JP2003006919A

JP2003006919A - 光記録媒体、および光記録媒体製造方法

Info

Publication number: JP2003006919A
Application number: JP2001189231A
Authority: JP
Inventors: Hideji Sato; 秀二佐藤
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2001-06-22
Filing date: 2001-06-22
Publication date: 2003-01-10

Abstract

(57)【要約】【課題】複数の情報記録層を有する光記録媒体におい
ても再生専用領域の読み取り精度を低下させないことが
本発明の課題である。【解決手段】再生専用領域１０７に重なる情報記録層
には薄膜を形成しないことにより、もしくは相変化記録
膜を使用した書き換え可能型の光記録媒体である場合、
再生専用領域に重なる情報記録層中の相変化記録膜の相
状態を記録再生光の透過率が最も高い相状態とすること
により、再生専用領域１０７の読み取り精度を向上させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は媒体に関する情報が
記録された領域を有し、かつ複数の情報記録層を有する
多層構造の光記録媒体とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報機器、映像音響機器が必要と
する情報量の拡大化に伴い、データアクセスの容易さ、
大容量データの蓄積、機器の小型化に優れる、ディスク
形状の光記録媒体、いわゆる光ディスクが注目されてい
る。光ディスクには、再生専用型光ディスクや追記型光
ディスク、記録再生型光ディスクとしての相変化型光デ
ィスクおよび光磁気型ディスク等が存在し、ＣＤ、ＤＶ
Ｄ、ＭＯなどと呼ばれ、様々な用途に実用化されてい
る。

【０００３】これら光ディスクは一般的に内周部にリー
ドインエリア、外周部にリードアウトエリア、その間に
データエリアが設けられており、リードインエリアには
例えばＤＶＤであれば、ＤＶＤ規格のタイプ（ＤＶＤ−
ＲＯＭ・ＤＶＤ−ＲＡＭ・ＤＶＤ−Ｒ等）、ディスクサ
イズ、ディスク構造（１層もしくは2層）、地域コー
ド、バーストカッティングエリアの記述子、記録時の露
光量指定のための線速度条件、読み出しパワー、ピーク
パワー、バイアスパワー等、媒体に関する情報が、また
リードアウトエリアにおいてはデータエリアの終端を示
す情報等が記録されている。データエリアは再生専用媒
体においては映像や音楽等のコンテンツが、書き換え可
能型媒体においてはユーザーデータが記録される。通
常、再生時にはまずリードインエリアの媒体に関する情
報を読み出し、その後データエリアの情報を読み出すと
いったことが行われる。

【０００４】光ディスクは市場の要望により大容量化が
必要となり、複数層の情報記録層を有する光ディスクが
考案された。また再生時の煩わしさを考慮し、一方の面
から複数層の再生を行う光ディスクも開発され実用化に
いたっている。片面二層のＤＶＤ−ＲＯＭがそれに相当
する。また光ディスクは書き換え型も考案されている。
書き換え型の光ディスクは相変化記録膜を用いることに
よって行われる。相変化記録膜はその相状態により、記
録再生光に対する屈折率が変化する物質である。相状態
の変化は記録再生光照射時の照射時間、強度により記録
膜の冷却速度を変化させ行われる。相変化記録膜を使用
した書き換え型の光ディスクでは、凹凸の案内溝上に相
変化記録膜を形成し、相変化記録膜上に相の異なるマー
クを形成し記録再生が行われる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが情報記録層が
複数の場合、層間干渉が発生する。また一層当たりの反
射光量も層数分の一と非常に小さくなる。さらに書き換
え可能型の光ディスクの場合、データエリアでの信号振
幅は凹凸パターンの深さが浅い方が大きいため、一般的
にデータエリアでの信号品質を確保するため、凹凸パタ
ーンの深さを浅くする。そのため、リードインエリアに
予め形成された凹凸の再生専用情報を再生したときの信
号振幅は非常に小さくなってしまう。

【０００６】そのため複数の情報記録層を有する光ディ
スクの場合、リードインエリアに形成された再生専用領
域の情報は、再生信号品質、読み取り精度が極端に低下
し、最悪必要な情報を読み取ることができなくなる。複
数の情報記録層を有する光ディスクの場合でも、再生専
用領域の情報の読み取り精度を向上させた光記録媒体を
提供すること、またその光記録媒体を製造する製造方法
を提供することが本発明の目的である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明に係る光記録媒体においては、媒体に関する
情報が記録された再生専用領域に重なる他の情報記録層
の領域には薄膜が無い、もしくは薄膜中の相変化記録膜
の相状態は記録再生光の透過率が最も高い相状態である
ことを特徴とする。

【０００８】また、本発明に係る光記録媒体製造方法に
おいては、媒体に関する情報を記録した凹凸パターンを
有する基板と所望の凹凸パターンを有する複数の基板を
作製し、それぞれの凹凸パターン上に薄膜を成膜し、そ
れぞれの基板を貼り合わせる光記録媒体製造方法におい
て、貼り合わせたときに媒体に関する情報に重なる他の
情報記録層の領域には薄膜を成膜しないこと、もしくは
薄膜が相変化記録膜を含み構成されている場合は、相変
化記録膜の相状態を記録再生光の透過率が最も高い相状
態とすることを特徴とする。

【０００９】また、本発明に係る光記録媒体製造方法に
おいては、媒体に関する情報を記録した凹凸パターンを
有する基板を作製し、その基板の凹凸パターン上に薄膜
を成膜し、その薄膜上に所望の凹凸パターンと薄膜から
なる情報記録層を少なくとも一層以上形成する光記録媒
体製造方法において、複数の情報記録層の媒体に関する
情報と重なる領域に成膜を行わないこと、もしくは薄膜
が相変化記録膜を含み構成されており、相変化記録膜の
相状態を記録再生光の透過率が最も高い相状態とするこ
とを特徴とする。

【００１０】

【発明の実施の形態】（実施の形態１）以下、本発明の
実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明す
る。図１は本発明実施の形態１における光記録媒体の断
面について示した図、図２は図１における基板１０１を
示した図である。図１では特に情報記録層が２層で書き
換え可能な光ディスクを示している。

【００１１】図１における光ディスクは凹凸パターンが
形成された第一基板１０１と、第一基板上の相変化記録
膜からなる第一情報記録層１０２と第二情報記録層１０
３と第一情報記録層１０２と第二情報記録層１０３の中
間にある記録再生光１０６に対してほぼ透明な透明層１
０４と、第二情報記録層上の保護層１０５から構成され
ている。

【００１２】保護層１０５の厚みは、２０ＧＢ以上の記
録容量、ＮＡ０．８以上の再生ヘッドとしたとき、集光
された記録再生光の収差を小さくし、かつディスク面の
傾きに対する許容度を大きくするため、約０．１ｍｍと
し、また光ディスクの総厚みは、ディスクの剛性やＣ
Ｄ、ＤＶＤとの互換性を考慮し約１．２ｍｍとする。し
たがって第一基板１０１の基板厚は約１．１ｍｍであ
る。また透明層１０４は記録再生時の第一情報記録層１
０２と第二情報記録層１０３での記録再生光の収差を考
慮し約３０ｕｍとした。

【００１３】また第一情報記録層１０２と第二情報記録
層１０３における凹凸パターンの深さは記録再生領域の
記録再生時における信号品質とトラッキングエラー信号
の振幅を考慮し、記録再生光１０６の波長をλ、記録再
生光１０６が伝搬する物質の屈折率をｎとすると約λ／
１２ｎとする。

【００１４】第一情報記録層１０２は再生専用領域１０
７と記録再生領域１０８から構成され、第二情報記録層
１０３は記録再生領域１０９のみから構成される。再生
専用領域１０７には媒体に関する情報、例えば記録・再
生・消去特性に関する情報やデータの復号化のための情
報等が記録されており、記録時あるいは再生時に使用さ
れる。

【００１５】記録は保護層１０５側より記録再生光１０
６を入射し、第一情報記録層１０２の記録再生領域１０
８、もしくは第二情報記録層１０３の記録再生領域１０
９に記録再生光１０６を集光し、情報記録層を構成する
相変化記録膜の相状態を変化させることによってマーク
を形成し行われる。再生は記録再生領域１０８、１０９
においては相変化記録膜上のマークによって、また再生
専用領域１０７においては予め記録されている凹凸のパ
ターンによって生ずる記録再生光１０６の強度変化を観
測し行われる。

【００１６】本発明に係る光記録媒体においては、第一
情報記録層１０２の再生専用領域１０７に重なる第二情
報記録層１０３の領域は相変化記録膜や反射膜からなる
薄膜が無い状態、もしくは相変化記録膜等の薄膜は存在
するが相変化記録膜の相状態は透過率が最も高い相状態
となっている。すなわち記録再生光１０６が第二情報記
録層１０３で反射しない構造となっている。そのため層
間干渉が無く、再生専用領域１０７の情報を高い精度で
読み取ることが可能となる。なお相変化記録膜から成る
情報記録層の場合、再生専用領域１０７の反射率は高反
射率となる相状態である。

【００１７】図２は、基板２０１を記録再生光１０６の
入射方向から見た図である。再生専用領域２０２は半径
２２．６ｍｍ〜２３ｍｍにピットが形成されており、ピ
ット長は０．３６ｕｍ、トラックピッチは０．４ｕｍで
ある。記録再生領域２０３は半径２３ｍｍ〜５８ｍｍに
案内溝が形成されており、トラックピッチは０．３２ｕ
ｍである。保持孔２０４はＣＤ、ＤＶＤとの互換性を考
慮し、直径約１５ｍｍである。

【００１８】本発明における評価系は再生ヘッドＮＡ
０．８５、記録再生光の波長λ４０５ｎｍであり、レー
ザパワー０．４ｍＷで再生専用領域のピットの再生を行
った。第二情報記録層に薄膜がない場合、信号の時間的
揺らぎの度合いで信号の品質を表したジッター値におい
て８．０％という値で再生でき、また情報記録層が相変
化記録膜からなり、第二情報記録層の透過率が最も高い
状態である場合、ジッター値は８．５％であった。な
お、従来構成である第一情報記録層、第二情報記録層、
両情報記録層に薄膜がある場合、ジッター値は１３％で
あり、信号品質が低下した。

【００１９】なおカード型の光記録媒体や３層以上の情
報記録層を有する光記録媒体であっても本発明の実施は
可能である。また第一情報記録層１０２、第二情報記録
層１０３ともに内周と外周の両方に再生専用領域を有し
ていたとしても、本発明の本質を損なうものではない。

【００２０】（実施の形態２）図５は本発明、実施の形
態２における光ディスクの製造工程を示した図である。
まず第一基板３０１と第二基板４０１の作製方法を示
す。

【００２１】図３は第一基板３０１の作製方法を示した
図である。ガラス盤３０２にフォトレジスト３０３を塗
布し（工程（３ａ））、光等を用いガラス盤３０２上の
フォトレジスト３０３に露光を行う（工程（３ｂ））。
露光によりアルカリ可溶となったフォトレジスト３０３
をアルカリ溶液により溶融除去し所望の凹凸パターンを
得る現像を行う（工程（３ｃ））。現像工程後、メッキ
用電極のためＮｉ等をスパッタし、メッキを行い金属板
３０４を形成する（工程（３ｄ））。金属板３０４をガ
ラス盤３０２から剥離し（工程（３ｅ））、剥離した金
属板３０４に付着するフォトレジスト３０３を除去し、
第一基板３０１の型となるスタンパ３０５を得る。作製
したスタンパ３０５を用い射出成形等の方法により、ス
タンパ３０５の形状をポリカーボネート等の合成樹脂に
転写し（工程（３ｆ））、第一基板３０１を得る。な
お、第一基板３０１は記録再生光が透過する必要がない
ため、基材としてガラスや金属等の物質の基材を用い２
Ｐ法等により作製してもよい。

【００２２】次に図４に第二基板４０１の作製方法を示
す。スタンパは第一基板作製工程で示した方法と同様の
方法により作製されたスタンパを用いる。スタンパ４０
２に紫外線硬化樹脂４０３を塗布し（工程（４ａ））、
その上よりポリカーボネート等の合成樹脂で作製された
厚さ約０．１ｍｍの薄膜シート４０４を貼り付ける（工
程（４ｂ））。紫外線硬化樹脂４０３を所望の膜厚にす
るため、スタンパ４０２と薄膜シート４０４を回転させ
余分な紫外線硬化樹脂を除去した後（工程（４ｃ））、
紫外線４０５を照射し紫外線硬化樹脂４０３を硬化させ
る（工程（４ｄ））。スタンパ４０２と紫外線硬化樹脂
４０３との界面を剥離し、第二基板４０１を得る（工程
（４ｅ））。

【００２３】作製された第一基板５０１、第二基板５０
２にはそれぞれのスタンパに対し凹凸の反転したパター
ンが形成される。凹凸パターンは螺旋状のピットまたは
グルーブから構成され、内周径約２２ｍｍから外周径約
５９ｍｍまでの範囲に形成される（工程（５ａ）、工程
（５ｂ））。なお第一基板５０１上には、媒体に関する
情報を記録した再生専用領域が形成されている。

【００２４】次に書き換え可能型の光ディスクである場
合、第一基板５０１、第二基板５０２上に形成された凹
凸パターン上にそれぞれ第一情報記録層５０３、第二情
報記録層５０４を形成する（工程（５ｃ）、工程（５
ｄ））。情報記録層は、誘電体膜で挟まれた書き換え可
能な相変化記録膜とアルミや銀合金などの金属薄膜から
なる反射膜により構成されている。これら誘電体膜、相
変化記録膜、反射膜はスパッタ法により形成される。ま
た再生専用の光ディスクの場合、反射膜のみを形成す
る。

【００２５】ここで第二基板５０２上の第二情報記録層
５０４への反射膜や相変化記録膜、誘電体膜の形成は第
一情報記録層５０３に記録されている媒体に関する情報
を示す再生専用領域に重なる領域を除き行われる。すな
わち重なる領域にはマスクをし、膜が付着しないように
してスパッタを行う。もしくは相変化記録膜を使用した
書き換え可能型の光ディスクである場合、媒体に関する
情報を示す再生専用領域に重なる領域の相変化記録膜の
相状態は最も透過率の高い相状態とする（工程（５
ｅ）、工程（５ｆ））。初期結晶化はこのときに行う。
初期結晶化とは一般的に相変化記録膜成膜直後の非晶質
の状態を結晶の状態にし、相変化記録膜を書き換え可能
な状態にする操作である。

【００２６】媒体に関する情報を示す再生専用領域と重
なる情報記録層の領域に薄膜を成膜しない、もしくは相
変化記録膜を含む薄膜を成膜しその相変化記録膜の相状
態を記録再生光に対して透過率を最も高くすることによ
り、媒体に関する情報の再生時、他の層から受ける層間
干渉が無くもしくは少なくなり、また媒体に関する情報
までの光量の減衰が無くもしくは少なくなり、読み取り
精度が向上する。

【００２７】次に第一基板５０１と第二基板５０２を貼
り合わせる（工程（５ｇ））。第一情報記録層５０３上
に紫外線硬化樹脂５０７を塗布し、第二基板５０２を第
二情報記録層５０４が第一情報記録層５０３に対向する
ように重ね合わせる。余分な紫外線硬化樹脂５０７を除
去し、所望の膜厚にするため基板を回転させる。厚みは
情報記録層間で影響と記録再生光の収差を考慮した厚み
に設定される。最後に紫外線５０８を照射し、紫外線硬
化樹脂５０７を硬化させ（工程（５ｈ））、完成したデ
ィスクを得る。

【００２８】なお３層以上の情報記録層を有する光ディ
スクを作製する場合、第二情報記録層５０４作製すると
きと同様の方法により、第ｎ基板と第ｎ情報記録層を作
製し、第ｎ−１情報記録層上に工程（５ｅ）と同様の方
法により貼り合わせることによって行われる。

【００２９】また相変化記録膜を使用した書き換え可能
型の光ディスクである場合、貼り合わせ後に再生専用領
域に重なる部分の相変化記録膜の相状態を記録再生光に
対して最も高透過率としてもよい。この場合、それぞれ
の情報記録層の相変化記録膜の初期結晶化は同様に貼り
合わせ後に行われる。

【００３０】（実施の形態３）図６は本発明実施の形態
３における光ディスク製造工程を示した図である。第一
基板６０１はポリカーボネート等の合成樹脂もしくはガ
ラスや金属からなり、実施の形態２と同様の方法により
作製されたスタンパを用い、射出成型法、２Ｐ法等によ
り作製される（工程（６ａ））。第一情報記録層６０２
はアルミなどの金属薄膜からなる反射膜と誘電体膜に挟
まれた書き換え可能な相変化記録膜によって構成されて
おり、スパッタ法等により形成される（工程（６
ｂ））。

【００３１】次に第一情報記録層６０２にＹＡＧレーザ
６０３を集光レンズ６０４にて集光させ、第一情報記録
層６０２の相変化記録膜の初期結晶化を行う（工程（６
ｃ））。

【００３２】次に第一情報記録層６０２上に紫外線硬化
樹脂６０６を塗布し、その上にスタンパ６０５を乗せ
（工程（６ｄ））、余分な紫外線硬化樹脂６０６を除去
し所望の膜厚になるように重ね合わせた基板６０１とス
タンパ６０５を回転させる。紫外線硬化樹脂６０６に紫
外線６０７を照射し硬化させ（工程（６ｅ））、スタン
パ６０５を紫外線硬化樹脂６０６から剥離させる（工程
（６ｆ））。紫外線硬化樹脂６０６にはスタンパ６０５
上の凹凸パターンが転写される。

【００３３】次に紫外線硬化樹脂６０６上に第二情報記
録層６０８を形成する（工程（６ｇ））。第二情報記録
層６０８は第一情報記録層６０２と同様、誘電体膜で挟
まれた書き換え可能な相変化記録膜と、銀合金などの金
属薄膜からなる反射膜によって構成され、スパッタ法に
より形成する。本発明によれば、第一情報記録層６０２
の媒体に関する情報を記録している領域と重なる第二情
報記録層の領域は相変化記録膜、誘電体膜、反射膜、い
ずれの膜も付かないようにスパッタを行う。例えば、マ
スクを付けることによって所望の領域のみスパッタを行
わないようにする。もしくは相変化記録膜、誘電体膜、
反射膜を付けた後、相変化記録膜の相状態を透過率の最
も高い状態とする（工程（６ｈ））。このとき第二情報
記録層６０８の初期結晶化も行う。最後に第二情報記録
層６０８上に保護層６０９を形成し、完成したディスク
を得る（工程（６ｈ））。

【００３４】なお三層以上の情報記録層を有する光ディ
スクを作製する場合、工程（６ｄ）から工程（６ｈ）ま
でを必要な回数繰り返すことによって作製される。この
とき情報記録層の形成は第二情報記録層６０８形成時と
同様、第一情報記録層６０２の媒体情報が記録されてい
る再生専用領域と重なる領域は膜が付かないようにす
る。もしくは相変化記録膜を成膜し、媒体情報が記録さ
れている再生専用領域と重なる相変化記録膜の領域の相
状態を記録再生光に対して透過率の最も高い状態として
もよい。

【００３５】また相変化記録膜を使用した書き換え可能
型の光ディスクである場合、貼り合わせ後に再生専用領
域に重なる部分の相変化記録膜の相状態を記録再生光に
対して最も高透過率としてもよい。この場合、それぞれ
の情報記録層の相変化記録膜の初期結晶化は同様に貼り
合わせ後に行われる。

【００３６】

【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
に係る光記録媒体、及び光記録媒体製造方法によれば、
複数の情報記録層を有し、かつ複数の情報記録層への記
録あるいは再生は一方の側から記録再生光を入射し行
い、かつ少なくとも一層の情報記録層に媒体に関する情
報を有する光記録媒体において、記録再生光入射面から
媒体に関する情報が記録されている領域までの情報記録
層において、媒体に関する情報に重なる領域では反射膜
や相変化記録膜、誘電体膜等の薄膜が無いようにするこ
とにより、層間干渉を無くすことが可能となり、再生専
用領域の情報の読み取り精度を向上させることが可能と
なる。

【００３７】また本発明においては、情報記録層に相変
化記録膜を用いており、記録再生光入射面から媒体に関
する情報が記録されている領域までの情報記録層におい
て、媒体に関する情報に重なる領域の相変化記録膜を最
も透過率の高い状態とすることで、層間干渉を少なくす
ることができ、再生専用領域の情報の読み取り精度を向
上させることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態１における光記録媒体を示す断面図

【図２】実施の形態１における第一基板を示す図

【図３】実施の形態２における第一基板作製方法を示す
図

【図４】実施の形態２における第二基板作製方法を示す
図

【図５】実施の形態２における光ディスクの貼り合わせ
工法を示す図

【図６】実施の形態３における光ディスクの積み上げ工
法を示す図

【符号の説明】

１０１，２０１，３０１，５０１，６０１第一基板１０２，５０３，６０２第一情報記録層１０３，５０４，６０８第二情報記録層１０４中間層１０５，６０９保護層１０６記録再生光１０７，２０２再生専用領域１０８，１０９，２０３記録再生領域２０４保持孔３０２ガラス盤３０３フォトレジスト３０４金属板３０５，４０２，６０５スタンパ４０１，５０２第二基板４０３，５０７，６０６紫外線硬化樹脂４０４薄膜シート４０５，５０８，６０７紫外線５０５，６０３ＹＡＧレーザ５０６，６０４集光レンズ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所望の凹凸パターンと前記凹凸パターン
上の薄膜から構成された情報記録層を複数層有し、かつ
少なくとも一つの情報記録層に媒体に関する情報が記録
された再生専用領域を有する光記録媒体であって、前記
再生専用領域に重なる少なくとも記録再生光入射面側の
前記情報記録層の領域には前記薄膜が無いことを特徴と
する光記録媒体。
【請求項２】所望の凹凸パターンと前記凹凸パターン
上の相変化記録膜を含む薄膜から構成された情報記録層
を複数層有し、かつ少なくとも一つの情報記録層に媒体
に関する情報が記録された再生専用領域を有する光記録
媒体であって、前記再生専用領域に重なる少なくとも記
録再生光入射面側の前記情報記録層の領域の前記相変化
記録膜は前記記録再生光の透過率が最も高い相状態であ
ることを特徴とする光記録媒体。
【請求項３】前記再生専用領域の前記相変化記録膜は
前記記録再生光の反射率が最も高い相状態であることを
特徴とする請求項２記載の光記録媒体。
【請求項４】媒体に関する情報が記録された再生専用
領域を含む凹凸パターンが形成された主基板を作製する
工程と、前記主基板の前記凹凸パターン上に薄膜を成膜
する媒体情報管理情報記録層形成工程と、所望の凹凸パ
ターンが形成された少なくとも一枚の基板を作製する工
程と、前記再生専用領域に重なるそれぞれの前記基板の
領域に薄膜を成膜しないようそれぞれの前記基板の前記
凹凸パターン上に薄膜を成膜し情報記録層を形成する工
程と、前記媒体情報管理情報記録層を形成した前記主基
板の記録再生光入射面側に前記情報記録層を形成した前
記基板を前記記録再生光に対して略透明な透明層でそれ
ぞれ貼り合わせる貼り合わせ工程とを有することを特徴
とする光記録媒体製造方法。
【請求項５】媒体に関する情報が記録された再生専用
領域を含む凹凸パターンが形成された主基板を作製する
工程と、前記主基板の前記凹凸パターン上に相変化記録
膜を含む薄膜を成膜する媒体情報管理情報記録層形成工
程と、所望の凹凸パターンが形成された少なくとも一枚
の基板を作製する工程と、前記基板の前記凹凸パターン
上に相変化記録膜を含む薄膜を成膜する情報記録層形成
工程と、前記再生専用領域に重なる前記情報記録層の領
域の前記相変化記録膜の相状態を記録再生光の透過率が
最も高い相状態とする工程と、前記媒体情報管理情報記
録層を形成した前記主基板の前記記録再生光入射面側に
前記情報記録層を形成した前記基板を前記記録再生光に
対して略透明な透明層でそれぞれ貼り合わせる貼り合わ
せ工程とを有することを特徴とする光記録媒体製造方
法。
【請求項６】前記媒体情報管理情報記録層形成工程後
かつ前記貼り合わせ工程前に前記再生専用領域の前記相
変化記録膜の相状態を前記記録再生光の反射率が最も高
い相状態とする工程を有することを特徴とする請求項５
記載の光記録媒体製造方法。
【請求項７】媒体に関する情報が記録された再生専用
領域を含む凹凸パターンが形成された主基板を作製する
工程と、前記主基板の前記凹凸パターン上に相変化記録
膜を含む薄膜を成膜する媒体情報管理情報記録層形成工
程と、所望の凹凸パターンが形成された少なくとも一枚
の基板を作製する工程と、前記基板の前記凹凸パターン
上に相変化記録膜を含む薄膜を成膜する情報記録層形成
工程と、前記媒体情報管理情報記録層を形成した前記主
基板の少なくとも前記記録再生光入射面側に前記情報記
録層を形成した前記基板を記録再生光に対して略透明な
透明層でそれぞれ貼り合わせる貼り合わせ工程と、前記
再生専用領域に重なる少なくとも前記記録再生光入射面
側の前記情報記録層の領域の前記相変化記録膜の相状態
を前記記録再生光の透過率が最も高い相状態とする工程
とを有することを特徴とする光記録媒体製造方法。
【請求項８】前記貼り合わせ工程後に前記再生専用領
域の前記媒体情報管理情報記録層の前記相変化記録膜の
相状態を前記記録再生光の反射率が最も高い相状態とす
る工程を有することを特徴とする請求項７記載の光記録
媒体製造方法。
【請求項９】媒体に関する情報が記録された再生専用
領域を含む凹凸パターンが形成された主基板を作製する
工程と、前記主基板の前記凹凸パターン上に薄膜を成膜
する媒体情報管理情報記録層形成工程と、前記媒体情報
管理情報記録層上に記録再生光に対して略透明な透明層
で凹凸パターンを形成し、前記再生専用領域と重なる領
域に薄膜を成膜しないように前記透明層で形成された前
記凹凸パターン上に薄膜を成膜する情報記録層形成工程
を少なくとも一回行い、前記情報記録層上に前記記録再
生光に対して略透明な保護層を形成する保護層形成工程
とを有することを特徴とする光記録媒体製造方法。
【請求項１０】媒体に関する情報が記録された再生専
用領域を含む凹凸パターンが形成された主基板を作製す
る工程と、前記主基板の前記凹凸パターン上に薄膜を成
膜する媒体情報管理情報記録層形成工程と、前記媒体情
報管理情報記録層上に記録再生光に対して略透明な透明
層で凹凸パターンを形成し、前記透明層で形成された前
記凹凸パターン上に相変化記録膜を含む薄膜を成膜し、
前記再生専用領域と重なる領域の前記相変化記録膜の相
状態を前記記録再生光の透過率が最も高い相状態とする
情報記録層形成相最適化工程を少なくとも一回行い、前
記情報記録層上に前記記録再生光に対して略透明な保護
層を形成する保護層形成工程とを有することを特徴とす
る光記録媒体製造方法。
【請求項１１】前記媒体情報管理情報記録層形成工程
後に前記再生専用領域の前記相変化記録膜の相状態を前
記記録再生光の反射率が最も高い相状態とする工程を有
することを特徴とする請求項１０記載の光記録媒体製造
方法。
【請求項１２】媒体に関する情報が記録された再生専
用領域を含む凹凸パターンが形成された主基板を作製す
る工程と、前記主基板の前記凹凸パターン上に薄膜を成
膜する媒体情報管理情報記録層形成工程と、前記媒体情
報管理情報記録層上に記録再生光に対して略透明な透明
層で凹凸パターンを形成し、前記透明層で形成された前
記凹凸パターン上に相変化記録膜を含む薄膜を成膜し情
報記録層を形成する情報記録層形成工程を少なくとも一
回行い、前記情報記録層上に前記記録再生光に対して略
透明な保護層を形成する保護層形成工程と、前記再生専
用領域と重なる領域の前記相変化記録膜の相状態を前記
記録再生光の透過率が最も高い相状態とする工程とを有
することを特徴とする光記録媒体製造方法。
【請求項１３】前記保護層形成工程後に前記再生専用
領域の前記相変化記録膜の相状態を前記記録再生光の反
射率が最も高い相状態とする工程を有することを特徴と
する請求項１２記載の光記録媒体製造方法。