JP2002309090A - 半導電性シリコーンゴム組成物 - Google Patents
半導電性シリコーンゴム組成物Info
- Publication number
- JP2002309090A JP2002309090A JP2001111765A JP2001111765A JP2002309090A JP 2002309090 A JP2002309090 A JP 2002309090A JP 2001111765 A JP2001111765 A JP 2001111765A JP 2001111765 A JP2001111765 A JP 2001111765A JP 2002309090 A JP2002309090 A JP 2002309090A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silicone rubber
- parts
- amount
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
ルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキ
サン:100重量部、(B)一分子中に珪素原子に結合
した水素原子を少なくとも平均2個有するオルガノハイ
ドロジェンポリシロキサン:組成物中の珪素原子に結合
したアルケニル基のモル数に対し、珪素原子に結合する
水素原子のモル数の比が1:0.5〜1:7となるよう
な量、(C)黒鉛状カーボンブラック1〜30重量部、
(D)白金族金属系触媒:触媒量を含み、かつ体積抵抗
率が108(Ω・cm)以下であることを特徴とする半
導電性シリコーンゴム組成物。 【効果】 ゴム弾性に富み、かつ半導電領域で安定した
体積抵抗率を持ち、静電、除電、電磁波シールト、ゴム
パッキンやオイルシール、ゴム接点や事務機用ロール
等、あらゆる半導電性が求められる種々の用途について
広範囲に使用できる。
Description
また半導電性に優れた半導電性シリコーンゴムを与え、
静電、除電、電磁波シールド、ゴムパッキンやオイルシ
ール、ゴム接点や事務機用口ール等、あらゆる半導電性
が求められる部位について広範囲に使用できる、半導電
性シリコーンゴム組成物に関する。
エラストマーは、ゴム接点や静電、除電、電磁波シール
ド、各種導電ロール材料等に広く使用されており、原料
は使用される目的(ゴム強度、摩耗性、難燃性など)に
よってシリコーンを含め、ウレタン、エチレン、プロピ
レン、天然ゴム等に代表されるように様々な材料が使用
されている。
性カーボンや導電金属粉体を配合した電子伝導タイプや
リチウム系などのイオン導電剤を配合したイオン導電タ
イプ等が存在するが、一般的には電子伝導タイプが広く
用いられている。
多量のイオン導電剤の伝達物質(バインダー)の添加が
必要であるため、ゴム材料の架橋阻害や機械的強度の低
下を引き起こし、実用に耐え得る製品は今のところ現れ
ていない。
性、耐候性等の性質に優れるため、ゴム接点や事務機材
料などに広く使用されるが、導電性カーボンブラックを
用いて導電性を付与しようとする場合、シリコーンゴム
の分子量が小さいことと結晶化部がないことの理由か
ら、導電性カーボンブラックの配合量が限られるという
問題がある。この場合、カーボンの添加量によって永久
伸(tension set)に代表される機械的強度
やゴム弾性が悪化してしまう欠点がある。一方で、半導
電領域で安定した体積抵抗率(106〜108(Ω・c
m))を持つ半導電性シリコーンゴム組成物については
これまでに知られていない。なお、体積抵抗率を半導電
領域(106〜108(Ω・cm))で安定させようとし
た場合、既知の導電性カーボンブラックではカーボンブ
ラックの配合量を増量するに従い、特に微量な配合量変
化で体積抵抗率が絶縁領域から導電領域へと急激に大き
く変化するという問題がある。
半導電領域で安定した体積抵抗率(106〜108(Ω・
cm))を持つシリコーンゴムを与える半導電性シリコ
ーンゴム組成物を提供することを目的とする。
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、約1500℃以上の高温後処理を行うことによって
黒鉛化され、不純物が低減されたファーネスブラックも
しくはサーマルブラックを導電性カーボンとして配合し
た半導電性シリコーンゴム組成物が、半導電領域で安定
した体積抵抗率を有し、ゴム弾性が良好なシリコーンゴ
ム硬化物を与えることを知見し、本発明をなすに至っ
た。
原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有するオ
ルガノポリシロキサン:100重量部、(B)一分子中
に珪素原子に結合した水素原子を少なくとも平均2個有
するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:組成物中
の珪素原子に結合したアルケニル基のモル数に対し、珪
素原子に結合する水素原子のモル数の比が1:0.5〜
1:7となるような量、(C)ファーネスブラック法も
しくはサーマルブラック法で製造されたカーボンブラッ
クを原料とし、黒鉛化処理が1500℃以上4000℃
以下で行われ、平均粒子径が200nm以下かつ揮発分
が0.5重量%以下の黒鉛状カーボンブラック1〜30
重量部、(D)塩化白金酸、白金オレフィン錯体、白金
ビニルシロキサン錯体、白金黒、白金トリフェニルフォ
スフィン錯体等の白金系触媒に代表される白金族金属系
触媒:触媒量、好ましくは全組成分の合計量に対する白
金族金属の重量換算で0.1〜500ppm、及び必要
により(E)一分子中にアルケニル基を有するシロキサ
ン単位と、式SiO4/2及び/又はR”SiO3/2(R”
は脂肪族不飽和結合を有さない一価炭化水素基)で示さ
れるシロキサン単位とを含有するオルガノポリシロキサ
ンレジン:1〜100重量部を含む半導電性シリコーン
ゴム組成物を提供する。
明に使用される(A)成分のオルガノポリシロキサン
は、硬化後にゴム弾性を有するシリコーンゴムになるた
め、一分子中に珪素原子に結合するアルケニル基を少な
くとも2個有するものである。当該オルガノポリシロキ
サンは下記平均組成式(1) R1 mR2 nSiO(4-m-n)/2 (1) (式中、R1は脂肪族不飽和結合を除く非置換又は置換
の一価炭化水素基、R2はアルケニル基、m,nはそれ
ぞれ0.7<m<2.2、0<n≦0.1、0.8<m
+n<2.2を満足する正数である。)で表されるもの
を用いることができる。
おいて、R2のアルケニル基は分子鎖末端の珪素原子又
は分子鎖途中の珪素原子のどちらか一方又は両方に結合
していても構わず、好ましくは炭素数2〜8のもので、
例えば、ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、イソ
プロペニル基、1−ブテニル基、イソブテニル基、ヘキ
セニル基などが挙げられるが、合成の容易さや化学的安
定性などの点からビニル基が好ましい。珪素原子に結合
するアルケニル基以外の炭化水素基(R1)としては好
ましくは炭素数1〜10の非置換又は置換一価炭化水素
基であり、脂肪族不飽和結合を有しないものである。具
体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基、フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリ
ール基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ベン
ジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のア
ラルキル基、クロロメチル基、ブロモエチル基、トリフ
ルオロプロピル基、シアノエチル基等のハロゲン置換や
シアノ置換炭化水素基を例示することができる。これら
のうち好ましいものは、合成が容易で化学的安定性のよ
いメチル基、フェニル基の一方又は混合からなるもので
ある。
0.1、0.8<m+n<2.2、好ましくは1≦m≦
2.1、0.0001≦n≦0.1、1.1≦m+n≦
2.2、より好ましくは1.95≦m≦2.05、0.
001≦n≦0.05、1.98≦m+n≦2.1を満
足する正数であり、このオルガノポリシロキサンの構造
としては直鎖状、分岐状、網状及び三次元的樹脂状構造
のいずれの形態であってもよく、またこれらの混合物で
あってもよい。一般的には主鎖部分がジオルガノシロキ
サン単位の繰り返しからなる分子鎖末端がトリオルガノ
シロキサンにより封鎖された直鎖状のオルガノポリシロ
キサンである。
分子構造は基本的には直鎖状であることが好ましいが、
一部が分岐状であってもよい。
ける粘度が100〜1,000,000mPa・s(ミ
リパスカル・秒)であり、好ましくは1,000〜10
0,000mPa・sである。100mPa・s未満の
場合は硬化物が脆弱になってしまう場合がある。また
1,000,000mPa・sを超えると取り扱いが困
難になり作業性が劣ってしまうおそれがある。
ンポリシロキサンは、一分子中に珪素原子に結合した水
素原子(SiH基)を少なくとも平均2個、好ましくは
3個以上有するもので、後述する(D)成分の存在下に
おいて、(A)成分及び(E)成分を配合する場合に
は、(A)、(E)成分のアルケニル基とヒドロシリル
化反応による硬化を起こし、実用上十分な強度を持つシ
リコーンゴム硬化物を与えるための必須の成分である。
このオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、下記平
均組成式(2) RaHbSiO(4-a-b)/2 (2) で示され、一分子中に少なくとも2個、好ましくは2〜
200個、より好ましくは3〜100個の珪素原子結合
水素原子(即ち、SiH基)を有するものを使用するこ
とができる。
換又は非置換の一価炭化水素基であり、このRとして
は、上記式(1)中のR1と同様の基を挙げることがで
きるが、脂肪族不飽和結合を有さないものが好ましい。
また、aは0.7〜2.1、bは0.001〜1.0
で、かつa+bは0.8〜3.0を満足する正数であ
り、好ましくはaは1.0〜2.0、bは0.01〜
1.0、a+bは1.5〜2.5である。
個以上含有されるSiH基は、分子鎖末端、分子鎖途中
のいずれに位置していてもよく、またこの両方に位置す
るものであってもよい。また、このオルガノハイドロジ
ェンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、環状、分岐
状、三次元網状構造のいずれであってもよいが、一分子
中の珪素原子の数(又は重合度)は通常2〜300個、
好ましくは4〜150個程度の室温(25℃)で液状の
ものが望ましく、23℃における粘度が好ましくは0.
5〜500mPa・s、より好ましくは5〜100mP
a・sのものがよい。
ロキサンとして具体的には、例えば、1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン、メチルハイドロジェンシク
ロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・
ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシ
ロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両
末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メ
チルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチ
ルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサ
ン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメ
チルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重
合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロ
ジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両
末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシ
ロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン
共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封
鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサ
ン・ジフェニルシロキサン共重合体、(CH3)2HSi
O1/2単位と(CH3)3SiO1/2単位とSiO4/2単位
とからなる共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位とS
iO4/2単位とからなる共重合体、(CH3)2HSiO
1/2単位とSiO4/2単位と(C6H5)3SiO1 /2単位と
からなる共重合体などが挙げられる。
ニル基1個に対し(B)成分中に存在する珪素原子結合
の水素原子数(SiH基数)の比が1:0.5〜1:7
の範囲になる量であり、好ましくは1:1.5〜1:
5、更に好ましくは1:2〜1:3.5になる量であ
る。
ボンブラックを添加する。カーボンブラックは製造方法
によってコンタクト法、ファーネス法、サーマル法など
に分けられ、代表的なカーボンブラックとしてはファー
ネスブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラッ
ク、チャンネルブラック、グラファイト等が挙げられる
が、シリコーンゴムは上記に挙げられるような一般的な
カーボンブラックを使用して導電化を行おうとすると、
永久伸(tension set)に代表される機械的
強度やゴム弾性、耐熱性が悪化してしまう。これはカー
ボン表面などに存在するカルボキシル基やラクトン、フ
ェノールやキノン、活性水素などの表面官能基が付加型
反応の架橋を阻害していると考えられる。
害をなくすため平均粒子径200nm以下のファーネス
ブラック法又はサーマルブラック法で製造されたカーボ
ンブラックを1500℃以上4000℃以下で加熱処理
を行って得られ、かつ揮発分が0.5重量%以下である
黒鉛状カーボンブラックを使用する。カーボンブラック
の黒鉛化処理は加熱処理による結晶子の成長(グラファ
イト化)と表面官能基の分解除去を目的にしたものであ
る。
しくは2000℃以上3000℃以下がよく、1500
℃未満ではカーボンブラック類のカルボキシル基、キノ
ンや活性水素などを加熱処理によって揮発させることが
難しく、また4000℃を超えると黒鉛状カーボンブラ
ックそのものの安定的な製造が難しくなる。
00nm以下がよく、より望ましくは100nm以下が
よい。コークス焼成黒鉛のような粒子径が200nmを
超えるカーボンブラックは導電性が劣ることが多く、多
量のカーボンブラックを配合しなければならず、得られ
たエラストマーが硬くなる場合や、また機械的強度が悪
化してしまう原因となる。なお、平均粒子径の下限は特
に制限されないが、通常5nm以上、特に20nm以上
である。
ある揮発分は0.5重量%以下(0〜0.5重量%)が
望ましく、より望ましくは0.3重量%以下(0〜0.
3重量%)となることが好ましい。
クは、炉内温度がファーネス法などで一般的に用いられ
る1400℃から1700℃、より高い分解炉内温度1
800℃から2000℃で保持されながら連続的に製造
され、またアセチレンの熱分解法によって製造されるた
め、カーボンに含まれる不純物となる官能基は比較的少
ないが、炉内滞留時間が短いため活性水素などの不純物
を完全に除去することは難しく、本発明には不適当であ
るが、本発明の目的、作用効果を損なわない範囲におい
て前記ファーネスブラック法もしくはサーマルブラック
法で製造された本発明(C)成分の黒鉛状カーボンブラ
ックと併用してもよい。
は、三菱化学(株)製#4350B(平均粒子径40n
m、DBP吸油量171ml/100g、揮発分0.3
%)や#4000B(平均粒子径20nm、DBP吸油
量80ml/100g、揮発分0.3%)が挙げられ
る。
抵抗値によって決定されるが、体積抵抗率を半導電領域
(106〜108(Ω・cm))で安定にする配合量とし
ては、(A)成分のオルガノポリシロキサン100部
(重量部、以下同じ)に対して1〜30部、好ましくは
5〜20部の範囲が好適である。1部に満たないと満足
な導電性が得られない場合が多く、30部を超えると配
合が著しく困難となり、また加工性も悪く、不適当であ
る。
系触媒としては、組成物の硬化方法に適したものを適宜
選択することができるが、前記の(A)成分のアルケニ
ル基と(B)成分の珪素原子に結合する水素原子との付
加反応を促進するための触媒であり、ヒドロシリル化反
応に用いられる触媒として周知の触媒が挙げられる。そ
の具体例としては、白金(白金黒を含む)、ロジウム、
パラジウム等の白金族金属単体;H2PtCl4・nH2
O,H2PtCl6・nH2O,NaHPtCl6・nH2
O,KHPtCl6・nH2O,Na2PtCl6・nH2
O,K2PtCl4・nH2O,PtCl4・nH2O,P
tCl2,Na2HPtCl4・nH2O(但し、式中、n
は0〜6の整数であり、好ましくは0又は6である。)
等の塩化白金、塩化白金酸及び塩化白金酸塩;アルコー
ル変性塩化白金酸(米国特許第3,220,972号明
細書参照);塩化白金酸とオレフィンとのコンプレック
ス(米国特許第3,159,601号明細書、同第3,
159,662号明細書、同第3,775,452号明
細書参照);白金黒、パラジウム等の白金族金属をアル
ミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたもの;ロ
ジウム−オレフィンコンプレックス;クロロトリス(ト
リフェニルフォスフィン)ロジウム(ウィルキンソン触
媒);塩化白金、塩化白金酸又は塩化白金酸塩とビニル
基含有シロキサン、特にビニル基含有環状シロキサンと
のコンプレックスなどが挙げられる。このような硬化触
媒としては硬化するに十分な量の塩化白金酸、白金オレ
フィン錯体、白金ビニルシロキサン錯体、白金黒、白金
トリフェニルフォスフィン錯体等の白金系触媒が望まし
い。
く、通常全組成分の合計量に対する白金族金属の重量換
算で、0.1〜500ppm、特には0.5〜200p
pm程度でよい。
ガノポリシロキサンレジンを配合することが好ましい。
特に(E)成分を配合することで、得られるシリコーン
ゴムの強度が高くなり、好ましいものとなる。このよう
なオルガノポリシロキサンレジンとしては、例えば、
(CH3)3SiO1/2単位とSiO4/2単位からなるレジ
ン、(CH3)3SiO1/2単位と(CH2=CH)SiO
3/2単位とSiO4/2単位からなるレジン、(CH2=C
H)(CH3)2SiO1/2単位とSiO4/2単位からなる
レジン、(CH2=CH)(CH3)2SiO1/2単位と
(CH2=CH)SiO3/2単位とSiO4/2単位からな
るレジンが挙げられる。特にビニル基等のアルケニル基
を持つものがよく、(E)成分としては、一分子中にア
ルケニル基を有するシロキサン単位(ViSiO3/2単
位、ViR’SiO2/2単位又はViR’2SiO1/2単
位:Viは炭素数2〜8のアルケニル基、R’はアルキ
ル基、アリール基又はアルケニル基等の炭素数1〜10
の一価炭化水素基)と、式SiO 4/2単位及び/又は
R”SiO3/2(R”は脂肪族不飽和結合を有さないア
ルキル基、アリール基等の炭素数1〜10の一価炭化水
素基)単位とを含有するオルガノポリシロキサンレジン
が好ましい。なお、このレジン中のビニル基等のアルケ
ニル基含有量は、オルガノポリシロキサンレジン全体に
対して1〜5重量%、特に2〜3重量%が好ましい。
成分100部に対して100部以下(0〜100部)と
することができるが、1〜100部の範囲が好ましく、
より好ましくは10〜50部の範囲が好適である。
含有するものであるが、それらの成分に加えて接着付与
剤を添加してもよい。具体的には金属及び/又は有機樹
脂に対する接着性を向上させるための成分であり、アル
コキシ基及びビニル基を有するエポキシ基含有オルガノ
ポリシロキサン、珪素原子結合水素原子を持つエポキシ
基含有オルガノポリシロキサン、珪素原子結合水素原子
とアルコキシ基を有するエポキシ基含有オルガノポリシ
ロキサン等のエポキシ基含有オルガノポリシロキサンや
珪素原子結合水素原子を有するアルコキシ基含有オルガ
ノポリシロキサン、珪素原子結合水素原子を有するビス
フェノール骨格を持つオルガノポリシロキサン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、3,4−エポ
キシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン等のアルコキシ基含有オルガノシラ
ンが挙げられる。配合量としては、(A)成分100部
に対して10部以下(0〜10部)程度とすることがで
き、0.1〜10部の範囲が好ましく、より好ましくは
3〜5部の範囲が好適である。
上記成分に加え、任意成分として本発明の効果を妨げな
い範囲で、必要に応じ、酸化チタンや金属ニッケル粉末
等の他の無機導電材料、微粉末状シリカ、シリコーンゴ
ムパウダー、炭酸カルシウムなどの増量剤、重合度が1
00以下の低分子量シロキサン、シラノール基含有シラ
ン等を分散助剤として添加してもよい。
チタンなどの耐熱性向上剤などの各種添加剤や、離型剤
などを添加することも任意とされる。
も、必要に応じてヒドロシリル化反応制御剤などを配合
してもよい。配合量としては、本発明の硬化を損なわな
い限り任意とされる。ヒドロシリル化反応制御剤として
は具体的にトリアリルイソシアヌレート、アセチレンア
ルコール類などが挙げられる。更に白金触媒や白金化合
物触媒などを内在してなるマイクロカプセルのような形
態を持つ触媒を使用してヒドロシリル化反応を制御する
ことも可能である。
燃性、耐火性にするために、白金含有材料、白金化合物
と二酸化チタン、白金と炭酸マンガン、白金とγ−Fe
2O3、フェライト、マイカ、ガラス繊維、ガラスフレー
クなど、通常のシリコーンゴム組成物の添加剤を本発明
の目的を損なわない範囲内において適宜配合することが
できる。
記した成分を3本ロール、プラネタリーミキサー、バン
バリーミキサー、ドウミキサー(ニーダー)などのゴム
混練り機を用いて均一に混合して、必要に応じ加熱処理
を施すことにより得ることができるが、この場合、例え
ば、(A)成分のオルガノポリシロキサン、これに
(C)成分の黒鉛状カーボンブラックを同様にゴム混練
り機で混合して調製してもよく、更には(B)、(E)
成分を添加、混合しても差し支えない。
ンゴム組成物と同様に2液に分け、使用時にこの2液を
混合して硬化させる所謂2液型の組成物でもよい。硬化
条件としては、公知の付加反応硬化型シリコーンゴム組
成物と同様でよく、例えば常温でも十分硬化するが、必
要に応じて60〜180℃程度に加熱してもよい。
処理された黒鉛状カーボンを半導電性物質として使用す
ることにより、ゴム弾性に富み、かつ半導電領域で安定
した体積抵抗率(106〜108(Ω・cm))を持ち、
更に接着性付与剤を含有させることで、金属及び/又は
有機樹脂に対して自己接着性を有するもので、静電、除
電、電磁波シールト、ゴムパッキンやオイルシール、ゴ
ム接点や事務機用ロール等、あらゆる半導電性が求めら
れる種々の用途について広範囲に使用できる。
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、下記の例において部は重量部を示
す。また、下記例でViはビニル基、Meはメチル基を
示す。
(Me)2Vi(式中、nは該シロキサンの23℃にお
ける粘度が30,000mPa・sとなるような数であ
る)で表されるビニル基含有の直鎖状オルガノポリシロ
キサンを70部 (b)Vi(Me)2SiO1/2単位とSiO4/2単位か
らなるビニル基含有メチルポリシロキサンレジン(ビニ
ル基含有量2.3重量%)を30部 (c)半導電性付与のための黒鉛状カーボン:三菱化学
(株)製#4350B(平均粒子径40nm、DBP吸
油量171ml/100g、揮発分0.3%)を11部 を用い、上記(a)、(b)、(c)成分を加熱減圧が
可能な品川万能混合機(3L)で混練しながら150℃
で2時間熱処理を行い、その後3本ロールで黒鉛状カー
ボンを均一分散させ、ベースAを作成した。
トルエン溶液を白金元素含有量で0.5重量% (e)硬化制御剤:エチニルシクロヘキサノール/50
%トルエン溶液を0.3部 (f)反応制御剤:トリアリルイソシアヌレートを1部 (g)下記構造の接着性付与剤を3.5部
ンポリシロキサンを1.7部
部に添加し、加熱減圧が可能な品川万能混合機(3L)
で減圧混練後、200メッシュで濾過をしてシリコーン
ゴム組成物を調製した。
シート(2mm)、体積抵抗率試験用シート(1mm)
を加圧成型にて作成した。試験用シート用硬化条件は、
プレスキュア成型温度120℃/10分(プレスキュア
成型圧力35kgf/cm2)+ポストキュア120℃
/50分で行った。また、体積抵抗率の測定はJIS
K 6249の方法に従って測定した。
に#4000B[三菱化学(株)製]11部を使用した
以外は実施例1と同様にしてゴムシートを得た。
に#4350B[三菱化学(株)製]20部を使用した
以外は実施例1と同様にしてゴムシートを得た。
に#4000B[三菱化学(株)製]20部を使用した
以外は実施例1と同様にしてゴムシートを得た。
を確認するために、ブランクとして実施例1からカーボ
ンを除いたゴム成形物を作成した。
にケッチェンブラックEC[ケッチェンブラックインタ
ーナショナル(株)製]11部を使用した以外は実施例
1と同様にしてゴムシートを得た。
にケッチェンブラックEC[ケッチェンブラックインタ
ーナショナル(株)製]7部を使用した以外は実施例1
と同様にしてゴムシートを得た。
にケッチェンブラックEC[ケッチェンブラックインタ
ーナショナル(株)製]5部を使用した以外は実施例1
と同様にしてゴムシートを得た。
にデンカブラック[電気化学工業(株)製]15部を使
用した以外は実施例1と同様にしてゴムシートを得た。
にコークス焼成グラファイトの一種であるSGO−5
[(株)エスイーシー社製]20部を使用した以外は実
施例1と同様にしてゴムシートを得た。
の実施例、比較例に用いた半導電付与のカーボンの特性
を表2に示す。
ニウム金属シート2枚を引張り剪断接着試験片作成冶具
に固定し、前記シリコーンゴム組成物を同冶具に適量流
し込み、120℃恒温槽にて60分加熱硬化させ、図1
に示すように被着体1,1がシリコーンゴム層2を介し
て接着したサンプルを作成した。接着試験サンプルは引
張り速度50mm/分のスピードで測定し、その時の接
着部分のゴム凝集破壊率を測定した。厚み100μ、幅
25mm、長さ100mmのPBT樹脂フィルムについ
ても、上記と同様に測定を行った。 [評価基準]○:接着(100%凝集破壊) ×:剥離(界面剥離30%以上(即ち、凝集破壊70%
以下)) 体積抵抗率*:1010以上 カーボン種:#4350B…三菱化学(株)製#435
0B #4000B…三菱化学(株)製#4000B AB…電気化学工業(株)製デンカブラック KB…ケッチェンブラックインターナショナル(株)製
ケッチェンブラックEC SGO−5…(株)エスイーシー社製SGO−5
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)一分子中に珪素原子に結合したア
ルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキ
サン:100重量部、(B)一分子中に珪素原子に結合
した水素原子を少なくとも平均2個有するオルガノハイ
ドロジェンポリシロキサン:組成物中の珪素原子に結合
したアルケニル基のモル数に対し、珪素原子に結合する
水素原子のモル数の比が1:0.5〜1:7となるよう
な量、(C)ファーネスブラック法もしくはサーマルブ
ラック法で製造されたカーボンブラックを原料とし、黒
鉛化処理が1500℃以上4000℃以下で行われ、平
均粒子径が200nm以下かつ揮発分が0.5重量%以
下の黒鉛状カーボンブラック1〜30重量部、(D)白
金族金属系触媒:触媒量を含み、かつ体積抵抗率が10
8(Ω・cm)以下であることを特徴とする半導電性シ
リコーンゴム組成物。 - 【請求項2】 (E)一分子中にアルケニル基を有する
シロキサン単位と、式SiO4/2及び/又はR”SiO
3/2(R”は脂肪族不飽和結合を有さない一価炭化水素
基)で示されるシロキサン単位とを含有するオルガノポ
リシロキサンレジン:1〜100重量部を含む請求項1
記載の半導電性シリコーンゴム組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001111765A JP4101469B2 (ja) | 2001-04-10 | 2001-04-10 | 半導電性シリコーンゴム組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001111765A JP4101469B2 (ja) | 2001-04-10 | 2001-04-10 | 半導電性シリコーンゴム組成物 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006168295A Division JP2006307233A (ja) | 2006-06-19 | 2006-06-19 | 半導電性シリコーンゴムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002309090A true JP2002309090A (ja) | 2002-10-23 |
JP4101469B2 JP4101469B2 (ja) | 2008-06-18 |
Family
ID=18963310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001111765A Expired - Lifetime JP4101469B2 (ja) | 2001-04-10 | 2001-04-10 | 半導電性シリコーンゴム組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4101469B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006208052A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Bridgestone Corp | ゴム物品用歪センサー |
KR100638394B1 (ko) | 2004-11-18 | 2006-10-26 | 주식회사 이엠씨플러스 | 유기실록산을 포함하는 전자파 차폐용 도전성 페이스트 조성물 |
KR100820784B1 (ko) | 2006-09-29 | 2008-04-11 | 도레이새한 주식회사 | 대전방지 특성이 우수한 실리콘 이형 플라스틱필름 |
EP2163584A1 (en) | 2008-09-11 | 2010-03-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Curable silicone resin composition, cured product thereof, and opaque silicone adhesive sheet formed from the composition |
KR101497157B1 (ko) | 2008-09-11 | 2015-02-27 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 경화성 실리콘 수지 조성물, 그의 경화물 및 상기 조성물로 이루어지는 차광성 실리콘 접착 시트 |
US20210095126A1 (en) * | 2018-06-12 | 2021-04-01 | Momentive Performance Materials Japan Llc | Method of manufacturing silicone cured product, silicone cured product and optical member |
WO2024157866A1 (ja) * | 2023-01-23 | 2024-08-02 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型シリコーン組成物、シリコーン硬化物および接合部材、ならびに接合部材の解体方法 |
WO2024157864A1 (ja) * | 2023-01-23 | 2024-08-02 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型シリコーン組成物、シリコーン硬化物および接合部材、ならびに接合部材の解体方法 |
-
2001
- 2001-04-10 JP JP2001111765A patent/JP4101469B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100638394B1 (ko) | 2004-11-18 | 2006-10-26 | 주식회사 이엠씨플러스 | 유기실록산을 포함하는 전자파 차폐용 도전성 페이스트 조성물 |
JP2006208052A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Bridgestone Corp | ゴム物品用歪センサー |
KR100820784B1 (ko) | 2006-09-29 | 2008-04-11 | 도레이새한 주식회사 | 대전방지 특성이 우수한 실리콘 이형 플라스틱필름 |
EP2163584A1 (en) | 2008-09-11 | 2010-03-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Curable silicone resin composition, cured product thereof, and opaque silicone adhesive sheet formed from the composition |
KR101497157B1 (ko) | 2008-09-11 | 2015-02-27 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 경화성 실리콘 수지 조성물, 그의 경화물 및 상기 조성물로 이루어지는 차광성 실리콘 접착 시트 |
US20210095126A1 (en) * | 2018-06-12 | 2021-04-01 | Momentive Performance Materials Japan Llc | Method of manufacturing silicone cured product, silicone cured product and optical member |
US12065567B2 (en) * | 2018-06-12 | 2024-08-20 | Momentive Performance Materials Japan Llc | Method of manufacturing silicone cured product, silicone cured product and optical member |
WO2024157866A1 (ja) * | 2023-01-23 | 2024-08-02 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型シリコーン組成物、シリコーン硬化物および接合部材、ならびに接合部材の解体方法 |
WO2024157864A1 (ja) * | 2023-01-23 | 2024-08-02 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型シリコーン組成物、シリコーン硬化物および接合部材、ならびに接合部材の解体方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4101469B2 (ja) | 2008-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5075038A (en) | Electrically conductive silicone compositions | |
US4077943A (en) | Curable organopolysiloxane compositions | |
KR102370815B1 (ko) | 핫 멜트성 실리콘 및 경화성 핫 멜트 조성물 | |
EP3688097B1 (en) | Silicone composition comprising filler | |
JP6394517B2 (ja) | 耐熱性シリコーンゲル硬化物の電気絶縁性を向上する方法 | |
JP2008291148A (ja) | 耐熱性に優れたシリコーンゲル組成物 | |
JP5835100B2 (ja) | 帯電防止性シリコーンゴム組成物及び帯電防止性シリコーンゴム硬化物の黄変を抑制する方法 | |
EP3533838B1 (en) | Heat-resistant millable silicone rubber composition | |
WO2014098204A1 (en) | Thermally conductive silicone composition and thermally conductive member | |
JP6468115B2 (ja) | 付加硬化性シリコーンゴム組成物及び硬化物 | |
TWI261599B (en) | Semiconductive silicone rubber composition and silicone rubber roll | |
JP4101469B2 (ja) | 半導電性シリコーンゴム組成物 | |
JP2016079378A (ja) | 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 | |
JP2002322363A (ja) | シリコーン組成物およびそれから製造されるシリコーン接着剤 | |
JP5471350B2 (ja) | 事務機用定着ロール又は事務機用定着ベルト用高熱伝導性シリコーンゴム組成物並びに定着ロール及び定着ベルト | |
JP2010132865A (ja) | 難燃性オルガノポリシロキサン組成物 | |
JP2006307233A (ja) | 半導電性シリコーンゴムの製造方法 | |
JP4703374B2 (ja) | シリコーンゲル組成物 | |
JP3664811B2 (ja) | 導電性シリコーンゴム組成物および導電性シリコーンゴム | |
JPH09165515A (ja) | 定着ロール用付加型加熱硬化性シリコーンエラストマー組成物及びその製造方法 | |
JP2018172634A (ja) | エラストマーおよび成形体 | |
JPH0841347A (ja) | 高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組成物 | |
JP3385801B2 (ja) | 高圧碍子用シリコーンゴム組成物。 | |
JP3360264B2 (ja) | 高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組成物 | |
JPH0616938A (ja) | オイルブリード性シリコーンゴム組成物及びその製造方法並びにその硬化物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050601 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050629 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050808 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050808 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060426 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060619 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060619 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20060721 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20070209 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080221 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080319 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4101469 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140328 Year of fee payment: 6 |