JP2002313613A - Method of manufacturing chip electronic part - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、行列方向の格子状
に区分した領域にそれぞれ電子部品としての素子を形成
したセラミック基板を分割して個別のチップ電子部品を
形成するチップ電子部品の製造方法に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a chip electronic component by dividing a ceramic substrate on which elements as electronic components are formed in regions divided in a matrix in a matrix direction to form individual chip electronic components. It is about.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、抵抗、コンデンサ、インダクタ、
フィルタ、各種センサなどのチップ電子部品は、セラミ
ックグリーンシートに金型により行列方向の基板分割溝
としてのVカット溝を形成し、この基板分割溝によって
区分された素子形成領域毎に電子部品としての素子を形
成後に、上記Vカット溝にしたがって個片化してチップ
電子部品を得る方法が採用されていた。しかしながら、
この従来方法では、グリーンシートの焼成時にセラミッ
ク基板が収縮する関係で素子形成領域の寸法精度があま
り良くなく、また寸法ばらつきも大きい。2. Description of the Related Art Conventionally, resistors, capacitors, inductors,
Chip electronic components such as filters and various sensors form V-cut grooves as substrate dividing grooves in a matrix direction in a ceramic green sheet using a mold, and each element forming region divided by the substrate dividing grooves serves as an electronic component. After the element is formed, a method has been adopted in which individual chips are formed according to the V-cut grooves to obtain chip electronic components. However,
In this conventional method, the dimensional accuracy of the element forming region is not so good and the dimensional variation is large because the ceramic substrate shrinks when the green sheet is fired.
【0003】近年、チップ電子部品はプリント配線板へ
の実装の高密度化のため、より小さい寸法のものが要求
されて来ている。このようなより小さいサイズのチップ
電子部品を得るには、行列方向の格子状に区分したセラ
ミック基板の素子形成領域毎にそれぞれ電子部品として
の素子を形成した後、そのセラミック基板にブレードデ
ィスクにより基板分割溝を行列方向に形成し、その基板
分割溝にしたがってセラミック基板を分割して個片化
し、チップ電子部品とするダイシング方法が考えられ
る。In recent years, chip electronic components have been required to have smaller dimensions in order to increase the mounting density on printed wiring boards. In order to obtain such a chip electronic component of a smaller size, an element as an electronic component is formed for each element forming region of the ceramic substrate divided in a matrix in a matrix direction, and then the substrate is formed on the ceramic substrate by a blade disk. A dicing method is conceivable in which a dividing groove is formed in the matrix direction, and the ceramic substrate is divided into individual pieces according to the substrate dividing groove to obtain chip electronic components.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たダイシング方法によりセラミック基板を個片化し、チ
ップ電子部品を得る場合には、セラミック基板に対し
て、まず、ブレードディスクによりたとえば行方向の基
板分割溝をスリット孔として形成した後に列方向にスク
ライブ溝を形成することになるため、この列方向のスク
ライブ溝の形成時に、すでに行方向のスリット孔により
短冊化された短冊片が共振してブレードディスクにより
列方向のスクライブ溝を形成しにくく、また、短冊片の
一部がブレードディスクによる列方向のスクライブ溝の
形成時に個片として破損してしまうという問題があっ
た。However, when the ceramic substrate is divided into individual pieces by the above-mentioned dicing method to obtain chip electronic components, first, for example, a board dividing groove in a row direction is formed on the ceramic substrate by a blade disk. Since the scribe groove is formed in the column direction after forming as a slit hole, at the time of forming this scribe groove in the column direction, the strip piece already stripped by the slit hole in the row direction resonates and the blade disk causes There is a problem that it is difficult to form the scribe grooves in the column direction, and a part of the strip is broken as an individual piece when the scribe grooves in the column direction are formed by the blade disk.
【0005】本発明は、前記した課題を解決するもので
あり、行方向の基板分割溝をスリット孔として形成した
セラミック基板に対しても列方向のスクライブ溝を支障
なく形成することができ、以後チップ電子部品として個
片化することができるチップ電子部品の製造方法を提供
することを目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and a scribe groove in a column direction can be formed without any trouble on a ceramic substrate in which a substrate division groove in a row direction is formed as a slit hole. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a chip electronic component that can be singulated as a chip electronic component.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
発明は、電子部品としての素子形成領域を行列方向の格
子状に区分し、各々の素子形成領域における列方向に端
面電極を配列するセラミック基板に対し、当該素子形成
領域毎に個片化するための格子状の基板分割溝を形成す
るにあたり、少なくとも前記素子形成領域を行方向に分
割する列方向の基板分割溝を前記セラミック基板に対し
てレーザ光を掃引照射することによりスクライブ溝とし
て形成し、その後、前記格子状の基板分割溝により前記
セラミック基板を素子形成領域毎に個片に分割すること
を特徴とするものであり、列方向の基板分割溝としての
スクライブ溝がレーザ光により食刻されるため、ダイシ
ング用のブレードディスクによるスクライブ溝の形成時
と異なり、短冊片の共振現象がなく、支障なく列方向に
スクライブ溝を形成できるという作用を有する。According to a first aspect of the present invention, an element forming region as an electronic component is divided into a matrix in a matrix direction, and end face electrodes are arranged in a column direction in each element forming region. In forming a lattice-shaped substrate dividing groove for singulating each element forming region in the ceramic substrate to be divided, at least the column direction substrate dividing groove dividing the element forming region in the row direction is formed on the ceramic substrate. Is formed as a scribe groove by sweeping irradiation with a laser beam, and thereafter, the ceramic substrate is divided into individual pieces for each element formation region by the lattice-shaped substrate division groove, Since the scribe groove as the substrate division groove in the column direction is etched by the laser beam, unlike the case where the scribe groove is formed by the dicing blade disk, a strip piece is formed. No resonance phenomenon, an effect that can form a scribe groove in the column direction without hindrance.
【0007】請求項2に記載の発明は、請求項1記載の
発明において、基板セラミック基板に形成する格子状の
基板分割溝のうち、行方向の基板分割溝を前記レーザ光
による列方向のスクライブ溝の形成前にダイシングによ
りスリット孔として形成することを特徴とするものであ
り、請求項1と同様の作用を有する。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, of the lattice-shaped substrate division grooves formed in the substrate ceramic substrate, the substrate division grooves in the row direction are scribed in the column direction by the laser light. It is formed as a slit hole by dicing before forming the groove, and has the same function as the first aspect.
【0008】請求項3に記載の発明は、請求項2記載の
発明において、前記レーザ光による列方向のスクライブ
溝を電子部品としての素子の形成面の背面側から形成す
ることを特徴とするものであり、素子形成面に支障を与
えることなく列方向のスクライブ溝を形成できるという
作用を有する。According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the scribe grooves in the column direction by the laser beam are formed from the back side of the element forming surface as an electronic component. This has the effect that the scribe grooves in the column direction can be formed without disturbing the element formation surface.
【0009】請求項4に記載の発明は、請求項2または
3記載の発明において、前記ダイシングにより形成した
スリット孔による行方向の基板分割溝を、前記レーザ光
による列方向のスクライブ溝の行方向における最外位置
を越えて形成することを特徴とするものであり、列方向
のスクライブ溝により個片化されるチップ電子部品を確
実に分割することができるという作用を有する。According to a fourth aspect of the present invention, in the second or third aspect, the substrate dividing groove in the row direction formed by the slit hole formed by the dicing is replaced with the row direction of the scribe groove in the column direction by the laser beam. In this case, the chip electronic components separated by the scribe grooves in the column direction can be surely divided.
【0010】請求項5に記載の発明は、請求項1記載の
発明において、前記セラミック基板に形成する格子状の
基板分割溝のうち、行方向の基板分割溝も、前記レーザ
光による列方向のスクライブ溝の形成前にレーザ光を掃
引照射することによりスリット孔として形成することを
特徴とするものであり、列方向のスクライブ溝および行
方向のスリット孔のいずれもがレーザ光により形成され
るため、セラミック基板内に区分される素子形成領域の
有効範囲を拡大することができるという作用を有する。According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, among the lattice-shaped substrate division grooves formed in the ceramic substrate, the row-direction substrate division grooves are also arranged in the column direction by the laser light. Before forming the scribe groove, the laser light is swept and irradiated to form slit holes, and both the scribe grooves in the column direction and the slit holes in the row direction are formed by the laser light. This has the effect that the effective range of the element formation region divided in the ceramic substrate can be expanded.
【0011】請求項6に記載の発明は、請求項1記載の
発明において、前記レーザ光の掃引照射を、セラミック
基板に設けた電子部品としての素子位置を認識カメラに
より認識して行なうことを特徴とするものであり、素子
形成領域に対して精度良く列方向のスクライブ溝を形成
できるという作用を有する。According to a sixth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the sweep irradiation of the laser light is performed by recognizing an element position as an electronic component provided on the ceramic substrate by a recognition camera. This has the effect that the scribe grooves in the column direction can be accurately formed in the element formation region.
【0012】請求項7に記載の発明は、請求項6記載の
発明において、前記認識カメラによる素子位置の認識時
に、電子部品としての素子位置を判別するための素子形
成面からの照明とセラミック基板を透過する照明を併用
することを特徴とするものであり、確実で高精度に素子
位置を認識することができるという作用を有する。According to a seventh aspect of the present invention, in the sixth aspect of the present invention, when the recognition of the element position by the recognition camera, the illumination from the element forming surface and the ceramic substrate for discriminating the element position as an electronic component. It is characterized by using illumination that transmits light at the same time, and has the effect that the element position can be recognized reliably and with high accuracy.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】(実施の形態1)以下、本発明の
実施の形態1におけるチップ電子部品の製造方法につい
て図面を用いて説明する。図1は本発明の実施の形態1
におけるチップ電子部品の製造過程でのセラミック基板
の平面図、図2は同断面図、図3は同製造過程での側面
図、図4は同要部の拡大図である。Embodiment 1 Hereinafter, a method for manufacturing a chip electronic component according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows Embodiment 1 of the present invention.
2 is a plan view of the ceramic substrate in the manufacturing process of the chip electronic component, FIG. 2 is a sectional view of the same, FIG. 3 is a side view in the same manufacturing process, and FIG. 4 is an enlarged view of the main part.
【0014】図1乃至図4において、11はレーザ光発
生器(図示せず)より発生したレーザ光、12はレーザ
光11の集光、強度設定、ON/OFF、掃引照射など
を行う制御部、13は素子2aと同一面でセラミック基
板1の周縁枠5部分に設けた1あるいは複数個でなる位
置合せ用の認識マークである。1 to 4, reference numeral 11 denotes a laser beam generated by a laser light generator (not shown), and reference numeral 12 denotes a control unit which performs condensing, intensity setting, ON / OFF, sweep irradiation and the like of the laser beam 11. Reference numerals 13 and 13 denote one or a plurality of alignment recognition marks provided on the peripheral frame 5 of the ceramic substrate 1 on the same surface as the element 2a.
【0015】16はレーザ光11が掃引照射されてスク
ライブ溝14が設けられる加工面、20は素子2aが形
成され加工面16とは反対側の素子形成面、17は加工
面側より照射するセラミック基板1を透過する照明光
源、18は認識カメラ19により認識マーク13や素子
2aを認識するために素子形成面より照射する照明光源
である。Reference numeral 16 denotes a processing surface on which a scribe groove 14 is provided by sweeping irradiation of the laser beam 11, reference numeral 20 denotes an element forming surface on which the element 2a is formed and opposite to the processing surface 16, and reference numeral 17 denotes a ceramic irradiated from the processing surface side. Reference numeral 18 denotes an illumination light source that transmits through the substrate 1, and is an illumination light source that emits light from an element formation surface to allow the recognition camera 19 to recognize the recognition mark 13 and the element 2 a.
【0016】前記したセラミック基板1は行列方向に格
子状となるように電子部品としての素子形成領域1aが
区分されており、これらの素子形成領域1aのそれぞれ
には電子部品としての素子2aが形成されると共に素子
形成領域の列方向への並び方向に端面電極2bが配列さ
れている。そして、セラミック基板1には各々の素子形
成領域を区分するように行方向の基板分割溝としてのス
リット孔3が所定間隔で複数本設けられると共に列方向
の基板分割溝としてのスクライブ溝14が所定の間隔で
複数本設けられている。ここで、前記した端面電極2b
は、図2に示すように素子形成面20側に設けた表面下
地電極2b−1、素子形成面20と反対の加工面16側
に設けた背面下地電極2b−2、これら表面下地電極2
b−1と背面下地電極2b−2間を接続するようにスリ
ット孔3内の孔壁に設けた端面下地電極2b−3、上記
した各下地電極2b−1、2b−2、2b−3の表面に
設けためっき電極2b−4より形成されている。The above-mentioned ceramic substrate 1 is divided into element forming regions 1a as electronic parts so as to form a lattice shape in a matrix direction, and in each of these element forming regions 1a, an element 2a as an electronic part is formed. At the same time, the end face electrodes 2b are arranged in the direction in which the element forming regions are arranged in the column direction. The ceramic substrate 1 is provided with a plurality of slit holes 3 as a substrate dividing groove in a row direction at predetermined intervals so as to divide each element formation region, and has a scribe groove 14 as a substrate dividing groove in a column direction. Are provided at intervals of. Here, the above-mentioned end face electrode 2b
2 is a front base electrode 2b-1 provided on the element formation surface 20 side, a back base electrode 2b-2 provided on the processing surface 16 side opposite to the element formation surface 20 as shown in FIG.
The end base electrode 2b-3 provided on the hole wall in the slit hole 3 so as to connect between the base base electrode 2b-2 and the back base electrode 2b-2, and the above-described base electrodes 2b-1, 2b-2 and 2b-3 It is formed of a plating electrode 2b-4 provided on the surface.
【0017】次に、チップ電子部品の製造手順について
説明する。まず、焼成ずみのセラミック基板1の素子形
成面20に電子部品としての素子2aを格子状に区分さ
れた素子形成領域1aのそれぞれに形成する。この素子
2aの形成時にセラミック基板1の周縁枠5における素
子形成面側に認識マーク13も同時に形成する。Next, a procedure for manufacturing the chip electronic component will be described. First, on the element forming surface 20 of the fired ceramic substrate 1, elements 2a as electronic components are formed in each of the element forming regions 1a divided into a lattice. When the element 2a is formed, the recognition mark 13 is also formed on the element forming surface side of the peripheral frame 5 of the ceramic substrate 1 at the same time.
【0018】この素子2aおよび認識マーク13の形成
後、上記した認識マーク13を基準として、セラミック
基板1の素子形成面20に表面下地電極2b−1を形成
し、セラミック基板1を反転した後に上述した認識マー
ク13を基準としてセラミック基板1の加工面16側に
背面下地電極2b−2を形成する。After the formation of the element 2a and the recognition mark 13, a surface base electrode 2b-1 is formed on the element formation surface 20 of the ceramic substrate 1 with reference to the recognition mark 13 described above. A back ground electrode 2b-2 is formed on the processing surface 16 side of the ceramic substrate 1 with reference to the recognition mark 13 thus obtained.
【0019】この背面下地電極の形成後、上記した認識
マーク13を基準として、行方向の基板分割溝としての
スリット孔3を素子形成領域1aを列方向に区分するよ
うに複数本形成し、セラミック基板1内に複数の短冊片
を作製する。このスリット孔3の形成後、スリット孔
3、表面下地電極2b−1を除くようにセラミック基板
1の素子2aを含む素子形成面をマスキングした状態で
スリット孔3の孔壁に端面下地電極2b−3を蒸着法に
より形成し、次にめっき法により表面下地電極2b−
1、背面下地電極2b−2および端面下地電極2b−3
を含むようにめっき電極2b−4を形成して端面電極2
bを形成する。After the formation of the back base electrode, a plurality of slit holes 3 as substrate dividing grooves in the row direction are formed on the basis of the recognition mark 13 so as to divide the element forming region 1a in the column direction. A plurality of strips are formed in the substrate 1. After the formation of the slit hole 3, the end surface base electrode 2 b-is formed on the hole wall of the slit hole 3 in a state where the element forming surface including the element 2 a of the ceramic substrate 1 is masked so as to remove the slit hole 3 and the surface base electrode 2 b-1. 3 is formed by a vapor deposition method, and then the surface base electrode 2b- is formed by a plating method.
1, back base electrode 2b-2 and end face base electrode 2b-3
The plating electrode 2b-4 is formed so as to include
b is formed.
【0020】次に、マスキングを除去した状態で素子形
成面側の素子2aのそれぞれに保護コート(図示せず)
を形成するなどした後、上述した認識マーク13を認識
カメラ19により認識し、セラミック基板1の加工面1
6側から列方向の基板分割溝としてのスクライブ溝14
を行方向に複数本形成する。この時、スクライブ溝14
の最外位置は効率よく個片化するためにもスリット孔3
の形成領域内にあることは云うまでもない。Next, with the masking removed, a protective coat (not shown) is applied to each of the elements 2a on the element forming surface side.
Is formed, the recognition mark 13 described above is recognized by the recognition camera 19, and the processed surface 1 of the ceramic substrate 1 is formed.
Scribing grooves 14 as substrate dividing grooves in the column direction from the 6 side
Are formed in the row direction. At this time, the scribe grooves 14
The outermost position of the slit 3
It is needless to say that it is within the formation region.
【0021】ここで、チップ電子部品の基板分割溝であ
るスクライブ溝14の形成法について説明する。図3に
示すようにセラミック基板1を、加工面16を上にそし
て素子形成面20を下にして加工治具(図示せず)に設
定する。そして、照明光源17および照明光源18にて
加工面16および素子形成面20に照射し、認識カメラ
19により認識マーク13および素子2aを、焦点ぼ
け、反射およびコントラストの不足が無く、確実に認識
して所定の位置となるように加工治具を操作する。Here, a method of forming the scribe groove 14 which is a substrate division groove of the chip electronic component will be described. As shown in FIG. 3, the ceramic substrate 1 is set on a processing jig (not shown) with the processing surface 16 up and the element formation surface 20 down. The illumination light source 17 and the illumination light source 18 irradiate the processing surface 16 and the element forming surface 20, and the recognition camera 19 reliably recognizes the recognition mark 13 and the element 2a without defocus, reflection and lack of contrast. The processing jig is operated so as to be at a predetermined position.
【0022】次に、制御部12により制御操作されたレ
ーザ光11を加工面16に掃引照射して、図4に示すよ
うに所定間隔で所定本数のスクライブ溝14を設けて基
板分割溝を形成する。そして、後工程のためにセラミッ
ク基板1の周縁枠5を必要とする場合、レーザ光11に
よる掃引照射加工のため、スクライブ溝14の投入最初
と最後はほぼ直線的となり、活用できない部分(周縁枠
寸法)が小さくなるのである。Next, the laser beam 11 controlled and controlled by the control section 12 is swept onto the processing surface 16 to form a predetermined number of scribe grooves 14 at predetermined intervals as shown in FIG. I do. When the peripheral frame 5 of the ceramic substrate 1 is required for the post-process, the first and last insertion of the scribe grooves 14 are almost linear due to the sweep irradiation processing by the laser beam 11, and the part which cannot be used (peripheral frame) Dimension) becomes smaller.
【0023】なお、本実施の形態においては、レーザ光
を動かすことにより掃引照射する場合について説明した
が、セラミック基板1を搭載する加工治具をXYテーブ
ルに装着し、このXYテーブルを動作させることにより
レーザ光を掃引照射するものとしてもよい。In this embodiment, the case where the laser beam is moved for sweeping irradiation has been described. However, a processing jig on which the ceramic substrate 1 is mounted is mounted on the XY table and the XY table is operated. May be used for sweeping and irradiating a laser beam.
【0024】また、本実施の形態では認識マークを素子
形成面の周縁枠部分に設けたが、電子部品としての素子
パターンそのものを認識するようにしてもよい。In the present embodiment, the recognition mark is provided on the peripheral frame portion of the element forming surface, but the element pattern itself as an electronic component may be recognized.
【0025】また、本実施の形態においては、ブレード
ディスクにより行方向の基板分割溝としてのスリット孔
を形成したが、このスリット孔はレーザ光により形成し
てもよいことは云うまでもない。In this embodiment, the slit holes are formed as the substrate dividing grooves in the row direction by the blade disk. However, it is needless to say that the slit holes may be formed by laser light.
【0026】[0026]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、列方向の
基板分割溝としてのスクライブ溝がレーザ光の掃引照射
により形成するようにしたので、すでに行方向の基板分
割溝としてのスリット孔により短冊片としたセラミック
基板に対しても、短冊片それ自体が共振することなくス
クライブ溝を形成することができ、スクライブ溝の形成
時に短冊片の一部が破損するという支障をなくすること
ができるものである。As described above, according to the present invention, the scribing grooves as the substrate dividing grooves in the column direction are formed by sweeping irradiation of the laser beam, so that the slit holes as the substrate dividing grooves in the row direction are already formed. Therefore, the scribe groove can be formed on the ceramic substrate made into a strip without resonance of the strip itself, and the trouble that a part of the strip is damaged when the scribe groove is formed can be eliminated. You can do it.
【図1】本発明の実施の形態1におけるチップ電子部品
の一製造過程におけるセラミック基板の平面図FIG. 1 is a plan view of a ceramic substrate in one manufacturing process of a chip electronic component according to a first embodiment of the present invention.
【図2】同要部の拡大断面図FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the main part.
【図3】同製造過程での側面図FIG. 3 is a side view in the same manufacturing process.
【図4】同要部拡大図FIG. 4 is an enlarged view of the main part.
1 セラミック基板 2a 素子 2b 端面電極 3 スリット孔 5 周縁枠 11 レーザ光 12 制御部 13 認識マーク 14 スクライブ溝 16 加工面 17 照明光源 18 照明光源 19 認識カメラ 20 素子形成面 Reference Signs List 1 ceramic substrate 2a element 2b end face electrode 3 slit hole 5 peripheral frame 11 laser beam 12 control unit 13 recognition mark 14 scribe groove 16 processing surface 17 illumination light source 18 illumination light source 19 recognition camera 20 element forming surface
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 皆藤 裕祥 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山本 光紀 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E032 CA01 CC03 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing from the front page (72) Inventor Hiroyoshi Minato 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Mitsunori Yamamoto 1006 Kadoma Kazuma Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 5E032 CA01 CC03
Claims (7)
向の格子状に区分し、各々の素子形成領域における列方
向に端面電極を配列するセラミック基板に対し、当該素
子形成領域毎に個片化するための格子状の基板分割溝を
形成するにあたり、少なくとも前記素子形成領域を行方
向に分割する列方向の基板分割溝を前記セラミック基板
に対してレーザ光を掃引照射することによりスクライブ
溝として形成し、その後、前記格子状の基板分割溝によ
り前記セラミック基板を素子形成領域毎に個片に分割す
ることを特徴とするチップ電子部品の製造方法。1. An element forming region as an electronic component is divided into a matrix in a matrix direction, and a ceramic substrate having end face electrodes arranged in a column direction in each element forming region is divided into individual element forming regions. In forming a lattice-shaped substrate division groove for forming a substrate, at least the substrate division groove in the column direction that divides the element formation region in the row direction is formed as a scribe groove by sweeping and irradiating the ceramic substrate with laser light. Thereafter, the ceramic substrate is divided into individual pieces for each element forming region by the lattice-shaped substrate dividing grooves.
基板分割溝のうち、行方向の基板分割溝は前記レーザ光
による列方向のスクライブ溝の形成前にダイシングによ
りスリット孔として形成することを特徴とする請求項1
記載のチップ電子部品の製造方法。2. A semiconductor device according to claim 1, wherein, among the lattice-shaped substrate division grooves formed on the ceramic substrate, the substrate division grooves in the row direction are formed as slit holes by dicing before forming the scribe grooves in the column direction by the laser beam. Claim 1
The manufacturing method of the chip electronic component according to the above.
溝は電子部品としての素子の形成面の背面側から形成す
ることを特徴とする請求項2記載のチップ電子部品の製
造方法。3. The method of manufacturing a chip electronic component according to claim 2, wherein the scribe groove in the column direction by the laser beam is formed from the back side of the surface on which the element as the electronic component is formed.
孔による行方向の基板分割溝は、前記レーザ光による列
方向のスクライブ溝の行方向における最外位置を越えて
形成することを特徴とする請求項2または3のいずれか
ひとつに記載のチップ電子部品の製造方法。4. The substrate dividing groove in the row direction formed by the slit hole formed by the dicing is formed beyond the outermost position in the row direction of the scribe groove in the column direction by the laser beam. Or the method for manufacturing a chip electronic component according to any one of the above items.
基板分割溝のうち、行方向の基板分割溝も、前記レーザ
光による列方向のスクライブ溝の形成前にレーザ光を掃
引照射することによりスリット孔として形成することを
特徴とする請求項1記載のチップ電子部品の製造方法。5. Among the lattice-shaped substrate division grooves formed on the ceramic substrate, the substrate division grooves in the row direction are also slit by sweeping and irradiating laser light before forming the scribe grooves in the column direction by the laser light. The method according to claim 1, wherein the chip electronic component is formed as a hole.
板に設けた電子部品としての素子位置を認識カメラによ
り認識して行なうことを特徴とする請求項1に記載のチ
ップ電子部品の製造方法。6. The method of manufacturing a chip electronic component according to claim 1, wherein the sweep irradiation of the laser beam is performed by recognizing an element position as an electronic component provided on the ceramic substrate by a recognition camera.
に、電子部品としての素子位置を判別するための素子形
成面からの照明とセラミック基板を透過する照明を併用
することを特徴とする請求項6に記載のチップ電子部品
の製造方法。7. The device according to claim 6, wherein at the time of recognizing an element position by the recognition camera, illumination from an element forming surface for determining an element position as an electronic component and illumination transmitted through a ceramic substrate are used in combination. 3. The method for manufacturing a chip electronic component according to claim 1.
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Cited By (4)
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JP2004296952A (en) * | 2003-03-28 | 2004-10-21 | Tdk Corp | Electronic component and its outer layer forming method |
JP2005317927A (en) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Mitsubishi Materials Corp | Chip resistor |
JP2006128480A (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Taiyosha Electric Co Ltd | Chip resistor manufacturing method |
JP2006186231A (en) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Kamaya Denki Kk | Chip resistor and its manufacturing method |
-
2001
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004296952A (en) * | 2003-03-28 | 2004-10-21 | Tdk Corp | Electronic component and its outer layer forming method |
JP2005317927A (en) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Mitsubishi Materials Corp | Chip resistor |
JP2006128480A (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Taiyosha Electric Co Ltd | Chip resistor manufacturing method |
JP4602738B2 (en) * | 2004-10-29 | 2010-12-22 | 太陽社電気株式会社 | Manufacturing method of chip resistor |
JP2006186231A (en) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Kamaya Denki Kk | Chip resistor and its manufacturing method |
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