反射表示領域と透過表示領域との境界領
域において、層厚調整層の端部に形成されている斜面と
平面的に重なる領域には、光反射層が形成されない。従
って、反射表示領域と透過表示領域との境界領域(層厚
調整層が端部で斜面となっている領域)からは光が反射
してこない。それ故、反射表示領域と透過表示領域との
境界領域においては、層厚調整層の厚さが連続的に変化
してリターデーションΔn・dが連続的に変化したとし
ても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、反
射モードにおいて、このような領域で光が漏れるおそれ
がない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示
を行うことができる。また、反射表示領域と透過表示領
域との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、
表示光量が低減しないので、明るい表示を行うことがで
きる。
In particular, in the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, the edge of the light reflecting layer is planarly overlapped with the upper edge of the slope formed at the edge of the layer thickness adjusting layer. In that case, in the boundary region between the reflective display region and the transmissive display region, the light reflective layer is not formed in a region that planarly overlaps the slope formed at the end of the layer thickness adjusting layer. Therefore, no light is reflected from the boundary region between the reflective display region and the transmissive display region (the region where the layer thickness adjusting layer is a slope at the end). Therefore, in the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer changes continuously and the retardation Δn · d changes continuously, Even if the orientation is disturbed, there is no risk of light leakage in such a region in the reflection mode. Therefore, display with high contrast and high quality can be performed. Further, compared with the case where the entire boundary area between the reflective display area and the transmissive display area is covered with a light shielding film,
Since the amount of display light is not reduced, bright display can be performed.

【0017】また、反射表示領域と透過表示領域との境
界領域において、光反射層の端縁が、層厚調整層の端部
に形成されている斜面の下端縁と平面的に重なっている
構成とすれば、反射表示領域と透過表示領域との境界領
域において、層厚調整層の端部に形成されている斜面に
は光反射層が平面的に重なっている。従って、反射表示
領域と透過表示領域との境界領域(層厚調整層が端部で
斜面となっている領域)からは光が透過してこない。そ
れ故、反射表示領域と透過表示領域との境界領域におい
ては、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリターデー
ションΔn・dが連続的に変化したとしても、また、液
晶分子の配向が乱れていたとしても、透過モードにおい
て、このような領域で光が漏れるおそれがない。よっ
て、コントラストが高い、品位の高い表示を行うことが
できる。また、反射表示領域と透過表示領域との境界領
域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示光量が低
減しないので、明るい表示を行うことができる。
Further, in the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, the edge of the light reflecting layer is planarly overlapped with the lower edge of the slope formed at the edge of the layer thickness adjusting layer. In that case, in the boundary region between the reflective display region and the transmissive display region, the light reflection layer is two-dimensionally overlapped with the slope formed at the end of the layer thickness adjusting layer. Therefore, no light is transmitted from the boundary region (the region where the layer thickness adjusting layer is a slope at the end) between the reflective display region and the transmissive display region. Therefore, in the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer changes continuously and the retardation Δn · d changes continuously, Even if the orientation is disturbed, there is no risk of light leakage in such a region in the transmission mode. Therefore, display with high contrast and high quality can be performed. Further, as compared with the case where the entire boundary region between the reflective display region and the transmissive display region is covered with the light shielding film, the amount of display light is not reduced, so that bright display can be performed.

【0018】本発明のさらに別の形態では、表面に第1
の透明電極が形成された第1の基板と、前記第1の電極
と対向する面側に第2の透明電極が形成された第2の基
板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に保持さ
れた液晶層とを有し、前記第1の基板は、前記第1の透
明電極と前記第2の透明電極とが対向する画素領域に反
射表示領域を構成し、当該画素領域の残りの領域を透過
表示領域とする光反射層、前記反射表示領域における前
記液晶層の層厚を前記透過表示領域における前記液晶層
の層厚よりも小さくする層厚調整層、および前記第1の
透明電極を下層側から上層側に向かってこの順に備える
半透過・反射型液晶装置において、前記画素領域は矩形
領域として形成されている一方、前記透過表示領域は、
明視方向側に位置する辺が前記画素領域の辺に平面的に
ほぼ重なる矩形領域として形成され、かつ、前記画素領
域と前記透過表示領域の辺同士が重なる側には、当該辺
に対して平面的にほぼ重なるように遮光膜が形成されて
いることを特徴とする。
In yet another aspect of the present invention, the surface has a first
A first substrate on which the transparent electrode is formed, a second substrate on which a second transparent electrode is formed on the surface side facing the first electrode, the first substrate and the second substrate And a liquid crystal layer held between the first substrate and the second transparent electrode, and the first substrate constitutes a reflective display region in a pixel region where the first transparent electrode and the second transparent electrode face each other. A light-reflecting layer having a transmissive display area in the remaining area, a layer thickness adjusting layer for making the layer thickness of the liquid crystal layer in the reflective display area smaller than the liquid crystal layer in the transmissive display area, and In a semi-transmissive / reflective liquid crystal device including the first transparent electrode in this order from the lower layer side to the upper layer side, the pixel region is formed as a rectangular region, while the transmissive display region is
The side located on the side of the clear view is formed as a rectangular area that substantially overlaps the side of the pixel area in a plane, and the side where the sides of the pixel area and the transmissive display area overlap with each other is It is characterized in that the light-shielding film is formed so as to substantially overlap in a plane.

【0019】かかる構成において、前記反射表示領域と
前記透過表示領域との境界領域では、前記光反射層の端
縁が、前記層厚調整層の端部に形成されている斜面と平
面的にほぼ重なる領域内に存在している構成、前記光反
射層の端縁が、前記層厚調整層の端部に形成されている
斜面の上端縁と平面的にほぼ重なっている構成、または
前記光反射層の端縁が、前記層厚調整層の端部に形成さ
れている斜面の下端縁と平面的にほぼ重なっている構成
としてもよい。
In such a structure, in the boundary region between the reflective display region and the transmissive display region, the edge of the light reflecting layer is substantially planar with the slope formed at the end of the layer thickness adjusting layer. The structure existing in the overlapping region, the edge of the light reflection layer substantially planarly overlaps with the upper edge of the slope formed at the end of the layer thickness adjusting layer, or the light reflection The edge of the layer may be configured to substantially overlap with the lower edge of the slope formed at the edge of the layer thickness adjusting layer in plan view.

【0020】液晶装置では、透過表示領域の周りのう
ち、明視方向側に位置する辺において、光の漏れが視認
されやすいが、本発明において、明視方向側に位置する
辺は、画素領域の辺と重なっている。ここで、隣接する
画素領域同士の境界領域には、ブラックマトリクスやブ
ラックストライプと称せられる遮光膜、あるいは遮光性
の配線が通っているので、透過表示領域の周りのうち、
明視方向側に位置する辺側で漏れようとする光は、遮光
膜で遮られて出射されない。よって、コントラストが高
い、品位の高い表示を行うことができる。また、反射表
示領域と透過表示領域との境界領域全体を遮光膜で覆っ
た場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい
表示を行うことができる。
In the liquid crystal device, light leakage is easily visually recognized on the side of the transparent display area located on the side of the clear viewing direction. However, in the present invention, the side located on the side of the clear viewing direction is the pixel area. It overlaps with the side of. Here, since a light-shielding film called a black matrix or a black stripe, or a light-shielding wiring passes through the boundary region between adjacent pixel regions,
Light attempting to leak on the side located on the side of the clear view is blocked by the light shielding film and is not emitted. Therefore, display with high contrast and high quality can be performed. Further, as compared with the case where the entire boundary region between the reflective display region and the transmissive display region is covered with the light shielding film, the amount of display light is not reduced, so that bright display can be performed.

【0021】また、前記画素領域と前記透過表示領域と
が重なっている辺に隣接して、隣の画素領域の反射表示
領域が形成されていることが好ましい。
Further, it is preferable that a reflective display area of an adjacent pixel area is formed adjacent to a side where the pixel area and the transmissive display area overlap.

【0022】かかる構成によれば、透過表示領域の明視
方向側の辺に隣接して、隣の反射表示領域が形成されて
いるので、これら透過表示領域と隣の反射表示領域との
境界領域(層厚調整層が端部で斜面となっている領域)
で漏れようとする光は、遮光膜で遮られる。それ故、こ
の透過表示領域と隣の反射表示領域との境界領域におい
ては、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリターデー
ションΔn・dが連続的に変化したとしても、また、液
晶分子の配向が乱れていたとしても、ここを透過する光
の一部または全部を遮光層で遮ることができるので、こ
れによりコントラストを向上させ、表示品位を向上させ
ることができる。また、反射表示領域と透過表示領域と
の境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較して、表示
光量が低減しないので、明るい表示を行うことができ
る。
According to this structure, since the adjacent reflective display area is formed adjacent to the side of the transmissive display area on the side of the clear view, the boundary area between the transmissive display area and the adjacent reflective display area is formed. (A region where the layer thickness adjustment layer is a slope at the end)
The light that is about to leak is blocked by the light shielding film. Therefore, in the boundary area between the transmissive display area and the adjacent reflective display area, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer changes continuously and the retardation Δn · d changes continuously, Even if the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed, a part or all of the light passing through the liquid crystal molecules can be blocked by the light shielding layer, so that the contrast can be improved and the display quality can be improved. Further, as compared with the case where the entire boundary region between the reflective display region and the transmissive display region is covered with the light shielding film, the amount of display light is not reduced, so that bright display can be performed.

【0023】本発明において、前記反射表示領域に形成
された反射表示用カラーフィルタと、前記透過表示領域
に形成された、前記反射表示用カラーフィルタよりも着
色度の強い透過表示用カラーフィルタを備えることが好
ましい。
In the present invention, there is provided a reflective display color filter formed in the reflective display area and a transmissive display color filter formed in the transmissive display area and having a higher degree of coloring than the reflective display color filter. It is preferable.

【0024】かかる構成によれば、反射モード時にカラ
ーフィルターを2回透過して得られる光と、透過モード
時にカラーフィルターを1回透過して得られる光との色
の濃淡差を小さくすることができるので、視認性の高い
表示を得ることができる。
According to this structure, it is possible to reduce the difference in color density between the light obtained by transmitting the color filter twice in the reflection mode and the light obtained by transmitting the color filter once in the transmission mode. Therefore, a display with high visibility can be obtained.

【0025】特に、前記反射表示領域と前記透過表示領
域との境界領域で、前記反射表示用カラーフィルタの端
縁が、前記光反射層の端縁と平面的にほぼ重なっている
構成とすれば、光反射層で反射された光を、確実に反射
表示用カラーフィルタを透過させることができるので、
視認性をより向上させることができる。
In particular, in the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, the edge of the color filter for reflective display substantially overlaps with the edge of the light reflecting layer in plan view. Since the light reflected by the light reflection layer can be reliably transmitted through the color filter for reflection display,
The visibility can be further improved.

【0026】あるいは、前記反射表示領域と前記透過表
示領域との境界領域には、前記反射表示用カラーフィル
タを構成する層および/または前記透過表示用カラーフ
ィルタを構成する層であって、色調の異なる2層以上が
積層されたオーバーラップ部を設けてもよい。
Alternatively, in the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, a layer forming the color filter for reflective display and / or a layer forming the color filter for transmissive display has a color tone. You may provide the overlapping part by which two or more different layers were laminated.

【0027】かかる構成とすれば、2層以上の着色層を
積層させてオーバーラップ部を形成することにより、こ
のオーバーラップ部での光の吸収率を高くすることがで
きる、このためオーバーラップ部を透過して出射される
出射光量が減少し、オーバーラップ部は視覚的に暗く見
える。それ故、透過表示領域と反射表示領域との境界領
域において、層厚調整層の厚さが連続的に変化してリタ
ーデーションΔn・dが連続的に変化したとしても、ま
た、液晶分子の配向が乱れていたとしても、ここから漏
れる光は、その一部がオーバーラップ部で吸収されるの
で視覚的に目立たなくなる。よって、コントラストが高
い、品位の高い表示を行うことができる。
According to this structure, by forming two or more colored layers to form the overlapping portion, the light absorption rate at the overlapping portion can be increased. Therefore, the overlapping portion is formed. The amount of outgoing light that passes through and exits is reduced, and the overlapping portion looks visually dark. Therefore, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer changes continuously and the retardation Δn · d changes continuously in the boundary region between the transmissive display region and the reflective display region, the alignment of the liquid crystal molecules is also reduced. Even if the light is disturbed, the light leaking from here is visually inconspicuous because part of it is absorbed by the overlap portion. Therefore, display with high contrast and high quality can be performed.

【0028】特に、前記オーバーラップ部では、前記反
射表示用カラーフィルタの端部と前記透過表示用カラー
フィルタの端部とが重なり合っている構成とすれば、比
較的容易にオーバーラップ部を形成することができる。
In particular, in the overlap portion, if the end portion of the reflective display color filter and the end portion of the transmissive display color filter overlap each other, the overlap portion can be formed relatively easily. be able to.

【0029】また、前記反射表示領域と前記透過表示領
域との境界領域では、前記層厚調整層の端部に斜面が形
成されており、前記オーバーラップ部と平面的に重なる
領域内に、前記斜面が存在していることが好ましい。
In the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, an inclined surface is formed at an end of the layer thickness adjusting layer, and the inclined surface is overlapped with the overlapping portion in a plane. It is preferable that a slope is present.

【0030】かかる構成とすれば、層厚調整層の厚さが
連続的に変化している斜面部で、リターデーションΔn
・dが連続的に変化したとしても、また、液晶分子の配
向が乱れていたとしても、ここから光が漏れる光を、確
実にオーバーラップ部を透させて視覚的に目立たなくす
ることができる。
According to this structure, the retardation Δn is increased in the slope portion where the thickness of the layer thickness adjusting layer is continuously changing.
-Even if d changes continuously, or even if the alignment of liquid crystal molecules is disturbed, the light leaking from here can be reliably made visually inconspicuous by passing through the overlapping part. .

【0031】本発明において、前記反射表示領域と前記
透過表示領域との境界領域で、前記層厚調整層の端部に
斜面が形成されている構成において、該斜面の平面的な
幅が8μm以下であることが好ましい。
In the present invention, in a structure in which a slant surface is formed at an end portion of the layer thickness adjusting layer in a boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, a planar width of the slant surface is 8 μm or less Is preferred.

【0032】本発明において、前記液晶層では、例え
ば、液晶のツイスト角が90°以下である。
In the present invention, in the liquid crystal layer, for example, the twist angle of the liquid crystal is 90 ° or less.

【0033】本発明に係る半透過・反射型液晶装置は、
携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった電子機
器の表示部として用いることができる。
The semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to the present invention is
It can be used as a display unit of electronic devices such as mobile phones and mobile computers.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】図面を参照して、本発明の実施の
形態を説明する。なお、以下の説明に用いる各図では、
各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとする
ため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each figure used in the following description,
In order to make each layer and each member recognizable in the drawing, the scale is different for each layer and each member.

【0035】[実施の形態1]図1(A)、(B)、
(C)はそれぞれ、液晶装置にマトリクス状に形成され
ている複数の画素領域のうちの1つを抜き出して模式的
に示す平面図、そのA−A′断面図、およびB−B′断
面図である。図2は、この液晶装置に形成した光反射層
と層厚調整層の位置関係を示す説明図である。なお、本
形態の液晶装置は、基本的な構成が従来の液晶装置と共
通するので、共通する機能を有する部分には同一の符号
を付して説明する。
[Embodiment 1] FIGS. 1 (A), 1 (B),
FIG. 3C is a plan view schematically showing one of a plurality of pixel regions formed in a matrix in the liquid crystal device, the plan view thereof being taken along the line AA ′, and the cross section taken along the line BB ′. Is. FIG. 2 is an explanatory view showing the positional relationship between the light reflecting layer and the layer thickness adjusting layer formed in this liquid crystal device. Since the liquid crystal device of this embodiment has a basic configuration in common with a conventional liquid crystal device, parts having common functions will be described with the same reference numerals.

【0036】図1(A)、(B)、(C)に示す画素領
域は、後述するアクティブマトリクス型液晶装置のう
ち、画素スイッチング用の非線形素子として、TFDお
よびTFTのいずれを用いた場合にも共通する部分を抜
き出して示してある。ここに示す液晶装置1は、ITO
膜などからなる第1の透明電極11が表面に形成された
石英やガラスなどの透明な第1の基板10と、第1の電
極11と対向する面側に同じくITO膜などからなる第
2の透明電極21が形成された石英やガラスなどの透明
な第2の基板20と、第1の基板10と第2の基板20
との間に保持されたTNモードの液晶からなる液晶層5
0とを有しており、第1の透明電極11と第2の透明電
極21とが対向する領域が表示に直接、寄与する画素領
域3となっている。
The pixel regions shown in FIGS. 1A, 1B, and 1C are obtained by using either a TFD or a TFT as a nonlinear element for pixel switching in an active matrix type liquid crystal device described later. Also, the common parts are extracted and shown. The liquid crystal device 1 shown here is ITO
A transparent first substrate 10 such as quartz or glass having a first transparent electrode 11 made of a film or the like formed on the surface thereof, and a second substrate also made of an ITO film or the like on the side facing the first electrode 11. A transparent second substrate 20 such as quartz or glass on which a transparent electrode 21 is formed, a first substrate 10 and a second substrate 20.
Liquid crystal layer 5 made of TN mode liquid crystal held between
0, and the region where the first transparent electrode 11 and the second transparent electrode 21 face each other is the pixel region 3 that directly contributes to the display.

【0037】また、第1の基板10において、第1の透
明電極11の表面には配向膜12が形成され、第2の基
板20において、第2の透明電極21の表面には配向膜
22が形成されている。ここで、配向膜12、22は、
ポリイミド膜などを塗布、焼成後、所定の方向にラビン
グ処理を施してなるもので、このラビング処理によっ
て、配向膜12、22は、液晶層50を構成する液晶分
子を90°以下のツイスト角で配向させ、画素領域3の
四辺のうち、図面における下側(6時方向)の位置が明
視方向になっている。
On the first substrate 10, an alignment film 12 is formed on the surface of the first transparent electrode 11, and on the second substrate 20, an alignment film 22 is formed on the surface of the second transparent electrode 21. Has been formed. Here, the alignment films 12 and 22 are
A polyimide film or the like is applied and baked, and then a rubbing process is performed in a predetermined direction. By this rubbing process, the alignment films 12 and 22 form liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer 50 at a twist angle of 90 ° or less. Of the four sides of the pixel region 3, the lower side (6 o'clock direction) position in the drawing is the clear viewing direction.

【0038】液晶装置1において、画素領域3はマトリ
クス状に多数、形成されているが、これらの画素領域3
同士の境界領域を平面的にみると、第2の基板20に形
成されているブラックマクスやブラックストライプと称
せられる遮光膜9、あるいは第1の基板10の側に形成
された遮光性の配線(図示せず)が通っている。従っ
て、画素領域3は、平面的には遮光膜9や遮光性の配線
によって周りを囲まれた状態にある。
In the liquid crystal device 1, a large number of pixel regions 3 are formed in a matrix, and these pixel regions 3 are formed.
When the boundary area between them is seen in a plan view, the light-shielding film 9 called black mask or black stripe formed on the second substrate 20, or the light-shielding wiring formed on the first substrate 10 side ( (Not shown) is passing. Therefore, the pixel region 3 is in a state of being surrounded by the light shielding film 9 and the light shielding wiring in a plan view.

【0039】第1の基板10には、第1の透明電極11
と第2の透明電極21とが対向する矩形の画素領域3に
反射表示領域31を構成する矩形の光反射層4(図1
(A)に右下がりの斜線領域で示す)がアルミニウム膜
や銀合金膜によって形成され、この光反射層4には矩形
の開口40が形成されている。このため、画素領域3に
おいて、光反射層4が形成されている領域は反射表示領
域31となっているが、開口40に相当する領域は、光
反射層4が形成されていない矩形の透過表示領域32に
なっている。ここで、透過表示領域32の四辺のうち、
明視方向(6時側)に位置する辺33は、画素領域の辺
34と重なっている。
The first transparent electrode 11 is formed on the first substrate 10.
And the second transparent electrode 21 are opposed to each other, a rectangular light reflection layer 4 (FIG.
(Indicated by a hatched area in the lower right direction in (A)) is formed of an aluminum film or a silver alloy film, and a rectangular opening 40 is formed in the light reflecting layer 4. Therefore, in the pixel region 3, the region where the light reflection layer 4 is formed is the reflection display region 31, but the region corresponding to the opening 40 is a rectangular transmissive display where the light reflection layer 4 is not formed. It is an area 32. Here, of the four sides of the transparent display area 32,
The side 33 located in the clear viewing direction (6 o'clock side) overlaps the side 34 of the pixel region.

【0040】また、透過表示領域32の明視方向側に位
置する辺33に隣接して、隣の画素領域の反射表示領域
31aが形成されている。
Further, a reflective display area 31a of an adjacent pixel area is formed adjacent to the side 33 located on the side of the transparent display area 32 in the clear viewing direction.

【0041】第1の基板10および第2の基板20の各
々の外側の面には偏光板41、42が配置され、偏光板
41の側にはバックライト装置7が対向配置されてい
る。
Polarizing plates 41 and 42 are disposed on the outer surfaces of the first substrate 10 and the second substrate 20, respectively, and the backlight device 7 is disposed opposite to the polarizing plate 41 side.

【0042】このように構成した液晶装置1において、
バックライト装置7から出射された光のうち、透過表示
領域32に入射した光は、矢印L1で示すように、第1
の基板10の側から液晶層50に入射し、そこで、光変
調された後、第2の基板20の側から透過表示光として
出射されて画像を表示する(透過モード)。
In the liquid crystal device 1 thus constructed,
Of the light emitted from the backlight device 7, the light incident on the transmissive display region 32 is the first light as indicated by the arrow L1.
The light enters the liquid crystal layer 50 from the side of the substrate 10, is light-modulated therein, and then is emitted as transmission display light from the side of the second substrate 20 to display an image (transmission mode).

【0043】また、第2の基板20の側から入射した外
光のうち、反射表示領域31に入射した光は、矢印L2
で示すように、液晶層50を通って反射層4に届き、こ
の反射層4で反射されて再び、液晶層50を通って第2
の基板20の側から反射表示光として出射されて画像を
表示する(反射モード)。
Of the external light incident from the second substrate 20 side, the light incident on the reflective display area 31 is indicated by the arrow L2.
As shown in FIG. 2, the light reaches the reflective layer 4 through the liquid crystal layer 50, is reflected by the reflective layer 4, and again passes through the liquid crystal layer 50 to the second layer.
The image is displayed by being emitted as reflection display light from the substrate 20 side (reflection mode).

【0044】ここで、第1の基板10上には、反射表示
領域31および透過表示領域32の各々に反射表示用カ
ラーフィルタ81および透過表示用カラーフィルタ82
が形成されているので、カラー表示が可能である。透過
表示用カラーフィルタ82としては、顔料が多量に配合
されているなど、反射表示用カラーフィルタ81よりも
着色度が強いものが用いられている。ここで、反射表示
用カラーフィルタ81の端縁は、光反射層4の端縁と平
面的に重なる位置にある。
Here, on the first substrate 10, a reflective display color filter 81 and a transmissive display color filter 82 are provided in each of the reflective display area 31 and the transmissive display area 32.
Is formed, color display is possible. As the transmissive display color filter 82, a filter having a higher degree of coloring than the reflective display color filter 81, such as a large amount of pigment, is used. Here, the end edge of the reflective display color filter 81 is located at a position where it overlaps with the end edge of the light reflection layer 4 in plan view.

【0045】このような半透過・反射型の液晶装置1に
おいて、透過表示光は、液晶層50を一度だけ通過して
出射されるのに対して、反射表示光は、液晶層50を2
度、通過することになる。そこで、第1の基板10にお
いて、第1の透明電極11の下層側、かつ、光反射層4
の上層側には、透過表示領域32に相当する領域が開口
61となっている感光性樹脂層からなる層厚調整層6が
形成されている。従って、透過表示領域32では、反射
表示領域31と比較して、層厚調整層6の膜厚分だけ、
液晶層50の層厚dが大きいので、透過表示光および反
射表示光の双方に対してリターデーションΔn・dを最
適化できる。
In such a semi-transmissive / reflective liquid crystal device 1, the transmissive display light passes through the liquid crystal layer 50 only once and is emitted, whereas the reflective display light passes through the liquid crystal layer 50.
It will pass once. Therefore, in the first substrate 10, the lower layer side of the first transparent electrode 11 and the light reflection layer 4
On the upper layer side, a layer thickness adjusting layer 6 made of a photosensitive resin layer having an opening 61 in a region corresponding to the transmissive display region 32 is formed. Therefore, in the transmissive display area 32, as compared with the reflective display area 31, only the film thickness of the layer thickness adjusting layer 6 is
Since the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 is large, the retardation Δn · d can be optimized for both the transmitted display light and the reflected display light.

【0046】この層厚調整層6を形成する際にはフォト
リソグラフィ技術が用いられるが、その際の露光精度、
あるいは現像の際のサイドエッチングなどが原因で、層
厚調整層6は、反射表示領域31と透過表示領域32と
の境界部分が斜め上向きの斜面60になっており、この
斜面60を平面的にみると8μmの幅をもって形成され
ている状態にある。従って、透過表示領域32との境界
部分では、液晶層50の層厚dが連続的に変化する結
果、リターデーションΔn・dも連続的に変化してい
る。また、液晶層50に含まれる液晶分子は、第1の基
板10および第2の基板20の最表層に形成した配向膜
12、22によって初期の配向状態が規定されている
が、斜面60では、配向膜12の配向規制力が斜めに作
用するので、この部分では液晶分子の配向が乱れてい
る。
When forming the layer thickness adjusting layer 6, a photolithography technique is used. The exposure accuracy at that time is
Alternatively, due to side etching or the like at the time of development, in the layer thickness adjusting layer 6, the boundary portion between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32 is an obliquely upward slope 60. When viewed, it is in a state of being formed with a width of 8 μm. Therefore, at the boundary with the transmissive display region 32, the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 changes continuously, and as a result, the retardation Δn · d also changes continuously. The initial alignment state of the liquid crystal molecules contained in the liquid crystal layer 50 is defined by the alignment films 12 and 22 formed on the outermost layers of the first substrate 10 and the second substrate 20, but on the slope 60, Since the alignment regulating force of the alignment film 12 acts diagonally, the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed in this portion.

【0047】このような不安定な状態にある境界領域
は、表示の品位を低下させる原因となる。そこで、本形
態では、反射モードでの表示品位の向上を目的として、
図2に拡大して示すように、反射表示領域31と透過表
示領域32との境界領域では、光反射層4の端縁45
が、層厚調整層6の端部に形成されている斜面60の上
端縁65と平面的に重なっている。
The boundary region in such an unstable state causes deterioration of display quality. Therefore, in the present embodiment, in order to improve the display quality in the reflection mode,
As shown in an enlarged manner in FIG. 2, in the boundary area between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32, the edge 45 of the light reflective layer 4 is formed.
Is planarly overlapped with the upper edge 65 of the slope 60 formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6.

【0048】このため、本形態では、反射表示領域31
と透過表示領域32との境界領域において、層厚調整層
6の端部に形成されている斜面60と平面的に重なる領
域には、光反射層4が形成されていない。従って、反射
表示領域31と透過表示領域32との境界領域(層厚調
整層6が端部で斜面60となっている領域)からは光が
反射してこない。なお、反射表示領域31と透過表示領
域32との境界領域(層厚調整層6が端部で斜面60と
なっている領域)からは光が透過してくるが、図26
(B)を参照して説明したように、透過光での光の漏れ
のレベルは、反射光での光の漏れと比較して著しく低
い。それ故、反射表示領域31と透過表示領域32との
境界領域において、層厚調整層6の厚さが連続的に変化
してリターデーションΔn・dが連続的に変化したとし
ても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、反
射モードにおいて、このような領域で反射光が漏れてく
るおそれがない。よって、コントラストが高い、品位の
高い表示を行うことができる。また、反射表示領域31
と透過表示領域32との境界領域全体を遮光膜で覆った
場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表
示を行うことができる。
Therefore, in this embodiment, the reflective display area 31 is used.
In the boundary region between the transparent display region 32 and the transmissive display region 32, the light reflection layer 4 is not formed in a region that planarly overlaps with the slope 60 formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6. Therefore, no light is reflected from the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32 (the region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end). Note that light is transmitted from the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32 (region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end), as shown in FIG.
As described with reference to (B), the level of light leakage in transmitted light is significantly lower than that in reflected light. Therefore, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer 6 changes continuously and the retardation Δn · d changes continuously in the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32, the liquid crystal is also changed. Even if the orientation of the molecules is disturbed, there is no possibility that reflected light leaks in such a region in the reflection mode. Therefore, display with high contrast and high quality can be performed. In addition, the reflective display area 31
As compared with the case where the entire boundary area between the transparent display area 32 and the transmissive display area 32 is covered with a light-shielding film, the amount of display light is not reduced, so bright display can be performed.

【0049】また、本形態では、透過表示領域32の四
辺のうち、明視方向(6時側)に位置する辺33は、画
素領域の辺34と重なっており、この部分は遮光膜9と
平面的に重なっている。このため、透過表示領域32の
周りのうち、明視方向側で光の漏れが発生しやすい傾向
にあるが、ここから漏れようとする光は、遮光膜9で遮
られて出射されない。それ故、コントラストが高い、品
位の高い表示を行うことができる。
Further, in the present embodiment, among the four sides of the transmissive display area 32, the side 33 located in the clear viewing direction (6 o'clock side) overlaps with the side 34 of the pixel area, and this side serves as the light shielding film 9. It overlaps in a plane. For this reason, there is a tendency that light leaks around the transmissive display region 32 on the clear viewing direction side, but the light that is about to leak from this is blocked by the light shielding film 9 and is not emitted. Therefore, high-quality display with high contrast can be performed.

【0050】さらに、透過表示領域32の明視方向側の
辺33に隣接して、隣の反射表示領域31aが形成され
ているので、この透過表示領域32と隣の反射表示領域
31aとの境界領域(層厚調整層6が端部で斜面60と
なっている領域)で漏れようとする光は、遮光膜9で遮
られる。したがって、層厚調整層6が斜面60となって
いる領域でリターデーションΔn・dが連続的に変化し
たとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとして
も、ここから漏れる光は遮光層9で遮られるので、これ
によりコントラストを向上させ、表示の品位を向上させ
ることができる。
Further, since the adjacent reflective display area 31a is formed adjacent to the side 33 of the transparent display area 32 on the visible direction side, the boundary between the transparent display area 32 and the adjacent reflective display area 31a. Light that is about to leak in the region (region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end) is blocked by the light shielding film 9. Therefore, even if the retardation Δn · d continuously changes in the region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60, or if the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed, the light leaking from here is shielded from the light. Since it is blocked by 9, the contrast can be improved and the display quality can be improved.

【0051】また、透過表示用カラーフィルタ82とし
て、反射表示用カラーフィルタ81よりも着色度が強い
ものが用いられているため、透過表示光がカラーフィル
タを1度しか通過しない構成であっても、カラーフィル
タを2度、通過する反射表示光と同等の着色を受けるの
で、品位の高いカラー表示を行うことができる。
Further, since the transmissive display color filter 82 having a higher degree of coloring than the reflective display color filter 81 is used, the transmissive display light may pass through the color filter only once. Since the same color as the reflected display light that passes through the color filter twice is obtained, high quality color display can be performed.

【0052】このような構造の液晶装置1を製造する
際、第1の基板10は以下のようにして形成する。
When manufacturing the liquid crystal device 1 having such a structure, the first substrate 10 is formed as follows.

【0053】まず、石英やガラスなどからなる第1の基
板10を準備した後、その全面にアルミニウムや銀合金
などの反射性の金属膜を形成した後、フォトリソグラフ
ィ技術を利用して、この金属膜をパターニングして光反
射層4を形成する。
First, after the first substrate 10 made of quartz or glass is prepared, a reflective metal film such as aluminum or silver alloy is formed on the entire surface of the first substrate 10, and then this metal is formed by using a photolithography technique. The film is patterned to form the light reflecting layer 4.

【0054】次に、フレキソ印刷法、フォトリグラフィ
技術、あるいはインクジェット法を利用して、所定の領
域に反射表示用カラーフィルタ81、および透過表示用
カラーフィルタ82を形成する。
Next, the reflective display color filter 81 and the transmissive display color filter 82 are formed in predetermined regions by using a flexographic printing method, a photolithography technique, or an ink jet method.

【0055】次に、スピンコート法を利用して、第1の
基板10の全面に感光性樹脂を塗布した後、露光、現像
して層厚調整層6を形成する。
Next, a photosensitive resin is applied to the entire surface of the first substrate 10 by the spin coating method, and then exposed and developed to form the layer thickness adjusting layer 6.

【0056】次に、第1の基板10の全面にITO膜な
どの透明導電膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術
を利用して、この透明導電膜をパターニングして第1の
透明電極11を形成する。
Next, after forming a transparent conductive film such as an ITO film on the entire surface of the first substrate 10, the transparent conductive film is patterned by using the photolithography technique to form the first transparent electrode 11. To do.

【0057】次に、スピンコート法を利用して、第1の
基板10の全面にポリイミド樹脂を塗布した後、焼成
し、しかる後にラビング処理などの配向処理を施して配
向膜12を形成する。
Next, using a spin coating method, a polyimide resin is applied to the entire surface of the first substrate 10 and then baked, and then an alignment treatment such as a rubbing treatment is performed to form an alignment film 12.

【0058】このように形成した第1の基板10につい
ては、別途、形成しておいた第2の基板20と所定の間
隔を介して貼り合わせ、しかる後に、基板間に液晶を注
入して液晶層50を形成する。
The first substrate 10 thus formed is separately attached to the second substrate 20 which has been formed with a predetermined gap, and then liquid crystal is injected between the substrates to form a liquid crystal. Form layer 50.

【0059】なお、液晶装置1では、第1の基板10の
側にTFDやTFTなどといった画素スイッチング用の
非線形素子が形成される場合があるので、境界用遮光膜
9、その他の層については、TFDやTFTなどを形成
する工程の一部を利用して形成してもよい。
In the liquid crystal device 1, since a non-linear element for pixel switching such as TFD or TFT may be formed on the side of the first substrate 10, the boundary light-shielding film 9 and other layers are It may be formed by utilizing a part of the process of forming TFD, TFT, and the like.

【0060】[実施の形態2]図3(A)、(B)はそ
れぞれ、本形態の液晶装置にマトリクス状に形成されて
いる複数の画素領域のうちの1つを抜き出して模式的に
示す平面図、およびそのB−B′断面図である。なお、
本形態の液晶装置は、基本的な構成が実施の形態1と共
通するので、共通する機能を有する部分には同一の符号
を付してそれらの説明を省略する。また、製造方法も実
施の形態1と同様であるので、その説明を省略する。
[Embodiment 2] FIGS. 3A and 3B schematically show one of a plurality of pixel regions formed in a matrix in the liquid crystal device of this embodiment. It is a top view and its BB 'sectional drawing. In addition,
Since the liquid crystal device of this embodiment has a basic configuration in common with that of the first embodiment, parts having common functions are designated by the same reference numerals and their description is omitted. The manufacturing method is also the same as that of the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

【0061】図3(A)、(B)に示す画素領域も、実
施の形態1と同様、後述するアクティブマトリクス型液
晶装置のうち、画素スイッチング用の非線形素子とし
て、TFDおよびTFTのいずれを用いた場合にも共通
する部分を抜き出して示してある。ここに示す液晶装置
1も、第1の透明電極11が表面に形成された透明な第
1の基板10と、第1の電極11と対向する面側に第2
の透明電極21が形成された第2の基板20と、第1の
基板10と第2の基板20との間に保持されたTNモー
ドの液晶からなる液晶層50とを有しており、第1の透
明電極11と第2の透明電極21とが対向する領域が表
示に直接、寄与する画素領域3となっている。
Similarly to the first embodiment, the pixel region shown in FIGS. 3A and 3B uses either TFD or TFT as a non-linear element for pixel switching in the active matrix type liquid crystal device described later. The common parts are extracted and shown even when there is. The liquid crystal device 1 shown here also includes a transparent first substrate 10 having a first transparent electrode 11 formed on the surface thereof, and a second substrate 10 on the side facing the first electrode 11.
And a liquid crystal layer 50 made of TN mode liquid crystal held between the first substrate 10 and the second substrate 20. The region where the first transparent electrode 11 and the second transparent electrode 21 face each other is the pixel region 3 that directly contributes to the display.

【0062】また、第1の基板10において、第1の透
明電極11の表面には配向膜12が形成され、第2の基
板20において、第2の透明電極21の表面には配向膜
22が形成されている。ここで、配向膜12、22は、
ポリイミド膜などを塗布、焼成後、所定の方向にラビン
グ処理を施してなるもので、このラビング処理によっ
て、配向膜12、22は、液晶層50を構成する液晶分
子を90°以下のツイスト角で配向させ、画素領域3の
四辺のうち、図面における下側(6時方向)の位置が明
視方向になっている。
On the first substrate 10, the alignment film 12 is formed on the surface of the first transparent electrode 11, and on the second substrate 20, the alignment film 22 is formed on the surface of the second transparent electrode 21. Has been formed. Here, the alignment films 12 and 22 are
A polyimide film or the like is applied and baked, and then a rubbing process is performed in a predetermined direction. By this rubbing process, the alignment films 12 and 22 form liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer 50 at a twist angle of 90 ° or less. Of the four sides of the pixel region 3, the lower side (6 o'clock direction) position in the drawing is the clear viewing direction.

【0063】液晶装置1において、画素領域3はマトリ
クス状に多数、形成されているが、これらの画素領域3
同士の境界領域を平面的にみると、第2の基板20に形
成されているブラックマクスやブラックストライプと称
せられる遮光膜9、あるいは第1の基板10の側に形成
された遮光性の配線(図示せず)が通っている。従っ
て、画素領域3は、平面的には遮光膜9や遮光性の配線
によって周りを囲まれた状態にある。
In the liquid crystal device 1, a large number of pixel regions 3 are formed in a matrix, and these pixel regions 3 are formed.
When the boundary area between them is seen in a plan view, the light-shielding film 9 called black mask or black stripe formed on the second substrate 20, or the light-shielding wiring formed on the first substrate 10 side ( (Not shown) is passing. Therefore, the pixel region 3 is in a state of being surrounded by the light shielding film 9 and the light shielding wiring in a plan view.

【0064】第1の基板10には、第1の透明電極11
と第2の透明電極21とが対向する矩形の画素領域3に
反射表示領域31を構成する矩形の光反射層4(図3
(A)に右下がりの斜線領域で示す)がアルミニウム膜
や銀合金膜によって形成され、この光反射層4には矩形
の開口40が形成されている。このため、画素領域3に
おいて、光反射層4が形成されている領域は反射表示領
域31となっているが、開口40に相当する領域は、光
反射層4が形成されていない矩形の透過表示領域32に
なっている。ここで、透過表示領域32の四辺のうち、
明視方向(6時側)に位置する辺33は、画素領域の辺
34と重なっている。また、透過表示領域32の四辺の
うち、明視方向(6時側)に位置する辺33と隣接する
辺35、36はそれぞれ、画素領域3の辺37、38と
重なっている。
The first transparent electrode 11 is formed on the first substrate 10.
And the second transparent electrode 21 are opposed to each other, the rectangular light reflection layer 4 forming the reflective display area 31 in the rectangular pixel area 3 (see FIG. 3).
(Indicated by a hatched area in the lower right direction in (A)) is formed of an aluminum film or a silver alloy film, and a rectangular opening 40 is formed in the light reflecting layer 4. Therefore, in the pixel region 3, the region where the light reflection layer 4 is formed is the reflection display region 31, but the region corresponding to the opening 40 is a rectangular transmissive display where the light reflection layer 4 is not formed. It is an area 32. Here, of the four sides of the transparent display area 32,
The side 33 located in the clear viewing direction (6 o'clock side) overlaps the side 34 of the pixel region. Further, among the four sides of the transmissive display area 32, the sides 35 and 36 adjacent to the side 33 located in the clear view direction (6 o'clock side) overlap the sides 37 and 38 of the pixel area 3, respectively.

【0065】また、透過表示領域32の明視方向側に位
置する辺33に隣接して、隣の画素領域の反射表示領域
31aが形成されている。
Further, a reflective display area 31a of an adjacent pixel area is formed adjacent to the side 33 located on the side of the transparent display area 32 in the clear viewing direction.

【0066】第1の基板10および第2の基板20の各
々の外側の面には偏光板41、42が配置され、偏光板
41の側にはバックライト装置7が対向配置されてい
る。
Polarizing plates 41 and 42 are disposed on the outer surfaces of the first substrate 10 and the second substrate 20, respectively, and the backlight device 7 is disposed opposite to the polarizing plate 41 side.

【0067】このように構成した液晶装置1において、
バックライト装置7から出射された光のうち、透過表示
領域32に入射した光は、矢印L1で示すように、第1
の基板10の側から液晶層50に入射し、そこで、光変
調された後、第2の基板20の側から透過表示光として
出射されて画像を表示する(透過モード)。
In the liquid crystal device 1 thus constructed,
Of the light emitted from the backlight device 7, the light incident on the transmissive display region 32 is the first light as indicated by the arrow L1.
The light enters the liquid crystal layer 50 from the side of the substrate 10, is light-modulated therein, and then is emitted as transmission display light from the side of the second substrate 20 to display an image (transmission mode).

【0068】また、第2の基板20の側から入射した外
光のうち、反射表示領域31に入射した光は、矢印L2
で示すように、液晶層50を通って反射層4に届き、こ
の反射層4で反射されて再び、液晶層50を通って第2
の基板20の側から反射表示光として出射されて画像を
表示する(反射モード)。
Of the external light incident from the second substrate 20 side, the light incident on the reflective display area 31 is indicated by the arrow L2.
As shown in FIG. 2, the light reaches the reflective layer 4 through the liquid crystal layer 50, is reflected by the reflective layer 4, and again passes through the liquid crystal layer 50 to the second layer.
The image is displayed by being emitted as reflection display light from the substrate 20 side (reflection mode).

【0069】ここで、第1の基板10上には、反射表示
領域31および透過表示領域32の各々に反射表示用カ
ラーフィルタ81および透過表示用カラーフィルタ82
が形成されているので、カラー表示が可能である。透過
表示用カラーフィルタ82としては、顔料が多量に配合
されているなど、反射表示用カラーフィルタ81よりも
着色度が強いものが用いられている。ここで、反射表示
用カラーフィルタ81の端縁は、光反射層4の端縁と平
面的に重なる位置にある。
Here, on the first substrate 10, a reflective display color filter 81 and a transmissive display color filter 82 are provided in each of the reflective display area 31 and the transmissive display area 32.
Is formed, color display is possible. As the transmissive display color filter 82, a filter having a higher degree of coloring than the reflective display color filter 81, such as a large amount of pigment, is used. Here, the end edge of the reflective display color filter 81 is located at a position where it overlaps with the end edge of the light reflection layer 4 in plan view.

【0070】このような半透過・反射型の液晶装置1に
おいて、透過表示光は、液晶層50を一度だけ通過して
出射されるのに対して、反射表示光は、液晶層50を2
度、通過することになる。そこで、第1の基板10にお
いて、第1の透明電極11の下層側、かつ、光反射層4
の上層側には、透過表示領域32に相当する領域が開口
61となっている感光性樹脂層からなる層厚調整層6が
形成されている。従って、透過表示領域32では、反射
表示領域31と比較して、層厚調整層6の膜厚分だけ、
液晶層50の層厚dが大きいので、透過表示光および反
射表示光の双方に対してリターデーションΔn・dを最
適化できる。
In such a semi-transmissive / reflective liquid crystal device 1, the transmissive display light passes through the liquid crystal layer 50 only once and is emitted, while the reflective display light passes through the liquid crystal layer 50.
It will pass once. Therefore, in the first substrate 10, the lower layer side of the first transparent electrode 11 and the light reflection layer 4
On the upper layer side, a layer thickness adjusting layer 6 made of a photosensitive resin layer having an opening 61 in a region corresponding to the transmissive display region 32 is formed. Therefore, in the transmissive display area 32, as compared with the reflective display area 31, only the film thickness of the layer thickness adjusting layer 6 is
Since the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 is large, the retardation Δn · d can be optimized for both the transmitted display light and the reflected display light.

【0071】この層厚調整層6を形成する際にはフォト
リソグラフィ技術が用いられるが、その際の露光精度、
あるいは現像の際のサイドエッチングなどが原因で、層
厚調整層6は、反射表示領域31と透過表示領域32と
の境界部分が斜め上向きの斜面60になっており、この
斜面60を平面的にみると8μmの幅をもって形成され
ている状態にある。従って、透過表示領域32との境界
部分では、液晶層50の層厚dが連続的に変化する結
果、リターデーションΔn・dも連続的に変化してい
る。また、液晶層50に含まれる液晶分子は、第1の基
板10および第2の基板20の最表層に形成した配向膜
12、22によって初期の配向状態が規定されている
が、斜面60では、配向膜12の配向規制力が斜めに作
用するので、この部分では液晶分子の配向が乱れてい
る。
When the layer thickness adjusting layer 6 is formed, a photolithography technique is used. The exposure accuracy at that time is
Alternatively, due to side etching or the like at the time of development, in the layer thickness adjusting layer 6, the boundary portion between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32 is an obliquely upward slope 60. When viewed, it is in a state of being formed with a width of 8 μm. Therefore, at the boundary with the transmissive display region 32, the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 changes continuously, and as a result, the retardation Δn · d also changes continuously. The initial alignment state of the liquid crystal molecules contained in the liquid crystal layer 50 is defined by the alignment films 12 and 22 formed on the outermost layers of the first substrate 10 and the second substrate 20, but on the slope 60, Since the alignment regulating force of the alignment film 12 acts diagonally, the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed in this portion.

【0072】このような不安定な状態にある境界領域
は、表示の品位を低下させる原因となる。そこで、本形
態では、反射モードでの表示品位の向上を目的として、
図2に拡大して示したように、反射表示領域31と透過
表示領域32との境界領域では、光反射層4の端縁45
が、層厚調整層6の端部に形成されている斜面60の上
端縁65と平面的に重なっている。
The boundary region in such an unstable state causes deterioration of display quality. Therefore, in the present embodiment, in order to improve the display quality in the reflection mode,
As shown in an enlarged manner in FIG. 2, in the boundary area between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32, the edge 45 of the light reflective layer 4 is formed.
Is planarly overlapped with the upper edge 65 of the slope 60 formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6.

【0073】このため、本形態では、反射表示領域31
と透過表示領域32との境界領域において、層厚調整層
6の端部に形成されている斜面60と平面的に重なる領
域には、光反射層4が形成されていない。従って、反射
表示領域31と透過表示領域32との境界領域(層厚調
整層6が端部で斜面60となっている領域)からは光が
反射してこない。なお、反射表示領域31と透過表示領
域32との境界領域(層厚調整層6が端部で斜面60と
なっている領域)からは光が透過してくるが、図26
(B)を参照して説明したように、透過光での光の漏れ
のレベルは、反射光での光の漏れと比較して著しく低
い。それ故、反射表示領域31と透過表示領域32との
境界領域において、層厚調整層6の厚さが連続的に変化
してリターデーションΔn・dが連続的に変化したとし
ても、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、反
射モードにおいて、このような領域で反射光が漏れてく
るおそれがない。よって、コントラストが高い、品位の
高い表示を行うことができる。また、反射表示領域31
と透過表示領域32との境界領域全体を遮光膜で覆った
場合と比較して、表示光量が低減しないので、明るい表
示を行うことができるなど、実施の形態1と同様な効果
を奏する。
Therefore, in the present embodiment, the reflective display area 31
In the boundary region between the transparent display region 32 and the transmissive display region 32, the light reflection layer 4 is not formed in a region that planarly overlaps with the slope 60 formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6. Therefore, no light is reflected from the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32 (the region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end). Note that light is transmitted from the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32 (region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end), as shown in FIG.
As described with reference to (B), the level of light leakage in transmitted light is significantly lower than that in reflected light. Therefore, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer 6 changes continuously and the retardation Δn · d changes continuously in the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32, the liquid crystal is also changed. Even if the orientation of the molecules is disturbed, there is no possibility that reflected light leaks in such a region in the reflection mode. Therefore, display with high contrast and high quality can be performed. In addition, the reflective display area 31
Compared to the case where the entire boundary area between the transparent display area 32 and the transmissive display area 32 is covered with a light-shielding film, the amount of display light is not reduced, so that bright display can be performed, and similar effects to those of the first embodiment are achieved.

【0074】また、本形態では、透過表示領域32の四
辺のうち、明視方向(6時側)に位置する辺33は、画
素領域の辺34と重なっており、この部分は遮光膜9と
平面的に重なっている。このため、透過表示領域32の
周りのうち、明視方向側で光の漏れが発生しやすい傾向
にあるが、ここから漏れようとする光は、遮光膜9で遮
られて出射されない。それ故、コントラストが高い、品
位の高い表示を行うことができる。
Further, in the present embodiment, among the four sides of the transmissive display area 32, the side 33 located in the clear viewing direction (6 o'clock side) overlaps with the side 34 of the pixel area, and this portion serves as the light shielding film 9. It overlaps in a plane. For this reason, there is a tendency that light leaks around the transmissive display region 32 on the clear viewing direction side, but the light that is about to leak from this is blocked by the light shielding film 9 and is not emitted. Therefore, high-quality display with high contrast can be performed.

【0075】さらに、透過表示領域32の四辺のうち、
辺35、36も、画素領域3の辺37、38と重なって
おり、この部分は遮光膜9と平面的に重なっている。こ
のため、透過表示領域32の辺35、36に相当する領
域から漏れようとする光は、遮光膜9で遮られて出射さ
れない。それ故、コントラストが高い、品位の高い表示
を行うことができる。
Further, among the four sides of the transparent display area 32,
The sides 35 and 36 also overlap the sides 37 and 38 of the pixel region 3, and this part overlaps the light shielding film 9 in plan view. Therefore, the light that is about to leak from the areas corresponding to the sides 35 and 36 of the transmissive display area 32 is blocked by the light shielding film 9 and is not emitted. Therefore, high-quality display with high contrast can be performed.

【0076】さらに、透過表示領域32の明視方向側の
辺33に隣接して、隣の反射表示領域31aが形成され
ているので、この透過表示領域32と隣の反射表示領域
31aとの境界領域(層厚調整層6が端部で斜面60と
なっている領域)で漏れようとする光は、遮光膜9で遮
られる。したがって、層厚調整層6が斜面60となって
いる領域でリターデーションΔn・dが連続的に変化し
たとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとして
も、ここから漏れる光が光層9で遮られるので、これに
より、コントラストを向上させ、表示の品位を向上させ
ることができる。
Further, since the adjacent reflective display area 31a is formed adjacent to the side 33 of the transparent display area 32 on the visible direction side, the boundary between the transparent display area 32 and the adjacent reflective display area 31a. Light that is about to leak in the region (region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end) is blocked by the light shielding film 9. Therefore, even if the retardation Δn · d changes continuously in the region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60, or even if the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed, the light leaking from here is not emitted from the optical layer. Since it is blocked by 9, the contrast can be improved and the display quality can be improved.

【0077】[実施の形態3]図4(A)、(B)、
(C)はそれぞれ、液晶装置にマトリクス状に形成され
ている複数の画素領域のうちの1つを抜き出して模式的
に示す平面図、そのA−A′断面図、およびB−B′断
面図である。図5は、この液晶装置に形成した光反射層
と層厚調整層の位置関係を示す説明図である。
[Third Embodiment] FIGS. 4A, 4B,
FIG. 3C is a plan view schematically showing one of a plurality of pixel regions formed in a matrix in the liquid crystal device, the plan view thereof being taken along the line AA ′, and the cross section taken along the line BB ′. Is. FIG. 5 is an explanatory view showing the positional relationship between the light reflecting layer and the layer thickness adjusting layer formed in this liquid crystal device.

【0078】上記形態1、2はいずれも、反射光の漏れ
を防止する点に特徴を有しているのに対して、本形態お
よび後述する実施の形態4は、いずれも透過光の漏れを
防止する点に特徴を有し、その他の構成は共通してい
る。従って、以下の説明では、共通する機能を有する部
分については同一の符号を付して図示し、それらの説明
を省略する。
Both of the first and second embodiments are characterized in that the leakage of the reflected light is prevented, whereas the present embodiment and the fourth embodiment described later both have the leakage of the transmitted light. It is characterized in that it is prevented, and other configurations are common. Therefore, in the following description, the parts having the common function are denoted by the same reference numerals and illustrated, and the description thereof will be omitted.

【0079】図4(A)、(B)、(C)、および図5
において、本形態では、透過モードでの表示品位の向上
を目的として、反射表示領域31と透過表示領域32と
の境界領域では、光反射層4の端縁45が、層厚調整層
6の端部に形成されている斜面60の下端縁66と平面
的に重なっている。また、反射表示用カラーフィルタ8
1の端縁は、光反射層4の端縁と平面的に重なる位置に
ある。
4 (A), (B), (C), and FIG.
In the present embodiment, in order to improve the display quality in the transmissive mode, in the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32, the edge 45 of the light reflection layer 4 is the edge of the layer thickness adjusting layer 6. The lower end edge 66 of the slope 60 formed in the section is overlapped in a plane. In addition, the reflective display color filter 8
The edge of No. 1 is located at a position that overlaps with the edge of the light reflection layer 4 in a plane.

【0080】このため、本形態では、反射表示領域31
と透過表示領域32との境界領域において、層厚調整層
6の端部に形成されている斜面60には光反射層4が平
面的に重なっている。従って、反射表示領域31と透過
表示領域32との境界領域(層厚調整層6が端部で斜面
60となっている領域)からは光が透過してこない。そ
れ故、反射表示領域31と透過表示領域32との境界領
域においては、層厚調整層6の厚さが連続的に変化して
リターデーションΔn・dが連続的に変化したとして
も、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、透過
モードにおいて、このような領域で光が漏れるおそれが
ない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を
行うことができる。また、反射表示領域31と透過表示
領域32との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較
して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うこ
とができる。
Therefore, in the present embodiment, the reflective display area 31
In the boundary region between the transparent display region 32 and the transmissive display region 32, the light reflection layer 4 is planarly overlapped with the slope 60 formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6. Therefore, no light is transmitted from the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32 (the region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end). Therefore, in the boundary area between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer 6 changes continuously and the retardation Δn · d changes continuously, Even if the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed, there is no possibility that light leaks in such a region in the transmission mode. Therefore, display with high contrast and high quality can be performed. Further, compared with the case where the entire boundary area between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32 is covered with a light-shielding film, the amount of display light is not reduced, so bright display can be performed.

【0081】また、本形態では、透過表示領域32の四
辺のうち、明視方向(6時側)に位置する辺33は、画
素領域の辺34と重なっており、この部分は遮光膜9と
平面的に重なっている。このため、透過表示領域32の
周りのうち、明視方向側で光の漏れが発生しやすい傾向
にあるが、ここから漏れようとする光は、遮光膜9で遮
られて出射されない。それ故、コントラストが高い、品
位の高い表示を行うことができる。
Further, in the present embodiment, among the four sides of the transmissive display area 32, the side 33 located in the clear viewing direction (at 6 o'clock) overlaps the side 34 of the pixel area, and this portion serves as the light shielding film 9. It overlaps in a plane. For this reason, there is a tendency that light leaks around the transmissive display region 32 on the clear viewing direction side, but the light that is about to leak from this is blocked by the light shielding film 9 and is not emitted. Therefore, high-quality display with high contrast can be performed.

【0082】さらに、透過表示領域32の明視方向側の
辺33に隣接して、隣の反射表示領域31aが形成され
ているので、この透過表示領域32と隣の反射表示領域
31aとの境界領域(層厚調整層6が端部で斜面60と
なっている領域)で漏れようとする光は、遮光膜9で遮
られる。したがって、層厚調整層6が斜面60となって
いる領域でリターデーションΔn・dが連続的に変化し
たとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとして
も、ここから漏れる光は遮光層9で遮られるので、これ
により、コントラストを向上させ、表示の品位を向上さ
せることができる。
Further, since the adjacent reflective display area 31a is formed adjacent to the side 33 of the transparent display area 32 on the visible direction side, the boundary between the transparent display area 32 and the adjacent reflective display area 31a. Light that is about to leak in the region (region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end) is blocked by the light shielding film 9. Therefore, even if the retardation Δn · d continuously changes in the region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60, or if the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed, the light leaking from here is shielded from the light. Since it is blocked by 9, the contrast can be improved and the display quality can be improved.

【0083】[実施の形態4]図6(A)、(B)はそ
れぞれ、液晶装置にマトリクス状に形成されている複数
の画素領域のうちの1つを抜き出して模式的に示す平面
図、およびそのB−B′断面図である。
[Embodiment 4] FIGS. 6A and 6B are plan views schematically showing one of a plurality of pixel regions formed in a matrix in a liquid crystal device. 3 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG.

【0084】図6(A)、(B)および図5において、
本形態でも、実施の形態3と同様、透過モードでの表示
品位の向上を目的として、反射表示領域31と透過表示
領域32との境界領域では、光反射層4の端縁45が、
層厚調整層6の端部に形成されている斜面60の下端縁
66と平面的に重なっている。また、反射表示用カラー
フィルタ81の端縁は、光反射層4の端縁と平面的に重
なる位置にある。
6 (A), (B) and FIG.
Also in the present embodiment, as in the case of the third embodiment, in order to improve the display quality in the transmissive mode, the edge 45 of the light reflection layer 4 in the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32 is
The lower end edge 66 of the inclined surface 60 formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6 is planarly overlapped. Further, the edge of the reflective display color filter 81 is located at a position where it overlaps with the edge of the light reflection layer 4 in a plane.

【0085】このため、本形態では、反射表示領域31
と透過表示領域32との境界領域において、層厚調整層
6の端部に形成されている斜面60には光反射層4が平
面的に重なっている。従って、反射表示領域31と透過
表示領域32との境界領域(層厚調整層6が端部で斜面
60となっている領域)からは光が透過してこない。そ
れ故、反射表示領域31と透過表示領域32との境界領
域においては、層厚調整層6の厚さが連続的に変化して
リターデーションΔn・dが連続的に変化したとして
も、また、液晶分子の配向が乱れていたとしても、透過
モードにおいて、このような領域で光が漏れるおそれが
ない。よって、コントラストが高い、品位の高い表示を
行うことができる。また、反射表示領域31と透過表示
領域32との境界領域全体を遮光膜で覆った場合と比較
して、表示光量が低減しないので、明るい表示を行うこ
とができる。
Therefore, in the present embodiment, the reflective display area 31
In the boundary region between the transparent display region 32 and the transmissive display region 32, the light reflection layer 4 is planarly overlapped with the slope 60 formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6. Therefore, no light is transmitted from the boundary region between the reflective display region 31 and the transmissive display region 32 (the region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end). Therefore, in the boundary area between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32, even if the thickness of the layer thickness adjusting layer 6 changes continuously and the retardation Δn · d changes continuously, Even if the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed, there is no possibility that light leaks in such a region in the transmission mode. Therefore, display with high contrast and high quality can be performed. Further, compared with the case where the entire boundary area between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32 is covered with a light-shielding film, the amount of display light is not reduced, so bright display can be performed.

【0086】また、本形態では、透過表示領域32の四
辺のうち、明視方向(6時側)に位置する辺33は、画
素領域3の辺34と重なっており、この部分は遮光膜9
と平面的に重なっている。このため、透過表示領域32
の周りのうち、明視方向側で光の漏れが発生しやすい傾
向にあるが、ここから漏れようとする光は、遮光膜9で
遮られて出射されない。それ故、コントラストが高い、
品位の高い表示を行うことができる。
In the present embodiment, among the four sides of the transmissive display area 32, the side 33 located in the clear viewing direction (6 o'clock side) overlaps the side 34 of the pixel area 3, and this portion is shielded by the light-shielding film 9.
It overlaps with the plane. Therefore, the transparent display area 32
The light tends to leak on the side of the clear view in the vicinity of, but the light which is about to leak from this side is blocked by the light shielding film 9 and is not emitted. Therefore, the contrast is high,
High-quality display can be performed.

【0087】さらに、透過表示領域32の明視方向側の
辺33に隣接して、隣の反射表示領域31aが形成され
ているので、この透過表示領域32と隣の反射表示領域
31aとの境界領域(層厚調整層6が端部で斜面60と
なっている領域)で漏れようとする光は、遮光膜9で遮
られる。したがって、層厚調整層6が斜面60となって
いる領域でリターデーションΔn・dが連続的に変化し
たとしても、また、液晶分子の配向が乱れていたとして
も、ここから漏れる光が遮光層9で遮られるので、これ
により、コントラストを向上させ、表示の品位を向上さ
せることができる。
Further, since the adjacent reflective display area 31a is formed adjacent to the side 33 of the transparent display area 32 on the side of the clear view, the boundary between the transparent display area 32 and the adjacent reflective display area 31a. Light that is about to leak in the region (region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60 at the end) is blocked by the light shielding film 9. Therefore, even if the retardation Δn · d changes continuously in the region where the layer thickness adjusting layer 6 is the slope 60, or even if the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed, the light leaking from here is shielded from the light. Since it is blocked by 9, the contrast can be improved and the display quality can be improved.

【0088】さらに、透過表示領域32の四辺のうち、
辺35、36も、画素領域3の辺37、38と重なって
おり、この部分は遮光膜9と平面的に重なっている。こ
のため、透過表示領域32の辺35、36に相当する領
域から漏れようとする光は、遮光膜9で遮られて出射さ
れない。それ故、コントラストが高い、品位の高い表示
を行うことができる。
Further, among the four sides of the transparent display area 32,
The sides 35 and 36 also overlap the sides 37 and 38 of the pixel region 3, and this part overlaps the light shielding film 9 in plan view. Therefore, the light that is about to leak from the areas corresponding to the sides 35 and 36 of the transmissive display area 32 is blocked by the light shielding film 9 and is not emitted. Therefore, high-quality display with high contrast can be performed.

【0089】[実施の形態5]図7は、図1に示した実
施の形態1の変形例を示すもので、図7(A)、(B)
はそれぞれ、液晶装置にマトリクス状に形成されている
複数の画素領域のうちの1つを抜き出して模式的に示す
平面図、およびそのB−B′断面図である。なお、本形
態の液晶装置において、実施の形態1と同一の構成要素
には同一の符号を付して説明を省略する。
[Fifth Embodiment] FIG. 7 shows a modification of the first embodiment shown in FIG. 1 and is shown in FIGS.
2A is a plan view schematically showing one of a plurality of pixel regions formed in a matrix in a liquid crystal device, and a BB ′ cross-sectional view thereof. FIG. In addition, in the liquid crystal device of the present embodiment, the same components as those of the first embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0090】本形態が、前記実施の形態1と大きく異な
る点は、透過表示領域32と隣の反射表示領域31aと
の境界領域において、反射表示用カラーフィルタ81と
透過表示用カラーフィルタ82との間に遮光膜9aが設
けられている点である。この遮光膜9aと透過表示用カ
ラーフィルタ82との境界は、層厚調整層6の端部に形
成されている斜面60の下端縁66と平面的にほぼ重な
っており、遮光膜9aと反射表示用カラーフィルタ81
との境界および光反射層4と遮光膜9aとの境界は、斜
面60の上端縁65と平面的にほぼ重なっている。
The present embodiment is largely different from the first embodiment in that the reflective display color filter 81 and the transmissive display color filter 82 are formed in the boundary area between the transmissive display area 32 and the adjacent reflective display area 31a. The point is that the light-shielding film 9a is provided therebetween. The boundary between the light-shielding film 9a and the color filter 82 for transmissive display substantially planarly overlaps with the lower end edge 66 of the slope 60 formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6, and the light-shielding film 9a and the reflective display are provided. Color filter 81
And the boundary between the light reflection layer 4 and the light shielding film 9a substantially overlap with the upper edge 65 of the slope 60 in plan view.

【0091】遮光膜9aは、例えばカーボンブラックを
含有させたアクリル系樹脂を用いて構成され、スピンコ
ーターで塗布後、パターニングを行うことによって形成
することができる。
The light shielding film 9a is made of, for example, an acrylic resin containing carbon black, and can be formed by applying a pattern with a spin coater and then patterning.

【0092】かかる構成によれば、前記実施の形態1と
同様の作用効果が得られるほか、特に透過表示領域32
と隣の反射表示領域31aとの境界領域において、反射
表示用カラーフィルタ81と透過表示用カラーフィルタ
82との間に遮光膜9aが設けられており、層厚調整層
6が端部で斜面60となっている領域が、遮光層9aと
平面的に重なっているので、この境界領域から光が漏れ
るおそれがない。またこの境界領域は、元々隣接する画
素領域同士の境界でもあり、遮光性の膜や配線が形成さ
れる領域であるので、反射表示用カラーフィルタ8と透
過表示用カラーフィルタ82との間に遮光膜9aを設け
ることによる表示光量の減少量が少なくて済む。したが
って、層厚調整層6の斜面60から漏れる光を効果的に
遮光して、コントラストの向上および表示品位の向上を
図ることができる。
According to this structure, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and in particular, the transparent display area 32 is provided.
In the boundary area between the reflective display area 31a and the adjacent reflective display area 31a, the light shielding film 9a is provided between the reflective display color filter 81 and the transmissive display color filter 82, and the layer thickness adjusting layer 6 is provided at the end portion of the slope 60. Since the area defined by the two-dimensionally overlaps the light-shielding layer 9a in a plane, there is no risk of light leaking from this boundary area. Further, this boundary area is also a boundary between pixel areas which are originally adjacent to each other and is an area where a light-shielding film or wiring is formed. By providing the film 9a, the amount of decrease in the amount of display light can be small. Therefore, the light leaking from the slope 60 of the layer thickness adjusting layer 6 can be effectively shielded, and the contrast and the display quality can be improved.

【0093】なお、ここでは説明を省略するが、前記実
施の形態2においても同様に、透過表示領域32と隣の
反射表示領域31aとの境界領域において、反射表示用
カラーフィルタ81と透過表示用カラーフィルタ82と
の間に、本形態と同様の遮光膜9aを設けてもよい。
Although not described here, similarly in the second embodiment, in the boundary area between the transmissive display area 32 and the adjacent reflective display area 31a, the color filter 81 for reflective display and the color filter for transmissive display 81 are also provided. A light-shielding film 9a similar to that of the present embodiment may be provided between the color filter 82 and the color filter 82.

【0094】[実施の形態6]図8は、本形態の液晶装
置の下基板における各層の位置関係を示す説明図であ
る。本形態が前記実施の形態1と大きく異なる点は、層
厚調整層6の端部に斜面60が形成されている領域にお
いて、反射表示用カラーフィルタ81aの端部と透過表
示用カラーフィルタ82aの端部とが重なり合ってオー
バーラップ部83が形成されている点である。なお、本
形態の液晶装置において、実施の形態1と同一の構成要
素には同一の符号を付して説明を省略する。
[Sixth Embodiment] FIG. 8 is an explanatory view showing the positional relationship of each layer on the lower substrate of the liquid crystal device of the present embodiment. The present embodiment is largely different from the first embodiment in that in the region where the slope 60 is formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6, the end of the reflective display color filter 81a and the transmissive display color filter 82a are formed. This is the point where the overlap portion 83 is formed by overlapping with the end portions. In addition, in the liquid crystal device of the present embodiment, the same components as those of the first embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0095】本形態において、第1の基板10上にはア
ルミニウム膜や銀合金膜等からなる光反射層4が形成さ
れ、この光反射層4には矩形の開口40が形成されてい
る。このため、画素領域において、光反射層4が形成さ
れている領域は反射表示領域31となっているが、開口
40に相当する領域は、光反射層4が形成されていない
矩形の透過表示領域32になっている。光反射層4の端
縁は層厚調整層6の端部に形成されている斜面60の上
端縁65と平面的にほぼ重なっている。
In the present embodiment, the light reflecting layer 4 made of an aluminum film, a silver alloy film or the like is formed on the first substrate 10, and the light reflecting layer 4 has a rectangular opening 40 formed therein. Therefore, in the pixel region, the region where the light reflection layer 4 is formed is the reflection display region 31, but the region corresponding to the opening 40 is a rectangular transmission display region where the light reflection layer 4 is not formed. It is 32. The edge of the light reflection layer 4 substantially overlaps with the upper edge 65 of the slope 60 formed at the edge of the layer thickness adjusting layer 6 in plan view.

【0096】また、光反射層4上には反射表示用カラー
フィルタ81aが形成されており、この反射表示用カラ
ーフィルタ81aの端縁は、層厚調整層6の端部に形成
されている斜面60の下端縁66とほぼ平面的に重なっ
ている。
A reflective display color filter 81a is formed on the light reflecting layer 4, and the edge of the reflective display color filter 81a is a slope formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6. The lower end edge 66 of 60 overlaps substantially flatly.

【0097】一方、光反射層4の開口40内において
は、第1の基板10上に透過表示用カラーフィルタ82
aが形成されている。この透過表示用カラーフィルタ8
2aの端縁は、層厚調整層6の端部に形成されている斜
面60の上端縁65とほぼ平面的に重なっており、層厚
調整層6の端部に斜面60が形成されている領域におい
ては、反射表示用カラーフィルタ81aの端部上に透過
表示用カラーフィルタ82aの端部が積層されたオーバ
ーラップ部83が形成されている。透過表示用カラーフ
ィルタ82aの上面はオーバーラップ部83で若干盛り
上がっており、オーバーラップ部83における反射表示
用カラーフィルタ81aと透過表示用カラーフィルタ8
2aの合計の膜厚は、他の部分での反射表示用カラーフ
ィルタ81aの膜厚および透過表示用カラーフィルタ8
2aの膜厚のいずれよりも厚くなっている。
On the other hand, in the opening 40 of the light reflecting layer 4, the color filter 82 for transmissive display is formed on the first substrate 10.
a is formed. This transparent display color filter 8
The edge of 2a substantially planarly overlaps the upper edge 65 of the slope 60 formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6, and the slope 60 is formed at the end of the layer adjusting layer 6. In the region, an overlap portion 83 is formed in which the end portion of the transmissive display color filter 82a is laminated on the end portion of the reflective display color filter 81a. The upper surface of the transmissive display color filter 82a is slightly raised at the overlap portion 83, and the reflective display color filter 81a and the transmissive display color filter 8 in the overlap portion 83 are slightly raised.
The total film thickness of 2a is the same as the film thickness of the reflective display color filter 81a and the transmissive display color filter 8 in other portions.
It is thicker than any of the film thicknesses of 2a.

【0098】かかる構成を有する下基板は、例えば以下
のようにして形成することができる。
The lower substrate having such a structure can be formed, for example, as follows.

【0099】まず、前記実施の形態1と同様にして、第
1の基板10の全面に反射性の金属膜を形成した後、フ
ォトリソグラフィ技術を利用して、この金属膜をパター
ニングして光反射層4を形成する。
First, as in the first embodiment, a reflective metal film is formed on the entire surface of the first substrate 10, and then the metal film is patterned using photolithography to reflect light. Form layer 4.

【0100】次に、フレキソ印刷法やインクジェット法
等を利用して、第1の基板10の全面上に反射表示用カ
ラーフィルタ81aを形成した後、フォトリグラフィ技
術を用いて不要部分(透過表示領域32のうちのオーバ
ーラップ部83を除く部分)を除去する。
Next, after the reflective display color filter 81a is formed on the entire surface of the first substrate 10 by using a flexographic printing method, an ink jet method or the like, an unnecessary portion (transmissive display area) is formed by using a photolithography technique. The portion of 32 except the overlapping portion 83) is removed.

【0101】次いで、フレキソ印刷法、インクジェット
法、フォトリグラフィ技術等を用いて透過表示領域32
に透過表示用カラーフィルタ82aを形成する。
Next, the transmissive display area 32 is formed by using a flexographic printing method, an ink jet method, a photolithography technique or the like.
A color filter 82a for transmissive display is formed on.

【0102】次に、スピンコート法を利用して、第1の
基板10の全面に感光性樹脂を塗布した後、露光、現像
して層厚調整層6を形成する。
Next, a layer thickness adjusting layer 6 is formed by applying a photosensitive resin on the entire surface of the first substrate 10 by using a spin coating method, and then exposing and developing it.

【0103】この後、前記実施の形態1と同様にして、
第1の透明電極11および配向膜12(いずれも図示
略)を形成する。
After that, in the same manner as in the first embodiment,
A first transparent electrode 11 and an alignment film 12 (neither shown) are formed.

【0104】本形態によれば、層厚調整層6の端部に斜
面60が形成されている領域と平面的に重なるようにオ
ーバーラップ部83が形成されており、この領域には光
反射層4は形成されていない。したがって、斜面60が
形成されている領域においては、バックライトからの光
がオーバーラップ部83を透過した後に液晶層を通って
出射されるので、視覚的に目立たなくなる。これにより
斜面60で形成されている領域で生じる表示不良を目立
たなくして、コントラストの向上、表示品位の向上を図
ることができる。また、反射表示領域31と透過表示領
域32との境界領域に、表示に寄与しないオーバーラッ
プ部83が設けられているので、製造工程で生じる誤差
による表示不良が生じ難い。
According to this embodiment, the overlap portion 83 is formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6 so as to overlap with the area where the slope 60 is formed, and the light reflecting layer is formed in this area. No. 4 is not formed. Therefore, in the region where the slope 60 is formed, the light from the backlight is emitted through the liquid crystal layer after passing through the overlap portion 83, so that it becomes visually inconspicuous. As a result, it is possible to make the display defects that occur in the region formed by the slope 60 inconspicuous, and to improve the contrast and display quality. In addition, since the overlapping portion 83 that does not contribute to the display is provided in the boundary area between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32, the display failure due to the error caused in the manufacturing process hardly occurs.

【0105】[実施の形態7]図9は、本形態の液晶装
置の下基板における各層の位置関係を示す説明図であ
る。本形態が前記実施の形態6と大きく異なる点は、光
反射層4の端縁45が、層厚調整層6の斜面60の下端
縁66と平面的に重なっている点である。なお、本形態
の液晶装置において、実施の形態6と同一の構成要素に
は同一の符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 7] FIG. 9 is an explanatory view showing the positional relationship of each layer on the lower substrate of the liquid crystal device of the present embodiment. This embodiment is greatly different from the sixth embodiment in that the edge 45 of the light reflecting layer 4 is planarly overlapped with the lower edge 66 of the slope 60 of the layer thickness adjusting layer 6. In addition, in the liquid crystal device of the present embodiment, the same components as those in Embodiment 6 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0106】本形態の液晶装置における下基板は、前記
実施の形態6の下基板の製造において、光反射層4を、
その端縁45が層厚調整層6の斜面60の下端縁66と
平面的に重なるように形成するほかは、同様の手順で製
造することができる。
The lower substrate in the liquid crystal device of the present embodiment is the same as the lower substrate in the sixth embodiment, except that the light reflection layer 4 is
It can be manufactured by the same procedure except that the end edge 45 is formed so as to planarly overlap the lower end edge 66 of the slope 60 of the layer thickness adjusting layer 6.

【0107】本形態によれば、層厚調整層6の端部に斜
面60が形成されている領域と平面的に重なるように、
オーバーラップ部83が形成されており、さらにこの領
域には光反射層4が形成されている。したがって、斜面
60が形成されている領域においては、光反射層4で反
射した光がオーバーラップ部83を透過した後に液晶層
を通って出射されるので、視覚的に目立たなくなる。こ
れにより斜面60が形成されている領域で生じる表示不
良を目立たなくして、コントラストの向上、表示品位の
向上を図ることができる。また、反射表示領域31と透
過表示領域32との境界領域に、表示に寄与しないオー
バーラップ部83が設けられているので、製造工程で生
じる誤差による表示不良が生じ難い。
According to the present embodiment, the end face of the layer thickness adjusting layer 6 is planarly overlapped with the region where the slope 60 is formed.
The overlap portion 83 is formed, and the light reflection layer 4 is further formed in this area. Therefore, in the region where the inclined surface 60 is formed, the light reflected by the light reflection layer 4 is emitted through the liquid crystal layer after passing through the overlap portion 83, so that it becomes visually inconspicuous. This makes it possible to make the display defects that occur in the region where the slope 60 is formed inconspicuous, and to improve the contrast and display quality. In addition, since the overlapping portion 83 that does not contribute to the display is provided in the boundary area between the reflective display area 31 and the transmissive display area 32, the display failure due to the error caused in the manufacturing process hardly occurs.

【0108】[実施の形態8]図10は、本形態の液晶
装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図であ
る。本形態が前記実施の形態6と大きく異なる点は、光
反射層4の端縁45が、平面的に、層厚調整層6の斜面
60の上端縁65と下端縁66との間に位置している点
である。また、本形態では、反射表示用カラーフィルタ
81aの端縁が、斜面60の下端縁66よりも、若干、
開口部40の内側方向に位置しており、透過表示用カラ
ーフィルタ81aの端縁が、斜面60の上端縁65より
も、若干、開口部40の外側方向に位置している。な
お、本形態の液晶装置において、実施の形態6と同一の
構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 8] FIG. 10 is an explanatory view showing the positional relationship of each layer on the lower substrate of the liquid crystal device of the present embodiment. The present embodiment is greatly different from the sixth embodiment in that the edge 45 of the light reflecting layer 4 is two-dimensionally located between the upper edge 65 and the lower edge 66 of the slope 60 of the layer thickness adjusting layer 6. That is the point. Further, in this embodiment, the edge of the reflective display color filter 81a is slightly smaller than the lower edge 66 of the slope 60.
It is located inside the opening 40, and the end edge of the transmissive display color filter 81 a is located slightly outside the opening 40 than the upper end edge 65 of the slope 60. In addition, in the liquid crystal device of the present embodiment, the same components as those in Embodiment 6 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0109】本形態の液晶装置における下基板は、前記
実施の形態6の下基板の製造において、光反射層4を、
その端縁45が、平面的に層厚調整層6の斜面60の上
端縁65と下端縁66との間に位置するように形成する
とともに、反射表示用カラーフィルタ81aおよび透過
表示用カラーフィルタ82aの端縁の位置を若干変更す
るほかは、同様の手順で製造することができる。
The lower substrate in the liquid crystal device of the present embodiment is the same as the lower substrate of the sixth embodiment except that the light reflection layer 4 is used.
The edge 45 is formed so as to be planarly located between the upper edge 65 and the lower edge 66 of the slope 60 of the layer thickness adjusting layer 6, and the reflective display color filter 81a and the transmissive display color filter 82a are formed. It can be manufactured by a similar procedure except that the position of the edge of the is slightly changed.

【0110】本形態によれば、層厚調整層6の端部に斜
面60が形成されている領域と平面的に重なるように、
オーバーラップ部83が形成されており、この領域内に
は外周部にのみ光反射層4が形成されている。したがっ
て、斜面60が形成されている領域においては、光反射
層4で反射した光およびバックライトからの光がオーバ
ーラップ部83を透過した後に液晶層を通って出射され
るので、視覚的に目立たなくなる。これにより斜面60
が形成されている領域で生じる表示不良を目立たなくし
て、コントラストの向上、表示品位の向上を図ることが
できる。
According to the present embodiment, the end face of the layer thickness adjusting layer 6 is planarly overlapped with the region where the slope 60 is formed.
The overlap portion 83 is formed, and the light reflection layer 4 is formed only in the outer peripheral portion in this region. Therefore, in the region where the inclined surface 60 is formed, the light reflected by the light reflection layer 4 and the light from the backlight are emitted through the liquid crystal layer after passing through the overlap portion 83, so that they are visually conspicuous. Disappear. As a result, the slope 60
It is possible to improve the contrast and the display quality by making the display defect caused in the region where the mark is formed inconspicuous.

【0111】また、本形態ではオーバーラップ部83の
幅が、斜面60の平面的な幅よりも大きく、平面視した
ときに斜面60が完全にオーバーラップ部83に含まれ
ているので、オーバーラップ部83を透過しない光が斜
面60を透過して出射されるのを確実に防止することが
できる。
Further, in this embodiment, the width of the overlapping portion 83 is larger than the planar width of the inclined surface 60, and the inclined surface 60 is completely included in the overlapping portion 83 when seen in a plan view. It is possible to reliably prevent light that does not pass through the portion 83 from passing through the slope 60 and exiting.

【0112】[実施の形態9]図11は、本形態の液晶
装置の下基板における各層の位置関係を示す説明図であ
る。本形態が前記実施の形態6と大きく異なる点は、オ
ーバーラップ部83が、反射表示用カラーフィルタ81
a、および3層の色調の異なる透過表示用カラーフィル
タ82R、82G、82Bの4層を積層して形成されて
いる点である。また、本形態では、反射表示用カラーフ
ィルタ81aの端縁が、斜面60の下端縁66よりも、
若干、開口部40の内側方向に位置しており、上から2
層の透過表示用カラーフィルタ82G、82B端縁が、
斜面60の上端縁65よりも、若干、開口部40の外側
方向に位置している。なお、本形態の液晶装置におい
て、実施の形態6と同一の構成要素には同一の符号を付
して説明を省略する。
[Ninth Embodiment] FIG. 11 is an explanatory view showing the positional relationship of each layer on the lower substrate of the liquid crystal device of this embodiment. The present embodiment is largely different from the sixth embodiment in that the overlapping portion 83 has a reflective display color filter 81.
The point is that a is formed by laminating four layers of the color filters for transmission display 82R, 82G, and 82B having different color tones. Further, in the present embodiment, the end edge of the reflective display color filter 81a is more than the lower end edge 66 of the slope 60.
It is located slightly inside the opening 40, and it is 2
The edges of the color filters 82G, 82B for transmissive display of the layer are
It is located slightly outward of the opening 40 from the upper edge 65 of the slope 60. In addition, in the liquid crystal device of the present embodiment, the same components as those in Embodiment 6 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0113】本形態の液晶装置における下基板は、次の
ようにして製造することができる。まず、前記実施の形
態1と同様にして、第1の基板10の全面に反射性の金
属膜を形成した後、フォトリソグラフィ技術を利用し
て、この金属膜をパターニングして光反射層4を形成す
る。
The lower substrate in the liquid crystal device of this embodiment can be manufactured as follows. First, in the same manner as in the first embodiment, after forming a reflective metal film on the entire surface of the first substrate 10, the metal film is patterned by using the photolithography technique to form the light reflection layer 4. Form.

【0114】次に、フレキソ印刷法やインクジェット法
等を利用して、第1の基板10の全面上に反射表示用カ
ラーフィルタ81aを形成した後、フォトリグラフィ技
術を用いて透過表示領域32内の不要部分を除去する。
Next, after the reflective display color filter 81a is formed on the entire surface of the first substrate 10 by using the flexographic printing method or the ink jet method, the inside of the transmissive display area 32 is formed by using the photolithography technique. Remove unnecessary parts.

【0115】次いで、フレキソ印刷法、インクジェット
法、フォトリグラフィ技術等を用いて透過表示領域32
に透過表示用カラーフィルタ82Rを形成する。このと
き、各透過表示領域32には、まず赤(R)、緑
(G)、青(B)のいずれかの色調の層(図の例では赤
の透過表示用カラーフィルタ82R)を所定の配列パタ
ーンとなるように形成した後、オーバーラップ部83
に、該透過表示領域32に形成されていない2色の層
(図の例では緑の透過表示用カラーフィルタ82Gおよ
び青の透過表示用カラーフィルタ82B)を順に積層さ
せる。
Then, the transmissive display area 32 is formed by using a flexographic printing method, an ink jet method, a photolithography technique, or the like.
A color filter 82R for transmissive display is formed on. At this time, in each of the transmissive display areas 32, first, a layer having any one of red (R), green (G), and blue (B) color tones (red transmissive display color filter 82R in the example of the figure) is predetermined. After forming into an array pattern, the overlapping portion 83
Then, two layers of two colors (in the example shown in the figure, a green transmissive display color filter 82G and a blue transmissive display color filter 82B) that are not formed in the transmissive display region 32 are sequentially laminated.

【0116】次に、スピンコート法を利用して、第1の
基板10の全面に感光性樹脂を塗布した後、露光、現像
して層厚調整層6を形成する。
Next, the layer thickness adjusting layer 6 is formed by applying a photosensitive resin on the entire surface of the first substrate 10 by using the spin coating method, and then exposing and developing the photosensitive resin.

【0117】この後、前記実施の形態1と同様にして、
第1の透明電極11および配向膜12(いずれも図示
略)を形成する。
Thereafter, in the same manner as in the first embodiment,
A first transparent electrode 11 and an alignment film 12 (neither shown) are formed.

【0118】本形態によれば、特にオーバーラップ部8
3に、反射表示用カラーフィルタ81a、および3層の
色調の異なる透過表示用カラーフィルタ82R、82
G、82Bの、色調の異なる4層が積層されているの
で、このオーバーラップ部83がブラックマトリクスと
しての役割を果たす。したがって、層厚調整層6の端部
に斜面60が形成されている領域においては、バックラ
イトからの透過光の大部分がオーバーラップ部83で吸
収されるので、視覚的にはこの領域はほぼ黒表示とな
る。よって、斜面60が形成されていることに起因して
生じる表示不良を目立たなくして、コントラストの向
上、表示品位の向上を図ることができる。
According to this embodiment, especially the overlapping portion 8
3, the reflective display color filter 81a and the transmissive display color filters 82R and 82 having three different color tones.
Since the four layers G and 82B having different color tones are laminated, the overlapping portion 83 serves as a black matrix. Therefore, in the region where the slope 60 is formed at the end of the layer thickness adjusting layer 6, most of the transmitted light from the backlight is absorbed by the overlap part 83, and this region is almost visually visible. It is displayed in black. Therefore, it is possible to make the display defect caused by the formation of the slope 60 inconspicuous, and to improve the contrast and the display quality.

【0119】また、本形態ではオーバーラップ部83の
幅が、斜面60の平面的な幅wよりも大きく、平面視し
たときに斜面60が完全にオーバーラップ部83に含ま
れているので、オーバーラップ部83を透過しない光が
斜面60を透過して出射されるのを確実に防止すること
ができる。
Further, in the present embodiment, the width of the overlap portion 83 is larger than the planar width w of the slope 60, and the slope 60 is completely included in the overlap portion 83 when viewed in plan. It is possible to reliably prevent light that does not pass through the wrap portion 83 from passing through the slope 60 and exiting.

【0120】[実施の形態10]次に、実施の形態1な
いし9に係る構成が採用されるTFDアクティブマトリ
クス型液晶装置の構成を説明する。
[Embodiment 10] Next, the structure of a TFD active matrix type liquid crystal device adopting the structure according to Embodiments 1 to 9 will be described.

【0121】図12は、液晶装置の電気的構成を模式的
に示すブロック図である。図13は、この液晶装置の構
造を示す分解斜視図である。図14は、液晶装置におい
て液晶を挟持する1対の基板のうち、素子基板における
1画素分の平面図である。図15(A)、(B)はそれ
ぞれ、図14のIII−III′線断面図、および各画素に形
成されているTFD素子の斜視図である。
FIG. 12 is a block diagram schematically showing the electrical construction of the liquid crystal device. FIG. 13 is an exploded perspective view showing the structure of this liquid crystal device. FIG. 14 is a plan view of one pixel on an element substrate of a pair of substrates that sandwich liquid crystal in a liquid crystal device. 15A and 15B are a cross-sectional view taken along the line III-III ′ of FIG. 14 and a perspective view of the TFD element formed in each pixel, respectively.

【0122】図12に示す液晶装置100では、複数の
配線としての走査線151が行方向(X方向)に形成さ
れ、複数のデータ線152が列方向(Y方向)に形成さ
れている。走査線151とデータ線152との各交差点
に対応する位置には画素153が形成され、この画素1
53では、液晶層154と、画素スイッチング用のTF
D素子156(非線形素子)とが直列に接続されてい
る。各走査線151は走査線駆動回路157によって駆
動され、各データ線152はデータ線駆動回路158に
よって駆動される。
In the liquid crystal device 100 shown in FIG. 12, the scanning lines 151 as a plurality of wirings are formed in the row direction (X direction), and the plurality of data lines 152 are formed in the column direction (Y direction). A pixel 153 is formed at a position corresponding to each intersection of the scanning line 151 and the data line 152.
53, the liquid crystal layer 154 and the TF for pixel switching.
The D element 156 (non-linear element) is connected in series. Each scanning line 151 is driven by the scanning line driving circuit 157, and each data line 152 is driven by the data line driving circuit 158.

【0123】このような構成のアクティブマトリクス方
式の液晶装置100は、図13に示すように、液晶10
6を保持する透明な一対の基板のうち、素子基板120
では、複数本の走査線151が延びており、各走査線1
51には、TFD素子156を介して、画素電極166
が電気的に接続している。これに対して、対向基板11
0には、素子基板120の走査線151と交差する方向
に延びた複数列の帯状のデータ線152がITO膜によ
って形成され、各データ線152の間にはブラックスト
ライプと称せられる遮光膜159が形成されている。従
って、画素電極166の周りは、平面的には、遮光膜1
59および走査線151で囲まれた状態にある。
As shown in FIG. 13, the active matrix type liquid crystal device 100 having the above structure has the liquid crystal 10
Of the pair of transparent substrates holding 6 the element substrate 120
In, a plurality of scanning lines 151 extend and each scanning line 1
51 to the pixel electrode 166 via the TFD element 156.
Are electrically connected. On the other hand, the counter substrate 11
At 0, a plurality of columns of band-shaped data lines 152 extending in a direction intersecting with the scanning lines 151 of the element substrate 120 are formed of an ITO film, and a light-shielding film 159 called a black stripe is provided between the data lines 152. Has been formed. Therefore, around the pixel electrode 166, the light-shielding film 1 is planarly viewed.
It is surrounded by 59 and the scanning line 151.

【0124】なお、液晶106として通常のTNモード
の液晶106が用いられ、この種の液晶106は、光の
偏光方向を変えることにより光変調を行うので、対向基
板110および素子基板120の各外側表面には偏光板
108、109が重ねて配置される。また、偏光板10
8の側にはバックライト装置103が対向配置される。
A normal TN mode liquid crystal 106 is used as the liquid crystal 106, and this type of liquid crystal 106 performs light modulation by changing the polarization direction of light. Polarizing plates 108 and 109 are arranged so as to overlap each other on the surface. In addition, the polarizing plate 10
A backlight device 103 is arranged to face 8 side.

【0125】なお、ここに示す例では、素子基板120
に走査線151を形成し、対向基板10にデータ線15
2を形成したが、素子基板120にデータ線を形成し、
対向基板110に走査線を形成してもよい。
In the example shown here, the element substrate 120
Scan lines 151 are formed on the counter substrate 10 and the data lines 15 are formed on the counter substrate 10.
2 is formed, the data line is formed on the element substrate 120,
Scanning lines may be formed on the counter substrate 110.

【0126】TFD素子156は、例えば、図14およ
び図15(A)、(B)に示すように、素子基板120
の表面に成膜された下地層161の上に形成された第1
のTFD素子156a、および第2のTFD素子156
bからなる2つのTFD素子要素によって、いわゆるB
ack−to−Back構造として構成されている。こ
のため、TFD素子156は、電流−電圧の非線形特性
が正負双方向にわたって対称化されている。下地層16
1は、例えば、厚さが50nm〜200nm程度の酸化
タンタル(Ta25)によって構成されている。
The TFD element 156 is provided in the element substrate 120 as shown in FIGS. 14 and 15A and 15B, for example.
Formed on the underlayer 161 formed on the surface of the
TFD element 156a and second TFD element 156
By the two TFD element elements consisting of b, so-called B
It is configured as an ack-to-back structure. Therefore, in the TFD element 156, the non-linear current-voltage characteristics are symmetrical in both positive and negative directions. Underlayer 16
1 is made of tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) having a thickness of about 50 nm to 200 nm, for example.

【0127】第1のTFD素子156a、および第2の
TFD素子156bは、第1の金属膜162と、この第
1の金属膜162の表面に形成された絶縁膜163と、
絶縁膜163の表面に互いに離間して形成された第2の
金属膜164a、164bとによって構成されている。
第1の金属膜162は、例えば、厚さが100nm〜5
00nm程度のTa単体膜、あるいはTa−W(タング
ステン)合金膜などのTa合金膜によって形成され、絶
縁膜163は、例えば、陽極酸化法によって第1の金属
膜162の表面を酸化することによって形成された厚さ
が10nm〜35nmの酸化タンタル(Ta25)であ
る。
Each of the first TFD element 156a and the second TFD element 156b includes a first metal film 162, an insulating film 163 formed on the surface of the first metal film 162,
The second metal films 164a and 164b are formed on the surface of the insulating film 163 so as to be separated from each other.
The first metal film 162 has, for example, a thickness of 100 nm to 5 nm.
The insulating film 163 is formed of a simple Ta film of about 00 nm or a Ta alloy film such as a Ta-W (tungsten) alloy film, and the insulating film 163 is formed by, for example, oxidizing the surface of the first metal film 162 by an anodic oxidation method. It is tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) having a thickness of 10 nm to 35 nm.

【0128】第2の金属膜164a、164bは、クロ
ム(Cr)等といった遮光性の金属膜によって50nm
〜300nm程度の厚さに形成されている。第2の金属
膜164aは、そのまま走査線151となり、他方の第
2の金属膜164bは、ITOなどからなる画素電極1
66に接続されている。
The second metal films 164a and 164b are made of a light-shielding metal film such as chromium (Cr) and have a thickness of 50 nm.
It is formed to a thickness of about 300 nm. The second metal film 164a serves as the scanning line 151 as it is, and the other second metal film 164b serves as the pixel electrode 1 made of ITO or the like.
It is connected to 66.

【0129】このように構成した液晶装置100におい
て、画素電極166とデータ線152とが対向している
領域が実施の形態1ないし9で説明した画素領域3とな
る。従って、素子基板120、対向基板110、画素電
極166、データ線152、および遮光膜159はそれ
ぞれ、実施の形態1ないし9における第1の基板10、
第2の基板20、第1の電極11、第2の電極21、お
よび遮光膜9に相当し、画素電極166の下層側に、図
1ないし図11を参照して説明した光反射膜4、反射表
示用カラーフィルタ81(81a)、透過表示用カラー
フィルタ82(82a、82R、82G、82B)およ
び層厚調整層6が形成されることになる。
In the liquid crystal device 100 having such a structure, the region where the pixel electrode 166 and the data line 152 face each other is the pixel region 3 described in the first to ninth embodiments. Therefore, the element substrate 120, the counter substrate 110, the pixel electrode 166, the data line 152, and the light shielding film 159 are the first substrate 10 in the first to ninth embodiments, respectively.
The light reflection film 4, which corresponds to the second substrate 20, the first electrode 11, the second electrode 21, and the light-shielding film 9 and is provided below the pixel electrode 166, described with reference to FIGS. 1 to 11. The reflective display color filter 81 (81a), the transmissive display color filter 82 (82a, 82R, 82G, 82B) and the layer thickness adjusting layer 6 are formed.

【0130】[実施の形態11]次に、実施の形態1な
いし9に係る構成が採用されるTFTアクティブマトリ
クス型液晶装置の構成を説明する。
[Embodiment 11] Next, the construction of a TFT active matrix type liquid crystal device adopting the constructions of Embodiments 1 to 9 will be described.

【0131】図16は、TFTアクティブマトリクス型
液晶装置を各構成要素とともに対向基板の側から見た平
面図であり、図17は、図16のH−H′断面図であ
る。図18は、液晶装置の画像表示領域においてマトリ
クス状に形成された複数の画素における各種素子、配線
等の等価回路図である。
FIG. 16 is a plan view of the TFT active matrix type liquid crystal device as viewed from the counter substrate side together with the respective constituent elements, and FIG. 17 is a sectional view taken along line HH 'of FIG. FIG. 18 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, etc. in a plurality of pixels formed in a matrix in the image display area of the liquid crystal device.

【0132】図16および図17において、本形態の液
晶装置200は、TFTアレイ基板210と対向基板2
20とがシール材252によって貼り合わされ、このシ
ール材252によって区画された領域(液晶封入領域)
内には、電気光学物質としての液晶250が挟持されて
いる。TFTアレイ基板210および対向基板220の
各々には偏光板288、289が配置され、偏光板28
8の側に対してはバックライト装置290が対向配置さ
れている。
16 and 17, the liquid crystal device 200 of the present embodiment has a TFT array substrate 210 and a counter substrate 2.
20 is bonded by a sealing material 252, and the area defined by the sealing material 252 (liquid crystal filled area)
A liquid crystal 250 as an electro-optical material is sandwiched inside. Polarizing plates 288 and 289 are arranged on the TFT array substrate 210 and the counter substrate 220, respectively.
The backlight device 290 is arranged so as to face the No. 8 side.

【0133】シール材252の形成領域の内側領域に
は、遮光性材料からなる周辺見切り253が形成されて
いる。シール材252の外側の領域には、データ線駆動
回路301、および実装端子302がTFTアレイ基板
210の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接
する2辺に沿って走査線駆動回路304が形成されてい
る。TFTアレイ基板210の残る一辺には、画像表示
領域の両側に設けられた走査線駆動回路304の間をつ
なぐための複数の配線305が設けられており、更に、
周辺見切り253の下などを利用して、プリチャージ回
路や検査回路が設けられることもある。また、対向基板
220のコーナー部の少なくとも1箇所においては、T
FTアレイ基板210と対向基板220との間で電気的
導通をとるための基板間導通材306が形成されてい
る。
A peripheral partition 253 made of a light-shielding material is formed inside the area where the sealing material 252 is formed. A data line driving circuit 301 and a mounting terminal 302 are formed along a side of the TFT array substrate 210 in a region outside the sealing material 252, and the scanning line driving circuit 304 is formed along two sides adjacent to the side. Are formed. A plurality of wirings 305 for connecting the scanning line driving circuits 304 provided on both sides of the image display area are provided on the remaining one side of the TFT array substrate 210.
A precharge circuit or an inspection circuit may be provided under the peripheral partition 253. Further, at least at one corner of the counter substrate 220, T
An inter-substrate conductive material 306 is formed for electrical conduction between the FT array substrate 210 and the counter substrate 220.

【0134】なお、データ線駆動回路301および走査
線駆動回路304をTFTアレイ基板210の上に形成
する代わりに、たとえば、駆動用LSIが実装されたT
AB(テープ オートメイテッド、ボンディング)基板
をTFTアレイ基板210の周辺部に形成された端子群
に対して異方性導電膜を介して電気的および機械的に接
続するようにしてもよい。なお、本形態の液晶装置20
0でも、液晶50はTNモードで使用されている。
Instead of forming the data line driving circuit 301 and the scanning line driving circuit 304 on the TFT array substrate 210, for example, a driving LSI mounted on a T
An AB (tape automated, bonding) substrate may be electrically and mechanically connected to a terminal group formed in the peripheral portion of the TFT array substrate 210 via an anisotropic conductive film. The liquid crystal device 20 of the present embodiment
Even at 0, the liquid crystal 50 is used in the TN mode.

【0135】このような構造を有する液晶装置200の
画像表示領域においては、図18に示すように、複数の
画素200aがマトリクス状に構成されているととも
に、これらの画素200aの各々には、画素電極209
a、およびこの画素電極209aを駆動するための画素
スイッチング用のTFT230が形成されており、画素
信号S1、S2・・・Snを供給するデータ線206a
が当該TFT230のソースに電気的に接続されてい
る。データ線206aに書き込む画素信号S1、S2・
・・Snは、この順に線順次に供給しても構わないし、
相隣接する複数のデータ線206a同士に対して、グル
ープ毎に供給するようにしてもよい。また、TFT23
0のゲートには走査線203aが電気的に接続されてお
り、所定のタイミングで、走査線203aにパルス的に
走査信号G1、G2・・・Gmをこの順に線順次で印加
するように構成されている。画素電極209aは、TF
T230のドレインに電気的に接続されており、スイッ
チング素子であるTFT230を一定期間だけそのオン
状態とすることにより、データ線206aから供給され
る画素信号S1、S2・・・Snを各画素に所定のタイ
ミングで書き込む。このようにして画素電極209aを
介して液晶に書き込まれた所定レベルの画素信号S1、
S2、・・・Snは、図17に示す対向基板220の対
向電極221との間で一定期間保持される。
In the image display area of the liquid crystal device 200 having such a structure, a plurality of pixels 200a are arranged in a matrix as shown in FIG. 18, and each of the pixels 200a has a pixel Electrode 209
a and a pixel switching TFT 230 for driving the pixel electrode 209a are formed, and a data line 206a for supplying the pixel signals S1, S2 ... Sn.
Are electrically connected to the source of the TFT 230. Pixel signals S1 and S2 to be written in the data line 206a
..Sn may be supplied line-sequentially in this order,
The data lines 206a adjacent to each other may be supplied for each group. In addition, the TFT 23
The scanning line 203a is electrically connected to the gate of 0, and is configured to apply the scanning signals G1, G2 ... Gm to the scanning line 203a in a pulse-sequential order in this order at a predetermined timing. ing. The pixel electrode 209a is TF
The pixel signal S1, S2 ... Sn supplied from the data line 206a is predetermined for each pixel by being electrically connected to the drain of T230 and turning on the TFT 230 which is a switching element for a certain period. Write at the timing of. In this way, the pixel signal S1 of a predetermined level written in the liquid crystal through the pixel electrode 209a,
S2, ..., Sn are held for a certain period between the counter electrode 221 of the counter substrate 220 shown in FIG.

【0136】ここで、液晶250は、印加される電圧レ
ベルにより分子集合の配向や秩序が変化することによ
り、光を変調し、階調表示を可能にする。ノーマリーホ
ワイトモードであれば、印加された電圧に応じて入射光
がこの液晶250の部分を通過する光量が低下し、ノー
マリーブラックモードであれば、印加された電圧に応じ
て入射光がこの液晶250の部分を通過する光量が増大
していく。その結果、全体として液晶装置200からは
画素信号S1、S2、・・・Snに応じたコントラスト
を持つ光が出射される。
Here, the liquid crystal 250 modulates light by changing the orientation or order of the molecular assembly depending on the applied voltage level, and enables gradation display. In the normally white mode, the amount of incident light passing through the liquid crystal 250 decreases depending on the applied voltage, and in the normally black mode, the incident light changes according to the applied voltage. The amount of light passing through the liquid crystal 250 increases. As a result, light having a contrast according to the pixel signals S1, S2, ... Sn is emitted from the liquid crystal device 200 as a whole.

【0137】なお、保持された画素信号S1、S2、・
・・Snがリークするのを防ぐために、画素電極209
aと対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積
容量260を付加することがある。例えば、画素電極2
09aの電圧は、ソース電圧が印加された時間よりも3
桁も長い時間だけ蓄積容量260により保持される。こ
れにより、電荷の保持特性は改善され、コントラスト比
の高い液晶装置200が実現できる。なお、蓄積容量2
60を形成する方法としては、図18に例示するよう
に、蓄積容量260を形成するための配線である容量線
203bとの間に形成する場合、あるいは前段の走査線
203aとの間に形成する場合もいずれであってもよ
い。
The pixel signals S1, S2, ...
..Pixel electrode 209 to prevent Sn from leaking
A storage capacitor 260 may be added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between a and the counter electrode. For example, the pixel electrode 2
The voltage of 09a is 3 times longer than the time when the source voltage is applied.
The storage capacity 260 holds the digit for a long time. As a result, the charge retention characteristics are improved, and the liquid crystal device 200 having a high contrast ratio can be realized. In addition, storage capacity 2
As a method of forming the capacitor 60, as shown in FIG. 18, it is formed between the capacitor line 203b, which is a wiring for forming the storage capacitor 260, or between the scan line 203a of the preceding stage. Either case may be used.

【0138】図19は、本形態の液晶装置に用いたTF
Tアレイ基板の相隣接する複数の画素群の平面図であ
る。図20は、本形態の液晶装置の画素の一部を図19
のC−C′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。
FIG. 19 shows a TF used in the liquid crystal device of this embodiment.
FIG. 3 is a plan view of a plurality of pixel groups adjacent to each other on a T array substrate. FIG. 20 shows part of a pixel of the liquid crystal device of this embodiment.
FIG. 7 is a cross-sectional view when cut at a position corresponding to line C-C ′ in FIG.

【0139】図19において、TFTアレイ基板210
上には、複数の透明なITO(Indium Tin
Oxide)膜からなる画素電極209aがマトリクス
状に形成されており、これら各画素電極209aに対し
て画素スイッチング用のTFT230がそれぞれ接続し
ている。また、画素電極209aの縦横の境界に沿っ
て、データ線206a、走査線203a、および容量線
203bが形成され、TFT230は、データ線206
aおよび走査線203aに対して接続している。すなわ
ち、データ線206aは、コンタクトホールを介してT
FT230の高濃度ソース領域201dに電気的に接続
し、画素電極209aは、コンタクトホールを介してT
FT203の高濃度ドレイン領域201eに電気的に接
続している。また、TFT230のチャネル領域201
a′に対向するように走査線203aが延びている。な
お、蓄積容量260は、画素スイッチング用のTFT2
30を形成するための半導体膜201の延設部分201
fを導電化したものを下電極とし、この下電極241
に、走査線203bと同層の容量線203bが上電極と
して重なった構造になっている。
In FIG. 19, the TFT array substrate 210
A plurality of transparent ITO (Indium Tin)
Pixel electrodes 209a made of oxide film are formed in a matrix, and pixel switching TFTs 230 are connected to the respective pixel electrodes 209a. In addition, the data line 206a, the scanning line 203a, and the capacitor line 203b are formed along the vertical and horizontal boundaries of the pixel electrode 209a, and the TFT 230 functions as the data line 206.
a and the scanning line 203a. That is, the data line 206a is connected to the T via the contact hole.
The pixel electrode 209a is electrically connected to the high-concentration source region 201d of the FT 230, and the pixel electrode 209a is T
It is electrically connected to the high concentration drain region 201e of the FT 203. In addition, the channel region 201 of the TFT 230
The scanning line 203a extends so as to face a '. Note that the storage capacitor 260 is the TFT 2 for pixel switching.
Extended portion 201 of semiconductor film 201 for forming 30
The lower electrode is obtained by making f conductive.
In addition, the scanning line 203b and the capacitive line 203b in the same layer overlap as the upper electrode.

【0140】このように構成した液晶装置200におい
て、TFTアレイ基板210の表面には、厚さが50n
m〜100nmの島状の半導体膜201aが形成されて
いる。半導体膜201aの表面には、厚さが約50〜1
50nmのシリコン酸化膜からなるゲート絶縁膜202
が形成され、このゲート絶縁膜202の表面に、厚さが
300nm〜800nmの走査線203aがゲート電極
として通っている。半導体膜201aのうち、走査線2
03aに対してゲート絶縁膜202を介して対峙する領
域がチャネル領域201a′になっている。このチャネ
ル領域201a′に対して一方側には、低濃度ソース領
域201bおよび高濃度ソース領域201dを備えるソ
ース領域が形成され、他方側には低濃度ドレイン領域2
01cおよび高濃度ドレイン領域201eを備えるドレ
イン領域が形成されている。
In the liquid crystal device 200 having the above structure, the surface of the TFT array substrate 210 has a thickness of 50 n.
An island-shaped semiconductor film 201a having a thickness of m to 100 nm is formed. The surface of the semiconductor film 201a has a thickness of about 50 to 1
Gate insulating film 202 made of a 50 nm silicon oxide film
Is formed, and a scanning line 203a having a thickness of 300 nm to 800 nm passes through as a gate electrode on the surface of the gate insulating film 202. The scan line 2 of the semiconductor film 201a
A region facing 03a through the gate insulating film 202 is a channel region 201a '. A source region including a low concentration source region 201b and a high concentration source region 201d is formed on one side of the channel region 201a ', and a low concentration drain region 2 is formed on the other side.
01c and a high-concentration drain region 201e are formed.

【0141】画素スイッチング用のTFT230の表面
側には、厚さが300nm〜800nmのシリコン酸化
膜からなる第1層間絶縁膜204、および厚さが100
nm〜300nmのシリコン窒化膜からなる第2層間絶
縁膜205が形成されている。第1層間絶縁膜204の
表面には、厚さが300nm〜800nmのデータ線2
06aが形成され、このデータ線206aは、第1層間
絶縁膜204に形成されたコンタクトホールを介して高
濃度ソース領域201dに電気的に接続している。
On the surface side of the pixel switching TFT 230, the first interlayer insulating film 204 made of a silicon oxide film having a thickness of 300 nm to 800 nm and the thickness of 100 are formed.
A second interlayer insulating film 205 made of a silicon nitride film having a thickness of 300 nm to 300 nm is formed. A data line 2 having a thickness of 300 nm to 800 nm is formed on the surface of the first interlayer insulating film 204.
06a is formed, and the data line 206a is electrically connected to the high-concentration source region 201d through a contact hole formed in the first interlayer insulating film 204.

【0142】第2層間絶縁膜205の上層には、ITO
膜からなる画素電極209aが形成されている。画素電
極209aは、第2層間絶縁膜205に形成されたコン
タクトホールなどを介してドレイン電極206bに電気
的に接続している。画素電極209aの表面側にはポリ
イミド膜からなる配向膜212が形成されている。この
配向膜212は、ポリイミド膜に対してラビング処理が
施された膜である。また、高濃度ドレイン領域201e
からの延設部分201f(下電極)に対しては、ゲート
絶縁膜202と同時形成された絶縁膜(誘電体膜)を介
して、走査線203aと同層の容量線203bが上電極
として対向することにより、蓄積容量260が構成され
ている。
ITO is formed on the second interlayer insulating film 205.
A pixel electrode 209a made of a film is formed. The pixel electrode 209a is electrically connected to the drain electrode 206b via a contact hole or the like formed in the second interlayer insulating film 205. An alignment film 212 made of a polyimide film is formed on the surface side of the pixel electrode 209a. The alignment film 212 is a film obtained by rubbing a polyimide film. In addition, the high concentration drain region 201e
With respect to the extended portion 201f (lower electrode), the scanning line 203a and the capacitance line 203b in the same layer face each other as an upper electrode via the insulating film (dielectric film) formed at the same time as the gate insulating film 202. By doing so, the storage capacitor 260 is configured.

【0143】なお、TFT230は、好ましくは上述の
ようにLDD構造をもつが、低濃度ソース領域201
b、および低濃度ドレイン領域201cに相当する領域
に不純物イオンの打ち込みを行わないオフセット構造を
有していてもよい。また、TFT230は、ゲート電極
(走査線203aの一部)をマスクとして高濃度で不純
物イオンを打ち込み、自己整合的に高濃度のソースおよ
びドレイン領域を形成したセルフアライン型のTFTで
あってもよい。
The TFT 230 preferably has the LDD structure as described above, but the low concentration source region 201 is used.
An offset structure in which impurity ions are not implanted may be provided in the region corresponding to b and the low concentration drain region 201c. Further, the TFT 230 may be a self-aligned TFT in which high-concentration source and drain regions are formed in a self-aligned manner by implanting high-concentration impurity ions using the gate electrode (a part of the scanning line 203a) as a mask. .

【0144】また、本形態では、TFT230のゲート
電極(走査線203a)をソース−ドレイン領域の間に
1個のみ配置したシングルゲート構造としたが、これら
の間に2個以上のゲート電極を配置してもよい。この
際、各々のゲート電極には同一の信号が印加されるよう
にする。このようにデュアルゲート(ダブルゲート)、
あるいはトリプルゲート以上でTFT230を構成すれ
ば、チャネルとソース−ドレイン領域の接合部でのリー
ク電流を防止でき、オフ時の電流を低減することが出来
る。これらのゲート電極の少なくとも1個をLDD構造
或いはオフセット構造にすれば、さらにオフ電流を低減
でき、安定したスイッチング素子を得ることができる。
Further, in this embodiment, only one gate electrode (scanning line 203a) of the TFT 230 is arranged between the source and drain regions, but two or more gate electrodes are arranged between them. You may. At this time, the same signal is applied to each gate electrode. In this way dual gate (double gate),
Alternatively, if the TFT 230 is composed of triple gates or more, it is possible to prevent a leak current at the junction between the channel and the source-drain region, and reduce the current when off. If at least one of these gate electrodes has an LDD structure or an offset structure, the off current can be further reduced, and a stable switching element can be obtained.

【0145】図20において、対向基板220では、T
FTアレイ基板210に形成されている画素電極209
aの縦横の境界領域と対向する領域にブラックマトリク
ス、あるいはブラックストライプなどと称せられる遮光
膜223が形成され、その上層側には、ITO膜からな
る対向電極221が形成されている。また、対向電極2
21の上層側には、ポリイミド膜からなる配向膜222
が形成され、この配向膜222は、ポリイミド膜に対し
てラビング処理が施された膜である。
In FIG. 20, the counter substrate 220 has T
Pixel electrodes 209 formed on the FT array substrate 210
A light-shielding film 223 called a black matrix or a black stripe is formed in a region facing the vertical and horizontal boundary regions of a, and a counter electrode 221 made of an ITO film is formed above the light-shielding film 223. In addition, the counter electrode 2
An alignment film 222 made of a polyimide film is provided on the upper layer side of 21.
The alignment film 222 is formed by rubbing a polyimide film.

【0146】このように構成した液晶装置200におい
て、画素電極209aと対向電極221とが対向してい
る領域が実施の形態1ないし9で説明した画素領域3と
なる。従って、TFTアレイ基板210、対向基板22
0、画素電極209a、対向電極221、および遮光膜
223はそれぞれ、実施の形態1ないし9における第1
の基板10、第2の基板20、第1の電極11、第2の
電極21、および遮光膜9に相当し、画素電極209a
の下層側には、図1ないし図11を参照して説明した反
射膜4、反射表示用カラーフィルタ81(81a)、透
過表示用カラーフィルタ82(82a、82R、82
G、82B)および層厚調整層6が形成されることにな
る。
In the liquid crystal device 200 having such a structure, the region where the pixel electrode 209a and the counter electrode 221 face each other is the pixel region 3 described in the first to ninth embodiments. Therefore, the TFT array substrate 210 and the counter substrate 22
0, the pixel electrode 209a, the counter electrode 221, and the light shielding film 223 are respectively the first in the first to ninth embodiments.
Corresponding to the substrate 10, the second substrate 20, the first electrode 11, the second electrode 21, and the light shielding film 9 of the pixel electrode 209a.
On the lower layer side, the reflective film 4, the reflective display color filter 81 (81a), and the transmissive display color filter 82 (82a, 82R, 82) described with reference to FIGS.
G, 82B) and the layer thickness adjusting layer 6 are formed.

【0147】[液晶装置の電子機器への適用]このよう
に構成した反射型、あるいは半透過・反射型の液晶装置
は、各種の電子機器の表示部として用いることができる
が、その一例を、図21、図22、および図23を参照
して説明する。
[Application of Liquid Crystal Device to Electronic Equipment] The reflective or semi-transmissive / reflective liquid crystal device thus configured can be used as a display portion of various electronic equipments. This will be described with reference to FIGS. 21, 22, and 23.

【0148】図21は、本発明に係る液晶装置を表示装
置として用いた電子機器の回路構成を示すブロック図で
ある。
FIG. 21 is a block diagram showing a circuit configuration of an electronic device using the liquid crystal device according to the present invention as a display device.

【0149】図21において、電子機器は、表示情報出
力源570、表示情報処理回路571、電源回路57
2、タイミングジェネレータ573、そして液晶装置5
74を有する。また、液晶装置574は、液晶表示パネ
ル575および駆動回路576を有する。液晶装置57
4としては、本発明を適用した液晶装置1、100、2
00を用いることができる。
In FIG. 21, the electronic equipment includes a display information output source 570, a display information processing circuit 571, and a power supply circuit 57.
2, timing generator 573, and liquid crystal device 5
Has 74. Further, the liquid crystal device 574 includes a liquid crystal display panel 575 and a drive circuit 576. Liquid crystal device 57
4 is the liquid crystal device 1, 100, 2 to which the present invention is applied.
00 can be used.

【0150】表示情報出力源570は、ROM(Rea
d Only Memory)、RAM(Random
Access Memory)等といったメモリ、各
種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画
像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジ
ェネレータ573によって生成された各種のクロック信
号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった
表示情報を表示情報処理回路571に供給する。
The display information output source 570 is a ROM (Rea).
d Only Memory), RAM (Random)
A memory such as an Access Memory), a storage unit such as various disks, a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal, and the like, and displays an image signal in a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 573. Information is supplied to the display information processing circuit 571.

【0151】表示情報処理回路571は、シリアル−パ
ラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各
種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、そ
の画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路576
へ供給する。電源回路572は、各構成要素に所定の電
圧を供給する。
The display information processing circuit 571 includes various well-known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information. , The image signal together with the clock signal CLK the drive circuit 576
Supply to. The power supply circuit 572 supplies a predetermined voltage to each component.

【0152】図22は、本発明に係る電子機器の一実施
形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示し
ている。ここに示すパーソナルコンピュータ580は、
キーボード581を備えた本体部582と、液晶表示ユ
ニット583とを有する。液晶表示ユニット583は、
本発明を適用した液晶装置1、100、200を含んで
構成される。
FIG. 22 shows a mobile personal computer which is an embodiment of the electronic apparatus according to the present invention. The personal computer 580 shown here is
It has a main body portion 582 having a keyboard 581 and a liquid crystal display unit 583. The liquid crystal display unit 583 is
The liquid crystal device 1, 100, 200 to which the present invention is applied is included.

【0153】図23は、本発明に係る電子機器の他の実
施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯
電話機590は、複数の操作ボタン591と、本発明を
適用した液晶装置1、100、200からなる表示部と
を有している。
FIG. 23 shows a portable telephone which is another embodiment of the electronic apparatus according to the present invention. A mobile phone 590 shown here has a plurality of operation buttons 591 and a display unit including the liquid crystal devices 1, 100 and 200 to which the present invention is applied.

【0154】[0154]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
1画素領域内で透過表示領域と反射表示領域との間で液
晶層の層厚を適正な値に変えたマルチギャップタイプの
液晶装置、およびそれを用いた電子機器において、反射
表示領域と前記透過表示領域との境界領域のうち、光反
射層と層厚調整層の端部に形成されている斜面とが平面
的に重なっている部分では光が透過しないので、透過モ
ードにおいて、前記斜面を透過して出射される光を低減
させることができる。これにより、透過表示領域と反射
表示領域との境界部分でリターデーションが不適正な状
態、あるいは液晶分子の配向が乱れている状態にあって
も、品位の高い表示を行うことのできる。
As described above, according to the present invention,
A multi-gap type liquid crystal device in which the thickness of a liquid crystal layer is changed to an appropriate value between a transmissive display region and a reflective display region within one pixel region, and an electronic device using the same In the boundary area with the display area, light does not pass through the portion where the light reflection layer and the slope formed at the end of the layer thickness adjustment layer are planarly overlapped. Thus, the light emitted can be reduced. As a result, high-quality display can be performed even when the retardation is inappropriate at the boundary between the transmissive display area and the reflective display area or the alignment of liquid crystal molecules is disturbed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)、(B)、(C)はそれぞれ、本発明の
実施の形態1に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリ
クス状に形成されている複数の画素領域のうちの1つを
抜き出して模式的に示す平面図、そのA−A′断面図、
およびB−B′断面図である。
1A, 1B, and 1C are each a plurality of pixel regions formed in a matrix in a semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to Embodiment 1 of the present invention. The top view which extracts one and shows it typically, AA 'sectional drawing,
FIG. 7 is a sectional view taken along line BB ′.

【図2】図1に示す液晶装置に形成されている光反射膜
と層厚調整層の位置関係を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a light reflection film and a layer thickness adjusting layer formed in the liquid crystal device shown in FIG.

【図3】(A)、(B)はそれぞれ、本発明の実施の形
態2に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に
形成されている複数の画素領域のうちの1つを抜き出し
て模式的に示す平面図、およびそのB−B′断面図であ
る。
3A and 3B respectively show one of a plurality of pixel regions formed in a matrix in a semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view schematically showing the above, and a BB ′ sectional view thereof.

【図4】(A)、(B)、(C)はそれぞれ、本発明の
実施の形態3に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリ
クス状に形成されている複数の画素領域のうちの1つを
抜き出して模式的に示す平面図、そのA−A′断面図、
およびB−B′断面図である。
4A, 4B, and 4C are each a plurality of pixel regions formed in a matrix in a semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to Embodiment 3 of the present invention. The top view which extracts one and shows it typically, AA 'sectional drawing,
FIG. 7 is a sectional view taken along line BB ′.

【図5】図4に示す液晶装置に形成されている光反射膜
と層厚調整層の位置関係を示す説明図である。
5 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a light reflection film and a layer thickness adjusting layer formed in the liquid crystal device shown in FIG.

【図6】(A)、(B)はそれぞれ、本発明の実施の形
態4に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に
形成されている複数の画素領域のうちの1つを抜き出し
て模式的に示す平面図、およびそのB−B′断面図であ
る。
6A and 6B respectively show one of a plurality of pixel regions formed in a matrix in a semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view schematically showing the above, and a BB ′ sectional view thereof.

【図7】(A)、(B)はそれぞれ、本発明の実施の形
態5に係る半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に
形成されている複数の画素領域のうちの1つを抜き出し
て模式的に示す平面図、およびそのB−B′断面図であ
る。
7A and 7B respectively show one of a plurality of pixel regions formed in a matrix in a semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to a fifth embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view schematically showing the above, and a BB ′ sectional view thereof.

【図8】本発明の実施の形態6に係る液晶装置の下基板
における各層の位置関係を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a positional relationship of layers in a lower substrate of a liquid crystal device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態7に係る液晶装置の下基板
における各層の位置関係を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a positional relationship of layers in a lower substrate of a liquid crystal device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施の形態8に係る液晶装置の下基
板における各層の位置関係を示す説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing a positional relationship between layers on a lower substrate of a liquid crystal device according to an eighth embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施の形態9に係る液晶装置の下基
板における各層の位置関係を示す説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a positional relationship between layers on a lower substrate of a liquid crystal device according to a ninth embodiment of the present invention.

【図12】本発明に係る半透過・反射型のTFDアクテ
ィブマトリクス型液晶装置の電気的構成を模式的に示す
ブロック図である。
FIG. 12 is a block diagram schematically showing the electrical configuration of a semi-transmissive / reflective TFD active matrix type liquid crystal device according to the present invention.

【図13】図12に示す液晶装置の構造を示す分解斜視
図である。
13 is an exploded perspective view showing the structure of the liquid crystal device shown in FIG.

【図14】図13に示す液晶装置において液晶を挟持す
る1対の基板のうち、素子基板における1画素分の平面
図である。
FIG. 14 is a plan view of one pixel of an element substrate of a pair of substrates holding liquid crystal in the liquid crystal device shown in FIG.

【図15】(A)、(B)はそれぞれ、図14のIII−I
II′線断面図、および図14に示すTFD素子の斜視図
である。
15A and 15B are III-I of FIG. 14, respectively.
FIG. 15 is a sectional view taken along line II ′ and a perspective view of the TFD element shown in FIG. 14.

【図16】本発明に係る半透過・反射型のTFTアクテ
ィブマトリクス型液晶装置を対向基板の側からみたとき
の平面図である。
FIG. 16 is a plan view of a semi-transmissive / reflective type TFT active matrix type liquid crystal device according to the present invention when viewed from the counter substrate side.

【図17】図16のH−H′線における断面図である。17 is a cross-sectional view taken along the line HH 'in FIG.

【図18】図16に示す液晶装置において、マトリクス
状に配置された複数の画素に形成された各種素子、配線
などの等価回路図である。
18 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, etc. formed in a plurality of pixels arranged in a matrix in the liquid crystal device shown in FIG.

【図19】図16に示す液晶装置において、TFTアレ
イ基板に形成された各画素の構成を示す平面図である。
19 is a plan view showing a configuration of each pixel formed on the TFT array substrate in the liquid crystal device shown in FIG.

【図20】図16に示す液晶装置の画素の一部を図19
のC−C′線に相当する位置で切断したときの断面図で
ある。
FIG. 20 shows a part of a pixel of the liquid crystal device shown in FIG.
FIG. 7 is a cross-sectional view when cut at a position corresponding to line C-C ′ in FIG.

【図21】本発明に係る液晶装置を表示装置として用い
た電子機器の回路構成を示すブロック図である。
FIG. 21 is a block diagram showing a circuit configuration of an electronic device using the liquid crystal device according to the present invention as a display device.

【図22】本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一
実施形態としてのモバイル型のパーソナルコンピュータ
を示す説明図である。
FIG. 22 is an explanatory diagram showing a mobile personal computer as one embodiment of an electronic apparatus using the liquid crystal device according to the present invention.

【図23】本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一
実施形態としての携帯電話機の説明図である。
FIG. 23 is an explanatory diagram of a mobile phone as an embodiment of an electronic device using the liquid crystal device according to the invention.

【図24】(A)、(B)、(C)はそれぞれ、従来の
半透過・反射型の液晶装置にマトリクス状に形成されて
いる複数の画素領域のうちの1つを抜き出して模式的に
示す平面図、そのA−A′断面図、およびB−B′断面
図である。
24 (A), (B), and (C) are schematic diagrams in which one of a plurality of pixel regions formed in a matrix in a conventional transflective / reflective liquid crystal device is extracted. FIG. 5 is a plan view, a sectional view taken along the line AA ′, and a sectional view taken along the line BB ′.

【図25】従来の半透過・反射型の液晶装置において、
層厚調整層の斜面で発生する液晶分子の配向異常を示す
説明図である。
FIG. 25 shows a conventional transflective liquid crystal device,
It is explanatory drawing which shows the alignment abnormality of the liquid crystal molecule which generate | occur | produces on the slope of a layer thickness adjustment layer.

【図26】(A)、(B)はそれぞれ、従来の半透過・
反射型の液晶装置で黒表示を行った時、反射表示領域か
ら透過表示領域にかけての反射光強度の分布を各ラビン
グ方向についてシュミレーションした結果を示す説明
図、および従来の半透過・反射型の液晶装置で黒表示を
行った時、反射表示領域から透過表示領域にかけての透
過光強度の分布を各ラビング方向についてシュミレーシ
ョンした結果を示す説明図である。
26 (A) and (B) are conventional semi-transmission /
Explanatory drawing showing the result of simulating the distribution of the reflected light intensity from the reflective display area to the transmissive display area in each rubbing direction when black display is performed by the reflective liquid crystal device, and the conventional semi-transmissive / reflective liquid crystal FIG. 6 is an explanatory diagram showing a result of simulating a distribution of transmitted light intensity from a reflective display area to a transmissive display area in each rubbing direction when black display is performed by the device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、100、200 液晶装置 3 画素領域 5、50 液晶層 6 層厚調整層 7 バックライト装置 9 境界用遮光膜 10 第1の基板 11 第1の透明電極 20 第2の基板 21 第2の透明電極 31 反射表示領域 32 透過表示領域 40 光反射層の開口 41、42 偏光板 45 光反射層の端縁 60 層厚調整層の斜面 61 層厚調整層の開口 65 層厚調整層の斜面の上端縁 66 層厚調整層の斜面の下端縁 81、81a 反射表示用カラーフィルタ 82、82a、82R、82G、82B 透過表示用カ
ラーフィルタ
1, 100, 200 Liquid crystal device 3 Pixel regions 5, 50 Liquid crystal layer 6 Layer thickness adjusting layer 7 Backlight device 9 Boundary shielding film 10 First substrate 11 First transparent electrode 20 Second substrate 21 Second transparent Electrode 31 Reflective display area 32 Transmissive display area 40 Light reflection layer openings 41, 42 Polarizing plate 45 Light reflection layer edge 60 Layer thickness adjusting layer slope 61 Layer thickness adjusting layer opening 65 Layer thickness adjusting layer slope Edge 66 Lower end edges 81, 81a of the slope of the thickness adjusting layer Reflective display color filter 82, 82a, 82R, 82G, 82B Transparent display color filter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 HA07 QA16 RA05 TA01 TA02 TA13 TA17 TA18 UA09 2H090 HA07 HC10 KA08 LA01 LA05 LA15 LA16 MA02 MA15 2H091 FA02Y FA14Y FA35Y FA41Z GA03 GA13 GA16 HA07    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H089 HA07 QA16 RA05 TA01 TA02                       TA13 TA17 TA18 UA09                 2H090 HA07 HC10 KA08 LA01 LA05                       LA15 LA16 MA02 MA15                 2H091 FA02Y FA14Y FA35Y FA41Z                       GA03 GA13 GA16 HA07

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に第1の透明電極が形成された第1
の基板と、前記第1の電極と対向する面側に第2の透明
電極が形成された第2の基板と、前記第1の基板と前記
第2の基板との間に保持された液晶層とを有し、前記第
1の基板は、前記第1の透明電極と前記第2の透明電極
とが対向する画素領域に反射表示領域を構成し、当該画
素領域の残りの領域を透過表示領域とする光反射層、前
記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前記透過表
示領域における前記液晶層の層厚よりも小さくする層厚
調整層、および前記第1の透明電極を下層側から上層側
に向かってこの順に備える半透過・反射型液晶装置にお
いて、 前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域で
は、前記光反射層の端縁が、前記層厚調整層の端部に形
成されている斜面と平面的にほぼ重なる領域内に存在し
ていることを特徴とする半透過・反射型液晶装置。
1. A first transparent electrode having a first transparent electrode formed on the surface thereof.
Substrate, a second substrate on which a second transparent electrode is formed on the surface side facing the first electrode, and a liquid crystal layer held between the first substrate and the second substrate. The first substrate has a reflective display region in a pixel region where the first transparent electrode and the second transparent electrode face each other, and the remaining region of the pixel region is a transmissive display region. A light reflection layer, a layer thickness adjusting layer for making the layer thickness of the liquid crystal layer in the reflective display region smaller than the layer thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region, and the first transparent electrode from the lower layer side to the upper layer. In a semi-transmissive / reflective liquid crystal device provided in this order toward the side, in the boundary region between the reflective display region and the transmissive display region, the edge of the light reflecting layer is formed at the end of the layer thickness adjusting layer. Existing in the area that almost overlaps with the slope in plan view. Characteristic semi-transmissive / reflective liquid crystal device
【請求項2】前記光反射層の端縁が、前記層厚調整層の
端部に形成されている斜面の上端縁と平面的にほぼ重な
っていることを特徴とする請求項1記載の半透過・反射
型液晶装置。
2. The half according to claim 1, wherein an edge of the light reflecting layer substantially planarly overlaps with an upper edge of an inclined surface formed at an end of the layer thickness adjusting layer. Transmission / reflection liquid crystal device.
【請求項3】 前記光反射層の端縁が、前記層厚調整層
の端部に形成されている斜面の下端縁と平面的にほぼ重
なっていることを特徴とする請求項1記載の半透過・反
射型液晶装置。
3. The half according to claim 1, wherein an end edge of the light reflecting layer substantially planarly overlaps a lower end edge of a slope formed at an end portion of the layer thickness adjusting layer. Transmission / reflection liquid crystal device.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかにおいて、
前記画素領域は矩形領域として形成されている一方、前
記透過表示領域は、明視方向側に位置する辺が前記画素
領域の辺に平面的にほぼ重なる矩形領域として形成さ
れ、かつ、 前記画素領域と前記透過表示領域の辺同士が重なる側に
は、当該辺に対して平面的にほぼ重なるように遮光膜が
形成されていることを特徴とする半透過・反射型液晶装
置。
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The pixel region is formed as a rectangular region, while the transmissive display region is formed as a rectangular region in which a side located on the clear-view direction side substantially overlaps a side of the pixel region in plan view, and the pixel region On the side where the sides of the transmissive display area overlap each other, a light-shielding film is formed so as to substantially overlap the sides in plan view.
【請求項5】 前記画素領域と前記透過表示領域とが重
なっている辺に隣接して、隣の画素領域の反射表示領域
が形成されていることを特徴とする請求項4記載の半透
過・反射型液晶装置。
5. The transflective display according to claim 4, wherein a reflective display area of an adjacent pixel area is formed adjacent to a side where the pixel area and the transmissive display area overlap each other. Reflective liquid crystal device.
【請求項6】 表面に第1の透明電極が形成された第1
の基板と、前記第1の電極と対向する面側に第2の透明
電極が形成された第2の基板と、前記第1の基板と前記
第2の基板との間に保持された液晶層とを有し、前記第
1の基板は、前記第1の透明電極と前記第2の透明電極
とが対向する画素領域に反射表示領域を構成し、当該画
素領域の残りの領域を透過表示領域とする光反射層、前
記反射表示領域における前記液晶層の層厚を前記透過表
示領域における前記液晶層の層厚よりも小さくする層厚
調整層、および前記第1の透明電極を下層側から上層側
に向かってこの順に備える半透過・反射型液晶装置にお
いて、 前記画素領域は矩形領域として形成されている一方、前
記透過表示領域は、明視方向側に位置する辺が前記画素
領域の辺に平面的にほぼ重なる矩形領域として形成さ
れ、かつ、 前記画素領域と前記透過表示領域の辺同士が重なる側に
は、当該辺に対して平面的にほぼ重なるように遮光膜が
形成されていることを特徴とする半透過・反射型液晶装
置。
6. A first transparent electrode having a first transparent electrode formed on the surface thereof.
Substrate, a second substrate on which a second transparent electrode is formed on the surface side facing the first electrode, and a liquid crystal layer held between the first substrate and the second substrate. The first substrate has a reflective display region in a pixel region where the first transparent electrode and the second transparent electrode face each other, and the remaining region of the pixel region is a transmissive display region. A light reflection layer, a layer thickness adjusting layer for making the layer thickness of the liquid crystal layer in the reflective display region smaller than the layer thickness of the liquid crystal layer in the transmissive display region, and the first transparent electrode from the lower layer side to the upper layer. In the semi-transmissive / reflective liquid crystal device provided in this order toward the side, the pixel region is formed as a rectangular region, while the transmissive display region has a side located on the side of the clear view in the side of the pixel region. It is formed as a rectangular area that substantially overlaps in a plane, and Serial on the side where the overlap edges between the pixel region and the transmissive display region, the semi-transmissive reflective liquid crystal device, wherein a light shielding film is formed so as to planarly overlap substantially with respect to the sides.
【請求項7】 前記画素領域と前記透過表示領域とが重
なっている辺に隣接して、隣の画素領域の反射表示領域
が形成されていることを特徴とする請求項6記載の半透
過・反射型液晶装置。
7. The semi-transmissive display according to claim 6, wherein a reflective display area of an adjacent pixel area is formed adjacent to a side where the pixel area and the transmissive display area overlap each other. Reflective liquid crystal device.
【請求項8】 請求項1ないし7のいずれかにおいて、
前記反射表示領域に形成された反射表示用カラーフィル
タと、前記透過表示領域に形成された、前記反射表示用
カラーフィルタよりも着色度の強い透過表示用カラーフ
ィルタを備えていることを特徴とする半透過・反射型液
晶装置。
8. The method according to claim 1, wherein
A reflective display color filter formed in the reflective display area, and a transmissive display color filter formed in the transmissive display area and having a higher degree of coloring than the reflective display color filter. Transflective liquid crystal device.
【請求項9】前記反射表示領域と前記透過表示領域との
境界領域では、前記反射表示用カラーフィルタの端縁
が、前記光反射層の端縁と平面的にほぼ重なっているこ
とを特徴とする請求項8記載の半透過・反射型液晶装
置。
9. In the boundary area between the reflective display area and the transmissive display area, an edge of the color filter for reflective display substantially planarly overlaps an edge of the light reflecting layer. The semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to claim 8.
【請求項10】前記反射表示領域と前記透過表示領域と
の境界領域には、前記反射表示用カラーフィルタを構成
する層および/または前記透過表示用カラーフィルタを
構成する層であって、色調の異なる2層以上が積層され
たオーバーラップ部が設けられていることを特徴とする
請求項8記載の半透過・反射型液晶装置。
10. A boundary region between the reflective display region and the transmissive display region is a layer constituting the reflective display color filter and / or a layer constituting the transmissive display color filter, and has a color tone. 9. The semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to claim 8, further comprising an overlapping portion in which two or more different layers are laminated.
【請求項11】前記オーバーラップ部では、前記反射表
示用カラーフィルタの端部と前記透過表示用カラーフィ
ルタの端部とが重なり合っていることを特徴とする請求
項10記載の半透過・反射型液晶装置。
11. The semi-transmissive / reflective type of claim 10, wherein in the overlap portion, an end of the reflective display color filter and an end of the transmissive display color filter overlap each other. Liquid crystal device.
【請求項12】前記反射表示領域と前記透過表示領域と
の境界領域では、前記層厚調整層の端部に斜面が形成さ
れており、前記オーバーラップ部と平面的に重なる領域
内に、前記斜面が存在していることを特徴とする請求項
10または11のいずれかに記載の半透過・反射型液晶
装置。
12. A boundary surface between the reflective display area and the transmissive display area is formed with an inclined surface at an end portion of the layer thickness adjusting layer, and the inclined surface is formed in an area overlapping with the overlapping portion in a plan view. 12. The semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to claim 10, wherein an inclined surface is present.
【請求項13】 請求項1ないし12のいずれかにおい
て、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界領域
では、前記層厚調整層の端部に斜面が形成されており、
該斜面の平面的な幅が8μm以下であることを特徴とす
る半透過・反射型液晶装置。
13. The inclined surface is formed at an end portion of the layer thickness adjusting layer in a boundary region between the reflective display region and the transmissive display region according to any one of claims 1 to 12,
A semi-transmissive / reflective liquid crystal device, wherein the plane width of the inclined surface is 8 μm or less.
【請求項14】 請求項1ないし13のいずれかにおい
て、前記液晶層では、液晶のツイスト角が90°以下で
あることを特徴とする半透過・反射型液晶装置。
14. The transflective liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal layer has a liquid crystal twist angle of 90 ° or less.
【請求項15】 請求項1ないし14のいずれかに記載
の半透過・反射型液晶装置を表示部に備えることを特徴
とする電子機器。
15. An electronic apparatus comprising the semi-transmissive / reflective liquid crystal device according to claim 1 in a display section.
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