JP2002249599A

JP2002249599A - セルロースエステルフィルム及びその製造方法

Info

Publication number: JP2002249599A
Application number: JP2001288943A
Authority: JP
Inventors: Takashi Murakami; 隆村上; Tadahiro Kaneko; 忠浩金子
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2000-12-18
Filing date: 2001-09-21
Publication date: 2002-09-06

Abstract

(57)【要約】【課題】光学的等方性、特に膜厚方向の光学的等方性
に優れたセルロースエステルフィルム、その製造方法、
表示装置用偏光板及び表示装置を提供する【解決手段】下記式（Ｉ）で表される面配向度Ｓが
０．０００４以下であることを特徴とするセルロースエ
ステルフィルム。式（Ｉ）Ｓ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙ
は遅相軸方向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折
率、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率を表す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、セルロースエステ
ルフィルム（以下、単にフィルムともいう）、その製造
方法、液晶表示用偏光板及び液晶表示装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、低電圧、低消費電力
で、ＩＣ回路への直結が可能であり、そして、特に、薄
型化が可能であることから、ワードプロセッサやパーソ
ナルコンピュータ等の表示装置として広く採用されてい
る。この液晶表示装置は、基本的な構成は、例えば液晶
セルの両側に偏光板を設けたものである。

【０００３】このような液晶表示装置において、コント
ラスト等の観点から、ツイスト角が９０度のツイステッ
ドネマティック（ＴＮ）を用いた液晶表示装置からツイ
スト角が１６０度以上のスーパーツイステッドネマティ
ック（ＳＴＮ）を用いた液晶表示装置などが提案されて
きている。

【０００４】これらの液晶表示装置では視野角を拡大す
ることが重要な課題となっており、液晶セルの設計、駆
動方式あるいは様々な光学補償フィルムを用いた方法等
が提案されており、これらに用いられる光学フィルムへ
の要求はますます厳しくなってきている。

【０００５】例えば、偏光板保護フィルムとしてセルロ
ースアセテートフィルムが、光学的等方性に優れており
広く用いられている。しかしながら、液晶セルを設計す
る上で、より光学的等方性に優れた光学フィルムが求め
られていた。特に面内方向だけでなく膜厚方向について
もより光学的等方性に優れた光学フィルムが求められて
いるのである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光学
的等方性、特に膜厚方向の光学的等方性に優れたセルロ
ースエステルフィルムを提供することであり、そのセル
ロースエステルフィルムの製造方法、表示装置用偏光板
及び表示装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成された。

【０００８】１．下記式（Ｉ）で表される面配向度Ｓが
０．０００４以下であることを特徴とするセルロースエ
ステルフィルム。

【０００９】式（Ｉ）Ｓ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙ
は遅相軸方向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折
率、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率を表す。

【００１０】２．上記式（Ｉ）で表されるＳが０．００
００１〜０．０００４であり、かつＲ₀とθが、下記式
（II）のＰが０．９９９９の関係を満たすことを特徴と
する前記１記載のセルロースエステルフィルム。

【００１１】式（II）Ｐ≦１−ｓｉｎ²（２θ）ｓｉｎ²（πＲ₀／λ）Ｒ₀＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙ
は遅相軸方向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折率
であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。θはフィ
ルム面内の遅相軸方向と製膜方向（フィルムの直尺方
向）とのなす角度（ラジアン）、λは上記Ｎｘ、Ｎｙ、
θを求める三次元屈折率測定の際の光の波長（ｎｍ）、
πは円周率である。

【００１２】３．分子内に複数の環状構造を有する化合
物をセルロースエステルフィルムに対して５〜３０質量
％含有することを特徴とする前記１又は２記載のセルロ
ースエステルフィルム。

【００１３】４．セルロースエステルが総置換度２．８
５〜３．００のセルロースエステルであることを特徴と
する前記１〜３のいずれか１項記載のセルロースエステ
ルフィルム。

【００１４】５．膜厚が１０〜６０μｍであることを特
徴とする前記１〜４のいずれか１項記載のセルロースエ
ステルフィルム。

【００１５】６．セルロースエステル溶液を支持体上に
流延し、剥離後のフィルムをさらに乾燥させるセルロー
スエステルフィルムの製造方法において、セルロースエ
ステル溶液を支持体上に流延した後の支持体上での乾燥
工程の際、支持体上のドープ膜の残留溶媒量が２００質
量％から１２０質量％の範囲内にあるとき残留溶媒量減
少速度が４〜１５質量％／秒となる乾燥を行うことを特
徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。

【００１６】７．セルロースエステル溶液を支持体上に
流延し、剥離後のフィルムをさらに乾燥させるセルロー
スエステルフィルムの製造方法において、セルロースエ
ステル溶液を支持体上に流延した後の支持体上での乾燥
工程の際、支持体上のドープ膜の残留溶媒量が２００質
量％から１２０質量％の範囲にある時間が１０秒以上２
０秒未満となる乾燥を行うことを特徴とするセルロース
エステルフィルムの製造方法。

【００１７】８．セルロースエステル溶液を支持体上に
流延し、剥離後のフィルムをさらに乾燥させるセルロー
スエステルフィルムの製造方法において、セルロースエ
ステル溶液を支持体上に流延した後の支持体上での乾燥
工程の際、平均温度が４１〜１００℃に設定された雰囲
気内でウエブを乾燥させる乾燥工程を有し、かつ流延後
２５〜９０秒で剥離することを特徴とする前記６又は７
記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

【００１８】９．セルロースエステル溶液を支持体上に
流延し、剥離後のフィルムを乾燥させるセルロースエス
テルフィルムの製造方法において、セルロースエステル
溶液を支持体上に流延した後の支持体上での乾燥工程の
際、平均温度が２０〜５０℃に設定された雰囲気内で支
持体上のウエブを乾燥させる低温乾燥工程の後、前記低
温乾燥工程の平均温度よりも＋５〜７０℃に設定された
雰囲気内で更に支持体上で乾燥させる高温乾燥工程で乾
燥を行い、かつ流延後２５〜９０秒で剥離することを特
徴とする前記６、７又は８記載のセルロースエステルフ
ィルムの製造方法。

【００１９】１０．前記支持体上での高温乾燥工程が４
１℃〜１００℃に設定された雰囲気内で行われることを
特徴とする前記９記載のセルロースエステルフィルムの
製造方法。

【００２０】１１．剥離時の残留溶媒量が２０〜１２０
質量％であることを特徴とする前記６〜１０のいずれか
１項記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

【００２１】１２．セルロースエステル溶液の固形分濃
度（低沸点溶媒分濃度を除いた濃度）が１７〜３０質量
％であることを特徴とする前記６〜１１のいずれか１項
記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

【００２２】１３．支持体から剥離されたフィルムの残
留溶媒量が０〜１０質量％まで乾燥された後、該フィル
ムを１１５〜２００℃で５〜６０分間加熱処理すること
を特徴とする前記６〜１２のいずれか１項記載のセルロ
ースエステルフィルムの製造方法。

【００２３】１４．溶液流延用支持体が金属製ベルトで
あることを特徴とする前記６〜１３のいずれか１項記載
のセルロースエステルフィルムの製造方法。

【００２４】１５．前記１〜５のいずれか１項記載のセ
ルロースエステルフィルムが、前記６〜１４のいずれか
１項記載の方法で製造されたことを特徴とするセルロー
スエステルフィルム。

【００２５】１６．前記１〜５又は前記１５のいずれか
１項記載のセルロースエステルフィルムを少なくとも一
方の面に用いたことを特徴とする偏光板。

【００２６】１７．前記１〜５又は前記１５のいずれか
１項記載のセルロースエステルフィルムを用いたことを
特徴とする表示装置。

【００２７】１８．前記１６記載の偏光板を用いたこと
を特徴とする表示装置。以下、本発明の面配向度Ｓが
０．０００４以下、特に０．００００１〜０．０００４
であることを特徴とするセルロースエステルフィルムに
ついて詳細に説明する。

【００２８】本発明では、セルロースエステルとして
は、低級脂肪酸エステルが好ましく、セルロースアセテ
ート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロー
スアセテートブチレート、またはセルロースアセテート
プロピオネートブチレート等が好ましく用いられる。本
発明で用いられるセルロースエステルは置換度が２．８
５〜３．００であることが面配向度がより低く維持でき
るため好ましく、特に２．９２〜３．００であることが
好ましい。

【００２９】アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−
Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することが出来る。

【００３０】重合度は２５０〜４００であるセルロース
エステルが好ましく用いられ、特にセルローストリアセ
テートが好ましく用いられる。本発明に係るセルロース
エステルの数平均分子量Ｍｎは、７０，０００〜２５
０，０００が、機械的強度に優れ、且つ、適度なドープ
粘度となり好ましく、更に好ましくは、８０，０００〜
１５０，０００である。又、重量平均分子量Ｍｗとの比
Ｍｗ／Ｍｎは１．０〜５．０のセルロースエステルが好
ましく用いられる。

【００３１】セルロースエステルは綿花リンターから合
成されたセルロースエステルと木材パルプから合成され
たセルロースエステルのどちらかを単独あるいは混合し
て用いることができる。ベルトやドラムからの剥離性が
良い綿花リンターから合成されたセルロースエステルを
多く使用した方が生産性効率が高く好ましい。綿花リン
ターから合成されたセルロースエステルの比率が６０質
量％以上が、剥離性の効果が顕著になるため好ましく、
より好ましくは８５質量％以上、更には、単独で使用す
ることが最も好ましい。

【００３２】本発明のフィルムの材料を溶解してドープ
を形成する溶媒としては、セルロースエステルを溶解で
き、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えばメ
チレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミ
ル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソ
ラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エ
チル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，
３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−
ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパ
ノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プ
ロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イ
ミダゾリジノン等を挙げることが出来るが、メチレンク
ロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導
体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有
機溶媒（即ち、良溶媒）として挙げられる。

【００３３】また、下記の製膜工程に示すように、溶媒
蒸発工程において支持体上に形成されたウェブ（ドープ
膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の発泡を防
止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、
３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の
沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸
メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（５６．３
℃）、酢酸エチル（７６．８２℃）等である。

【００３４】上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れる
メチレンクロライド、酢酸メチルが好ましく用いられ、
特にメチレンクロライドが全有機溶媒に対して５０質量
％以上含まれていることが好ましい。

【００３５】上記有機溶媒の他に、０．１〜３０質量％
の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好
ましい。特に好ましくは５〜３０質量％で前記アルコー
ルが含まれることが好ましい。

【００３６】これらは上記記載のドープを流延用支持体
に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比率が多くな
るとウェブ（ドープ膜）がゲル化し、ウェブを丈夫にし
流延用支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒
として用いられたり、これらが割合が少ない時は非塩素
系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割
もある。

【００３７】炭素原子数１〜４のアルコールとしては、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、
ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることが出来る。

【００３８】これらのうちドープの安定性、沸点も比較
的低く、乾燥性も良く、且つ毒性がないこと等からエタ
ノールが好ましい。更に、好ましくはメチレンクロライ
ド７０〜９５質量％に対してエタノール５〜３０質量％
を含む溶媒を用いることである。メチレンクロライドの
代わりに酢酸メチルを用いることもできる。

【００３９】ドープ中のセルロースエステルの濃度は１
７〜３５質量％が好ましく、特に２０〜３０質量％が好
ましい。濃度が高すぎると得られるフィルムの表面の平
滑性が悪くなる傾向があり、濃度が薄すぎると面配向度
Ｓが高くなる傾向があり、０．００００１〜０．０００
４のフィルムを得ることが困難となる。

【００４０】上記記載のセルロースエステルと有機溶媒
を用いて、次のように製膜を行う。なお、本発明におい
て、セルロースエステル溶液のことをセルロースエステ
ルドープまたは単にドープという。

【００４１】本発明のセルロースエステルフィルムの製
造方法に用いられる製膜工程は、下記に示す溶解工程、
流延工程、溶媒蒸発工程、剥離工程、乾燥工程及び巻き
取り工程からなる。以下に各々の工程を説明する。

【００４２】《溶解工程》セルロースエステルのフレー
クに、上記記載の良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中
で該フレークを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する
工程である。

【００４３】本発明では、ドープ中の固形分濃度は１７
質量％以上に調整することが好ましく、特に２０質量％
以上であると得られるフィルムの面配向度をより低減で
きるため好ましい。尚、本発明でいうドープ中の固形分
とは、本発明のセルロースエステルフィルムを製造する
際、乾燥工程で除かれる低沸点溶媒成分を除くドープ中
の成分を言うので、ドープ中の固形分濃度とは、これら
乾燥工程後もフィルム中に残存する成分のドープ溶液全
体に対する質量％をさす。

【００４４】ドープ中の固形分濃度が高すぎるとドープ
の粘度が高くなりすぎ、流延時にシャークスキンなどが
生じてフィルム平面性が劣化する場合があるので、３５
質量％未満であることが望ましい。

【００４５】ドープ粘度は５〜１００Ｐａ・ｓの範囲で
あることが好ましく、１０〜５０Ｐａ・ｓの範囲に調整
されていることが好ましい。

【００４６】溶解には、常圧で行う方法、上記記載のよ
うな好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）の沸点以下で行
う方法、上記記載の良溶媒の沸点以上で加圧して行う方
法、冷却溶解法で行う方法、高圧で行う方法等種々の溶
解方法等がある。良溶媒の沸点以上の温度で、かつ沸騰
しない圧力をかけて溶解する方法としては、４０．４〜
１２０℃で０．１１〜１．５０ＭＰａに加圧することで
発泡を抑え、かつ、短時間に溶解することができる。

【００４７】本発明に係る溶解工程において用いられる
溶媒としては、単独でも併用でもよいが、良溶剤と貧溶
剤を混合して使用することが、生産効率の点で好まし
く、更に好ましくは、良溶剤と貧溶剤の混合比率は良溶
剤が７０〜９５質量％であり、貧溶剤が３０〜５質量％
である。

【００４８】本発明に用いられる良溶剤、貧溶剤とは、
使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良
溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤
と定義している。そのため、セルロースエステルの結合
酢酸量によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばア
セトンを溶剤として用いるときには、セルロースエステ
ルの結合酢酸量５５％では良溶剤になり、結合酢酸量６
０％では貧溶剤となってしまう。

【００４９】また、セルロースエステルを溶解する際
に、まず、良溶剤と貧溶剤の一部を用いて、先にセルロ
ースエステルを溶解した後、後から残りの貧溶剤を添加
する事も出来る。本発明に用いられる貧溶剤としては、
例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シ
クロヘキサン等が好ましく用いられる。

【００５０】冷却溶解方法としては、例えば特開平９−
９５５３８号、同９−９５５４４号、同９−９５５５７
号に記載の方法を使用することが出来る。また、特開平
１１−２１３７９号に記載の高圧溶解方法も好ましく使
用出来る。

【００５１】溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡してポ
ンプで次工程に送ることが好ましく、また、その際、ド
ープ中には、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染
料、マット剤、微粒子等も添加されることがある。

【００５２】これらの化合物は、セルロースエステル溶
液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加
してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。

【００５３】本発明の面配向度Ｓが０．０００４以下、
特に０．００００１〜０．０００４であるフィルムを得
るためには分子内に複数の環状構造を有する化合物をセ
ルロースエステルに対して１０質量％以上含有させるこ
とが特に好ましい。好ましくは、１５質量％以上含有さ
せることが好ましい。これらの化合物は単独で１０質量
％以上含有させることが好ましいが、複数の化合物を添
加する場合は添加量全体として１０質量％以上であって
もよい。

【００５４】添加する化合物は分子量が３０００以下の
化合物であることが好ましく、特に２５０〜２０００以
下の化合物であることが好ましい。環状構造に関して、
環の大きさについて特に制限はないが、３〜８個の原子
から構成されていることが好ましく、特に６員環及び／
又は５員環であることが好ましい。これらが炭素、酸
素、窒素、珪素あるいは他の原子を含んでいてもよく、
環の結合の一部が不飽和結合であってもよく、例えば６
員環がベンゼン環、シクロヘキサン環でもよい。本発明
の化合物は、このような環状構造が複数含まれているも
のであり、例えば、ベンゼン環とシクロヘキサン環をど
ちらも分子内に有していたり、２個のシクロヘキサン環
を有していたり、ナフタレンの誘導体あるいはアントラ
セン等の誘導体であってもよい。より好ましくはこのよ
うな環状構造を分子内に３個以上含んでいる化合物であ
ることが好ましい。また、少なくとも環状構造の１つの
結合が不飽和結合を含まないものであることが好まし
い。

【００５５】これらの化合物は、セルロースエステルに
対して１０質量％添加した場合、未添加のセルロースエ
ステルに対してガラス転移点Ｔｇの低下が２５℃未満で
ある化合物であることが、面配向度の低減効果の点で好
ましく、更にＴｇの低下が２０℃未満であることが好ま
しく、１５℃未満であることが特に好ましい。１０質量
％添加したときにＴｇの低下が２０℃未満であると、製
膜工程で不要な延伸が抑制され、膜厚が６０μｍ未満の
薄膜フィルムであっても面内のリタデーションが低くで
きるため、光学的等方性に優れたフィルムを得る上でも
特に好ましい。

【００５６】又、これらの化合物を添加してもフィルム
のヘイズが膜厚６０μｍ換算で１．０％未満、特に０．
１％未満であることが好ましい。

【００５７】このような面配向度を低減させるための化
合物としては、具体的には、アビエチン酸、デヒドロア
ビエチン酸、パラストリン酸、ＫＥ−６０４（荒川化学
製）、ＫＥ−８５（荒川化学製）、アラルダイドＥＰＮ
１１３９（旭チバ（株）製）、アラルダイドＧＹ２６０
（旭チバ（株）製）等の樹脂オリゴマー等が挙げられ
る。又、下記（化３）に示すケトン樹脂、ハイラック１
１０Ｈ（日立化成（株）製）、ハイラック１１１（日立
化成（株）製）等も好ましく用いることが出来る。以下
にこれら化合物の化学式を示すが、添加により面配向度
が０．０００２以上低下するものであれば、特にこれら
に限定されるものではない。

【００５８】

【化１】

【００５９】

【化２】

【００６０】

【化３】

【００６１】尚、ＫＥ−８５は、アビエチン酸、デヒド
ロアビエチン酸、パラストリン酸の混合物である。

【００６２】面配向度Ｓが低くなる理由は明確にはなっ
ていないが、これらの化合物が添加されることによっ
て、流延されたセルロースエステルの配向が妨害される
ため、面配向度Ｓを低くすることができるものと考えら
れる。

【００６３】これらの化合物は、セルロースエステル溶
液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加
してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。

【００６４】また液晶表示装置用には耐熱耐湿性を付与
する可塑剤、或いは酸化防止剤や紫外線吸収剤、マット
剤などを添加することが好ましい。

【００６５】上記酸化防止剤としては、ヒンダードフェ
ノール系の化合物が好ましく用いられ、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テト
ラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコー
ル−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサ
ンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビ
ス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリ
アジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，
Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−
トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テ
トラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコ
ール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。ま
た例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラ
ジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系
加工安定剤を併用してもよい。

【００６６】これらの化合物の添加量は、セルロースエ
ステルに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好まし
く、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。

【００６７】また、この他、カオリン、タルク、ケイソ
ウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタ
ン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウ
ムなどのアルカリ土類金属の塩などの熱安定剤を加えて
もよい。

【００６８】更に帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤等も
加えることができる。《流延工程》ドープを加圧型定量ギヤポンプを通して加
圧ダイに送液し、流延位置において、無限に移送する無
端の金属ベルトあるいは回転する金属ドラムの流延用支
持体（以降、単に支持体ということもある）上に加圧ダ
イからドープを流延する工程である。流延用支持体の表
面は鏡面となっている。

【００６９】その他の流延する方法は流延されたドープ
膜をブレードで膜厚を調節するドクターブレード法、あ
るいは逆回転するロールで調節するリバースロールコー
ターによる方法等があるが、口金部分のスリット形状を
調製出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加
圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、
何れも好ましく用いられる。

【００７０】製膜速度を上げるために加圧ダイを流延用
支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層して
もよい。

【００７１】このように、得られたドープをベルト又は
ドラム等の支持体上に流延し、製膜するが、本発明は特
にベルトを用いた溶液流延法で特に有効である。これは
後述のように支持体上での乾燥条件を細かく調整するこ
とが容易であるからである。ベルトは１周４０〜１５０
ｍの長さのものが好ましく用いられる。

【００７２】《溶媒蒸発工程》ウェブ（本発明において
は、流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドー
プ膜をウェブと呼ぶ）を流延用支持体上で加熱し溶媒を
蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ
側から風を吹かせる方法及び／または支持体の裏面から
液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱
する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率が
好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。

【００７３】本発明では、流延用支持体上で乾燥されて
いるウェブの残留溶媒量が２００質量％から１２０質量
％の範囲にある時間は２０秒未満であることが低い面配
向度のフィルムを得るために好ましい。さらに１７秒以
下であることが好ましく、さらに１５秒以下であること
が好ましい。１０秒未満では溶媒の沸騰による気泡が増
加する危険があり、細心の注意が必要となるため、あま
り好ましくはない。そのため、特に、１０〜１５秒であ
ることが好ましい。流延用支持体上で乾燥されているウ
ェブの残留溶媒量が２００質量％から１２０質量％の範
囲にある時間が短いほど低い面配向度のフィルムを得る
ことができる。ここでいう時間は流延用支持体上にウェ
ブがある時間であり、１２０質量％となる前に支持体か
らウェブを剥離する場合は２００質量％から剥離するま
での時間を指す。

【００７４】本発明のセルロースエステルフィルムの製
造方法では、流延後の支持体上で乾燥されているウェブ
（ドープ膜）中の残留溶媒量が２００質量％から１２０
質量％の範囲内のときに残留溶媒量の減少速度が４〜１
５質量％／秒となるように乾燥することが特に面配向度
を低減できるため好ましい。さらに残留溶媒量の減少速
度が６質量％／秒以上であることが好ましく、特に６〜
８質量％／秒であることが好ましい。この乾燥速度が、
残留溶媒量２００質量％から１２０質量％まで低下する
のに要する時間の５０％以上の時間で維持されているこ
とが好ましく、特に６０％以上の時間で維持されている
ことが好ましい。

【００７５】所定の乾燥速度とするため、支持体上のウ
ェブは平均温度が４１〜１００℃に設定された雰囲気内
でウエブを乾燥させる乾燥工程を有し、かつ流延後２５
〜９０秒で剥離することが特に好ましい。特にウェブの
残留溶媒量が２００質量％以下のときに平均温度が４１
〜１００℃に設定された雰囲気内でウエブを乾燥させる
ことが望ましい。

【００７６】更に好ましくは流延から７５秒以内に剥離
することであり、特に好ましくは６０秒以内で剥離する
ことである。これによって、得られるフィルムの面配向
度を更に低くすることができる。４１〜１００℃の雰囲
気下に維持するにはこの温度の温風をウェブ上面にあて
るか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。

【００７７】支持体上での乾燥の課程で、支持体の温度
は３０℃以上となるように支持体の裏面側より温風、温
水あるいは赤外線、ヒーター等によって加熱されること
が好ましい。ただし、ウエブ自身の温度は含まれる溶媒
の蒸発潜熱により、溶媒の沸点以下の温度に維持されて
いることが望ましい。

【００７８】流延後の支持体上のウエブは流延直後は比
較的低温で乾燥させた後（低温乾燥工程）、５℃以上高
い雰囲気（高温乾燥工程）下で乾燥させることが面配向
度を低減させるために特に好ましく、高温乾燥工程は４
１〜１００℃、より好ましくは４５〜９０℃、更に５０
〜８０℃で乾燥させることが好ましい。

【００７９】又、支持体の温度分布は幅手方向で±３℃
以内であることが好ましく、±１℃以内であることがよ
り好ましく、±０．５℃以内が更に好ましく、±０．１
℃以内であることが、最も好ましい。特に残留溶媒量が
２００質量％以下を高温乾燥工程として、所定の乾燥速
度とすることが望ましい。いずれにしてもウェブ中で溶
媒が沸騰することによる気泡等が発生しないことが望ま
しい。

【００８０】《剥離工程》支持体上で溶媒が蒸発したウ
ェブを、剥離位置で支持体から剥離する工程である。剥
離されたウェブは次工程に送られる。

【００８１】剥離する時点でのウェブの残留溶媒量（下
記式）があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆に支
持体上で充分に乾燥させてから剥離すると、途中でウェ
ブの一部が剥がれたりする。

【００８２】支持体上のウエブは、少なくともウェブに
含まれる残留溶媒量が２００質量％未満まで４１〜１０
０℃の雰囲気下で支持体上で乾燥されることがより好ま
しく、同雰囲気下で乾燥させた後、一度４０℃未満の雰
囲気下にして剥離することがフィルムの面内リターデー
ションを低く維持し、面品質も向上するため好ましい。

【００８３】支持体上の剥離位置における温度は、好ま
しくは１０〜４０℃であり、更に好ましくは１１〜３０
℃である。得られるフィルムの面配向度及び／又は面内
リターデーションＲ₀を低く維持するため、該剥離位置
におけるウェブの残留溶媒量は２０〜１２０質量％が好
ましく、更に好ましくは４０〜１００質量％であり、特
に７０〜１００質量であることが好ましい。

【００８４】本発明に係るウェブの残留溶媒量は下記式
で定義される。残留溶媒量＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱
処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００％尚、残留溶媒量を測定する際の、加熱処理とは、１１５
℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。

【００８５】上記のように剥離時の残留溶媒量に調整す
るには、流延後の流延用支持体の表面温度を制御し、ウ
ェブからの有機溶媒の蒸発を効率的に行えるように、流
延用支持体上の剥離位置における温度を上記記載の温度
範囲に設定することが好ましい。支持体温度を制御する
には、伝熱効率のよい伝熱方法を使用するのがよく、例
えば、液体による裏面伝熱方法が好ましい。

【００８６】輻射熱や熱風等による伝熱方法は支持体温
度のコントロールが難しいが、ベルト（支持体）マシン
において、移送するベルトが下側に来た所の温度制御に
は、緩やかな風でベルト温度を調節することが出来る。

【００８７】支持体の温度は、加熱手段を分割すること
によって、部分的に支持体温度を変えることが出来、流
延用支持体の流延位置、乾燥部、剥離位置等異なる温度
とすることが出来る。

【００８８】製膜速度を上げる方法（残留溶媒量が出来
るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが
出来る）として、残留溶媒が多くとも剥離出来るゲル流
延法（ゲルキャスティング）がある。

【００８９】それは、ドープ中にセルロースエステルに
対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方
法、支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。ま
た、ドープ中に金属塩を加える方法もある。

【００９０】支持体上でゲル化させ膜を強くすることに
よって、剥離を早め製膜速度を上げることも出来る。

【００９１】残留溶媒量がより多い時点で剥離する場
合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時に平面性を損なった
り、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速
度と品質との兼ね合いで剥離残留溶媒量を決められる。
支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常１９
６〜２４５Ｎ／ｍで剥離が行われるが、セルロースエス
テルの単位質量あたりの紫外線吸収剤の含有量が多く、
且つ、従来よりも薄膜化されている本発明のセルロース
エステルフィルムは、剥離の際にシワが入りやすいた
め、１９０Ｎ／ｍ以下で剥離することが好ましく、更に
は、剥離できる最低張力〜１６６．６Ｎ／ｍ、次いで、
最低張力〜１３７．２Ｎ／ｍで剥離することが好ましい
が、特に好ましくは、最低張力〜１００Ｎ／ｍで剥離す
ることである。剥離張力が低いほど面内リターデーショ
ンＲ₀が低く保てるため好ましいだけでなく、面配向度
が低いフィルムを得るためにも好ましい。面内リターデ
ーションＲ₀は２０ｎｍ未満であることが好ましく、更
には、１０ｎｍ未満、次いで、５ｎｍ未満であることが
好ましいが、最も好ましくは０〜１ｎｍである。剥離張
力及び搬送張力、後述するテンターによる幅手方向の収
縮あるいは延伸倍率を調整することによって、Ｒ₀を低
く維持することができる。

【００９２】本発明において、面内リターデーションＲ
₀は自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測
機器（株）製）を用いて、５９０ｎｍの波長において、
三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、
Ｎｚから算出することができる。又、膜厚方向のリター
デーション値Ｒｔは３０ｎｍ未満のものが得られ、更に
２０ｎｍ未満、１０ｎｍ未満のものが好ましく得られ、
特に０〜８ｎｍのセルロースエステルが好ましく得られ
る。

【００９３】本発明のセルロースエステルフィルムは、
遅相軸方向と製膜方向とのなす角度θと面内方向のリタ
ーデーションＲ₀が下記式（II）のＰが０．９９９９を
満たす関係にあり、特に偏光板保護フィルム等の光学フ
ィルムとして好ましく用いられる。特に、Ｐが０．９９
９９５でＲ₀とθが下記式（II）を満たすことである。

【００９４】式（II）Ｐ≦１−ｓｉｎ²（２θ）ｓｉｎ²（πＲ₀／λ）Ｒ₀＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙ
は遅相軸方向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折率
であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。θはフィ
ルム面内の遅相軸方向と製膜方向（フィルムの直尺方
向）とのなす角度（ラジアン）、λは上記Ｎｘ、Ｎｙ、
θを求める三次元屈折率測定の際の光の波長５９０ｎ
ｍ、πは円周率である。

【００９５】《乾燥工程》ウェブを千鳥状に配置したロ
ールに交互に通して搬送する乾燥装置及び／またはクリ
ップまたはピンでウェブの両端を保持して搬送するテン
ター装置を用いて巾保持しながら、ウェブを乾燥する工
程である。乾燥工程における搬送張力も可能な範囲で低
めに維持することがＲ₀が低く維持できるため好まし
く、１９０Ｎ／ｍ以下であることが好ましい。更に好ま
しくは１７０Ｎ／ｍ以下であることが好ましく、更に好
ましくは１４０Ｎ／ｍ以下であることが好ましく１００
〜１３０Ｎ／ｍであることが特に好ましい。特に、フィ
ルム中の残留溶媒量が少なくとも５質量％以下となるま
で上記搬送張力以下に維持することが効果的である。

【００９６】乾燥の手段はウェブの両面に熱風を吹かせ
るのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブ
を当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は出来
上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥
は残留溶媒が８質量％以下くらいから行うのがよい。全
体を通し、乾燥温度は概ね４０〜２５０℃で行われる。
特に本発明では残留溶媒が８質量％以下まで乾燥された
フィルムを１１５〜２００℃で少なくとも５〜６０分間
維持することが好ましく、これによって更に面配向度が
低減されるのである。より好ましくは１２０〜１６０℃
の範囲で５〜６０分間維持されることであり、これは乾
燥工程の一部を兼ねてもよい。加熱温度はフィルムのＴ
ｇ以下であることが望ましい。

【００９７】流延用支持体面から剥離した後の乾燥工程
では、溶媒の蒸発によってウェブは巾方向に収縮しよう
とする。特に高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きく
なる。この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥すること
が、出来上がったフィルムの平面性を良好にする上では
好ましい。一方で、剥離後の乾燥工程である程度収縮さ
せるかあるいは延伸する場合は低い延伸倍率とすること
が面配向を低く維持できるため好ましい。

【００９８】この観点から、例えば、特開昭６２−４６
６２５号に示されているような乾燥全工程あるいは一部
の工程を巾方向にクリップまたはピンでウェブの巾両端
を巾保持しつつ乾燥させる方法（テンター方式と呼ばれ
る）、中でも、クリップを用いるテンター方式、ピンを
用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。

【００９９】尚、この様に幅把持しながら乾燥すること
で得られるフィルムの面内リターデーションを小さくで
きる。テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量は、テ
ンター開始時に１００質量％以下であるのが好ましく、
且つ、ウェブの残留溶媒量が１０質量％以下になるまで
テンターをかけながら乾燥を行う事が好ましく、更に好
ましくは５質量％以下である。

【０１００】また、セルロースエステルフィルムの乾燥
工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に乾
燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好まし
く、更に好ましくは、０．５質量％以下である。

【０１０１】フィルム乾燥工程では一般にロール懸垂方
式か、上記記載のようなピンテンター方式でフィルムを
搬送しながら乾燥する方式が採られる。液晶表示部材用
としては、ピンテンター方式で幅を保持しながら乾燥さ
せることが、寸法安定性を向上させるために好ましい。
特に支持体より剥離した直後の残留溶剤量の多いところ
で幅保持を行うことが、寸法安定性向上効果をより発揮
するため特に好ましい。フィルムを乾燥させる手段は特
に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイ
クロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行うのが好まし
い。

【０１０２】《巻き取り工程》ウェブ中の残留溶媒量が
２質量％以下となってからセルロースエステルフィルム
として巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％
以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得
ることが出来る。

【０１０３】巻き取り方法は、一般に使用されているも
のを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テー
パーテンション法、内部応力一定のプログラムテンショ
ンコントロール法等があり、それらを使いわければよ
い。

【０１０４】セルロースエステルフィルムの膜厚は、使
用目的によって異なるが、仕上がりフィルムとして、通
常５〜５００μｍの範囲にあり、更に１０〜２５０μｍ
の範囲が好ましく、特に液晶画像表示装置用フィルムと
しては１０〜１２０μｍの範囲が用いられる。本発明で
は特に、１０〜６０μｍの膜厚の薄いフィルムであって
も、光学的等方性に優れ、特に面配向度が低いフィルム
を得ることができるのである。

【０１０５】膜厚の調節には、所望の厚さになるよう
に、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金のスリッ
ト間隙、ダイの押し出し圧力、流延用支持体の速度等を
コントロールするのがよい。

【０１０６】また、膜厚を均一にする手段として、膜厚
検出手段を用いて、プログラムされたフィードバック情
報を上記各装置にフィードバックさせて調節するのが好
ましい。溶液流延製膜法を通しての流延直後から乾燥ま
での工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気とする
のもよいが、窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス雰囲気
で行ってもよい。

【０１０７】ただ、乾燥雰囲気中の蒸発溶媒の爆発限界
の危険性は常に考慮されなければならないことは勿論の
ことである。

【０１０８】本発明のセルロースエステルフィルムは可
塑剤を含有することができる。本発明に係る可塑剤とし
ては、特に限定はないが、リン酸エステル系可塑剤、カ
ルボン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル、クエン
酸エステル、グリコレート系可塑剤等の可塑剤が好まし
く用いられるが、特にこれらのみに限定されるわけでは
ない。

【０１０９】リン酸エステル系可塑剤としては、トリフ
ェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホス
フェート（ＴＣＰ）、ビフェニル−ジフェニルホスフェ
ート、ジメチルエチルホスフェート、クレジルジフェニ
ルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジ
フェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフ
ェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。

【０１１０】カルボン酸エステル系可塑剤としては、フ
タル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的なもの
である。フタル酸エステルの例としては、ジメチルフタ
レート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジ
ブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート
（ＤＯＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨ
Ｐ）、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタ
リルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコ
レート等が用いられる。

【０１１１】クエン酸エステル系可塑剤としては、クエ
ン酸アセチルトリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびクエン酸
アセチルトリブチル（ＯＡＣＴＢ）が用いられる。

【０１１２】その他のカルボン酸エステルの例には、オ
レイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシ
ン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれ
る。トリアセチン、トリブチリン等を用いることもでき
る。これらの可塑剤は単独で使用しても２種以上を適宜
組み合わせて使用してもよい。

【０１１３】これらの可塑剤の使用量は、フィルム性
能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜
３５質量％が好ましく、特に好ましくは、５〜３０質量
％である。

【０１１４】加工性とはベースフィルムや液晶表示部材
をスリット加工や打ち抜き加工する際のことで、加工性
が悪いと切断面がノコギリ状になり切り屑が発生し、製
品に付着して欠陥となるため好ましくない。

【０１１５】本発明のセルロースエステルフィルムに係
る紫外線吸収剤について説明する。本発明のセルロース
エステルフィルムは、その高い寸法安定性から、偏光板
または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または
液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく
用いられる。

【０１１６】紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観
点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないも
のが好ましく用いられる。具体的には３８０ｎｍの透過
率が１０％未満であることが好ましく、特に５％未満で
あることがより好ましい。

【０１１７】本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤
の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合
物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル
系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレー
ト系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
又、特開平６−１４８４３０号記載の高分子紫外線吸収
剤も好ましく用いられる。

【０１１８】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は下記一般式〔１〕で示される化合物が好ましく用いら
れる。

【０１１９】

【化４】

【０１２０】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は同じ
か又は異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ又はジ
アルキルアミノ基、アシルアミノ基又は５〜６員の複素
環基を表し、Ｒ₄はＲ₅と共に５〜６員の炭素環を形成し
てもよい。

【０１２１】また、上記記載のこれらの基は、任意の置
換基を有していて良い。以下に本発明に係る紫外線吸収
剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されな
い。

【０１２２】ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾールＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，
４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール）ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾールＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェ
ノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチル
ヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵ
ＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製）また本発明に係る紫外線吸収剤のひとつであるベンゾフ
ェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式〔２〕で表さ
れる化合物が好ましく用いられる。

【０１２３】

【化５】

【０１２４】式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または
アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェ
ニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及び
フェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原
子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロア
ルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル
基、又は−ＣＯ（ＮＨ）_n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキ
ル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェ
ニル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。

【０１２５】上記において、アルキル基としては、例え
ば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表
し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までの
アルコキシル基で、アルケニル基としては例えば、炭素
数１６までのアルケニル基で例えばアリル基、２−ブテ
ニル基などを表す。又、アルキル基、アルケニル基、フ
ェニル基への置換分としてはハロゲン原子、例えば、塩
素原子、臭素原子、フッ素原子など、ヒドロキシル基、
フェニル基、（このフェニル基にはアルキル基またはハ
ロゲン原子などを置換していてもよい）などが挙げられ
る。

【０１２６】以下に一般式〔２〕で表されるベンゾフェ
ノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されない。

【０１２７】ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノンＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノンＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スル
ホベンゾフェノンＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５
−ベンゾイルフェニルメタン）本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤
は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果
に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフ
ェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少
ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく
用いられる。

【０１２８】本発明に係る紫外線吸収剤添加液の添加方
法としては、下記に記載の方法が挙げられる。

【０１２９】《添加方法Ａ》紫外線吸収剤添加液の調製
方法としては、アルコールやメチレンクロライド、ジオ
キソランなどの有機溶剤に紫外線吸収剤を溶解してから
直接ドープ組成中に添加する。

【０１３０】《添加方法Ｂ》紫外線吸収剤添加液の調製
方法としては、アルコールやメチレンクロライド、ジオ
キソランなどの有機溶剤に紫外線吸収剤と少量のセルロ
ースエステルを溶解してからインラインミキサーでドー
プに添加する。

【０１３１】本発明においては、添加方法Ｂの方が、紫
外線吸収剤の添加量を容易に調整できるため、生産性に
優れていて好ましい。

【０１３２】紫外線吸収剤の使用量は化合物の種類、使
用条件などにより一様ではないが、通常はセルロースエ
ステルフィルム１ｍ²当り、０．２〜２．０ｇが好まし
く、０．４〜１．５ｇがさらに好ましく、０．６〜１．
０ｇが特に好ましい。

【０１３３】本発明のセルロースエステルフィルムには
滑り性を付与するために微粒子を添加することができ
る。微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化
合物の微粒子が挙げられる。

【０１３４】無機化合物としては、珪素を含む化合物、
二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭
酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケ
イ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミ
ニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が
好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や
酸化ジルコニウムであるが、セルロースエステル積層フ
ィルムの濁度を低減できるので、二酸化珪素が特に好ま
しく用いられる。

【０１３５】二酸化珪素の微粒子としては、例えば、ア
エロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、
２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ
６００（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使
用できる。

【０１３６】酸化ジルコニウムの微粒子としては、例え
ば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロ
ジル（株）製）等の市販品が使用できる。

【０１３７】有機化合物としては、例えば、シリコーン
樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好まし
く、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。

【０１３８】上記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に
三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、ト
スパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１
４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン
（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。

【０１３９】本発明のセルロースエステルフィルムに添
加される微粒子の１次平均粒子径としては、ヘイズを低
く抑えるという観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、更
に好ましくは、５〜１６ｎｍであり、特に好ましくは、
５〜１２ｎｍである。これらの微粒子は０．１〜５μｍ
の粒径の２次粒子を形成してセルロースエステルフィル
ムに含まれることが好ましく、好ましい平均粒径は０．
１〜２μｍであり、更に好ましくは０．２〜０．６μｍ
である。これにより、フィルム表面に高さ０．１〜１．
０μｍ程度の凹凸を形成し、これによってフィルム表面
に適切な滑り性を与えることが出来る。

【０１４０】本発明に係る微粒子の１次平均粒子径の測
定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で
粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値
をもって、１次平均粒子径とした。

【０１４１】微粒子の、見掛比重としては、７０ｇ／リ
ットル以上が好ましく、更に好ましくは、９０〜２００
ｇ／リットルであり、特に好ましくは、１００〜２００
ｇ／リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分
散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化す
るため好ましく、また、本発明のように固形分濃度の高
いドープを調製する際には、特に好ましく用いられる。

【０１４２】１次粒子の平均径が２０ｎｍ以下、見掛比
重が７０ｇ／リットル以上の二酸化珪素微粒子は、例え
ば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを１
０００〜１２００℃にて空気中で燃焼させることで得る
ことができる。また例えばアエロジル２００Ｖ、アエロ
ジルＲ９７２Ｖ（以上日本アエロジル（株）製）の商品
名で市販されており、それらを使用することができる。

【０１４３】上記記載の見掛比重は二酸化珪素微粒子を
一定量メスシリンダーに採り、この時の重さを測定し、
下記式で算出したものである。

【０１４４】見掛比重（ｇ／リットル）＝二酸化珪素質
量（ｇ）÷二酸化珪素の容積（リットル）本発明に係る微粒子の分散液を調製する方法としては、
例えば以下に示すような３種類が挙げられる。

【０１４５】《調製方法Ａ》溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。

【０１４６】《調製方法Ｂ》溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。別に溶剤に少量のセルローストリアセテートを加
え、撹拌溶解する。これに前記微粒子分散液を加えて撹
拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をイ
ンラインミキサーでドープ液と十分混合する。

【０１４７】《調製方法Ｃ》溶剤に少量のセルロースト
リアセテートを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加
えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。
微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混
合する。

【０１４８】調製方法Ａは二酸化珪素微粒子の分散性に
優れ、調製方法Ｃは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい
点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは二酸
化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が再凝集し
にくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。

【０１４９】《分散方法》二酸化珪素微粒子を溶剤など
と混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０
質量％が好ましく、１０〜２５質量％がさらに好まし
く、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度は高い
方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘ
イズ、凝集物が良化するため好ましい。

【０１５０】使用される溶剤は低級アルコール類として
は、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチル
アルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒
としては特に限定されないが、セルロースエステルの製
膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

【０１５１】セルロースエステルに対する二酸化珪素微
粒子の添加量はセルロースエステル１００質量部に対し
て、二酸化珪素微粒子は０．０１〜０．３質量部が好ま
しく、０．０５〜０．２質量部がさらに好ましく、０．
０８〜０．１２質量部が最も好ましい。添加量は多い方
が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低
く、凝集物も少ない点が優れている。

【０１５２】分散機は通常の分散機が使用できる。分散
機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機
に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレ
ス分散機がヘイズが低く好ましい。

【０１５３】メディア分散機としてはボールミル、サン
ドミル、ダイノミルなどがあげられる。

【０１５４】メディアレス分散機としては超音波型、遠
心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散
装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合
した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断
や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧
分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μ
ｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８０７ＭＰ
ａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６
１３ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１
００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／
時間以上に達するものが好ましい。

【０１５５】上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏ
ｆｌｕｉｄｉｃｓＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧
ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいは
ナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴー
リン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホ
モジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等が挙げ
られる。

【０１５６】また、微粒子を含むドープを流延支持体に
直接接するように流延することが、滑り性が高く、ヘイ
ズが低いフィルムが得られるので好ましい。

【０１５７】本発明のフィルム製膜時において、巻き取
り後のブロッキング防止等のためには、上記マット剤の
添加の他に、フィルムの両サイドにエンボス加工を施す
ことができる。エンボス加工は目的に応じて任意の高さ
に加工する事ができるが、本発明においては、巻き取り
後の不要な残留溶媒を揮発させるために、高さ５μｍ以
上とすることが好ましく、より好ましくは１０μｍ以上
である。

【０１５８】又、ロール状に巻き取られた後、出荷され
るまでの間、汚れや静電気によるゴミ付着等から製品を
保護するために通常、包装加工がなされる。この包装材
料については、上記目的が果たせれば特に限定されない
が、フィルムからの残留溶媒の揮発を妨げないものが好
ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリエステル、ポ
リプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、紙、各種不織
布等が挙げられる。繊維がメッシュクロス状になったも
のは、より好ましく用いられる。

【０１５９】本発明のセルロースエステルフィルムは複
数のドープを用いた共流延法等による多層構成を有する
ものであってもよい。

【０１６０】共流延とは、異なったダイを通じて２層ま
たは３層構成にする逐次多層流延方法、２つまたは３つ
のスリットを有するダイ内で合流させ２層または３層構
成にする同時多層流延方法、逐次多層流延と同時多層流
延を組み合わせた多層流延方法のいずれであっても良
い。

【０１６１】本発明のセルロースエステルフィルムの作
製について、製造装置の模式図の１例を図１を用いて説
明する。図１において、エンドレスステンレスベルト１
は、低温乾燥ゾーン３と高温乾燥ゾーン４の間を循環し
ている。ドープ組成物は、ダイ２から流延部５でエンド
レスステンレスベルト１の上に流延され、矢印方向に運
ばれ、低温乾燥ゾーン３と高温乾燥ゾーン４で、乾燥さ
れ、剥離部６で剥離ロール７によりエンドレスステンレ
スベルトから剥離されてセルロースエステルフィルムと
なる。セルロースエステルフィルムは、更に第１乾燥ゾ
ーン８を通り、第２乾燥ゾーン１０から、第３乾燥ゾー
ン１１へ運ばれ、製品として巻き取り部１２で巻き取ら
れる。尚、第１乾燥ゾーン８と第３乾燥ゾーン１１は、
パスを長くとるため、搬送ロール９により搬送される。

【０１６２】又、本発明で用いられるセルロースエステ
ルはフィルムにしたときの輝点異物が少ないものが、特
に偏光板保護フィルムあるいは光学補償フィルムの支持
体として好ましく用いられる。本発明において、輝点異
物とは、２枚の偏光板を直交に配置し（クロスニコ
ル）、この間にセルロースエステルフィルムを配置し
て、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面から
セルロースエステルフィルムを観察したときに、光源の
光がもれて見える点のことである。

【０１６３】このとき評価に用いる偏光板は輝点異物が
ない保護フィルムで構成されたものであることが望まし
く、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく
用いられる。輝点異物の発生は、セルロースエステルに
含まれる未酢化のセルロースがその原因の１つと考えら
れ、対策としては、未酢化のセルロース量の少ないセル
ロースエステルを用いることや、また、セルロースエス
テルを溶解したドープ液の濾過等により、除去、低減が
可能である。又、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積
当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれる
セルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物
は少なくなる傾向がある。

【０１６４】輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上
のものが２００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、
更に好ましくは、１００個／ｃｍ²以下、５０個／ｃｍ²
以下、３０個／ｃｍ²以下、１０個／ｃｍ²以下であるこ
とが好ましいが、特に好ましくは、０であることであ
る。

【０１６５】又、０．００５〜０．０１ｍｍ以下の輝点
についても２００個／ｃｍ²以下であることが好まし
く、更に好ましくは、１００個／ｃｍ²以下、５０個／
ｃｍ²以下、３０個／ｃｍ²以下、１０個／ｃｍ²以下で
あることが好ましいが、特に好ましいのは、輝点が０の
場合である。０．００５ｍｍ以下の輝点についても少な
いものが好ましい。

【０１６６】輝点異物を濾過によって除去する場合、セ
ルロースエステルを単独で溶解させたものを濾過するよ
りも可塑剤を添加混合した組成物を濾過することが輝点
異物の除去効率が高く好ましい。濾材としては、ガラス
繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂な
どのフッ素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられ
るが、セラミックス、金属等も好ましく用いられる。絶
対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく、更
に好ましくは、３０μｍ以下、１０μｍ以下であるが、
特に好ましくは、５μｍ以下のものである。

【０１６７】これらは、適宜組み合わせて使用すること
もできる。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプ
でも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的
目詰まりしにくく好ましく用いられる。

【０１６８】また、本発明の光学フィルムは、その厚さ
が１０〜６０μｍのものが好ましい。膜厚が薄くなると
面配向度が高くなる傾向を有するが、本発明のセルロー
スエステルフィルムの製造方法により、薄膜でありなが
ら面配向度が低く維持できるのである。膜厚方向のリタ
ーデーションＲｔは下式に示すように面配向度と膜厚ｄ
（ｎｍ）の積で表されるが、本発明によれば単に膜厚が
薄いことによってＲｔが低く維持できるというだけでな
く、面配向度を小さくできることによって、極めて低い
Ｒｔを有するセルロースエステルフィルムを提供するこ
とができたのである。

【０１６９】Ｒｔ＝（（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ）×ｄ本発明において、面配向度、リターデーション値の測定
は、３５ｍｍ四方にカットした試料を２３℃、５５％Ｒ
Ｈ条件下に８時間放置した後、同条件下にて自動複屈折
率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）
を用いて、波長が５９０ｎｍにおいて、３次元屈折率測
定を行い、屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚを求めることにより
得られる。

【０１７０】本発明に係る偏光板について説明する。本
発明に係る偏光板は、一般的な方法で作製することがで
きる。例えば、本発明のセルロースエステルフィルムを
アルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏
光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶
液を用いて貼り合わせる方法がある。上記記載のアルカ
リケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良く
し、接着性を向上させるために、セルロースエステルフ
ィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理を示す。

【０１７１】偏光板の主たる構成要素である偏光膜と
は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在
知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール
系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィ
ルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させ
たものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液
を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した
後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性
処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に
本発明のセルロースエステルフィルムによる偏光板用保
護フィルムである透明なプラスチックフィルムが張り合
わされて偏光板を形成する。

【０１７２】以上のようにして得られるセルロースエス
テルフィルムは、透明性に優れ、光学的に等方性であ
り、引き裂き強度に代表される機械的強度も十分あり、
しかもカールが小さいので光学用フィルム、特に偏光板
用保護フィルムとして有用であり、更に、反射防止加
工、帯電防止加工、クリアハードコート加工、防眩加工
を適宜行うことも出来る。又、プラズマＣＶＤあるいは
大気圧プラズマ処理によって、金属酸化物層をはじめと
する各種機能層を形成することもできる。

【０１７３】面配向度０．００００１〜０．０００４の
本発明のセルロースエステルフィルムあるいはこれを用
いた偏光板を用いることによって、これまで以上に液晶
表示装置の設計に合わせた光学フィルムを提供すること
ができ、液晶表示装置の表示性能（コントラスト、黒の
しまり具合等）を更に向上させることができ、必要に応
じて位相差フィルムあるいは光学補償フィルムと自在に
組み合わせることができるようになった。

【０１７４】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるも
のではない。

【０１７５】実施例１〈試料１の作製〉（ドープ組成物１）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９２７０ｋｇ木材パルプから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９２３０ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）０．５ｋｇチヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）０．５ｋｇトリフェニルフォスフェート８ｋｇエチルフタリルエチルグリコレート３ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド３９１ｋｇエタノール３４ｋｇ上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
・攪拌しながら完全に溶解させた。アエロジルＲ９７２
Ｖ（日本アエロジル社製）はあらかじめ添加するエタノ
ールの一部と混合して分散し、これを密閉容器に投入し
た。これを、流延する温度まで冷却した後、静置して脱
泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙
Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、ドープ１を得た。

【０１７６】ドープ組成物をドープ組成物２〜１２に変
更した以外は同様にして、各々の組成物から溶液を調製
し、ドープ２〜１２を調製した。

【０１７７】（ドープ組成物２）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９６８５ｋｇ木材パルプから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９６１５ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）０．５ｋｇチヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）０．５ｋｇＫＥ−６０４（荒川化学（株）製）７．５ｋｇＫＥ−８５（荒川化学（株）製）７．５ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド４１２ｋｇエタノール３９．５ｋｇ（ドープ組成物３）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．８８８０ｋｇ木材パルプから合成されたセルローストリアセテート置換度２．８８２０ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）０．４ｋｇチヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）０．３ｋｇチヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）０．３ｋｇアラルダイドＧＹ２６０（旭チバ（株）製）１１ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド３９１ｋｇエタノール３４ｋｇ（ドープ組成物４）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９２９０ｋｇ木材パルプから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９２１０ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）０．５ｋｇチヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）０．５ｋｇＫＥ−６０４（荒川化学（株）製）１０ｋｇＫＥ−８５（荒川化学（株）製）１０ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド３９２ｋｇエタノール２６ｋｇ（ドープ組成物５）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９２７０ｋｇ木材パルプから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９２３０ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）０．５ｋｇチヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）１ｋｇチヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）１ｋｇトリフェニルフォスフェート８ｋｇエチルフタリルエチルグリコレート３ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド３６８ｋｇエタノール２４．５ｋｇ（ドープ組成物６）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９４８１ｋｇ木材パルプから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９４１９ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）０．５ｋｇチヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）１．０ｋｇチヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）１．０ｋｇアラルダイドＧＹ２６０（旭チバ（株）製）１９ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド３８７ｋｇエタノール２５．５ｋｇ（ドープ組成物７）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９２８５ｋｇ木材パルプから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９２１５ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）０．５ｋｇチヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）１．０ｋｇチヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤）１．０ｋｇＫＥ−６０４（荒川化学（株）製）１０ｋｇＫＥ−８５（荒川化学（株）製）９ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド４１９ｋｇエタノール３６ｋｇ（ドープ組成物８）木材パルプから合成されたセルロースアセテートプロピオネートアセチル基置換度２．０プロピオニル基置換度０．９１００ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）０．５ｋｇチヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）０．５ｋｇＫＥ−６０４（荒川化学（株）製）１０ｋｇＫＥ−８５（荒川化学（株）製）１０ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇ酢酸メチル３１９ｋｇエタノール１３６ｋｇ（ドープ組成物９）木材パルプから合成されたセルロースアセテートプロピオネートアセチル基置換度２．０プロピオニル基置換度０．９１００ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）０．５ｋｇチヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）０．５ｋｇアラルダイドＧＹ２６０（旭チバ（株）製）２０ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド４１９ｋｇエタノール３６ｋｇ（ドープ組成物１０）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．９２１００ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）０．５ｋｇチヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）１．０ｋｇチヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）１．０ｋｇトリフェニルフォスフェート８ｋｇエチルフタリルエチルグリコレート３ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド４１５ｋｇエタノール２６．５ｋｇ（ドープ組成物１１）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．８８６０ｋｇ木材パルプから合成されたセルローストリアセテート置換度２．８８４０ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）０．５ｋｇチヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）０．５ｋｇトリフェニルフォスフェート１３ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド４６０ｋｇエタノール４０ｋｇ（ドープ組成物１２）綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート置換度２．８２５０ｋｇ木材パルプから合成されたセルローストリアセテート置換度２．８４５０ｋｇチヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤１）０．５ｋｇチヌビン３２８（チバスペシャルティケミカルズ社製紫外線吸収剤２）０．５ｋｇトリフェニルフォスフェート８ｋｇエチルフタリルエチルグリコレート３ｋｇアエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル社製）０．２ｋｇメチレンクロライド４３７ｋｇエタノール３８ｋｇ次にセルロースエステルフィルムの作製について述べる
が、作製はいずれも図１に示す装置を用いた。

【０１７８】本発明のセルロースエステルフィルム１の作製３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３
０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト（支持体）上に均一に流延した。流延後、ただちに
ベルト上のドープ膜（ウエブ）に２５℃（Ｔ１）の温風
をあてて乾燥させた後、流延から４５秒後にベルトの裏
面から５５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ
表面に５５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延か
ら９０秒後に、剥離張力１８０Ｎ／ｍで剥離し、多数の
ロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥さ
せた。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１
２℃とした。剥離時の残留溶媒量は２６質量％であっ
た。又、支持体上で乾燥中のウエブをサンプリングして
流延後の時間経過と残留溶媒量を求めたところ、流延後
１８秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥していた。剥
離されたフィルムは、５０℃に設定された第１乾燥ゾー
ンを１分間搬送させた後、９０℃に設定された第２乾燥
ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃に設定され
た第３乾燥ゾーンで１０分間搬送させて、乾燥を行っ
た。乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２０００
ｍ、膜厚４７μｍの本発明のセルロースエステルフィル
ム１を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．３％であっ
た。

【０１７９】本発明のセルロースエステルフィルム２の作製３０℃に温度調整されたドープ１を用いて、裏面から３
０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上の
ドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾
燥させた後、流延から３５秒後にベルトの裏面から４５
℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５
℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から７５秒後
に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬
送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離
部のエンドレスステンレスベルトの温度は１２℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後１９秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルム
は、５０℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送さ
せた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間
搬送させ、さらに１１５℃に設定された第３乾燥ゾーン
で１０分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン
内ではテンターにて幅手方向に１．０５倍に延伸した。
乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜
厚４０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム２を
得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％であった。

【０１８０】本発明のセルロースエステルフィルム３の作製３０℃に温度調整されたドープ２を用いて、裏面から２
０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上の
ドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾
燥させた後、流延から３５秒後にベルトの裏面から４５
℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５
℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から７５秒後
に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬
送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離
部のエンドレスステンレスベルトの温度は１２℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は２８質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後１０秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルム
は、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送さ
せた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間
搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーン
で１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン
内ではテンターにて幅手方向に１．０５倍に延伸した。
乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜
厚４０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム３を
得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であっ
た。

【０１８１】本発明のセルロースエステルフィルム４の作製３０℃に温度調整されたドープ３を用いて、裏面から２
０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上の
ドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾
燥させた後、流延から２０秒後にベルトの裏面から４５
℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４５
℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から４０秒後
に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬
送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離
部のエンドレスステンレスベルトの温度は１２℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は８０質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後１９秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルム
は、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送さ
せた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間
搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーン
で１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン
内ではテンターにて幅手方向に１．０５倍に延伸した。
乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜
厚４０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム４を
得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であっ
た。

【０１８２】本発明のセルロースエステルフィルム５の作製３０℃に温度調整されたドープ４を用いて、裏面から２
０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上の
ドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾
燥させた後、流延から２０秒後にベルトの裏面から４１
℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１
℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から４０秒後
に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬
送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離
部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は７６質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後１６秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルム
は、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送さ
せた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間
搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーン
で１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン
内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。
乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜
厚４０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム５を
得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であっ
た。

【０１８３】本発明のセルロースエステルフィルム６の作製３０℃に温度調整されたドープ５を用いて、裏面から２
０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上の
ドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾
燥させた後、流延から２０秒後にベルトの裏面から４１
℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１
℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から４０秒後
に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬
送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離
部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は７４質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルム
は、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送さ
せた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間
搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーン
で１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン
内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。
乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜
厚４０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム６を
得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であっ
た。

【０１８４】本発明のセルロースエステルフィルム７の作製３０℃に温度調整されたドープ６を用いて、裏面から２
０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上の
ドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて乾
燥させた後、流延から２２秒後にベルトの裏面から４１
℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４１
℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から４５秒後
に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬
送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離
部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は７８質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルム
は、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送さ
せた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間
搬送させ、さらに１２７℃に設定された第３乾燥ゾーン
で１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン
内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。
乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜
厚４０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム７を
得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であっ
た。

【０１８５】本発明のセルロースエステルフィルム８の作製３５℃に温度調整されたドープ７を用いて、裏面から４
５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上の
ドープ膜（ウエブ）に４５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾
燥させた後、流延から２５秒後にベルトの裏面から６０
℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に６０
℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から５０秒後
に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬
送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離
部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後１８秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルム
は、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送さ
せた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間
搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーン
で１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン
内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。
乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜
厚４０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム８を
得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であっ
た。

【０１８６】本発明のセルロースエステルフィルム９の作製３０℃に温度調整されたドープ８を用いて、裏面から３
５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上の
ドープ膜（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾
燥させた後、流延から３０秒後にベルトの裏面から５７
℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に５７
℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から６０秒後
に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬
送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離
部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は７０質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルム
は、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送さ
せた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間
搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーン
で１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン
内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。
乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜
厚４０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム９を
得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であっ
た。

【０１８７】本発明のセルロースエステルフィルム１０の作製３５℃に温度調整されたドープ９を用いて、裏面から４
５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレスベ
ルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上の
ドープ膜（ウエブ）に４５℃（Ｔ１）の温風をあてて乾
燥させた後、流延から２５秒後にベルトの裏面から６０
℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に６０
℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から５０秒後
に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬
送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥離
部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は４０質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後１５秒で剥離残溶量
が２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルム
は、５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送さ
せた後、９０℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間
搬送させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーン
で１５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン
内ではテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。
乾燥後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜
厚４０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム１０
を得た。巻き取り時の残留溶媒量は０．１％未満であっ
た。

【０１８８】本発明のセルロースエステルフィルム１１の作製３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から
３０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレス
ベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上
のドープ膜（ウエブ）に３０℃（Ｔ１）の温風をあてて
乾燥させた後、流延から１８秒後にベルトの裏面から４
５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４
５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から３６秒
後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥
離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は６３質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が
２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、
５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた
後、９５℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送
させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１
５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内で
はテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥
後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４
０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム１１を得
た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未満であった。

【０１８９】本発明のセルロースエステルフィルム１２の作製３５℃に温度調整されたドープ１０を用いて、裏面から
３５℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレス
ベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上
のドープ膜（ウエブ）に３５℃（Ｔ１）の温風をあてて
乾燥させた後、流延から１５秒後にベルトの裏面から４
５℃（Ｔ４）の温風で加熱すると共に、ウエブ表面に４
５℃（Ｔ３）の温風をあてて乾燥させ、流延から３０秒
後に、剥離張力１７０Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで
搬送張力１３０Ｎ／ｍで搬送させながら乾燥させた。剥
離部のエンドレスステンレスベルトの温度は１１℃とし
た。剥離時の残留溶媒量は７６質量％であった。又、支
持体上で乾燥中のウエブは、流延後９秒で剥離残溶量が
２００質量まで乾燥していた。剥離されたフィルムは、
５５℃に設定された第１乾燥ゾーンを１分間搬送させた
後、９５℃に設定された第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送
させ、さらに１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで１
５分間搬送させて、乾燥を行った。第２乾燥ゾーン内で
はテンターにて幅手方向に１．０７倍に延伸した。乾燥
後、ロール状に巻き取る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４
０μｍの本発明のセルロースエステルフィルム１２を得
た。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％未満であった。

【０１９０】比較のセルロースエステルフィルム１の作製３０℃に温度調整されたドープ１１を用いて、裏面から
２０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレス
ベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上
のドープ膜（ウエブ）に２０℃（Ｔ１）の温風をあてて
乾燥させた後、流延から１５０秒後に、剥離張力１８０
Ｎ／ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍ
で搬送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステ
ンレスベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒
量は２０質量％であった又、支持体上で乾燥中のウエブ
は、流延後３２秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥し
ていた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第
１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定され
た第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃
に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾
燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方
向に１．０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取
る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの比較のセルロ
ースエステルフィルム１を得た。巻き取り時の残留溶媒
量は０．１％未満であった。

【０１９１】比較のセルロースエステルフィルム２の作製３０℃に温度調整されたドープ１２を用いて、裏面から
２０℃（Ｔ２）の温風で加熱したエンドレスステンレス
ベルト上に均一に流延した。流延後、ただちにベルト上
のドープ膜（ウエブ）に２５℃（Ｔ１）の温風をあてて
乾燥させ、流延から１２０秒後に、剥離張力１８０Ｎ／
ｍで剥離し、多数のロールで搬送張力１５０Ｎ／ｍで搬
送させながら乾燥させた。剥離部のエンドレスステンレ
スベルトの温度は１１℃とした。剥離時の残留溶媒量は
２６質量％であった。又、支持体上で乾燥中のウエブ
は、流延後３０秒で剥離残溶量が２００質量まで乾燥し
ていた。剥離されたフィルムは、５０℃に設定された第
１乾燥ゾーンを１分間搬送させた後、９０℃に設定され
た第２乾燥ゾーンを３０秒間搬送させ、さらに１１５℃
に設定された第３乾燥ゾーンで１５分間搬送させて、乾
燥を行った。第２乾燥ゾーン内ではテンターにて幅手方
向に１．０５倍に延伸した。乾燥後、ロール状に巻き取
る事で、巻長２６００ｍ、膜厚４０μｍの比較のセルロ
ースエステルフィルム２を得た。巻き取り時の残留溶媒
量は０．１％未満であった。

【０１９２】得られた本発明のセルロースエステルフィ
ルム１〜１２及び比較のセルロースエステルフィルム１
及び２について、面配向度Ｓ、面内リターデーションＲ
₀、遅相軸方向とフィルムの製膜方向とのなす角度θ
（゜）を求めた。得られた結果を表１に示す。

【０１９３】〈支持体上ドープ膜の残留溶媒量の測定
乾燥速度、時間の算出〉流延後の支持体上のドープ膜
を、一定時間毎にサンプリングし、流延から剥離までの
残留溶媒量の変化をグラフにプロットした。そして、グ
ラフより流延後残留溶媒量２００質量％に達する時間Ｔ
₂₀₀と流延後残留溶媒量１２０質量％に達する時間Ｔ₁₂₀
を求め、その差を求めた。又、その時間から乾燥速度を
求めた。

【０１９４】乾燥速度Ｓ₂₀₀（質量％／秒）＝（残留溶媒量２００質量％−残留溶媒量１２０質量％）／（Ｔ₂₀₀−Ｔ₁₂₀）Ｓ₂₀₀ Ｔ₂₀₀−Ｔ₁₂₀ （質量％／秒）（秒）本発明のセルロースエステルフィルム１５．２１５．５本発明のセルロースエステルフィルム２５．０１６本発明のセルロースエステルフィルム３４．８１６．７本発明のセルロースエステルフィルム４７．０１１．５本発明のセルロースエステルフィルム５６．７１２．０本発明のセルロースエステルフィルム６６．４１２．５本発明のセルロースエステルフィルム７６．４１２．５本発明のセルロースエステルフィルム８６．８１１．７本発明のセルロースエステルフィルム９５．０１６本発明のセルロースエステルフィルム１０７．５１０．６本発明のセルロースエステルフィルム１１６．８１１．８本発明のセルロースエステルフィルム１２７．２１１．１比較のセルロースエステルフィルム１３．９２０．５比較のセルロースエステルフィルム２３．８２１〈面配向度の測定〉自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１Ａ
ＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５５
％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において、３次元
屈折率測定を行い、屈折率Ｎｘ、Ｎｙ、Ｎｚを求めた。
請求項１の式（Ｉ）に従って、面配向度Ｓと、請求項２
の式（II）に従って、Ｒ₀を算出した。

【０１９５】

【表１】

【０１９６】このように、本発明のセルロースエステル
フィルムは面配向度が低く、光学的等方性に優れること
がわかる。

【０１９７】実施例２本発明のセルロースエステルフィルム１を４０℃の２．
５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液で６０秒間アル
カリ処理し、３分間水洗して鹸化処理層を形成し、アル
カリ処理フィルムを得た。

【０１９８】次に、厚さ１２０μｍのポリビニルアルコ
ールフィルムを沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを含む水溶液
１００ｋｇに浸漬し、５０℃で４倍に延伸して偏光膜を
作った。この偏光膜の両面に前記アルカリ処理フィルム
を完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤
として各々貼り合わせ本発明の偏光板１を作製した。

【０１９９】同様に、セルロースエステルフィルム２〜
１２又は比較のセルロースエステルフィルム１〜２を用
いてそれぞれ本発明の偏光板２〜１２及び比較の偏光板
１〜２を得た。

【０２００】偏光板の評価得られた偏光板の偏光度を、４００〜７００ｎｍの光線
領域にて、５０ｎｍごとに２枚の偏光板を平行に配置し
た場合と直交に配置した場合の光透過率を求め、その平
均値から下式に従って求めた。

【０２０１】偏光度＝｛（Ｈ０−Ｈ９０）／（Ｈ０＋Ｈ
９０）｝１／２×１００ただし、式中Ｈ０は平均平行透過率、Ｈ９０は平均直交
透過率である。

【０２０２】８０℃、９０％ＲＨで５００時間処理した
前後での偏光度の変化も調べた。その結果、本発明の偏
光板１〜１２はいずれも初期の偏光度が８８〜９０であ
り、８０℃、９０％ＲＨで５００時間処理した後の偏光
度は８６以上であったが、比較の偏光板１〜２は初期の
偏光度が８８であり、８０℃、９０％ＲＨで５００時間
処理した後の偏光度は８５未満であり、本発明の偏光板
が優れていることが確認された。

【０２０３】

【発明の効果】本発明により、光学的等方性、特に膜厚
方向の光学的等方性に優れたセルロースエステルフィル
ム、その製造方法、表示装置用偏光板及び表示装置を提
供することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のセルロースエステルフィルムを製造す
る装置の模式図である。

【符号の説明】

１エンドレスステンレスベルト２ダイ３低温乾燥ゾーン４高温乾燥ゾーン５流延部６剥離部７剥離ロール８第１乾燥ゾーン９搬送ロール１０第２乾燥ゾーン１１第３乾燥ゾーン１２巻き取り部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｌ 63/00 Ｃ０８Ｌ 63/00 ＡＧ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ // Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA27 BB18 BB33 BB43 BB51 BC22 2H091 FA08X FA08Z FB02 KA10 LA16 4F071 AA09 AE19 AF29 AF35 BA02 BB02 BC01 4F205 AA01 AC05 AH73 AR06 AR08 AR11 GA07 GB02 GC07 GN22 GN24 GW06 4J002 AB021 CD022 EF086 GP00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記式（Ｉ）で表される面配向度Ｓが
０．０００４以下であることを特徴とするセルロースエ
ステルフィルム。式（Ｉ）Ｓ＝（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙ
は遅相軸方向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折
率、Ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率を表す。
【請求項２】上記式（Ｉ）で表されるＳが０．０００
０１〜０．０００４であり、かつＲ₀とθが、下記式（I
I）のＰが０．９９９９の関係を満たすことを特徴とす
る請求項１記載のセルロースエステルフィルム。式（II）Ｐ≦１−ｓｉｎ²（２θ）ｓｉｎ²（πＲ₀／λ）Ｒ₀＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ式中、Ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、Ｎｙ
は遅相軸方向に対し直角な方向のフィルム面内の屈折率
であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。θはフィ
ルム面内の遅相軸方向と製膜方向（フィルムの直尺方
向）とのなす角度（ラジアン）、λは上記Ｎｘ、Ｎｙ、
θを求める三次元屈折率測定の際の光の波長（ｎｍ）、
πは円周率である。
【請求項３】分子内に複数の環状構造を有する化合物
をセルロースエステルフィルムに対して５〜３０質量％
含有することを特徴とする請求項１又は２記載のセルロ
ースエステルフィルム。
【請求項４】セルロースエステルが総置換度２．８５
〜３．００のセルロースエステルであることを特徴とす
る請求項１〜３のいずれか１項記載のセルロースエステ
ルフィルム。
【請求項５】膜厚が１０〜６０μｍであることを特徴
とする請求項１〜４のいずれか１項記載のセルロースエ
ステルフィルム。
【請求項６】セルロースエステル溶液を支持体上に流
延し、剥離後のフィルムをさらに乾燥させるセルロース
エステルフィルムの製造方法において、セルロースエス
テル溶液を支持体上に流延した後の支持体上での乾燥工
程の際、支持体上のドープ膜の残留溶媒量が２００質量
％から１２０質量％の範囲内にあるとき残留溶媒量減少
速度が４〜１５質量％／秒となる乾燥を行うことを特徴
とするセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項７】セルロースエステル溶液を支持体上に流
延し、剥離後のフィルムをさらに乾燥させるセルロース
エステルフィルムの製造方法において、セルロースエス
テル溶液を支持体上に流延した後の支持体上での乾燥工
程の際、支持体上のドープ膜の残留溶媒量が２００質量
％から１２０質量％の範囲にある時間が１０秒以上２０
秒未満となる乾燥を行うことを特徴とするセルロースエ
ステルフィルムの製造方法。
【請求項８】セルロースエステル溶液を支持体上に流
延し、剥離後のフィルムをさらに乾燥させるセルロース
エステルフィルムの製造方法において、セルロースエス
テル溶液を支持体上に流延した後の支持体上での乾燥工
程の際、平均温度が４１〜１００℃に設定された雰囲気
内でウエブを乾燥させる乾燥工程を有し、かつ流延後２
５〜９０秒で剥離することを特徴とする請求項６又は７
記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項９】セルロースエステル溶液を支持体上に流
延し、剥離後のフィルムを乾燥させるセルロースエステ
ルフィルムの製造方法において、セルロースエステル溶
液を支持体上に流延した後の支持体上での乾燥工程の
際、平均温度が２０〜５０℃に設定された雰囲気内で支
持体上のウエブを乾燥させる低温乾燥工程の後、前記低
温乾燥工程の平均温度よりも＋５〜７０℃に設定された
雰囲気内で更に支持体上で乾燥させる高温乾燥工程で乾
燥を行い、かつ流延後２５〜９０秒で剥離することを特
徴とする請求項６、７又は８記載のセルロースエステル
フィルムの製造方法。
【請求項１０】前記支持体上での高温乾燥工程が４１
℃〜１００℃に設定された雰囲気内で行われることを特
徴とする請求項９記載のセルロースエステルフィルムの
製造方法。
【請求項１１】剥離時の残留溶媒量が２０〜１２０質
量％であることを特徴とする請求項６〜１０のいずれか
１項記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項１２】セルロースエステル溶液の固形分濃度
（低沸点溶媒分濃度を除いた濃度）が１７〜３０質量％
であることを特徴とする請求項６〜１１のいずれか１項
記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項１３】支持体から剥離されたフィルムの残留
溶媒量が０〜１０質量％まで乾燥された後、該フィルム
を１１５〜２００℃で５〜６０分間加熱処理することを
特徴とする請求項６〜１２のいずれか１項記載のセルロ
ースエステルフィルムの製造方法。
【請求項１４】溶液流延用支持体が金属製ベルトであ
ることを特徴とする請求項６〜１３のいずれか１項記載
のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項１５】請求項１〜５のいずれか１項記載のセ
ルロースエステルフィルムが、請求項６〜１４のいずれ
か１項記載の方法で製造されたことを特徴とするセルロ
ースエステルフィルム。
【請求項１６】請求項１〜５又は請求項１５のいずれ
か１項記載のセルロースエステルフィルムを少なくとも
一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項１７】請求項１〜５又は請求項１５のいずれ
か１項記載のセルロースエステルフィルムを用いたこと
を特徴とする表示装置。
【請求項１８】請求項１６記載の偏光板を用いたこと
を特徴とする表示装置。