JP2003086941A - プリント配線板 - Google Patents
プリント配線板Info
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- JP2003086941A JP2003086941A JP2001277903A JP2001277903A JP2003086941A JP 2003086941 A JP2003086941 A JP 2003086941A JP 2001277903 A JP2001277903 A JP 2001277903A JP 2001277903 A JP2001277903 A JP 2001277903A JP 2003086941 A JP2003086941 A JP 2003086941A
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- insulating resin
- printed wiring
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱履歴による反りの発生を低減することがで
きると共に、最外層の導体層をファインパターンで形成
することが容易になるプリント配線板を提供する。 【解決手段】 内層回路基板1の表面に複数層の絶縁樹
脂層2a,2b…と導体層3a,3b…とを交互にビル
ドアップして設けることによって形成されるプリント配
線板に関する。最外層の絶縁樹脂層2bはガラスクロス
4を基材として含有しない樹脂主体の層として形成され
ていると共に、最外層から2層目の絶縁樹脂層2aはガ
ラスクロス4を基材として含有する層として形成されて
いる。
きると共に、最外層の導体層をファインパターンで形成
することが容易になるプリント配線板を提供する。 【解決手段】 内層回路基板1の表面に複数層の絶縁樹
脂層2a,2b…と導体層3a,3b…とを交互にビル
ドアップして設けることによって形成されるプリント配
線板に関する。最外層の絶縁樹脂層2bはガラスクロス
4を基材として含有しない樹脂主体の層として形成され
ていると共に、最外層から2層目の絶縁樹脂層2aはガ
ラスクロス4を基材として含有する層として形成されて
いる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子機器、電気機
器、コンピュータ、通信機器等に用いられる多層構成の
プリント配線板に関するものである。
器、コンピュータ、通信機器等に用いられる多層構成の
プリント配線板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体チップやチップ部品等の電
子部品は軽薄小型化が進んでおり、これに伴ってこれら
の電子部品を搭載するプリント配線板において、導体回
路のライン幅及びライン間隔が200μm以下の狭ピッ
チであるファインパターンを有するプリント配線板の製
造技術の向上が求められてきている。特に、半導体等の
電子部品を実装・接続するランドにおいてファインパタ
ーン化の要求が高くなっている。
子部品は軽薄小型化が進んでおり、これに伴ってこれら
の電子部品を搭載するプリント配線板において、導体回
路のライン幅及びライン間隔が200μm以下の狭ピッ
チであるファインパターンを有するプリント配線板の製
造技術の向上が求められてきている。特に、半導体等の
電子部品を実装・接続するランドにおいてファインパタ
ーン化の要求が高くなっている。
【0003】そしてこのような導体回路のファインパタ
ーン化に対する設計のし易さや、低重量化などのため
に、内層用回路基板をコア材とし、この表面に絶縁樹脂
層と導体層を交互に積み上げていくように形成して多層
のプリント配線板を製造するビルドアップ工法が注目さ
れている。
ーン化に対する設計のし易さや、低重量化などのため
に、内層用回路基板をコア材とし、この表面に絶縁樹脂
層と導体層を交互に積み上げていくように形成して多層
のプリント配線板を製造するビルドアップ工法が注目さ
れている。
【0004】図2はこのビルドアップ工法による多層プ
リント配線板の製造を示すものであり、図2(a)のよ
うな表面に回路12aとして内層用導体層11を設けた
内層用回路基板1を用い、まず図2(b)のように内層
用導体層11の表面に絶縁樹脂層2aと導体層3aを設
ける。次に図2(c)のように絶縁樹脂層2aにバイア
ホール5を加工すると共にバイアホール5の内周にメッ
キ層6を形成し、さらに導体層3aに回路形成加工を施
して回路12bを形成し、バイアホール5で導体層3
a,11の層間接続をする。
リント配線板の製造を示すものであり、図2(a)のよ
うな表面に回路12aとして内層用導体層11を設けた
内層用回路基板1を用い、まず図2(b)のように内層
用導体層11の表面に絶縁樹脂層2aと導体層3aを設
ける。次に図2(c)のように絶縁樹脂層2aにバイア
ホール5を加工すると共にバイアホール5の内周にメッ
キ層6を形成し、さらに導体層3aに回路形成加工を施
して回路12bを形成し、バイアホール5で導体層3
a,11の層間接続をする。
【0005】このように導体層3aに回路12bを加工
した後、この導体層3aの表面に絶縁樹脂層2bと導体
層3bとを設け、図2(d)のように絶縁樹脂層2bに
バイアホール5を加工すると共にバイアホール5の内周
にメッキ層6を形成し、さらに導体層3bに回路形成加
工を施して回路12cを形成し、バイアホール5で導体
層3a,3bの層間接続をする。図2(d)の例では、
スルーホール13及びスルーホールメッキ14を設けて
内外の導体層3a,3b,11を接続するようにしてあ
る。そしてソルダーレジスト15を最外面に塗布するこ
とによって、図2(e)のような多層のプリント配線板
として仕上げることができるものである。
した後、この導体層3aの表面に絶縁樹脂層2bと導体
層3bとを設け、図2(d)のように絶縁樹脂層2bに
バイアホール5を加工すると共にバイアホール5の内周
にメッキ層6を形成し、さらに導体層3bに回路形成加
工を施して回路12cを形成し、バイアホール5で導体
層3a,3bの層間接続をする。図2(d)の例では、
スルーホール13及びスルーホールメッキ14を設けて
内外の導体層3a,3b,11を接続するようにしてあ
る。そしてソルダーレジスト15を最外面に塗布するこ
とによって、図2(e)のような多層のプリント配線板
として仕上げることができるものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記のように内層用回
路基板1に絶縁樹脂層2a,2bと導体層3a,3bを
交互に積み上げてビルドアップする工法で作製される多
層のプリント配線板にあって、絶縁樹脂層2a,2bの
形成は、樹脂フィルムを加熱加圧して積層したり、樹脂
を塗布して加熱硬化させたり、あるいは金属箔の片面に
半硬化状態の熱硬化性樹脂を設けて形成される樹脂付き
金属箔を加熱加圧成形して積層したりすることによって
行なわれるのが一般的である。
路基板1に絶縁樹脂層2a,2bと導体層3a,3bを
交互に積み上げてビルドアップする工法で作製される多
層のプリント配線板にあって、絶縁樹脂層2a,2bの
形成は、樹脂フィルムを加熱加圧して積層したり、樹脂
を塗布して加熱硬化させたり、あるいは金属箔の片面に
半硬化状態の熱硬化性樹脂を設けて形成される樹脂付き
金属箔を加熱加圧成形して積層したりすることによって
行なわれるのが一般的である。
【0007】従ってこのように形成される絶縁樹脂層2
a,2bは、ガラスクロスのような補強用の基材を含ま
ない樹脂主体の層であり、熱履歴による伸縮で寸法変化
が大きく発生し易い。このため、ビルドアップ工法で製
造したプリント配線板に実装部品を実装するために半田
リフロー炉を通過させる場合など、プリント配線板に熱
履歴が加わると、プリント配線板に反りが生じ易く、部
品実装に支障をきたすおそれがあるという問題があっ
た。
a,2bは、ガラスクロスのような補強用の基材を含ま
ない樹脂主体の層であり、熱履歴による伸縮で寸法変化
が大きく発生し易い。このため、ビルドアップ工法で製
造したプリント配線板に実装部品を実装するために半田
リフロー炉を通過させる場合など、プリント配線板に熱
履歴が加わると、プリント配線板に反りが生じ易く、部
品実装に支障をきたすおそれがあるという問題があっ
た。
【0008】そこで、ガラスクロスに熱硬化性樹脂を含
浸して乾燥することによって調製したプリプレグを用
い、このプリプレグを加熱加圧することによって絶縁樹
脂層2a,2bを形成することがおこなわれている。こ
のものでは、絶縁樹脂層2a,2bにガラスクロスを補
強用の基材として埋入させることができ、絶縁樹脂層2
a,2bの寸法変化を抑制することができるので、半田
リフローなど熱履歴によって反りが発生することを低減
することができるのである。
浸して乾燥することによって調製したプリプレグを用
い、このプリプレグを加熱加圧することによって絶縁樹
脂層2a,2bを形成することがおこなわれている。こ
のものでは、絶縁樹脂層2a,2bにガラスクロスを補
強用の基材として埋入させることができ、絶縁樹脂層2
a,2bの寸法変化を抑制することができるので、半田
リフローなど熱履歴によって反りが発生することを低減
することができるのである。
【0009】ここで、回路のファインパターン化に対応
するためには、表層の導体層3bの形成はアディティブ
工法やセミアディティブ工法によってメッキで行なうこ
とが望ましいところである。そして、最表層の絶縁樹脂
層2bに導体層3bをメッキで形成するにあたって、導
体層3bを密着強度高く且つファインパターンに形成す
るには、最表層の絶縁樹脂層2bの表面がフラットな粗
化面であることが必要である。しかし上記のように最表
層の絶縁樹脂層2bにガラスクロスが埋入されている
と、ガラスクロスの織り目が絶縁樹脂層2bの表面に表
われて、絶縁樹脂層2bの表面は凹凸になっており、メ
ッキによってファインパターンの導体層3bを形成する
ことが難しいという問題があった。
するためには、表層の導体層3bの形成はアディティブ
工法やセミアディティブ工法によってメッキで行なうこ
とが望ましいところである。そして、最表層の絶縁樹脂
層2bに導体層3bをメッキで形成するにあたって、導
体層3bを密着強度高く且つファインパターンに形成す
るには、最表層の絶縁樹脂層2bの表面がフラットな粗
化面であることが必要である。しかし上記のように最表
層の絶縁樹脂層2bにガラスクロスが埋入されている
と、ガラスクロスの織り目が絶縁樹脂層2bの表面に表
われて、絶縁樹脂層2bの表面は凹凸になっており、メ
ッキによってファインパターンの導体層3bを形成する
ことが難しいという問題があった。
【0010】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、熱履歴による反りの発生を低減することができる
と共に、最外層の導体層をファインパターンで形成する
ことが容易になるプリント配線板を提供することを目的
とするものである。
あり、熱履歴による反りの発生を低減することができる
と共に、最外層の導体層をファインパターンで形成する
ことが容易になるプリント配線板を提供することを目的
とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
プリント配線板は、内層回路基板1の表面に複数層の絶
縁樹脂層2a,2b…と導体層3a,3b…とを交互に
ビルドアップして設けることによって形成されるプリン
ト配線板において、最外層の絶縁樹脂層2bはガラスク
ロス4を基材として含有しない樹脂主体の層として形成
されていると共に、最外層から2層目の絶縁樹脂層2a
はガラスクロス4を基材として含有する層として形成さ
れていることを特徴とするものである。
プリント配線板は、内層回路基板1の表面に複数層の絶
縁樹脂層2a,2b…と導体層3a,3b…とを交互に
ビルドアップして設けることによって形成されるプリン
ト配線板において、最外層の絶縁樹脂層2bはガラスク
ロス4を基材として含有しない樹脂主体の層として形成
されていると共に、最外層から2層目の絶縁樹脂層2a
はガラスクロス4を基材として含有する層として形成さ
れていることを特徴とするものである。
【0012】また請求項2の発明は、請求項1におい
て、最外層の絶縁樹脂層2bの表面には導体層3bがメ
ッキによって形成されていることを特徴とするものであ
る。
て、最外層の絶縁樹脂層2bの表面には導体層3bがメ
ッキによって形成されていることを特徴とするものであ
る。
【0013】また請求項3の発明は、請求項1又は2に
おいて、最外層から2層目の絶縁樹脂層2aとその表面
に設けられる導体層3aは、ガラスクロス4を基材とす
るプリプレグと金属箔とを重ねて加熱加圧成形をするこ
とによって形成されていることを特徴とするものであ
る。
おいて、最外層から2層目の絶縁樹脂層2aとその表面
に設けられる導体層3aは、ガラスクロス4を基材とす
るプリプレグと金属箔とを重ねて加熱加圧成形をするこ
とによって形成されていることを特徴とするものであ
る。
【0014】また請求項4の発明は、請求項1乃至3の
いずれかにおいて、導体層3a,3bの層間の接続は、
絶縁樹脂層2a,2bに形成されたバイアホール5内の
メッキ層6によって行なわれていることを特徴とするも
のである。
いずれかにおいて、導体層3a,3bの層間の接続は、
絶縁樹脂層2a,2bに形成されたバイアホール5内の
メッキ層6によって行なわれていることを特徴とするも
のである。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
する。
【0016】本発明において内層回路基板1としては任
意のものを用いることができるものであり、両面金属張
り積層板を加工して積層板16の両面に内層用導体層1
1を設けたものを用いることができる。例えば、エポキ
シ樹脂などの熱硬化性樹脂をガラスクロスなどの基材に
含浸して乾燥して得られるプリプレグを一枚乃至複数枚
重ね、これの両側に銅箔などの金属箔を重ねて加熱加圧
成形をすることによって両面金属張り積層板を作製し、
そして両面の金属箔にドライフィルムを用いたテンティ
ング法などで回路12aを形成して内層用導体層11を
設けることによって、図1(a)のような内層回路基板
1を作製することができる。この内層回路基板1におい
て、内層用導体層11の表面には酸化剤を用いた酸化処
理(黒化処理あるいは黒色酸化処理と称される)を予め
行なって粗面化しておき、後述する絶縁樹脂層2aとの
密着性を高めるようにしておくのが好ましい。
意のものを用いることができるものであり、両面金属張
り積層板を加工して積層板16の両面に内層用導体層1
1を設けたものを用いることができる。例えば、エポキ
シ樹脂などの熱硬化性樹脂をガラスクロスなどの基材に
含浸して乾燥して得られるプリプレグを一枚乃至複数枚
重ね、これの両側に銅箔などの金属箔を重ねて加熱加圧
成形をすることによって両面金属張り積層板を作製し、
そして両面の金属箔にドライフィルムを用いたテンティ
ング法などで回路12aを形成して内層用導体層11を
設けることによって、図1(a)のような内層回路基板
1を作製することができる。この内層回路基板1におい
て、内層用導体層11の表面には酸化剤を用いた酸化処
理(黒化処理あるいは黒色酸化処理と称される)を予め
行なって粗面化しておき、後述する絶縁樹脂層2aとの
密着性を高めるようにしておくのが好ましい。
【0017】そして内層回路基板1の両側の表面に絶縁
樹脂層2a及び導体層3aをビルドアップする。この絶
縁樹脂層2aには図1(b)に示すようにガラスクロス
4が基材として埋入してある。このようなガラスクロス
4入りの絶縁樹脂層2aと導体層3aをビルドアップし
て設けるにあたっては、例えば、エポキシ樹脂などの熱
硬化性樹脂をガラスクロスなどの基材に含浸して乾燥し
て得られるプリプレグと、銅箔などの金属箔を、この順
に内層回路基板1の表面に重ね、これを加熱加圧成形す
ることによって行なうことができるものであり、ガラス
クロスを基材とするプリプレグによってガラスクロス4
を埋入した絶縁樹脂層2aを形成することができると共
に金属箔によって導体層3aを形成することができるも
のである。
樹脂層2a及び導体層3aをビルドアップする。この絶
縁樹脂層2aには図1(b)に示すようにガラスクロス
4が基材として埋入してある。このようなガラスクロス
4入りの絶縁樹脂層2aと導体層3aをビルドアップし
て設けるにあたっては、例えば、エポキシ樹脂などの熱
硬化性樹脂をガラスクロスなどの基材に含浸して乾燥し
て得られるプリプレグと、銅箔などの金属箔を、この順
に内層回路基板1の表面に重ね、これを加熱加圧成形す
ることによって行なうことができるものであり、ガラス
クロスを基材とするプリプレグによってガラスクロス4
を埋入した絶縁樹脂層2aを形成することができると共
に金属箔によって導体層3aを形成することができるも
のである。
【0018】このように絶縁樹脂層2aと導体層3aを
ビルドアップした後、図1(c)に示すように、絶縁樹
脂層2aにレーザー加工してバイアホール5を形成する
と共にバイアホール5の内周に銅の無電解メッキなどで
メッキ層6を形成し、さらにドライフィルムを用いたテ
ンティング法などで導体層3aにプリント加工をして回
路12bを形成し、バイアホール5で導体層3aと内層
用導体層11の層間接続をする。導体層3aに回路12
bの形成をした後、導体層3aの表面に黒化処理を行な
って表面を粗面化し、後述の絶縁樹脂層2bとの密着性
を高めるようにするのが好ましい。
ビルドアップした後、図1(c)に示すように、絶縁樹
脂層2aにレーザー加工してバイアホール5を形成する
と共にバイアホール5の内周に銅の無電解メッキなどで
メッキ層6を形成し、さらにドライフィルムを用いたテ
ンティング法などで導体層3aにプリント加工をして回
路12bを形成し、バイアホール5で導体層3aと内層
用導体層11の層間接続をする。導体層3aに回路12
bの形成をした後、導体層3aの表面に黒化処理を行な
って表面を粗面化し、後述の絶縁樹脂層2bとの密着性
を高めるようにするのが好ましい。
【0019】次に、上記のようにして形成した絶縁樹脂
層2a及び導体層3aの表面に絶縁樹脂層2bをビルド
アップする。この絶縁樹脂層2bには図1(d)のよう
にガラスクロスなどの基材は含有されないものであり、
樹脂を主体とする層として形成してある。このような基
材を含有しない絶縁樹脂層2bをビルドアップして設け
るにあたっては、例えば、エポキシ樹脂などの熱硬化性
樹脂を半硬化状態でフィルム化したものを用い、この半
硬化樹脂フィルムを導体層3aの表面に重ねて加熱加圧
することによって行なうことができるものであり、半硬
化樹脂フィルムの硬化樹脂によって絶縁樹脂層2bを形
成することができるものである。
層2a及び導体層3aの表面に絶縁樹脂層2bをビルド
アップする。この絶縁樹脂層2bには図1(d)のよう
にガラスクロスなどの基材は含有されないものであり、
樹脂を主体とする層として形成してある。このような基
材を含有しない絶縁樹脂層2bをビルドアップして設け
るにあたっては、例えば、エポキシ樹脂などの熱硬化性
樹脂を半硬化状態でフィルム化したものを用い、この半
硬化樹脂フィルムを導体層3aの表面に重ねて加熱加圧
することによって行なうことができるものであり、半硬
化樹脂フィルムの硬化樹脂によって絶縁樹脂層2bを形
成することができるものである。
【0020】上記のように絶縁樹脂層2bを形成した
後、絶縁樹脂層2bの表面に導体層3bを設ける。この
導体層3bは最外層の回路12cを形成するためのもの
であり、銅などの金属を無電解メッキして回路形成する
アディティブ工法、あるいは無電解メッキと電解メッキ
を組み合わせて回路形成するセミアディティブ工法で、
絶縁樹脂層2bの表面に導体層3bを設けるものであ
る。この絶縁樹脂層2bにはガラスクロスのような基材
を含まないので、絶縁樹脂層2bの表面は大きな凹凸が
ないフラットな粗面になっており、メッキによって導体
層3bをファインパターンで密着性高く形成することが
できるものである。このとき、導体層3bを形成するの
に先だって、絶縁樹脂層2bにレーザー加工してバイア
ホール5が形成してあり、導体層3bの形成の後にバイ
アホール5の内周に銅の無電解メッキなどでメッキ層6
を形成して、図1(d)に示すようにバイアホール5で
導体層3a,3bの層間接続をするようにしてある。ま
た図1(d)の実施の形態では貫通するスルーホール1
3が設けてあり、スルーホール13の内周に銅の無電解
メッキなどで形成したスルーホールメッキ14によっ
て、導体層3a,3b,11の層間接続をするようにし
てある。
後、絶縁樹脂層2bの表面に導体層3bを設ける。この
導体層3bは最外層の回路12cを形成するためのもの
であり、銅などの金属を無電解メッキして回路形成する
アディティブ工法、あるいは無電解メッキと電解メッキ
を組み合わせて回路形成するセミアディティブ工法で、
絶縁樹脂層2bの表面に導体層3bを設けるものであ
る。この絶縁樹脂層2bにはガラスクロスのような基材
を含まないので、絶縁樹脂層2bの表面は大きな凹凸が
ないフラットな粗面になっており、メッキによって導体
層3bをファインパターンで密着性高く形成することが
できるものである。このとき、導体層3bを形成するの
に先だって、絶縁樹脂層2bにレーザー加工してバイア
ホール5が形成してあり、導体層3bの形成の後にバイ
アホール5の内周に銅の無電解メッキなどでメッキ層6
を形成して、図1(d)に示すようにバイアホール5で
導体層3a,3bの層間接続をするようにしてある。ま
た図1(d)の実施の形態では貫通するスルーホール1
3が設けてあり、スルーホール13の内周に銅の無電解
メッキなどで形成したスルーホールメッキ14によっ
て、導体層3a,3b,11の層間接続をするようにし
てある。
【0021】そして、上記のように形成される絶縁樹脂
層2bと導体層3bの表面の、半田付けをしない部分に
ソルダーレジスト15を塗布することによって、図1
(e)のような多層のプリント配線板に仕上げることが
できるものである。このようにしてビルドアップ工法で
作製されるプリント配線板にあって、絶縁樹脂層2a,
2bのうち最外層の絶縁樹脂層2bはガラスクロスのよ
うな基材を含まず、アディティブ工法やセミアディティ
ブ工法に適した層であるが、その内側の絶縁樹脂層2a
にはガラスクロス4が基材として埋入されており、この
ガラスクロス4による補強効果で絶縁樹脂層2aの寸法
変化を抑制することができものであり、このガラスクロ
ス4入りの絶縁樹脂層2aによってプリント配線板全体
の寸法変化を抑制することができる。従って、プリント
配線板に半田リフローなど熱履歴が作用しても、プリン
ト配線板に反りが発生することを低減することができる
のである。
層2bと導体層3bの表面の、半田付けをしない部分に
ソルダーレジスト15を塗布することによって、図1
(e)のような多層のプリント配線板に仕上げることが
できるものである。このようにしてビルドアップ工法で
作製されるプリント配線板にあって、絶縁樹脂層2a,
2bのうち最外層の絶縁樹脂層2bはガラスクロスのよ
うな基材を含まず、アディティブ工法やセミアディティ
ブ工法に適した層であるが、その内側の絶縁樹脂層2a
にはガラスクロス4が基材として埋入されており、この
ガラスクロス4による補強効果で絶縁樹脂層2aの寸法
変化を抑制することができものであり、このガラスクロ
ス4入りの絶縁樹脂層2aによってプリント配線板全体
の寸法変化を抑制することができる。従って、プリント
配線板に半田リフローなど熱履歴が作用しても、プリン
ト配線板に反りが発生することを低減することができる
のである。
【0022】尚、図1の実施の形態では、内層回路基板
1の両面にそれぞれ2層の絶縁樹脂層2a,2bを設
け、外層側の絶縁樹脂層2bはガラスクロスのような基
材を含まない樹脂主体の層として、その内側の絶縁樹脂
層2aはガラスクロス4を基材として埋入した層として
形成したが、最外層がガラスクロスのような基材を含ま
ない樹脂主体の層、最外層から2層目がガラスクロス4
を基材として埋入した層として形成されておれば、絶縁
樹脂層の層数は制限されないものであり、例えば層数が
両面3層以上ずつのものであってもよく、また内銅回路
基板1の片面のみにビルドアップしたものであってもよ
い。
1の両面にそれぞれ2層の絶縁樹脂層2a,2bを設
け、外層側の絶縁樹脂層2bはガラスクロスのような基
材を含まない樹脂主体の層として、その内側の絶縁樹脂
層2aはガラスクロス4を基材として埋入した層として
形成したが、最外層がガラスクロスのような基材を含ま
ない樹脂主体の層、最外層から2層目がガラスクロス4
を基材として埋入した層として形成されておれば、絶縁
樹脂層の層数は制限されないものであり、例えば層数が
両面3層以上ずつのものであってもよく、また内銅回路
基板1の片面のみにビルドアップしたものであってもよ
い。
【0023】
【実施例】次に、本発明を実施例によって具体的に説明
する。
する。
【0024】(実施例1)内層回路基板1として、両面
銅張り積層板(松下電工社製「R1766」:板厚0.
4mm、銅箔厚18μm)の両面の銅箔をテンティング
法で回路形成加工したものを用い、内層用導体層11を
黒化処理した(図1(a)参照)。
銅張り積層板(松下電工社製「R1766」:板厚0.
4mm、銅箔厚18μm)の両面の銅箔をテンティング
法で回路形成加工したものを用い、内層用導体層11を
黒化処理した(図1(a)参照)。
【0025】この内層回路基板1の両面にそれぞれ、ガ
ラスクロス基材のプリプレグ(松下電工社製「R166
1」:厚さ0.06mm)と厚み18μmの銅箔をこの
順に重ね、10kPaの減圧雰囲気下、170℃、2.
5MPa、100分の条件で真空プレス成形をすること
によって、ガラスクロス4を埋入した絶縁樹脂層2aと
導体層3aを積層した(図1(b)参照)。そして絶縁
樹脂層2aに炭酸ガスレーザー加工してバイアホール5
を形成し、無電解銅メッキしてバイアホール5内にメッ
キ層6を設け、さらに導体層3aにテンティング法で回
路形成加工を施した(図1(c)参照)。
ラスクロス基材のプリプレグ(松下電工社製「R166
1」:厚さ0.06mm)と厚み18μmの銅箔をこの
順に重ね、10kPaの減圧雰囲気下、170℃、2.
5MPa、100分の条件で真空プレス成形をすること
によって、ガラスクロス4を埋入した絶縁樹脂層2aと
導体層3aを積層した(図1(b)参照)。そして絶縁
樹脂層2aに炭酸ガスレーザー加工してバイアホール5
を形成し、無電解銅メッキしてバイアホール5内にメッ
キ層6を設け、さらに導体層3aにテンティング法で回
路形成加工を施した(図1(c)参照)。
【0026】次に、導体層3aを黒化処理した後、この
上からエポキシ樹脂の半硬化フィルムを重ね、真空ラミ
ネーターにて、10kPaの減圧雰囲気下、110℃、
1.0MPa、2分の条件でプレスすることによって、
厚み60μmの絶縁樹脂層2bを積層した。そしてドリ
ル加工して貫通するスルーホール13を形成し、また絶
縁樹脂層2bに炭酸ガスレーザー加工してバイアホール
5を形成し、無電解銅メッキしてスルーホール13内に
スルーホールメッキ14を、バイアホール5内にメッキ
層6をそれぞれ設けると共に、絶縁樹脂層2bの表面に
導体層3bを形成した。次いで、導体層3bにテンティ
ング法で回路形成加工を施した(図1(d)参照)。
上からエポキシ樹脂の半硬化フィルムを重ね、真空ラミ
ネーターにて、10kPaの減圧雰囲気下、110℃、
1.0MPa、2分の条件でプレスすることによって、
厚み60μmの絶縁樹脂層2bを積層した。そしてドリ
ル加工して貫通するスルーホール13を形成し、また絶
縁樹脂層2bに炭酸ガスレーザー加工してバイアホール
5を形成し、無電解銅メッキしてスルーホール13内に
スルーホールメッキ14を、バイアホール5内にメッキ
層6をそれぞれ設けると共に、絶縁樹脂層2bの表面に
導体層3bを形成した。次いで、導体層3bにテンティ
ング法で回路形成加工を施した(図1(d)参照)。
【0027】この後、導体層3b及び絶縁樹脂層2bの
所定箇所にソルダーレジスト15を印刷することによっ
て、所望のプリント配線板を得た(図1(e)参照)。
所定箇所にソルダーレジスト15を印刷することによっ
て、所望のプリント配線板を得た(図1(e)参照)。
【0028】(比較例1)銅箔の片面に半硬化状態のエ
ポキシ樹脂を塗着して調製される樹脂付き金属箔(松下
電工社製「R0880」:銅箔厚み18μm、樹脂厚み
60μm)を用い、実施例1と同じ内層回路基板1の両
面にこの樹脂付き金属箔を樹脂の側で重ね、175℃、
3.0MPa、100分の条件で真空プレス成形をする
ことによって、絶縁樹脂層2aと導体層3aを積層した
(図2(b)参照)。そして絶縁樹脂層2aに炭酸ガス
レーザー加工してバイアホール5を形成し、無電解銅メ
ッキしてバイアホール5内にメッキ層6を設け、さらに
導体層3aにテンティング法で回路形成加工を施した
(図2(c)参照)。
ポキシ樹脂を塗着して調製される樹脂付き金属箔(松下
電工社製「R0880」:銅箔厚み18μm、樹脂厚み
60μm)を用い、実施例1と同じ内層回路基板1の両
面にこの樹脂付き金属箔を樹脂の側で重ね、175℃、
3.0MPa、100分の条件で真空プレス成形をする
ことによって、絶縁樹脂層2aと導体層3aを積層した
(図2(b)参照)。そして絶縁樹脂層2aに炭酸ガス
レーザー加工してバイアホール5を形成し、無電解銅メ
ッキしてバイアホール5内にメッキ層6を設け、さらに
導体層3aにテンティング法で回路形成加工を施した
(図2(c)参照)。
【0029】次に、導体層3aを黒化処理した後、この
上からエポキシ樹脂の半硬化フィルムを重ね、真空ラミ
ネーターにて、10kPaの減圧雰囲気下、110℃、
1.0MPa、2分の条件でプレスすることによって、
厚み60μmの絶縁樹脂層2bを積層した。そしてドリ
ル加工して貫通するスルーホール13を形成し、また絶
縁樹脂層2bに炭酸ガスレーザー加工してバイアホール
5を形成し、無電解銅メッキしてスルーホール13内に
スルーホールメッキ14を、バイアホール5内にメッキ
層6をそれぞれ設けると共に、絶縁樹脂層2bの表面に
導体層3bを形成した。次いで、導体層3bにテンティ
ング法で回路形成加工を施した(図2(d)参照)。
上からエポキシ樹脂の半硬化フィルムを重ね、真空ラミ
ネーターにて、10kPaの減圧雰囲気下、110℃、
1.0MPa、2分の条件でプレスすることによって、
厚み60μmの絶縁樹脂層2bを積層した。そしてドリ
ル加工して貫通するスルーホール13を形成し、また絶
縁樹脂層2bに炭酸ガスレーザー加工してバイアホール
5を形成し、無電解銅メッキしてスルーホール13内に
スルーホールメッキ14を、バイアホール5内にメッキ
層6をそれぞれ設けると共に、絶縁樹脂層2bの表面に
導体層3bを形成した。次いで、導体層3bにテンティ
ング法で回路形成加工を施した(図2(d)参照)。
【0030】この後、導体層3b及び絶縁樹脂層2bの
所定箇所にソルダーレジスト15を印刷することによっ
て、所望のプリント配線板を得た(図2(e)参照)。
所定箇所にソルダーレジスト15を印刷することによっ
て、所望のプリント配線板を得た(図2(e)参照)。
【0031】上記の実施例1及び比較例1で得たプリン
ト配線板を100×100mmに裁断し、これを240
℃、10秒の条件で半田リフロー炉を通過させた後、こ
のプリント配線板を水平な定盤上に置いて、プリント配
線板の四隅で持ち上がりの最も大きい部分の持ち上がり
寸法を、反り量として測定した。この試験を7枚のプリ
ント配線板について行なった結果を表1に示す。
ト配線板を100×100mmに裁断し、これを240
℃、10秒の条件で半田リフロー炉を通過させた後、こ
のプリント配線板を水平な定盤上に置いて、プリント配
線板の四隅で持ち上がりの最も大きい部分の持ち上がり
寸法を、反り量として測定した。この試験を7枚のプリ
ント配線板について行なった結果を表1に示す。
【0032】
【表1】
【0033】表1にみられるように、2層の絶縁樹脂層
2a,2bのいずれにもガラスクロスなどの基材を含有
しない比較例1のものでは反りが大きく発生したが、2
層の絶縁樹脂層2a,2bのうち絶縁樹脂層2aにガラ
スクロス4を基材として埋入させた実施例1のもので
は、反りが大幅に低減されていることが確認される。
2a,2bのいずれにもガラスクロスなどの基材を含有
しない比較例1のものでは反りが大きく発生したが、2
層の絶縁樹脂層2a,2bのうち絶縁樹脂層2aにガラ
スクロス4を基材として埋入させた実施例1のもので
は、反りが大幅に低減されていることが確認される。
【0034】
【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に係るプ
リント配線板は、内層回路基板の表面に複数層の絶縁樹
脂層と導体層とを交互にビルドアップして設けることに
よって形成されるプリント配線板において、最外層の絶
縁樹脂層はガラスクロスを基材として含有しない樹脂主
体の層として形成されていると共に、最外層から2層目
の絶縁樹脂層はガラスクロスを基材として含有する層と
して形成されているので、ガラスクロスを基材として含
有する最外層から2層目の絶縁樹脂層による補強作用で
寸法変化を抑制することができ、熱履歴による反りの発
生を低減することができると共に、最外層の絶縁樹脂層
はガラスクロスを基材として含有せず表面に凹凸が生じ
ないようにすることができ、最外層の導体層をファイン
パターンで形成することが容易になるものである。
リント配線板は、内層回路基板の表面に複数層の絶縁樹
脂層と導体層とを交互にビルドアップして設けることに
よって形成されるプリント配線板において、最外層の絶
縁樹脂層はガラスクロスを基材として含有しない樹脂主
体の層として形成されていると共に、最外層から2層目
の絶縁樹脂層はガラスクロスを基材として含有する層と
して形成されているので、ガラスクロスを基材として含
有する最外層から2層目の絶縁樹脂層による補強作用で
寸法変化を抑制することができ、熱履歴による反りの発
生を低減することができると共に、最外層の絶縁樹脂層
はガラスクロスを基材として含有せず表面に凹凸が生じ
ないようにすることができ、最外層の導体層をファイン
パターンで形成することが容易になるものである。
【0035】また請求項2の発明は、最外層の絶縁樹脂
層の表面には導体層がメッキによって形成されているの
で、上記のように最外層の絶縁樹脂層の表面には凹凸が
生じないようにすることができ、最外層の導体層をメッ
キによってファインパターンで形成することができるも
のである。
層の表面には導体層がメッキによって形成されているの
で、上記のように最外層の絶縁樹脂層の表面には凹凸が
生じないようにすることができ、最外層の導体層をメッ
キによってファインパターンで形成することができるも
のである。
【0036】また請求項3の発明は、最外層から2層目
の絶縁樹脂層とその表面に設けられる導体層は、ガラス
クロスを基材とするプリプレグと金属箔とを重ねて加熱
加圧成形をすることによって形成されているので、絶縁
樹脂層と導体層を同時に積層して形成することができ、
工数を低減することができるものである。
の絶縁樹脂層とその表面に設けられる導体層は、ガラス
クロスを基材とするプリプレグと金属箔とを重ねて加熱
加圧成形をすることによって形成されているので、絶縁
樹脂層と導体層を同時に積層して形成することができ、
工数を低減することができるものである。
【0037】また請求項4の発明は、導体層の層間の接
続は、絶縁樹脂層に形成されたバイアホール内のメッキ
層によって行なわれているので、導体層の層間の接続を
信頼性高く行なうことができるものである。
続は、絶縁樹脂層に形成されたバイアホール内のメッキ
層によって行なわれているので、導体層の層間の接続を
信頼性高く行なうことができるものである。
【図1】本発明の実施の形態の一例を示すものであり、
(a)〜(e)はそれぞれ断面図である。
(a)〜(e)はそれぞれ断面図である。
【図2】従来の一例を示すものであり、(a)〜(e)
はそれぞれ断面図である。
はそれぞれ断面図である。
1 内層回路基板
2 絶縁樹脂層
3 導体層
4 ガラスクロス
5 バイアホール
6 メッキ層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 西本 晋也
大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株
式会社内
Fターム(参考) 4F100 AB01A AB17A AG00C AK01B
AK53 AK53B BA10A BA10C
DG11C DH00C DH01 EH71A
EJ172 EJ422 JG01A JG04B
JG04C
5E346 AA05 AA06 AA12 AA15 AA22
AA32 AA43 AA51 CC02 CC04
CC08 CC32 DD02 DD12 DD22
DD32 DD33 EE06 EE07 EE09
EE13 FF01 FF04 FF07 FF15
FF45 GG15 GG17 GG22 GG28
HH11 HH26
Claims (4)
- 【請求項1】 内層回路基板の表面に複数層の絶縁樹脂
層と導体層とを交互にビルドアップして設けることによ
って形成されるプリント配線板において、最外層の絶縁
樹脂層はガラスクロスを基材として含有しない樹脂主体
の層として形成されていると共に、最外層から2層目の
絶縁樹脂層はガラスクロスを基材として含有する層とし
て形成されていることを特徴とするプリント配線板。 - 【請求項2】 最外層の絶縁樹脂層の表面には導体層が
メッキによって形成されていることを特徴とする請求項
1に記載のプリント配線板。 - 【請求項3】 最外層から2層目の絶縁樹脂層とその表
面に設けられる導体層は、ガラスクロスを基材とするプ
リプレグと金属箔とを重ねて加熱加圧成形をすることに
よって形成されていることを特徴とする請求項1又は2
に記載のプリント配線板。 - 【請求項4】 導体層の層間の接続は、絶縁樹脂層に形
成されたバイアホール内のメッキ層によって行なわれて
いることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載
のプリント配線板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001277903A JP2003086941A (ja) | 2001-09-13 | 2001-09-13 | プリント配線板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001277903A JP2003086941A (ja) | 2001-09-13 | 2001-09-13 | プリント配線板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003086941A true JP2003086941A (ja) | 2003-03-20 |
Family
ID=19102356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001277903A Pending JP2003086941A (ja) | 2001-09-13 | 2001-09-13 | プリント配線板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003086941A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009289908A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2010010329A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Kyocer Slc Technologies Corp | 配線基板およびその製造方法 |
JP2014027212A (ja) * | 2012-07-30 | 2014-02-06 | Ibiden Co Ltd | プリント配線板 |
KR20150094625A (ko) | 2012-12-11 | 2015-08-19 | 미쓰이금속광업주식회사 | 다층 프린트 배선판 및 그 제조 방법 |
CN114679904A (zh) * | 2022-03-08 | 2022-06-28 | 惠州市兴顺和电子有限公司 | 一种基于测重的pcb板叠置方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03165594A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-17 | Ibiden Co Ltd | 多層プリント配線板の製造方法 |
JPH1174651A (ja) * | 1997-03-13 | 1999-03-16 | Ibiden Co Ltd | プリント配線板及びその製造方法 |
JP2001196746A (ja) * | 2000-01-11 | 2001-07-19 | Toshiba Chem Corp | プリント配線板およびプリント配線板の製造方法 |
-
2001
- 2001-09-13 JP JP2001277903A patent/JP2003086941A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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US8159057B2 (en) | 2008-05-28 | 2012-04-17 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device and manufacturing method therefor |
US8383456B2 (en) | 2008-05-28 | 2013-02-26 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device and manufacturing method therefor |
JP2010010329A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Kyocer Slc Technologies Corp | 配線基板およびその製造方法 |
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CN114679904A (zh) * | 2022-03-08 | 2022-06-28 | 惠州市兴顺和电子有限公司 | 一种基于测重的pcb板叠置方法 |
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Legal Events
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110628 |