[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2003066480A - Liquid crystal device, method of manufacturing liquid crystal device and electronic apparatus - Google Patents

Liquid crystal device, method of manufacturing liquid crystal device and electronic apparatus

Info

Publication number
JP2003066480A
JP2003066480A JP2001258215A JP2001258215A JP2003066480A JP 2003066480 A JP2003066480 A JP 2003066480A JP 2001258215 A JP2001258215 A JP 2001258215A JP 2001258215 A JP2001258215 A JP 2001258215A JP 2003066480 A JP2003066480 A JP 2003066480A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
substrate
electrode
film
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001258215A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4122741B2 (en
JP2003066480A5 (en
Inventor
Takatomo Toda
貴友 戸田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2001258215A priority Critical patent/JP4122741B2/en
Publication of JP2003066480A publication Critical patent/JP2003066480A/en
Publication of JP2003066480A5 publication Critical patent/JP2003066480A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4122741B2 publication Critical patent/JP4122741B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device which facilitates the adjustment of a cell thickness and has a high display grade, a method of manufacturing the liquid crystal device and an electronic apparatus. SOLUTION: Films having color filters 12 are arranged in wiring regions which are regions enclosed by sealing materials 3 and are arranged with wiring, such as second wiring 19b, etc., and therefore the deposition state in the regions enclosed by the sealing materials of a first electrode substrate 2a can be made nearly the same within the plane. The cell thickness in the display regions and the cell thickness in the wiring region can be easily so adjusted as to be made the same in bonding together the first substrate and the second substrate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置に関す
る。また、その液晶装置を用いて構成される電子機器に
関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a liquid crystal device. Further, the present invention relates to an electronic device including the liquid crystal device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯情報端末機器と
いった各種の電子機器の表示部として液晶装置が広く用
いられている。この液晶装置では、一般に、それぞれが
電極を備えた一対の基板を電極面が互いに対向するよう
に一定の間隙、いわゆるセルギャップを保って貼りあわ
され、さらにそのセルギャップ内に液晶が封入される。
更に、カラー表示を行うために、一対の基板のうち一方
の基板上にはカラーフィルタが設けられている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal devices have been widely used as display units for various electronic devices such as mobile phones and personal digital assistants. In this liquid crystal device, generally, a pair of substrates each having an electrode are pasted together with a certain gap, so-called cell gap, so that the electrode surfaces face each other, and the liquid crystal is further enclosed in the cell gap. .
Further, in order to perform color display, a color filter is provided on one of the pair of substrates.

【0003】液晶装置として、例えばスイッチング素子
を用いないで液晶を駆動する単純マトリクス方式のカラ
ー液晶装置では、一対の基板それぞれにストライプ状の
電極が形成されており、それぞれの基板に形成されてい
る電極が互いに交差するように配置されている。液晶装
置においては、それぞれの基板に形成されている電極が
重なり合う領域がピクセルとして機能し、対向する電極
それぞれに印加される電圧の電位差によって対向する電
極間に挟持される液晶の光学特性を変化させることによ
り表示が行われる。更に、一方の基板には、カラー表示
を行うためのカラーフィルタが設けられており、例えば
基板上にカラーフィルタが配置され、このカラーフィル
タを覆うように平坦膜が配置され、この平坦膜上に電極
が配置される。また、液晶装置では、2枚の基板それぞ
れの電極に対して信号を供給する信号供給系が接続され
る。従来においては、一方の基板に形成された電極を導
通材を介して他方の基板に形成された配線に電気的に接
続することにより、他方の基板1つだけに信号供給系を
接続すれば足りる構造がとられている。
As a liquid crystal device, for example, in a simple matrix type color liquid crystal device which drives liquid crystal without using a switching element, stripe electrodes are formed on each of a pair of substrates and formed on each substrate. The electrodes are arranged so as to intersect each other. In a liquid crystal device, a region where electrodes formed on each substrate overlap with each other functions as a pixel, and an optical characteristic of a liquid crystal sandwiched between opposing electrodes is changed by a potential difference of a voltage applied to each of the opposing electrodes. By doing so, the display is performed. Further, one of the substrates is provided with a color filter for performing color display. For example, the color filter is arranged on the substrate, a flat film is arranged so as to cover the color filter, and the flat film is arranged on the flat film. The electrodes are arranged. Further, in the liquid crystal device, a signal supply system that supplies a signal to the electrodes of each of the two substrates is connected. Conventionally, it suffices to connect the signal supply system to only one of the other substrates by electrically connecting the electrodes formed on the one substrate to the wiring formed on the other substrate through the conductive material. The structure is taken.

【0004】一般に、配線は、基板上に形成される電極
と同一の材料によって形成され、多くの場合は、この材
料としてITO(Indium Tin Oxide)
が用いられている。しかしながら、このITOの面積抵
抗率は一般的な金属と比較して高いため、このITOを
表示領域以外における接続配線として用いるとその配線
の抵抗が高くなり、液晶装置の表示品質が低下するとい
う問題があった。
Generally, the wiring is formed of the same material as the electrode formed on the substrate, and in many cases, ITO (Indium Tin Oxide) is used as this material.
Is used. However, since the area resistivity of this ITO is higher than that of a general metal, if this ITO is used as a connection wiring in a region other than the display region, the resistance of the wiring becomes high, and the display quality of the liquid crystal device deteriorates. was there.

【0005】上記の問題点を解消するため、本出願人
は、特許願2001−117251号において、配線を
構成する膜にITO以外のITOよりも配線抵抗の低い
導電膜を積層して配線抵抗を下げ、更に、この導電膜の
一部又は全部をシール材によって囲まれる領域に位置す
るように設けることにより、導電膜が外気に触れること
を防止し、その導電膜を有する配線が腐食することを防
止するという技術を提案した。
In order to solve the above-mentioned problems, the applicant of the present application has disclosed in Japanese Patent Application No. 2001-117251 that a conductive film having a wiring resistance other than ITO, which is lower than that of ITO, is laminated on the film forming the wiring to improve the wiring resistance. By lowering and further providing a part or all of this conductive film so as to be located in a region surrounded by a sealant, the conductive film is prevented from coming into contact with the outside air and the wiring having the conductive film is prevented from corroding. I proposed a technology to prevent it.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特許願
2001−117251号における液晶装置において
は、配線が形成される領域には、カラーフィルタ及び平
坦膜は形成されていないため、配線が形成される領域と
表示領域それぞれの領域におけるセル厚(一対の基板間
距離)を同じくするように調整することが困難であっ
た。もし、配線が形成される領域と表示領域それぞれの
領域におけるセル厚が異なると、配線が形成される領域
は非表示領域であるものの、表示領域のうち配線が形成
される領域と隣あう表示領域部分は、表示領域中央部と
比較して表示特性が異なってしまい、表示ムラが生じて
しまう。
However, in the liquid crystal device in Japanese Patent Application No. 2001-117251, since the color filter and the flat film are not formed in the area where the wiring is formed, the area where the wiring is formed. It was difficult to adjust the cell thickness (distance between a pair of substrates) in each of the display regions to be the same. If the cell thickness is different between the area where the wiring is formed and the display area, the area where the wiring is formed is a non-display area, but the display area adjacent to the area where the wiring is formed in the display area. The display characteristics of the portion are different from those of the central portion of the display area, and display unevenness occurs.

【0007】本発明は上記問題点を解決するものであ
り、その課題は、セル厚の調整が容易で、表示品位の高
い液晶装置、液晶装置の製造方法及び電子機器を提供す
ることにある。
The present invention solves the above problems, and an object thereof is to provide a liquid crystal device having a high display quality in which the cell thickness can be easily adjusted, a method of manufacturing the liquid crystal device, and an electronic apparatus.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の液晶装置は、表示領域と、該表示領域に隣接
した配線領域と、これら表示領域及び配線領域を囲むシ
ール材が配置されるシール領域とを有し、前記シール材
を介して貼りあわされる第1基板と第2基板とを具備す
る液晶装置であって、前記第1基板上の前記表示領域及
び前記配線領域に配置されたカラーフィルタを有する膜
と、前記カラーフィルタを有する膜上の前記表示領域に
配置された第1電極と、前記第2基板上の前記表示領域
に配置された第2電極と、前記第1基板上の前記配線領
域に配置された前記第2電極と電気的に接続する第2配
線とを具備することを特徴とする。
In order to solve the above problems, a liquid crystal device of the present invention is provided with a display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing material surrounding the display area and the wiring area. A liquid crystal device having a first substrate and a second substrate which are attached to each other via the sealing material, the liquid crystal device being disposed in the display region and the wiring region on the first substrate. A film having a color filter, a first electrode arranged in the display region on the film having the color filter, a second electrode arranged in the display region on the second substrate, and the first substrate A second wiring electrically connected to the second electrode arranged in the upper wiring region.

【0009】本発明のこのような構成によれば、第2配
線が配置される配線領域には、カラーフィルタを有する
膜が配置されているので、第1基板のシール材により囲
まれた領域における成膜状態を面内でほぼ同じくするこ
とができ、第1基板と第2基板とを貼り合せる際に、表
示領域におけるセル厚と配線領域におけるセル厚とを容
易に同じくするように調整することができる。従って、
基板面内でほぼ均一なセル厚を有する液晶装置を得るこ
とができ、表示ムラのない表示品位の高い液晶装置を得
ることができる。
According to such a structure of the present invention, since the film having the color filter is arranged in the wiring region in which the second wiring is arranged, in the region surrounded by the sealing material of the first substrate. The film formation state can be made substantially the same in the plane, and when the first substrate and the second substrate are bonded together, the cell thickness in the display region and the cell thickness in the wiring region can be easily adjusted to be the same. You can Therefore,
It is possible to obtain a liquid crystal device having a cell thickness that is substantially uniform in the plane of the substrate, and it is possible to obtain a liquid crystal device with high display quality without display unevenness.

【0010】また、本発明の他の液晶装置は、表示領域
と、該表示領域に隣接した配線領域と、これら表示領域
及び配線領域を囲むシール材が配置されるシール領域と
を有し、前記シール材を介して貼りあわされる第1基板
と第2基板とを具備する液晶装置であって、前記第2基
板上の前記表示領域及び前記配線領域に配置されたカラ
ーフィルタを有する膜と、前記第2基板上の前記カラー
フィルタを有する膜上の前記表示領域に配置された第2
電極と、前記第1基板上の前記表示領域に配置された第
1電極と、前記第1基板上の前記配線領域に配置された
前記第2電極と電気的に接続する第2配線とを具備する
ことを特徴とする。
Further, another liquid crystal device of the present invention has a display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged. A liquid crystal device comprising a first substrate and a second substrate which are attached to each other via a sealing material, the film having a color filter arranged in the display region and the wiring region on the second substrate, A second substrate disposed on the display area on the film having the color filter on the second substrate;
An electrode, a first electrode arranged in the display region on the first substrate, and a second wiring electrically connected to the second electrode arranged in the wiring region on the first substrate. It is characterized by doing.

【0011】本発明のこのような構成によれば、第2配
線が配置される配線領域には、カラーフィルタを有する
膜が配置されているので、第1基板のシール材により囲
まれた領域における成膜状態を面内でほぼ同じくするこ
とができ、第1基板と第2基板とを貼り合せる際に、表
示領域におけるセル厚と配線領域におけるセル厚とを容
易に同じくするように調整することができる。従って、
基板面内でほぼ均一なセル厚を有する液晶装置を得るこ
とができ、表示ムラのない表示品位の高い液晶装置を得
ることができる。
According to such a configuration of the present invention, since the film having the color filter is arranged in the wiring region in which the second wiring is arranged, in the region surrounded by the sealing material of the first substrate. The film formation state can be made substantially the same in the plane, and when the first substrate and the second substrate are bonded together, the cell thickness in the display region and the cell thickness in the wiring region can be easily adjusted to be the same. You can Therefore,
It is possible to obtain a liquid crystal device having a cell thickness that is substantially uniform in the plane of the substrate, and it is possible to obtain a liquid crystal device with high display quality without display unevenness.

【0012】また、前記第1基板上の前記配線領域に配
置された前記第1電極と電気的に接続する第1配線を更
に具備することを特徴とする。このように第1配線が配
置される領域においてもカラーフィルタを有する膜を配
置することにより、第1基板と第2基板とを貼り合せる
際に、表示領域におけるセル厚と配線領域におけるセル
厚とをより容易に同じくするように調整することができ
る。従って、基板面内でほぼ均一なセル厚を有する液晶
装置を得ることができ、表示ムラのない表示品位の高い
液晶装置を得ることができる。
Further, the present invention is characterized by further comprising a first wiring electrically connected to the first electrode arranged in the wiring region on the first substrate. By arranging the film having the color filter also in the region where the first wiring is arranged, the cell thickness in the display region and the cell thickness in the wiring region can be improved when the first substrate and the second substrate are bonded together. Can be adjusted to more easily match. Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal device having a substantially uniform cell thickness within the substrate surface, and it is possible to obtain a liquid crystal device having high display quality without display unevenness.

【0013】また、前記カラーフィルタを有する膜は、
カラーフィルタと、該カラーフィルタを覆う平坦化膜と
を有することを特徴とする。このようにカラーフィルタ
を有する膜としては、カラーフィルタと、これを覆って
配置された平坦化膜が積層された膜を用いることができ
る。
The film having the color filter is
A color filter and a flattening film that covers the color filter are provided. As such a film having a color filter, a film in which a color filter and a flattening film which covers the color filter are stacked can be used.

【0014】また、前記カラーフィルタを有する膜は、
前記シール領域に囲まれた領域に配置されることを特徴
とする。このような構成によれば、第1基板と第2基板
とを貼り合せる際に、表示領域におけるセル厚とシール
領域に囲まれた領域であって表示領域でない領域におけ
るセル厚とを容易に同じくするように調整することがで
きる。従って、基板面内でほぼ均一なセル厚を有する液
晶装置を得ることができ、表示ムラのない表示品位の高
い液晶装置を得ることができる。
The film having the color filter is
It is characterized in that it is arranged in a region surrounded by the seal region. With such a configuration, when the first substrate and the second substrate are bonded together, the cell thickness in the display region and the cell thickness in the region surrounded by the seal region but not the display region can be easily equalized. Can be adjusted to Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal device having a substantially uniform cell thickness within the substrate surface, and it is possible to obtain a liquid crystal device having high display quality without display unevenness.

【0015】また、前記第2配線は、前記第1電極より
も低抵抗の導電膜を有していることを特徴とする。この
ような構成によれば、第1電極よりも低抵抗の導電膜に
よって配線が形成されるので、配線抵抗を下げて表示品
質を高く維持できる。
Further, the second wiring has a conductive film having a resistance lower than that of the first electrode. With such a configuration, the wiring is formed by the conductive film having a resistance lower than that of the first electrode, so that the wiring resistance can be reduced and the display quality can be maintained high.

【0016】また、前記第2配線は、前記第1電極と同
一層である導電膜と、前記第1電極よりも低抵抗の導電
膜との積層膜を有することを特徴とする。このように、
第2配線を積層膜とすることにより、例えば一方の導電
膜に短絡欠陥が生じても、もう一方の導電膜で導通を取
ることが可能となる。
Further, the second wiring has a laminated film of a conductive film in the same layer as the first electrode and a conductive film having a resistance lower than that of the first electrode. in this way,
By forming the second wiring as a laminated film, for example, even if a short-circuit defect occurs in one conductive film, the other conductive film can be electrically connected.

【0017】また、前記第1電極と同一層である導電膜
はITO膜であり、前記第1電極よりも低抵抗の導電膜
は銀単体または銀を含む合金であることを特徴とする。
このように、第2配線として、ITO膜と銀単体または
銀を含む合金との積層膜を用いることができる。銀を含
む合金としては、例えばAg98%、Pd1%、Cu1
%を含む合金であるAPC合金を用いることができる。
Further, the conductive film which is the same layer as the first electrode is an ITO film, and the conductive film having a resistance lower than that of the first electrode is silver alone or an alloy containing silver.
Thus, as the second wiring, a laminated film of the ITO film and silver alone or an alloy containing silver can be used. As an alloy containing silver, for example, Ag98%, Pd1%, Cu1
%, An APC alloy that is an alloy containing 100% can be used.

【0018】また、前記第2基板上には前記配線領域及
び前記シール領域内をまたがって前記第2電極と電気的
に接続する第3配線が配置され、前記第2配線は前記シ
ール領域内まで延在し、前記第3配線と前記第2配線と
は、前記シール領域に配置された導通材を介して電気的
に接続されていることを特徴とする。このような構成に
よれば、シール領域内に配置される第2配線は外気に触
れないので、第2配線の少なくとも一部に低抵抗の導電
膜を用いる場合、この導電膜が腐食することを防止でき
る。
A third wiring electrically connecting to the second electrode is disposed on the second substrate so as to extend over the wiring area and the sealing area, and the second wiring extends to the sealing area. It is characterized in that the third wiring and the second wiring extend and are electrically connected to each other through a conductive material arranged in the seal region. With such a configuration, the second wiring arranged in the seal region does not come into contact with the outside air. Therefore, when a low resistance conductive film is used for at least a part of the second wiring, the conductive film may be corroded. It can be prevented.

【0019】また、本発明の更に他の液晶装置は、表示
領域と、該表示領域に隣接した配線領域と、これら表示
領域及び配線領域を囲むシール材が配置されるシール領
域とを有し、前記シール材を介して貼りあわされる第1
基板と第2基板とを具備する液晶装置であって、前記第
1基板上の前記表示領域及び前記配線領域に配置された
カラーフィルタを有する膜と、前記カラーフィルタを有
する膜上の前記表示領域に配置された画素電極と、前記
第1基板上に配置された前記画素電極に導通する第1金
属膜/絶縁膜/第2金属膜の積層構造を有するTFD素
子と、前記第1基板上に配置された前記TFD素子を介
して前記画素電極と電気的に接続されたライン配線と、
前記第2基板上の前記表示領域に配置された前記画素電
極に対向するストライプ状の第2電極と、前記第1基板
上の前記配線領域に配置された前記第2電極と電気的に
接続する第2配線とを具備することを特徴とする。
Still another liquid crystal device of the present invention has a display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged. 1st pasted together through the said sealing material
A liquid crystal device comprising a substrate and a second substrate, the film having a color filter disposed in the display region and the wiring region on the first substrate, and the display region on the film having the color filter. A pixel electrode disposed on the first substrate, a TFD element having a laminated structure of a first metal film / an insulating film / a second metal film that is electrically connected to the pixel electrode disposed on the first substrate, and a TFD element on the first substrate. A line wiring electrically connected to the pixel electrode via the arranged TFD element,
The stripe-shaped second electrode facing the pixel electrode arranged in the display region on the second substrate and the second electrode arranged in the wiring region on the first substrate are electrically connected. And a second wiring.

【0020】本発明のこのような構成によれば、第2配
線が配置される配線領域には、カラーフィルタを有する
膜が配置されているので、第1基板のシール材により囲
まれた領域における成膜状態を面内でほぼ同じくするこ
とができ、第1基板と第2基板とを貼り合せる際に、表
示領域におけるセル厚と配線領域におけるセル厚とを容
易に同じくするように調整することができる。従って、
基板面内でほぼ均一なセル厚を有する液晶装置を得るこ
とができ、表示ムラのない表示品位の高い液晶装置を得
ることができる。
According to such a structure of the present invention, since the film having the color filter is arranged in the wiring region where the second wiring is arranged, the region surrounded by the sealing material of the first substrate is arranged. The film formation state can be made substantially the same in the plane, and when the first substrate and the second substrate are bonded together, the cell thickness in the display region and the cell thickness in the wiring region can be easily adjusted to be the same. You can Therefore,
It is possible to obtain a liquid crystal device having a cell thickness that is substantially uniform in the plane of the substrate, and it is possible to obtain a liquid crystal device with high display quality without display unevenness.

【0021】また、本発明の更に他の液晶装置は、表示
領域と、該表示領域に隣接した配線領域と、これら表示
領域及び配線領域を囲むシール材が配置されるシール領
域とを有し、前記シール材を介して貼りあわされる第1
基板と第2基板とを具備する液晶装置であって、前記第
2基板上の前記表示領域及び前記配線領域に配置された
カラーフィルタを有する膜と、前記第2基板上の前記カ
ラーフィルタを有する膜上の前記表示領域に配置された
ストライプ状の第2電極と、前記第1基板上の前記表示
領域に配置された前記第2電極に対向配置された画素電
極と、前記第1基板上に配置された各前記画素電極に導
通する第1金属膜/絶縁膜/第2金属膜の積層構造を有
するTFD素子と、前記第1基板上に配置された前記T
FD素子を介して前記画素電極と電気的に接続されたラ
イン配線と、前記第1基板上の前記配線領域に配置され
た前記第2電極と電気的に接続する第2配線とを具備す
ることを特徴とする。
Still another liquid crystal device of the present invention has a display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged. 1st pasted together through the said sealing material
A liquid crystal device comprising a substrate and a second substrate, comprising: a film having a color filter disposed in the display region and the wiring region on the second substrate; and the color filter on the second substrate. A stripe-shaped second electrode arranged in the display region on the film, a pixel electrode arranged opposite to the second electrode arranged in the display region on the first substrate, and on the first substrate A TFD element having a laminated structure of a first metal film / insulating film / second metal film, which is electrically connected to each of the arranged pixel electrodes, and the TFD element arranged on the first substrate.
A line wiring electrically connected to the pixel electrode via an FD element; and a second wiring electrically connected to the second electrode arranged in the wiring region on the first substrate. Is characterized by.

【0022】本発明のこのような構成によれば、第2配
線が配置される配線領域には、カラーフィルタを有する
膜が配置されているので、第1基板のシール材により囲
まれた領域における成膜状態を面内でほぼ同じくするこ
とができ、第1基板と第2基板とを貼り合せる際に、表
示領域におけるセル厚と配線領域におけるセル厚とを容
易に同じくするように調整することができる。従って、
基板面内でほぼ均一なセル厚を有する液晶装置を得るこ
とができ、表示ムラのない表示品位の高い液晶装置を得
ることができる。
According to such a configuration of the present invention, since the film having the color filter is arranged in the wiring region where the second wiring is arranged, in the region surrounded by the sealing material of the first substrate. The film formation state can be made substantially the same in the plane, and when the first substrate and the second substrate are bonded together, the cell thickness in the display region and the cell thickness in the wiring region can be easily adjusted to be the same. You can Therefore,
It is possible to obtain a liquid crystal device having a cell thickness that is substantially uniform in the plane of the substrate, and it is possible to obtain a liquid crystal device with high display quality without display unevenness.

【0023】また、前記第1基板上の前記配線領域に配
置された前記ライン配線と電気的に接続する第1配線を
更に具備することを特徴とする。このように第1配線が
配置される領域においてもカラーフィルタを有する膜を
配置することにより、第1基板と第2基板とを貼り合せ
る際に、表示領域におけるセル厚と配線領域におけるセ
ル厚とをより容易に同じくするように調整することがで
きる。従って、基板面内でほぼ均一なセル厚を有する液
晶装置を得ることができ、表示ムラのない表示品位の高
い液晶装置を得ることができる。
Further, the present invention is characterized by further comprising a first wiring electrically connected to the line wiring arranged in the wiring area on the first substrate. By arranging the film having the color filter also in the region where the first wiring is arranged, the cell thickness in the display region and the cell thickness in the wiring region can be improved when the first substrate and the second substrate are bonded together. Can be adjusted to more easily match. Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal device having a substantially uniform cell thickness within the substrate surface, and it is possible to obtain a liquid crystal device having high display quality without display unevenness.

【0024】また、前記カラーフィルタを有する膜は、
カラーフィルタと、該カラーフィルタを覆う平坦膜とを
有することを特徴とする。このようにカラーフィルタを
有する膜としては、カラーフィルタと、これを覆って配
置された平坦化膜が積層された膜を用いることができ
る。
The film having the color filter is
A color filter and a flat film that covers the color filter are provided. As such a film having a color filter, a film in which a color filter and a flattening film which covers the color filter are stacked can be used.

【0025】また、前記カラーフィルタを有する膜は、
前記シール領域に囲まれた領域に配置されることを特徴
とする。このような構成によれば、第1基板と第2基板
とを貼り合せる際に、表示領域におけるセル厚とシール
領域に囲まれた領域であって表示領域でない領域におけ
るセル厚とを容易に同じくするように調整することがで
きる。従って、基板面内でほぼ均一なセル厚を有する液
晶装置を得ることができ、表示ムラのない表示品位の高
い液晶装置を得ることができる。
The film having the color filter is
It is characterized in that it is arranged in a region surrounded by the seal region. With such a configuration, when the first substrate and the second substrate are bonded together, the cell thickness in the display region and the cell thickness in the region surrounded by the seal region but not the display region can be easily equalized. Can be adjusted to Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal device having a substantially uniform cell thickness within the substrate surface, and it is possible to obtain a liquid crystal device having high display quality without display unevenness.

【0026】また、前記第2配線は、前記画素電極と同
一層である導電膜と、前記画素電極よりも低抵抗の導電
膜との積層膜を有することを特徴とする。このような構
成によれば、画素電極よりも低抵抗の導電膜によって配
線が形成されるので、配線抵抗を下げて表示品質を高く
維持できる。また、第2配線を積層膜とすることによ
り、例えば一方の導電膜に短絡欠陥が生じても、もう一
方の導電膜で導通を取ることが可能となる。
Further, the second wiring has a laminated film of a conductive film in the same layer as the pixel electrode and a conductive film having a resistance lower than that of the pixel electrode. According to such a configuration, since the wiring is formed by the conductive film having a resistance lower than that of the pixel electrode, it is possible to reduce the wiring resistance and maintain high display quality. Further, by forming the second wiring as a laminated film, for example, even if a short-circuit defect occurs in one conductive film, the other conductive film can be electrically connected.

【0027】また、前記画素電極よりも低抵抗の導電膜
は、前記TFD素子を構成する前記第2電極と同一層で
あることを特徴とする。このように、画素電極よりも低
抵抗の導電膜として、TFD素子を構成する第2電極と
同一層の膜を用いることができる。
The conductive film having a resistance lower than that of the pixel electrode is in the same layer as the second electrode forming the TFD element. Thus, as the conductive film having lower resistance than the pixel electrode, a film in the same layer as the second electrode forming the TFD element can be used.

【0028】また、前記画素電極と同一層である導電膜
はITOであり、前記画素電極よりも低抵抗の導電膜は
Crであることを特徴とする。
Further, the conductive film which is the same layer as the pixel electrode is made of ITO, and the conductive film having a resistance lower than that of the pixel electrode is made of Cr.

【0029】また、前記第2基板上には前記配線領域及
び前記シール領域内をまたがって前記第2電極と電気的
に接続する第3配線が配置され、前記第2配線は前記シ
ール領域内まで延在し、前記第3配線と前記第2配線と
は、前記シール領域に配置された導通材を介して電気的
に接続されていることを特徴とする。このような構成に
よれば、シール領域内に配置される第2配線は外気に触
れないので、第2配線の少なくとも一部に低抵抗の導電
膜を用いる場合、この導電膜が腐食することを防止でき
る。
Further, a third wiring is disposed on the second substrate so as to electrically connect to the second electrode across the wiring area and the sealing area, and the second wiring extends to the inside of the sealing area. It is characterized in that the third wiring and the second wiring extend and are electrically connected to each other through a conductive material arranged in the seal region. With such a configuration, the second wiring arranged in the seal region does not come into contact with the outside air. Therefore, when a low resistance conductive film is used for at least a part of the second wiring, the conductive film may be corroded. It can be prevented.

【0030】本発明の液晶装置の製造方法は、表示領域
と、該表示領域に隣接した配線領域と、これら表示領域
及び配線領域を囲むシール材が配置されるシール領域と
を有し、前記シール材を介して貼りあわされる第1基板
と第2基板とを具備する液晶装置の製造方法であって、
前記第1基板上の前記表示領域及び前記配線領域にカラ
ーフィルタを有する膜を形成する工程と、前記カラーフ
ィルタを有する膜上の前記表示領域に第1電極を形成す
る工程と、前記第1基板上の前記配線領域に第2配線を
形成する工程と、前記第2基板上の前記表示領域に第2
電極を形成する工程と、前記第2基板上の前記配線領域
に一端部が前記第2電極と電気的に接続する第3配線を
形成する工程と、前記カラーフィルタを有する膜、前記
第1電極及び前記第2配線が形成された前記第1基板ま
たは前記第2電極および前記第3配線が形成された前記
第2基板の前記シール領域に導通材を有するシール材を
塗布する工程と、前記シール材塗布後、前記第1基板と
前記第2基板とを、前記第1電極及び前記第2電極が対
向するように配置して前記シール材により貼り合せ、前
記導通材を介して前記第3配線の他端部と前記第2配線
とを電気的に接続する工程と、を具備することを特徴と
する。
The liquid crystal device manufacturing method of the present invention has a display area, a wiring area adjacent to the display area, and a seal area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: a first substrate and a second substrate which are bonded to each other via a material,
Forming a film having a color filter on the display region and the wiring region on the first substrate; forming a first electrode on the display region on the film having the color filter; and the first substrate A step of forming a second wiring in the wiring area above, and a step of forming a second wiring in the display area on the second substrate.
A step of forming an electrode, a step of forming a third wire whose one end is electrically connected to the second electrode in the wiring region on the second substrate, a film having the color filter, the first electrode And applying a sealing material having a conductive material to the sealing area of the first substrate having the second wiring or the second electrode having the second electrode and the third wiring formed thereon, and the sealing. After applying the material, the first substrate and the second substrate are arranged so that the first electrode and the second electrode face each other, and are bonded by the sealing material, and the third wiring is provided through the conductive material. Electrically connecting the other end of the second wiring to the second wiring.

【0031】本発明のこのような構成によれば、第1配
線及び第2配線が配置される配線領域には、カラーフィ
ルタを有する膜が配置されているので、第1基板のシー
ル材により囲まれた領域における成膜状態を面内でほぼ
同じくすることができ、第1基板と第2基板とを貼り合
せる際に、表示領域におけるセル厚と配線領域における
セル厚とを容易に同じくするように調整することができ
る。このような製造方法により得られた液晶装置は、基
板面内でほぼ均一なセル厚を有し、表示ムラがなく表示
品位が高い。
According to this structure of the present invention, since the film having the color filter is arranged in the wiring region where the first wiring and the second wiring are arranged, the film is surrounded by the sealing material of the first substrate. It is possible to make the film formation state in the exposed region substantially the same in the plane, and to easily make the cell thickness in the display region and the cell thickness in the wiring region the same when the first substrate and the second substrate are bonded together. Can be adjusted to. The liquid crystal device obtained by such a manufacturing method has a substantially uniform cell thickness within the surface of the substrate, has no display unevenness, and has high display quality.

【0032】また、本発明の他の液晶装置の製造方法
は、表示領域と、該表示領域に隣接した配線領域と、こ
れら表示領域及び配線領域を囲むシール材が配置される
シール領域とを有し、前記シール材を介して貼りあわさ
れる第1基板と第2基板とを具備する液晶装置の製造方
法であって、前記第2基板上の前記表示領域及び前記配
線領域にカラーフィルタを有する膜を形成する工程と、
前記第2基板上の前記カラーフィルタを有する膜上の前
記表示領域に第2電極を形成する工程と、前記第2基板
上の前記配線領域に一端部が前記第2電極と電気的に接
続する第3配線を形成する工程と、前記第1基板上の前
記表示領域に第1電極を形成する工程と、前記第1基板
上の前記配線領域に第2配線を形成する工程と、前記第
1電極及び前記第2配線が形成された前記第1基板また
は前記カラーフィルタを有する膜、前記第2電極および
前記第3配線が形成された前記第2基板の前記シール領
域に導通材を有するシール材を塗布する工程と、前記シ
ール材塗布後、前記第1基板と前記第2基板とを、前記
第1電極及び前記第2電極が対向するように配置して前
記シール材により貼り合せ、前記導通材を介して前記第
3配線の他端部と前記第2配線とを電気的に接続する工
程と、を具備することを特徴とする。
Another liquid crystal device manufacturing method of the present invention has a display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged. And a method for manufacturing a liquid crystal device comprising a first substrate and a second substrate which are attached to each other via the sealing material, the film having color filters in the display region and the wiring region on the second substrate. A step of forming
Forming a second electrode in the display region on the film having the color filter on the second substrate; and electrically connecting one end to the second electrode in the wiring region on the second substrate. Forming a third wiring; forming a first electrode in the display area on the first substrate; forming a second wiring in the wiring area on the first substrate; A film having the first substrate or the color filter on which an electrode and the second wiring are formed, and a sealing material having a conductive material in the sealing region of the second substrate on which the second electrode and the third wiring are formed. And a step of applying the sealing material, the first substrate and the second substrate are arranged so that the first electrode and the second electrode face each other, and are bonded by the sealing material, and the conduction And the other end of the third wiring through the material A step of connecting the serial second wiring electrically, characterized by including the.

【0033】本発明のこのような構成によれば、第1配
線及び第2配線が配置される配線領域には、カラーフィ
ルタを有する膜が配置されているので、第1基板のシー
ル材により囲まれた領域における成膜状態を面内でほぼ
同じくすることができ、第1基板と第2基板とを貼り合
せる際に、表示領域におけるセル厚と配線領域における
セル厚とを容易に同じくするように調整することができ
る。このような製造方法により得られた液晶装置は、基
板面内でほぼ均一なセル厚を有し、表示ムラがなく表示
品位が高い。
According to this structure of the present invention, since the film having the color filter is arranged in the wiring region where the first wiring and the second wiring are arranged, the film is surrounded by the sealing material of the first substrate. It is possible to make the film formation state in the exposed region substantially the same in the plane, and to easily make the cell thickness in the display region and the cell thickness in the wiring region the same when the first substrate and the second substrate are bonded together. Can be adjusted to. The liquid crystal device obtained by such a manufacturing method has a substantially uniform cell thickness within the surface of the substrate, has no display unevenness, and has high display quality.

【0034】また、前記カラーフィルタを有する膜は、
カラーフィルタと、該カラーフィルタを覆う平坦化膜と
を有することを特徴とする。このようにカラーフィルタ
を有する膜として、カラーフィルタと、これを覆う平坦
化膜からなる積層膜を形成することができる。
The film having the color filter is
A color filter and a flattening film that covers the color filter are provided. Thus, as the film having the color filter, a laminated film including the color filter and the flattening film covering the color filter can be formed.

【0035】また、前記カラーフィルタを有する膜は、
前記シール領域に囲まれた領域に形成されることを特徴
とする。このような構成によれば、第1基板と第2基板
とを貼り合せる際に、表示領域におけるセル厚とシール
領域に囲まれた領域であって表示領域でない領域におけ
るセル厚とを容易に同じくするように調整することがで
きる。このような製造方法により得られた液晶装置は、
基板面内でほぼ均一なセル厚を有し、表示ムラがなく表
示品位が高い。
The film having the color filter is
It is characterized in that it is formed in a region surrounded by the seal region. With such a configuration, when the first substrate and the second substrate are bonded together, the cell thickness in the display region and the cell thickness in the region surrounded by the seal region but not the display region can be easily equalized. Can be adjusted to The liquid crystal device obtained by such a manufacturing method,
It has a cell thickness that is almost uniform in the plane of the substrate, and has high display quality with no display unevenness.

【0036】本発明の電子機器は、上述に記載の液晶装
置と、該液晶装置を挟持する筐体とを有することを特徴
とする。本発明のこのような構成によれば、表示品質の
高い表示画面を有する電子機器を得ることができる。
The electronic equipment of the present invention is characterized by having the above-mentioned liquid crystal device and a casing for holding the liquid crystal device. According to such a configuration of the present invention, it is possible to obtain an electronic device having a display screen with high display quality.

【0037】[0037]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)以下、本発明を
単純マトリクス型でCOG(Chip On Glas
s)方式の液晶装置に適用した場合を例にあげ図1〜図
5を用いて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (First Embodiment) Hereinafter, the present invention will be described with reference to a simple matrix type COG (Chip On Glass).
The case of application to the s) type liquid crystal device will be described with reference to FIGS.

【0038】図1は、液晶装置の概略平面図である。図
2は、図1の液晶装置の線II−II線で切断した断面
図である。図3は、図1の液晶装置の線III−III線、図
1及び図4の液晶装置の線III'−III’線それぞれで切
断した断面図である。図4は、図1の液晶装置の矢印IV
で示す配線部分を拡大して示す平面図である。図5は、
図1に示す液晶装置のシール領域、表示領域、配線領域
の位置関係を説明するための平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view of a liquid crystal device. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal device of FIG. 1 taken along line II-II. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III of the liquid crystal device of FIG. 1 and line III′-III ′ of the liquid crystal device of FIGS. 1 and 4. 4 is an arrow IV of the liquid crystal device of FIG.
It is a top view which expands and shows the wiring part shown by. Figure 5
FIG. 3 is a plan view for explaining a positional relationship among a seal area, a display area, and a wiring area of the liquid crystal device shown in FIG. 1.

【0039】図5に示すように、液晶装置1は、点線で
囲まれた表示領域104と、該表示領域104に隣接し
た一点鎖線で囲まれた配線領域105aおよび105b
と、非表示領域であって配線が配置されない領域106
と、これら表示領域104、配線領域105a及び10
5b、そして非表示領域であって配線が配置されない領
域106を囲むシール材3が配置されるシール領域10
3(内部が斜線で埋められている領域)とを有してい
る。
As shown in FIG. 5, the liquid crystal device 1 has a display area 104 surrounded by a dotted line and wiring areas 105a and 105b adjacent to the display area 104 and surrounded by a dashed line.
And a non-display area 106 in which wiring is not arranged.
And the display area 104 and the wiring areas 105a and 10
5b, and the seal area 10 in which the seal material 3 surrounding the non-display area 106 in which wiring is not arranged is arranged.
3 (a region where the inside is filled with diagonal lines).

【0040】液晶装置1は、図面の奥側に配置された第
1電極基板2aと、図面の手前側に配置された第2電極
基板2bとが、シール領域103に配置されたほぼ矩形
状のシール材3によって互いに貼りあわせることによっ
て形成される。
In the liquid crystal device 1, the first electrode substrate 2a arranged on the back side of the drawing and the second electrode substrate 2b arranged on the front side of the drawing are arranged in the seal area 103 and have a substantially rectangular shape. It is formed by sticking together with the sealing material 3.

【0041】シール材3、第1電極基板2a及び第2電
極基板2bによって囲まれる領域は高さが一定の間隙、
いわゆるセル厚を構成する。シール材3の一部には液晶
注入口3aが配置される。第1電極基板2aと第2電極
基板2bとの間隙には、液晶注入口3aを通して液晶L
が注入され、その注入の完了後、液晶注入口3aは樹脂
などの封止材によって封止される。
The region surrounded by the sealing material 3, the first electrode substrate 2a and the second electrode substrate 2b has a constant height,
It constitutes the so-called cell thickness. A liquid crystal injection port 3 a is arranged in a part of the sealing material 3. In the gap between the first electrode substrate 2a and the second electrode substrate 2b, the liquid crystal L is introduced through the liquid crystal injection port 3a.
Is injected, and after the injection is completed, the liquid crystal injection port 3a is sealed with a sealing material such as resin.

【0042】第1電極基板2aは、第2電極基板2bの
外側へ張出す基板張出し部2cを有し、その基板張出し
部2c上に駆動用IC4がACF(Anisotrop
icConductive Film)6によって実装
されている。図2及び図3に示すように、第1電極基板
2aの裏側(図2に示す構造の下側)には、発光源7及
び導光体8を有する照明装置9がバックライトとして設
けられている。
The first electrode substrate 2a has a substrate overhanging portion 2c overhanging to the outside of the second electrode substrate 2b, and the driver IC 4 has an ACF (anisotropic) on the substrate overhanging portion 2c.
It is implemented by icConductive Film) 6. As shown in FIGS. 2 and 3, on the back side of the first electrode substrate 2a (the lower side of the structure shown in FIG. 2), an illumination device 9 having a light emitting source 7 and a light guide 8 is provided as a backlight. There is.

【0043】図2及び図3において、第1電極基板2a
は第1基板9aを有し、その第1基板9aの内側表面、
すなわち液晶L側の表面には半透過反射膜11が配置さ
れ、その上にRカラーフィルタ12が配置され、その上
にカラーフィルタ12を覆うように平坦膜13が配置さ
れ、その上に第1電極14aが配置され、さらにその上
に配向膜16aが配置される。また、第1電極基板2a
の外側の表面には、位相差板17aが配置され、更にそ
の上に偏光板18aが配置されている。
2 and 3, the first electrode substrate 2a
Has a first substrate 9a, the inner surface of the first substrate 9a,
That is, the semi-transmissive reflective film 11 is arranged on the surface of the liquid crystal L side, the R color filter 12 is arranged thereon, and the flat film 13 is arranged thereon so as to cover the color filter 12, and the first film is formed thereon. The electrode 14a is arranged, and the alignment film 16a is further arranged thereon. In addition, the first electrode substrate 2a
A retardation plate 17a is arranged on the outer surface of the plate, and a polarizing plate 18a is further arranged thereon.

【0044】第1電極14aは、図1及び図5に示すよ
うに、複数の直線状の電極を互いに平行に並べることに
よりストライプ状に形成されている。なお、図では、電
極パンターンを分かりやすく示すために、第1電極14
aの間隔を大きく広げても模式的に描いてあるが、実際
には、第1電極14aの間隔は非常に狭く形成されてい
る。更に、第1電極基板2a上には、表示領域104に
配置される第1電極14aが延在してなる第1配線19
aが配置されている。この第1配線19aは、配線領域
105a、シール領域103の一部及びシール領域10
3の外側にまたがって配置される。また、第1基板9a
上には、後述する第2基板9b上に配置された第2電極
14bと電気的に接続する第2配線19bが配置されて
いる。この第2配線19bは、一端部がシール領域10
3内部に位置し、配線領域105b、シール領域103
の一部及びシール領域103の外側にまたがって配置さ
れる。
As shown in FIGS. 1 and 5, the first electrode 14a is formed in a stripe shape by arranging a plurality of linear electrodes in parallel with each other. In the figure, in order to clearly show the electrode pan turn, the first electrode 14
Although it is schematically drawn even if the distance a is widened, the distance between the first electrodes 14a is actually very narrow. Further, on the first electrode substrate 2a, the first wiring 19 formed by extending the first electrode 14a arranged in the display region 104.
a is arranged. The first wiring 19a includes the wiring area 105a, a part of the seal area 103, and the seal area 10.
It is arranged straddling the outside of 3. In addition, the first substrate 9a
A second wiring 19b, which is electrically connected to a second electrode 14b arranged on a second substrate 9b described later, is arranged on the upper side. The second wiring 19b has a seal region 10 at one end.
Located inside 3, the wiring area 105b and the seal area 103
And a part of the seal area 103 and the seal area 103.

【0045】上述の半透過反射膜11は、光反射性の材
料、例えばAl(アルミニウム)によって膜厚100n
m〜500nmに形成される。ただし、光反射性材料は
半透過反射の機能を達成するために、その厚さが光を透
過可能な程度に薄く形成したり、あるいは、半透過反射
膜11の適所に光を通過させる開口(図示せず)を適宜
の面積割合で形成したりする。
The semi-transmissive reflective film 11 is made of a light reflective material such as Al (aluminum) and has a film thickness of 100 n.
m to 500 nm. However, in order to achieve the function of semi-transmissive reflection, the light-reflecting material is formed so that its thickness is thin enough to allow light to pass therethrough, or an opening (that allows light to pass through an appropriate position of the semi-transmissive reflective film 11). (Not shown) is formed at an appropriate area ratio.

【0046】上述のカラーフィルタ12は、インクジェ
ット法や顔料分散法などを用いて、アクリル樹脂などの
有機樹脂に顔料が分散されたカラーフィルタ材料を、モ
ザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列などといった
適宜のパターンに塗布することによって形成され、例え
ばその厚みは1〜3μmに形成される。また、平坦化膜
13は、アクリル樹脂などの適宜の透光性樹脂材料を、
例えばスピンコート法、ロールコート法などによって塗
布することによって形成され、例えばその厚みは1〜3
μmに形成される。平坦化膜13は、カラーフィルタ1
2の表面の凹凸を平坦膜材料によって埋めて平坦化する
ものである。本実施形態においては、カラーフィルタ1
2を平坦膜13が覆った状態の膜が、表示領域104の
他に、表示に関与しない配線領域105a及び105
b、そして非表示領域であって配線が配置されない領域
106にまで配置されている。言い換えると、シール領
域103により囲まれた領域内にカラーフィルタ12を
平坦膜13が覆った状態の膜が配置されている。従っ
て、配線領域105a及び105bにおいては、カラー
フィルタ12を平坦膜13が覆った状態の膜上に、第1
配線19a及び第2配線19bが配置された状態となっ
ている。
For the color filter 12 described above, a color filter material in which a pigment is dispersed in an organic resin such as an acrylic resin is formed by an ink jet method, a pigment dispersion method, or the like, in an appropriate mosaic arrangement, stripe arrangement, delta arrangement, or the like. It is formed by applying a pattern, and the thickness thereof is, for example, 1 to 3 μm. The flattening film 13 is made of an appropriate light-transmissive resin material such as acrylic resin.
For example, it is formed by applying by a spin coating method, a roll coating method, or the like, and the thickness thereof is, for example, 1 to 3.
formed to a thickness of μm. The flattening film 13 is a color filter 1.
The unevenness of the surface 2 is filled with a flat film material to be flattened. In the present embodiment, the color filter 1
The film in which 2 is covered with the flat film 13 is not only the display region 104 but also the wiring regions 105a and 105 which are not involved in the display.
b, and even the non-display area 106 where the wiring is not arranged. In other words, the film in which the flat film 13 covers the color filter 12 is arranged in the area surrounded by the seal area 103. Therefore, in the wiring regions 105a and 105b, the first filter is formed on the color filter 12 covered with the flat film 13.
The wiring 19a and the second wiring 19b are arranged.

【0047】一方、図2及び図3において、第2電極基
板2bは第2基板9bを有し、その第2基板9bの内側
表面、すなわち液晶L側の表面には第2電極14bが配
置され、さらにその上に配向膜16bが形成される。
On the other hand, in FIGS. 2 and 3, the second electrode substrate 2b has a second substrate 9b, and the second electrode 14b is arranged on the inner surface of the second substrate 9b, that is, on the liquid crystal L side surface. Further, the alignment film 16b is formed thereon.

【0048】第2電極14bは、図1及び図5に示すよ
うに、多数の直線状の電極を第1電極14aと交差する
方向へ互いに平行に並べることによりストライプ状に形
成されている。なお、図では、電極パターンを分かりや
すく示すために、第2電極14bの間隔を大きく広げて
模式的に描いてあるが、実際には、第2電極14bの間
隔は非常に狭く形成されている。また、第2基板9bの
外側の表面には、位相差板17bが配置され、更にその
上に偏光板18bが配置されている。更に、第2電極基
板2b上には、表示領域104に配置される第2電極1
4bが延在してなる第3配線114が配置されている。
この第3配線114は、配線領域105a及びシール領
域103の内部に配置される。図3に示すように、第3
配線114は、一端部が第2電極14bと接続され、他
端部が前述した第1基板9a上に配置される第2配線1
9bの一端部と、シール3内に含有される導通材21を
介して電気的に接続されている。
As shown in FIGS. 1 and 5, the second electrode 14b is formed in a stripe shape by arranging a large number of linear electrodes in parallel with each other in a direction intersecting with the first electrode 14a. In addition, in the figure, in order to show the electrode pattern in an easy-to-understand manner, the intervals between the second electrodes 14b are schematically illustrated with a large distance, but in practice, the intervals between the second electrodes 14b are formed very narrow. . Further, a retardation plate 17b is arranged on the outer surface of the second substrate 9b, and a polarizing plate 18b is further arranged thereon. Further, on the second electrode substrate 2b, the second electrode 1 arranged in the display area 104 is formed.
3rd wiring 114 which 4b extends is arranged.
The third wiring 114 is arranged inside the wiring area 105 a and the seal area 103. As shown in FIG.
One end of the wiring 114 is connected to the second electrode 14b, and the other end of the wiring 114 is arranged on the above-described first substrate 9a.
It is electrically connected to one end of 9b through a conductive material 21 contained in the seal 3.

【0049】尚、図5においては、第1電極基板2a上
に配置される第1電極14a、第1配線19a及び第2
配線19bと識別しやすいように、第2電極基板2b上
に配置される第2電極14b及び第3配線114は、太
線で図示している。
In FIG. 5, the first electrode 14a, the first wiring 19a and the second electrode 14a arranged on the first electrode substrate 2a are arranged.
The second electrode 14b and the third wiring 114 arranged on the second electrode substrate 2b are indicated by thick lines so as to be easily distinguished from the wiring 19b.

【0050】図1及び図5において、第1電極14a及
び第2電極14bとが交差する点は、ドットマトリクス
状に配列しており、これらの交差点の個々が1つのピク
セルを構成し、図2及び図3のカラーフィルタ12の個
々の色パターンがその1ピクセルに対応する。カラーフ
ィルタ12は、例えば、R,G、Bの3原色が1つのユ
ニットとなって1画素を構成する。つまり、3ピクセル
が1つのユニットになって1つの画素を構成している。
1 and 5, the points where the first electrodes 14a and the second electrodes 14b intersect are arranged in a dot matrix, and each of these intersections constitutes one pixel. And each color pattern of the color filter 12 of FIG. 3 corresponds to one pixel thereof. In the color filter 12, for example, the three primary colors of R, G, and B are combined into one unit to form one pixel. That is, three pixels are one unit to form one pixel.

【0051】第1基板9a及び第2基板9bには、例え
ばガラス、プラスチックなどが用いられる。また、第1
電極14a及び第2電極14bは、例えばITO(In
dium Tin Oxide)を周知の成膜法、例え
ば、スパッタ法、真空蒸着法を用いて厚さ50nm〜5
00nmに成膜した後、フォトエッチング法によって所
望のパターンに形成される。配向膜16a及び配向膜1
6bは、例えばポリイミド溶液を塗布した後に焼成する
方法や、オフセット印刷法などによって厚さ50nm〜
100nmに形成される。
For the first substrate 9a and the second substrate 9b, for example, glass or plastic is used. Also, the first
The electrode 14a and the second electrode 14b are, for example, ITO (In
50 μm to 5 nm in thickness using a well-known film forming method such as a sputtering method or a vacuum evaporation method.
After forming a film having a thickness of 00 nm, a desired pattern is formed by a photoetching method. Alignment film 16a and alignment film 1
6b has a thickness of 50 nm by a method such as applying a polyimide solution and then baking, or an offset printing method.
It is formed to 100 nm.

【0052】図1及び図5において、第1電極基板2a
の基板張出し部2c上には、第1電極14aからそのま
ま延びる第1配線19aと、シール材3の中に分散され
た導通材21(図3参照)を介して第2電極基板2b上
の第2電極14bがそのまま延びた第3配線114に接
続される第2配線19bとが配置されている。また、基
板張出し部2cの辺端部には端子22が配置されてい
る。これらの配線及び端子は、ACF6内の導通粒子を
介して駆動用IC4のバンプ(図示せず)に導電接続す
る。
In FIGS. 1 and 5, the first electrode substrate 2a
On the substrate overhanging portion 2c of the second electrode substrate 2b via the first wiring 19a extending directly from the first electrode 14a and the conductive material 21 (see FIG. 3) dispersed in the sealing material 3. A second wiring 19b connected to the third wiring 114, in which the two electrodes 14b extend as it is, is arranged. In addition, terminals 22 are arranged at the edge portions of the substrate overhanging portion 2c. These wirings and terminals are conductively connected to bumps (not shown) of the driving IC 4 via conductive particles in the ACF 6.

【0053】図2及び図3においては、液晶装置1の全
体的な構成を分かりやすく示すために、導通材21を大
きく図示しているが、その大きさはシール材3の線幅に
対して非常に小さいものである。よって、導通材21は
シール材3の線幅方向に複数個存在することができる。
In FIG. 2 and FIG. 3, the conductive material 21 is shown in a large size in order to make the overall structure of the liquid crystal device 1 easy to understand, but its size is relative to the line width of the sealing material 3. It is a very small one. Therefore, a plurality of conductive materials 21 can exist in the line width direction of the sealing material 3.

【0054】本実施形態に係る液晶装置1は以上のよう
に構成されているので、反射型表示及び透過型表示の2
通りの表示方法を選択的に実施できる。反射型表示で
は、第2電極基板2b側の外部から取り込んだ光を半透
過反射膜11によって反射させて液晶Lの層へ供給す
る。この状態で、液晶Lに印加する電圧を画素ごとに制
御して液晶の配向を画素ごとに制御することにより、液
晶Lの層へ供給された光を画素毎に変調し、その変調し
た光を偏光板18bへ供給する。これにより、第2電極
基板2bの外側へ文字などといった像を表示する。
Since the liquid crystal device 1 according to the present embodiment is configured as described above, it has two types of reflective display and transmissive display.
Street display methods can be selectively implemented. In the reflective display, the light taken in from the outside on the second electrode substrate 2b side is reflected by the semi-transmissive reflective film 11 and supplied to the layer of the liquid crystal L. In this state, by controlling the voltage applied to the liquid crystal L for each pixel and controlling the alignment of the liquid crystal for each pixel, the light supplied to the layer of the liquid crystal L is modulated for each pixel, and the modulated light is It is supplied to the polarizing plate 18b. As a result, an image such as a character is displayed outside the second electrode substrate 2b.

【0055】他方、液晶装置1によって透過型表示を行
う場合には、照明装置9の発光源7を発光させる。発光
源7からの光は光入射面8aを通して導光体8の内部へ
導入され、その導光体8の内部を平面的に広がって伝播
しながら光出射面24bを通して外部へ出射される。こ
れにより、面状の光が液晶Lの層へ供給される。この光
を液晶Lによって変調することにより表示を行うことは
反射型表示の場合と同じである。
On the other hand, when the transmissive display is performed by the liquid crystal device 1, the light emission source 7 of the illumination device 9 is caused to emit light. The light from the light emitting source 7 is introduced into the inside of the light guide body 8 through the light incident surface 8a, and propagates while being spread in the inside of the light guide body 8 in a plane, and is emitted to the outside through the light emission surface 24b. As a result, planar light is supplied to the layer of the liquid crystal L. Displaying by modulating this light with the liquid crystal L is the same as in the case of the reflective display.

【0056】図1において、第1電極基板2a上に設け
られるとともに、導通材21を介して第2基板2b上の
第2電極14bに電気的に接続される配線19bは、本
実施形態の場合、基板張出し部2c上からシール材3を
通ってそのシール材3によって囲まれる領域、すなわち
液晶Lが封入された領域の中に入って延在した状態で、
シール材3の中に分散された導通材21によって第3配
線114を介して第2電極14bとの導通がとられてい
る。
In FIG. 1, the wiring 19b provided on the first electrode substrate 2a and electrically connected to the second electrode 14b on the second substrate 2b through the conductive material 21 is the wiring in the present embodiment. In a state where it extends from above the substrate overhanging portion 2c through the sealing material 3 into the area surrounded by the sealing material 3, that is, the area in which the liquid crystal L is sealed,
The conductive material 21 dispersed in the sealing material 3 establishes electrical connection with the second electrode 14b via the third wiring 114.

【0057】また、図3及び図4に示すように、配線1
9bは、導電膜22を第1層とし、導電膜23を第2層
とする積層構造によって形成されている。導電膜22
は、例えば、Agを主成分としてPd及びCuが添加さ
れてなるAPC合金によって構成される。また、導電膜
23は、第1電極14aをパターニングする際に同時
に、すなわち同一層として形成される。この結果、導電
膜23は第1電極14aと同じITOによって形成され
ている。
As shown in FIGS. 3 and 4, the wiring 1
9b has a laminated structure in which the conductive film 22 is the first layer and the conductive film 23 is the second layer. Conductive film 22
Is composed of, for example, an APC alloy containing Ag as a main component and Pd and Cu added thereto. In addition, the conductive film 23 is formed at the same time when the first electrode 14a is patterned, that is, as the same layer. As a result, the conductive film 23 is formed of the same ITO as the first electrode 14a.

【0058】本実施形態の第2配線19bは、上記のよ
うに、ITOに比べて低抵抗であるAPC合金を含んで
構成されているので、第2配線19bの配線抵抗がIT
O単体の場合に比べて低くなっている。このため、第2
配線19bを通って流れる信号に波形の鈍化が発生する
こともなくなり、液晶装置1の表示領域に表示品質の高
い像を表示できる。
As described above, the second wiring 19b of the present embodiment is composed of an APC alloy having a lower resistance than ITO, so that the wiring resistance of the second wiring 19b is IT.
It is lower than that of O alone. Therefore, the second
The blunting of the waveform does not occur in the signal flowing through the wiring 19b, and an image with high display quality can be displayed in the display area of the liquid crystal device 1.

【0059】ところで、APC合金は上記のような優れ
た低抵抗特性を有している反面、腐食しやすいという欠
点をもあわせて有している。第2配線19bにそのよう
な腐食が発生すると、液晶Lに印加する電圧を正常に制
御できなくなるおそれがあるので、表示品質を高く維持
することができなくなるおそれがある。このことに関し
て、本実施形態では、APC合金からなる導電膜22を
シール材3によって囲まれる領域、すなわち液晶Lが封
入された領域内に配置して、シール材3の外部には出な
いように設計している。この結果、導電膜22が外気に
触れることを防止して、その膜22に腐食が発生するこ
とを防止している。なお、図4では、配線19bとシー
ル材3との関係を分かりやすく示すために、シール材3
の線幅に対する配線19bの線幅を実際よりも広く描い
てあるが、実際には、配線19bの線幅はシール材3の
線幅よりも狭いことが多い。
By the way, the APC alloy has the excellent low resistance characteristics as described above, but also has a drawback that it is easily corroded. If such corrosion occurs in the second wiring 19b, the voltage applied to the liquid crystal L may not be able to be normally controlled, and thus it may not be possible to maintain high display quality. In this regard, in the present embodiment, the conductive film 22 made of an APC alloy is arranged in a region surrounded by the seal material 3, that is, a region in which the liquid crystal L is sealed so that the conductive film 22 does not come out of the seal material 3. I'm designing. As a result, the conductive film 22 is prevented from coming into contact with the outside air and the film 22 is prevented from being corroded. In addition, in FIG. 4, in order to clearly show the relationship between the wiring 19 b and the sealing material 3, the sealing material 3
Although the line width of the wiring 19b is drawn wider than the actual line width, the line width of the wiring 19b is often narrower than the line width of the sealing material 3 in practice.

【0060】ここで、一般に、液晶装置の液晶層の厚み
は3〜8μm程度に設計されている。従って、従来の配
線領域にカラーフィルタを平坦膜が覆った状態の膜が配
置されない構造を有する液晶装置においては、カラーフ
ィルタを平坦膜が覆った状態の膜の膜厚が3〜5μmと
いうように液晶層の厚みとほぼ同じ厚さに設計されてお
り、カラーフィルタを平坦膜が覆った状態の膜がある領
域とない領域とでセル厚を同じくするよう調整するのが
非常に困難であった。これに対し、本実施形態において
は、上記のように、第1配線19a及び第2配線19b
が配置される配線領域105a及び105b、そして非
表示領域であって配線が配置されない領域106には、
カラーフィルタ12を平坦膜13が覆った状態の膜が表
示領域104から延在されて配置されている。言い換え
れば、シール材3により囲まれた領域内に、カラーフィ
ルタ12を平坦膜13が覆った状態の膜が配置されてい
る。このため、電極基板2aのシール材3により囲まれ
た領域における成膜状態を面内でほぼ同じくすることが
でき、2枚の電極基板2a及び2bを貼り合せて液晶セ
ルを製造する場合に、表示領域104におけるセル厚
と、配線領域105a及び105b、そして非表示領域
であって配線が配置されない領域106におけるセル厚
とを容易に同じくするように調整することができる。従
って、このような液晶セルが組み込まれた液晶装置は、
基板面内でほぼ均一なセル厚に保持されているため表示
ムラがなく、表示品位が高い。また、本実施形態におい
ては、配向膜16a及び16bも、シール材3により囲
まれた領域に配置されているため、配向膜16a及び1
6bが配線領域105a及び105b、非表示領域であ
って配線が配置されない領域106に配置されない場合
と比べて、表示領域以外のこれらの領域と表示領域との
膜厚形成状態をほぼ同じくすることができ、基板面内均
一にセル厚を設定することが容易となる。
Here, in general, the thickness of the liquid crystal layer of the liquid crystal device is designed to be about 3 to 8 μm. Therefore, in a conventional liquid crystal device having a structure in which the film in the state where the flat film covers the color filter is not arranged in the wiring region, the film thickness of the film in the state where the flat film covers the color filter is 3 to 5 μm. It was designed to have almost the same thickness as the liquid crystal layer, and it was very difficult to adjust the color filter so that the cell thickness was the same in the region with and without the film covered with the flat film. . On the other hand, in the present embodiment, as described above, the first wiring 19a and the second wiring 19b are used.
Are arranged in the wiring areas 105a and 105b and the non-display area 106 in which the wiring is not arranged.
A film in which the flat film 13 covers the color filter 12 is arranged so as to extend from the display region 104. In other words, in the area surrounded by the sealing material 3, the film in which the flat film 13 covers the color filter 12 is arranged. Therefore, the film formation state in the region surrounded by the sealing material 3 of the electrode substrate 2a can be made substantially the same in the plane, and when the two electrode substrates 2a and 2b are bonded to each other to manufacture a liquid crystal cell, The cell thickness in the display area 104 and the cell thickness in the wiring areas 105a and 105b and the non-display area in which the wiring is not arranged can be easily adjusted to be the same. Therefore, a liquid crystal device incorporating such a liquid crystal cell is
Since the cell thickness is kept substantially uniform within the substrate surface, there is no display unevenness and the display quality is high. Further, in the present embodiment, since the alignment films 16a and 16b are also arranged in the region surrounded by the sealing material 3, the alignment films 16a and 1b are formed.
6b is a wiring region 105a and 105b, compared with the case where the non-display region is not arranged in the region 106 where the wiring is not arranged, it is possible to make the film thickness formation state of these regions other than the display region and the display region substantially the same. Therefore, it becomes easy to set the cell thickness uniformly in the substrate surface.

【0061】尚、一般に、半透過反射膜11に用いられ
るAlや第1電極14a及び第2電極14bに用いられ
るITOなどの無機膜は、カラーフィルタや平坦化膜に
用いられる有機樹脂膜と比べて厚さが非常に薄く形成さ
れやすいため、有機樹脂と比較してセル厚の調整に関与
する度合いが非常に低い。このため、本実施形態におい
ては、半透過反射膜11は表示領域104にほぼ対応し
た領域のみに形成しているが、配線領域105a及び1
05b、そして非表示領域であって配線が配置されない
領域106にまで延在させて配置しても良い。
In general, an inorganic film such as Al used for the semi-transmissive reflective film 11 and ITO used for the first electrode 14a and the second electrode 14b is compared with an organic resin film used for a color filter or a flattening film. Since it is apt to be formed to be very thin, the degree of contribution to the adjustment of the cell thickness is very low as compared with the organic resin. Therefore, in the present embodiment, the semi-transmissive reflective film 11 is formed only in a region substantially corresponding to the display region 104, but the wiring regions 105a and 1a are formed.
05b and a region 106 which is a non-display region and in which wiring is not arranged may be extended and arranged.

【0062】また、本実施形態においては、図4に示す
ように、導電膜22の全部がシール材3によって囲まれ
る領域内におさめられているが、これに代えて、導電膜
22を導電膜23の内部領域においてシール材3を通過
させて延ばすことにより、導電膜22の一部がシール材
3によって囲まれる領域内に配置され、他の一部がシー
ル材3の外側に位置するという構成を採用することもで
きる。
Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 4, the conductive film 22 is entirely contained within the region surrounded by the sealing material 3, but instead of this, the conductive film 22 is replaced with a conductive film. A configuration in which a part of the conductive film 22 is arranged in the region surrounded by the seal material 3 and the other part is located outside the seal material 3 by extending the seal material 3 in the inner region of 23 Can also be adopted.

【0063】また、本実施形態においては、カラーフィ
ルタ12及び平坦化膜13は、第1電極基板2a側に配
置しているが、第2電極基板2b側に配置してもよい。
In this embodiment, the color filter 12 and the flattening film 13 are arranged on the first electrode substrate 2a side, but they may be arranged on the second electrode substrate 2b side.

【0064】尚、上述したセル厚とは、第1基板9aの
液晶層側に配置される表面と第2基板9bの液晶層側に
配置される表面との距離のことであり、以下の記載にお
いても同様である。
The cell thickness mentioned above is the distance between the surface of the first substrate 9a arranged on the liquid crystal layer side and the surface of the second substrate 9b arranged on the liquid crystal layer side. The same is true for.

【0065】次に、上記で説明した液晶装置の製造方法
について説明する。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal device described above will be described.

【0066】まず、第1基板9a及び第2基板9bを用
意する。
First, the first substrate 9a and the second substrate 9b are prepared.

【0067】はじめに第1電極基板2aの製造方法につ
いて説明する。第1基板9a上に、表示領域104に対
応した領域にAl膜を成膜して半透過反射膜11を形成
する。次に、顔料分散法やインクジェット法などの既知
の成膜方法によりR、G、Bのカラーフィルタ12を半
透過反射膜11上に形成する。このカラーフィルタ12
は、表示領域104、配線領域105a及び105b、
そして非表示領域であって配線が配置されない領域10
6に形成される。次に、スピンコートなどにより透明樹
脂材料をカラーフィルタ12上に塗布し、平坦化膜13
を形成する。この平坦化膜13は、カラーフィルタ12
を覆うように形成され、シール材3により囲まれた領域
内をほぼ埋めるように形成される。次に、APC合金膜
を成膜し、フォトエッチング法によって所望のパターン
にエッチングして、第2配線19bの一部を形成する。
次に、平坦化膜13上に例えばスパッタ法などによりI
TO膜を成膜した後、フォトエッチング法によって所望
のパターンにエッチングして、第1電極14a、第1配
線19a及び第2配線19bの一部が形成される。その
後、既知の方法によりシール材により囲まれた領域内を
ほぼ埋めるように配向膜16aを形成して、第1電極基
板2aが製造される。
First, a method of manufacturing the first electrode substrate 2a will be described. An Al film is formed on a region corresponding to the display region 104 on the first substrate 9a to form a semi-transmissive reflective film 11. Next, the R, G, and B color filters 12 are formed on the semi-transmissive reflective film 11 by a known film forming method such as a pigment dispersion method or an inkjet method. This color filter 12
Is a display area 104, wiring areas 105a and 105b,
The non-display area 10 in which wiring is not arranged
6 is formed. Next, a transparent resin material is applied onto the color filter 12 by spin coating or the like to form a flattening film 13
To form. The flattening film 13 is used as the color filter 12
And is formed so as to substantially fill the inside of the region surrounded by the sealing material 3. Next, an APC alloy film is formed and etched into a desired pattern by a photo etching method to form a part of the second wiring 19b.
Next, I is formed on the flattening film 13 by, for example, a sputtering method.
After forming the TO film, the first electrode 14a, the first wiring 19a, and a part of the second wiring 19b are formed by etching into a desired pattern by a photoetching method. After that, the alignment film 16a is formed by a known method so as to substantially fill the region surrounded by the sealing material, and the first electrode substrate 2a is manufactured.

【0068】次に、第2電極基板2bの製造方法につい
て説明する。第1基板9b上に、例えばスパッタ法など
によりITO膜を成膜した後、フォトエッチング法によ
って所望のパターンにエッチングして、第2電極14b
及び第3配線114部を形成する。その後、シール材3
により囲まれた領域にほぼ対応した領域に既知の方法に
より配向膜16aを形成して、第1電極基板2aが製造
される。
Next, a method of manufacturing the second electrode substrate 2b will be described. After forming an ITO film on the first substrate 9b by, for example, a sputtering method or the like, the second electrode 14b is etched by a photoetching method to form a desired pattern.
And the third wiring 114 part is formed. After that, the sealing material 3
The first electrode substrate 2a is manufactured by forming the alignment film 16a by a known method in a region substantially corresponding to the region surrounded by.

【0069】次に、第1電極基板2aまたは第2電極基
板2bのいずれか一方の基板上に導通材21を含有する
シール材3を塗布し、このシール材3を介して、第1電
極基板2a及び第2電極基板2bを貼り合せて液晶セル
を製造する。この際、第2配線19bと第3配線114
とはシール材3に含有される導通材21により電気的に
接続される。本実施形態においては、カラーフィルタ1
2とこれを覆う平坦化膜13からなる膜がシール材3に
より囲まれた領域にまで配置されているため、基板貼り
合せ工程の際に、液晶セルのセル厚を面内均一に調整す
ることが容易に行うことができ、作業効率が良い。
Next, the sealing material 3 containing the conductive material 21 is applied on either one of the first electrode substrate 2a and the second electrode substrate 2b, and the first electrode substrate is applied via this sealing material 3. The liquid crystal cell is manufactured by bonding the 2a and the second electrode substrate 2b together. At this time, the second wiring 19b and the third wiring 114
Are electrically connected to each other by a conductive material 21 contained in the sealing material 3. In the present embodiment, the color filter 1
Since the film composed of 2 and the flattening film 13 covering the film 2 is arranged up to the region surrounded by the sealing material 3, it is possible to uniformly adjust the cell thickness of the liquid crystal cell in the plane during the substrate bonding process. Can be done easily and work efficiency is good.

【0070】その後、液晶セルに位相差板17a及び1
7b、偏光板18a及び18bを配置し、更にバックラ
イト9を配置して、液晶装置が製造される。
After that, the retardation plates 17a and 1 are placed in the liquid crystal cell.
7b, the polarizing plates 18a and 18b are arranged, and the backlight 9 is further arranged to manufacture a liquid crystal device.

【0071】(第2実施形態)次に、TFDをスイッチ
ング素子として用いるアクティブマトリクス型でCOG
(Chip On Glass)方式の液晶装置に本発
明を適用した場合を例にあげ図6〜図11を用いて説明
する。
(Second Embodiment) Next, an active matrix type COG using a TFD as a switching element is used.
A case where the present invention is applied to a (Chip On Glass) type liquid crystal device will be described as an example with reference to FIGS.

【0072】図6は、液晶装置の概略平面図である。図
7は、図6の液晶装置の線VII−VII線で切断した断面図
である。図8は、図6及び図7の矢印VIIIで示すスイッ
チング素子部分を拡大して示す斜視図である。図9は、
図6の液晶装置の線IX−IX線、図6及び図10の液晶装
置の線IX'−IX’線でそれぞれ切断した断面図である。
図10は、図1の液晶装置の矢印Xで示す配線部分を拡
大して示す平面図である。図11は、図6に示す液晶装
置のシール領域、表示領域、配線領域の位置関係を説明
するための平面図であり、図11ではTFD及び画素電
極の図示を省略している。
FIG. 6 is a schematic plan view of the liquid crystal device. 7 is a cross-sectional view of the liquid crystal device of FIG. 6 taken along line VII-VII. FIG. 8 is an enlarged perspective view showing a switching element portion indicated by an arrow VIII in FIGS. 6 and 7. Figure 9
FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line IX-IX of the liquid crystal device of FIG. 6 and line IX′-IX ′ of the liquid crystal device of FIGS. 6 and 10.
FIG. 10 is an enlarged plan view showing a wiring portion indicated by an arrow X in the liquid crystal device of FIG. FIG. 11 is a plan view for explaining the positional relationship among the seal area, the display area, and the wiring area of the liquid crystal device shown in FIG. 6, and the TFD and the pixel electrode are not shown in FIG.

【0073】図11に示すように、液晶装置31は、点
線で囲まれた表示領域304と、該表示領域304に隣
接した一点鎖線で囲まれた配線領域305aおよび30
5bと、非表示領域であって配線が配置されない領域3
06と、これら表示領域304、配線領域305a及び
305b、そして非表示領域であって配線が配置されな
い領域306を囲むシール材3が配置されるシール領域
303(内部が斜線で埋められている領域)とを有して
いる。
As shown in FIG. 11, the liquid crystal device 31 includes a display area 304 surrounded by a dotted line and wiring areas 305a and 30 adjacent to the display area 304 and surrounded by a dashed line.
5b and a non-display area 3 in which wiring is not arranged
06, the display area 304, the wiring areas 305a and 305b, and the sealing material 3 that surrounds the non-display area 306 in which wiring is not arranged (the area where the inside is filled with diagonal lines). And have.

【0074】液晶装置31は、図面の奥側に配置された
第2電極基板2bと、図面の手前側に配置された第1電
極基板2aとが、シール領域303に配置されたほぼ矩
形状のシール材3によって互いに貼りあわせることによ
って形成される。
In the liquid crystal device 31, the second electrode substrate 2b arranged on the back side of the drawing and the first electrode substrate 2a arranged on the front side of the drawing are arranged in the seal area 303 and have a substantially rectangular shape. It is formed by sticking together with the sealing material 3.

【0075】シール材3、第1電極基板2a及び第2電
極基板2bによって囲まれる領域は高さが一定の間隙、
いわゆるセル厚を構成する。シール材3の一部には液晶
注入口3aが配置される。第1電極基板2aと第2電極
基板2bとの間隙には、液晶注入口3aを通して液晶L
が注入され、その注入の完了後、液晶注入口3aは樹脂
などの封止材によって封止される。
A region surrounded by the sealing material 3, the first electrode substrate 2a and the second electrode substrate 2b has a constant height,
It constitutes the so-called cell thickness. A liquid crystal injection port 3 a is arranged in a part of the sealing material 3. In the gap between the first electrode substrate 2a and the second electrode substrate 2b, the liquid crystal L is introduced through the liquid crystal injection port 3a.
Is injected, and after the injection is completed, the liquid crystal injection port 3a is sealed with a sealing material such as resin.

【0076】第1電極基板2aは、第2電極基板2bの
外側へ張出す基板張出し部2cを有し、その基板張出し
部2c上に3つの駆動用IC4a、4b、4cがACF
(Anisotropic Conductive F
ilm)6によって実装されている。本実施形態におい
ては、第1実施形態と異なって3つの駆動用ICを用い
るのは、第1電極基板2a側と第2電極基板2b側と
で、言い換えれば、走査線駆動系と信号線駆動系との間
で使用する電圧値が異なっているため、それらを1つの
ICチップでまかなうことができないからである。図7
及び図9に示すように、第2電極基板2bの裏側(図2
に示す構造の下側)には、発光源7及び導光体8を有す
る照明装置9がバックライトとして設けられている。
The first electrode substrate 2a has a substrate overhanging portion 2c overhanging to the outside of the second electrode substrate 2b, and the three driving ICs 4a, 4b, 4c are ACFs on the substrate overhanging portion 2c.
(Anisotropic Conductive F
ilm) 6. In the present embodiment, unlike the first embodiment, three driving ICs are used on the first electrode substrate 2a side and the second electrode substrate 2b side, in other words, the scanning line driving system and the signal line driving. This is because one IC chip cannot cover them because the voltage values used for the system are different. Figure 7
And as shown in FIG. 9, the back side of the second electrode substrate 2b (see FIG.
An illumination device 9 having a light emitting source 7 and a light guide 8 is provided as a backlight on the lower side of the structure shown in FIG.

【0077】図7及び図9において、第1電極基板2a
は第1基板9aを有し、その第1基板9aの内側表面、
すなわち液晶L側の表面には、ライン配線32と、その
ライン配線32に導通するTFD33と、そのTFD3
3を介してライン配線32に導通する第1電極としての
画素電極34とが配置されている。また、画素電極3
4、TFD33及びライン配線32の上に配向膜16a
が配置される。また、第1基板9aの外側の表面には、
位相差板17aが配置され、更にその上に偏光板18a
が配置されている。
7 and 9, the first electrode substrate 2a
Has a first substrate 9a, the inner surface of the first substrate 9a,
That is, on the surface on the liquid crystal L side, the line wiring 32, the TFD 33 that is electrically connected to the line wiring 32, and the TFD 3 thereof.
And a pixel electrode 34 as a first electrode that is electrically connected to the line wiring 32 through the line 3. Also, the pixel electrode 3
4, the alignment film 16a on the TFD 33 and the line wiring 32
Are placed. Further, on the outer surface of the first substrate 9a,
A retardation plate 17a is arranged, and a polarizing plate 18a is further provided thereon.
Are arranged.

【0078】ライン配線32は、図6に示すように、互
いに平行に間隔をおいてストライプ状に形成され、画素
電極34はそれらのライン配線32間にドットマトリク
ス状に配列され、TFD33は一方でライン配線32に
導通し他方で画素電極34に導通するように各画素電極
34に個々に設けられている。更に、第1電極基板2a
上には、表示領域304に配置されるライン配線32が
延在してなる第1配線19aが配置されている。この第
1配線19aは、配線領域305a、シール領域303
の一部及びシール領域303の外側にまたがって配置さ
れる。また、第1電極基板2a上には、後述する第2電
極基板2b上に配置された第2電極35と電気的に接続
する第2配線19bが配置されている。この第2配線1
9bは、一端部がシール領域303内部に位置し、配線
領域305b、シール領域303の一部及びシール領域
303の外側にまたがって配置される。
As shown in FIG. 6, the line wirings 32 are formed in stripes in parallel with each other, the pixel electrodes 34 are arranged in a dot matrix between the line wirings 32, and the TFD 33 is one side. Each pixel electrode 34 is individually provided so as to be electrically connected to the line wiring 32 and electrically connected to the pixel electrode 34 on the other side. Furthermore, the first electrode substrate 2a
The first wiring 19a formed by extending the line wiring 32 arranged in the display area 304 is arranged above. The first wiring 19a includes a wiring area 305a and a seal area 303.
And a part of the seal area 303 and the outside of the seal area 303. Further, on the first electrode substrate 2a, the second wiring 19b electrically connected to the second electrode 35 arranged on the second electrode substrate 2b described later is arranged. This second wiring 1
One end of 9b is located inside the seal region 303, and is arranged over the wiring region 305b, a part of the seal region 303, and the outside of the seal region 303.

【0079】図6及び図7において、矢印VIIIで示す1
個のTFDの近傍の構造を示すと、例えば図8の通りで
ある。図8に示すのは、いわゆるBuck−to−Bu
ck(バック・ツー・バック)構造のTFDを用いたも
のである。図8において、ライン配線32は、例えばT
aW(タンタル・タングステン)によって形成された第
1層32aと、例えば陽極酸化膜であるTa(酸
化タンタル)によって形成された第2層32bと、例え
ばCrによって形成された第3層32cとからなる3層
構造に形成されている。
In FIG. 6 and FIG. 7, 1 indicated by arrow VIII
The structure in the vicinity of each TFD is shown in FIG. 8, for example. FIG. 8 shows a so-called Buck-to-Bu.
This is a TFD having a ck (back-to-back) structure. In FIG. 8, the line wiring 32 is, for example, T
a first layer 32a made of aW (tantalum / tungsten), a second layer 32b made of Ta 2 O 5 (tantalum oxide) which is an anodized film, and a third layer 32c made of Cr, for example. Is formed in a three-layer structure.

【0080】また、TFD33は、第1TFD部33a
と第2TFD部33bとを直列に接続することによって
構成されている。第1TFD部33a及び第2TFD部
33bは、TaWによって形成された第1金属層36
と、陽極酸化によって形成されたTaの絶縁層3
7と、ライン配線32の第3層32cと同一層であるC
rの第2金属層38との3層積層構造によって構成され
ている。
The TFD 33 has a first TFD section 33a.
And the second TFD section 33b are connected in series. The first TFD portion 33a and the second TFD portion 33b are the first metal layer 36 formed of TaW.
And an insulating layer 3 of Ta 2 O 5 formed by anodic oxidation
7 and C, which is the same layer as the third layer 32c of the line wiring 32.
It has a three-layer laminated structure with the second metal layer 38 of r.

【0081】第1TFD部33aをライン配線32側か
ら見ると、第2金属層38/絶縁層37/第1金属層3
6の積層構造が構成され、他方、第2TFD部33bを
ライン配線32側から見ると、第1金属層36/絶縁層
37/第2金属層38の積層構造が構成される。このよ
うに、一対のTFD部33a及び33bを電気的に逆向
きに直列接続してバック・ツー・バック構造のTFDを
構成することにより、TFDのスイッチング特性の安定
化が達成されている。画素電極34は、第2TFD部3
3bの第2金属層38に導通するように、例えばITO
によって形成される。
When the first TFD portion 33a is viewed from the line wiring 32 side, the second metal layer 38 / insulating layer 37 / first metal layer 3 is formed.
When the second TFD portion 33b is viewed from the line wiring 32 side, the laminated structure of the first metal layer 36 / insulating layer 37 / second metal layer 38 is formed. As described above, the pair of TFD portions 33a and 33b are electrically connected in series in opposite directions to form a TFD having a back-to-back structure, thereby stabilizing the switching characteristics of the TFD. The pixel electrode 34 has the second TFD portion 3
In order to conduct electricity to the second metal layer 38 of 3b, for example, ITO
Formed by.

【0082】一方、図7及び図9において、第2電極基
板2bは第2基板9bを有し、その第2基板9bの内側
表面、すなわち液晶L側の表面には、半透過反射膜11
が配置され、その上にカラーフィルタ12が配置され、
このカラーフィルタ12を覆うように平坦化膜13が配
置され、その上に第2電極35が配置され、さらにその
上に配向膜16bが配置される。また、第2基板9bの
外側表面には、位相差板17bが配置され、さらにその
上に偏光板18bが配置される。
On the other hand, in FIGS. 7 and 9, the second electrode substrate 2b has a second substrate 9b, and the semi-transmissive reflective film 11 is formed on the inner surface of the second substrate 9b, that is, on the liquid crystal L side surface.
Is arranged, and the color filter 12 is arranged thereon.
The flattening film 13 is disposed so as to cover the color filter 12, the second electrode 35 is disposed thereon, and the alignment film 16b is further disposed thereon. Further, a retardation plate 17b is arranged on the outer surface of the second substrate 9b, and a polarizing plate 18b is further arranged thereon.

【0083】第2電極35は、図6及び図11に示すよ
うに、多数の直線状のライン配線32と交差する方向へ
互いに平行に並べることによりストライプ状に形成され
ている。なお、図では、電極パターンを分かりやすく示
すために、第2電極35の間隔を大きく広げて模式的に
描いてあるが、実際には、第2電極35の間隔は非常に
狭く形成されている。更に、第2電極基板2b上には、
表示領域304に配置される第2電極35が延在してな
る第3配線314が配置されている。この第3配線31
4は、配線領域305a及びシール領域303の内部に
配置される。図9に示すように、第3配線114は、一
端部が第2電極35と電気的に接続し、他端部が前述し
た第1電極基板2a上に配置される第2配線19bの一
端部と、シール3内に含有される導通材21を介して電
気的に接続されている。尚、図11においては、第1基
板9a上に配置されるライン配線32、第1配線19a
及び第2配線19bと識別しやすいように、第2基板9
b上に配置される第2電極35及び第3配線314は、
太線で図示している。
As shown in FIGS. 6 and 11, the second electrodes 35 are formed in stripes by arranging them in parallel with each other in a direction intersecting with the large number of linear line wirings 32. In the figure, in order to show the electrode pattern in an easy-to-understand manner, the intervals between the second electrodes 35 are enlarged and illustrated schematically. However, in practice, the intervals between the second electrodes 35 are very narrow. . Furthermore, on the second electrode substrate 2b,
A third wiring 314 formed by extending the second electrode 35 arranged in the display region 304 is arranged. This third wiring 31
4 is arranged inside the wiring region 305a and the seal region 303. As shown in FIG. 9, one end of the third wiring 114 is electrically connected to the second electrode 35, and the other end thereof is one end of the second wiring 19b arranged on the above-mentioned first electrode substrate 2a. Are electrically connected via a conductive material 21 contained in the seal 3. In addition, in FIG. 11, the line wiring 32 and the first wiring 19a arranged on the first substrate 9a.
And the second substrate 9 so as to be easily distinguished from the second wiring 19b.
The second electrode 35 and the third wiring 314 arranged on b are
It is indicated by a thick line.

【0084】上述のカラーフィルタ12は、インクジェ
ット法や顔料分散法などを用いて、アクリル樹脂などの
有機樹脂に顔料が分散されたカラーフィルタ材料を、モ
ザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列などといった
適宜のパターンに塗布することによって形成され、例え
ばその厚みは1〜3μmに形成される。また、平坦化膜
13は、アクリル樹脂などの適宜の透光性樹脂材料を、
例えばスピンコート法、ロールコート法などによって塗
布することによって形成され、例えばその厚みは1〜3
μmに形成される。平坦化膜13は、カラーフィルタ1
2の表面の凹凸を平坦膜材料によって埋めて平坦化する
ものである。本実施形態においては、カラーフィルタ1
2を平坦膜13が覆った状態の膜が、表示領域304の
他に、表示に関与しない配線領域305a及び305
b、そして非表示領域であって配線が配置されない領域
306にまで配置されている。言い換えると、シール領
域303により囲まれた領域内にカラーフィルタ12を
平坦膜13が覆った状態の膜が配置されている。従っ
て、配線領域305a及び305bにおいては、カラー
フィルタ12を平坦膜13が覆った状態の膜上に、第1
配線19a及び第2配線19bが配置された状態となっ
ている。
For the color filter 12 described above, a color filter material in which a pigment is dispersed in an organic resin such as an acrylic resin is formed by an ink jet method, a pigment dispersion method, or the like into a suitable mosaic arrangement, stripe arrangement, delta arrangement, or the like. It is formed by applying a pattern, and the thickness thereof is, for example, 1 to 3 μm. The flattening film 13 is made of an appropriate light-transmissive resin material such as acrylic resin.
For example, it is formed by applying by a spin coating method, a roll coating method, etc., and its thickness is, for example, 1 to 3.
formed to a thickness of μm. The flattening film 13 is a color filter 1.
The unevenness of the surface 2 is filled with a flat film material to be flattened. In the present embodiment, the color filter 1
The film in which 2 is covered with the flat film 13 is not only the display region 304 but also the wiring regions 305a and 305 which are not involved in the display.
b, and the non-display area is also arranged up to the area 306 where the wiring is not arranged. In other words, the film in which the flat film 13 covers the color filter 12 is arranged in the area surrounded by the seal area 303. Therefore, in the wiring regions 305a and 305b, the first film is formed on the color filter 12 covered with the flat film 13.
The wiring 19a and the second wiring 19b are arranged.

【0085】図6において、画素電極34及び第2電極
35とが交差する点は、ドットマトリクス状に配列して
おり、これらの交差点の個々が1つのピクセルを構成
し、図2及び図3のカラーフィルタ12の個々の色パタ
ーンがその1ピクセルに対応する。カラーフィルタ12
は、例えば、R,G、Bの3原色が1つのユニットとな
って1画素を構成する。つまり、3ピクセルが1つのユ
ニットになって1つの画素を構成している。
In FIG. 6, the points where the pixel electrodes 34 and the second electrodes 35 intersect are arranged in a dot matrix, and each of these intersections constitutes one pixel. Each color pattern of the color filter 12 corresponds to one pixel. Color filter 12
For example, the three primary colors of R, G, and B constitute one unit and constitute one pixel. That is, three pixels are one unit to form one pixel.

【0086】第1基板9a及び第2基板9bには、例え
ばガラス、プラスチックなどが用いられる。また、配向
膜16a及び配向膜16bは、例えばポリイミド溶液を
塗布した後に焼成する方法や、オフセット印刷法などに
よって厚さ5nm〜100nmに形成される。
For the first substrate 9a and the second substrate 9b, for example, glass or plastic is used. The alignment films 16a and 16b are formed to have a thickness of 5 nm to 100 nm by, for example, a method of applying a polyimide solution and then firing, or an offset printing method.

【0087】図6及び図11において、第1電極基板2
aの基板張出し部2c上にはライン配線32からそのま
ま延びる第1配線19aと、シール材3の中に分散され
た導通材21(図7参照)を介して第2電極基板2b上
の第2電極35がそのまま延びた第3配線314に接続
される第2配線19bとが配置されている。また、基板
張出し部2cの辺端部には端子22が配置されている。
これらの配線及び端子は、ACF6内の導通粒子を介し
て駆動用IC4a、4b、4cのバンプ(図示せず)に
導電接続する。
6 and 11, the first electrode substrate 2
The first wiring 19a extending directly from the line wiring 32 on the substrate overhanging portion 2c of a and the second wiring on the second electrode substrate 2b via the conductive material 21 (see FIG. 7) dispersed in the sealing material 3 The second wiring 19b connected to the third wiring 314 in which the electrode 35 extends as it is is arranged. In addition, terminals 22 are arranged at the edge portions of the substrate overhanging portion 2c.
These wirings and terminals are conductively connected to bumps (not shown) of the driving ICs 4a, 4b, 4c through conductive particles in the ACF 6.

【0088】図7及び図9においては、液晶装置31の
全体的な構成を分かりやすく示すために、導通材21を
断面楕円状に模式化して示してあるが、実際は、導通材
21は球状又は円筒状に形成され、その大きさはシール
材3の線幅に対して非常に小さいものである。よって、
導通材21はシール材3の線幅方向に複数個存在するこ
とができる。
In FIG. 7 and FIG. 9, the conducting material 21 is schematically shown in an elliptical cross section in order to clearly show the overall structure of the liquid crystal device 31, but in reality, the conducting material 21 is spherical or It is formed in a cylindrical shape, and its size is extremely smaller than the line width of the sealing material 3. Therefore,
A plurality of conductive materials 21 may be present in the line width direction of the sealing material 3.

【0089】本実施形態に係る液晶装置31は以上のよ
うに構成されているので、第1実施形態と同様に、反射
型表示及び透過型表示の2通りの表示方法を選択的に実
施できる。これらの各表示形態における光の進行状況は
図1の場合と同様であるので、詳しい説明は省略する。
なお、光の変調制御方法に関しては、第1実施形態に示
した単純マトリクス型の場合は、第1電極14aと第2
電極14bとの間に印加する電圧を制御することによっ
て行うが、本実施形態に示す液晶装置においては、TF
D33のスイッチング動作に基づいて液晶分子の配向を
制御して液晶層を通る光の変調を制御する。
Since the liquid crystal device 31 according to the present embodiment is configured as described above, it is possible to selectively carry out two display methods of the reflective display and the transmissive display, as in the first embodiment. Since the progress of light in each of these display modes is the same as that in the case of FIG. 1, detailed description thereof will be omitted.
Regarding the light modulation control method, in the case of the simple matrix type shown in the first embodiment, the first electrode 14a and the second electrode 14a
This is performed by controlling the voltage applied to the electrode 14b. In the liquid crystal device according to the present embodiment, TF
The orientation of the liquid crystal molecules is controlled based on the switching operation of D33 to control the modulation of light passing through the liquid crystal layer.

【0090】図6において、第1電極基板2a上に設け
られるとともに、導通材21を介して第2基板2b上の
第3配線314に電気的に接続される配線19bは、本
実施形態の場合、基板張出し部2c上からシール材3を
通ってそのシール材3によって囲まれる領域、すなわち
液晶Lが封入された領域の中に入って延在した状態で、
シール材3の中に分散された導通材21によって第3配
線314を介して第2電極35との導通がとられてい
る。
In FIG. 6, the wiring 19b provided on the first electrode substrate 2a and electrically connected to the third wiring 314 on the second substrate 2b through the conductive material 21 is the wiring in the present embodiment. In a state where it extends from above the substrate overhanging portion 2c through the sealing material 3 into the area surrounded by the sealing material 3, that is, the area in which the liquid crystal L is sealed,
The conductive material 21 dispersed in the sealing material 3 establishes electrical connection with the second electrode 35 via the third wiring 314.

【0091】また、図9及び図10に示すように、配線
19bは、TaWを第1層39とし、導電膜22を第2
層として、導電膜23を第3層とする積層構造によって
形成されている。導電膜22は、例えば、同じ第1基板
2a上のTFD33内の第2金属層38と同一層として
形成でき、その場合には、導電膜22はCrによって構
成される。また、導電膜23は、同じ第1基板2a上の
画素電極34をパターニングする際に同時に、すなわち
同一層として形成される。この結果、導電膜23は画素
電極34と同じITOによって形成されている。
As shown in FIGS. 9 and 10, the wiring 19b has TaW as the first layer 39 and the conductive film 22 as the second layer.
The layer is formed by a laminated structure in which the conductive film 23 is the third layer. The conductive film 22 can be formed, for example, as the same layer as the second metal layer 38 in the TFD 33 on the same first substrate 2a, in which case the conductive film 22 is made of Cr. The conductive film 23 is formed at the same time when the pixel electrodes 34 on the same first substrate 2a are patterned, that is, as the same layer. As a result, the conductive film 23 is formed of the same ITO as the pixel electrode 34.

【0092】本実施形態の配線19bは、上記のよう
に、ITOに比べて低抵抗であるCrを含んで構成され
ているので、配線19bの配線抵抗はITO単体の場合
と比べて低くなっている。このため、配線19bを通っ
て流れる信号に波形の鈍化が発生することもなくなり、
液晶装置31の表示領域に表示品質の高い像を表示でき
る。
As described above, since the wiring 19b of this embodiment contains Cr, which has a lower resistance than ITO, the wiring resistance of the wiring 19b is lower than that of the ITO alone. There is. Therefore, the signal flowing through the wiring 19b does not have a blunted waveform,
An image with high display quality can be displayed in the display area of the liquid crystal device 31.

【0093】ところで、Crは上記のような優れた低抵
抗特性を有している反面、腐食しやすいという欠点をも
あわせて有している。第2配線19bにそのような腐食
が発生すると、液晶Lに印加する電圧を正常に制御でき
なくなるおそれがあるので、表示品質を高く維持するこ
とができなくなるおそれがある。このことに関して、本
実施形態では、Crからなる導電膜22をシール材3に
よって囲まれる領域、すなわち液晶Lが封入された領域
内に配置して、シール材3の外部には出ないように設計
している。この結果、導電膜22が外気に触れることを
防止して、その膜22に腐食が発生することを防止して
いる。
By the way, although Cr has the above-mentioned excellent low resistance characteristics, it also has a drawback that it is easily corroded. If such corrosion occurs in the second wiring 19b, the voltage applied to the liquid crystal L may not be able to be normally controlled, and thus it may not be possible to maintain high display quality. With respect to this, in the present embodiment, the conductive film 22 made of Cr is arranged in a region surrounded by the seal material 3, that is, a region in which the liquid crystal L is sealed, and is designed so as not to appear outside the seal material 3. is doing. As a result, the conductive film 22 is prevented from coming into contact with the outside air and the film 22 is prevented from being corroded.

【0094】なお、図10では、配線19bとシール材
3との関係を分かりやすく示すために、シール材3の線
幅に対する配線19bの線幅を実際よりも広く描いてあ
るが、実際には、配線19bの線幅はシール材3の線幅
よりも狭いことが多い。
In FIG. 10, the line width of the wiring 19b with respect to the line width of the sealing material 3 is drawn wider than the actual width in order to show the relationship between the wiring 19b and the sealing material 3 in an easy-to-understand manner. The line width of the wiring 19b is often narrower than the line width of the sealing material 3.

【0095】ここで、一般に、液晶装置の液晶層の厚み
は3〜8μmに設計されている。従来の配線領域にカラ
ーフィルタを平坦膜が覆った状態の膜が配置されない構
造を有する液晶装置においては、カラーフィルタを平坦
膜が覆った状態の膜の膜厚が3〜5μmというように液
晶層の厚みとほぼ同じぐらいの厚さに設計されており、
液晶装置とした時に、カラーフィルタを平坦膜が覆った
状態の膜がある領域とない領域とでセル厚を同じくする
よう調整するのが非常に困難であった。これに対し、本
実施形態においては、上記のように、第1配線19a及
び第2配線19bが配置される配線領域305a及び3
05b、そして非表示領域であって配線が配置されない
領域306には、カラーフィルタ12を平坦膜13が覆
った状態の膜が表示領域304から延在されて配置され
ている。言い換えれば、シール材3により囲まれた領域
内に、カラーフィルタ12を平坦膜13が覆った状態の
膜が配置されている。このため、第2電極基板2bのシ
ール材3により囲まれた領域における成膜状態を面内で
ほぼ同じくすることができ、2枚の電極基板2a及び2
bを貼り合せて液晶セルを製造する場合に、表示領域3
04におけるセル厚と、配線領域305a及び305
b、そして非表示領域であって配線が配置されない領域
306におけるセル厚とを容易に同じくするように調整
することができる。更に、このような液晶セルが組み込
まれた液晶装置は、基板面内でほぼ均一なセル厚に保持
されているため表示ムラがなく、表示品位が高い。尚、
本実施形態においては、配線領域305a及び305
b、そして非表示領域であって配線が配置されない領域
306には、表示領域304に形成される画素電極やT
FD素子といったものが配置されていないが、表示領域
304と同様に、実際には表示には関与しないライン配
線、画素電極やTFD素子などを配置してもよい。
Here, in general, the thickness of the liquid crystal layer of the liquid crystal device is designed to be 3 to 8 μm. In a conventional liquid crystal device having a structure in which a film in which a color filter is covered with a flat film is not arranged in a wiring region, a film thickness of the film in which the color filter is covered with a flat film is 3 to 5 μm. It is designed to be almost the same thickness as
In the case of a liquid crystal device, it was very difficult to adjust the color filter so that the cell thickness is the same in the region where the film is covered with the flat film and the region where the film is not. On the other hand, in the present embodiment, as described above, the wiring regions 305a and 305 where the first wiring 19a and the second wiring 19b are arranged.
05b, and a region 306 which is a non-display region in which wiring is not disposed, a film in which the color filter 12 is covered with the flat film 13 is disposed so as to extend from the display region 304. In other words, in the area surrounded by the sealing material 3, the film in which the flat film 13 covers the color filter 12 is arranged. Therefore, the film formation state in the region surrounded by the sealing material 3 of the second electrode substrate 2b can be made substantially the same in the plane, and the two electrode substrates 2a and 2 can be formed.
When the liquid crystal cell is manufactured by pasting b, the display area 3
04 cell thickness and wiring regions 305a and 305
b and the cell thickness in the non-display region 306 where the wiring is not arranged can be easily adjusted to be the same. Further, a liquid crystal device incorporating such a liquid crystal cell has a uniform cell thickness within the surface of the substrate and therefore has no display unevenness and high display quality. still,
In the present embodiment, the wiring areas 305a and 305
b, and a region 306 which is a non-display region and where no wiring is arranged, the pixel electrode or the T electrode formed in the display region 304
Although no FD element or the like is arranged, similar to the display region 304, line wiring, pixel electrodes, TFD elements, or the like that are not actually involved in display may be arranged.

【0096】尚、一般に、半透過反射膜11に用いられ
るAlや画素電極34及び第2電極32に用いられるI
TOなどの無機膜は、カラーフィルタや平坦化膜に用い
られる有機樹脂膜と比べて厚さが非常に薄く形成されや
すいため、有機樹脂と比較してセル厚の調整に関与する
度合いが非常に低い。このため、本実施形態において
は、半透過反射膜11は表示領域304にほぼ対応した
領域のみに形成しているが、配線領域305a及び30
5b、そして非表示領域であって配線が配置されない領
域306にまで延在させて配置しても良い。また、本実
施形態においては、図10に示すように、導電膜22の
全部がシール材3によって囲まれる領域内におさめられ
ているが、これに代えて、導電膜22を導電膜23の内
部領域においてシール材3を通過させて延ばすことによ
り、導電膜22の一部がシール材3によって囲まれる領
域内に配置され、他の一部がシール材3の外側に位置す
るという構成を採用することもできる。
In general, Al used for the semi-transmissive reflective film 11 and I used for the pixel electrode 34 and the second electrode 32.
Inorganic films such as TO are much thinner than organic resin films used for color filters and flattening films, so they are much more involved in cell thickness adjustment than organic resins. Low. Therefore, in the present embodiment, the semi-transmissive reflective film 11 is formed only in a region substantially corresponding to the display region 304, but the wiring regions 305a and 305a.
5b, and may be extended to the non-display area 306 where the wiring is not arranged. Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 10, the conductive film 22 is entirely contained within the region surrounded by the sealing material 3. However, instead of this, the conductive film 22 is placed inside the conductive film 23. A configuration is adopted in which a part of the conductive film 22 is arranged in a region surrounded by the seal material 3 and the other part is located outside the seal material 3 by extending the seal material 3 in the region. You can also

【0097】また、本実施形態においては、カラーフィ
ルタ12及び平坦化膜13は、第2電極基板2b側に配
置しているが、第1電極基板2a側に配置してもよい。
Further, in this embodiment, the color filter 12 and the flattening film 13 are arranged on the second electrode substrate 2b side, but they may be arranged on the first electrode substrate 2a side.

【0098】本実施形態においても、第1実施形態と同
様に、カラーフィルタ12とこれを覆う平坦化膜13か
らなる膜がシール材3により囲まれた領域にまで配置さ
れているため、基板貼り合せ工程の際に、液晶セルのセ
ル厚を面内均一に調整することが容易に行うことがで
き、作業効率が良い。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, since the film including the color filter 12 and the flattening film 13 that covers the color filter 12 is arranged up to the region surrounded by the sealing material 3, the substrate is attached. At the time of the aligning step, the cell thickness of the liquid crystal cell can be easily adjusted to be uniform in the plane, and the work efficiency is good.

【0099】(第3実施形態)図12は本発明に係る電
子機器の一実施形態であるモバイル型のパーソナルコン
ピュータを示している。ここに示すコンピュータ50
は、キーボード51を備えた本体部52と、液晶表示ユ
ニット53とから構成されている。液晶表示ユニット5
3は筐体部としての外枠に液晶装置54が組み込まれて
なり、この液晶装置54は、例えば第1実施形態に示し
た液晶装置1や第2実施形態に示した液晶装置31を用
いて構成できる。
(Third Embodiment) FIG. 12 shows a mobile personal computer which is an embodiment of an electronic apparatus according to the present invention. Computer 50 shown here
Is composed of a main body 52 having a keyboard 51 and a liquid crystal display unit 53. Liquid crystal display unit 5
3 has a liquid crystal device 54 incorporated in an outer frame serving as a housing part. The liquid crystal device 54 uses, for example, the liquid crystal device 1 shown in the first embodiment or the liquid crystal device 31 shown in the second embodiment. Can be configured.

【0100】(第4実施形態)図13は、本発明に係る
電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示してい
る。ここに示す携帯電話機60は、複数の操作ボタン6
1の他、受話口62、送話口63を有する筐体部として
の外枠に、液晶装置64が組み込まれてなる。この液晶
装置64は、例えば第1実施形態に示した液晶装置1や
第2実施形態に示した液晶装置31を用いて構成でき
る。
(Fourth Embodiment) FIG. 13 shows a portable telephone which is another embodiment of the electronic apparatus according to the present invention. The mobile phone 60 shown here has a plurality of operation buttons 6
In addition to 1, the liquid crystal device 64 is incorporated in an outer frame as a casing part having an earpiece 62 and a mouthpiece 63. The liquid crystal device 64 can be configured by using, for example, the liquid crystal device 1 shown in the first embodiment or the liquid crystal device 31 shown in the second embodiment.

【0101】(第5実施形態)図14は、本発明に係る
電子機器の更に他の実施形態であるデジタルスチルカメ
ラを示している。通常のカメラは、被写体の光像によっ
てフィルムを感光するのに対し、デジタルスチルカメラ
70は、被写体の光像をCCD(ChargeCoup
led Device)などといった撮像素子により光
電変換して撮像信号を生成するものである。
(Fifth Embodiment) FIG. 14 shows a digital still camera which is still another embodiment of the electronic apparatus according to the present invention. An ordinary camera exposes a film with a light image of a subject, whereas the digital still camera 70 uses a CCD (ChargeCoup) to capture the light image of the subject.
The image pickup device, such as a red device, performs photoelectric conversion to generate an image pickup signal.

【0102】ここで、デジタルスチルカメラ70におけ
る筐体としてのケース71の背面には、液晶装置74が
設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う
構成となっている。このため、液晶装置74は、被写体
を表示するファインダとして機能する。また、ケース7
1の前面側(図14に示す構造の裏面側)には、光学レ
ンズやCCDなどを含んだ受光ユニット72が設けられ
ている。液晶装置74は、例えば第1実施形態に示した
液晶装置1や第2実施形態に示した液晶装置31を用い
て構成できる。撮影者は、液晶表示装置74に表示され
た被写体を確認して、シャッタボタン73を押下して撮
影を行う。
Here, a liquid crystal device 74 is provided on the back surface of a case 71 as a casing of the digital still camera 70, and a display is made based on an image pickup signal from the CCD. Therefore, the liquid crystal device 74 functions as a finder that displays the subject. Also, case 7
A light receiving unit 72 including an optical lens and a CCD is provided on the front side of 1 (the back side of the structure shown in FIG. 14). The liquid crystal device 74 can be configured using, for example, the liquid crystal device 1 shown in the first embodiment or the liquid crystal device 31 shown in the second embodiment. The photographer confirms the subject displayed on the liquid crystal display device 74 and presses the shutter button 73 to perform photographing.

【0103】(その他の実施形態)以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、特許請求の範囲に記載した
発明の範囲内で種々に改変できる。
(Other Embodiments) The present invention has been described above with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and within the scope of the invention described in the claims. It can be variously modified.

【0104】例えば、第1実施形態及び第2実施形態で
は、ICチップが基板上に直接実装される構造のCOG
方式の液晶装置に本発明を適用したが、COG方式以外
の液晶装置、例えばFPC(Flexible Pri
nted Circuit)を介して基板にICチップ
を接続する構造の液晶装置や、ICチップが実装された
TAB(Tape Automated Bondin
g)基板を液晶パネル側の基板に接続する構造の液晶装
置などに対しても本発明を適用できる。
For example, in the first and second embodiments, the COG having a structure in which the IC chip is directly mounted on the substrate
Although the present invention is applied to a liquid crystal device of a system, a liquid crystal device other than the COG system, for example, FPC (Flexible Pri) is used.
a liquid crystal device having a structure in which an IC chip is connected to a substrate via an embedded circuit, or a TAB (Tape Automated Bonded) in which the IC chip is mounted.
g) The present invention can be applied to a liquid crystal device having a structure in which the substrate is connected to the substrate on the liquid crystal panel side.

【0105】また、本発明に係る電子機器としては、図
12のパーソナルコンピュータや、図13の携帯電話機
や、図14のデジタルスチルカメラの他に、液晶テレ
ビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープ
レコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手
帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テ
レビ電話機、POS端末機などがあげられる。そして、
これらの各種電子機器の表示部として本発明に係る液晶
装置を用いることができる。
As the electronic apparatus according to the present invention, in addition to the personal computer shown in FIG. 12, the mobile phone shown in FIG. 13, the digital still camera shown in FIG. 14, a liquid crystal television, a viewfinder type, and a monitor direct view type video device. Examples include tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic organizers, calculators, word processors, workstations, videophones, and POS terminals. And
The liquid crystal device according to the present invention can be used as a display portion of these various electronic devices.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る液晶装置の第1実施形態を一部破
断して示す平面図である。
FIG. 1 is a partially cutaway plan view showing a first embodiment of a liquid crystal device according to the present invention.

【図2】図1のII−II線に従って切断した液晶装置
の断面構造を示す断面図である。
2 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of a liquid crystal device taken along line II-II of FIG.

【図3】図1のIII−III線、図1及び図3のIII’−II
I’線に従って切断した液晶装置の断面構造を示す断面
図である。
FIG. 3 is a III-III line in FIG. 1, and III′-II in FIGS. 1 and 3.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the liquid crystal device taken along the line I ′.

【図4】図1において矢印IVで示す配線部分を拡大して
示す平面図である。
FIG. 4 is an enlarged plan view showing a wiring portion indicated by an arrow IV in FIG.

【図5】図1に示す液晶装置のシール領域、表示領域、
配線領域の位置関係を説明するための平面図である。
5 is a seal area, a display area, and the like of the liquid crystal device shown in FIG.
It is a top view for explaining the physical relationship of a wiring field.

【図6】本発明に係る液晶装置の第2実施形態を一部破
断して示す平面図である。
FIG. 6 is a partially cutaway plan view showing a second embodiment of a liquid crystal device according to the present invention.

【図7】図6のVII−VII線に従って切断した液晶装置の
断面構造を示す断面図である。
7 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the liquid crystal device taken along line VII-VII of FIG.

【図8】図6及び図7の矢印VIIIで示すスイッチング素
子部分を拡大して示す斜視図である。
8 is an enlarged perspective view showing a switching element portion shown by an arrow VIII in FIGS. 6 and 7. FIG.

【図9】図6のIX−IX線、図6及び図10のIX’−IX’
線に従って切断した液晶装置の断面構造を示す断面図で
ある。
9 is a line IX-IX in FIG. 6, and IX'-IX 'in FIGS. 6 and 10;
It is sectional drawing which shows the cross-section of the liquid crystal device cut | disconnected according to the line.

【図10】図6において矢印Xで示す配線部分を拡大し
て示す平面図である。
10 is an enlarged plan view showing a wiring portion indicated by an arrow X in FIG.

【図11】図6に示す液晶装置のシール領域、表示領
域、配線領域の位置関係を説明するための平面図であ
る。
11 is a plan view for explaining a positional relationship among a seal area, a display area, and a wiring area of the liquid crystal device shown in FIG.

【図12】本発明に係る電子機器の一実施形態であるモ
バイル型コンピュータを示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing a mobile computer which is an embodiment of an electronic apparatus according to the invention.

【図13】本発明に係る電子機器の他の実施形態である
携帯電話機を示す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing a mobile phone which is another embodiment of the electronic apparatus according to the invention.

【図14】本発明に係る電子機器の他の実施形態である
デジタルスチルカメラを示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view showing a digital still camera which is another embodiment of the electronic apparatus according to the invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、31…液晶装置 3…シール材 9a…第1基板 9b…第2基板 12…カラーフィルタ 13…平坦化膜 14a…第1電極 14b、35…第2電極 19a…第1配線 19b…第2配線 21・・・導通材 22…導電膜 23…導電膜 32・・・ライン配線 34…画素電極 36…第1金属層 37・・・絶縁層 38…第2金属層 50…コンピュータ 60…携帯電話機 70…デジタルスチルカメラ 103、303・・・シール領域 104、304・・・表示領域 105a、105b、305a、305b・・・配線領域 114、314・・・第3配線 1, 31 ... Liquid crystal device 3 ... Sealing material 9a ... first substrate 9b ... second substrate 12 ... Color filter 13 ... Flattening film 14a ... 1st electrode 14b, 35 ... Second electrode 19a ... first wiring 19b ... second wiring 21 ... Conductive material 22 ... Conductive film 23 ... Conductive film 32 ... Line wiring 34 ... Pixel electrode 36 ... First metal layer 37 ... Insulating layer 38 ... Second metal layer 50 ... Computer 60 ... Mobile phone 70 ... Digital still camera 103, 303 ... Seal area 104, 304 ... Display area 105a, 105b, 305a, 305b ... Wiring area 114, 314 ... Third wiring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 330 G09F 9/30 330Z 343 343Z 349 349B 9/35 9/35 Fターム(参考) 2H048 BA45 BA64 BB02 BB10 BB28 BB44 2H089 LA41 NA37 QA12 QA14 2H091 FA02Y FC05 FC12 GA01 GA02 GA03 GA13 LA12 LA15 2H092 GA60 HA04 JA03 JB12 JB24 JB33 MA05 MA07 MA18 NA01 NA29 PA01 PA04 PA08 PA09 5C094 AA03 BA04 BA43 CA19 CA24 DA07 DA09 DA14 DA15 DB01 DB02 DB03 DB04 EA04 EA07 EB02 ED03 HA02 HA03 HA04 HA07 HA08 HA10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09F 9/30 330 G09F 9/30 330Z 343 343Z 349 349B 9/35 9/35 F term (reference) 2H048 BA45 BA64 BB02 BB10 BB28 BB44 2H089 LA41 NA37 QA12 QA14 2H091 FA02Y FC05 FC12 GA01 GA02 GA03 GA13 LA12 LA15 2H092 GA60 HA04 JA03 JB12 JB24 JB33 MA05 MA07 MA18 NA01 NA29 PA01 PA04 PA08 PA09 5C094 CA014A19 BA04 BA19 DA04 CA194 A19 BA04 BAA03 BA04 BAA04 EA04 EA07 EB02 ED03 HA02 HA03 HA04 HA07 HA08 HA10

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表示領域と、該表示領域に隣接した配線
領域と、これら表示領域及び配線領域を囲むシール材が
配置されるシール領域とを有し、前記シール材を介して
貼りあわされる第1基板と第2基板とを具備する液晶装
置であって、 前記第1基板上の前記表示領域及び前記配線領域に配置
されたカラーフィルタを有する膜と、 前記カラーフィルタを有する膜上の前記表示領域に配置
された第1電極と、 前記第2基板上の前記表示領域に配置された第2電極
と、 前記第1基板上の前記配線領域に配置された前記第2電
極と電気的に接続する第2配線とを具備することを特徴
とする液晶装置。
1. A display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is disposed, and the sealing area is pasted through the sealing material. A liquid crystal device comprising a first substrate and a second substrate, wherein a film having a color filter disposed in the display region and the wiring region on the first substrate, and the display on the film having the color filter. Electrically connected to a first electrode arranged in a region, a second electrode arranged in the display region on the second substrate, and a second electrode arranged in the wiring region on the first substrate And a second wiring for controlling the liquid crystal device.
【請求項2】 表示領域と、該表示領域に隣接した配線
領域と、これら表示領域及び配線領域を囲むシール材が
配置されるシール領域とを有し、前記シール材を介して
貼りあわされる第1基板と第2基板とを具備する液晶装
置であって、 前記第2基板上の前記表示領域及び前記配線領域に配置
されたカラーフィルタを有する膜と、 前記第2基板上の前記カラーフィルタを有する膜上の前
記表示領域に配置された第2電極と、 前記第1基板上の前記表示領域に配置された第1電極
と、 前記第1基板上の前記配線領域に配置された前記第2電
極と電気的に接続する第2配線とを具備することを特徴
とする液晶装置。
2. A display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged, and the sealing area is pasted through the sealing material. A liquid crystal device comprising one substrate and a second substrate, comprising a film having color filters arranged in the display region and the wiring region on the second substrate, and the color filter on the second substrate. A second electrode arranged in the display area on the film, a first electrode arranged in the display area on the first substrate, and a second electrode arranged in the wiring area on the first substrate A liquid crystal device, comprising: a second wiring electrically connected to the electrode.
【請求項3】 前記第1基板上の前記配線領域に配置さ
れた前記第1電極と電気的に接続する第1配線を更に具
備することを特徴とする請求項1または請求項2記載の
液晶装置。
3. The liquid crystal according to claim 1, further comprising a first wiring electrically connected to the first electrode arranged in the wiring region on the first substrate. apparatus.
【請求項4】 前記カラーフィルタを有する膜は、カラ
ーフィルタと、該カラーフィルタを覆う平坦化膜とを有
することを特徴とする請求項1から請求項3いずれか一
項に記載の液晶装置。
4. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the film having the color filter has a color filter and a flattening film that covers the color filter.
【請求項5】 前記カラーフィルタを有する膜は、前記
シール領域に囲まれた領域に配置されることを特徴とす
る請求項1から請求項4いずれか一項に記載の液晶装
置。
5. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the film having the color filter is arranged in a region surrounded by the seal region.
【請求項6】 前記第2配線は、前記第1電極よりも低
抵抗の導電膜を有していることを特徴とする請求項1か
ら請求項5いずれか一項に記載の液晶装置。
6. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the second wiring has a conductive film having a resistance lower than that of the first electrode.
【請求項7】 前記第2配線は、前記第1電極と同一層
である導電膜と、前記第1電極よりも低抵抗の導電膜と
の積層膜を有することを特徴とする請求項1から請求項
6いずれか一項に記載の液晶装置。
7. The second wiring has a laminated film of a conductive film in the same layer as the first electrode and a conductive film having a resistance lower than that of the first electrode. The liquid crystal device according to claim 6.
【請求項8】 前記第1電極と同一層である導電膜はI
TO膜であり、前記第1電極よりも低抵抗の導電膜は銀
単体または銀を含む合金であることを特徴とする請求項
7記載の液晶装置。
8. The conductive film in the same layer as the first electrode is I
8. The liquid crystal device according to claim 7, wherein the conductive film is a TO film and has a resistance lower than that of the first electrode is a simple substance of silver or an alloy containing silver.
【請求項9】 前記第2基板上には前記配線領域及び前
記シール領域内をまたがって前記第2電極と電気的に接
続する第3配線が配置され、 前記第2配線は前記シール領域内まで延在し、 前記第3配線と前記第2配線とは、前記シール領域に配
置された導通材を介して電気的に接続されていることを
特徴とする請求項1から請求項8いずれか一項に記載の
液晶装置。
9. A third wiring, which is electrically connected to the second electrode across the wiring area and the seal area, is arranged on the second substrate, and the second wiring extends to the inside of the seal area. 9. The third wiring and the second wiring that extend and are electrically connected to each other via a conductive material arranged in the seal region. The liquid crystal device according to item.
【請求項10】 表示領域と、該表示領域に隣接した配
線領域と、これら表示領域及び配線領域を囲むシール材
が配置されるシール領域とを有し、前記シール材を介し
て貼りあわされる第1基板と第2基板とを具備する液晶
装置であって、 前記第1基板上の前記表示領域及び前記配線領域に配置
されたカラーフィルタを有する膜と、 前記カラーフィルタを有する膜上の前記表示領域に配置
された画素電極と、 前記第1基板上に配置された前記画素電極に導通する第
1金属膜/絶縁膜/第2金属膜の積層構造を有するTF
D素子と、 前記第1基板上に配置された前記TFD素子を介して前
記画素電極と電気的に接続されたライン配線と、 前記第2基板上の前記表示領域に配置された前記画素電
極に対向するストライプ状の第2電極と、 前記第1基板上の前記配線領域に配置された前記第2電
極と電気的に接続する第2配線とを具備することを特徴
とする液晶装置。
10. A display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged. A liquid crystal device comprising a first substrate and a second substrate, wherein a film having a color filter disposed in the display region and the wiring region on the first substrate, and the display on the film having the color filter. TF having a laminated structure of a pixel electrode arranged in a region and a first metal film / insulating film / second metal film which is electrically connected to the pixel electrode arranged on the first substrate
A D element, a line wiring electrically connected to the pixel electrode via the TFD element arranged on the first substrate, and a pixel electrode arranged in the display region on the second substrate. A liquid crystal device comprising: a second electrode having a stripe shape facing each other; and a second wiring electrically connected to the second electrode arranged in the wiring region on the first substrate.
【請求項11】 表示領域と、該表示領域に隣接した配
線領域と、これら表示領域及び配線領域を囲むシール材
が配置されるシール領域とを有し、前記シール材を介し
て貼りあわされる第1基板と第2基板とを具備する液晶
装置であって、 前記第2基板上の前記表示領域及び前記配線領域に配置
されたカラーフィルタを有する膜と、 前記第2基板上の前記カラーフィルタを有する膜上の前
記表示領域に配置されたストライプ状の第2電極と、 前記第1基板上の前記表示領域に配置された前記第2電
極に対向配置された画素電極と、 前記第1基板上に配置された各前記画素電極に導通する
第1金属膜/絶縁膜/第2金属膜の積層構造を有するT
FD素子と、 前記第1基板上に配置された前記TFD素子を介して前
記画素電極と電気的に接続されたライン配線と、 前記第1基板上の前記配線領域に配置された前記第2電
極と電気的に接続する第2配線とを具備することを特徴
とする液晶装置。
11. A display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged, the sealing area being pasted through the sealing material. A liquid crystal device comprising one substrate and a second substrate, comprising a film having color filters arranged in the display region and the wiring region on the second substrate, and the color filter on the second substrate. A stripe-shaped second electrode arranged in the display region on the film, a pixel electrode arranged opposite to the second electrode arranged in the display region on the first substrate, and on the first substrate T having a laminated structure of a first metal film / an insulating film / a second metal film that is electrically connected to each of the pixel electrodes arranged in
An FD element, a line wiring electrically connected to the pixel electrode via the TFD element arranged on the first substrate, and a second electrode arranged in the wiring region on the first substrate And a second wiring electrically connected to the liquid crystal device.
【請求項12】 前記第1基板上の前記配線領域に配置
された前記ライン配線と電気的に接続する第1配線を更
に具備することを特徴とする請求項10または請求項1
1記載の液晶装置。
12. The method according to claim 10, further comprising a first wiring electrically connected to the line wiring arranged in the wiring area on the first substrate.
1. The liquid crystal device according to 1.
【請求項13】 前記カラーフィルタを有する膜は、カ
ラーフィルタと、該カラーフィルタを覆う平坦膜とを有
することを特徴とする請求項10から請求項12いずれ
か一項に記載の液晶装置。
13. The liquid crystal device according to claim 10, wherein the film having the color filter has a color filter and a flat film that covers the color filter.
【請求項14】 前記カラーフィルタを有する膜は、前
記シール領域に囲まれた領域に配置されることを特徴と
する請求項10から請求項13いずれか一項に記載の液
晶装置。
14. The liquid crystal device according to claim 10, wherein the film having the color filter is arranged in a region surrounded by the seal region.
【請求項15】 前記第2配線は、前記画素電極と同一
層である導電膜と、前記第1電極よりも低抵抗の導電膜
との積層膜を有することを特徴とする請求項10から請
求項14いずれか一項に記載の液晶装置。
15. The method according to claim 10, wherein the second wiring has a laminated film of a conductive film in the same layer as the pixel electrode and a conductive film having a resistance lower than that of the first electrode. Item 14. The liquid crystal device according to any one of items 14.
【請求項16】 前記画素電極よりも低抵抗の導電膜
は、前記TFD素子を構成する前記第2電極と同一層で
あることを特徴とする請求項15記載の液晶装置。
16. The liquid crystal device according to claim 15, wherein the conductive film having a resistance lower than that of the pixel electrode is in the same layer as the second electrode forming the TFD element.
【請求項17】 前記画素電極と同一層である導電膜は
ITOであり、前記第1電極よりも低抵抗の導電膜はC
rであることを特徴とする請求項10から請求項16い
ずれか一項に記載の液晶装置。
17. The conductive film in the same layer as the pixel electrode is ITO, and the conductive film having a resistance lower than that of the first electrode is C.
The liquid crystal device according to any one of claims 10 to 16, wherein r is r.
【請求項18】 前記第2基板上には前記配線領域及
び前記シール領域内をまたがって前記第2電極と電気的
に接続する第3配線が配置され、 前記第2配線は前記シール領域内まで延在し、 前記第3配線と前記第2配線とは、前記シール領域に配
置された導通材を介して電気的に接続されていることを
特徴とする請求項10から請求項17いずれか一項に記
載の液晶装置。
18. A third wiring, which is electrically connected to the second electrode across the wiring area and the seal area, is disposed on the second substrate, and the second wiring extends to the inside of the seal area. 18. The extension, and the third wiring and the second wiring are electrically connected via a conductive material arranged in the seal region. The liquid crystal device according to item.
【請求項19】 表示領域と、該表示領域に隣接した配
線領域と、これら表示領域及び配線領域を囲むシール材
が配置されるシール領域とを有し、前記シール材を介し
て貼りあわされる第1基板と第2基板とを具備する液晶
装置の製造方法であって、 前記第1基板上の前記表示領域及び前記配線領域にカラ
ーフィルタを有する膜を形成する工程と、 前記カラーフィルタを有する膜上の前記表示領域に第1
電極を形成する工程と、 前記第1基板上の前記配線領域に第2配線を形成する工
程と、 前記第2基板上の前記表示領域に第2電極を形成する工
程と、 前記第2基板上の前記配線領域に一端部が前記第2電極
と電気的に接続する第3配線を形成する工程と、 前記カラーフィルタを有する膜、前記第1電極及び前記
第2配線が形成された前記第1基板または前記第2電極
および前記第3配線が形成された前記第2基板の前記シ
ール領域に導通材を有するシール材を塗布する工程と、 前記シール材塗布後、前記第1基板と前記第2基板と
を、前記第1電極及び前記第2電極が対向するように配
置して前記シール材により貼り合せ、前記導通材を介し
て前記第3配線の他端部と前記第2配線とを電気的に接
続する工程と、 を具備することを特徴とする液晶装置の製造方法。
19. A display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged. The sealing area is pasted through the sealing material. A method of manufacturing a liquid crystal device comprising a first substrate and a second substrate, the method comprising forming a film having a color filter on the display region and the wiring region on the first substrate, and a film having the color filter. First in the display area above
Forming an electrode, forming a second wiring in the wiring region on the first substrate, forming a second electrode in the display region on the second substrate, and forming a second electrode on the second substrate A step of forming a third wire whose one end is electrically connected to the second electrode in the wiring area, and a film having the color filter, the first electrode and the second wire Applying a sealing material having a conductive material to the sealing region of the substrate or the second substrate on which the second electrode and the third wiring are formed; and, after applying the sealing material, the first substrate and the second substrate. The substrate is arranged so that the first electrode and the second electrode face each other, and the substrates are bonded together by the sealing material, and the other end of the third wiring and the second wiring are electrically connected via the conductive material. And a step of electrically connecting Method of manufacturing that the liquid crystal device.
【請求項20】 表示領域と、該表示領域に隣接した配
線領域と、これら表示領域及び配線領域を囲むシール材
が配置されるシール領域とを有し、前記シール材を介し
て貼りあわされる第1基板と第2基板とを具備する液晶
装置の製造方法であって、 前記第2基板上の前記表示領域及び前記配線領域にカラ
ーフィルタを有する膜を形成する工程と、 前記第2基板上の前記カラーフィルタを有する膜上の前
記表示領域に第2電極を形成する工程と、 前記第2基板上の前記配線領域に一端部が前記第2電極
と電気的に接続する第3配線を形成する工程と、 前記第1基板上の前記表示領域に第1電極を形成する工
程と、 前記第1基板上の前記配線領域に第2配線を形成する工
程と、 前記第1電極及び前記第2配線が形成された前記第1基
板または前記カラーフィルタを有する膜、前記第2電極
および前記第3配線が形成された前記第2基板の前記シ
ール領域に導通材を有するシール材を塗布する工程と、 前記シール材塗布後、前記第1基板と前記第2基板と
を、前記第1電極及び前記第2電極が対向するように配
置して前記シール材により貼り合せ、前記導通材を介し
て前記第3配線の他端部と前記第2配線とを電気的に接
続する工程と、 を具備することを特徴とする液晶装置の製造方法。
20. A display area, a wiring area adjacent to the display area, and a sealing area in which a sealing material surrounding the display area and the wiring area is arranged, and the sealing material is pasted through the sealing material. A method of manufacturing a liquid crystal device comprising one substrate and a second substrate, comprising: forming a film having a color filter in the display region and the wiring region on the second substrate; Forming a second electrode in the display region on the film having the color filter; and forming a third wiring having one end electrically connected to the second electrode in the wiring region on the second substrate. A step of forming a first electrode in the display area on the first substrate, a step of forming a second wiring in the wiring area on the first substrate, the first electrode and the second wiring Or the first substrate on which is formed A step of applying a sealant having a conductive material to the seal area of the second substrate on which the film having the color filter, the second electrode and the third wiring are formed; The substrate and the second substrate are arranged so that the first electrode and the second electrode face each other, and are bonded by the sealing material, and the other end of the third wiring and the And a step of electrically connecting the two wirings to each other.
【請求項21】 前記カラーフィルタを有する膜は、カ
ラーフィルタと、該カラーフィルタを覆う平坦化膜とを
有することを特徴とする請求項19または請求項20に
記載の液晶装置の製造方法。
21. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 19, wherein the film having the color filter includes a color filter and a flattening film that covers the color filter.
【請求項22】 前記カラーフィルタを有する膜は、前
記シール領域に囲まれた領域に形成されることを特徴と
する請求項19から請求項21いずれか一項に記載の液
晶装置の製造方法。
22. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 19, wherein the film having the color filter is formed in a region surrounded by the seal region.
【請求項23】 請求項1から請求項18いずれか一項
に記載の液晶装置と、該液晶装置を挟持する筐体とを有
する電子機器。
23. An electronic device comprising the liquid crystal device according to claim 1, and a housing that holds the liquid crystal device.
JP2001258215A 2001-08-28 2001-08-28 Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus Expired - Fee Related JP4122741B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001258215A JP4122741B2 (en) 2001-08-28 2001-08-28 Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001258215A JP4122741B2 (en) 2001-08-28 2001-08-28 Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003066480A true JP2003066480A (en) 2003-03-05
JP2003066480A5 JP2003066480A5 (en) 2004-12-24
JP4122741B2 JP4122741B2 (en) 2008-07-23

Family

ID=19085776

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001258215A Expired - Fee Related JP4122741B2 (en) 2001-08-28 2001-08-28 Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4122741B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7210838B2 (en) 2004-05-24 2007-05-01 Seiko Epson Corporation Electro-optical device and electronic apparatus
US7868989B2 (en) 2008-03-10 2011-01-11 Seiko Epson Corporation Mounting structure and electro optical device

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01269917A (en) * 1988-04-21 1989-10-27 Asahi Glass Co Ltd Color liquid crystal display element
JPH11133454A (en) * 1997-09-01 1999-05-21 Ricoh Co Ltd Liquid crystal display device
JP2000221537A (en) * 1999-02-02 2000-08-11 Seiko Epson Corp Electro-optic device, its production and electronic apparatus having the same
JP2001056480A (en) * 1999-08-19 2001-02-27 Seiko Epson Corp Electro-optic device and its production
JP2001133768A (en) * 1995-04-26 2001-05-18 Canon Inc Method of producing liquid crystal device, and liquid crystal device
JP2001154217A (en) * 1999-11-30 2001-06-08 Seiko Epson Corp Liquid crystal device and its manufacturing method
JP2001159763A (en) * 1999-12-03 2001-06-12 Hitachi Ltd Liquid crystal display device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01269917A (en) * 1988-04-21 1989-10-27 Asahi Glass Co Ltd Color liquid crystal display element
JP2001133768A (en) * 1995-04-26 2001-05-18 Canon Inc Method of producing liquid crystal device, and liquid crystal device
JPH11133454A (en) * 1997-09-01 1999-05-21 Ricoh Co Ltd Liquid crystal display device
JP2000221537A (en) * 1999-02-02 2000-08-11 Seiko Epson Corp Electro-optic device, its production and electronic apparatus having the same
JP2001056480A (en) * 1999-08-19 2001-02-27 Seiko Epson Corp Electro-optic device and its production
JP2001154217A (en) * 1999-11-30 2001-06-08 Seiko Epson Corp Liquid crystal device and its manufacturing method
JP2001159763A (en) * 1999-12-03 2001-06-12 Hitachi Ltd Liquid crystal display device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7210838B2 (en) 2004-05-24 2007-05-01 Seiko Epson Corporation Electro-optical device and electronic apparatus
US7868989B2 (en) 2008-03-10 2011-01-11 Seiko Epson Corporation Mounting structure and electro optical device

Also Published As

Publication number Publication date
JP4122741B2 (en) 2008-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3697173B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
EP1158344B1 (en) Liquid crystal device and method for making the same
US6888606B2 (en) Electrooptic device and electronic apparatus
JP3757840B2 (en) Semiconductor chip mounting substrate, electro-optical device, liquid crystal device, electroluminescence device, and electronic device
US6888605B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
US20020163611A1 (en) Electrooptic device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus
US6992737B2 (en) Color filter substrate, electrooptic device and electronic apparatus, and methods for manufacturing color filter substrate and electrooptic device
US6970225B2 (en) Electrooptic device, method for manufacturing the same, and electronic apparatus
US7068338B2 (en) Electro-optical device substrate, electro-optical device, and electronic apparatus
JP3896933B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP2003084292A (en) Liquid crystal device and electronic equipment
JP4122741B2 (en) Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus
JP3829669B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP4466044B2 (en) Electro-optical device substrate, electro-optical device, electronic equipment
JP3649222B2 (en) Liquid crystal device and electronic device
JP4120655B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP2004226712A (en) Mother substrate for electrooptical device, substrate for electrooptical device, electrooptical device and its manufacturing method, and electronic equipment
JP2005148305A (en) Substrate for electrooptical device, electrooptical device and electronic equipment
JP2004264513A (en) Electrooptical device and electronic appliance using the same
JP2004354505A (en) Substrate for optoelectronic device, manufacturing method of substrate for optoelectronic device, optoelectronic device, manufacturing method of optoelectronic device, and electronic equipment
JP2005049638A (en) Substrate for electrooptical device, electrooptical device, electronic equipment, manufacturing method of substrate for electrooptical device, and, exposure mask
JP2005202123A (en) Electrooptical device, method for manufacturing electrooptical device, and electronic appliance
JP2003262718A (en) Color filter substrate, electrooptical device and electronic apparatus and method for manufacturing color filter substrate and electrooptical device
JP2005309149A (en) Electro-optical device, method for manufacturing same and electronic apparatus
JP2005301128A (en) Electrooptical device, method for manufacturing electrooptical device, and electronic equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040119

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040119

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060403

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20070402

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070403

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070601

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071030

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080408

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080421

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4122741

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130516

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140516

Year of fee payment: 6

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees