JP2002328211A - Reflection sheet, method for manufacturing the same, and display device using the same - Google Patents
Reflection sheet, method for manufacturing the same, and display device using the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反射板、及びそれ
を備えることにより外光を利用して表示を行う表示装置
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection plate and a display device having the reflection plate to perform display using external light.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、携帯情報端末、ビデオテープレコ
ーダ等は小型化、ポータブル化が進行している。この
為、これらに使用される画像表示装置に於いては、消費
電力の低減化が課題となっている。2. Description of the Related Art In recent years, portable information terminals, video tape recorders, and the like have become smaller and more portable. For this reason, in the image display devices used for these, reduction of power consumption has been an issue.
【0003】消費電力の低減化が可能な画像表示装置と
しては、反射型液晶表示装置と半透過型液晶表示装置と
がある。There are a reflection type liquid crystal display device and a transflective type liquid crystal display device as image display devices capable of reducing power consumption.
【0004】反射型液晶表示装置は、太陽光や室内照明
からの外光を利用し、反射板で反射される光の光量を制
御して画像表示させる表示装置である。従って、バック
ライトを不要とし、低消費電力が実現できる。又、直射
日光等の強い外光下でも、表示画面の高い視認性を確保
できる為、携帯用の機器に利用されることが多い。[0004] A reflection type liquid crystal display device is a display device which uses sunlight or external light from indoor lighting to control the amount of light reflected by a reflector to display an image. Therefore, a backlight is not required, and low power consumption can be realized. In addition, even under strong external light such as direct sunlight, high visibility of the display screen can be ensured, and therefore, it is often used for portable equipment.
【0005】半透過型液晶表示装置は、外光及びバック
ライトの双方を利用して画像表示させる表示装置であ
る。従って、周囲環境が明るい場合には、バックライト
を消灯して表示が可能である為、消費電力の抑制が図れ
る。特に、直射日光等の強い外光下に於いては、外光を
反射表示して高い視認性を確保できる。その一方、周囲
環境が暗い場合には、バックライトを点灯して表示する
為、視認性の確保が図れる。[0005] A transflective liquid crystal display device is a display device for displaying an image using both external light and a backlight. Therefore, when the surrounding environment is bright, the backlight can be turned off and display can be performed, so that power consumption can be suppressed. In particular, under strong external light such as direct sunlight, high visibility can be secured by reflecting and displaying the external light. On the other hand, when the surrounding environment is dark, the backlight is turned on and displayed, so that visibility can be ensured.
【0006】上記した2つの液晶表示装置が備えている
反射板は、鏡面性を有していないのが望ましい。反射さ
れた光が鏡面反射すると、光源が反射板に映り込み、そ
れ以外では殆ど光反射しなくなり、表示画面が暗くなる
からである。この場合、光が正反射する方向だけが明る
く表示され、その他の方向から見たときには非常に暗く
なる。つまり、正反射方向以外では、表示の明るさを確
保することができず、表示画面の自然な見え方を実現で
きない。そこで、反射光は拡散させることが欠かせな
い。It is desirable that the reflectors provided in the above two liquid crystal display devices have no mirror finish. This is because, when the reflected light is specularly reflected, the light source is reflected on the reflector, and otherwise the light is hardly reflected, and the display screen becomes dark. In this case, only the direction in which light is specularly reflected is displayed bright, and when viewed from other directions, it becomes very dark. That is, display brightness cannot be ensured in directions other than the regular reflection direction, and a natural appearance of the display screen cannot be realized. Therefore, it is indispensable to diffuse the reflected light.
【0007】反射光を拡散させる方法には、主に2つの
方法がある。 1)反射板の表面を微細な凹凸形状に形成する。 2)液晶表示装置の表示を見る側の面に光拡散させる拡
散フィルムを設ける。There are mainly two methods for diffusing reflected light. 1) The surface of the reflection plate is formed in a fine uneven shape. 2) A diffusion film for diffusing light is provided on the surface of the liquid crystal display device on the display side.
【0008】このうち、1)の方法では、反射板表面の
凹凸形状によって反射特性が決まる為、凹凸形状は液晶
表示装置の表示特性を決めるきわめて重要な要素であ
る。In the method 1), since the reflection characteristics are determined by the unevenness of the surface of the reflector, the unevenness is a very important factor for determining the display characteristics of the liquid crystal display device.
【0009】しかし、凹凸形状を備えた反射板を有する
液晶表示装置であっても、周囲環境が暗く外光が極端に
少ないときには、表示画面が暗いという欠点が存在す
る。即ち、外光は装置内に入射すると、先ず液晶セル内
の液晶層を通過する。更に外光は、液晶層の背面に設け
られた反射板表面で反射された後、再び液晶層を通過
し、表示光として取り出される。つまり、装置内に入射
した外光が装置を出射するときには、その光量が非常に
低下してしまう。よって、もともと外光の光量が少ない
場合には、外光は表示光として殆ど利用されず、この結
果表示画面が暗くなる。特に、光を吸収するカラーフィ
ルタが装置に設けられている場合、光量の低下は顕著で
ある。However, even a liquid crystal display device having a reflector having an uneven shape has a drawback that the display screen is dark when the surrounding environment is dark and the amount of external light is extremely small. That is, when external light enters the device, it first passes through the liquid crystal layer in the liquid crystal cell. Further, the external light is reflected by the surface of the reflection plate provided on the back surface of the liquid crystal layer, then passes through the liquid crystal layer again, and is extracted as display light. That is, when external light that has entered the device exits the device, the amount of light is greatly reduced. Therefore, when the amount of external light is originally small, the external light is hardly used as display light, and as a result, the display screen becomes dark. In particular, when a color filter that absorbs light is provided in the device, the decrease in the amount of light is remarkable.
【0010】このことから、反射型液晶表示装置に於い
ては、光の利用効率を一層高めることが必要である。
又、半透過型液晶表示装置についても、光の利用効率向
上は消費電力の低減を可能とするので好ましい。For this reason, in the reflection type liquid crystal display device, it is necessary to further enhance the light use efficiency.
Also for a semi-transmissive liquid crystal display device, it is preferable to improve the light use efficiency because power consumption can be reduced.
【0011】光利用効率向上の方法の一つとして、(拡
散)反射板の形状を制御して入射光を有効な範囲に反射
させるようにすることが挙げられる。SHARP TECHNICAL
JOURNAL、74、p.41-p.45(1999)には、反射板に設けら
れた凸部の理想的な傾斜角分布が開示されている。図4
3は、凸部の傾斜角とその存在確率との関係を示すグラ
フである。同図に示す(a)によれば、反射板表面には
平坦部(即ち、傾斜角0度)が殆ど無く、傾斜角約8度
までの凸部が設けられている。又、凸部の存在確率は傾
斜角8度までは増加しており、それ以上の傾斜角度の凸
部は存在していない。この傾斜角分布であると、正反射
方向から約25度までの範囲を均一に光反射し、それ以
上の角度方向には散乱光が散乱しないよう設計されてい
る。One of the methods for improving the light use efficiency is to control the shape of the (diffuse) reflector so as to reflect incident light to an effective range. SHARP TECHNICAL
JOURNAL, 74, p.41-p.45 (1999) discloses an ideal inclination angle distribution of a convex portion provided on a reflector. FIG.
3 is a graph showing a relationship between the inclination angle of the convex portion and its existence probability. According to (a) shown in the figure, the surface of the reflection plate has almost no flat portion (that is, a tilt angle of 0 °) and a convex portion having a tilt angle of about 8 ° is provided. Further, the existence probability of the convex portion is increased up to the inclination angle of 8 degrees, and there is no convex portion having a further inclination angle. With this inclination angle distribution, it is designed such that light is uniformly reflected in a range from the regular reflection direction to about 25 degrees, and scattered light is not scattered in a further angle direction.
【0012】その傾斜角分布を有する反射板の反射特性
は、次の様に表すことができる。図44は、入射光の入
射角度(度)とゲインとの関係を示すグラフである。ゲ
インは、入射光の入射角度に対する輝度を、(拡散)反
射板に対する輝度で除した値である。同図によれば、理
想的な傾斜角分布(図43で示す(a))の場合、その
反射特性は実線(a)で示す結果となる。人が表示画面
を見る場合、正面方向から約25度までの範囲内で観察
することが多い。よって、実線(a)で表される反射特
性の場合の様に、その範囲内での輝度を高めると明るい
表示が可能となる。The reflection characteristics of the reflector having the inclination angle distribution can be expressed as follows. FIG. 44 is a graph showing the relationship between the incident angle (degree) of the incident light and the gain. The gain is a value obtained by dividing the luminance with respect to the incident angle of the incident light by the luminance with respect to the (diffuse) reflector. According to the figure, in the case of an ideal inclination angle distribution ((a) shown in FIG. 43), the reflection characteristic is a result shown by a solid line (a). When a person looks at the display screen, he or she often observes within a range of about 25 degrees from the front direction. Therefore, as in the case of the reflection characteristic represented by the solid line (a), a bright display can be achieved by increasing the luminance within the range.
【0013】一方、傾斜角分布が図43で示す(b)の
様に、凸部の存在確率が傾斜角約15度でピークとなる
場合、その反射特性は図44の点線(b)で表される反
射特性となる。この反射特性の場合、例えば入射角50
度の入射光でも正面方向に反射させることができる。つ
まり種々の入射角度の入射光を、広い範囲でほぼ一定の
輝度になる様に反射させるので、この反射特性の場合光
の拡散性は高い。しかし、正面方向の輝度は、実線
(a)の場合と比較して低い。尚、傾斜角度が例えば2
0度の場合では、入射光は表示装置外部に出射されなく
なる。On the other hand, when the inclination probability distribution peaks at an inclination angle of about 15 degrees as shown in FIG. 43B, the reflection characteristic is represented by a dotted line (b) in FIG. Reflection characteristics. In the case of this reflection characteristic, for example, an incident angle of 50
Even incident light can be reflected in the front direction. That is, since the incident light at various incident angles is reflected so as to have almost constant luminance in a wide range, the light diffusing property is high in this reflection characteristic. However, the luminance in the front direction is lower than that in the case of the solid line (a). Note that the inclination angle is, for example, 2
In the case of 0 degrees, the incident light is not emitted to the outside of the display device.
【0014】又、図43で示す(c)の様に、凸部の存
在確率のピークが傾斜角の小さい領域にある場合、正反
射成分が増加し、反射板が鏡面性を有する様になる。こ
の為、前記の場合の反射特性は、図44で示す点線
(c)の様になる。この反射特性であると、入射角度に
対する輝度の変化が極めて大きくなる。Further, as shown in FIG. 43 (c), when the peak of the existence probability of the convex portion is in the region where the inclination angle is small, the specular reflection component increases and the reflection plate becomes mirror-like. . Therefore, the reflection characteristics in the above case are as shown by a dotted line (c) in FIG. With this reflection characteristic, the change in luminance with respect to the incident angle becomes extremely large.
【0015】このように、反射板の反射特性は、凸部の
傾斜角分布に依存する為、入射光を有効利用するには凸
部の傾斜角分布を制御するのが重要である。As described above, since the reflection characteristics of the reflector depend on the inclination angle distribution of the projections, it is important to control the inclination angle distribution of the projections in order to effectively use the incident light.
【0016】反射板の作製には、種々の方法が例示でき
る。例えば、反射金属膜表面の粗面化、エッチングによ
り樹脂層をパターニングして凹凸化する方法等である。
樹脂層の凹凸化の場合、熱可塑性のフォトレジストを使
用すれば、簡易に同一パターンを形成することができ
る。具体的には、次の通りに行う。図45(a)及び図
45(b)は凸部の形成工程を説明する為の断面図であ
る。先ず、基板101上にフォトレジスト層を形成した
後、これを所定のパターン形状を備えたマスクにより露
光・現像する。これにより、断面が矩形状の凸部102
が形成される。更に、熱処理することにより、凸部10
2の角部が熱溶融し、図45(b)に示す様に、滑らか
な曲面を有する凸部103が形成される。しかしなが
ら、凸部103間が広い場合には、平坦部104も形成
される。この為、作製される反射板の反射特性は鏡面性
を有することになる。Various methods can be used for manufacturing the reflection plate. For example, there is a method in which the surface of the reflective metal film is roughened, and the resin layer is patterned by etching to make the surface uneven.
In the case of making the resin layer uneven, the same pattern can be easily formed by using a thermoplastic photoresist. Specifically, it is performed as follows. FIGS. 45 (a) and 45 (b) are cross-sectional views for explaining a step of forming a convex portion. First, after a photoresist layer is formed on the substrate 101, the photoresist layer is exposed and developed using a mask having a predetermined pattern shape. As a result, the convex portion 102 having a rectangular cross section is formed.
Is formed. Further, by heat treatment, the protrusions 10
As shown in FIG. 45 (b), the corners of No. 2 are thermally melted to form a convex portion 103 having a smooth curved surface. However, when the space between the convex portions 103 is wide, the flat portion 104 is also formed. For this reason, the reflection characteristics of the manufactured reflection plate have specularity.
【0017】この鏡面性の問題を解決した反射板が、特
開平6−27481号公報に開示されている。この公報
には、上表面が連続する波状の絵素電極が、絶縁性基板
上に形成された反射板が開示されている。又、その反射
板は、次の通りに作製されている。即ち、絶縁性基板上
に1層目の高分子樹脂層を形成した後、パターニングし
て凸部を形成する。次に、凸部が形成された基板の上に
2層目となる高分子樹脂層を形成し、凸部間の隙間を埋
める。これにより、2層目の高分子樹脂層でも凹凸状と
なるが、その傾斜角は、1層目の凸部の傾斜角よりも小
さくなる。その結果、平坦部を少なくして、正反射の反
射光を低減することができる。しかし、前記の方法であ
ると、2層目の高分子樹脂層を塗布し、乾燥する工程が
増える為、製造コストが高くなるという課題が有る。A reflection plate which solves the problem of the mirror surface is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-27481. This publication discloses a reflector having a wavy picture element electrode having a continuous upper surface formed on an insulating substrate. The reflector is manufactured as follows. That is, after a first polymer resin layer is formed on an insulating substrate, patterning is performed to form a convex portion. Next, a polymer resin layer serving as a second layer is formed on the substrate on which the convex portions are formed, and a gap between the convex portions is filled. As a result, the polymer resin layer of the second layer also becomes uneven, but its inclination angle is smaller than the inclination angle of the projections of the first layer. As a result, the number of flat portions can be reduced, and specular reflected light can be reduced. However, according to the above-mentioned method, there is a problem in that the number of steps of applying and drying the second polymer resin layer is increased, thereby increasing the manufacturing cost.
【0018】本願発明者等は、前記した製造コスト高の
問題を解決すべく、単一層の状態から凸部を隙間無く形
成して、表面が凹凸形状の反射板を形成する方法を試み
た。即ち、基板上にフォトレジストを塗布し、マスクを
介してフォトレジストを露光した。マスクのパターン形
状は、遮光部間が5μm以下になる様に設定した。現像
後、断面が矩形状の凸部を形成した。凸部間の距離は5
μm以下であった。更に、矩形状の凸部を熱処理により
軟化・変形させ、凸部間の隙間を埋めた。このとき、隙
間が3μm以下の所では、隙間が完全に埋まり、凸部同
士が結合して平坦部が形成された。その為、凸部が離間
した部分と、結合した部分とで傾斜角分布が異なり、反
射特性が面内で不均一になった。この結果、表示画面に
於いてムラが視認されるという問題が生じた。又、ソー
ス電極及びドレイン電極上にAl又はAg等からなる反
射層を形成する場合には、レジストのない部分に於いて
ソース電極と反射層との間でショートする危険性があ
る。In order to solve the above-mentioned problem of high manufacturing cost, the inventors of the present application have tried a method of forming a convex portion with no gap from a single layer state to form a reflector having an uneven surface. That is, a photoresist was applied on a substrate, and the photoresist was exposed through a mask. The pattern shape of the mask was set such that the distance between the light shielding portions was 5 μm or less. After the development, a convex portion having a rectangular cross section was formed. The distance between the protrusions is 5
μm or less. Further, the rectangular projections were softened and deformed by heat treatment to fill gaps between the projections. At this time, when the gap was 3 μm or less, the gap was completely filled, and the projections were connected to each other to form a flat portion. Therefore, the inclination angle distribution differs between the portion where the protrusions are separated from each other and the portion where the protrusions are connected, and the reflection characteristics become non-uniform in the plane. As a result, there is a problem that unevenness is visually recognized on the display screen. When a reflective layer made of Al, Ag, or the like is formed on the source electrode and the drain electrode, there is a risk of short-circuiting between the source electrode and the reflective layer in a portion where there is no resist.
【0019】又、現像処理を途中で止めることによっ
て、レジストの凸部間にあらかじめ一部のレジスト膜を
残す(以下、単に残膜と言う)という方法をとれば、凸
部同士が当初から連続面となっている為、メルト(熱溶
融)により連続した凹凸面が形成できる。しかし、残膜
の厚みによりメルト時の変形量が変化し、残膜が薄くな
るに従い変形量が減る。そのため、凸部の傾斜角を制御
する為には、残膜の厚みを正確に制御する必要が有る。
しかし、レジスト膜を現像する際の現像速度は、温度や
現像液の能力、レジスト膜の疲労の程度など多くの要因
により左右される。この為、現像処理を途中で中止し、
同じ残膜量で傾斜角の制御をすることは困難である。Further, if the method of leaving a part of the resist film between the convex portions of the resist in advance by stopping the developing process (hereinafter simply referred to as a residual film) is adopted, the convex portions are continuously formed from the beginning. Since it is a surface, a continuous uneven surface can be formed by melt (thermal melting). However, the amount of deformation at the time of melt changes depending on the thickness of the remaining film, and the amount of deformation decreases as the remaining film becomes thinner. Therefore, in order to control the inclination angle of the projection, it is necessary to accurately control the thickness of the remaining film.
However, the developing speed at which the resist film is developed depends on many factors such as the temperature, the ability of the developing solution, and the degree of fatigue of the resist film. For this reason, development processing is stopped halfway,
It is difficult to control the tilt angle with the same remaining film amount.
【0020】又、反射板表面に凹凸形状を形成する方法
は、日本国特許第2698218号にも開示されてい
る。図46(a)は、この公報に開示されている反射板
を模式的に示した平面図である。図46(b)は、図4
6(a)に於けるA−A線矢視断面図である。Further, a method of forming an uneven shape on the surface of the reflector is also disclosed in Japanese Patent No. 2698218. FIG. 46A is a plan view schematically showing the reflector disclosed in this publication. FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
【0021】図46(a)に示すように、基板111上
には相互に離隔した多数の凸部112が設けられてお
り、更に凸部112を覆う様にして反射膜113が設け
られている。凸部112を設けたことにより、反射板に
光散乱性を付与し、表示画面に於ける光源の映り込みを
低減している。しかし、この従来例では、凸部112が
相互に離隔して形成されている為、隙間部114は平坦
になっている。加えて、反射板全体に占める隙間部11
4の面積が大きい為、正反射方向にも反射光のピークが
現れる。この結果、表示画面に於いて光源の映りこみが
発生し、表示画面が暗いという課題を有していた。As shown in FIG. 46A, a large number of convex portions 112 are provided on a substrate 111 and are separated from each other. Further, a reflective film 113 is provided so as to cover the convex portions 112. . The provision of the convex portions 112 imparts a light scattering property to the reflection plate and reduces reflection of a light source on a display screen. However, in this conventional example, the gaps 114 are flat because the protrusions 112 are formed apart from each other. In addition, the gap 11 occupying the entire reflection plate
Since the area of No. 4 is large, a peak of reflected light also appears in the regular reflection direction. As a result, there is a problem that the reflection of the light source occurs on the display screen and the display screen is dark.
【0022】そこで、この課題を解決した反射板が、日
本国特許第2756206号に開示されている。図47
(a)は、この公報に開示されている反射板を模式的に
示した平面図である。図47(b)は、図47(a)に
於けるB−B線矢視断面図である。この公報によれば、
凹凸を有する。基板121上に凸形状の第1膜122が
設けられている。更に、第1膜122を覆う様に第2膜
123が設けられている。又、第2膜123上には反射
膜124が設けられている。上記構成の様に、第2膜1
23の形成により、第1膜122表面及び平坦な隙間部
125を平滑化し、滑らかな凹凸状の曲面を実現してい
る。その結果、前記従来例で課題であった平坦な部分を
除去し、正反射方向に鋭いピークが現れない良好な光散
乱性を確保している。Therefore, a reflection plate which solves this problem is disclosed in Japanese Patent No. 2756206. FIG.
FIG. 1A is a plan view schematically showing a reflector disclosed in this publication. FIG. 47 (b) is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 47 (a). According to this publication,
It has irregularities. A convex first film 122 is provided on a substrate 121. Further, a second film 123 is provided so as to cover the first film 122. Further, a reflection film 124 is provided on the second film 123. As described above, the second film 1
By the formation of 23, the surface of the first film 122 and the flat gap 125 are smoothed, and a smooth uneven curved surface is realized. As a result, the flat portion, which has been a problem in the conventional example, is removed, and good light scattering properties with no sharp peak appearing in the regular reflection direction are secured.
【0023】しかしながら、後者の従来例に於いては、
反射板の形成の際に、基板121上に凸形状の第1膜1
22を形成する工程と、その第1膜122上に液体を塗
布しこれを硬化することにより、第2膜123を形成す
る工程とを行う必要がある。つまり、凹凸形状の形成に
2段階の工程が必要であり、冗長であった。However, in the latter conventional example,
When forming the reflection plate, the first film 1 having a convex shape is formed on the substrate 121.
It is necessary to perform a step of forming the second film 123 and a step of forming a second film 123 by applying a liquid on the first film 122 and curing the liquid. In other words, the formation of the unevenness requires two steps, which is redundant.
【0024】[0024]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の課題
に鑑みなされたものであり、その第1の目的は、平坦部
が少なく理想的な傾斜角分布を有する凸部を備え、散乱
性等の反射特性に優れた反射板及びそれを備えた表示装
置を提供することにある。又、第2の目的は、製造上の
課題に起因する反射特性の変化を抑制し、歩留まりの向
上が図れると共に、良好な反射特性の反射板が作製可能
な製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a first object of the present invention is to provide a projection having a small number of flat portions and an ideal inclination angle distribution, and It is an object of the present invention to provide a reflection plate having excellent reflection characteristics and a display device provided with the same. It is a second object of the present invention to provide a manufacturing method capable of suppressing a change in reflection characteristics due to a manufacturing problem, improving a yield, and manufacturing a reflection plate having good reflection characteristics.
【0025】[0025]
【課題を解決するための手段】(反射板)前記の課題を
解決する為に、本発明に係る反射板は、基板と、前記基
板上に複数設けられ、かつ表面が曲面状の凸部と、前記
凸部を有する前記基板上に設けられた反射膜とを備える
反射板であって、前記凸部の平面形状は非円形であり、
前記凸部の平面形状に於ける輪郭線を微小な線分に区切
った場合に、各線分の方向が全方位又は所定の方位に向
いていることを特徴とする。Means for Solving the Problems (Reflector) In order to solve the above problems, a reflector according to the present invention comprises a substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate and having a curved surface. A reflective film provided on the substrate having the convex portion, wherein the planar shape of the convex portion is non-circular,
When the contour line in the planar shape of the projection is divided into minute line segments, the direction of each line segment is oriented in all directions or a predetermined direction.
【0026】前記の構成に於いて、凸部の輪郭線を微小
な線分に区切った場合の各線分は、全方位又は所定の方
位に向いている。各線分が全方位に向いていると、それ
に応じて凸部の表面も種々の方位に向かせることができ
る。凸部の表面形状は、凸部の輪郭線の形状に依存する
からである。この結果、任意の方向から入射する光を様
々な方向に拡散反射させることができ、光の反射強度は
視認方向によらず一定にできる。つまり、散乱性の向上
が図れる。In the above configuration, when the contour line of the convex portion is divided into minute line segments, each line segment is oriented in all directions or a predetermined direction. If each line segment is oriented in all directions, the surface of the projection can be oriented in various directions accordingly. This is because the surface shape of the projection depends on the shape of the contour of the projection. As a result, light incident from any direction can be diffusely reflected in various directions, and the light reflection intensity can be constant regardless of the viewing direction. That is, the scattering property can be improved.
【0027】又、各線分が所定の方位に向いていると、
反射強度が所定の方向に極大を持つ様に、散乱性を制御
することができる。つまり前記の構成であると、用途に
応じて最適な散乱性を発揮させることができる。更に、
前記の構成であると、各線分の向きを変更するだけで、
容易に凸部の形状制御が可能となり、かつその自由度も
高い。尚、本願明細書に於いて、凸部とは凸曲面のみを
有するものに限定されず、その表面が凹曲面及び凹凸曲
面の場合も含む。If each line segment is oriented in a predetermined direction,
The scattering can be controlled so that the reflection intensity has a maximum in a predetermined direction. That is, with the above-described configuration, it is possible to exhibit optimal scattering properties according to the application. Furthermore,
With the above configuration, just change the direction of each line segment,
The shape control of the convex portion can be easily performed, and the degree of freedom is high. In the specification of the present application, the convex portion is not limited to the one having only the convex curved surface, but also includes the case where the surface is a concave curved surface and an uneven curved surface.
【0028】又、前記の課題を解決する為に、本発明に
係る反射板は、基板と、前記基板上に複数設けられ、か
つ表面が曲面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上
に設けられた反射膜とを備える反射板であって、前記凸
部の平面形状は不定形であり、かつ前記凸部と凸部の間
に設けられている隙間部は所定幅の曲線及び/又は折れ
線を含むことを特徴とする。According to another aspect of the present invention, there is provided a reflection plate according to the present invention, comprising: a substrate; a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface; A reflective film provided on the reflective plate, wherein the planar shape of the convex portion is indefinite, and a gap provided between the convex portion and the convex portion is a curve of a predetermined width and And / or including a polygonal line.
【0029】前記凸部の平面形状を不定形とすると、凸
部間に形成される隙間部を所定幅の曲線及び/又は折れ
線を含む形状にすることができる。これにより、均一な
形状の凸部を最密充填的に配列する場合よりも、隙間部
の面積を最小限に抑制することができる。その結果、正
反射方向へ反射する光の増大を抑制することができ、散
乱性の向上が図れる。When the planar shape of the projection is irregular, the gap formed between the projections can be formed into a shape including a curve and / or a polygonal line having a predetermined width. Thereby, the area of the gap can be suppressed to a minimum as compared with the case where the protrusions having a uniform shape are arranged in a close-packed manner. As a result, an increase in light reflected in the specular reflection direction can be suppressed, and the scattering property can be improved.
【0030】ここで、前記隙間部の幅は一定にしてもよ
い。Here, the width of the gap may be constant.
【0031】更に、隙間部の幅は、1μm以上、10μ
m以下の範囲内であることが好ましい。Further, the width of the gap is 1 μm or more and 10 μm or more.
It is preferably within the range of m or less.
【0032】前記凸部の平面形状に於ける最大寸法は、
15μm以上、40μm以下の範囲内であることが好ま
しい。The maximum dimension of the convex portion in the planar shape is:
It is preferable that the thickness be in the range of 15 μm or more and 40 μm or less.
【0033】前記凸部の高さは、1.2μm以上、4μ
m以下の範囲内であることが好ましい。The height of the projection is not less than 1.2 μm and 4 μm.
It is preferably within the range of m or less.
【0034】前記凸部の最大寸法は、凸部の高さに対し
て5倍以上、20倍以下の範囲内であることが好まし
い。It is preferable that the maximum dimension of the projection is in the range of 5 times to 20 times the height of the projection.
【0035】前記凸部の表面と基板面とが接触線に於い
てなす接触角は、10度以上、25度以下の範囲内にあ
ることが好ましい。It is preferable that the contact angle between the surface of the projection and the surface of the substrate at the contact line is in the range of 10 degrees or more and 25 degrees or less.
【0036】前記凸部は、1×104μm2の範囲内に3
0個以下で設けられているのが好ましい。The projection has a size of 3 × 10 4 μm 2.
It is preferable to provide 0 or less.
【0037】前記凸部は、フィボナッチ数列の関係を満
たす(らせん状規則配列に対応する)位置に設けられて
いてもよい。The convex portion may be provided at a position satisfying the relationship of the Fibonacci sequence (corresponding to a helical regular arrangement).
【0038】一方、前記反射板に於いては、前記基板が
透光性を有しており、又前記隙間部が、前記反射膜に被
覆されず、かつ光を透過させる領域であってもよい。こ
の構成により、前記の反射板を半透過型の反射板として
使用することができる。On the other hand, in the reflection plate, the substrate may have a light-transmitting property, and the gap may be a region that is not covered with the reflection film and transmits light. . With this configuration, the above-described reflector can be used as a transflective reflector.
【0039】更に、前記凸部は透光性を有しており、凸
部に於ける低位部分が前記反射膜に被覆されていない構
成でもよい。Further, the projection may have a light-transmitting property, and a lower portion of the projection may not be covered with the reflection film.
【0040】前記凸部に於ける低位部分は、凸部の表面
に接する接線と前記基板とのなす角を傾斜角とした場合
に、前記傾斜角が15度以上の部分とすることができ
る。The lower portion of the projection may be a portion having an inclination angle of 15 degrees or more when an angle between a tangent to the surface of the projection and the substrate is an inclination angle.
【0041】又、本発明の反射板を半透過型として使用
する場合には、前記隙間部の幅は、1μm以上、20μ
m以下の範囲内であることが好ましい。When the reflecting plate of the present invention is used as a transflective type, the width of the gap is 1 μm or more and 20 μm or more.
It is preferably within the range of m or less.
【0042】同様に、反射板を半透過型として使用する
場合の接触角は、10度以上、40度以下の範囲内にあ
ることが好ましい。Similarly, when the reflector is used as a transflective type, the contact angle is preferably in the range of 10 degrees or more and 40 degrees or less.
【0043】更に、反射板を半透過型として使用する場
合の前記凸部の分布は、1×104μm2の範囲内に15
個以下で設けられているのが好ましい。Further, when the reflecting plate is used as a semi-transmissive type, the distribution of the projections is within a range of 1 × 10 4 μm 2.
It is preferable that the number is provided not more than the number.
【0044】又、前記の課題を解決する為に、本発明に
係る反射板は、基板と、前記基板上に複数設けられ、か
つ表面が曲面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上
に設けられた反射膜とを備える反射板であって、前記凸
部の輪郭線は、湾状ないし半島状の曲線を含む構成であ
ってもよい。In order to solve the above-mentioned problems, a reflector according to the present invention includes a substrate, a plurality of convex portions provided on the substrate and having a curved surface, and the substrate having the convex portion. A reflection film provided on the reflection plate, wherein the contour of the convex portion may include a curve of a bay shape or a peninsula shape.
【0045】この構成により、凸部が設けられていない
部分(隙間部)と、凸部との境界線(輪郭線)を一定の
方向とせず様々な方向に向けることができ、散乱性が高
く良好な反射特性を実現することができる。With this configuration, the boundary line (contour line) between the portion where the convex portion is not provided (the gap portion) and the convex portion can be directed in various directions instead of a fixed direction, and the scattering property is high. Good reflection characteristics can be realized.
【0046】前記凸部の平面形状は不定形であり、かつ
前記凸部と凸部の間に設けられている隙間部の少なくと
も一部は網目状又は不定形状に設けられていてもよい。The planar shape of the convex portion may be irregular, and at least a part of the gap provided between the convex portions may be provided in a mesh or irregular shape.
【0047】又、前記凸部の輪郭線が少なくとも1つ以
上の閉じた曲線をなしており、前記曲線に沿って基板面
上に描いた接線を、画素の長辺方向を0度とする傾き角
で表したとき、前記曲線を周回したときの前記傾き角の
増加から減少又は減少から増加への変化が、少なくとも
3回以上である構成であってもよい。Further, the contour of the convex portion forms at least one closed curve, and a tangent drawn on the substrate surface along the curve is inclined such that the long side direction of the pixel is 0 degree. When the angle is represented by an angle, the inclination angle may be changed from an increase to a decrease or from a decrease to an increase at least three times around the curve.
【0048】更に、前記凸部の輪郭線のうち、少なくと
も1つ以上が、曲線又は直線を有する不定形の二次元閉
領域をなしている構成であってもよい。Further, at least one or more of the contours of the convex portion may form an irregular two-dimensional closed region having a curve or a straight line.
【0049】その上、前記凸部の輪郭線は、前記信号線
に対して角度を有する曲線又は直線を含んでいてもよ
い。[0049] In addition, the contour line of the convex portion may include a curve or a straight line having an angle with respect to the signal line.
【0050】この構成により、凸部の輪郭線を一定の方
向とせず様々な方向に向けることができ、散乱性が高く
良好な反射特性を実現することができる。According to this configuration, the contour of the convex portion can be directed in various directions instead of a fixed direction, and a high scattering property and good reflection characteristics can be realized.
【0051】(反射板の製造方法)前記の課題を解決す
る為に、本発明に係る反射板の製造方法は、基板上に樹
脂層を形成する工程と、前記樹脂層を所定の形状にパタ
ーニングすることにより、前記基板面の一部を露出させ
て、断面形状が矩形の複数の柱状部を形成する工程と、
前記柱状部と柱状部との間の、前記基板が露出した面を
表面処理することにより、樹脂に対する親和性を付与す
る工程と、前記複数の柱状部に熱処理を施すことによ
り、前記基板が露出した面に樹脂を流動させて、表面が
曲面状の凸部を形成する工程と、少なくとも前記凸部上
に反射膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。(Manufacturing Method of Reflecting Plate) In order to solve the above-mentioned problem, a manufacturing method of a reflecting plate according to the present invention comprises a step of forming a resin layer on a substrate and a step of patterning the resin layer into a predetermined shape. Thereby exposing a part of the substrate surface, and forming a plurality of columnar portions having a rectangular cross-sectional shape,
A step of providing an affinity for resin by performing a surface treatment on a surface where the substrate is exposed between the columnar portion and the columnar portion, and performing a heat treatment on the plurality of columnar portions to expose the substrate. A step of forming a convex portion having a curved surface by flowing a resin on the formed surface; and a step of forming a reflective film on at least the convex portion.
【0052】前記の方法であると、柱状部に熱処理を施
し、柱状部が熱変形可能な状態になっても、基板面を流
動することなく自己の表面張力により凝集しようとする
のを防止することができる。即ち、柱状部に熱処理を施
す前に、柱状部間の基板が露出した面に、樹脂に対する
親和性を付与することにより、基板面を流動し易くす
る。この結果、凸部の形成の際に、凸部と凸部との間の
隙間が大きくならない様にすることができ、鏡面性の増
大を抑制できる。更に、熱処理の際に基板面に温度分布
が生じても、レジストの流動の程度が基板面内で異なる
のを抑制することもできる。よって、散乱性に優れた反
射板を歩留まり良く作製することができる。According to the above method, heat treatment is performed on the columnar portion to prevent the columnar portion from being agglomerated due to its own surface tension without flowing on the substrate surface even when the columnar portion becomes heat deformable. be able to. That is, before the heat treatment is performed on the columnar portions, the surface of the substrate between the columnar portions where the substrate is exposed is provided with an affinity for the resin, thereby facilitating the flow of the substrate surface. As a result, when forming the convex portions, it is possible to prevent the gap between the convex portions from becoming large, and it is possible to suppress an increase in specularity. Further, even if a temperature distribution occurs on the substrate surface during the heat treatment, the degree of flow of the resist can be suppressed from being different in the substrate surface. Therefore, a reflector having excellent scattering properties can be manufactured with high yield.
【0053】又、前記の方法であると、凸部の上に更に
樹脂層を設けて反射膜の表面を凹凸状としなくても、凸
部の形成のみで反射膜表面を平坦部の少ない凹凸面とす
ることができる。これにより、厚みの薄い反射板を作製
することができる。又、従来の製造方法よりも工程数が
少ないので、製造コストの低減が図れる。According to the above method, the surface of the reflective film can be formed with only a flat portion by forming only the projecting portion, without providing a resin layer on the projecting portion to make the surface of the reflecting film uneven. Plane. Thereby, a thin reflecting plate can be manufactured. Further, since the number of steps is smaller than in the conventional manufacturing method, the manufacturing cost can be reduced.
【0054】前記親和性を付与する工程は、前記基板が
露出した面に、下記一般式(1)で表される官能基群か
ら選ばれる何れか一種の官能基、及び前記樹脂に対して
親和性を示す官能基を有する化合物を接触させることに
より、前記基板面に存在する活性水素を有する官能基と
下記一般式(1)で表される官能基群から選ばれる何れ
か一種の官能基とを反応させて、前記化合物からなる被
膜を形成する工程であってもよい。In the step of imparting the affinity, the exposed surface of the substrate has an affinity for any one of the functional groups selected from the group of functional groups represented by the following general formula (1) and the resin. By contacting a compound having a functional group exhibiting the property, a functional group having active hydrogen present on the substrate surface and any one of functional groups selected from the functional group group represented by the following general formula (1) To form a film made of the compound.
【0055】[0055]
【化2】 Embedded image
【0056】(式中、Aはケイ素、ゲルマニウム、ス
ズ、チタン及びジルコニウムからなる群より選ばれる何
れか1種の原子を表し、Xはハロゲン、アルコキシ基及
びイソシアネート基からなる群より選ばれる何れかの官
能基を表している。)(Wherein A represents any one atom selected from the group consisting of silicon, germanium, tin, titanium and zirconium, and X represents any one atom selected from the group consisting of halogen, alkoxy groups and isocyanate groups) Represents a functional group.)
【0057】更に、前記親和性を付与する工程は、前記
基板が露出した面に紫外線を照射する工程であってもよ
い。Further, the step of imparting the affinity may be a step of irradiating the exposed surface of the substrate with ultraviolet rays.
【0058】又、前記の課題を解決する為に、本発明に
係る反射板の製造方法は、基板上に樹脂層を形成する工
程と、前記樹脂層を所定の形状にパターニングすること
により、前記基板面の一部を露出させて、断面形状が矩
形の複数の柱状部を形成する工程と、前記柱状部に可塑
剤を接触させることにより、柱状部を可塑化する工程
と、前記複数の柱状部に熱処理を施すことにより、前記
基板が露出した面に樹脂を流動させて、表面が曲面状の
凸部を形成する工程と、少なくとも前記凸部上に反射膜
を形成する工程とを含むことを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a reflector according to the present invention comprises the steps of forming a resin layer on a substrate and patterning the resin layer into a predetermined shape. Exposing a part of the substrate surface to form a plurality of columnar portions having a rectangular cross-sectional shape, and a step of plasticizing the columnar portion by contacting a plasticizer with the columnar portion; and forming the plurality of columnar portions. Applying a heat treatment to the portion to cause the resin to flow on the surface where the substrate is exposed, thereby forming a convex portion having a curved surface, and a step of forming a reflective film on at least the convex portion. It is characterized by.
【0059】熱的性質の相違により、樹脂材料は種類毎
に熱変形温度に差異が存在する。前記の方法によれば、
熱変形温度が高い樹脂を用いた場合にも、柱状部に可塑
剤を接触させることにより可塑化して、熱変形温度を低
減させる。その結果、基板面を容易に流動し易くするこ
とができる。Due to the difference in thermal properties, there is a difference in the heat deformation temperature for each type of resin material. According to the above method,
Even when a resin having a high heat deformation temperature is used, the resin is plasticized by bringing a plasticizer into contact with the columnar portion to reduce the heat deformation temperature. As a result, the substrate surface can easily flow.
【0060】又、前記の課題を解決する為に、本発明に
係る反射板の製造方法は、基板上に樹脂層を形成する工
程と、前記樹脂層を所定の形状にパターニングすること
により、前記基板面の一部を露出させて、断面形状が矩
形の複数の柱状部を形成する工程と、前記柱状部の表層
を硬化する工程と、前記複数の柱状部に熱処理を施すこ
とにより、前記基板が露出した面に樹脂を流動させて、
表面が曲面状の凸部を形成する工程と、少なくとも前記
凸部上に反射膜を形成する工程とを含むことを特徴とす
る。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a reflection plate according to the present invention comprises the steps of forming a resin layer on a substrate and patterning the resin layer into a predetermined shape. Exposing a part of the substrate surface, forming a plurality of columnar portions having a rectangular cross-sectional shape, curing a surface layer of the columnar portions, and subjecting the plurality of columnar portions to heat treatment, whereby the substrate Flow resin on the exposed surface,
The method includes a step of forming a convex part having a curved surface, and a step of forming a reflective film on at least the convex part.
【0061】前記の方法は、樹脂の熱的性質が、熱変形
可能な状態になったときに大きな流動性を示すものであ
る場合に有用である。即ち、この方法によれば、柱状部
の表層を硬化させることにより、熱処理の際に、樹脂が
過度に基板面を流動していくのを抑制することができ
る。その一方、柱状部の内部に於いては、本来の流動性
を有しているので、柱状部を適度に熱変形することがで
きる。これにより、凸部と凸部との間に隙間がなく双方
が繋がってしまうのを防止し、所定の傾斜角を有する凸
部を複数形成することができる。その結果、基板面内に
於いて反射輝度にムラが生じるの防止し、良好な反射特
性の反射板を歩留まり良く作製することができる。The above method is useful when the thermal properties of the resin show a large fluidity when it becomes thermally deformable. That is, according to this method, by curing the surface layer of the columnar portion, it is possible to suppress the resin from excessively flowing on the substrate surface during the heat treatment. On the other hand, since the inside of the columnar portion has the original fluidity, the columnar portion can be appropriately thermally deformed. Thus, it is possible to prevent the protrusions from being connected to each other without a gap between the protrusions, and to form a plurality of protrusions having a predetermined inclination angle. As a result, it is possible to prevent the occurrence of unevenness in the reflection luminance in the substrate surface, and to manufacture a reflection plate having good reflection characteristics with high yield.
【0062】前記柱状部の表層を硬化させる工程は、柱
状部に対して、主波長が300nm以下の紫外線を照射
する工程であってもよい。前記柱状部の表層を硬化させ
る工程は、柱状部にアルカリ溶液を接触させる工程であ
ってもよい。The step of curing the surface layer of the columnar section may be a step of irradiating the columnar section with ultraviolet light having a main wavelength of 300 nm or less. The step of curing the surface layer of the columnar section may be a step of bringing an alkaline solution into contact with the columnar section.
【0063】又、前記の課題を解決する為に、本発明に
係る反射板の製造方法は、基板上に感光性樹脂層を形成
する工程と、前記感光性樹脂層に、遮光部又は透光部が
所定幅の曲線及び/又は折れ線を含むマスクパターンを
有するマスクを介して露光する工程と、露光後の前記感
光性樹脂層を現像することにより、基板面の一部を露出
させて複数の柱状部を形成する工程と、前記複数の柱状
部に熱処理を施すことにより、表面が曲面状の凸部を形
成する工程と、少なくとも前記凸部上に反射膜を形成す
る工程とを少なくとも行うことにより、前記凸部と凸部
の間に、所定幅の曲線及び/又は折れ線を含む隙間部を
備えた反射板を形成することを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a method for manufacturing a reflector according to the present invention comprises a step of forming a photosensitive resin layer on a substrate, and a step of forming a light-shielding portion or a light-transmitting layer on the photosensitive resin layer. A step of exposing through a mask having a mask pattern including a curve and / or a polygonal line having a predetermined width, and developing the photosensitive resin layer after exposure, thereby exposing a part of the substrate surface to form a plurality of portions. A step of forming a columnar portion, a step of forming a convex portion having a curved surface by applying a heat treatment to the plurality of columnar portions, and a step of forming at least a reflective film on the convex portion. Accordingly, a reflector having a gap portion including a curve and / or a polygonal line having a predetermined width is formed between the convex portions.
【0064】前記マスクとして、前記遮光部又は透光部
の幅が3μm以下のマスクパターンを有するマスクを使
用することができる。As the mask, a mask having a mask pattern in which the width of the light shielding portion or the light transmitting portion is 3 μm or less can be used.
【0065】又、前記の課題を解決する為に、本発明に
係る反射板の製造方法は、基板上に感光性樹脂層を形成
する工程と、前記感光性樹脂層に、所定のパターン形状
を有する遮光部又は透光部を有するマスクを介して露光
する工程と、露光後の前記感光性樹脂層を現像すること
により、基板面の一部を露出させて複数の柱状部を形成
する工程と、前記柱状部と柱状部との間の、前記基板が
露出した面を表面処理することにより、感光性樹脂に対
する親和性を付与する工程と、前記複数の柱状部に熱処
理を施すことにより、前記基板が露出した面に感光性樹
脂を流動させて、表面が曲面状の凸部を形成する工程
と、少なくとも前記凸部上に反射膜を形成する工程とを
有し、前記マスクとして、遮光部又は透光部の平面形状
は非円形であり、前記遮光部又は透光部の平面形状に於
ける輪郭線を微小な線分に区切った場合に、各線分の方
向が全方位又は所定の方位に向いているマスクを使用す
ることを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a reflection plate according to the present invention comprises a step of forming a photosensitive resin layer on a substrate, and a step of forming a predetermined pattern on the photosensitive resin layer. Exposing through a mask having a light-shielding portion or a light-transmitting portion, and developing the photosensitive resin layer after exposure, thereby exposing a part of the substrate surface to form a plurality of columnar portions; A step of applying an affinity to a photosensitive resin by performing a surface treatment on the exposed surface of the substrate between the columnar portion and the columnar portion, and performing a heat treatment on the plurality of columnar portions, Flowing a photosensitive resin on the exposed surface of the substrate to form a convex portion having a curved surface, and a step of forming a reflective film on at least the convex portion. Or the plane shape of the translucent part is non-circular, When separated in outline in small segments to the planar shape of the light-shielding portion or the light transmitting part, the direction of each line segment, characterized by using a mask facing in all directions or a predetermined orientation.
【0066】(表示装置)又、前記各構成の反射板は、
反射型液晶表示装置及び半透過型液晶表示装置等の表示
装置に適用することができる。即ち、本発明に係る表示
装置は、複数の非線形素子及び配線群が設けられた基板
と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面が曲面状の凸
部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられた反射膜
とを備える表示装置であって、前記凸部の平面形状は非
円形であり、前記凸部の平面形状に於ける輪郭線を微小
な線分に区切った場合に、各線分の方向が全方位又は所
定の方位に向いていることを特徴とする。(Display device) The reflecting plate of each of the above-mentioned structures is
The present invention can be applied to display devices such as a reflective liquid crystal display device and a transflective liquid crystal display device. That is, the display device according to the present invention includes a substrate provided with a plurality of nonlinear elements and a wiring group, a plurality of convex portions provided on the substrate and having a curved surface, and the substrate having the convex portions. A reflection film provided on the display device, wherein the planar shape of the convex portion is non-circular, and when the contour line in the planar shape of the convex portion is divided into minute line segments, It is characterized in that the direction of the minute is in all directions or a predetermined direction.
【0067】前記の構成に於いて、各線分が全方位に向
いている場合には、任意の方向から入射する光を様々な
方向に拡散反射させて表示させるので、表示画面の輝度
を視認方向によらず一定にすることができる。又、各線
分が所定の方位に向いている場合には、所定の視認方向
から表示画面を観察した場合にのみ、表示画面を明るく
することができる。つまり前記の構成であると、用途に
応じて最適な反射特性を備えさせることが可能な表示装
置を提供することができる。In the above configuration, when each line segment is oriented in all directions, light incident from an arbitrary direction is diffused and reflected in various directions for display. It can be constant regardless of When each line segment is oriented in a predetermined direction, the display screen can be brightened only when the display screen is observed from a predetermined viewing direction. In other words, with the above-described configuration, it is possible to provide a display device that can have optimal reflection characteristics depending on the application.
【0068】又、前記の課題を解決する為に、本発明に
係る他の表示装置は、複数の非線形素子及び配線群が設
けられた基板と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面
が曲面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上に設け
られた反射膜とを備える表示装置であって、前記凸部と
凸部の間には隙間部が設けられており、前記隙間部は所
定幅の曲線及び/又は折れ線を含むことを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, another display device according to the present invention comprises a substrate provided with a plurality of nonlinear elements and wiring groups, and a plurality provided on the substrate and having a curved surface. A display device comprising: a convex part having a convex shape; and a reflective film provided on the substrate having the convex part, wherein a gap is provided between the convex part and the convex part, Is characterized by including a curve and / or a polygonal line having a predetermined width.
【0069】この構成によれば、基板面に於ける隙間部
の占有面積は極力抑制することができるので、正反射方
向へ反射する光の増大を抑制し、表示画面に於いて映り
込みが発生するのを低減できる。又、前記構成の凸部は
散乱性に優れた反射特性を発揮するので、視認方向によ
らず一定の輝度で画像を表示できる表示装置を提供する
ことができる。According to this configuration, the area occupied by the gap on the substrate surface can be suppressed as much as possible, so that an increase in light reflected in the specular reflection direction is suppressed, and reflection on the display screen occurs. Can be reduced. In addition, since the projections having the above-described configuration exhibit reflection characteristics with excellent scattering properties, it is possible to provide a display device that can display an image with a constant luminance regardless of the viewing direction.
【0070】前記の構成に於いては、前記基板上に、前
記非線形素子に電気的に接続された補助容量電極が設け
られており、前記補助容量電極上には、前記隙間部の少
なくとも一部が補助容量電極の外周辺部に重なる様に、
前記凸部が設けられていてもよい。In the above structure, an auxiliary capacitance electrode electrically connected to the nonlinear element is provided on the substrate, and at least a part of the gap is provided on the auxiliary capacitance electrode. Overlaps the outer periphery of the auxiliary capacitance electrode,
The protrusion may be provided.
【0071】更に、前記補助容量電極の平面形状は、少
なくとも1つの凹角を有する多角形であってもよい。こ
れにより、補助容量電極上の凸部が平坦化するのを防止
し、反射特性の向上が図れる。Further, the planar shape of the auxiliary capacitance electrode may be a polygon having at least one concave angle. This prevents the projection on the auxiliary capacitance electrode from being flattened, and improves the reflection characteristics.
【0072】又、前記基板上に、前記非線形素子に電気
的に接続された補助容量電極が設けられており、前記補
助容量電極上の隙間部の幅が、他の隙間部の幅より狭い
構成であってもよい。これにより、平坦部の面積を減ら
し、反射特性を向上できる。Further, an auxiliary capacitance electrode electrically connected to the non-linear element is provided on the substrate, and the width of the gap on the auxiliary capacitance electrode is smaller than the width of other gaps. It may be. Thereby, the area of the flat portion can be reduced, and the reflection characteristics can be improved.
【0073】更に、前記基板上に、前記非線形素子に電
気的に接続された補助容量電極が設けられており、前記
補助容量電極上の凸部の最大寸法が、他の凸部の最大寸
法より狭い構成であってもよい。Further, an auxiliary capacitance electrode electrically connected to the non-linear element is provided on the substrate, and the maximum dimension of the projection on the auxiliary capacitance electrode is larger than the maximum dimension of the other projections. The configuration may be narrow.
【0074】一方、前記構成に於いては、前記基板が透
光性を有しており、又前記隙間部が、前記反射膜に被覆
されず、かつ光を透過させる領域であってもよい。これ
により、本発明の表示装置を半透過型の表示装置とする
ことができる。On the other hand, in the above configuration, the substrate may have a light transmitting property, and the gap may be a region that is not covered with the reflective film and transmits light. Thus, the display device of the present invention can be a transflective display device.
【0075】前記の課題を解決する為に、本発明に係る
他の表示装置は、複数の非線形素子及び配線群が設けら
れた基板と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面が曲
面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられ
た反射膜とを備える表示装置であって、前記凸部の輪郭
線が、湾状ないし半島状の曲線を含むことを特徴とす
る。In order to solve the above problems, another display device according to the present invention includes a substrate provided with a plurality of nonlinear elements and a group of wirings, a plurality of substrates provided on the substrate and having a curved surface. A display device comprising a convex portion and a reflective film provided on the substrate having the convex portion, wherein a contour of the convex portion includes a bay-shaped or peninsula-shaped curve.
【0076】前記の構成によれば、凸部が設けられてい
ない部分(隙間部)と、凸部との境界線(輪郭線)は、
一定の方向ではなく様々な方向に向いているので、散乱
性に優れた反射特性を発揮し、視認方向によらず一定の
輝度で画像を表示できる表示装置を提供することができ
る。According to the above configuration, the boundary line (contour line) between the portion where no convex portion is provided (gap portion) and the convex portion is
Since the display device is oriented not in a fixed direction but in various directions, it is possible to provide a display device that exhibits a reflection characteristic with excellent scattering properties and can display an image with a fixed luminance regardless of the viewing direction.
【0077】又、前記凸部の平面形状は不定形であり、
かつ前記凸部と凸部の間に設けられている隙間部の少な
くとも一部は網目状又は不定形状に設けられていてもよ
い。The planar shape of the projection is indefinite.
In addition, at least a part of the gap provided between the protrusions may be provided in a mesh shape or an irregular shape.
【0078】更に、前記凸部の輪郭線が少なくとも1つ
以上の閉じた曲線をなしており、前記曲線に沿って基板
面上に描いた接線を、画素の長辺方向を0度とする傾き
角で表したとき、前記曲線を周回したときの前記傾き角
の増加から減少又は減少から増加への変化が、少なくと
も3回以上である構成であってもよい。Further, the contour line of the convex portion forms at least one closed curve, and a tangent drawn on the substrate surface along the curve is inclined such that the long side direction of the pixel is 0 degree. When the angle is represented by an angle, the inclination angle may be changed from an increase to a decrease or from a decrease to an increase at least three times around the curve.
【0079】その上、前記凸部の輪郭線のうち、少なく
とも1つ以上が、曲線又は直線を有する不定形の二次元
閉領域をなしている構成であってもよい。Further, at least one or more of the contours of the convex portion may form an irregular two-dimensional closed region having a curve or a straight line.
【0080】又、前記凸部の輪郭線は、前記信号線に対
して角度を有する曲線又は直線を含んでいてもよい。Further, the contour of the projection may include a curve or a straight line having an angle with respect to the signal line.
【0081】この構成により、凸部の輪郭線を一定の方
向とせず様々な方向に向けることができ、散乱性が高く
良好な反射特性を実現することができる。According to this configuration, the contour of the convex portion can be directed in various directions instead of a fixed direction, and a high scattering property and good reflection characteristics can be realized.
【0082】(凹凸構造体)前記の課題を解決する為
に、本発明に係る凹凸構造体は、基板と、前記基板上に
複数設けられ、かつ表面が曲面状の凸部とを有する凹凸
構造体であって、前記凸部の平面形状は非円形であり、
前記凸部の平面形状に於ける輪郭線を微小な線分に区切
った場合に、各線分の方向が全方位又は所定の方位に向
いていることを特徴とする。(Uneven Structure) In order to solve the above problem, an uneven structure according to the present invention includes an uneven structure having a substrate and a plurality of convex portions provided on the substrate and having a curved surface. Wherein the planar shape of the convex portion is non-circular,
When the contour line in the planar shape of the projection is divided into minute line segments, the direction of each line segment is oriented in all directions or a predetermined direction.
【0083】前記構成の凹凸構造体は、各線分の方向が
全方位に向いている場合には、散乱性に優れた反射板と
して適用できる。その一方、各線分の方向が所定の方位
に向いている場合には、光を一定の方向に集光させる集
光板として適用することもできる。The concave-convex structure having the above structure can be applied as a reflector having excellent scattering properties when each line segment is oriented in all directions. On the other hand, when the direction of each line segment is oriented in a predetermined direction, it can be applied as a light collector for condensing light in a certain direction.
【0084】ここで、前記凹凸構造体は、凸部と凸部の
間に隙間部が設けられており、前記隙間部は所定幅の曲
線及び/又は折れ線を含む構成であってもよい。Here, the concavo-convex structure may be provided with a gap between the projections, and the gap may include a curve and / or a polygonal line having a predetermined width.
【0085】又、前記凹凸構造体は、凸部の輪郭線が、
湾状ないし半島状の曲線を含む構成であってもよい。Further, in the uneven structure, the contour of the projection is
A configuration including a bay-shaped or peninsula-shaped curve may be used.
【0086】更に、前記凹凸構造体は、凸部の平面形状
が不定形であり、かつ前記凸部と凸部の間に設けられて
いる隙間部の少なくとも一部が網目状又は不定形状に設
けられている構成であってもよい。Further, in the uneven structure, the planar shape of the convex portion is irregular, and at least a part of the gap provided between the convex portions is formed in a mesh or irregular shape. Configuration may be used.
【0087】その上、前記凹凸構造体は、前記凸部の輪
郭線が少なくとも1つ以上の閉じた曲線をなしており、
前記曲線に沿って基板面上に描いた接線を、所定の方向
を0度とする傾き角で表したとき、前記曲線を周回した
ときの前記傾き角の増加から減少又は減少から増加への
変化が、少なくとも3回以上である構成であってもよ
い。In addition, in the concave-convex structure, at least one contour line of the convex portion forms a closed curve,
When a tangent drawn on the substrate surface along the curve is represented by a tilt angle with a predetermined direction being 0 degrees, a change from an increase to a decrease or from a decrease to an increase in the tilt angle when circling the curve. May be at least three times.
【0088】更にその上、前記凹凸構造体は、前記凸部
の輪郭線のうち、少なくとも1つ以上が、曲線又は直線
を有する不定形の二次元閉領域をなしている構成であっ
てもよい。Further, the uneven structure may have a configuration in which at least one or more of the contours of the convex portions form an irregular two-dimensional closed region having a curve or a straight line. .
【0089】[0089]
【発明の実施の形態】(実施の形態1)本発明の実施の
一形態について、以下に説明する。図1(a)は、本実
施の形態に係る反射板を示す平面図である。図1(b)
は、前記反射板の要部を示す平面図である。図1(c)
は、従来の反射板の要部を示す平面図である。図2は、
反射板に於ける凸部を模式的に示す説明図である。(Embodiment 1) An embodiment of the present invention will be described below. FIG. 1A is a plan view showing a reflector according to the present embodiment. FIG. 1 (b)
FIG. 3 is a plan view showing a main part of the reflection plate. FIG. 1 (c)
FIG. 7 is a plan view showing a main part of a conventional reflector. FIG.
It is explanatory drawing which shows the convex part in a reflection plate typically.
【0090】図1(a)に示すように、反射板201
は、基板と、基板上に設けられた複数の凸部202と、
凸部202を覆う様にして基板上に設けられた反射膜と
から構成されている。As shown in FIG. 1A, the reflection plate 201
Is a substrate, a plurality of convex portions 202 provided on the substrate,
And a reflective film provided on the substrate so as to cover the convex portion 202.
【0091】前記基板としては、例えばガラスなどの絶
縁性を有するものを使用することができる。As the substrate, for example, a substrate having an insulating property such as glass can be used.
【0092】前記凸部202は、その表面が滑らかな曲
面状となっている。又、凸部202は、各々非円形で、
かつ不定形な平面形状を有している。各凸部202は基
板上に不規則な位置に設けられると共に、各凸部202
は相互に独立している。これにより、凸部202が規則
的に配列した繰り返しパターンに起因して発生する光の
干渉を抑制でき、反射光の色づき現象の発生を抑制する
ことができる。又、凸部202の平面形状も2種類以上
用いて組み合わせ、それぞれ回転させたりして不規則に
配置されている。凸部202と凸部202との間には、
基板面が露出した隙間部203が形成されている。隙間
部203は、所定幅の曲線及び/又は折れ線を含み構成
されている。The convex portion 202 has a smooth curved surface. Also, the convex portions 202 are each non-circular,
And it has an irregular planar shape. Each protrusion 202 is provided at an irregular position on the substrate, and each protrusion 202
Are independent of each other. Accordingly, it is possible to suppress interference of light generated due to a repetitive pattern in which the convex portions 202 are regularly arranged, and to suppress occurrence of a coloring phenomenon of reflected light. Also, two or more kinds of planar shapes of the convex portions 202 are used, combined, and rotated, respectively, so as to be irregularly arranged. Between the convex portion 202 and the convex portion 202,
A gap 203 where the substrate surface is exposed is formed. The gap 203 includes a curve and / or a polygonal line having a predetermined width.
【0093】凸部202の等高線207は、凸部202
が設けられていない隙間部203と凸部202との境界
線(輪郭線)204の形状に概ね則している。凸部20
2の表面は、熱溶融により輪郭線204に沿って角部が
滑らかに変形させたものである為、曲面の向きは輪郭線
204に依存する。The contour line 207 of the convex portion 202 is
This is roughly based on the shape of the boundary line (contour line) 204 between the gap portion 203 and the convex portion 202 where no is provided. Convex part 20
Since the surface of No. 2 has its corners smoothly deformed along the contour 204 by heat melting, the direction of the curved surface depends on the contour 204.
【0094】凸部202の平面形状は、特に限定される
ものではないが、巨視的には、X方向(表示画面の横方
向)の最大長さW1と、Y方向(表示画面の縦方向)の
最大長さL1との比が概ね1:1となる様に設けられて
いる(図1(a))。凸部202の平面形状を非円形
で、かつ不定形としたのは、以下の理由による。Although the planar shape of the convex portion 202 is not particularly limited, macroscopically, the maximum length W 1 in the X direction (horizontal direction of the display screen) and the Y direction (vertical direction of the display screen) ) Is provided so that the ratio to the maximum length L 1 is approximately 1: 1 (FIG. 1A). The reason why the planar shape of the convex portion 202 is made non-circular and irregular is as follows.
【0095】図1(c)に示すように、凸部205の平
面形状が円形であると、反射板は光を全方位に拡散反射
(散乱)させたい場合に於いては、理想的な反射特性を
示す。しかし、円形の凸部205を基板上に複数設けた
場合、最密充填的に凸部205を配列しても、凸部間に
は比較的面積の大きい平坦な隙間部206が形成されて
しまう。これに対して、本実施の形態の様に凸部の平面
形状が不定形であると、隙間部203は、所定幅の曲線
及び/又は折れ線を含む構成とすることができる。つま
り、平坦な隙間部の面積を最小限に抑制できる。この結
果、光の正反射を低減し、表示画面に於ける光源の映り
込みを抑制することができる。As shown in FIG. 1C, when the convex portion 205 has a circular plane shape, the reflecting plate has an ideal reflection when it is desired to diffuse and reflect (scatter) light in all directions. Show characteristics. However, when a plurality of circular protrusions 205 are provided on the substrate, even if the protrusions 205 are arranged in a close-packed manner, a flat gap 206 having a relatively large area is formed between the protrusions. . On the other hand, if the planar shape of the convex portion is indefinite as in the present embodiment, the gap portion 203 can be configured to include a curve and / or a polygonal line having a predetermined width. That is, the area of the flat gap can be minimized. As a result, specular reflection of light can be reduced, and reflection of a light source on a display screen can be suppressed.
【0096】更に、凸部202の平面形状は、正反射防
止の点に加えて、散乱性向上の点からも形状制御がなさ
れている。即ち、図1(b)に示す様に、凸部205の
輪郭線204を微小な線分204a、204b、204
c…に区切って考える。このとき、各線分204a、2
04b、204c…が近似的に向いている方向は、ある
方位に偏在しないで、全体として全方位に均等に向く様
に決定されている。この様に、輪郭線に於ける微小線分
が全方位に均等に向いていると、光の拡散性は凸部の平
面形状が円形の場合とほぼ同様とすることができる。つ
まり、本実施の形態に係る反射板は、反射光を全方位に
散乱させて、見る方向によって輝度が一定となる様に均
等拡散性を向上させている。Further, the planar shape of the convex portion 202 is controlled not only for preventing regular reflection but also for improving scattering. That is, as shown in FIG. 1B, the contour line 204 of the convex portion 205 is divided into minute line segments 204a, 204b, 204.
Think c. At this time, each line segment 204a, 2
The directions in which 04b, 204c... Are approximately oriented are determined so as not to be unevenly distributed in a certain direction, but to be uniformly oriented in all directions as a whole. As described above, when the minute line segments in the contour line are uniformly oriented in all directions, the light diffusivity can be made substantially the same as when the planar shape of the convex portion is circular. In other words, the reflector according to the present embodiment scatters the reflected light in all directions, and improves the uniform diffusion so that the luminance is constant depending on the viewing direction.
【0097】尚、各線分204a、204b、204c
…は、それらがほぼ直線状と見なせる距離毎に区切られ
た線分である。直線状と見なせれば、線分の方向が決定
できるからである。凸部202はマスク露光により形成
されるので、各線分の長さは露光限界に起因して決定さ
れる。即ち、マスク露光よるパターニングでは、1μm
以下の長さの曲線を形成することができない。よって、
マスク露光により形成される凸部202に於いては、輪
郭線204を1μm程度で区切ると、各線分はほぼ直線
状と見なすことができる。つまり、前記線分204a、
204b、204c…は輪郭線204を1μm程度で区
切ることにより得られた線分である。The line segments 204a, 204b, 204c
.. Are line segments separated by distances that can be regarded as substantially linear. This is because the direction of the line segment can be determined if it can be regarded as a straight line. Since the convex portion 202 is formed by mask exposure, the length of each line segment is determined based on the exposure limit. That is, in patterning by mask exposure, 1 μm
Curves of the following lengths cannot be formed: Therefore,
In the convex portion 202 formed by the mask exposure, when the outline 204 is divided by about 1 μm, each line segment can be regarded as substantially linear. That is, the line segment 204a,
.. Are line segments obtained by dividing the outline 204 by about 1 μm.
【0098】又、凸部202の高さH(μm)は、例え
ば反射板を液晶表示装置に適用した場合に、セルギャッ
プを3μm〜10μmの範囲で設定すると、1.2μm
〜4μmの範囲内であることが好ましい。又、凸部20
2の接触角θは10度〜25度の範囲内であることが好
ましい。尚、接触角とは、凸部202の表面と、基板面
とが接触線に於いてなす角を意味する(図2)。The height H (μm) of the convex portion 202 is 1.2 μm when the cell gap is set in a range of 3 μm to 10 μm, for example, when the reflection plate is applied to a liquid crystal display device.
It is preferable that the thickness be in the range of 44 μm. Also, the projection 20
2 is preferably in the range of 10 degrees to 25 degrees. Here, the contact angle means an angle formed between the surface of the convex portion 202 and the substrate surface in a contact line (FIG. 2).
【0099】凸部202のY方向(表示画面に於ける縦
方向に相当)の最大長さL1とX方向(表示画面に於け
る横方向に相当)の最大長さW1の比はほぼ1:1とな
る様に設けられている。又、凸部202の最大寸法Φ
(μm)は、15μm〜40μmの範囲内であることが
好ましい。最大寸法Φが15μmより小さいと、凸部2
02の高さが1.2μm以上では接触角が高くなるとい
う不都合を生じる。最大寸法Φが40μmより大きい
と、膜厚4.0μm以下では凸部202の断面形状が台
形となり、凸部202の上部が平坦化されるという不都
合を生じる。The ratio between the maximum length L 1 of the convex portion 202 in the Y direction (corresponding to the vertical direction on the display screen) and the maximum length W 1 in the X direction (corresponding to the horizontal direction on the display screen) is almost the same. It is provided so as to be 1: 1. Also, the maximum dimension Φ of the convex portion 202
(Μm) is preferably in the range of 15 μm to 40 μm. If the maximum dimension Φ is smaller than 15 μm,
If the height of O.sub.2 is 1.2 .mu.m or more, there is a disadvantage that the contact angle is increased. When the maximum dimension Φ is larger than 40 μm, when the film thickness is 4.0 μm or less, the cross-sectional shape of the convex portion 202 becomes trapezoidal, which causes a problem that the upper portion of the convex portion 202 is flattened.
【0100】又、凸部202の最大寸法と高さの比は、
5倍〜20倍の範囲内であることが好ましい。又、凸部
202は、1×104μm2の範囲内に約30個以下で分
布しているのが好ましい。凸部202の分布が30個よ
り多いと、分布に規則性が生じ、繰り返し構造となる。
その結果、光の干渉が発生し、反射光の色づき現象が視
認されるので好ましくない。更に、1画素内にTFTや
コンタクトホール等を設けることが必要な場合には、前
記数値範囲を越えると凸部202を個々に独立して形成
するのが困難となる。The ratio between the maximum size and the height of the convex portion 202 is as follows.
It is preferable to be within the range of 5 times to 20 times. Further, it is preferable that about 30 or less convex portions 202 are distributed within a range of 1 × 10 4 μm 2 . If the distribution of the projections 202 is more than 30, regularity is generated in the distribution, and the distribution becomes a repeating structure.
As a result, interference of light occurs, and the coloring phenomenon of reflected light is visually recognized, which is not preferable. Further, when it is necessary to provide a TFT, a contact hole, and the like in one pixel, it is difficult to form the projections 202 independently if the numerical range is exceeded.
【0101】隙間部203の幅は、好ましくは1μm以
上、10μm以下であり、より好ましくは2μm〜10
μmの範囲内であり、特に好ましくは4μm〜8μmの
範囲内である。隙間部203の幅の最小値は、露光限界
により決定される。その一方、隙間部203の幅が10
μmより大きい場合には、正反射する光が増加して表示
画面に映り込みが発生するという不都合を生じる。The width of the gap 203 is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 2 μm to 10 μm.
It is in the range of μm, particularly preferably in the range of 4 μm to 8 μm. The minimum value of the width of the gap 203 is determined by the exposure limit. On the other hand, the width of the gap 203 is 10
If it is larger than μm, the light reflected specularly increases, causing a problem that the image is reflected on the display screen.
【0102】又、隙間部203の幅は、熱処理の際の温
度分布や、形状による熱変形度合いの影響を考慮する
と、少なくとも1μm必要である。基板上の隙間部20
3の面積を多くすると、平坦部の割合が増加する。よっ
て、凸部202の最大幅を大きくすることにより、隙間
部203の影響を相対的に小さくすることができる。具
体的には、凸部202の最大幅を隙間部203の幅の5
倍以上にすると、平坦部の割合を少なくできる。しか
し、凸部202の最大幅を隙間部203の幅の50倍以
上にすると、凸部202の上部が平坦化され、かつ低い
傾斜角の分布が増加する。よって、凸部の最大幅は、隙
間部203の幅の5倍以上50倍以下にすれば良い。The width of the gap 203 is required to be at least 1 μm in consideration of the temperature distribution during the heat treatment and the influence of the shape on the degree of thermal deformation. Clearance 20 on substrate
When the area of No. 3 is increased, the ratio of the flat portion increases. Therefore, by increasing the maximum width of the protrusion 202, the influence of the gap 203 can be relatively reduced. Specifically, the maximum width of the projection 202 is set to 5 times the width of the gap 203.
If it is twice or more, the ratio of the flat portion can be reduced. However, when the maximum width of the convex portion 202 is 50 times or more the width of the gap portion 203, the upper portion of the convex portion 202 is flattened and the distribution of the low inclination angle increases. Therefore, the maximum width of the convex portion may be set to 5 times or more and 50 times or less of the width of the gap 203.
【0103】本実施の形態に係る反射板は以下の様にし
て作製する。図3(a)〜図3(e)は、本実施の形態
に係る反射板の製造工程を示す説明図である。図4
(a)は、従来の反射板の製造工程に於いて使用するフ
ォトマスクの概略を示す平面図である。図4(b)は、
本実施の形態に係る反射板の製造工程に於いて使用する
フォトマスクの概略を示す平面図である。図5は、反射
板に於ける凸部の傾斜角と、その存在確率との関係を示
すグラフである。The reflector according to the present embodiment is manufactured as follows. FIG. 3A to FIG. 3E are explanatory views showing the steps of manufacturing the reflector according to the present embodiment. FIG.
(A) is a top view which shows the outline of the photomask used in the manufacturing process of the conventional reflector. FIG. 4 (b)
It is a top view which shows the outline of the photomask used in the manufacturing process of the reflection plate which concerns on this Embodiment. FIG. 5 is a graph showing the relationship between the inclination angle of the convex portion in the reflector and the existence probability thereof.
【0104】先ず、図3(a)に示すように、ガラス基
板211上に、アクリル系のポジ型のフォトレジスト
(商品名:PC403、JSR社製)をスピンコートし
てレジスト層(樹脂層)212を形成する。レジスト層
212の形成は、スピンコート法以外にも印刷法やディ
ップ法等でも行うことができる。レジスト層212の厚
みは、例えば約2μmとする。このレジスト層212を
90℃で2分間ホットプレート上でプリベイクする。First, as shown in FIG. 3A, an acrylic positive photoresist (trade name: PC403, manufactured by JSR) is spin-coated on a glass substrate 211 to form a resist layer (resin layer). Form 212. The resist layer 212 can be formed by a printing method, a dipping method, or the like, in addition to the spin coating method. The thickness of the resist layer 212 is, for example, about 2 μm. This resist layer 212 is pre-baked on a hot plate at 90 ° C. for 2 minutes.
【0105】次に、図3(b)に示す様に、フォトマス
ク131を介してレジスト層212を露光する。ここ
で、フォトマスク131は、図4(a)に示すように、
Crからなる遮光部132が不均一に配置したマスクパ
ターンを有している。各遮光部132の平面形状は直径
約7μmの六角形状となっている。又、遮光部132間
の隙間は4μm以下の範囲内とする。尚、フォトマスク
131として、遮光部132が六角形状のマスクパター
ンを有しているマスクを使用したが、例えば特定の方位
に対して形状異方性を持たない平面形状、具体的には例
えば円に近い形状として、十二角形状のマスクパターン
を有するものも使用できる。Next, as shown in FIG. 3B, the resist layer 212 is exposed through a photomask 131. Here, the photomask 131 is, as shown in FIG.
The light-shielding part 132 made of Cr has a mask pattern that is unevenly arranged. The planar shape of each light shielding portion 132 is a hexagonal shape having a diameter of about 7 μm. Further, the gap between the light shielding portions 132 is set within a range of 4 μm or less. Note that, as the photomask 131, a mask in which the light shielding portion 132 has a hexagonal mask pattern is used. For example, a planar shape having no shape anisotropy in a specific direction, specifically, for example, a circle A shape having a dodecagonal mask pattern can also be used as the shape close to.
【0106】続いて、露光後のレジスト層212の現像
を行う。これにより、図3(c)に示すように、基板2
11上に複数のレジスト柱(柱状部)214を形成す
る。各レジスト柱214の高さは、現像速度がほぼ同じ
ことからほぼ均一になっている。現像には、例えば東京
応化(株)製の現像液NMD−3(商品名)を用いるこ
とができる。Subsequently, the exposed resist layer 212 is developed. As a result, as shown in FIG.
A plurality of resist pillars (pillars) 214 are formed on 11. The height of each resist column 214 is substantially uniform because the developing speed is substantially the same. For the development, for example, a developer NMD-3 (trade name) manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. can be used.
【0107】ここで、従来の製造方法に於いては、処理
温度150℃でレジスト柱214の熱処理工程を行って
いた。これにより、図3(d)に示すように、各レジス
ト柱214の先端部の角が熱変形して、滑らかな曲面状
を有する凸部202を形成していた。更に、凸部202
を覆う様にして、ガラス基板211上にAlを蒸着する
ことにより、反射膜216を形成する(図3(e))。
Alの形成方法としては、蒸着以外にもスパッタ法でも
よい。又、反射材料としては、Al以外にもAg、N
i、Ti又はAl/Taの合金等も使用できる。Here, in the conventional manufacturing method, the heat treatment step of the resist pillar 214 was performed at a processing temperature of 150 ° C. As a result, as shown in FIG. 3D, the corner of the tip of each resist pillar 214 was thermally deformed to form the convex portion 202 having a smooth curved surface. Further, the convex portion 202
The reflective film 216 is formed by evaporating Al on the glass substrate 211 so as to cover (FIG. 3E).
As a method for forming Al, a sputtering method may be used instead of the vapor deposition. In addition to the reflective material, Ag, N
i, Ti or an Al / Ta alloy can also be used.
【0108】しかし、従来の製造方法で形成される凸部
202の傾斜角分布について調べたところ、図5に於け
る曲線(b)に示す分布となった。0度付近の傾斜角の
存在確率が高いのは、凸部202間の隙間が熱変形で十
分に埋まらなかった為である。However, when the inclination angle distribution of the projections 202 formed by the conventional manufacturing method was examined, the distribution was as shown by the curve (b) in FIG. The existence probability of the inclination angle near 0 degree is high because the gap between the projections 202 was not sufficiently filled by thermal deformation.
【0109】そこでメルト性(熱変形した際の流動性)
の高いフォトレジスト材料を使用することにより、レジ
スト柱214間の隙間にもフォトレジストを流動させ、
その結果傾斜角0度付近の存在確率を減らすことができ
た。しかし、レジスト柱214の隙間が3μm以上ある
場合は、熱溶融だけでは隙間を埋めることができなかっ
た。これは、ガラス基板211とフォトレジストとの親
和性が低いことに起因すると考えられる。又、親和性が
小さいことから、流動性を有したフォトレジストはガラ
ス基板表面に拡張せずに、自己の持つ表面張力により厚
み方向に伸長する。その結果、形成される凸部202の
傾斜角は、13度以上と高くなった。Then, the melt property (fluidity when thermally deformed)
By using a high photoresist material, the photoresist is allowed to flow into the gaps between the resist columns 214,
As a result, the existence probability near the inclination angle of 0 degree could be reduced. However, when the gap between the resist pillars 214 was 3 μm or more, the gap could not be filled only by heat melting. This is considered to be due to the low affinity between the glass substrate 211 and the photoresist. In addition, since the affinity is low, the photoresist having fluidity does not extend to the surface of the glass substrate but extends in the thickness direction by its own surface tension. As a result, the inclination angle of the formed convex portion 202 was as high as 13 degrees or more.
【0110】反射板が理想的な反射表面を有するには、
凸部の傾斜角分布は、図5に於ける実線(a)で示すよ
うに、8度以下であることが好ましい。傾斜角が8度以
上になると、例えば液晶パネル内に入射した光は大きな
角度で反射されて外部に出射し、表示光と利用できなく
なる。又、入射光が液晶パネル内に閉じ込められて出射
しなくなる。この結果、反射板に凸部を設けても、その
凸部が反射輝度を高める様に有効に機能させることがで
きない。尚、傾斜角とは、前記図2に示すように、凸部
202に接点Pに於いて接する接線と、基板面とのなす
角を意味する。In order for the reflector to have an ideal reflecting surface,
As shown by the solid line (a) in FIG. 5, the inclination angle distribution of the convex portions is preferably 8 degrees or less. When the inclination angle is 8 degrees or more, for example, light that has entered the liquid crystal panel is reflected at a large angle and exits outside, and cannot be used as display light. Further, the incident light is confined in the liquid crystal panel and cannot be emitted. As a result, even if a convex portion is provided on the reflection plate, the convex portion cannot function effectively to increase the reflection luminance. In addition, as shown in FIG. 2, the inclination angle means an angle between a tangent line which is in contact with the projection 202 at the contact point P and the substrate surface.
【0111】これらのことから、凸部の傾斜角を8度以
下にして、しかも平坦部を少なくする為には、凸部間の
隙間が3μm以下になるように設計したマスクパターン
を用いるか、熱溶融した際にフォトレジストが基板上を
流動し易い様に基板表面を改質するか、又はフォトレジ
スト自体が流動しやすい状態にする必要がある。From these facts, in order to reduce the inclination angle of the projections to 8 degrees or less and to reduce the flat portions, it is necessary to use a mask pattern designed so that the gap between the projections is 3 μm or less. It is necessary to modify the substrate surface so that the photoresist easily flows on the substrate when melted by heat, or to make the photoresist itself flow easily.
【0112】従来の反射板の製造方法に於いて使用して
いたフォトマスク131の様に、所定の形状(たとえば
六角形)の遮光部132をランダムに分散して配置した
マスクパターンでは、レジスト柱214間の隙間を一定
値以下にする為には、最密充填に近い配置となる。しか
し、そのような規則的パターンに近くなると、光の干渉
が強く出るため、反射板が色づくという弊害が生じる。In a mask pattern in which light shielding portions 132 of a predetermined shape (for example, a hexagon) are randomly dispersed and arranged like a photomask 131 used in a conventional method of manufacturing a reflector, a resist pillar is used. In order to make the gap between 214 smaller than a certain value, the arrangement is close to the closest packing. However, when the pattern becomes close to such a regular pattern, light interference is strongly generated, which causes a problem that the reflector is colored.
【0113】そこで本実施の形態に於いては、露光工程
の際、図4(b)に示すフォトマスク221を使用す
る。フォトマスク221は、平面形状が各々不定形な遮
光部222と、各遮光部222間に設けられている透光
部223とからなる。各遮光部222は不規則にして設
けられている。又、透光部223の幅は3μm以下に設
定されている。透光部223は必ずしも均一な幅にする
必要がなく、反射板に於ける凸部間の隙間の幅により適
宜設定すればよい。透光部223の幅の好ましい範囲と
しては3μm以下であり、より好ましい範囲は1μm以
上2μm以下である。Therefore, in this embodiment, a photomask 221 shown in FIG. 4B is used in the exposure step. The photomask 221 includes a light-shielding part 222 having an irregular planar shape, and a light-transmitting part 223 provided between the light-shielding parts 222. Each light shielding portion 222 is provided irregularly. The width of the light transmitting part 223 is set to 3 μm or less. The light-transmitting portion 223 does not necessarily have to have a uniform width, and may be appropriately set according to the width of the gap between the convex portions in the reflection plate. A preferable range of the width of the light transmitting portion 223 is 3 μm or less, and a more preferable range is 1 μm or more and 2 μm or less.
【0114】熱変形状態に於ける流動性の高いフォトレ
ジストでも、加熱のみでは広がらない。従って、現像後
の各レジスト柱間の幅が3μmより大きいと、平坦部の
占める割合が大きくなる。又、露光条件によりフォトマ
スクのパターン形状よりも広がってフォトレジストに露
光されたり、或いは現像処理の際にフォトレジストが膜
減りしたりする場合も考慮すると、透光部の幅は2μm
以下にするのがより好ましい。これにより、確実にレジ
スト柱214間の隙間213を熱溶融によって埋めるこ
とができる。又透光部223の幅が狭すぎると、露光・
現像条件によっては、レジスト柱相互の離隔が不十分な
ことがあるので、幅は少なくとも1μm以上にするのが
好ましい。Even a photoresist having a high fluidity in a thermally deformed state cannot be spread only by heating. Therefore, if the width between the resist pillars after development is larger than 3 μm, the proportion of the flat portion increases. The width of the light-transmitting portion is 2 μm in consideration of the case where the photoresist is exposed to be wider than the pattern shape of the photomask depending on the exposure condition, or the photoresist is reduced in film thickness during the development process.
It is more preferable to set the following. Thereby, the gap 213 between the resist pillars 214 can be reliably filled by thermal melting. If the width of the light transmitting portion 223 is too narrow,
Depending on the development conditions, the separation between the resist columns may be insufficient, so that the width is preferably at least 1 μm or more.
【0115】さらに、マスクパターン内において、隙間
の幅を例えば1μmと2μmの2種類あるいはそれ以上
の種類を混ぜることにより、形成した反射板に於いて光
の干渉を一層低減できる。又、遮光部(又は透光部)の
形状も2種類以上用いて組み合わせ、それぞれ回転させ
たりして不規則に配置することにより反射板の色づきを
一層抑制できる。尚、遮光部等の形状及び大きさを選択
することによっても反射板の傾斜角分布を好ましいもの
に設計することができる。但し、各遮光部等の表面は熱
溶融によって傾斜角を付与する必要があるので、その面
積又は形状には制約があり、各遮光部等の面積をあまり
大きくすることは好ましくない。Further, by mixing two or more types of the width of the gap, for example, 1 μm and 2 μm in the mask pattern, the interference of light in the formed reflector can be further reduced. In addition, by combining two or more shapes of the light-shielding portion (or the light-transmitting portion) and arranging them by rotating them, the coloring of the reflector can be further suppressed. The inclination angle distribution of the reflection plate can be designed to be preferable by selecting the shape and size of the light shielding portion and the like. However, since the surface of each light-shielding portion or the like needs to be imparted with an inclination angle by thermal melting, its area or shape is restricted, and it is not preferable to make the area of each light-shielding portion or the like too large.
【0116】(実施の形態2)本実施の形態2に於いて
は、前記実施の形態1の場合と異なる反射板の製造方法
について説明する。(Embodiment 2) In Embodiment 2, a method of manufacturing a reflector different from that of Embodiment 1 will be described.
【0117】本実施の形態に係る反射板の製造方法は、
前記実施の形態1に係る反射板の製造方法と比較して、
熱溶融した際にフォトレジストが基板上を流動し易い様
に基板表面を改質した点が異なる。より詳細には、以下
の通りである。The manufacturing method of the reflector according to the present embodiment is as follows.
As compared with the manufacturing method of the reflector according to the first embodiment,
The difference is that the surface of the substrate is modified so that the photoresist easily flows on the substrate when melted by heat. More specifically, it is as follows.
【0118】図6(a)〜図6(f)は、本実施の形態
に係る反射板の製造工程を示す説明図である。先ず、前
記実施の形態1と同様にして、ガラス基板211上に、
ポジ型のフォトレジスト(アクリル系樹脂、商品名:P
C403、JSR(株)社製)をスピンコートしてレジ
スト層212を形成する(図6(a))。FIGS. 6A to 6F are explanatory views showing the steps of manufacturing the reflector according to the present embodiment. First, in the same manner as in the first embodiment, on the glass substrate 211,
Positive photoresist (acrylic resin, trade name: P
C403 (manufactured by JSR Corporation) is spin-coated to form a resist layer 212 (FIG. 6A).
【0119】次に、図6(b)に示す様に、フォトマス
ク221を介してレジスト層212を露光する。Next, as shown in FIG. 6B, the resist layer 212 is exposed through a photomask 221.
【0120】続いて、露光後のレジスト層212の現像
を行う。これにより、図6(c)に示すように、基板2
11上に複数のレジスト柱214を形成する。Subsequently, the exposed resist layer 212 is developed. As a result, as shown in FIG.
A plurality of resist pillars 214 are formed on 11.
【0121】現像後、図6(d)に示すように、複数の
レジスト柱214(レジスト柱214とレジスト柱21
4の隙間間隔は約4μm)が形成された基板211上に
フォトレジストとの親和性を高める処理剤224を塗布
する。After the development, as shown in FIG. 6D, a plurality of resist pillars 214 (the resist pillars 214 and the resist pillars 21) are formed.
The processing agent 224 for increasing the affinity with the photoresist is applied on the substrate 211 on which the gap 4 is about 4 μm).
【0122】処理剤224は、下記一般式(1)で表さ
れる官能基群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有
する化合物を含む。The treating agent 224 includes a compound having at least one functional group selected from the group of functional groups represented by the following general formula (1).
【0123】[0123]
【化3】 Embedded image
【0124】(式中、Aはケイ素、ゲルマニウム、ス
ズ、チタン及びジルコニウムからなる群より選ばれる何
れか1種の原子を表し、Xはハロゲン、アルコキシ基及
びイソシアネート基からなる群より選ばれる何れかの官
能基を表している。)更に前記化合物は、フォトレジス
トとの親和性を高める為、メチル基等の親和性基を有し
ている。処理剤217を塗布すると、レジスト柱214
間の隙間部分に於いて、露出した基板面の表面エネルギ
ーが変化する。Wherein A represents any one atom selected from the group consisting of silicon, germanium, tin, titanium and zirconium, and X represents any one selected from the group consisting of halogen, alkoxy group and isocyanate group. The compound has an affinity group such as a methyl group in order to increase the affinity with the photoresist. When the processing agent 217 is applied, the resist pillar 214
The surface energy of the exposed substrate surface changes in the gap between them.
【0125】表面エネルギーが変化するのは、次の通り
である。即ち、前記化合物に於ける一般式(1)で表さ
れる官能基と、基板面に存在するOH基とが反応する
と、HXが脱離して化合物が基板面に化学吸着する。こ
の結果、隙間部分の基板面に被膜が形成される。一方、
基板面に吸着した化合物は、フォトレジストに対して親
和性を示す親和性基を備えている為、これにより基板面
の表面エネルギーが変化する。The surface energy changes as follows. That is, when the functional group represented by the general formula (1) in the compound reacts with the OH group present on the substrate surface, HX is eliminated and the compound is chemically adsorbed on the substrate surface. As a result, a film is formed on the substrate surface in the gap. on the other hand,
Since the compound adsorbed on the substrate surface has an affinity group showing an affinity for the photoresist, the surface energy of the substrate surface is changed by this.
【0126】前記処理剤224としては、具体的にはヘ
キサメチルジシラザン(商品名:OAP、東京応化
(株)製)、メチルトリクロロシラン、シクロヘキシル
トリクロロシラン等が例示できる。Examples of the treating agent 224 include hexamethyldisilazane (trade name: OAP, manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.), methyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane and the like.
【0127】処理剤224の塗布後、レジスト柱214
の熱処理を行うと、図6(e)に示すように、先端形状
が丸みを帯びた曲面を有する凸部202が形成される。
又、レジスト柱214間の、基板211の表面が露出し
ている隙間は、フォトレジストに対して親和性が高くな
っているので、熱溶融したフォトレジストは隙間を埋め
る様に、基板211表面を拡張しながら流動していく。
その結果、4μm程度あった隙間を埋めることができ、
凸部202に於ける傾斜角を小さくして理想に近い傾斜
角分布が得られる。After the treatment agent 224 is applied, the resist column 214
As shown in FIG. 6E, the convex portion 202 having a curved surface with a rounded tip is formed as shown in FIG.
In addition, since the gap between the resist pillars 214 where the surface of the substrate 211 is exposed has a high affinity for the photoresist, the hot-melt photoresist fills the gap so as to fill the gap. It flows while expanding.
As a result, the gap of about 4 μm can be filled,
By making the inclination angle at the convex portion 202 small, an ideal inclination angle distribution can be obtained.
【0128】最後に複数の凸部202を形成した基板2
11上にAlを蒸着して、図6(f)に示すように、反
射膜225を形成した。Alを用いた反射膜225の形
成方法としては、蒸着以外にもスパッタ法等を採用する
ことができる。又、反射膜材料としては、Al以外にも
Ag、Ni、Ti、又はAlとTaの合金等を使用でき
る。Finally, the substrate 2 on which the plurality of projections 202 are formed
Al was deposited on the substrate 11 to form a reflective film 225 as shown in FIG. As a method for forming the reflective film 225 using Al, a sputtering method or the like can be adopted other than the vapor deposition. In addition, Ag, Ni, Ti, an alloy of Al and Ta, or the like, other than Al, can be used as the reflective film material.
【0129】以上の様な方法で反射板を作製すると、同
一体積のレジスト柱214を熱溶融させて変形させるの
で、熱処理温度を設定するだけで、再現性よく傾斜角が
制御された凸部を形成できる。又、レジストの現像処理
を途中で止めることによってレジスト柱間の隙間にもレ
ジスト層を残す従来の方法と異なり、本実施の形態に於
いては除去すべき部分は完全に取り除ければよい。従っ
て、露光条件及び現像条件は、少なくとも除去すべき部
分を完全に取り除けることができる条件さえ満たしてい
れば、正確に制御する必要もない。つまり、製造条件の
範囲の緩和ができる。When the reflection plate is manufactured by the above-described method, the resist column 214 having the same volume is melted by heat and deformed. Therefore, only by setting the heat treatment temperature, the convex portion whose inclination angle is controlled with good reproducibility can be obtained. Can be formed. Also, unlike the conventional method in which the resist developing process is stopped halfway to leave the resist layer also in the gap between the resist pillars, in the present embodiment, the portion to be removed may be completely removed. Therefore, it is not necessary to precisely control the exposure condition and the development condition as long as at least the condition capable of completely removing the portion to be removed is satisfied. That is, the range of manufacturing conditions can be relaxed.
【0130】この様にして得られた反射板について、そ
の傾斜角分布及び反射特性を調べた。その結果、傾斜角
分布は、図5で示す曲線(c)の様に、ほぼ理想的な傾
斜角分布に近かった。又、反射特性は、次のようにして
調べた。即ち、反射板上に液晶層と光透過率等が等価な
透明層を設け、更に透明層上にOD値0.1のNDフィ
ルターを配置した。この状態で、入射光の反射板に対す
る入射角が0度、即ち反射板正面としたときの散乱強度
を測定した。その結果を図12に示す。図7は、入射角
度とゲインとの関係を示すグラフである。本実施の形態
に係る反射板であると、その反射特性は曲線(a)で表
される様な特性であることが分かった。即ち、曲線
(a)で表される反射特性によれば、−25度〜25度
の範囲でゲインが一定以上の値を示し、反射板は明るく
光反射させることが分かる。尚、図7に示すゲインは、
BaSO4反射強度を1としたときの比である。The reflection angle distribution and reflection characteristics of the thus obtained reflector were examined. As a result, the inclination angle distribution was almost close to the ideal inclination angle distribution as shown by the curve (c) shown in FIG. The reflection characteristics were examined as follows. That is, a transparent layer having the same light transmittance as that of the liquid crystal layer was provided on the reflection plate, and an ND filter having an OD value of 0.1 was further disposed on the transparent layer. In this state, the scattering intensity when the incident angle of the incident light with respect to the reflector was 0 degree, that is, when the incident light was in front of the reflector was measured. FIG. 12 shows the result. FIG. 7 is a graph showing the relationship between the incident angle and the gain. In the case of the reflector according to the present embodiment, it was found that the reflection characteristics were as shown by the curve (a). That is, according to the reflection characteristic represented by the curve (a), the gain shows a value equal to or more than a certain value in the range of -25 degrees to 25 degrees, and it is understood that the reflection plate reflects light brightly. The gain shown in FIG.
This is a ratio when the BaSO 4 reflection intensity is set to 1.
【0131】参考までに、前記実施の形態1に於いて述
べた従来の反射板の反射特性についても、図7に併記す
る(曲線(b))。曲線(b)で表される反射特性であ
ると、正反射方向はゲインが大きく、明るいことが分か
る。しかし、その他の範囲ではゲインが極端に小さくな
り暗いという結果になった。又、±40度付近では、従
来の反射板の方が本実施の形態に係る反射板よりも明る
いが、ゲインそのものが小さい為、視覚的には効果がな
かった。For reference, the reflection characteristics of the conventional reflector described in the first embodiment are also shown in FIG. 7 (curve (b)). With the reflection characteristic represented by the curve (b), it can be seen that the gain is large and bright in the regular reflection direction. However, in other ranges, the gain was extremely small, resulting in darkness. At around ± 40 degrees, the conventional reflector was brighter than the reflector according to the present embodiment, but the gain itself was small, so that there was no visual effect.
【0132】次に、本実施の形態に係る反射板は、反射
型液晶表示装置等に適用できる。図8は、本実施の形態
に係る反射型液晶表示装置を示す断面図である。Next, the reflection plate according to the present embodiment can be applied to a reflection type liquid crystal display device and the like. FIG. 8 is a sectional view showing the reflective liquid crystal display device according to the present embodiment.
【0133】同図に示すように、反射型液晶表示装置
は、基板211と、対向基板226(表示面側)と、基
板211及び対向基板226間に挟持された液晶層22
7とを有する。As shown in the figure, the reflection type liquid crystal display device comprises a substrate 211, a counter substrate 226 (display surface side), and a liquid crystal layer 22 sandwiched between the substrate 211 and the counter substrate 226.
And 7.
【0134】基板211は、本実施の形態に係る反射板
に於いて、更にTFT及び配向膜等(図示しない)を備
えた構成である。又、反射膜215は画素電極としての
機能も有する。The substrate 211 has a configuration in which a TFT, an alignment film, and the like (not shown) are further provided in the reflection plate according to the present embodiment. Further, the reflection film 215 also has a function as a pixel electrode.
【0135】対向基板226の内側面には、カラーフィ
ルター228が設けられている。カラーフィルター22
8の内側には、インジウム錫酸化物(ITO:Indium T
in Oxide)からなる透明電極229が設けられている。
又、対向基板226は透光性を有する基板である。又、
液晶層227は、所定の液晶材料を含んで構成される。A color filter 228 is provided on the inner surface of the counter substrate 226. Color filter 22
Indium tin oxide (ITO: Indium T)
In Oxide), a transparent electrode 229 is provided.
The counter substrate 226 is a light-transmitting substrate. or,
The liquid crystal layer 227 includes a predetermined liquid crystal material.
【0136】上記の様な構成の反射型液晶表示装置は、
携帯電話や小型パーソナルコンピュータ等の市場に於い
て需要がある。しかし、各種の製品に於いて求められる
反射特性が異なる為、全ての製品に一律に同一の反射特
性を有する反射型液晶表示装置が適用されるものではな
い。例えば、携帯電話の様に表示面の角度を自由に変え
られる製品は、視野角よりも高輝度であることが必要と
される。その一方、パーソナルコンピュータのディスプ
レイ等の様に、表示画面がワイドになると広視野角であ
ることが必須条件となる。よって、各種用途に応じて、
反射面の傾斜角分布を設計変更する必要が有る。この様
な製品仕様上の要求に対して、本実施の形態に係る反射
型液晶表示装置であれば、凸部形成の際のレジスト層の
厚み及び凸部のサイズを調整することで傾斜角分布を変
更できるので、前記の様な要求にも対応可能である。The reflection type liquid crystal display device having the above configuration is
There is a demand in markets such as mobile phones and small personal computers. However, since reflection characteristics required in various products are different, a reflection type liquid crystal display device having the same reflection characteristics is not applied to all products. For example, a product that can freely change the angle of the display surface, such as a mobile phone, needs to have higher brightness than the viewing angle. On the other hand, when the display screen is wide such as a display of a personal computer, a wide viewing angle is an essential condition. Therefore, depending on various applications,
It is necessary to change the design of the inclination angle distribution of the reflecting surface. In response to such demands on product specifications, the reflection type liquid crystal display device according to the present embodiment adjusts the thickness of the resist layer and the size of the convex portion when forming the convex portion, thereby adjusting the inclination angle distribution. Can be changed, so that it is possible to cope with the above-mentioned request.
【0137】尚、本実施の形態に於いては、基板に対し
親和性を付与する工程として、OAPを直接塗布する態
様について説明した。しかし、本発明はこれに限定され
るものではなく、例えば基板211をOAPの気相中に
入れることでも表面処理することができる。In the present embodiment, the mode of directly applying OAP has been described as a process for imparting affinity to a substrate. However, the present invention is not limited to this, and the surface treatment can be performed by, for example, placing the substrate 211 in the gas phase of OAP.
【0138】(実施の形態3)本実施の形態に係る反射
板の製造方法は、前記実施の形態2に係る反射板の製造
方法と比べて、基板表面に紫外線を照射することによ
り、フォトレジストを軟化させると共に、基板面とフォ
トレジストとの親和性を向上させる点が異なる。(Embodiment 3) The method of manufacturing a reflector according to the present embodiment differs from the method of manufacturing a reflector according to Embodiment 2 by irradiating the surface of the substrate with ultraviolet rays. Are different from each other in that it softens and improves the affinity between the substrate surface and the photoresist.
【0139】即ち、フォトレジストは、紫外線の照射に
よりその架橋構造が破壊されるなどして、熱変形温度が
低減する。これにより、紫外線が未照射のフォトレジス
トと比べて、熱変形が可能な状態での流動性を大きくす
ることができる。又、紫外線の照射は、レジスト柱とレ
ジスト柱との隙間に残存しているフォトレジストの残査
も同時に除去できるので、基板とフォトレジストとの親
和性も向上する。その結果、熱処理の際にフォトレジス
トが基板面を流動し易くし、良好な反射特性の反射板を
作製することができる。That is, the thermal deformation temperature of the photoresist is reduced because the crosslinked structure is destroyed by the irradiation of ultraviolet rays. This makes it possible to increase the fluidity in a state where heat deformation is possible, as compared with a photoresist that has not been irradiated with ultraviolet rays. Irradiation with ultraviolet rays can also remove the residue of the photoresist remaining in the gap between the resist pillars, thereby improving the affinity between the substrate and the photoresist. As a result, the photoresist easily flows on the substrate surface during the heat treatment, and a reflector having good reflection characteristics can be manufactured.
【0140】ここで、フォトレジストに照射する紫外線
としては、波長域が所定の範囲内にあり、かつ365n
m付近にピークを有することが好ましい。又、紫外線の
照射量を約300mJ/cm2にまで高めれば、フォト
レジストを脱色させることもできる。Here, as the ultraviolet light to be applied to the photoresist, the wavelength range is within a predetermined range and 365 n
It preferably has a peak near m. If the irradiation amount of ultraviolet rays is increased to about 300 mJ / cm 2 , the photoresist can be decolorized.
【0141】(実施の形態4)本実施の形態に係る反射
板の製造方法は、前記実施の形態2に係る反射板の製造
方法と比べて、OAPに替えて界面活性剤を用いる点が
異なる。(Embodiment 4) The method of manufacturing a reflector according to the present embodiment is different from the method of manufacturing a reflector according to Embodiment 2 in that a surfactant is used instead of OAP. .
【0142】界面活性剤を現像処理後の基板上に塗布す
ると、基板面の表面エネルギーを低下させることがで
き、その結果基板面とフォトレジストとの親和性を高め
ることができる。レジスト柱を熱溶融させ、流動性が増
すと、フォトレジストの拡張ぬれが促進される。その結
果、レジスト柱間の約3μm程度の隙間を埋めることが
できる。When a surfactant is applied on the substrate after the development processing, the surface energy of the substrate surface can be reduced, and as a result, the affinity between the substrate surface and the photoresist can be increased. When the resist pillars are thermally melted and the fluidity increases, the extended wetting of the photoresist is promoted. As a result, a gap of about 3 μm between the resist pillars can be filled.
【0143】前記界面活性剤としては、ジオクチルスル
ホコハク酸ナトリウム、ブチルナフタレンスルホン酸ナ
トリウムが例示できる。Examples of the surfactant include sodium dioctylsulfosuccinate and sodium butylnaphthalenesulfonate.
【0144】(実施の形態5)本実施の形態に係る反射
板の製造方法は、前記実施の形態2に係る反射板の製造
方法と比べて、OAPに替えてフォトレジストの溶媒中
に基板を浸漬する点が異なる。(Embodiment 5) The method of manufacturing a reflector according to the present embodiment differs from the method of manufacturing a reflector according to Embodiment 2 in that a substrate is placed in a photoresist solvent instead of OAP. The difference is that it is immersed.
【0145】フォトレジストは、前記溶媒に対して本来
的に溶解性を有している。従って、熱変形が可能な状態
のときには、レジスト柱の表層部分が基板面を一層流動
し易くできる。The photoresist is inherently soluble in the solvent. Therefore, in a state where thermal deformation is possible, the surface layer portion of the resist pillar can flow more easily on the substrate surface.
【0146】前記溶媒としては、フォトレジストの溶媒
であるジエチレングリコールエチルメチルエーテル、エ
チルセルソルブアセテート、メチルイソブチルケトンが
例示できる。Examples of the solvent include diethylene glycol ethyl methyl ether, ethyl cellosolve acetate and methyl isobutyl ketone which are photoresist solvents.
【0147】基板に溶媒を接触させる方法としては、浸
漬、スプレーによる吹き付け、溶媒が気体状態で存在す
る密閉器内に基板を載置して接触させる方法が挙げられ
る。Examples of the method for bringing the solvent into contact with the substrate include immersion, spraying by spraying, and placing the substrate in a sealed vessel in which the solvent is in a gaseous state and bringing the substrate into contact.
【0148】(実施の形態6)本実施の形態6に於いて
は、TFT素子(非線形素子)に電気的に接続された補
助容量電極上にも凸部が設けられている。フォトマスク
に於ける遮光部(又は透光部)の隙間の幅を5μmと一
定にしたところ、補助容量電極上の隙間部の幅は6μm
であり、他の領域の隙間部の幅4.5μmよりも広がる
傾向が見られた。これは、マスクを介して露光すると
き、下地にチタン層が補助容量電極として設けられてい
ることに起因する。即ち、チタン層は露光光を反射する
為、チタン層の上方の領域に於いては、他の領域よりも
露光量が多い。この為、チタン層の上方の領域では、現
像量が増加する結果、隙間部の幅が広がったものと考え
られる。(Embodiment 6) In Embodiment 6, a projection is also provided on an auxiliary capacitance electrode electrically connected to a TFT element (non-linear element). When the width of the gap between the light shielding portion (or the light transmitting portion) in the photomask is fixed at 5 μm, the width of the gap on the auxiliary capacitance electrode is 6 μm.
It was found that the width of the gap in the other region tended to be wider than 4.5 μm. This is due to the fact that the titanium layer is provided as an auxiliary capacitance electrode on the base when light is exposed through the mask. That is, since the titanium layer reflects the exposure light, the exposure amount is larger in the region above the titanium layer than in other regions. For this reason, in the region above the titanium layer, it is considered that as a result of the increase in the amount of development, the width of the gap was widened.
【0149】そこで、フォトマスクのマスクパターンに
於いて、補助容量電極が設けられている領域に対応する
部分では、遮光部(又は透光部)の幅を約3μmに狭く
した。その結果、補助容量電極上では隙間部の幅が4μ
mとなり、平坦部を減少させることができた。この結
果、散乱性を一層向上させることができた。Therefore, in the mask pattern of the photomask, the width of the light-shielding portion (or light-transmitting portion) in the portion corresponding to the region where the auxiliary capacitance electrode is provided is reduced to about 3 μm. As a result, the width of the gap is 4 μm on the auxiliary capacitance electrode.
m, and the flat portion could be reduced. As a result, the scattering properties could be further improved.
【0150】又、凸部の形状についても、補助容量電極
上の凸部と他の領域の凸部とで比較した。その結果、図
9(a)に示す様に、補助容量電極上の凸部231の頭
頂部232が平坦化していた。その一方、他の領域に於
ける凸部233では、図9(b)に示すように平坦な部
分はなく、滑らかな曲面状になっていた。そこで、補助
容量電極上の凸部の最大寸法を30μmから25μmに
小さくしたところ、頭頂部が平坦化するのを防ぐことが
できた。The shape of the projection was also compared between the projection on the auxiliary capacitance electrode and the projection in another region. As a result, as shown in FIG. 9A, the top 232 of the projection 231 on the auxiliary capacitance electrode was flattened. On the other hand, as shown in FIG. 9B, the convex portion 233 in the other region did not have a flat portion and had a smooth curved surface. Then, when the maximum dimension of the protrusion on the auxiliary capacitance electrode was reduced from 30 μm to 25 μm, the top of the head could be prevented from being flattened.
【0151】尚、補助容量電極としては、チタン、モリ
ブデン、アルミニウムなどが使用できる。これらの材料
は、各々光の反射率が異なるため、その反射率に応じて
マスク設計をする必要がある。しかし、例示した何れの
材料を用いても補助容量電極が設けられている領域では
露光量が増加するのは回避できない。よって、凸部の最
大寸法及び隙間部の幅を、他の領域よりも縮小させるこ
とにより、反射特性の良好な形状の凸部を形成すること
ができる。Incidentally, titanium, molybdenum, aluminum or the like can be used as the auxiliary capacitance electrode. Since these materials have different light reflectivities, it is necessary to design a mask according to the reflectivity. However, no matter which material is used, it is unavoidable that the exposure amount increases in the region where the auxiliary capacitance electrode is provided. Therefore, by reducing the maximum dimension of the convex portion and the width of the gap portion as compared with other regions, a convex portion having good reflection characteristics can be formed.
【0152】(実施の形態7)本実施の形態7に於いて
は、補助容量電極上に、隙間部の少なくとも一部が補助
容量電極の外周辺部に則する様に、凸部が設けられてい
る。図10は、補助容量電極上に設けられた凸部を示す
平面図である。図11は、平面視に於ける前記凸部、及
び凸部のXY線に於ける断面形状を模式的に示す説明図
である。図12は、本実施の形態に係る他の補助容量電
極の平面形状を示す平面図である。(Embodiment 7) In Embodiment 7, a projection is provided on the auxiliary capacitance electrode such that at least a part of the gap portion conforms to the outer peripheral portion of the auxiliary capacitance electrode. ing. FIG. 10 is a plan view showing a protrusion provided on the auxiliary capacitance electrode. FIG. 11 is an explanatory diagram schematically showing the convex portion in plan view and the cross-sectional shape of the convex portion along the XY line. FIG. 12 is a plan view showing a planar shape of another auxiliary capacitance electrode according to the present embodiment.
【0153】図10に示す様に、補助容量電極243
は、信号線244の上に絶縁層を介して重なるように設
けられ、補助容量を形成している。補助容量電極243
は、図示しないTFT素子(非線形素子)に電気的に接
続されている。As shown in FIG. 10, the auxiliary capacitance electrode 243
Are provided so as to overlap with the signal line 244 via an insulating layer to form an auxiliary capacitor. Auxiliary capacitance electrode 243
Are electrically connected to a TFT element (non-linear element) not shown.
【0154】補助容量電極243の上方には、凸部24
1が設けられている。凸部241には、図11に示す様
に、2つの頂部245・246がある。凸部241のそ
の他の凸部との間に形成される隙間部242は、補助容
量電極243の外周辺部に則して設けられている。Above the auxiliary capacitance electrode 243, the protrusion 24
1 is provided. The protrusion 241 has two tops 245 and 246 as shown in FIG. The gap 242 formed between the projection 241 and the other projections is provided in accordance with the outer periphery of the auxiliary capacitance electrode 243.
【0155】補助容量電極243は、2つの多角形が結
合した様な、一部に凹角を有する多角形となっている。
補助容量電極の平面形状が四角形状であると、補助容量
電極上に形成した凸部の上部は平坦な面となる。露光の
際、補助容量電極は露光光を反射する為、その上方の領
域に於いては、他の領域よりも露光量が多い。補助容量
電極の平面形状が四角形状であると、前記上方の領域で
は、均一に露光量が増大する。これにより、凸部の上部
では平坦な面が形成され、鏡面性の強い凸部が形成され
てしまう。The auxiliary capacitance electrode 243 is a polygon having a partially concave angle, such as a combination of two polygons.
When the planar shape of the auxiliary capacitance electrode is quadrangular, the upper part of the projection formed on the auxiliary capacitance electrode becomes a flat surface. At the time of exposure, the auxiliary capacitance electrode reflects the exposure light, so that the area above the auxiliary capacity electrode has a larger exposure amount than the other areas. If the planar shape of the auxiliary capacitance electrode is quadrangular, the exposure amount increases uniformly in the upper region. As a result, a flat surface is formed at the upper portion of the convex portion, and a convex portion having a strong specularity is formed.
【0156】しかし、本実施の形態の様に、補助容量電
極243の平面形状を凹角を有する形状にし、隙間部2
42を外周辺部に設けることで、熱変形の際の凸部の高
さが凹角部と凸角部で異ならせることができる。凹角部
と凸角部では、フォトレジストの体積が相違するからで
ある。その結果、図11に示す様に頂部245・246
が形成され、その結果、補助容量電極243上に於いて
も散乱性を向上させることができる。However, as in the present embodiment, the planar shape of the auxiliary capacitance electrode 243 is changed to a shape having a concave angle, and
By providing 42 in the outer peripheral portion, the height of the convex portion during thermal deformation can be made different between the concave corner portion and the convex corner portion. This is because the volume of the photoresist is different between the concave corner portion and the convex corner portion. As a result, as shown in FIG.
Is formed, and as a result, the scattering property can be improved even on the auxiliary capacitance electrode 243.
【0157】又、前記の構成であると、セルギャップが
狭い場合であっても、補助容量電極の上方に設けられた
凸部に平坦な面を形成させることなく、面内で均一なセ
ルギャップを維持することができる。Further, according to the above configuration, even when the cell gap is narrow, a uniform cell gap can be obtained without forming a flat surface on the projection provided above the auxiliary capacitance electrode. Can be maintained.
【0158】つまり、補助容量電極の形成位置が、基板
面に垂直な方向に於いて他の部位よりも高い場合には、
更に補助容量電極の上に凸部を設けると、他の領域と比
較して大きな段差が生じる。これにより、セルギャップ
が面内で不均一となる。その一方、高さの低い凸部を設
けると、平坦な面が増大し鏡面性が強くなる。しかし、
本実施の形態に係る反射板であると、高さの低い凸部で
あっても平坦な面が形成されず、しかも他の領域との段
差が大きくなることもない。That is, when the formation position of the auxiliary capacitance electrode is higher than other parts in the direction perpendicular to the substrate surface,
Further, when a projection is provided on the auxiliary capacitance electrode, a large step is generated as compared with other regions. As a result, the cell gap becomes non-uniform in the plane. On the other hand, when a convex portion having a low height is provided, a flat surface is increased, and the specularity is enhanced. But,
In the case of the reflector according to the present embodiment, a flat surface is not formed even with a convex portion having a small height, and further, a step with other regions does not become large.
【0159】又、図12に示す様に、補助容量電極25
1の内部に開口部252を設けてもよい。該補助容量電
極251の外周辺部には隙間部253が設けられてい
る。この構成により、補助容量電極251の内部に窪む
結果、該補助容量電極251の上方に設ける凸部に於い
ても凹曲面が形成され、平坦な面を一層低減させること
ができる。Also, as shown in FIG.
An opening 252 may be provided in the inside of the device 1. A gap 253 is provided on the outer periphery of the auxiliary capacitance electrode 251. With this configuration, as a result of being depressed inside the auxiliary capacitance electrode 251, a concave curved surface is also formed in the convex portion provided above the auxiliary capacitance electrode 251, and the flat surface can be further reduced.
【0160】(実施の形態8)本発明の実施の形態8に
係る反射板の製造方法について以下に説明する。本実施
の形態に係る反射板の製造方法は、前記実施の形態1に
係る反射板の製造方法と比較して、熱溶融した際にフォ
トレジストが基板上を流動し易い様に基板表面を改質し
た点が異なる。より詳細には、以下の通りである。(Embodiment 8) A method of manufacturing a reflector according to Embodiment 8 of the present invention will be described below. The manufacturing method of the reflector according to the present embodiment modifies the substrate surface so that the photoresist easily flows on the substrate when thermally melted, as compared with the manufacturing method of the reflector according to the first embodiment. The quality is different. More specifically, it is as follows.
【0161】図13(a)〜図13(f)は、本実施の
形態に係る反射板の製造工程を示す説明図である。FIGS. 13 (a) to 13 (f) are explanatory views showing the steps of manufacturing the reflector according to the present embodiment.
【0162】先ず、図13(a)に示すように、ガラス
基板301上に、ポジ型のフォトレジスト(アクリル系
樹脂、商品名:PC431、JSR(株)製)をスピン
コートしてレジスト層302を形成する。レジスト層3
02の形成は、スピンコート法以外にも印刷法やディッ
プ法等でも行うことができる。レジスト層302の厚み
は、例えば約2μmとする。このレジスト層302を9
0℃で2分間ホットプレート上でプリベイクする。First, as shown in FIG. 13A, a positive type photoresist (acrylic resin, trade name: PC431, manufactured by JSR Corporation) is spin-coated on a glass substrate 301 to form a resist layer 302. To form Resist layer 3
02 can be formed by a printing method, a dip method, or the like in addition to the spin coating method. The thickness of the resist layer 302 is, for example, about 2 μm. This resist layer 302
Prebake on a hot plate for 2 minutes at 0 ° C.
【0163】次に、図13(b)に示す様に、フォトマ
スク303を介してレジスト層302を露光する。フォ
トマスク303の要部を図14に示す。同図に示すよう
に、フォトマスク303は、平面形状が各々不定形な遮
光部311と、各遮光部311間に設けられている透光
部312とを有している。又、レジスト層302にコン
タクトホールを形成する為の透光部313も設けられて
いる。遮光部311はCrからなり、各々不規則にして
設けられている。更に、遮光部311のY方向(表示画
面に於ける縦方向に相当)の最大長さl1とX方向(表
示画面に於ける横方向に相当)の最大長さw1の比はほ
ぼ1:1となる様に設けられている。又、透光部312
の幅は約3〜5μmに設定されている。Next, as shown in FIG. 13B, the resist layer 302 is exposed through a photomask 303. FIG. 14 illustrates a main part of the photomask 303. As shown in the figure, the photomask 303 has a light-shielding portion 311 having an irregular planar shape, and a light-transmitting portion 312 provided between the light-shielding portions 311. Further, a light transmitting portion 313 for forming a contact hole in the resist layer 302 is also provided. The light shielding portions 311 are made of Cr, and are provided irregularly. Further, the ratio of the maximum length l 1 in the Y direction (corresponding to the vertical direction on the display screen) of the light shielding portion 311 to the maximum length w 1 in the X direction (corresponding to the horizontal direction on the display screen) is approximately 1 : 1 is provided. Also, the light transmitting portion 312
Is set to about 3 to 5 μm.
【0164】続いて、露光後のレジスト層302の現像
を行う。即ち、現像液中にレジスト層302が設けられ
た基板301を所定時間浸漬する。その後、基板301
を現像液から取り出し、水中に浸漬して洗浄する。これ
により、図13(c)に示すように、基板301上に複
数のレジスト柱304を形成する。現像液としては、例
えば東京応化工業(株)製の現像液NMD−3(商品
名)を用いることができる。Subsequently, the exposed resist layer 302 is developed. That is, the substrate 301 provided with the resist layer 302 is immersed in a developing solution for a predetermined time. After that, the substrate 301
Is taken out of the developer and immersed in water for washing. As a result, a plurality of resist pillars 304 are formed on the substrate 301 as shown in FIG. As the developer, for example, a developer NMD-3 (trade name) manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. can be used.
【0165】ここで、従来の製造方法に於いては、水分
を蒸発により除去し、更に処理温度150℃でレジスト
柱304の熱処理工程を行っていた。即ち、図13
(d)に示すように、各レジスト柱304の先端部の角
が熱変形して、滑らかな曲面状を有する凸部305を形
成していた。更に、凸部305を覆う様にして、ガラス
基板301上にアルミニウムを蒸着することにより、反
射膜306を形成する(図13(e))。Alの形成方
法としては、蒸着以外にもスパッタ法でもよい。又、反
射材料としては、Al以外に銀(Ag)、ニッケル(N
i)、チタン(Ti)又はAl/タンタル(Ta)の合
金等も使用できる。Here, in the conventional manufacturing method, the moisture was removed by evaporation, and the heat treatment step of the resist pillar 304 was performed at a processing temperature of 150 ° C. That is, FIG.
As shown in (d), the corner of the tip of each resist pillar 304 was thermally deformed to form a convex part 305 having a smooth curved surface. Further, a reflective film 306 is formed by evaporating aluminum on the glass substrate 301 so as to cover the convex portion 305 (FIG. 13E). As a method for forming Al, a sputtering method may be used instead of the vapor deposition. As a reflective material, silver (Ag), nickel (N
i), an alloy of titanium (Ti) or Al / tantalum (Ta), or the like can also be used.
【0166】ここで、レジスト柱304間の隙間が狭い
部分308aでは、近傍のレジスト柱304同士が熱溶
融により結合して一体化することがない。しかし、隙間
が広い部分308bでは、レジスト柱304同士が溶融
の際に結合してしまい、異なる傾斜角分布を有する凸部
310が形成される。反射板に於いて、凸部310の様
に、他の凸部305と異なる傾斜角分布を有するものが
存在すると、反射特性が基板面内で不均一となる。この
結果、反射特性が基板面内で不均一な反射板を表示装置
に適用すれば、表示画面には輝度ムラが視認される。Here, in the portion 308a where the gap between the resist pillars 304 is narrow, the neighboring resist pillars 304 are not bonded and integrated by thermal fusion. However, in the portion 308b where the gap is wide, the resist pillars 304 are joined together during melting, so that the convex portions 310 having different inclination angle distributions are formed. If there is a reflector having a different inclination angle distribution from the other protrusions 305, such as the protrusion 310, the reflection characteristics become non-uniform in the substrate surface. As a result, when a reflection plate having non-uniform reflection characteristics in a substrate surface is applied to a display device, luminance unevenness is visually recognized on a display screen.
【0167】そこで、本実施の形態に於いては、現像後
のレジスト柱304にUV硬化処理を施し、前記した近
傍のレジスト柱304同士の結合を防止する。具体的に
は、レジスト柱304にdeepUV(主波長:254
nm)を照射して硬化処理を行う(図13(f))。Therefore, in the present embodiment, the resist pillars 304 after development are subjected to a UV curing process to prevent the above-mentioned resist pillars 304 from being connected to each other. Specifically, deep UV (main wavelength: 254) is applied to the resist pillar 304.
nm) to perform a curing treatment (FIG. 13F).
【0168】レジスト柱304を構成するフォトレジス
トは、deepUVに対する吸光度が高い。従って、d
eepUV照射後のレジスト柱304の表層部分は、硬
化されている。その一方、deepUVは短波長である
為、レジスト柱304の内部は硬化されていない。つま
り、レジスト柱304の内部では、熱溶融性は初期の状
態を維持しており、この為表層部分と内部とで溶融温度
に差異が生じる。この様な状態のレジスト柱304に対
して熱処理すると、表層部分は熱溶融により一応滑らか
な曲面状となるが、硬化処理されている為、近傍のレジ
スト柱304まで流動していくことがない。これによ
り、図13(g)に示すように、相互に独立し、かつ傾
斜角分布を均一に持つ凸部307を形成することがで
き、反射輝度にムラの無い反射板を作製することができ
る。The photoresist constituting the resist pillar 304 has a high absorbance with respect to deep UV. Therefore, d
The surface layer portion of the resist pillar 304 after the irradiation of the deep UV is hardened. On the other hand, since deep UV has a short wavelength, the inside of the resist pillar 304 is not cured. That is, in the inside of the resist pillar 304, the thermal fusibility maintains the initial state, and therefore, a difference occurs in the melting temperature between the surface layer portion and the inside. When heat treatment is performed on the resist pillar 304 in such a state, the surface layer portion becomes a smooth curved surface due to heat melting, but does not flow to the neighboring resist pillar 304 because it has been hardened. Thus, as shown in FIG. 13 (g), it is possible to form the projections 307 which are independent of each other and have a uniform inclination angle distribution, and it is possible to manufacture a reflection plate having no unevenness in reflection luminance. .
【0169】deepUVを照射する為の光源としては
低圧水銀灯を用い、照射時間は例えば2分間とする。照
射時間に対するフォトレジストの熱溶融性を調べると、
照射時間が長い程熱溶融によるレジスト柱304の広が
り量が少なくなり、2分以上では一定となった。又、レ
ジスト層302の層厚が薄い(又はレジスト柱304の
高さが低い)ほど、短時間の照射でレジスト柱304の
広がり量が一定になった。よって、照射量がある量以上
では、熱溶融温度が同じ場合、照射量に依存せず同様な
形状の凸部を形成することができる。A low-pressure mercury lamp is used as a light source for irradiating deep UV, and the irradiation time is, for example, 2 minutes. Examining the thermal melting property of the photoresist with respect to the irradiation time,
The longer the irradiation time, the smaller the spread of the resist pillar 304 due to the thermal melting, and became constant after 2 minutes or more. In addition, as the thickness of the resist layer 302 was smaller (or the height of the resist pillar 304 was smaller), the spread amount of the resist pillar 304 became more constant by short-time irradiation. Therefore, when the irradiation amount is equal to or more than a certain amount, when the thermal melting temperature is the same, a convex portion having a similar shape can be formed without depending on the irradiation amount.
【0170】以上より、レジスト層302の膜厚(又は
レジスト柱304の高さ)に応じて、deepUVの照
射時間を制御すれば、それぞれの傾斜角分布が不均一な
凸部が形成されるのを防止でき、均一な反射輝度を有す
る反射板を作製することができる。又、低圧水銀灯によ
りdeepUVの照射は、脱色作用も有している。よっ
て、着色しているフォトレジストを用いた場合でも、フ
ォトレジストを脱色させることもでき、透明な凸部を形
成することが可能である。As described above, if the irradiation time of the deep UV is controlled in accordance with the thickness of the resist layer 302 (or the height of the resist pillar 304), a projection having a non-uniform inclination angle distribution can be formed. Can be prevented, and a reflector having uniform reflection luminance can be manufactured. Deep UV irradiation by a low-pressure mercury lamp also has a decolorizing effect. Therefore, even when a colored photoresist is used, the photoresist can be decolorized, and a transparent convex portion can be formed.
【0171】又、従来の反射板の製造方法によれば、1
層目のレジスト層で凸部を形成し、更に凸部上に2層目
のレジスト層を形成して、表面が滑らかな曲面状の凸部
を形成していた。しかしながら、本実施の形態に係る反
射板の製造方法によれば、2層目のレジスト層を形成し
なくても反射板を作製することができる。この結果、工
程数を削減することができ、製造コストの低減が図れ
る。Further, according to the conventional method for manufacturing a reflection plate, 1
A convex portion was formed by the first resist layer, and a second resist layer was further formed on the convex portion to form a curved convex portion having a smooth surface. However, according to the manufacturing method of the reflector according to the present embodiment, the reflector can be manufactured without forming the second resist layer. As a result, the number of steps can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced.
【0172】その上、従来の製造方法によれば、コンタ
クトホールを形成する際にも、1層目のレジスト層で形
成したコンタクトホールを、2層目のレジスト層の形成
の際に塞がない様にする為、コンタクトホール用のマス
クが必要であった。しかし、本実施の形態に係る反射板
の製造方法によれば、1層目のレジスト層で凸部及びコ
ンタクトホールの双方を同時に作製できる為、コンタク
トホール用のマスクも不要である。これにより、マスク
数を減少させることができる。In addition, according to the conventional manufacturing method, even when the contact hole is formed, the contact hole formed by the first resist layer is not blocked when the second resist layer is formed. For this purpose, a contact hole mask was required. However, according to the manufacturing method of the reflector according to the present embodiment, since both the projections and the contact holes can be simultaneously formed by the first resist layer, a mask for the contact holes is not required. Thereby, the number of masks can be reduced.
【0173】(実施の形態9)本発明の実施の形態9に
係る反射板の製造方法について以下に説明する。本実施
の形態に係る反射板の製造方法は、前記実施の形態8に
係る反射板の製造方法と比較して、deepUVによる
硬化処理に替えて、アルカリ溶液を用いてレジスト柱の
表面を硬化させる点が異なる。より詳細には、以下の通
りである。(Embodiment 9) A method for manufacturing a reflector according to Embodiment 9 of the present invention will be described below. The manufacturing method of the reflector according to the present embodiment is different from the manufacturing method of the reflector according to Embodiment 8 in that the surface of the resist pillar is hardened by using an alkali solution instead of the deep UV curing process. The points are different. More specifically, it is as follows.
【0174】本実施の形態に於いて使用するアルカリ溶
液は、TMAH(トリメチルアンモニウムハイドロオキ
サイド、商品名:NMD−3、東京応化工業(株)製)
の0.8wt%溶液である。NMD−3は、通常0.4
wt%の濃度で現像液として使用されている。The alkaline solution used in the present embodiment is TMAH (trimethyl ammonium hydroxide, trade name: NMD-3, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.).
0.8 wt% solution. NMD-3 is usually 0.4
It is used as a developer at a concentration of wt%.
【0175】0.8wt%のNMD−3でレジスト層を
現像させることにより、熱溶融の際、レジスト柱の横方
向への広がり量が低下する現象を、本願発明者等は見出
した。即ち、ポジ型のフォトレジストを用いた場合、露
光及び現像工程後に、基板上に形成されているレジスト
柱は未露光部分である。この未露光のフォトレジストに
アルカリ溶液を接触させ、両者を反応させることによ
り、レジスト柱の表層部分を硬化させたと考えられる。
その硬化の結果、表層部分では熱変形温度が大きくな
り、熱変形可能な状態での流動性を抑制することができ
た。The inventors of the present application have found out that the development of the resist layer with 0.8 wt% of NMD-3 reduces the amount of lateral expansion of the resist pillar during thermal melting. That is, when a positive photoresist is used, the resist pillars formed on the substrate after the exposure and development steps are unexposed portions. It is considered that the alkali layer was brought into contact with the unexposed photoresist and reacted with each other, thereby curing the surface layer of the resist pillar.
As a result of the hardening, the heat deformation temperature was increased in the surface layer, and the fluidity in the heat deformable state could be suppressed.
【0176】よって、本実施の形態に係る反射板の製造
方法によれば、通常の現像工程を行うだけでフォトレジ
ストのメルト性を制御できる為、前記実施の形態8の場
合と比較して製造工程数の増加を抑制することができ、
製造コストの抑制が図れる。Thus, according to the reflector manufacturing method of the present embodiment, the meltability of the photoresist can be controlled only by performing the ordinary developing step. Increase in the number of processes can be suppressed,
Production costs can be reduced.
【0177】通常、現像用のアルカリ溶液としては、p
H12前後の現像液を用いる。pH14のアルカリ溶液
中にレジスト層を浸漬すると、その後の熱処理の際にレ
ジスト柱が横方向へ広がるのを抑制できる。例えば、レ
ジスト柱とレジスト柱の間の隙間が5μmの場合には、
隙間は埋まらなかった。Usually, the alkaline solution for development is p
A developing solution of around H12 is used. If the resist layer is immersed in an alkaline solution having a pH of 14, the resist pillars can be prevented from spreading in the lateral direction during the subsequent heat treatment. For example, when the gap between the resist pillars is 5 μm,
The gap did not fill.
【0178】尚、本実施の形態に於いては、現像時のア
ルカリ現像液のpHを上げて使用する場合を例にして説
明したが、現像後にアルカリ溶液を気相状態にし、その
雰囲気下でレジスト柱に接触させる方法も採用すること
ができる。In the present embodiment, the case where the pH of the alkaline developer during development is raised and used has been described as an example. A method of contacting with a resist pillar can also be adopted.
【0179】(実施の形態10)本実施の形態に係る反
射板は、前記実施の形態1に係る反射板と比較して、凸
部の平面形状が相違している。即ち、前記実施の形態に
於いては、凸部の平面形状が、表示画面に於ける縦方向
の最大長さL1と横方向の最大長さW1の比をほぼ1:1
にした態様について説明した。これに対して、本実施の
形態に於いては、図15に示すように、凸部321の平
面形状は表示画面に於ける縦方向(Y方向)の最大長さ
L2と横方向(X方向)の最大長さW2の比を1:2にし
ている。(Embodiment 10) The reflector according to the present embodiment is different from the reflector according to Embodiment 1 in the planar shape of the projection. That is, in the above-described embodiment, the planar shape of the convex portion is such that the ratio of the maximum length L 1 in the vertical direction to the maximum length W 1 in the horizontal direction on the display screen is approximately 1: 1.
The embodiment described above has been described. In contrast, in the present embodiment, as shown in FIG. 15, the maximum length L 2 and lateral planar shape in the vertical direction on the display screen of the convex portion 321 (Y-direction) (X the maximum ratio of the length W 2 direction) 1: to 2.
【0180】前記の様に縦方向の最大長さと横方向の最
大長さとを異ならせると、凸部の傾斜角分布は図16に
示す通りとなる。図16は、凸部の傾斜角(度)と存在
確率(%)との関係を示すグラフである。同図に於ける
実線(a)は、横方向に於ける凸部の傾斜角分布を示
す。又、点線(b)は、縦方向に於ける凸部の傾斜角分
布を示す。同図から明らかな様に、横方向に於ける存在
確率のピークは、縦方向に於ける存在確率のピークより
も傾斜角の低いところにある。つまり、横方向に於いて
は、パネルの正面方向に光が反射・散乱されることが分
かる。When the maximum length in the vertical direction and the maximum length in the horizontal direction are made different from each other as described above, the inclination angle distribution of the convex portion becomes as shown in FIG. FIG. 16 is a graph showing a relationship between the inclination angle (degree) of the convex portion and the existence probability (%). The solid line (a) in the figure shows the inclination angle distribution of the convex portions in the horizontal direction. Further, the dotted line (b) shows the inclination angle distribution of the convex portion in the vertical direction. As is clear from the figure, the peak of the existence probability in the horizontal direction is at a position where the inclination angle is lower than the peak of the existence probability in the vertical direction. In other words, it can be seen that light is reflected and scattered in the horizontal direction in the front direction of the panel.
【0181】よって、本実施の形態に係る反射板である
と、表示画面の横方向に対して輝度を大きくする一方、
縦方向の輝度を小さくすることができ、反射特性に対し
て指向性を付与することができる。Therefore, with the reflector according to the present embodiment, while increasing the luminance in the horizontal direction of the display screen,
Brightness in the vertical direction can be reduced, and directivity can be given to the reflection characteristics.
【0182】本実施の形態に係る反射板を備えた反射型
液晶表示装置は、例えば携帯電話等に有用である。即
ち、携帯電話の様に縦方向に視野角が広く、横方向に視
野角が狭くても良いような商品の場合、周囲光を縦方向
に反射・散乱して、集光させられる反射板が好適であ
る。本実施の形態に係る反射板であると、反射・散乱光
に対して指向性を付与できるからである。具体的には、
反射板に於ける凸部を、縦方向に於ける最大長さと横方
向に於ける最大長さとの比が1.5以上:1となる様
に、形状制御すればよい。The reflection type liquid crystal display device provided with the reflection plate according to the present embodiment is useful for, for example, a mobile phone. That is, in the case of a product such as a mobile phone that has a wide viewing angle in the vertical direction and a narrow viewing angle in the horizontal direction, a reflecting plate that reflects and scatters ambient light in the vertical direction and condenses the light is used. It is suitable. This is because the reflector according to the present embodiment can provide directivity to reflected / scattered light. In particular,
The shape of the convex portion of the reflector may be controlled so that the ratio of the maximum length in the vertical direction to the maximum length in the horizontal direction is 1.5 or more and 1: 1.
【0183】本実施の形態に係る反射板の製造に際して
は、露光工程に於いて図17に示すフォトマスクを使用
する。同図から分かる様に、遮光部325のY方向(表
示画面に於ける縦方向に相当)の最大長さl2とX方向
(表示画面に於ける横方向に相当)の最大長さw2の比
はほぼ1:2となる様に設けられている。又、透光部3
26の幅は、2μm〜5μmとしている。In manufacturing the reflector according to the present embodiment, a photomask shown in FIG. 17 is used in the exposure step. As can be seen from the figure, the maximum length l 2 of the light shielding portion 325 in the Y direction (corresponding to the vertical direction on the display screen) and the maximum length w 2 in the X direction (corresponding to the horizontal direction on the display screen). Are provided to be approximately 1: 2. In addition, the light transmitting part 3
26 has a width of 2 μm to 5 μm.
【0184】(実施の形態11)本実施の形態に係る反
射板は、前記実施の形態1に係る反射板と比較して、透
光部を備えた半透過性の反射板である点が相違する。図
18は、本実施の形態に係る半透過性の反射板を示す断
面模式図である。(Embodiment 11) The reflecting plate according to the present embodiment is different from the reflecting plate according to the first embodiment in that it is a semi-transmissive reflecting plate having a light transmitting portion. I do. FIG. 18 is a schematic cross-sectional view showing the semi-transmissive reflector according to the present embodiment.
【0185】図18に示す様に、基板211上には、透
光性のレジスト材料からなる凸部331が複数設けられ
ている。凸部331の間に形成されている隙間部203
は、光を透過させる透光部としての機能を有する。又、
各凸部331上には反射膜332が設けられている。こ
の反射膜332は、凸部331の低位部分333には設
けられていない。As shown in FIG. 18, a plurality of projections 331 made of a translucent resist material are provided on a substrate 211. The gap 203 formed between the protrusions 331
Has a function as a light transmitting portion that transmits light. or,
A reflection film 332 is provided on each projection 331. The reflection film 332 is not provided on the lower portion 333 of the projection 331.
【0186】前記低位部分333は、凸部331の裾野
に於いて傾斜角が15度以上、90度以下の領域をい
う。傾斜角が15度以上の曲面に、入射角が50度以上
の光が到達すると、光は基板面に垂直な方向に反射され
る。従って、一層入射角の大きい光を正面方向等に反射
させることができるが、その一方、最適な傾斜角である
8度付近(この場合、入射角25度の光を垂直方向に反
射する)の存在確率が相対的に減少する。これにより、
基板面全体に於いて反射輝度が低下する。つまり、傾斜
角15度以上の低位部分333に反射膜が形成されてい
たとしても、反射特性は向上することはない。むしろ低
位部分333を透光部の一部として利用した場合の方
が、視認方向によらず反射輝度は一定とすることができ
る。The lower portion 333 refers to a region where the inclination angle is 15 degrees or more and 90 degrees or less at the foot of the projection 331. When light having an incident angle of 50 degrees or more reaches a curved surface having an inclination angle of 15 degrees or more, the light is reflected in a direction perpendicular to the substrate surface. Therefore, light with a larger incident angle can be reflected in the front direction or the like. On the other hand, light having an optimum inclination angle of around 8 degrees (in this case, light with an incident angle of 25 degrees is reflected in the vertical direction). The existence probability decreases relatively. This allows
The reflection luminance is reduced over the entire substrate surface. That is, even if the reflection film is formed on the lower portion 333 having the inclination angle of 15 degrees or more, the reflection characteristics are not improved. Rather, when the lower portion 333 is used as a part of the light transmitting portion, the reflection luminance can be made constant regardless of the viewing direction.
【0187】又、凸部331は、1×104μm2の範囲
内に約15個以下で分布しているのが好ましい。半透過
性の反射板に於いては、透光部としての隙間部203
は、画素領域の50%以上を占有する。従って、凸部3
31は前記数値範囲内であることが好ましい。凸部33
1の分布が15個より多いと、分布に規則性が生じ、繰
り返し構造となる。その結果、光の干渉が発生し、反射
光の色づき現象が視認されるので好ましくない。It is preferable that about 15 or less convex portions 331 are distributed within a range of 1 × 10 4 μm 2 . In the case of a semi-transmissive reflection plate, a gap 203 as a light-transmitting portion is provided.
Occupies 50% or more of the pixel area. Therefore, the protrusion 3
31 is preferably within the above numerical range. Convex part 33
If the number of distributions of 1 is more than 15, regularity is generated in the distribution, and the distribution becomes a repeating structure. As a result, interference of light occurs, and the coloring phenomenon of reflected light is visually recognized, which is not preferable.
【0188】(実施の形態12)本実施の形態11に於
いては、フォトマスクの形状及びレジスト層の層厚が凸
部の形状に与える影響を調べた。尚、本実施の形態に於
いては、便宜的に平面形状が円形の凸部を用いて検討し
たが、以下に於いては凸部が不定形の場合であっても同
様に論じることができる。(Embodiment 12) In Embodiment 11, the influence of the shape of the photomask and the thickness of the resist layer on the shape of the projections was examined. In the present embodiment, for the sake of convenience, a study has been made using a circular convex portion in plan view, but the following description can be similarly applied to the case where the convex portion is irregular. .
【0189】円形の遮光部を備えたフォトマスクを用い
て、それぞれ直径がそれぞれ5μm、10μm、20μ
m、30μm、40μm、50μm、60μmの凸部を
形成した。レジスト層の層厚は2μmとした。又、レジ
スト材料としては、前記実施の形態1と同様の材料を用
いた。更に、各凸部の形成過程に於いて、低圧水銀灯を
用いたdeepUVの照射時間は何れの場合も2分間と
した。その結果を図19に示す。Using a photomask having a circular light-shielding portion, diameters of 5 μm, 10 μm, and 20 μm, respectively, were used.
m, 30 μm, 40 μm, 50 μm, and 60 μm convex portions were formed. The thickness of the resist layer was 2 μm. As the resist material, the same material as in the first embodiment was used. Further, in the process of forming each projection, the irradiation time of deep UV using a low-pressure mercury lamp was set to 2 minutes in each case. The result is shown in FIG.
【0190】図19は、凸部の傾斜角と、その存在確率
との関係を示すグラフである。同グラフに於ける曲線
(a)が直径5μm、曲線(b)が直径10μm、曲線
(c)が直径30μm、曲線(d)が直径60μmにお
ける傾斜角の存在確率である。同グラフから分かるよう
に、凸部の直径が大きくなる程、凸部の傾斜角分布のピ
ークも、傾斜角の低い方へシフトした。ここで、傾斜角
5度から10度の範囲での存在確率、即ち例えば曲線
(a)に於いては斜線で示した領域(e)の面積A(傾
斜角5度から10度の範囲での積分値)が大きい程、正
面方向から±25度の範囲の反射輝度が高くなる。FIG. 19 is a graph showing the relationship between the inclination angle of a convex portion and its existence probability. In the graph, the curve (a) shows the probability of the existence of the inclination angle at a diameter of 5 μm, the curve (b) shows the diameter of 10 μm, the curve (c) shows the diameter of 30 μm, and the curve (d) shows the inclination angle at the diameter of 60 μm. As can be seen from the graph, as the diameter of the projection increases, the peak of the inclination angle distribution of the projection also shifts to a lower inclination angle. Here, the existence probability in the range of the inclination angle of 5 to 10 degrees, that is, for example, in the curve (a), the area A of the area (e) shown by the oblique line (the area A in the range of the inclination angle of 5 to 10 degrees) The larger the (integral value), the higher the reflection luminance in the range of ± 25 degrees from the front direction.
【0191】次に、各々の凸部の接触角を測定した。そ
の結果、接触角は、凸部の直径が大きくなる程小さくな
ることが分かった。更に、接触角と前記面積Aとの関係
をプロットし、図20に示すグラフが得られた。同グラ
フから明らかな様に、凸部の接触角が10度から20度
の形状であるときに面積Aが大きくなり、正面方向から
±25度の範囲の反射輝度が高いことが分かった。接触
角が20度を超えると、傾斜角の有効角度である、5度
から10度での存在確率が低くなる。以上の結果から、
接触角が凸部の傾斜角分布を決める重要な要因であるこ
とが分かった。Next, the contact angle of each projection was measured. As a result, it was found that the contact angle became smaller as the diameter of the projection became larger. Further, the relationship between the contact angle and the area A was plotted, and a graph shown in FIG. 20 was obtained. As is clear from the graph, it was found that the area A was large when the contact angle of the projection was 10 degrees to 20 degrees, and the reflection luminance in the range of ± 25 degrees from the front direction was high. If the contact angle exceeds 20 degrees, the existence probability at 5 to 10 degrees, which is the effective angle of the inclination angle, decreases. From the above results,
It has been found that the contact angle is an important factor that determines the inclination angle distribution of the projection.
【0192】尚、半透過用の反射板の場合には、基板と
凸部のなす角度が10度以上、40度以下のときに反射
面積も十分に調節でき、反射輝度を向上させることがで
きた。In the case of a semi-transmissive reflector, the reflection area can be sufficiently adjusted when the angle between the substrate and the projection is 10 degrees or more and 40 degrees or less, and the reflection luminance can be improved. Was.
【0193】接触角の制御は、レジスト層の膜厚と凸部
の最大寸法及びレジスト材料の熱的性質により行うこと
ができる。図21は、凸部の最大寸法(μm)と、5度
から10度の傾斜角に於ける存在確率(%)との関係を
示すグラフである。同図から分かるように、凸部の最大
寸法が、レジスト層の層厚(2μm)に対して5倍から
20倍であるときに、存在確率は高くなった。最大寸法
が層厚の5倍より小さいと、接触角は20度を超えて、
拡散性が高くなる。その一方、最大寸法が層厚の20倍
を超えると接触角が5度以下となり、凸部の形状が平坦
化されるため、鏡面性が高くなった。The contact angle can be controlled based on the thickness of the resist layer, the maximum size of the projection, and the thermal properties of the resist material. FIG. 21 is a graph showing the relationship between the maximum dimension (μm) of the projection and the existence probability (%) at an inclination angle of 5 to 10 degrees. As can be seen from the figure, when the maximum dimension of the projection is 5 to 20 times the thickness (2 μm) of the resist layer, the existence probability increases. If the maximum dimension is less than 5 times the layer thickness, the contact angle exceeds 20 degrees,
Diffusivity increases. On the other hand, when the maximum dimension exceeds 20 times the layer thickness, the contact angle becomes 5 degrees or less, and the shape of the convex portion is flattened, so that the mirror finish is improved.
【0194】以上より、層厚の設計値が決まれば、凸部
の最大寸法を層厚の5倍から20倍の範囲内となる様に
設定すればよりことが分かる。又、拡散性を重視する場
合には、前記数値範囲内で層厚に対する倍率を低め設定
し、反射輝度を重視する場合は、層厚に対する倍率を高
めに設定すれば、各種の仕様条件に対応した設計が可能
となる。From the above, it can be seen that, once the design value of the layer thickness is determined, it is better to set the maximum dimension of the projection to be within the range of 5 to 20 times the layer thickness. When importance is placed on the diffusivity, the magnification for the layer thickness is set to a low value within the above numerical range. It is possible to achieve a designed design.
【0195】(実施の形態13)本発明の実施の形態1
3について以下に説明する。図22は、本実施の形態1
2の反射型液晶表示装置に係る凸部を示す平面図であ
る。本実施の形態13は、1枚偏光板方式の反射型カラ
ー液晶表示装置である。図23は、前記図22の反射型
液晶表示装置に於けるA−A線矢視断面図である。(Embodiment 13) Embodiment 1 of the present invention
3 will be described below. FIG. 22 shows Embodiment 1
It is a top view which shows the convex part which concerns on 2 reflective liquid crystal display devices. The thirteenth embodiment is a reflection type color liquid crystal display device of a single polarizer type. FIG. 23 is a cross-sectional view of the reflective liquid crystal display device of FIG. 22 taken along line AA.
【0196】本実施の形態に係る反射型液晶表示装置
は、図22及び図23に示すように、絶縁性を有するガ
ラス基板からなる基板401と、これに対向する対向基
板402と、基板401及び対向基板402間に設けら
れた液晶層403とを有する構成である。基板401と
対向基板402とのセルギャップは所定の間隔となる様
に設けられている。As shown in FIGS. 22 and 23, the reflection type liquid crystal display device according to the present embodiment has a substrate 401 made of an insulating glass substrate, a counter substrate 402 opposed thereto, A liquid crystal layer 403 provided between the opposing substrates 402 is provided. The cell gap between the substrate 401 and the counter substrate 402 is provided so as to have a predetermined interval.
【0197】対向基板402の内側面には、画素毎にR
(赤)・G(緑)・B(青)の各色が対応する様に、カ
ラーフィルタ404が設けられている。更に、カラーフ
ィルタ404の内側面には、透明導電膜からなる共通電
極405が設けられている。又、対向基板402の外側
には、順に位相差板406及び偏光板407が設けられ
ている。On the inner surface of the counter substrate 402, R
A color filter 404 is provided so that each color of (red), G (green), and B (blue) corresponds. Further, a common electrode 405 made of a transparent conductive film is provided on the inner surface of the color filter 404. Further, a retardation plate 406 and a polarizing plate 407 are sequentially provided outside the counter substrate 402.
【0198】基板401上には、駆動素子412と、複
数のソース信号線413及びゲート信号線414と、複
数の凸部408とが設けられている。On the substrate 401, a driving element 412, a plurality of source signal lines 413 and gate signal lines 414, and a plurality of projections 408 are provided.
【0199】駆動素子412は、ソース端子412aを
介してソース信号線413と接続されている。又、駆動
素子412は、ゲート端子412cを介してゲート信号
線414と接続されている。The drive element 412 is connected to a source signal line 413 via a source terminal 412a. The driving element 412 is connected to the gate signal line 414 via the gate terminal 412c.
【0200】前記凸部408は相互に独立しており、近
傍の凸部408との間は基板401の表面が露出してい
る。以下、基板401の表面が露出している部分を隙間
部(底部)409とする。又、凸部408は光感光性材
料の樹脂からなる。この樹脂は、現像後の加熱工程でメ
ルトフローする性質を有する。メルトフローとは、加熱
で材料が軟化することにより、膜の表面の角が丸まった
り、膜が基板上を流動するなどの形状変化を起こす性
質、現象である。凸部408の表面は、そのメルトフロ
ーによって、滑らかな凹凸曲面となっている。その結
果、正反射方向への光反射を低減させることができ、表
示画面に於いて光源の映り込みが発生するのを抑制し、
良好な反射特性を得ることができる。尚、凹凸曲面と
は、凸部408の表面が凹曲面又は凸曲面だけの場合を
含んでいる。The projections 408 are independent of each other, and the surface of the substrate 401 is exposed between the projections 408 and the neighboring projections 408. Hereinafter, a portion where the surface of the substrate 401 is exposed is referred to as a gap (bottom) 409. The projection 408 is made of a resin of a photosensitive material. This resin has a property of melt flow in a heating step after development. Melt flow is a property or phenomenon that, when a material is softened by heating, a corner of the surface of the film is rounded or the film undergoes a shape change such as flowing on a substrate. The surface of the projection 408 has a smooth uneven surface due to the melt flow. As a result, light reflection in the regular reflection direction can be reduced, and the occurrence of reflection of the light source on the display screen is suppressed,
Good reflection characteristics can be obtained. In addition, the concave and convex curved surface includes a case where the surface of the convex portion 408 is only a concave curved surface or a convex curved surface.
【0201】又、基板401上には、凸部408及び隙
間部409を覆う様にして反射膜410が設けられてい
る。この反射膜410は、反射率の高い金属反射膜であ
るアルミニウムを0.1μmの厚みで蒸着成膜したもの
である。反射膜の材料としては、Alの他にAg、N
i、Ti又はAl/Taの合金等が使用できる。On the substrate 401, a reflection film 410 is provided so as to cover the projection 408 and the gap 409. The reflection film 410 is formed by depositing aluminum, which is a metal reflection film having a high reflectance, to a thickness of 0.1 μm. As a material of the reflection film, Ag, N
i, Ti or an alloy of Al / Ta can be used.
【0202】又、反射膜410は、画素毎に独立して設
けられている。更に、反射膜410は、前記駆動素子4
12に於けるドレイン端子412bとコンタクトホール
411を介して電気的に接続されており、画素電極を兼
ねている。コンタクトホール411は凸部408に設け
られている。この構成により、基板401上の駆動素子
412によって、画素電極を兼ねる反射膜410と共通
電極405との間に印加する電圧を変化させることがで
き、表示動作が可能となる。The reflection film 410 is provided independently for each pixel. Further, the reflection film 410 is provided on the driving element 4.
12, is electrically connected to the drain terminal 412b via the contact hole 411, and also serves as a pixel electrode. The contact hole 411 is provided in the protrusion 408. With this structure, the voltage applied between the reflective film 410 also serving as a pixel electrode and the common electrode 405 can be changed by the driving element 412 on the substrate 401, so that a display operation can be performed.
【0203】図23において、偏光板407の外側から
入射した光は、偏光板407、位相差板406、対向基
板402、カラーフィルタ404、共通電極405、液
晶層403を通過し、反射膜410で反射され、逆の経
路を通って、反射型液晶表示装置を見る人の目に入る。
このとき、液晶層403に印加する電圧を駆動素子41
2で制御することにより、光の吸収と反射を制御するこ
とができる。In FIG. 23, light incident from the outside of the polarizing plate 407 passes through the polarizing plate 407, the retardation plate 406, the counter substrate 402, the color filter 404, the common electrode 405, and the liquid crystal layer 403. The light is reflected and goes through the reverse path and enters the eyes of a person who views the reflective liquid crystal display device.
At this time, the voltage applied to the liquid crystal layer 403 is
By controlling with 2, the absorption and reflection of light can be controlled.
【0204】本発明の反射型液晶表示装置の断面におけ
る光の散乱の様子を図24に示す。図24は、反射型液
晶表示装置に入射した光の反射状態を模式的に示す断面
図である。FIG. 24 shows how light is scattered in the cross section of the reflection type liquid crystal display device of the present invention. FIG. 24 is a cross-sectional view schematically showing a reflection state of light incident on the reflection type liquid crystal display device.
【0205】図24に示す様に、反射型液晶表示装置に
入射光a、b、cを入射させると、入射光aは、大きく
後方散乱されて反射光a’となる。入射光bは平坦な隙
間部409に到達する為、正反射されて反射光b’とな
る。入射光cは、前方散乱されて反射光c’となる。こ
こで、隙間部409、即ち基板401上に反射膜410
が製膜された部分への入射光bは、基板表面で正反射
し、反射光b’となる。隙間部409の面積が大きい場
合、正反射の割合が大きくなる。この為、基板全体に対
する隙間部409の面積の割合は小さい方が良い。よっ
て、隙間部409の面積を小さくし、反射特性を確保し
ている。As shown in FIG. 24, when incident lights a, b, and c are made incident on the reflection type liquid crystal display device, the incident light a is largely backscattered and becomes reflected light a '. Since the incident light b reaches the flat gap 409, it is specularly reflected and becomes reflected light b '. The incident light c is forward scattered and becomes reflected light c ′. Here, the reflective film 410 is formed on the gap 409, that is, on the substrate 401.
Is b-reflected on the surface of the substrate and becomes reflected light b '. When the area of the gap 409 is large, the ratio of regular reflection increases. Therefore, the ratio of the area of the gap 409 to the entire substrate is preferably smaller. Therefore, the area of the gap 409 is reduced, and the reflection characteristics are secured.
【0206】図25は、凸部408の基板401の表面
からの高さを等高線415、416で示した平面図であ
る。等高線416は等高線415よりも高い位置を示
す。同図に示すように、凸部408の等高線は、凸部4
08が設けられていない隙間部409と凸部408との
境界線(凸部408の輪郭線)417の形状に概ね則し
ている。凸部408に於ける任意の微小な凹凸曲面は、
境界線417と垂直な方向、即ち境界線417の接線に
垂直な方向を向いている。凸部408の表面をメルトフ
ローなどの方法でなだらかに変形させた凸部408は、
凸部408表面が凸部408と隙間部409との境界線
417に沿って断面形状が丸く変形するために、凹凸曲
面の向きが境界線417に依存する。FIG. 25 is a plan view showing the height of the projection 408 from the surface of the substrate 401 by contour lines 415 and 416. The contour line 416 indicates a position higher than the contour line 415. As shown in the figure, the contour line of the convex portion 408 is the convex portion 4
In general, the shape of the boundary line 417 between the gap portion 409 where no 08 is provided and the convex portion 408 (the contour line of the convex portion 408). An arbitrary minute uneven surface in the convex portion 408 is
The direction is perpendicular to the boundary line 417, that is, the direction perpendicular to the tangent to the boundary line 417. The convex portion 408 obtained by gently deforming the surface of the convex portion 408 by a method such as melt flow,
Since the surface of the convex portion 408 is deformed into a round shape along the boundary line 417 between the convex portion 408 and the gap portion 409, the direction of the concave and convex curved surface depends on the boundary line 417.
【0207】図26は、A−A線上の図面の左側から入
射光a、b、cが入射したときに、反射光の進行方向を
示す平面図である。矢印の根元の丸記号は、入射光が到
達した位置を示す。このように、反射光は、A−A線上
に反射されるのではなく、a’、b’、c’の方向にそ
れぞれ反射され、光が散乱される。FIG. 26 is a plan view showing a traveling direction of reflected light when incident lights a, b, and c are incident from the left side of the drawing on the line AA. The circle symbol at the base of the arrow indicates the position where the incident light has reached. As described above, the reflected light is not reflected on the line AA, but is reflected in the directions of a ′, b ′, and c ′, and the light is scattered.
【0208】一方、隙間部が所定幅の直線状である場合
の反射特性は次の通りとなる。図27は、入射光d、
e、fが入射したときに、反射光の進行方向を示す断面
模式図である。図28は、B−B線上の図面の左側から
入射光d、e、fが入射したときに、反射光の進行方向
を示す平面図である。On the other hand, the reflection characteristics when the gap is linear with a predetermined width are as follows. FIG. 27 shows the incident light d,
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a traveling direction of reflected light when e and f are incident. FIG. 28 is a plan view showing a traveling direction of reflected light when incident lights d, e, and f are incident from the left side of the drawing on the BB line.
【0209】図27に示す様に、凸部421はY方向に
直線状に延在しており、凸部421間に形成される隙間
部422も所定幅の直線状になっている。入射光d、
e、fが反射膜410表面に到達すると、それぞれ後方
散乱、正反射、前方散乱されて、反射光d’、e’、
f’となる。よって、隙間部が所定幅の直線状の反射板
であっても、散乱性は良好な様に見える。しかし、図2
8に示す様に、反射膜410を平面視した場合、反射光
d’、e’、f’は同一平面に平行な方向にしか散乱さ
れていないことが分かる。これは、凸部421の傾斜面
が、平面視に於いて、入射光d、e、fの進行方向に対
して直角であることに起因する。よって、凸部421は
Y方向に直線状に延在した態様である場合、光の拡散性
は十分に確保されない。As shown in FIG. 27, the projections 421 extend linearly in the Y direction, and the gaps 422 formed between the projections 421 are also linear with a predetermined width. Incident light d,
When e and f reach the surface of the reflective film 410, they are backscattered, specularly reflected, and forward scattered, respectively, and reflected light d ′, e ′,
f ′. Therefore, even if the gap portion is a linear reflector having a predetermined width, the scattering property looks good. However, FIG.
As shown in FIG. 8, when the reflective film 410 is viewed in a plan view, it can be seen that the reflected lights d ′, e ′, and f ′ are scattered only in a direction parallel to the same plane. This is because the inclined surface of the convex portion 421 is perpendicular to the traveling directions of the incident lights d, e, and f in plan view. Therefore, when the convex portion 421 extends linearly in the Y direction, the light diffusivity is not sufficiently ensured.
【0210】このように、凸部表面の凹凸曲面が、入射
光の進行方向に対して向いている方向は、良好な反射特
性を確保するために重要な要素である。一方、凹凸曲面
の方向は、凸部と隙間部との境界線、即ち凸部の輪郭線
に依存して決まる。したがって、凸部の輪郭線が一定の
方向に向いている部分を極力回避することが、散乱性の
向上につながる。この様な観点から、本実施の形態に於
いては、凸部408と隙間部409との境界線が湾状な
いし半島状の曲線を含む様に、凸部408を形成するこ
とによって、良好な反射特性を実現している。As described above, the direction in which the uneven curved surface of the convex portion faces the traveling direction of the incident light is an important factor for securing good reflection characteristics. On the other hand, the direction of the concave / convex curved surface is determined depending on the boundary between the convex portion and the gap portion, that is, the contour of the convex portion. Therefore, avoiding as much as possible the portion where the contour of the convex portion is oriented in a certain direction leads to an improvement in scattering. From such a viewpoint, in the present embodiment, by forming the convex portion 408 such that the boundary line between the convex portion 408 and the gap portion 409 includes a bay-like or peninsula-like curve, Realizes reflection characteristics.
【0211】凸部408及び隙間部409について更に
詳述する。図29は、凸部408及び隙間部409を示
す平面図である。湾状の曲線とは、凸部408が水平面
上でくぼんだように形成された状態を意味する。具体的
には、図29に示すC、C’の様に、凸部がゆるやかに
弧状をなして凹んでいる状態や、D、D’のように隙間
部が大きく内側に入った状態、又、E、E’のように、
隙間部が鋭角に入りこんだ状態が例示できる。The protrusion 408 and the gap 409 will be described in more detail. FIG. 29 is a plan view showing the protrusion 408 and the gap 409. The bay-shaped curve means a state in which the convex portion 408 is formed to be concave on a horizontal plane. More specifically, as shown in C and C ′ shown in FIG. 29, a state in which the convex portion is gently concave in an arc shape, a state in which the gap portion is largely inward as in D and D ′, or , E, E ',
A state in which the gap enters an acute angle can be exemplified.
【0212】又、半島状の曲線とは、凸部が基板面上で
張り出して形成されている状態を意味する。具体的に
は、図29に示すF、F’のように、ゆるやかな弧状で
張り出している状態や、G、G’のように、凸部が大き
く張り出した状態、H、H’のように鋭角に凸部が突き
出している状態が例示できる。このように、凸部408
の輪郭線が湾状及び/又は半島状の曲線部分を含む構成
であると、凸部408表面の凹凸曲面が種々の方向を向
くため、拡散性を向上させることができる。そして、湾
状と半島状の形状を組み合わせることにより、良好な反
射特性を有する反射型液晶表示装置を実現することがで
きる。[0212] The peninsula-shaped curve means a state in which the convex portion is formed so as to protrude on the substrate surface. More specifically, as shown in F and F 'shown in FIG. 29, a state in which the protrusion protrudes in a gentle arc shape, a state in which the protrusion protrudes greatly as in G and G', and a state in which H and H 'as shown in FIG. A state in which the protrusion protrudes at an acute angle can be exemplified. Thus, the convex portion 408
Is configured to include a bay-shaped and / or peninsula-shaped curved portion, the uneven curved surface of the surface of the convex portion 408 faces various directions, so that the diffusivity can be improved. By combining the bay shape and the peninsula shape, a reflection type liquid crystal display device having good reflection characteristics can be realized.
【0213】又、凸部408の平面形状は、次の様にし
ても規定することができる。即ち、図30に示す様に、
凸部408の輪郭線417に於いて、任意の接点P,
Q,R,Sに於ける接線l1、l2、l3、l4を考える。
これらの接線l1〜l4を、Y方向(画素の長辺方向)を
0度とする傾き角で表したとき、輪郭線417を周回す
る際の前記傾き角の増加から減少又は減少から増加への
変化が、少なくとも3回以上となっている。この様な平
面形状を有する凸部408であっても、良好な反射特性
を確保することができる。The planar shape of the projection 408 can be defined as follows. That is, as shown in FIG.
In the contour line 417 of the convex portion 408, any contact points P,
Consider tangents l 1 , l 2 , l 3 , l 4 at Q, R, S.
When these tangent lines l 1 to l 4 are represented by an inclination angle with the Y direction (long side direction of the pixel) being 0 degrees, the inclination angle when circling the contour line 417 decreases or increases from the decrease. Changes to at least three times. Even with the projection 408 having such a planar shape, good reflection characteristics can be ensured.
【0214】又、輪郭線417は、Y方向に対し傾き角
がプラスからマイナスになる曲折点T、傾き角が増加し
マイナスからプラスになる曲折点U、傾き角がプラスか
らマイナスになる曲折点Vを有している。The contour line 417 is a bending point T where the inclination angle is increased from plus to minus in the Y direction, a bending point U where the inclination angle is increased and the inclination angle is increased from minus to positive, and a bending point where the inclination angle is increased from plus to minus. V.
【0215】このように、輪郭線417上に、Y方向に
対する傾き角が増加から減少、又は減少から増加へ転じ
る曲折点を3つ以上設けることにより、湾状又は半島状
の形状が組み合わされた平面形状の凸部408を形成す
ることができる。As described above, by providing three or more bending points on the contour line 417 at which the inclination angle in the Y direction changes from increasing to decreasing or from decreasing to increasing, a bay-like or peninsular-like shape is combined. The projection 408 having a planar shape can be formed.
【0216】又、前記湾状又は半島状などの形状は、図
30に示す点T、U、Vのように、画素の長辺と平行又
は垂直な方向に対して角度を有する曲線又は直線を含
む。このことにより、反射光の方向が一定とならず様々
な方向に拡散させることができ、良好な反射特性を確保
することができる。The shape such as the bay shape or the peninsula shape is obtained by forming a curve or a straight line having an angle with respect to a direction parallel or perpendicular to the long side of the pixel, as shown by points T, U and V in FIG. Including. As a result, the direction of the reflected light can be diffused in various directions without being constant, and good reflection characteristics can be secured.
【0217】又、前記基板面上で凸部が設けられていな
い部分と前記凸部との境界線のうち、少なくとも1つ以
上が、曲線又は直線を有する不定形の二次元閉領域をな
している構成でもよい。図30では、輪郭線417a、
417b、417cの3つの曲線が不定形の二次元閉領
域をなしている。この構成により、反射光の方向が一定
とならず様々な方向に拡散させることができ、良好な反
射特性を確保することができる。Further, at least one or more of the boundary lines between the portion where the convex portion is not provided and the convex portion on the substrate surface form an irregular two-dimensional closed region having a curve or a straight line. Configuration. In FIG. 30, the contour line 417a,
The three curves 417b and 417c form an amorphous two-dimensional closed region. With this configuration, the direction of the reflected light can be diffused in various directions without being constant, and good reflection characteristics can be secured.
【0218】又、同図に示す様に、各画素に設けられた
駆動素子412と、前記駆動素子412に電気的に接続
されたソース信号線413及びゲート信号線414とが
設けられている。凸部408が形成された構成では、凸
部408上の反射膜418と、ソース信号線413及び
ゲート信号線414との絶縁性を高めるという理由か
ら、各信号線上には、凸部408を連続して設けること
が望ましい。この場合、凸部408と隙間部409との
境界をなす輪郭線417cが、ソース信号線413及び
ゲート信号線414と平行又は垂直方向にあると、凸部
408の表面の向きが一定の方向になるため、良好な反
射特性を確保することができない。そこで、輪郭線41
7cを、ソース信号線413及びゲート信号線414に
対して角度を有する曲線又は直線を含む構成とすること
により、良好な反射特性を確保することができる。As shown in the figure, a driving element 412 provided for each pixel, and a source signal line 413 and a gate signal line 414 electrically connected to the driving element 412 are provided. In the configuration in which the convex portion 408 is formed, the convex portion 408 is continuously formed on each signal line because the insulating property between the reflective film 418 on the convex portion 408 and the source signal line 413 and the gate signal line 414 is improved. It is desirable to provide it. In this case, when the contour line 417c that defines the boundary between the protrusion 408 and the gap 409 is parallel or perpendicular to the source signal line 413 and the gate signal line 414, the surface direction of the protrusion 408 is fixed. Therefore, good reflection characteristics cannot be secured. Therefore, the contour 41
By forming 7c to include a curve or a straight line having an angle with respect to the source signal line 413 and the gate signal line 414, good reflection characteristics can be secured.
【0219】又、凸部408と凸部408の間に形成さ
れている隙間部409の少なくとも一部は網目状又は不
定形状(アメーバ状)であってもよい。ここで、網目状
とは、図31に示す様に、複数の不定型な凸部421が
基板上に設けられ、凸部421と凸部421との間に形
成される隙間部422が、所定の幅で網目の様に設けら
れているものをいう。このような凸部421に於いて
も、凸部421と隙間部422との境界線を様々な方向
に向けることができ、良好な反射特性を得ることができ
る。Further, at least a part of the gap 409 formed between the projections 408 may be mesh-like or irregular (amoeba-like). Here, the mesh shape means that a plurality of irregular-shaped convex portions 421 are provided on a substrate, and a gap 422 formed between the convex portions 421 is a predetermined shape, as shown in FIG. Means a mesh-like width. Also in such a convex portion 421, the boundary between the convex portion 421 and the gap portion 422 can be directed in various directions, and good reflection characteristics can be obtained.
【0220】又、アメーバ状とは、図32に示す様に、
アメーバが体を動かすときのように、ある部分が伸びた
ような状態であり、隙間部423がアメーバ状の模様の
場合でも同様の効果を得ることができる。Further, the amoeba-like shape is, as shown in FIG.
Similar effects can be obtained even in a case where a certain portion is stretched, such as when the amoeba moves a body, and the gap 423 has an amoeba-like pattern.
【0221】本実施の形態の反射型液晶表示装置の製造
方法を図面に基づいて説明する。図33(a)〜図33
(f)は、本実施の形態の反射板の製造方法を説明する
図であり、図34のA−A断面を示すものである。A method for manufacturing the reflection type liquid crystal display device of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 33 (a) to FIG.
(F) is a figure explaining the manufacturing method of the reflector of this Embodiment, and shows the AA cross section of FIG.
【0222】図33(a)に示す様に、基板401上
に、アクリル系のポジ型感光性材料をスピンコートによ
り塗布し、プリベークしてレジスト層431を形成し
た。レジスト層431の層厚は2μmとした。次に、図
33(b)に示す様に、レジスト層431にフォトマス
ク432を介して露光した。フォトマスク432として
は、隙間部409及びコンタクトホール411の形成領
域のみに光が照射される様に、所定のマスクパターンを
備えたマスクを使用した。As shown in FIG. 33A, an acrylic positive photosensitive material was applied on a substrate 401 by spin coating, and prebaked to form a resist layer 431. The layer thickness of the resist layer 431 was 2 μm. Next, as shown in FIG. 33B, the resist layer 431 was exposed through a photomask 432. As the photomask 432, a mask having a predetermined mask pattern was used so that light was irradiated only to the formation region of the gap portion 409 and the contact hole 411.
【0223】続いて、感光性材料の現像液で、露光後の
レジスト層431を現像し、図33(c)のように、隙
間部409及びコンタクトホール411の箇所を取り除
くパターニングを実施した。これにより、フォトマスク
432の透光部のパターン形状に従って、隙間部409
に対応する領域のレジスト層が除去され、凸部408が
形成される部分にレジスト柱433が残る。Subsequently, the exposed resist layer 431 was developed with a developing solution of a photosensitive material, and patterning for removing the gap 409 and the contact hole 411 was performed as shown in FIG. Accordingly, the gap 409 is formed according to the pattern shape of the light transmitting portion of the photomask 432.
Is removed, and a resist pillar 433 remains in a portion where the convex portion 408 is formed.
【0224】次に、基板401を温度140℃のホット
プレート上で5分間加熱し、レジスト柱433を熱変形
させた。その結果、図33(d)に示す様に、表面が曲
面状の凸部408と、隙間部409とを形成した。更
に、感光性材料の硬化温度である200℃のオーブンで
1時間加熱し、凸部408を硬化させた。Next, the substrate 401 was heated on a hot plate at a temperature of 140 ° C. for 5 minutes to thermally deform the resist pillars 433. As a result, as shown in FIG. 33D, a convex portion 408 having a curved surface and a gap portion 409 were formed. Further, the photosensitive material was heated in an oven at a curing temperature of 200 ° C. for 1 hour to cure the projection 408.
【0225】続いて、図33(e)に示す様に、上記凸
部408上に膜厚0.2μmのアルミニウム膜を蒸着に
より製膜した後、アルミニウム膜を画素形状にパターニ
ングして反射膜410を形成した。反射膜410は、凸
部408の表面の凹凸曲面に沿って製膜され、これによ
り光散乱性を有する反射板を形成できた。Subsequently, as shown in FIG. 33E, a 0.2 μm-thick aluminum film is formed on the convex portion 408 by vapor deposition, and the aluminum film is patterned into a pixel shape to form a reflective film 410. Was formed. The reflection film 410 was formed along the uneven curved surface of the surface of the projection 408, whereby a reflection plate having light scattering properties could be formed.
【0226】又、反射膜410の製膜時に各画素のコン
タクトホール411では、各画素ごとの反射膜410と
駆動素子412に於けるドレイン端子412bとが電気
的に接続された。フォトリソグラフィー及びエッチング
の工程で、反射膜410を画素形状にパターニングする
ことにより、駆動素子412で画素ごとの反射膜410
の電位制御が可能となる。その結果、各反射膜410が
画素電極を兼ねる構成にすることができた。更に、反射
膜410が形成された基板上に配向膜を形成した。In forming the reflective film 410, the reflective film 410 of each pixel was electrically connected to the drain terminal 412b of the drive element 412 in the contact hole 411 of each pixel. In the photolithography and etching processes, the reflective film 410 is patterned into a pixel shape, so that the driving element 412 reflects the reflective film 410 for each pixel.
Can be controlled. As a result, each reflection film 410 can be configured to also serve as a pixel electrode. Further, an alignment film was formed on the substrate on which the reflective film 410 was formed.
【0227】その一方、対向基板402上には、予め赤
(R)、緑(G)、青(B)の各色が各画素に対応する
様にカラーフィルタ404を設けた。更に、カラーフィ
ルタ404上には、ITO(インジウム錫酸化物)から
なる共通電極(透明電極)405も形成した。又、共通
電極405上には配向膜も形成した。On the other hand, a color filter 404 is provided on the counter substrate 402 in advance so that each color of red (R), green (G), and blue (B) corresponds to each pixel. Further, a common electrode (transparent electrode) 405 made of ITO (indium tin oxide) was formed on the color filter 404. An alignment film was also formed on the common electrode 405.
【0228】次に、基板401と対向基板402を、互
いに配向膜が向き合うようにして、所定の間隙(約4μ
m)を保って貼り合わせた。更に、その間隙に液晶材料
を封入して液晶層403を形成した。Next, the substrate 401 and the counter substrate 402 are placed with a predetermined gap (about 4 μm) so that the alignment films face each other.
m) and bonded together. Further, a liquid crystal material was sealed in the gap to form a liquid crystal layer 403.
【0229】さらに、前記対向基板402の外側に位相
差板406、偏光板407を順次貼って反射型液晶表示
装置を完成させた。Further, a retardation plate 406 and a polarizing plate 407 were sequentially attached to the outside of the counter substrate 402 to complete a reflection type liquid crystal display device.
【0230】この反射型液晶表示装置を表示部として、
コンピュータ用表示装置、情報携帯端末装置、携帯電話
などを構成することができる。The reflection type liquid crystal display device is used as a display unit.
A display device for a computer, a portable information terminal device, a mobile phone, and the like can be configured.
【0231】又、本実施の形態では、凸部を形成する材
料の形状制御を加熱で実施したが、これ以外の方法で凸
部の凹凸曲面の形状制御を行ってもよい。例えば、光照
射により分子どうしの架橋が切断できる樹脂を用いる
と、光照射により、メルトフローと同じような膜の軟化
及び基板上の流動を行うことができ、形状制御を実施で
きる。In the present embodiment, the shape control of the material forming the convex portion is performed by heating, but the shape control of the concave / convex curved surface of the convex portion may be performed by other methods. For example, when a resin capable of breaking cross-linking between molecules by light irradiation is used, softening of a film and flow on a substrate can be performed by light irradiation, and shape control can be performed.
【0232】(実施の形態14)本発明の実施の形態1
4を、図面を参照しながら説明する。図34は、本発明
の実施の形態14の半透過型液晶表示装置の画素領域の
平面図である。図35は、図34の半透過型液晶表示装
置の断面図であり、図34のJ−J’断面が図35に相
当する。(Embodiment 14) Embodiment 1 of the present invention
4 will be described with reference to the drawings. FIG. 34 is a plan view of a pixel region of a transflective liquid crystal display device according to Embodiment 14 of the present invention. FIG. 35 is a cross-sectional view of the transflective liquid crystal display device of FIG. 34, and a JJ ′ cross section of FIG. 34 corresponds to FIG.
【0233】実施の形態14の半透過型液晶表示装置
は、半透過膜を用いる半透過型液晶ではなく、画素領域
の一部に反射膜を有して反射表示を行い、それ以外の画
素領域は透過表示を行う方式のものである。なお、本実
施の形態中では、画素領域は、画素として表示に寄与す
る領域であるとし、画素ピッチの中で表示動作に寄与し
ない領域は画素領域ではないものとしている。従って、
表示動作に寄与する反射領域と、表示動作に寄与する透
過領域とを合わせた領域が画素領域である。The transflective liquid crystal display device according to the fourteenth embodiment is not a transflective liquid crystal using a transflective film, but has a reflective film in a part of a pixel region to perform reflective display, and the other pixel regions have a reflective film. Is a system for performing transmissive display. In the present embodiment, the pixel region is a region that contributes to display as a pixel, and a region that does not contribute to a display operation in a pixel pitch is not a pixel region. Therefore,
A pixel region is a region in which the reflection region contributing to the display operation and the transmission region contributing to the display operation are combined.
【0234】本実施の形態の半透過型液晶表示装置は、
前記実施の形態13の反射型液晶表示装置と共通部分が
あるため、相違部分のみ説明する。本実施の形態の半透
過型液晶表示装置のうち、基板401、凸部408は、
実施の形態1と同様の構成である。反射膜436は、実
施の形態13と異なり、凸部408が形成されていない
部分である隙間部409上には設けられていない。隙間
部409上にはITOの透明電極432が製膜されてい
る。透明電極432はITOの他にも、透明な導電膜で
あれば用いることができる。透明電極432は、反射膜
436上にも製膜されており、透明電極432と反射膜
436が同じ電位になるようにしている。このように、
凸部408上にのみ反射膜436を設けてこの領域を反
射部とし、凸部408が設けられていない隙間部409
の部分を透光部とすることにより、反射光が散乱しない
平坦な隙間部409を透光部として有効に利用すること
ができ、良好な反射特性及び透過特性を実現することが
できる。The transflective liquid crystal display device of the present embodiment is
Since there are portions common to the reflective liquid crystal display device of the thirteenth embodiment, only different portions will be described. In the transflective liquid crystal display device of the present embodiment, the substrate 401 and the projection 408
The configuration is the same as that of the first embodiment. The reflection film 436 is different from the thirteenth embodiment in that the reflection film 436 is not provided on the gap 409 where the projection 408 is not formed. An ITO transparent electrode 432 is formed on the gap 409. As the transparent electrode 432, a transparent conductive film other than ITO can be used. The transparent electrode 432 is also formed on the reflective film 436 so that the transparent electrode 432 and the reflective film 436 have the same potential. in this way,
A reflective film 436 is provided only on the convex portion 408, and this region is used as a reflective portion, and the gap portion 409 where the convex portion 408 is not provided.
By using the portion as a light-transmitting portion, the flat gap portion 409 in which reflected light is not scattered can be effectively used as a light-transmitting portion, and excellent reflection characteristics and transmission characteristics can be realized.
【0235】反射による表示動作は、反射型液晶表示装
置と同様である。図35において、透光部の表示動作を
行うために、基板401側の外側に位相差板406、偏
光板407を設けている。透過表示を行う際には、偏光
板437側から入射した光は、位相差板438、基板4
01、透明電極432、液晶層403、共通電極40
5、カラーフィルタ404、対向基板402、位相差板
406、偏光板407の順に通り、半透過型液晶表示装
置を観察している人の目に入る。このとき、透明電極4
35と共通電極405の間の電圧を制御することによ
り、液晶を制御し表示動作を得る。なお、図35の半透
過型液晶表示装置にはバックライトを省略している。The display operation by reflection is the same as that of the reflection type liquid crystal display device. In FIG. 35, a phase difference plate 406 and a polarizing plate 407 are provided outside the substrate 401 side to perform a display operation of the light-transmitting portion. When performing transmissive display, light incident from the polarizing plate 437 side is reflected by the retardation plate 438 and the substrate 4.
01, transparent electrode 432, liquid crystal layer 403, common electrode 40
5, the color filter 404, the counter substrate 402, the retardation plate 406, and the polarizing plate 407 in this order, and enter the eyes of the person observing the transflective liquid crystal display device. At this time, the transparent electrode 4
By controlling the voltage between 35 and the common electrode 405, the liquid crystal is controlled and a display operation is obtained. The backlight is omitted in the transflective liquid crystal display device of FIG.
【0236】実施の形態14の半透過型液晶表示装置で
は、反射膜436は凸部408上に設けられており、良
好な反射特性を得るための凸部408の構成は、実施の
形態13と共通である。In the transflective liquid crystal display device of the fourteenth embodiment, the reflection film 436 is provided on the projection 408, and the configuration of the projection 408 for obtaining good reflection characteristics is the same as that of the thirteenth embodiment. It is common.
【0237】即ち、凸部408が設けられていない隙間
部409と前記凸部408との境界線(輪郭線41
7)、又は隙間部409を次の構成にすることにより、
良好な反射特性を確保できる。即ち、1)境界線が湾状
ないし半島状の曲線を含む、2)境界線が少なくとも1
つ以上の閉じた曲線をなしており、前記曲線に沿って基
板面上に描いた接線を、画素の長辺方向を0度とする傾
き角で表したとき、前記曲線を周回したときの前記傾き
角の増加から減少又は減少から増加への変化が、少なく
とも3回以上である、3)境界線のうち、少なくとも1
つ以上が、曲線又は直線を有する不定形の二次元閉領域
をなしている、4)境界線が、画素の長辺と平行又は垂
直な方向に対して角度を有する曲線又は直線を含む、
5)境界線が、前記信号線に対して角度を有する曲線又
は直線を含む、である。又、前記画素内の凸部が設けら
れていない部分が、網目状又はアメーバ状であってもよ
い。That is, the boundary line (contour line 41) between the gap 409 where the projection 408 is not provided and the projection 408 is provided.
7) Alternatively, by forming the gap 409 in the following configuration,
Good reflection characteristics can be secured. That is, 1) the boundary line includes a bay-shaped or peninsula-shaped curve, and 2) the boundary line has at least one boundary line.
When forming a tangent drawn on the substrate surface along the curve, the tangent drawn along the curve is represented by an inclination angle with the long side direction of the pixel being 0 degree, The change from the increase of the tilt angle to the decrease or the change from the decrease to the increase is at least three times or more. 3) At least one of the boundary lines
One or more of them form an amorphous two-dimensional closed area having a curve or a straight line. 4) The boundary includes a curve or a straight line having an angle with respect to a direction parallel or perpendicular to the long side of the pixel.
5) The boundary includes a curve or a straight line having an angle with respect to the signal line. Further, a portion of the pixel where no convex portion is provided may be in a mesh shape or an amoeba shape.
【0238】(実施の形態15)本実施の形態15の半
透過型液晶表示装置は、画素内に反射部と透光部のそれ
ぞれの領域を形成したものである。従って、反射膜の面
積を調整することにより、透光部と反射部の面積を変化
させ、透過機能又は反射機能をいずれかを重視した設計
をすることが可能である。実施の形態14に比べ、透過
機能を高めた実施の形態15の半透過型液晶表示装置の
例を図36に示す。図36は一画素程度の平面図であ
る。図37は、図36に於けるK−K線矢視断面図であ
る。(Embodiment 15) The transflective liquid crystal display device of the embodiment 15 is one in which each area of a reflection part and a light transmission part is formed in a pixel. Therefore, by adjusting the area of the reflection film, it is possible to change the areas of the light transmission part and the reflection part, and to design the transmission function or the reflection function. FIG. 36 shows an example of the transflective liquid crystal display device of the fifteenth embodiment in which the transmissive function is enhanced as compared with the fourteenth embodiment. FIG. 36 is a plan view of about one pixel. FIG. 37 is a sectional view taken along the line KK in FIG.
【0239】図36に示す様に、画素領域の中央には、
バックライト光を透過させる透光部442が設けられて
いる。この透光部442は、前記実施の形態14に於い
て、凸部のうち、画素領域の中央付近の凸部及びこの上
の反射膜を取り除いた部分に相当する(図34及び図3
5参照)。つまり、透光部442は、光の透過が可能な
領域を大きくする為、画素領域の中央付近の凸部を取り
除いて形成された領域である。As shown in FIG. 36, at the center of the pixel area,
A light transmitting portion 442 that transmits backlight light is provided. The translucent portion 442 corresponds to the portion of the fourteenth embodiment in which the protruding portion near the center of the pixel region and the reflective film thereon are removed from the protruding portion (see FIGS. 34 and 3).
5). That is, the light transmitting portion 442 is a region formed by removing a convex portion near the center of the pixel region in order to enlarge a region through which light can be transmitted.
【0240】透光部442の周囲には、表面に反射膜を
備えた凸部が設けられており、この凸部の設けられてい
る領域が反射部441としての機能を有している。[0240] Around the light transmitting portion 442, a convex portion provided with a reflective film on the surface is provided. The region where the convex portion is provided has a function as the reflective portion 441.
【0241】尚、良好な反射特性を得るための反射部の
反射特性を高めるために、反射部441と透光部442
との境界を湾状又は半島状にする等の構成は、実施の形
態14と同様であり、良好な反射特性を得ることができ
る。Incidentally, in order to enhance the reflection characteristics of the reflection portion for obtaining good reflection characteristics, the reflection portion 441 and the light transmission portion 442 are required.
The configuration such as making the boundary with a bay shape or a peninsula shape is similar to that of the fourteenth embodiment, and good reflection characteristics can be obtained.
【0242】(実施の形態16)画素内に補助容量を設
けたアクティブマトリクス基板を用いて半透過型液晶表
示装置を構成する場合、補助容量の電極としては通常、
金属膜が使用される。この為、補助容量電極の部分は透
光部として使用できない。そこで、補助容量電極の領域
を反射部として有効に利用するために、補助容量の平面
形状を少なくとも一部において、凸部の平面形状に近似
させることが望ましい。この構成の半透過型液晶表示装
置の例を図38に示す。図38に実施の形態16の半透
過型液晶表示装置の平面図を示す。一方、一般的な四角
形の補助容量電極の画素構成を図39に示す。(Embodiment 16) In the case where a semi-transmissive liquid crystal display device is formed using an active matrix substrate provided with an auxiliary capacitor in a pixel, the electrode of the auxiliary capacitor is usually
A metal film is used. For this reason, the portion of the auxiliary capacitance electrode cannot be used as a light transmitting portion. Therefore, in order to effectively use the region of the auxiliary capacitance electrode as a reflection part, it is desirable that the planar shape of the auxiliary capacitance is approximated at least in part to the planar shape of the projection. FIG. 38 shows an example of a transflective liquid crystal display device having this configuration. FIG. 38 shows a plan view of the transflective liquid crystal display device of the sixteenth embodiment. On the other hand, FIG. 39 shows a pixel configuration of a general rectangular auxiliary capacitance electrode.
【0243】図39に示す様に、補助容量電極452の
上には、隙間部409の領域が多く形成されている。従
って、補助容量電極452上では、入射光が鏡面反射
し、暗い表示になりやすい。これに対し、図39に示す
様に、凸部408の形状に合わせて補助容量電極451
の平面形状を変えると、隙間部409に於いて、補助容
量電極451が露出することもない。この結果、透光部
に於いて光が鏡面反射するのを防止できると共に、補助
容量電極451の外周付近を用いて良好な反射特性を得
ることができる。この結果、一層表示性能を向上させた
半透過型液晶表示装置を実現することができる。As shown in FIG. 39, a large number of gap portions 409 are formed on the auxiliary capacitance electrode 452. Therefore, the incident light is specularly reflected on the auxiliary capacitance electrode 452, and the display is likely to be dark. On the other hand, as shown in FIG.
Is changed, the auxiliary capacitance electrode 451 is not exposed in the gap 409. As a result, it is possible to prevent light from being specularly reflected in the light transmitting portion, and to obtain good reflection characteristics by using the vicinity of the outer periphery of the auxiliary capacitance electrode 451. As a result, a transflective liquid crystal display device with further improved display performance can be realized.
【0244】(実施の形態17)半透過型液晶表示装置
で、反射機能と透過機能を適切に制御するためには、反
射膜の面積を調整することが有効である。前記実施の形
態13で凸部408の高さを等高線415、416で示
したように、凸部の等高線は概ね凸部と隙間部との境界
線(凸部の輪郭線)に沿っている。このため凸部の等高
線に沿って、隙間部に隣接する部分の反射膜を取り除く
ことにより、凹凸曲面がさまざまな方向を向いている実
施の形態13、実施の形態14の状態を確保することが
できる。このようにすると、透光部の面積を増やした場
合でも、実施の形態13と同様の良好な散乱性を確保す
ることができる。(Embodiment 17) In the transflective liquid crystal display device, it is effective to adjust the area of the reflection film in order to appropriately control the reflection function and the transmission function. As indicated by the contour lines 415 and 416 in the thirteenth embodiment, the height of the projection 408 is substantially along the boundary between the projection and the gap (the contour of the projection). Therefore, the state of the thirteenth embodiment and the fourteenth embodiment in which the concave and convex curved surfaces are oriented in various directions can be ensured by removing the reflective film adjacent to the gap along the contour of the convex portion. it can. In this way, even when the area of the light transmitting portion is increased, the same good scattering as in the thirteenth embodiment can be secured.
【0245】このような本実施の形態に係る半透過型液
晶表示装置の一例を図40に示す。図40は、前記半透
過型液晶表示装置を示す平面図である。図41は、前記
図40に於けるL−L線矢視断面図である。FIG. 40 shows an example of such a transflective liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG. 40 is a plan view showing the transflective liquid crystal display device. FIG. 41 is a cross-sectional view taken along line LL in FIG.
【0246】凸部408と隙間部409との境界線46
1に近似した形状に、反射膜が設けられていない部分と
反射膜との境界線462が設けられている。図40にお
いて、斜め線の領域は、凸部408が設けられていない
隙間部409であり、ドット模様の領域は、反射膜が設
けられている部分、画素の中の白抜きの部分は、凸部4
08上で反射膜が設けられていない部分である。Boundary line 46 between projection 408 and gap 409
A boundary line 462 between a portion where the reflective film is not provided and the reflective film is provided in a shape similar to 1. In FIG. 40, an oblique line region is a gap portion 409 where the convex portion 408 is not provided, a dot pattern region is a portion where the reflective film is provided, and a white portion in the pixel is a convex portion. Part 4
08, where no reflective film is provided.
【0247】ここで、反射膜が設けられていない部分と
反射膜との境界線462は、凸部408と隙間部409
との境界線に近似した湾状及び/又は半島状の曲線を含
む構成とする。あるいは、1)境界線が少なくとも1つ
以上の閉じた曲線をなしており、前記曲線に沿って基板
面上に描いた接線を、画素の長辺方向を0度とする傾き
角で表したとき、前記曲線を周回したときの前記傾き角
の増加から減少又は減少から増加への変化が、少なくと
も3回以上である、2)境界線のうち、少なくとも1つ
以上が、曲線又は直線を有する不定形の二次元閉領域を
なしている、3)境界線が、画素の長辺と平行又は垂直
な方向に対して角度を有する曲線又は直線を含む、4)
境界線が、前記信号線に対して角度を有する曲線又は直
線を含むなどの特徴を有する反射膜の境界線とする。こ
れにより、良好な反射特性を実現することができる。Here, the boundary 462 between the portion where the reflection film is not provided and the reflection film is defined by the projection 408 and the gap 409.
And a bay-like and / or peninsula-like curve approximating the boundary line with. Or 1) when the boundary line forms at least one closed curve, and a tangent drawn on the substrate surface along the curve is represented by an inclination angle with the long side direction of the pixel being 0 degree. The change in the inclination angle from the increase to the decrease or the decrease to the increase when the circuit goes around the curve is at least three times or more. 2) At least one of the boundary lines has a curve or a straight line. 3) a boundary line includes a curve or a straight line having an angle with respect to a direction parallel or perpendicular to the long side of the pixel;
The boundary line is a boundary line of the reflective film having a characteristic such as including a curve or a straight line having an angle with respect to the signal line. Thereby, good reflection characteristics can be realized.
【0248】(実施の形態18)前記各実施の形態に於
いては、各凸部の配置位置がランダムな場合の反射板に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。図42は、凸部のらせん状規則配列の様子を模式
的に示した平面図である。同図に示す様に、凸部408
はフィボナッチ数列の関係を満たす位置に設けられてい
る。この様な配列であっても、凸部408間に形成され
る隙間部は、所定幅の曲線及び/又は折れ線を含む構成
とすることができる。前記の配列は、例えば液晶表示装
置に本実施の形態の反射板を適用した場合、1画素毎に
設けられていてもよく、或いはR・G・Bの単位毎に設
けられていてもよい。(Embodiment 18) In each of the above embodiments, a description has been given of the reflector in which the arrangement positions of the respective convex portions are random, but the present invention is not limited to this. FIG. 42 is a plan view schematically showing the state of the spiral regular arrangement of the convex portions. As shown in FIG.
Is provided at a position that satisfies the relationship of the Fibonacci sequence. Even in such an arrangement, the gap formed between the protrusions 408 may have a configuration including a curve and / or a polygonal line having a predetermined width. For example, when the reflection plate of this embodiment is applied to a liquid crystal display device, the above arrangement may be provided for each pixel, or may be provided for each of R, G, and B units.
【0249】(その他の事項)前記各実施の形態に於い
ては、レジスト材料として、ポジ型のフォトレジストを
例にして説明したが、本発明に於いてはネガ型のフォト
レジストを用いてもよい。(Other Matters) In each of the above embodiments, a positive photoresist has been described as an example of a resist material. However, in the present invention, a negative photoresist may be used. Good.
【0250】又、前記各実施の形態に於いては、凸部の
形成材料として感光性樹脂を用いた場合について説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではない。例え
ば、感光性を有しない樹脂層を基板上に形成し、更にこ
の樹脂層上にレジストを形成した後、フォトリソグラフ
ィー及び樹脂のエッチングを行うことによっても凸部を
形成することができ、前記各実施の形態と同様の効果を
得ることができる。Further, in each of the above embodiments, the case where a photosensitive resin is used as the material for forming the convex portion has been described, but the present invention is not limited to this. For example, a resin layer having no photosensitivity is formed on a substrate, a resist is further formed on the resin layer, and then the projections can be formed by photolithography and etching of the resin. The same effect as in the embodiment can be obtained.
【0251】又、前記各実施の形態に於いては、基板と
して透明なガラスを用いたが、例えばプラスチックなど
の樹脂で構成された基板を用いてもよい。又、反射型液
晶表示装置の反射板を設ける側の基板は、シリコンなど
不透明な基板を用いることもできる。In each of the above embodiments, transparent glass is used as the substrate, but a substrate made of a resin such as plastic may be used. Further, an opaque substrate such as silicon can be used as the substrate on the reflection type liquid crystal display device on which the reflection plate is provided.
【0252】又、前記各実施の形態に於いては、1枚偏
光板方式の反射型カラー液晶表示装置の他、液晶中に二
色性色素を含有させたゲストホスト型の液晶表示装置な
ど他の方式の液晶表示装置に適用可能である。又、カラ
ー表示を行わない単色表示の液晶表示装置にも同様に用
いることができる。In each of the above embodiments, in addition to a reflection type color liquid crystal display device of a single polarizing plate type, a guest-host type liquid crystal display device in which a dichroic dye is contained in a liquid crystal, and the like. This is applicable to the liquid crystal display device of the above-described method. Further, the present invention can be similarly applied to a single-color display liquid crystal display device that does not perform color display.
【0253】又、本発明に於いては、各画素に対応した
基板上の駆動素子で画素ごとに印加する電圧を制御す
る、いわゆるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置
の他、各画素に駆動素子を持たないパッシブ方式、例え
ばスーパーツイストネマチック(STN)方式で、本発
明の液晶表示装置を構成することもできる。In the present invention, in addition to a so-called active matrix type liquid crystal display device in which a voltage applied to each pixel is controlled by a driving element on a substrate corresponding to each pixel, a driving element is provided for each pixel. The liquid crystal display device of the present invention can also be configured by a passive method having no such device, for example, a super twist nematic (STN) method.
【0254】又、前記各実施の形態に於いては、光の透
過・吸収を制御する手段として、液晶を用いた反射型液
晶表示装置又は半透過型液晶表示装置を例にして説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではない。例え
ば、溶液中に分散させた微粒子を電界で移動させること
により、光の吸収、透過を制御する電気泳動ディスプレ
イに適用することも可能であり、液晶表示装置以外の表
示装置にも、本発明の反射板を用いることができる。In each of the above embodiments, a reflection type liquid crystal display device or a transflective type liquid crystal display device using a liquid crystal has been described as an example of means for controlling transmission and absorption of light. The present invention is not limited to this. For example, by moving fine particles dispersed in a solution by an electric field, it is also possible to apply the present invention to an electrophoretic display that controls light absorption and transmission, and to a display device other than a liquid crystal display device. A reflector can be used.
【0255】又、本発明に係る反射膜は、その膜厚を適
切な厚さにすれば、ハーフミラー状にすることができ
る。その結果、反射膜は、光を反射する性質と光を透過
する性質を両立することが可能な半透過膜になり、その
結果通常の反射膜を半透過膜に変えるだけで半透過型表
示装置を実現することができる。The reflecting film according to the present invention can be formed into a half-mirror shape by setting the film thickness to an appropriate thickness. As a result, the reflective film becomes a semi-transmissive film that can achieve both the property of reflecting light and the property of transmitting light. Can be realized.
【0256】[0256]
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の構成に
よれば、本発明の各課題を十分に達成することができ
る。即ち、本発明の反射板によれば、隙間部が所定の幅
の曲線及び/又は折れ線を含む構成であるので、レジス
ト1層で平坦な隙間部の領域を小さくすることができ、
これにより反射輝度を視認方向によらず一定にして、散
乱性を向上させることができる。As described above, according to the structure of the present invention, each object of the present invention can be sufficiently achieved. That is, according to the reflector of the present invention, since the gap portion has a configuration including a curve and / or a polygonal line having a predetermined width, the area of the flat gap portion can be reduced by one layer of resist.
This makes it possible to make the reflection luminance constant irrespective of the viewing direction and improve the scattering.
【0257】又、前記反射板を備えた表示装置である
と、反射板に於ける凸部の傾斜角分布を変えることによ
り、各種の用途に応じて視野角や反射輝度を調節できる
ため、表示特性の向上が図れる。In the display device provided with the reflector, the viewing angle and the reflection luminance can be adjusted according to various uses by changing the inclination angle distribution of the convex portion of the reflector. The characteristics can be improved.
【0258】又、本発明の製造方法であると、従来の製
造方法よりも工程数が少ないので製造コストの低減が図
れ、散乱性に優れた反射板を歩留まり良く作製すること
ができる。Further, according to the manufacturing method of the present invention, since the number of steps is smaller than in the conventional manufacturing method, the manufacturing cost can be reduced, and a reflector having excellent scattering properties can be manufactured with high yield.
【図1】図1(a)は本発明の実施の形態1に係る反射
板を示す平面図であり、図1(b)は、前記反射板の要
部を示す平面図であり、図1(c)は、従来の反射板の
要部を示す平面図である。FIG. 1A is a plan view showing a reflector according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 1B is a plan view showing a main part of the reflector, and FIG. (C) is a plan view showing a main part of a conventional reflector.
【図2】前記実施の形態1に係る凸部の接触角及び傾斜
角を説明するための説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining a contact angle and an inclination angle of a convex portion according to the first embodiment.
【図3】前記実施の形態1に係る反射板の製造方法を説
明する為の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the method for manufacturing the reflector according to the first embodiment.
【図4】図4(a)は、従来の反射板の製造工程に於い
て使用するフォトマスクの概略を示す平面図であり、図
4(b)は、前記実施の形態1に係る反射板の製造工程
に於いて使用するフォトマスクの概略を示す平面図であ
る。FIG. 4A is a plan view schematically showing a photomask used in a conventional manufacturing process of a reflector, and FIG. 4B is a reflector according to the first embodiment. FIG. 14 is a plan view schematically showing a photomask used in the manufacturing process of FIG.
【図5】前記反射板に於ける凸部の傾斜角と、その存在
確率との関係を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a relationship between an inclination angle of a convex portion in the reflection plate and its existence probability.
【図6】前記反射板の製造工程を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory view showing a manufacturing process of the reflection plate.
【図7】前記反射板に於いて、入射角度とゲインとの関
係を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing a relationship between an incident angle and a gain in the reflector.
【図8】本実施の形態に係る反射型液晶表示装置を示す
断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating the reflective liquid crystal display device according to the present embodiment.
【図9】図10(a)は、補助容量上の凸部の断面形状
を示す断面模式図であり、図10(b)は、補助容量が
設けられている領域以外の領域に於ける凸部の断面形状
を示す断面模式図である。9A is a schematic cross-sectional view showing a cross-sectional shape of a convex portion on an auxiliary capacitance, and FIG. 10B is a sectional view showing a convex shape in a region other than the region where the auxiliary capacitance is provided. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating a cross-sectional shape of a portion.
【図10】前記補助容量電極上に設けられた凸部を示す
平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a projection provided on the auxiliary capacitance electrode.
【図11】平面視に於ける前記凸部、及び凸部のXY線
に於ける断面形状を模式的に示す説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram schematically showing the convex portion in plan view and a cross-sectional shape of the convex portion along the XY line.
【図12】本発明の実施の形態2に係る他の補助容量電
極の平面形状を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing a planar shape of another auxiliary capacitance electrode according to the second embodiment of the present invention.
【図13】本発明の実施の形態8に係る反射板の製造工
程を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram illustrating a manufacturing process of the reflection plate according to the eighth embodiment of the present invention.
【図14】前記実施の形態8に於いて使用するフォトマ
スクの要部を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing a main part of a photomask used in the eighth embodiment.
【図15】本発明の実施の形態10に係る反射板を示す
平面図である。FIG. 15 is a plan view showing a reflector according to a tenth embodiment of the present invention.
【図16】前記反射板に係る凸部の傾斜角(度)と存在
確率(%)との関係を示すグラフである。FIG. 16 is a graph showing a relationship between an inclination angle (degree) of a convex portion of the reflector and an existence probability (%).
【図17】前記実施の形態10に於いて使用するフォト
マスクの要部を示す平面図である。FIG. 17 is a plan view showing a main part of a photomask used in the tenth embodiment.
【図18】本発明の実施の形態12に係る反射型液晶表
示装置に於いて、凸部を示す平面図である。FIG. 18 is a plan view showing a projection in a reflective liquid crystal display device according to Embodiment 12 of the present invention.
【図19】凸部の傾斜角と、その存在確率との関係を示
すグラフである。FIG. 19 is a graph showing the relationship between the inclination angle of a convex portion and its existence probability.
【図20】凸部の接触角と、傾斜角5〜10度の範囲に
於ける存在確率の積分値(面積A)との関係を示すグラ
フである。FIG. 20 is a graph showing a relationship between a contact angle of a convex portion and an integrated value (area A) of an existence probability in a range of an inclination angle of 5 to 10 degrees.
【図21】凸部の最大寸法(μm)と、5度から10度
の傾斜角に於ける存在確率(%)との関係を示すグラフ
である。FIG. 21 is a graph showing a relationship between a maximum dimension (μm) of a convex portion and an existence probability (%) at an inclination angle of 5 to 10 degrees.
【図22】本発明の実施の形態12の反射型液晶表示装
置に係る凸部を示す平面図である。FIG. 22 is a plan view showing a projection according to a reflective liquid crystal display device of Embodiment 12 of the present invention.
【図23】前記図22の反射型液晶表示装置に於けるA
−A線矢視断面図である。FIG. 23 shows A in the reflection type liquid crystal display device of FIG. 22;
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line -A.
【図24】前記反射型液晶表示装置に入射した光の反射
状態を模式的に示す断面図である。FIG. 24 is a cross-sectional view schematically showing a reflection state of light incident on the reflection type liquid crystal display device.
【図25】本発明の実施の形態13に係る凸部の基板の
表面からの高さを等高線で示した平面図である。FIG. 25 is a plan view showing, with contour lines, the height of a projection from the surface of the substrate according to Embodiment 13 of the present invention.
【図26】A−A線上の図面の左側から入射光a、b、
cが入射したときに、反射光a’、b’、c’の進行方
向を示す平面図である。FIG. 26 is incident light a, b,
It is a top view which shows the traveling direction of reflected light a ', b', c 'when c is incident.
【図27】入射光d、e、fが入射したときに、反射光
の進行方向を示す断面模式図である。FIG. 27 is a schematic sectional view showing a traveling direction of reflected light when incident lights d, e, and f are incident.
【図28】B−B線上の図面の左側から入射光d、e、
fが入射したときに、反射光d’、e’、f’の進行方
向を示す平面図である。FIG. 28 is incident light d, e,
It is a top view which shows the traveling direction of reflected light d ', e', and f 'when f enters.
【図29】前記凸部及び隙間部を示す拡大平面図であ
る。FIG. 29 is an enlarged plan view showing the protrusions and gaps.
【図30】前記実施の形態13に係る凸部を示す平面図
である。FIG. 30 is a plan view showing a projection according to the thirteenth embodiment.
【図31】前記実施の形態13に係る他の凸部を示す平
面図である。FIG. 31 is a plan view showing another projection according to the thirteenth embodiment.
【図32】前記実施の形態13に係る更に他の凸部を示
す平面図である。FIG. 32 is a plan view showing still another projection according to the thirteenth embodiment.
【図33】前記実施の形態13に係る反射板の製造工程
を説明するための断面図である。FIG. 33 is a cross-sectional view for illustrating a manufacturing process of the reflection plate according to the thirteenth embodiment.
【図34】本発明の実施の形態14の半透過型液晶表示
装置の画素領域の平面図である。FIG. 34 is a plan view of a pixel region of a transflective liquid crystal display device according to Embodiment 14 of the present invention.
【図35】前記図34に於けるJ−J’線断面図であ
る。FIG. 35 is a sectional view taken along the line JJ ′ in FIG. 34;
【図36】本発明の実施の形態15に係る凸部を示す平
面図である。FIG. 36 is a plan view showing a projection according to Embodiment 15 of the present invention.
【図37】前記図36に於けるK−K線断面図である。FIG. 37 is a sectional view taken along the line KK in FIG. 36;
【図38】本発明の実施の形態16に係る凸部を示す平
面図である。FIG. 38 is a plan view showing a projection according to Embodiment 16 of the present invention.
【図39】本発明の他の凸部を示す平面図である。FIG. 39 is a plan view showing another projection of the present invention.
【図40】本発明の実施の形態17に係る凸部を示す平
面図である。FIG. 40 is a plan view showing a projection according to Embodiment 17 of the present invention.
【図41】前記実施の形態17に係る半透過型液晶表示
装置を示す平面図である。FIG. 41 is a plan view showing a transflective liquid crystal display device according to Embodiment 17;
【図42】本発明の実施の形態18に係る凸部のらせん
状規則配列の様子を模式的に示した平面図である。FIG. 42 is a plan view schematically showing a helical regular arrangement of convex portions according to the eighteenth embodiment of the present invention.
【図43】従来の反射板に於ける凸部の傾斜角と、その
存在確率との関係を示すグラフである。FIG. 43 is a graph showing the relationship between the inclination angle of a convex portion and its existence probability in a conventional reflector.
【図44】前記反射板に於ける入射光の入射角度(度)
と、ゲインとの関係を示すグラフである。FIG. 44 shows an incident angle (degree) of incident light on the reflection plate.
7 is a graph showing a relationship between the gain and the gain.
【図45】図45(a)は、従来の反射板の製造方法を
説明する為の断面図であって、現像後の凸部の断面形状
を表し、図45(b)は、前記反射板の製造方法を説明
する為の断面図であって、熱溶融後の凸部の断面形状を
表している。FIG. 45 (a) is a cross-sectional view for explaining a conventional method of manufacturing a reflector, showing a cross-sectional shape of a convex portion after development, and FIG. 45 (b) is a cross-sectional view of the reflector. FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing method of (1), and shows a cross-sectional shape of the convex portion after heat melting.
【図46】図46(a)は、従来の他の反射板を模式的
に示した平面図であり、図46(b)は、前記図46
(a)に於けるA−A線矢視断面図である。FIG. 46 (a) is a plan view schematically showing another conventional reflection plate, and FIG. 46 (b) is a plan view of FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
【図47】図47(a)は、従来の他の反射板を模式的
に示した平面図であり、図47(b)は、前記図47
(a)に於けるB−B線矢視断面図である。FIG. 47 (a) is a plan view schematically showing another conventional reflection plate, and FIG. 47 (b) is a plan view of FIG.
FIG. 3 is a sectional view taken along line BB in FIG.
201 反射板 202、205、231、233、241、305、3
07、310、321、331、408、421 凸部 203、206、242、253、409、422、4
23 隙間部 204 輪郭線 204a 線分 207 等高線 211 ガラス基板(基板) 212 レジスト層 214 レジスト柱(柱状部) 215、216 反射膜 217 処理剤 221 フォトマスク 224 処理剤 225 反射膜 243、251 補助容量電極 252 開口部 301 ガラス基板(基板) 302 レジスト層 303 フォトマスク 304 レジスト柱 306、332 反射膜 333 低位部分 401 基板 410 反射膜 412 駆動素子(非線形素子) 412a ソース端子 412b ドレイン端子 412c ゲート端子 413 ソース信号線(配線) 414 ゲート信号線(配線) 415、416 等高線 417 境界線(輪郭線) 418 反射膜 431 レジスト層 432 フォトマスク 433 レジスト柱 436 反射膜 451、452 補助容量電極 461、462 境界線201 Reflector 202, 205, 231, 233, 241, 305, 3
07, 310, 321, 331, 408, 421 Convex portions 203, 206, 242, 253, 409, 422, 4
Reference Signs List 23 gap portion 204 contour line 204a line segment 207 contour line 211 glass substrate (substrate) 212 resist layer 214 resist pillar (columnar portion) 215, 216 reflection film 217 treatment agent 221 photomask 224 treatment agent 225 reflection film 243, 251 auxiliary capacitance electrode 252 Opening 301 Glass substrate (substrate) 302 Resist layer 303 Photo mask 304 Resist pillar 306, 332 Reflective film 333 Lower part 401 Substrate 410 Reflective film 412 Driving element (non-linear element) 412a Source terminal 412b Drain terminal 412c Gate terminal 413 Source signal Line (wiring) 414 Gate signal line (wiring) 415, 416 Contour line 417 Boundary line (outline) 418 Reflective film 431 Resist layer 432 Photomask 433 Resist pillar 436 Reflective film 451, 452 Auxiliary capacitance electrode 461, 462 Boundary line
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中尾 武寿 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 脇田 尚英 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 大植 利泰 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山中 泰彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H042 BA04 BA13 BA15 BA20 DA02 DA12 DC02 DC08 DD09 DE00 2H091 FA16Z FC10 FC22 FC23 LA12 LA18 5C094 AA42 AA43 AA44 BA43 EB04 ED11 FA04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takehisa Nakao 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 72) Inventor Toshiyasu Oue 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. BA15 BA20 DA02 DA12 DC02 DC08 DD09 DE00 2H091 FA16Z FC10 FC22 FC23 LA12 LA18 5C094 AA42 AA43 AA44 BA43 EB04 ED11 FA04
Claims (63)
つ表面が曲面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上
に設けられた反射膜とを備える反射板であって、 前記凸部の平面形状は非円形であり、前記凸部の平面形
状に於ける輪郭線を微小な線分に区切った場合に、各線
分の方向が全方位又は所定の方位に向いていることを特
徴とする反射板。1. A reflection plate comprising: a substrate; a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface; and a reflection film provided on the substrate having the projections. The planar shape of the convex portion is non-circular, and when the contour line in the planar shape of the convex portion is divided into minute line segments, the direction of each line segment is oriented in all directions or a predetermined direction. Characteristic reflector.
つ表面が曲面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上
に設けられた反射膜とを備える反射板であって、 前記凸部の平面形状は不定形であり、かつ前記凸部と凸
部の間に設けられている隙間部は所定幅の曲線及び/又
は折れ線を含むことを特徴とする反射板。2. A reflection plate comprising: a substrate; a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface; and a reflection film provided on the substrate having the projections. A reflecting plate, wherein the planar shape of the convex portion is indefinite, and the gap provided between the convex portions includes a curve and / or a polygonal line having a predetermined width.
於いて、 前記隙間部の幅が1μm以上、10μm以下の範囲内で
あることを特徴とする反射板。4. The reflection plate according to claim 2, wherein the width of the gap is in a range of 1 μm or more and 10 μm or less.
の反射板に於いて、 前記凸部の最大寸法が15μm以上、40μm以下の範
囲内であることを特徴とする反射板。5. The reflector according to claim 2, wherein a maximum dimension of the convex portion is in a range of 15 μm or more and 40 μm or less. .
の反射板に於いて、 前記凸部の高さが1.2μm以上、4μm以下の範囲内
であることを特徴とする反射板。6. The reflection plate according to claim 2, wherein the height of the projection is in a range of 1.2 μm or more and 4 μm or less. reflector.
の反射板に於いて、 前記凸部の最大寸法は、凸部の高さに対して5倍以上、
20倍以下の範囲内にあることを特徴とする反射板。7. The reflector according to claim 2, wherein a maximum dimension of the projection is at least 5 times a height of the projection.
A reflection plate having a size of 20 times or less.
の反射板に於いて、 前記凸部の表面と基板面とが接触線に於いてなす接触角
が10度以上、25度以下の範囲内にあることを特徴と
する反射板。8. The reflector according to claim 2, wherein a contact angle between the surface of the projection and the substrate surface at a contact line is 10 degrees or more and 25 degrees or more. A reflecting plate, which is within the range of degrees or less.
の反射板に於いて、 前記凸部は1×104μm2の範囲内に30個以下で設け
られていることを特徴とする反射板。9. The reflector according to claim 2, wherein the number of the protrusions is 30 or less within a range of 1 × 10 4 μm 2. Characteristic reflector.
させる領域であることを特徴とする反射板。10. The reflection plate according to claim 2, wherein the substrate has a light-transmitting property, and the gap is a region that is not covered with the reflection film and transmits light. A reflector, characterized in that:
が前記反射膜に被覆されていないことを特徴とする反射
板。11. The reflection plate according to claim 10, wherein the projection has a light-transmitting property, and a lower portion of the projection is not covered with the reflection film. Reflector.
射板に於いて、 前記凸部に於ける低位部分は、凸部の表面に接する接線
と前記基板とのなす角を傾斜角とした場合に、前記傾斜
角が15度以上の部分であることを特徴とする反射板。12. The reflection plate according to claim 10 or 11, wherein the lower portion of the projection has an inclination angle between a tangent line contacting the surface of the projection and the substrate. In this case, the reflector is characterized in that the angle of inclination is 15 degrees or more.
に記載の反射板に於いて、 前記隙間部の幅が1μm以上、20μm以下の範囲内で
あることを特徴とする反射板。13. The reflector according to claim 10, wherein the width of the gap is in a range of 1 μm or more and 20 μm or less.
に記載の反射板に於いて、 前記凸部の表面と基板面とが接触線に於いてなす接触角
が10度以上、40度以下の範囲内にあることを特徴と
する反射板。14. The reflector according to claim 10, wherein a contact angle between the surface of the projection and the substrate surface at a contact line is 10 degrees or more and 40 degrees or more. A reflecting plate, which is within the range of degrees or less.
に記載の反射板に於いて、 前記凸部は1×104μm2の範囲内に15個以下で設け
られていることを特徴とする反射板。15. The reflector according to claim 10, wherein the number of the protrusions is 15 or less within a range of 1 × 10 4 μm 2. Characteristic reflector.
記載の反射板に於いて、 前記凸部がフィボナッチ数列の関係を満たす位置に設け
られていることを特徴とする反射板。16. The reflector according to claim 2, wherein the projection is provided at a position that satisfies the relationship of the Fibonacci sequence.
かつ表面が曲面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板
上に設けられた反射膜とを備える反射板であって、 前記凸部の輪郭線が、湾状ないし半島状の曲線を含むこ
とを特徴とする反射板。17. A substrate, and a plurality of substrates are provided on the substrate,
And a reflector having a curved convex portion and a reflective film provided on the substrate having the convex portion, wherein the contour of the convex portion includes a bay-shaped or peninsula-shaped curve. A reflector, characterized in that:
かつ表面が曲面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板
上に設けられた反射膜とを備える反射板であって、 前記凸部の平面形状は不定形であり、かつ前記凸部と凸
部の間に設けられている隙間部の少なくとも一部は網目
状又は不定形状に設けられていることを特徴とする反射
板。18. A substrate, and a plurality of substrates are provided on the substrate,
A convex plate having a curved surface, and a reflective film provided on the substrate having the convex portion, wherein the planar shape of the convex portion is indefinite, and the convex portion A reflecting plate, wherein at least a part of a gap provided between the projections is provided in a mesh shape or an irregular shape.
かつ表面が曲面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板
上に設けられた反射膜とを備える反射板であって、 前記凸部の輪郭線が少なくとも1つ以上の閉じた曲線を
なしており、 前記曲線に沿って基板面上に描いた接線を、所定の方向
を0度とする傾き角で表したとき、前記曲線を周回した
ときの前記傾き角の増加から減少又は減少から増加への
変化が、少なくとも3回以上であることを特徴とする反
射板。19. A substrate, and a plurality of substrates are provided on the substrate,
And a reflecting plate provided with a convex portion having a curved surface and a reflective film provided on the substrate having the convex portion, wherein the contour of the convex portion forms at least one or more closed curves. When a tangent drawn on the substrate surface along the curve is represented by an inclination angle with a predetermined direction being 0 degrees, the inclination angle decreases or increases from the increase when the circuit goes around the curve. The reflector changes at least three times.
かつ表面が曲面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板
上に設けられた反射膜とを備える反射板であって、 前記凸部の輪郭線のうち、少なくとも1つ以上が、曲線
又は直線を有する不定形の二次元閉領域をなしているこ
とを特徴とする反射板。20. A substrate, and a plurality of substrates are provided on the substrate,
And a reflector having a curved convex portion and a reflective film provided on the substrate having the convex portion, wherein at least one or more of the contours of the convex portion is a curve or A reflector having an irregular two-dimensional closed area having a straight line.
り、前記基板面の一部を露出させて、断面形状が矩形の
複数の柱状部を形成する工程と、 前記柱状部と柱状部との間の、前記基板が露出した面を
表面処理することにより、樹脂に対する親和性を付与す
る工程と、 前記複数の柱状部に熱処理を施すことにより、前記基板
が露出した面に樹脂を流動させて、表面が曲面状の凸部
を形成する工程と、 少なくとも前記凸部上に反射膜を形成する工程とを含む
ことを特徴とする反射板の製造方法。21. A step of forming a resin layer on a substrate, and patterning the resin layer into a predetermined shape to expose a part of the substrate surface to form a plurality of columnar portions having a rectangular cross-sectional shape. Forming, by applying a surface treatment to the surface of the substrate between the columnar portions and exposing the substrate, thereby imparting an affinity to resin; and performing heat treatment on the plurality of columnar portions. A step of forming a convex part having a curved surface on the surface by flowing resin to the surface where the substrate is exposed, and a step of forming a reflective film on at least the convex part. Production method.
に於いて、 前記親和性を付与する工程は、前記基板が露出した面
に、下記一般式(1)で表される官能基群から選ばれる
何れか一種の官能基、及び前記樹脂に対して親和性を示
す官能基を有する化合物を接触させることにより、前記
基板面に存在する活性水素を有する官能基と下記一般式
(1)で表される官能基群から選ばれる何れか一種の官
能基とを反応させて、前記化合物からなる被膜を形成す
る工程であることを特徴とする反射板の製造方法。 【化1】 (式中、Aはケイ素、ゲルマニウム、スズ、チタン及び
ジルコニウムからなる群より選ばれる何れか1種の原子
を表し、Xはハロゲン、アルコキシ基及びイソシアネー
ト基からなる群より選ばれる何れかの官能基を表してい
る。)22. The method of manufacturing a reflection plate according to claim 21, wherein the step of imparting the affinity includes, on a surface where the substrate is exposed, a group of functional groups represented by the following general formula (1). By contacting any one of functional groups selected from the group consisting of a compound having an affinity for the resin and a functional group having an active hydrogen, the functional group having active hydrogen existing on the substrate surface and the following general formula (1) A process of reacting with any one of the functional groups selected from the group of functional groups represented by formula (1) to form a film made of the compound. Embedded image (Wherein, A represents any one atom selected from the group consisting of silicon, germanium, tin, titanium and zirconium, and X represents any functional group selected from the group consisting of halogen, alkoxy group and isocyanate group) Represents.)
に於いて、 前記親和性を付与する工程は、前記基板が露出した面に
紫外線を照射する工程であることを特徴とする反射板の
製造方法。23. The method of manufacturing a reflector according to claim 21, wherein the step of imparting the affinity is a step of irradiating the exposed surface of the substrate with ultraviolet rays. Manufacturing method.
り、前記基板面の一部を露出させて、断面形状が矩形の
複数の柱状部を形成する工程と、 前記柱状部に可塑剤を接触させることにより、柱状部を
可塑化する工程と、 前記複数の柱状部に熱処理を施すことにより、前記基板
が露出した面に樹脂を流動させて、表面が曲面状の凸部
を形成する工程と、 少なくとも前記凸部上に反射膜を形成する工程とを含む
ことを特徴とする反射板の製造方法。24. A step of forming a resin layer on a substrate, and patterning the resin layer into a predetermined shape to expose a part of the substrate surface to form a plurality of columnar portions having a rectangular cross-sectional shape. Forming, by contacting a plasticizer to the columnar portion, plasticizing the columnar portion, by performing a heat treatment on the plurality of columnar portions, to flow the resin to the exposed surface of the substrate A method of forming a convex part having a curved surface, and a step of forming a reflective film on at least the convex part.
り、前記基板面の一部を露出させて、断面形状が矩形の
複数の柱状部を形成する工程と、 前記柱状部の表層を硬化する工程と、 前記複数の柱状部に熱処理を施すことにより、前記基板
が露出した面に樹脂を流動させて、表面が曲面状の凸部
を形成する工程と、 少なくとも前記凸部上に反射膜を形成する工程とを含む
ことを特徴とする反射板の製造方法。25. A step of forming a resin layer on a substrate, and patterning the resin layer into a predetermined shape to expose a part of the substrate surface to form a plurality of columnar portions having a rectangular cross section. Forming a step, curing the surface layer of the columnar portion, and performing a heat treatment on the plurality of columnar portions to cause a resin to flow on a surface where the substrate is exposed, thereby forming a convex portion having a curved surface. And a step of forming a reflective film on at least the convex portion.
に於いて、 前記柱状部の表層を硬化させる工程は、柱状部に対し
て、主波長が300nm以下の紫外線を照射する工程で
あることを特徴とする反射板の製造方法。26. The method of manufacturing a reflector according to claim 25, wherein the step of curing the surface layer of the columnar portion is a step of irradiating the columnar portion with ultraviolet light having a main wavelength of 300 nm or less. A method for manufacturing a reflector, comprising:
に於いて、 前記柱状部の表層を硬化させる工程は、柱状部にアルカ
リ溶液を接触させる工程であることを特徴とする反射板
の製造方法。27. The method of manufacturing a reflection plate according to claim 25, wherein the step of curing the surface layer of the columnar portion is a step of bringing an alkaline solution into contact with the columnar portion. Production method.
と、 前記感光性樹脂層に、遮光部又は透光部が所定幅の曲線
及び/又は折れ線を含むマスクパターンを有するマスク
を介して露光する工程と、 露光後の前記感光性樹脂層を現像することにより、基板
面の一部を露出させて複数の柱状部を形成する工程と、 前記複数の柱状部に熱処理を施すことにより、表面が曲
面状の凸部を形成する工程と、 少なくとも前記凸部上に反射膜を形成する工程とを少な
くとも行うことにより、 前記凸部と凸部の間に、所定幅の曲線及び/又は折れ線
を含む隙間部を備えた反射板を形成することを特徴とす
る反射板の製造方法。28. A step of forming a photosensitive resin layer on a substrate; and a step of forming a light-shielding portion or a light-transmitting portion on the photosensitive resin layer through a mask having a mask pattern including a curve and / or a polygonal line having a predetermined width. Exposing, developing the photosensitive resin layer after exposure, exposing a part of the substrate surface to form a plurality of columnar portions, and performing a heat treatment on the plurality of columnar portions, By performing at least a step of forming a convex part having a curved surface and a step of forming a reflective film on the convex part, a curved line and / or a polygonal line having a predetermined width is formed between the convex parts. A method for manufacturing a reflector, comprising: forming a reflector having a gap including:
に於いて、 前記マスクとして、前記遮光部又は透光部の幅が3μm
以下のマスクパターンを有するマスクを使用することを
特徴とする反射板の製造方法。29. The method of manufacturing a reflector according to claim 28, wherein the mask has a width of the light-shielding portion or the light-transmitting portion of 3 μm.
A method for manufacturing a reflector, comprising using a mask having the following mask pattern.
と、 前記感光性樹脂層に、所定のパターン形状を有する遮光
部又は透光部を有するマスクを介して露光する工程と、 露光後の前記感光性樹脂層を現像することにより、基板
面の一部を露出させて複数の柱状部を形成する工程と、 前記柱状部と柱状部との間の、前記基板が露出した面を
表面処理することにより、感光性樹脂に対する親和性を
付与する工程と、 前記複数の柱状部に熱処理を施すことにより、前記基板
が露出した面に感光性樹脂を流動させて、表面が曲面状
の凸部を形成する工程と、 少なくとも前記凸部上に反射膜を形成する工程とを有
し、 前記マスクとして、遮光部又は透光部の平面形状は非円
形であり、前記遮光部又は透光部の平面形状に於ける輪
郭線を微小な線分に区切った場合に、各線分の方向が全
方位又は所定の方位に向いているマスクを使用すること
を特徴とする反射板の製造方法。30. A step of forming a photosensitive resin layer on a substrate; a step of exposing the photosensitive resin layer via a mask having a light shielding portion or a light transmitting portion having a predetermined pattern shape; Developing the photosensitive resin layer to expose a part of the substrate surface to form a plurality of columnar portions; and between the columnar portions and the columnar portions, the surface where the substrate is exposed to the surface. By treating, a step of imparting affinity to a photosensitive resin, and by performing a heat treatment on the plurality of columnar portions, the photosensitive resin is caused to flow on the exposed surface of the substrate, the surface is a curved convex Forming a portion, and at least a step of forming a reflective film on the convex portion, wherein, as the mask, a planar shape of the light shielding portion or the light transmitting portion is non-circular, and the light shielding portion or the light transmitting portion The outline in the plane shape A method of manufacturing a reflector, comprising using a mask in which each line segment is oriented in all directions or a predetermined direction when divided.
れた基板と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面が曲
面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられ
た反射膜とを備える表示装置であって、 前記凸部の平面形状は非円形であり、前記凸部の平面形
状に於ける輪郭線を微小な線分に区切った場合に、各線
分の方向が全方位又は所定の方位に向いていることを特
徴とする表示装置。31. A substrate provided with a plurality of nonlinear elements and a wiring group, a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface, and a reflection provided on the substrate having the projections. A display device comprising: a film, wherein the planar shape of the convex portion is non-circular, and when a contour line in the planar shape of the convex portion is divided into minute line segments, the direction of each line segment is all A display device which is oriented in an azimuth or a predetermined azimuth.
れた基板と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面が曲
面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられ
た反射膜とを備える表示装置であって、 前記凸部と凸部の間には隙間部が設けられており、前記
隙間部は所定幅の曲線及び/又は折れ線を含むことを特
徴とする表示装置。32. A substrate provided with a plurality of nonlinear elements and wiring groups, a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface, and a reflection provided on the substrate having the projections. A display device comprising a film, wherein a gap is provided between the protrusions, and the gap includes a curve and / or a polygonal line having a predetermined width.
て、 前記隙間部の幅が一定であることを特徴とする表示装
置。33. The display device according to claim 32, wherein the width of the gap is constant.
示装置に於いて、 前記隙間部の幅が1μm以上、10μm以下の範囲内で
あることを特徴とする表示装置。34. The display device according to claim 32, wherein the width of the gap is in a range of 1 μm or more and 10 μm or less.
に記載の表示装置に於いて、 前記凸部の最大寸法が15μm以上、40μm以下の範
囲内であることを特徴とする表示装置。35. The display device according to claim 32, wherein a maximum dimension of the convex portion is in a range of 15 μm or more and 40 μm or less. .
に記載の表示装置に於いて、 前記凸部の高さが1.2μm以上、4μm以下の範囲内
であることを特徴とする表示装置。36. The display device according to claim 32, wherein the height of the protrusion is in a range of 1.2 μm or more and 4 μm or less. Display device.
に記載の表示装置に於いて、 前記凸部の最大寸法は、凸部の高さに対して5倍以上、
20倍以下の範囲内にあることを特徴とする表示装置。37. The display device according to claim 32, wherein a maximum dimension of the convex portion is at least five times a height of the convex portion,
A display device characterized by being within a range of 20 times or less.
に記載の表示装置に於いて、 前記凸部の表面と基板面とが接触線に於いてなす接触角
が10度以上、25度以下の範囲内にあることを特徴と
する表示装置。38. The display device according to claim 32, wherein a contact angle between the surface of the projection and the substrate surface at a contact line is 10 degrees or more and 25 degrees or more. A display device characterized by being within the range of degrees or less.
に記載の表示装置に於いて、 前記凸部は1×104μm2の範囲内に30個以下で設け
られていることを特徴とする表示装置。39. The display device according to claim 32, wherein the number of the protrusions is 30 or less within a range of 1 × 10 4 μm 2. Characteristic display device.
て、 前記基板は透光性を有しており、 前記隙間部は、前記反射膜に被覆されず、かつ光を透過
させる領域であることを特徴とする表示装置。40. The display device according to claim 32, wherein the substrate has a light-transmitting property, and the gap is a region that is not covered with the reflection film and transmits light. A display device characterized by the above-mentioned.
て、 前記凸部は透光性を有し、かつ凸部に於ける低位部分が
前記反射膜に被覆されていないことを特徴とする表示装
置。41. The display device according to claim 40, wherein the convex portion has a light-transmitting property, and a lower portion of the convex portion is not covered with the reflection film. Display device.
示装置に於いて、 前記凸部に於ける低位部分は、凸部の表面に接する接線
と前記基板とのなす角を傾斜角とした場合に、前記傾斜
角が15度以上の部分であることを特徴とする表示装
置。42. The display device according to claim 40 or 41, wherein the lower portion of the convex portion has an inclination angle between a tangent line contacting a surface of the convex portion and the substrate. In some cases, the display device has the inclination angle of 15 degrees or more.
に記載の表示装置に於いて、 前記隙間部の幅が1μm以上、20μm以下の範囲内で
あることを特徴とする表示装置。43. The display device according to claim 40, wherein the width of the gap is in a range of 1 μm or more and 20 μm or less.
に記載の表示装置に於いて、 前記凸部の高さが1.2μm以上、4μm以下の範囲内
であることを特徴とする表示装置。44. The display device according to claim 40, wherein the height of the projection is in a range of 1.2 μm or more and 4 μm or less. Display device.
に記載の表示装置に於いて、 前記凸部の表面と基板面とが接触線に於いてなす接触角
が10度以上、40度以下の範囲内にあることを特徴と
する表示装置。45. The display device according to claim 40, wherein a contact angle between a surface of the projection and a surface of the substrate at a contact line is 10 degrees or more and 40 degrees or more. A display device characterized by being within the range of degrees or less.
に記載の表示装置に於いて、 前記凸部は1×104μm2の範囲内に15個以下で設け
られていることを特徴とする表示装置。46. The display device according to claim 40, wherein the number of the protrusions is 15 or less within a range of 1 × 10 4 μm 2. Characteristic display device.
に記載の表示装置に於いて、 前記凸部がフィボナッチ数列の関係を満たす位置に設け
られていることを特徴とする表示装置。47. The display device according to claim 32, wherein the projection is provided at a position that satisfies the relationship of the Fibonacci sequence.
に記載の表示装置に於いて、 前記基板上に、前記非線形素子に電気的に接続された補
助容量電極が設けられており、 前記補助容量電極上には、前記隙間部の少なくとも一部
が補助容量電極の外周辺部に重なる様に、前記凸部が設
けられていることを特徴とする表示装置。48. The display device according to claim 32, wherein an auxiliary capacitance electrode electrically connected to the nonlinear element is provided on the substrate, The display device, wherein the convex portion is provided on the auxiliary capacitance electrode such that at least a part of the gap portion overlaps an outer peripheral portion of the auxiliary capacitance electrode.
に記載の表示装置に於いて、 前記補助容量電極の平面形状が、少なくとも1つの凹角
を有する多角形であることを特徴とする表示装置。49. The display device according to claim 32, wherein a planar shape of the auxiliary capacitance electrode is a polygon having at least one reentrant angle. Display device.
に記載の表示装置に於いて、 前記基板上に、前記非線形素子に電気的に接続された補
助容量電極が設けられており、 前記補助容量電極上の隙間部の幅が、他の隙間部の幅よ
り狭いことを特徴とする表示装置。50. The display device according to claim 32, wherein an auxiliary capacitance electrode electrically connected to the nonlinear element is provided on the substrate, A display device, wherein the width of the gap on the auxiliary capacitance electrode is smaller than the width of the other gap.
に記載の表示装置に於いて、 前記基板上に、前記非線形素子に電気的に接続された補
助容量電極が設けられており、 前記補助容量電極上の凸部の最大寸法が、他の凸部の最
大寸法より狭いことを特徴とする表示装置。51. The display device according to any one of claims 32 to 50, wherein an auxiliary capacitance electrode electrically connected to the nonlinear element is provided on the substrate, A display device, wherein a maximum dimension of a projection on the auxiliary capacitance electrode is smaller than a maximum dimension of another projection.
れた基板と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面が曲
面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられ
た反射膜とを備える表示装置であって、 前記凸部の輪郭線が、湾状ないし半島状の曲線を含むこ
とを特徴とする表示装置。52. A substrate provided with a plurality of non-linear elements and wiring groups, a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface, and a reflection provided on the substrate having the projections. A display device comprising: a film, wherein the contour of the convex portion includes a bay-shaped or peninsula-shaped curve.
れた基板と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面が曲
面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられ
た反射膜とを備える表示装置であって、 前記凸部の平面形状は不定形であり、かつ前記凸部と凸
部の間に設けられている隙間部の少なくとも一部は網目
状又は不定形状に設けられていることを特徴とする表示
装置。53. A substrate provided with a plurality of non-linear elements and a wiring group, a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface, and a reflection provided on the substrate having the projections. A display device comprising: a film; and a planar shape of the convex portion is irregular, and at least a part of a gap provided between the convex portion and the convex portion is provided in a mesh shape or an irregular shape. A display device, comprising:
れた基板と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面が曲
面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられ
た反射膜とを備える表示装置であって、 前記凸部の輪郭線が少なくとも1つ以上の閉じた曲線を
なしており、 前記曲線に沿って基板面上に描いた接線を、画素の長辺
方向を0度とする傾き角で表したとき、前記曲線を周回
したときの前記傾き角の増加から減少又は減少から増加
への変化が、少なくとも3回以上であることを特徴とす
る表示装置。54. A substrate provided with a plurality of non-linear elements and wiring groups, a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface, and a reflection provided on the substrate having the projections. A display device comprising: a film, wherein the contour of the convex portion forms at least one or more closed curves, and a tangent drawn on the substrate surface along the curve, in a long side direction of the pixel. A display device characterized in that a change from an increase to a decrease or an increase to a decrease or an increase from a decrease to an increase in the inclination angle when the curve goes around the curve is at least three times when represented by an inclination angle of 0 degrees.
れた基板と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面が曲
面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられ
た反射膜とを備える表示装置であって、 前記凸部の輪郭線のうち、少なくとも1つ以上が、曲線
又は直線を有する不定形の二次元閉領域をなしているこ
とを特徴とする表示装置。55. A substrate provided with a plurality of non-linear elements and wiring groups, a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface, and a reflection provided on the substrate having the projections. A display device comprising: a film, wherein at least one or more of the contour lines of the convex portion forms an irregular two-dimensional closed region having a curve or a straight line.
て、 前記凸部の輪郭線が、画素の長辺と平行又は垂直な方向
に対して角度を有する曲線又は直線を含むことを特徴と
する表示装置。56. The display device according to claim 55, wherein the contour of the convex portion includes a curve or a straight line having an angle with respect to a direction parallel or perpendicular to a long side of the pixel. Display device.
れた基板と、前記基板上に複数設けられ、かつ表面が曲
面状の凸部と、前記凸部を有する前記基板上に設けられ
た反射膜とを備える表示装置であって、 前記凸部の輪郭線が、前記配線に対して角度を有する曲
線又は直線を含むことを特徴とする表示装置。57. A substrate provided with a plurality of nonlinear elements and wiring groups, a plurality of projections provided on the substrate and having a curved surface, and a reflection provided on the substrate having the projections. A display device comprising: a film; and a contour line of the convex portion includes a curve or a straight line having an angle with respect to the wiring.
かつ表面が曲面状の凸部とを有する凹凸構造体であっ
て、 前記凸部の平面形状は非円形であり、前記凸部の平面形
状に於ける輪郭線を微小な線分に区切った場合に、各線
分の方向が全方位又は所定の方位に向いていることを特
徴とする凹凸構造体。58. A substrate, and a plurality of substrates are provided on the substrate,
And a convex-concave structure having a curved convex portion on the surface, wherein the planar shape of the convex portion is non-circular, and a contour line in the planar shape of the convex portion is divided into minute segments. A concave-convex structure, characterized in that the direction of each line segment is oriented in all directions or a predetermined direction.
かつ表面が曲面状の凸部とを有する凹凸構造体であっ
て、 前記凸部と凸部の間には隙間部が設けられており、前記
隙間部は所定幅の曲線及び/又は折れ線を含むことを特
徴とする凹凸構造体。59. A substrate, and a plurality of substrates are provided on the substrate,
And a concave / convex structure having a curved convex portion on the surface, wherein a gap is provided between the convex portions, and the gap portion includes a curve and / or a polygonal line having a predetermined width. An uneven structure, characterized in that:
かつ表面が曲面状の凸部とを有する凹凸構造体であっ
て、 前記凸部の輪郭線が、湾状ないし半島状の曲線を含むこ
とを特徴とする凹凸構造体。60. A substrate, a plurality of which are provided on the substrate,
An uneven structure having a convex portion having a curved surface, wherein the contour of the convex portion includes a bay-shaped or peninsula-shaped curve.
かつ表面が曲面状の凸部とを有する凹凸構造体であっ
て、 前記凸部の平面形状は不定形であり、かつ前記凸部と凸
部の間に設けられている隙間部の少なくとも一部は網目
状又は不定形状に設けられていることを特徴とする凹凸
構造体。61. A substrate, and a plurality of substrates are provided on the substrate,
And a concave-convex structure having a convex portion having a curved surface, wherein the planar shape of the convex portion is irregular, and at least a part of a gap provided between the convex portion and the convex portion. Is an uneven structure provided in a mesh or irregular shape.
かつ表面が曲面状の凸部とを有する凹凸構造体であっ
て、 前記凸部の輪郭線が少なくとも1つ以上の閉じた曲線を
なしており、 前記曲線に沿って基板面上に描いた接線を、所定の方向
を0度とする傾き角で表したとき、前記曲線を周回した
ときの前記傾き角の増加から減少又は減少から増加への
変化が、少なくとも3回以上であることを特徴とする凹
凸構造体。62. A substrate, and a plurality of substrates are provided on the substrate,
And a concave-convex structure having a convex portion having a curved surface, wherein the contour of the convex portion forms at least one or more closed curves, and a tangent drawn on the substrate surface along the curve. Is represented by an inclination angle with a predetermined direction being 0 degrees, wherein the change from the increase to the decrease or the decrease to the increase of the inclination angle when circling the curve is at least three times or more. Uneven structure.
かつ表面が曲面状の凸部とを有する凹凸構造体であっ
て、 前記凸部の輪郭線のうち、少なくとも1つ以上が、曲線
又は直線を有する不定形の二次元閉領域をなしているこ
とを特徴とする凹凸構造体。63. A substrate, and a plurality of substrates are provided on the substrate,
And a concave-convex structure having a convex part having a curved surface, wherein at least one or more of the contours of the convex part form an irregular two-dimensional closed region having a curve or a straight line. An uneven structure characterized by the following.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001230224A JP2002328211A (en) | 2000-07-28 | 2001-07-30 | Reflection sheet, method for manufacturing the same, and display device using the same |
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007506118A (en) * | 2003-09-15 | 2007-03-15 | コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ.ブイ. | Reflective structure having diffuse reflection directivity and apparatus comprising the same |
WO2011070866A1 (en) * | 2009-12-08 | 2011-06-16 | シャープ株式会社 | Liquid crystal display device |
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JP2012220833A (en) * | 2011-04-12 | 2012-11-12 | Dainippon Printing Co Ltd | Optical member, surface light source device and image display device |
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WO2016003792A1 (en) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 3M Innovative Properties Company | Metallic microstructures with reduced-visibility and methods for producing same |
-
2001
- 2001-07-30 JP JP2001230224A patent/JP2002328211A/en not_active Withdrawn
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