[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2002069071A - 5-sulfonylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole compound and 5-acylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2- b][1,2,4]triazole compound - Google Patents

5-sulfonylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole compound and 5-acylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2- b][1,2,4]triazole compound

Info

Publication number
JP2002069071A
JP2002069071A JP2000252964A JP2000252964A JP2002069071A JP 2002069071 A JP2002069071 A JP 2002069071A JP 2000252964 A JP2000252964 A JP 2000252964A JP 2000252964 A JP2000252964 A JP 2000252964A JP 2002069071 A JP2002069071 A JP 2002069071A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
pyrrolo
triazole compound
sulfonylaminomethyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000252964A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shoji Sugai
昌治 菅井
Takashi Mikoshiba
尚 御子柴
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000252964A priority Critical patent/JP2002069071A/en
Publication of JP2002069071A publication Critical patent/JP2002069071A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00Other synthetic dyes of known constitution

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for easily producing an alkyl-eliminating pyrrolotriazole coupler having high versatility in high yield. SOLUTION: 5-Sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4] triazoles and 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazoles are produced by using a compound expressed by general formula (I) (R1 is H or a substituent; R2 and R3 are each an electron attractive group having a Hammett's substituent constant σp of >=0.2; R4 and R5 are each a substituent; R6 is an alkyl or an aryl; X is sulfonyl group or carbonyl group; and Y is a non-metallic atom group necessary for forming a ring containing the group). Preferably, the compound of general formula (II) is produced from a compound I-A through compounds of formulas I-B, I-C and I-D.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は写真用カプラーとし
て有用な5−スルホニルアミノメチル−1H−ピロロ−
〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物及び
5−アシルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−
b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物の製造方法に関
するものである。
The present invention relates to 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- useful as a photographic coupler.
[1,2-b] [1,2,4] triazole compound and 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-
b] A method for producing a [1,2,4] triazole compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】ハロゲン化銀カラー写真感光材料におい
て、シアン色素を生成するカプラーとして、米国特許第
5,256,526号、欧州特許第545,300号、
に記載のピロロトリアゾール系カプラーが知られてお
り、これは、色相、カップリング活性、堅牢性という点
で優れている。
BACKGROUND OF THE INVENTION In silver halide color photographic materials, US Pat. No. 5,256,526, European Patent No. 545,300, and US Pat.
The pyrrolotriazole-based couplers described in (1) are known, which are excellent in terms of hue, coupling activity, and fastness.

【0003】一方、撮影感材であるリバーサルフィルム
では、粒状性を確保するために一般に4当量カプラーが
用いられている。しかしながら、色相が良好なピロロト
リアゾール型の4当量カプラーでは、現像液中で、ホル
ムアルデヒドとパラフェニレンジアミンの付加化合物と
の反応によりマゼンタ色のステインが発生するという問
題が生じた。
On the other hand, in a reversal film, which is a photographic light-sensitive material, a 4-equivalent coupler is generally used to ensure graininess. However, the pyrrolotriazole type 4-equivalent coupler having a good hue has a problem that a magenta stain is generated in a developing solution due to a reaction between formaldehyde and an addition compound of paraphenylenediamine.

【0004】この問題を解決するカプラーとして特開平
10−186602に記載のアルキル離脱型ピロロトリ
アゾールカプラーが提案された。ここで提案されたアル
キル離脱型カプラーは、カップリング位がアルキル基で
置換されているため、マゼンタステインの発生が見られ
ないという特徴をもっていた。しかしながらここに記載
されているアルキル離脱カプラーの合成法は、工程数が
長く、低収率で、汎用性が低い、という問題点を有して
いた。
As a coupler which solves this problem, an alkyl-releasing pyrrolotriazole coupler described in JP-A-10-186602 has been proposed. The alkyl-releasing coupler proposed here has a feature that no magenta stain is generated because the coupling position is substituted with an alkyl group. However, the method for synthesizing an alkyl-eliminating coupler described herein has a problem that the number of steps is long, the yield is low, and the versatility is low.

【0005】一般に、活性メチレン化合物のカップリン
グ位をスルホンアミドメチル基もしくはカルボンアミド
メチル基に変換する方法としては、1)カップリング位
をホルミル化し、このホルミル基をスルホンイミドに変
換して、還元によりスルホンアミドメチル体を得る方法
(例えばTetrahendron,1997年,11355頁に記載)、2)
ホルミル体をオキシムに変換した後(例えばJ. Am. Che
m. Soc., 1954年, 4391頁に記載)、還元によりアミノ
メチル体を得て(例えばJ. Am. Chem. Soc., 1959年, 6
415頁に記載)、これとスルホニルクロリドまたはアシ
ルクロリドを反応させてスルホニルアミノメチル基もし
くはアシルアミノメチル基を導入する方法、3)カップ
リング位をメチロール化(例えばCan. J. Chem., 1984
年, 1945頁に記載)、またはハロメチル化(例えば、Or
g. Syntheses, Coll. Vol. III, 1955年, 468頁に記
載)し、カップリング位に隣接している炭素上の置換基
(ヒドロキシル基またはハロゲン原子)をスルホンアミ
ド化合物もしくはカルボンアミド化合物で置換する方
法、などが考えられるが、これらの方法はいずれも多段
階である上に、これらの方法をピロロトリアゾール化合
物に適用すると、1)ピロロトリアゾール化合物のメチ
レンビス体が生成する、2)クロロメチル体やアミノメ
チル体等の中間体が保存可能なほど安定ではない、など
の理由により目的化合物であるスルホンアミドメチル体
及びカルボンアミドメチル体を得ることはできなかっ
た。
Generally, a method for converting the coupling position of an active methylene compound into a sulfonamidomethyl group or a carbonamidomethyl group is as follows: 1) Formylating the coupling position, converting this formyl group into sulfonimide, and reducing (For example, described in Tetrahendron, 1997, p. 11355) 2)
After converting formyl form to oxime (for example, J. Am. Che
m. Soc., 1954, p. 4391) to obtain an aminomethyl compound by reduction (for example, J. Am. Chem. Soc., 1959, 6).
415), and reacting this with a sulfonyl chloride or an acyl chloride to introduce a sulfonylaminomethyl group or an acylaminomethyl group. 3) Methylolation of the coupling position (for example, Can. J. Chem., 1984).
Year, p. 1945), or halomethylation (eg, Or
g. Syntheses, Coll. Vol. III, 1955, p. 468), and substituting the substituent (hydroxyl group or halogen atom) on the carbon adjacent to the coupling position with a sulfonamide compound or a carbonamide compound. All of these methods are multi-step, and when these methods are applied to a pyrrolotriazole compound, 1) a methylenebis-form of the pyrrolotriazole compound is generated; 2) a chloromethyl form It was not possible to obtain the target compounds sulfonamidomethyl and carbonamidomethyl because the intermediates such as aminomethyl and aminomethyl were not stable enough to be preserved.

【0006】また、窒素原子が結合した炭素原子を活性
メチレン化合物のカップリング位に1段階で導入する方
法としては、J. Am. Chem. Soc., 1944年, 200頁に記載
されているような、Mannich反応が知られている。しか
しながらこの方法をピロロトリアゾール化合物に適用す
ると、ピロロトリアゾールのメチレンビス体が多量に生
成してしまい、目的とするスルホンアミドメチル体及び
カルボンアミドメチル体を得ることはできなかった。
A method for introducing a carbon atom to which a nitrogen atom is bonded into a coupling position of an active methylene compound in one step is described in J. Am. Chem. Soc., 1944, page 200. The Mannich reaction is known. However, when this method was applied to a pyrrolotriazole compound, a large amount of a methylenebis-form of the pyrrolotriazole was formed, and the desired sulfonamidomethyl and carbonamidomethyl could not be obtained.

【0007】また、スルホンアミドメチル基を1段階で
導入する方法としては、J. Chem. Soc., Chem. Commu
n., 1976年, 470頁やJ. Heterocycl. Chem., 1986年, 1
701頁に記載されている分子内スルホニルアミドメチル
化法がある。しかしながら、この方法をピロロトリアゾ
ール化合物に適用しても、ピロロトリアゾールのメチレ
ンビス体が多量に生成してしまい、目的とするスルホン
アミドメチル体を得ることはできなかった。これらの問
題を解決するような、簡便な実験操作で、汎用性が高
く、副生成物の生成が少ないアルキル離脱型ピロロトリ
アゾールカプラーの合成法の開発が望まれていた。
As a method for introducing a sulfonamidomethyl group in one step, J. Chem. Soc., Chem. Commu.
n., 1976, p. 470 and J. Heterocycl. Chem., 1986, 1
There is an intramolecular sulfonylamidomethylation method described on page 701. However, even when this method was applied to a pyrrolotriazole compound, a large amount of a methylenebis-form of the pyrrolotriazole was generated, and the intended sulfonamidomethyl could not be obtained. It has been desired to develop a method for synthesizing an alkyl-elimination-type pyrrolotriazole coupler having high versatility and low generation of by-products by a simple experimental operation that solves these problems.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、簡便かつ高収率で、汎用性の高いアルキル離脱型ピ
ロロトリアゾールカプラーの製造方法を提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for producing a highly versatile alkyl-eliminating pyrrolotriazole coupler which is simple, has a high yield, and is highly versatile.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】筆者らは鋭意検討した結
果、5位に置換メチル基を有する1H−ピロロ−〔1,
2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物から効率的
に、5位にスルホニルアミノメチル基もしくはアシルア
ミノメチル基を有する1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物を製造する方法を見
出した。すなわち、本発明は次の製造方法を提供する。
The present inventors have conducted intensive studies and as a result, have found that 1H-pyrrolo- [1,1, having a substituted methyl group at the 5-position.
1-H-pyrrolo- [1,2-b] having a sulfonylaminomethyl group or an acylaminomethyl group at the 5-position efficiently from 2-b] [1,2,4] triazole compound
A method for producing a [1,2,4] triazole compound has been found. That is, the present invention provides the following manufacturing method.

【0010】(1) 一般式(I)で表される化合物を用
いることを特徴とする一般式(II)で表される5−スルホ
ニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシル
アミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,
2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
(1) 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] represented by the general formula (II) characterized by using the compound represented by the general formula (I)
[1,2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2
2,4] A method for producing a triazole compound.

【0011】[0011]

【化3】 Embedded image

【0012】(式中、R1は水素原子または置換基を表
す。R2およびR3はそれぞれ独立にハメットの置換基定
数σpの値が0.2以上の電子吸引性基を表す。R4
5は置換基を表す。Xはスルホニル基またはカルボニ
ル基を表わす。)。
(Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a substituent. R 2 and R 3 each independently represent an electron-withdrawing group having a Hammett's substituent constant σp of 0.2 or more. R 4 ,
R 5 represents a substituent. X represents a sulfonyl group or a carbonyl group. ).

【0013】(2) 一般式(I)、(II)中、R1がアルキ
ル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ニトロ基、ア
シルアミノ基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルフ
ァモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
複素環チオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリー
ルオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カル
バモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルバモイルオキシ基、イミド基、スルフ
ィニル基、ホスホニル基、アシル基であり、R2及びR3
がそれぞれ独立にアシル基、アシルオキシ基、カルバモ
イル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、ジアル
キルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアルコキシ
ホスホリル基、ジアリールホスフィニル基、脂肪族スル
フィニル基、アリールスルフィニル基、脂肪族スルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、ア
シルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チ
オカルボニル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化ア
ルコキシ基、ハロゲン化アリールオキシ基、ハロゲン化
アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキルチオ基、σpの
値が0.2以上の電子吸引性基で置換されたアリール
基、複素環基、ハロゲン原子、アゾ基、またはセレノシ
アネート基、R 4が複素環基、ヒドロキシル基、アシル
オキシ基、アミノ基、またはイミド基、R5がアルキル
基またはアリール基、Xがスルホニル基またはカルボニ
ル基であることを特徴とする上記(1)記載の5−スル
ホニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシル
アミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,
2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
(2) In the general formulas (I) and (II), R1Is archi
Group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, nitro group,
Silamino group, arylamino group, ureido group, sulf
Amoylamino group, alkylthio group, arylthio group,
Heterocyclic thio group, alkoxycarbonylamino group, aryl
Ruoxycarbonylamino group, sulfonamide group, cal
Bamoyl group, sulfamoyl group, sulfonyl group, alcohol
Xycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, reed
Ruoxy group, carbamoyloxy group, imide group, sulf
R, a quinyl group, a phosphonyl group, an acyl group,TwoAnd RThree
Are each independently an acyl group, an acyloxy group, a carbamo
Yl group, aliphatic oxycarbonyl group, aryloxyca
Rubonyl group, cyano group, nitro group, formyl group, dial
Kilphosphono group, diarylphosphono group, dialkoxy
Phosphoryl group, diarylphosphinyl group, aliphatic sulf
Finyl group, arylsulfinyl group, aliphatic sulfoni
Group, arylsulfonyl group, sulfonyloxy group,
Silthio group, sulfamoyl group, thiocyanate group,
Ocarbonyl group, halogenated alkyl group, halogenated alkyl group
Lucoxy group, halogenated aryloxy group, halogenated
Alkylamino group, halogenated alkylthio group,
Aryl substituted with an electron-withdrawing group having a value of 0.2 or more
Group, heterocyclic group, halogen atom, azo group, or selenosi
Anate group, R FourIs a heterocyclic group, hydroxyl group, acyl
An oxy group, an amino group, or an imide group, RFiveIs alkyl
Group or aryl group, X is a sulfonyl group or carbonyl
5-Sulfur according to the above (1), which is
Honylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b]
[1,2,4] triazole compound or 5-acyl
Aminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,
2,4] A method for producing a triazole compound.

【0014】(3) 一般式(I)のR4がヒドロキシル基
であることを特徴とする上記(1)または(2)に記載
の5−スルホニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,
2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5
−アシルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
(3) The 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,1] described in the above (1) or (2), wherein R 4 in the general formula (I) is a hydroxyl group.
2-b] [1,2,4] triazole compound or 5
-Acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b]
[1,2,4] A method for producing a triazole compound.

【0015】(4) 一般式(I)のR4がアシルオキシ基
であることを特徴とする上記(1)または(2)に記載
の5−スルホニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,
2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5
−アシルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
(4) The 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,1] described in the above (1) or (2), wherein R 4 in the general formula (I) is an acyloxy group.
2-b] [1,2,4] triazole compound or 5
-Acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b]
[1,2,4] A method for producing a triazole compound.

【0016】(5) 一般式(I)のR4がフタルイミド基
であることを特徴とする上記(1)または(2)に記載
の5−スルホニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,
2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5
−アシルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
(5) The 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,1] described in the above (1) or (2), wherein R 4 in the general formula (I) is a phthalimide group.
2-b] [1,2,4] triazole compound or 5
-Acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b]
[1,2,4] A method for producing a triazole compound.

【0017】(6) 一般式(I)のR4がアミノ基である
ことを特徴とする上記(1)または(2)に記載の5−
スルホニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−
b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5−ア
シルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
(6) The compound of the above (1) or (2), wherein R 4 in the general formula (I) is an amino group.
Sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-
b] [1,2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b]
[1,2,4] A method for producing a triazole compound.

【0018】(7) 化合物I-Aを出発原料とし、化合
物I-B、I-C、I-Dを経て一般式(II)で表される化合物
に変換することを特徴とする上記(1)または(2)に
記載の5−スルホニルアミノメチル−1H−ピロロ−
〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物及び
5−アシルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−
b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
(7) Compound (IA) is used as a starting material, and is converted to a compound represented by the general formula (II) via compounds IB, IC, and ID. ) Or 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- according to (2).
[1,2-b] [1,2,4] triazole compound and 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-
b] A method for producing a [1,2,4] triazole compound.

【0019】[0019]

【化4】 Embedded image

【0020】(式中、R1、R2、R3、R5は、上記
(1)における一般式(II)中のR1、R2、R3、R5と同
義である。R6はアルキル基、アリール基を表わす。X
はスルホニル基またはカルボニル基を表わす。Yはこれ
を含む環を形成するのに必要な非金属原子群を表わ
す。)。
[0020] (wherein, R 1, R 2, R 3 , R 5 have the same meanings as R 1, R 2, R 3 , R 5 in the general formula (II) in the above (1) .R 6 Represents an alkyl group or an aryl group.
Represents a sulfonyl group or a carbonyl group. Y represents a nonmetallic atom group necessary to form a ring containing the same. ).

【0021】(8) 化合物I-Aを出発原料とし化合物
I-B、I-C、I-Dを経て一般式(II)で表される化合物に
変換する過程の中で、化合物I-Bを単離精製しないこと
を特徴とする上記(7)に記載の5−スルホニルアミノ
メチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕
トリアゾール化合物もしくは5−アシルアミノメチル−
1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾ
ール化合物の製造方法。
(8) In the process of using compound IA as a starting material and converting it to compounds represented by general formula (II) via compounds IB, IC and ID, compound IB Is not isolated and purified. 5-Sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] according to the above (7),
Triazole compound or 5-acylaminomethyl-
A method for producing a 1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound.

【0022】(9) 化合物I-Aを出発原料とし化合物
I-B、I-C、I-Dを経て一般式(II)で表される化合物に
変換する過程の中で、化合物I-Dを単離精製しないこと
を特徴とする、上記(7)に記載の5−スルホニルアミ
ノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,
4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシルアミノメチ
ル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリ
アゾール化合物の製造方法。
(9) In the process of using compound IA as a starting material and converting it to compounds represented by general formula (II) via compounds IB, IC and ID, compound ID Is characterized by not isolating and purifying 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,
4] A process for producing a triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound.

【0023】(10) 化合物I-Aを出発原料とし化合
物I-B、I-C、I-Dを経て一般式(II)で表される化合物
に変換する過程の中で、化合物I-BとI-Dの両方を単離
精製しないことを特徴とする、上記(7)に記載の5−
スルホニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−
b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5−ア
シルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
(10) In the process of using compound IA as a starting material and converting it to compounds represented by general formula (II) via compounds IB, IC and ID, compound IB 5- (5), characterized in that both and I-D are not isolated and purified.
Sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-
b] [1,2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b]
[1,2,4] A method for producing a triazole compound.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】次に本発明で用いられる原料化合
物{一般式(I)}、目的化合物{一般式(II)}について詳し
く述べる。R1は水素原子または置換基(原子を含
む。)を表わし、置換基としてはハロゲン原子、脂肪族
炭化水素基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アルキル・アリールもしくは複素環チ
オ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アシルアミノ基、アル
キルアミノ基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルフ
ァモイルアミノ基、アルケニルオキシ基、ホルミル基、
アルキル・アリールもしくは複素環アシル基、アルキル
・アリールもしくは複素環スルホニル基、アルキル・ア
リールもしくは複素環スルフィニル基、アルキル・アリ
ールもしくは複素環オキシカルボニル基、アルキル・ア
リールもしくは複素環オキシカルボニルアミノ基、スル
ホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、ホ
スホニル基、イミド基、ヒドロキシ基、シアノ基、カル
ボキシル基、ニトロ基、スルホ基、無置換のアミノ基等
をあげることができる。これらの基に含まれるアルキル
基、アリール基もしくは複素環基はR1で例示したよう
な置換基で更に置換されていてもよい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, the starting compound {general formula (I)} and the target compound {general formula (II)} used in the present invention will be described in detail. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent (including an atom), and the substituent is a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylaryl or a heterocyclic group. Thio group, acyloxy group, carbamoyloxy group, silyloxy group, sulfonyloxy group, acylamino group, alkylamino group, arylamino group, ureido group, sulfamoylamino group, alkenyloxy group, formyl group,
Alkyl / aryl or heterocyclic acyl group, alkyl / aryl / heterocyclic sulfonyl group, alkyl / aryl / heterocyclic sulfinyl group, alkyl / aryl / heterocyclic oxycarbonyl group, alkyl / aryl or heterocyclic oxycarbonylamino group, sulfonamide Groups, carbamoyl group, sulfamoyl group, phosphonyl group, imide group, hydroxy group, cyano group, carboxyl group, nitro group, sulfo group, unsubstituted amino group and the like. The alkyl group, aryl group or heterocyclic group contained in these groups may be further substituted with a substituent as exemplified for R 1 .

【0025】さらに詳しくは、R1は水素原子、ハロゲ
ン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、脂肪族炭化水
素基(例えば、炭素数1〜36、好ましくは炭素数1〜
4の、直鎖、または分岐鎖アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基)、脂環式炭化水素基(シクロアルキル
基、シクロアルケニル基)で、詳しくは例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル、ト
リデシル、2−メタンスルホニルエチル、3−(3−ペ
ンタデシルフェノキシ)プロピル、3−{4−{2−
〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキ
シ〕ドデカンアミド}フェニル}プロピル、2−エトキ
シトリデシル、トリフルオロメチル、シクロペンチル、
3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピ
ル)、アリール基(好ましくは炭素数6〜36、さらに
好ましくは6〜22のアリール基、例えば、フェニル、
ナフチル、4−ヘキサデシルオキシフェニル、4−t−
ブチルフェニル、2,4−ジ−t−アミルフェニル、4
−テトラデカンアミドフェニル、3−(2,4−ジ−t
ert−アミルフェノキシアセトアミド)フェニル)、
複素環基(中でも好ましくは、ヘテロ原子として窒素原
子、酸素原子、イオウ原子を1個または2個以上含む芳
香族もしくは非芳香族の5、6員環で、さらにベンゼン
のような炭化水素環が縮合していてもよく、例えば、3
−ピリジル、2−フリル、2−チエニル、2−ピリジ
ル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリル)、炭素
数1〜15のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキ
シ、2−メトキシエトキシ、2−ドデシルオキシエトキ
シ、2−メタンスルホニルエトキシ)、炭素数6〜20
のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ、2−メチル
フェノキシ、4−tert−ブチルフェノキシ、2,4
−ジ−tert−アミルフェノキシ、2−クロロフェノ
キシ、4−シアノフェノキシ、3−ニトロフェノキシ、
3−t−ブチルオキシカルバモイルフェノキシ、3−メ
トキシカルバモイルフェノキシ)、炭素数1〜22のア
ルキル・アリールもしくは複素環チオ基(例えば、メチ
ルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、テトラデシルチ
オ、2−フェノキシエチルチオ、3−フェノキシプロピ
ルチオ、3−(4−tert−ブチルフェノキシ)プロ
ピルチオ、フェニルチオ、2−ブトキシ−5−tert
−オクチルフェニルチオ、3−ペンタデシルフェニルチ
オ、2−カルボキシフェニルチオ、4−テトラデカンア
ミドフェニルチオ、2−ベンゾチアゾリルチオ、2,4
−ジ−フェノキシ−1,3,4−トリアゾール−6−チ
オ、2−ピリジルチオ)、炭素数2〜22のアシルオキ
シ基(例えば、アセトキシ、ヘキサデカノイルオキ
シ)、炭素数2〜22のカルバモイルオキシ基(例え
ば、N−エチルカルバモイルオキシ、N−フェニルカル
バモイルオキシ)、炭素数3〜16のシリルオキシ基
(例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシ
リルオキシ)、炭素数1〜22のスルホニルオキシ基
(例えば、ドデシルスルホニルオキシ)、炭素数2〜2
2のアシルアミノ基(例えば、アセトアミド、ベンズア
ミド、テトラデカンアミド、2−(2,4−ジ−ter
t−アミルフェノキシ)アセトアミド、2−〔4−(4
−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ)〕デカ
ンアミド、イソペンタデカンアミド、2−(2,4−ジ
−t−アミルフェノキシ)ブタンアミド、4−(3−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)ブタンアミ
ド)、炭素数1〜22のアルキルアミノ基(例えば、メ
チルアミノ、ブチルアミノドデシルアミノ、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ)、炭素数
6〜30のアリールアミノ基(例えば、フェニルアミ
ノ、2−クロロアニリノ、2−クロロ−5−テトラデカ
ンアミドアニリノ、N−アセチルアニリノ、2−クロロ
−5−〔α−2−tert−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェノキシ)ドデカンアミド〕アニリノ、2−クロロ−5
−ドデシルオキシカルボニルアニリノ)、炭素数1〜2
2のウレイド基(例えば、メチルウレイド、フェニルウ
レイド、N,N−ジブチルウレイド、ジメチルウレイ
ド)、炭素数1〜22のスルファモイルアミノ基(例え
ば、N,N−ジプロピルスルファモイルアミノ、N−メ
チル−N−デシルスルファモイルアミノ)、炭素数2〜
22のアルケニルオキシ基(例えば、2−プロペニルオ
キシ)、ホルミル基、炭素数2〜22のアルキル・アリ
ールもしくは複素環アシル基(例えば、アセチル、ベン
ゾイル、2,4−ジ−tert−アミルフェニルアセチ
ル、3−フェニルプロパノイル、4−ドデシルオキシベ
ンゾイル、ニコチノイル、3−フロイル)、炭素数1〜
22のアルキル・アリールもしくは複素環スルホニル基
(例えば、メタンスルホニル、オクタンスルホニル、ベ
ンゼンスルホニル、トルエンスルホニル、8−キノリン
スルホニル)、炭素数1〜22のアルキル・アリールも
しくは複素環スルフィニル基(例えば、オクタンスルフ
ィニル、ドデカンスルフィニル、フェニルスルフィニ
ル、3−ペンタデシルフェニルスルフィニル、3−フェ
ノキシプロピルスルフィニル、1−ピペリジンスルフィ
ニル)、炭素数2〜22のアルキル・アリールもしくは
複素環オキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、
オクタデシルオキシカルボニル、フェニルオキシカルボ
ニル、2−ペンタデシルオキシカルボニル、2−ピリジ
ンオキシカルボニル)、炭素数2〜22のアルキル・ア
リールもしくは複素環オキシカルボニルアミノ基(例え
ば、メトキシカルボニルアミノ、テトラデシルオキシカ
ルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、2,4
−ジ−tert−ブチルフェノキシカルボニルアミノ、
2−ピリジンオキシカルボニルアミノ)、炭素数1〜2
2のスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミ
ド、ヘキサデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド、p−トルエンスルホンアミド、オクタデカンスル
ホンアミド、2−メトキシ−5−tert−ブチルベン
ゼンスルホンアミド)、炭素数2〜22のカルバモイル
基(例えば、N−エチルカルバモイル、N,N−ジブチ
ルカルバモイル、N−〔3−(2,4−ジ−tert−
アミルフェノキシ)プロピル〕カルバモイル)、炭素数
1〜22のスルファモイル基(例えば、N−エチルスル
ファモイル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−
(2−ドデシルオキシエチル)スルファモイル、N−エ
チル−N−ドデシルスルファモイル、N,N−ジエチル
スルファモイル)、炭素数1〜22のホスホニル基(例
えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニ
ル、フェニルホスホニル)、炭素数3〜22のイミド基
(例えば、N−サクシンイミド、ヒダントイニル、N−
フタルイミド、3−オクタデセニルスクシンイミド)、
ヒドロキシ基、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、
スルホ基、無置換のアミノ基などが挙げられる。
More specifically, R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom or a bromine atom), an aliphatic hydrocarbon group (for example, having 1 to 36 carbon atoms, preferably 1 to 36 carbon atoms).
4, a linear or branched alkyl group, alkenyl group,
Alkynyl group) and alicyclic hydrocarbon group (cycloalkyl group, cycloalkenyl group), specifically, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, t-butyl, tridecyl, 2-methanesulfonylethyl, 3- (3- Pentadecylphenoxy) propyl, 3- {4-} 2-
[4- (4-hydroxyphenylsulfonyl) phenoxy] dodecaneamide {phenyl} propyl, 2-ethoxytridecyl, trifluoromethyl, cyclopentyl,
3- (2,4-di-t-amylphenoxy) propyl), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 36 carbon atoms, more preferably 6 to 22 carbon atoms, for example, phenyl,
Naphthyl, 4-hexadecyloxyphenyl, 4-t-
Butylphenyl, 2,4-di-t-amylphenyl, 4
-Tetradecanamidophenyl, 3- (2,4-di-t
ert-amylphenoxyacetamide) phenyl),
A heterocyclic group (preferably, an aromatic or non-aromatic 5- or 6-membered ring containing one or two or more nitrogen atoms, oxygen atoms, and sulfur atoms as hetero atoms, and a hydrocarbon ring such as benzene; May be condensed, for example, 3
-Pyridyl, 2-furyl, 2-thienyl, 2-pyridyl, 2-pyrimidinyl, 2-benzothiazolyl), an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms (for example, methoxy, ethoxy, 2-methoxyethoxy, 2-dodecyloxyethoxy, 2-methanesulfonylethoxy), having 6 to 20 carbon atoms
Aryloxy group (e.g., phenoxy, 2-methylphenoxy, 4-tert-butylphenoxy, 2,4
-Di-tert-amylphenoxy, 2-chlorophenoxy, 4-cyanophenoxy, 3-nitrophenoxy,
3-t-butyloxycarbamoylphenoxy, 3-methoxycarbamoylphenoxy), an alkyl / aryl or heterocyclic thio group having 1 to 22 carbon atoms (for example, methylthio, ethylthio, octylthio, tetradecylthio, 2-phenoxyethylthio, -Phenoxypropylthio, 3- (4-tert-butylphenoxy) propylthio, phenylthio, 2-butoxy-5-tert
-Octylphenylthio, 3-pentadecylphenylthio, 2-carboxyphenylthio, 4-tetradecanamidophenylthio, 2-benzothiazolylthio, 2,4
-Di-phenoxy-1,3,4-triazole-6-thio, 2-pyridylthio), an acyloxy group having 2 to 22 carbon atoms (eg, acetoxy, hexadecanoyloxy), a carbamoyloxy group having 2 to 22 carbon atoms (Eg, N-ethylcarbamoyloxy, N-phenylcarbamoyloxy), a silyloxy group having 3 to 16 carbon atoms (eg, trimethylsilyloxy, dibutylmethylsilyloxy), a sulfonyloxy group having 1 to 22 carbon atoms (eg, dodecylsulfonyl) Oxy), having 2 to 2 carbon atoms
2 acylamino groups (e.g., acetamido, benzamido, tetradecaneamido, 2- (2,4-di-ter
t-amylphenoxy) acetamide, 2- [4- (4
-Hydroxyphenylsulfonyl) phenoxy)] decanamide, isopentadecaneamide, 2- (2,4-di-t-amylphenoxy) butanamide, 4- (3-t
-Butyl-4-hydroxyphenoxy) butanamide), an alkylamino group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methylamino, butylaminododecylamino, dimethylamino, diethylamino, methylbutylamino), an arylamino group having 6 to 30 carbon atoms (For example, phenylamino, 2-chloroanilino, 2-chloro-5-tetradecanamidoanilino, N-acetylanilino, 2-chloro-5- [α-2-tert-butyl-4-hydroxyphenoxy) dodecaneamide] Anilino, 2-chloro-5
-Dodecyloxycarbonylanilino), having 1 to 2 carbon atoms
2 ureido groups (for example, methylureide, phenylureide, N, N-dibutylureide, dimethylureide), and a sulfamoylamino group having 1 to 22 carbon atoms (for example, N, N-dipropylsulfamoylamino, N- Methyl-N-decylsulfamoylamino), having 2 to 2 carbon atoms
22 alkenyloxy groups (eg, 2-propenyloxy), formyl groups, alkyl aryl or heterocyclic acyl groups having 2 to 22 carbon atoms (eg, acetyl, benzoyl, 2,4-di-tert-amylphenylacetyl, 3-phenylpropanoyl, 4-dodecyloxybenzoyl, nicotinoyl, 3-furoyl), having 1 to 1 carbon atoms
22 alkyl aryl or heterocyclic sulfonyl groups (eg, methanesulfonyl, octanesulfonyl, benzenesulfonyl, toluenesulfonyl, 8-quinoline sulfonyl), and alkylaryl or heterocyclic sulfinyl groups having 1 to 22 carbon atoms (eg, octanesulfinyl) , Dodecanesulfinyl, phenylsulfinyl, 3-pentadecylphenylsulfinyl, 3-phenoxypropylsulfinyl, 1-piperidinesulfinyl), an alkyl / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group having 2 to 22 carbon atoms (for example, methoxycarbonyl, butoxycarbonyl, Dodecyloxycarbonyl,
Octadecyloxycarbonyl, phenyloxycarbonyl, 2-pentadecyloxycarbonyl, 2-pyridineoxycarbonyl), an alkyl / aryl or heterocyclic oxycarbonylamino group having 2 to 22 carbon atoms (for example, methoxycarbonylamino, tetradecyloxycarbonylamino , Phenoxycarbonylamino, 2,4
-Di-tert-butylphenoxycarbonylamino,
2-pyridineoxycarbonylamino), having 1-2 carbon atoms
2 sulfonamide groups (e.g., methanesulfonamide, hexadecanesulfonamide, benzenesulfonamide, p-toluenesulfonamide, octadecanesulfonamide, 2-methoxy-5-tert-butylbenzenesulfonamide); Carbamoyl groups (for example, N-ethylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl, N- [3- (2,4-di-tert-
Amylphenoxy) propyl] carbamoyl), a sulfamoyl group having 1 to 22 carbon atoms (for example, N-ethylsulfamoyl, N, N-dipropylsulfamoyl, N-
(2-dodecyloxyethyl) sulfamoyl, N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl, N, N-diethylsulfamoyl), a phosphonyl group having 1 to 22 carbon atoms (for example, phenoxyphosphonyl, octyloxyphosphonyl, Phenylphosphonyl), an imide group having 3 to 22 carbon atoms (for example, N-succinimide, hydantoinyl, N-
Phthalimide, 3-octadecenylsuccinimide),
Hydroxy, cyano, carboxyl, nitro,
Examples include a sulfo group and an unsubstituted amino group.

【0026】R1として好ましくは、アルキル基、アリ
ール基、複素環基、シアノ基、ニトロ基、アシルアミノ
基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイルア
ミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ
基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカ
ルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホニル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、イミド基、スルフィニル
基、ホスホニル基、アシル基を挙げることができる。さ
らに好ましくはアルキル基、アリール基である。より好
ましくは、無置換フェニル基、またはR1として定義し
た基を置換基として少なくとも1つ有するアリール基で
ある。このときアリール基の3位の置換基の具体例とし
て特に好ましいものは、置換スルホアミノ基、置換カル
ボアミノ基、ニトロ基などが挙げられ、4位の置換基の
具体例として特に好ましいものは、メチル基、メトキシ
基、ハロゲン原子、1−ピロリジル基、1−ピペリジル
基、モルホリノ基、ニトロ基、などを挙げることができ
るがこれらに限定されない。
R 1 is preferably an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, a nitro group, an acylamino group, an arylamino group, a ureido group, a sulfamoylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group. Group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonamide group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfonyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, carbamoyloxy group, imide group, sulfinyl group, phosphonyl group And an acyl group. More preferred are an alkyl group and an aryl group. More preferably, it is an unsubstituted phenyl group or an aryl group having at least one group defined as R 1 as a substituent. In this case, particularly preferable examples of the substituent at the 3-position of the aryl group include a substituted sulfoamino group, a substituted carbamino group, and a nitro group. Particularly preferable examples of the substituent at the 4-position are a methyl group. Methoxy group, halogen atom, 1-pyrrolidyl group, 1-piperidyl group, morpholino group, nitro group, and the like, but are not limited thereto.

【0027】R2及びR3はハメットの置換基定数σp値
が0.2以上の電子吸引性基である。好ましくは、σp
値が0.35以上の電子吸引性基であり、さらに好まし
くは0.45以上の電子吸引性基である。上限として
は、好ましくは1.0以下の電子吸引性基であり、更に
好ましくは0.75以下の電子吸引性基である。ハメッ
ト則はベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の
影響を定量的に論ずるために1935年にL.P.Ha
mmettにより提唱された経験則であるが、これは今
日広く妥当性が認められている。ハメット則により求め
られた置換基定数にはσp値とσm値があり、これらの値
の多くは一般的な成書に記載があるが、例えば、J.
A.Dean編「Lange’s Handbook o
f Chemistry」第12版、1979年(Mc
Graw−Hill)や「化学の領域増刊」、122
号、96〜103頁、1979年(南江堂)に詳しい。
本発明においてR2及びR3はハメットの置換基定数σp
値により規定されるが、これらの成書に記載の文献既知
の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく
その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定
した場合にその範囲内に含まれる限り包含されることは
勿論である。
R 2 and R 3 are electron-withdrawing groups having a Hammett's substituent constant σp value of 0.2 or more. Preferably, σp
It is an electron-withdrawing group having a value of 0.35 or more, more preferably 0.45 or more. The upper limit is preferably an electron-withdrawing group of 1.0 or less, more preferably 0.75 or less. Hammett's rule was published in 1935 in 1935 to quantitatively discuss the effect of substituents on the reaction or equilibrium of benzene derivatives. P. Ha
A rule of thumb proposed by mmett, which is widely accepted today. The substituent constants determined by the Hammett's rule include a σp value and a σm value, and many of these values are described in general books.
A. Dean ed. "Lange's Handbook o
f Chemistry "12th edition, 1979 (Mc
(Graw-Hill) and “Chemical Area Special Edition”, 122
No. 96-103, 1979 (Nankodo).
In the present invention, R 2 and R 3 are Hammett's substituent constant σp
Although it is defined by the value, it does not mean that it is limited to only certain substituents with known values in the literature described in these books, and even if the value is unknown in the literature, it may be determined when measured based on Hammett's rule. It goes without saying that it is included as long as it is included in the range.

【0028】σp値が0.20以上の電子吸引性基であ
るR2及びR3の具体例としては、アシル基、アシルオキ
シ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ホル
ミル基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ
基、ジアルコキシホスホリル基、ジアリールホスフィニ
ル基、脂肪族スルフィニル基、アリールスルフィニル
基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スル
ホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チ
オシアネート基、チオカルボニル基、ハロゲン化アルキ
ル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン化アリールオ
キシ基、ハロゲン化アルキルアミノ基、ハロゲン化アル
キルチオ基、σp値が0.20以上の他の電子吸引性基
で置換されたアリール基、複素環基、ハロゲン原子、ア
ゾ基、またはセレノシアネート基が挙げられる。これら
の置換基のうちさらに置換基を有することが可能な基
は、前述のR1で挙げるような置換基をさらに有しても
よい。なお、上述の脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族
スルフィニル基、脂肪族スルホニル基は、それぞれの脂
肪族部位が、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであって
もよく、飽和であっても、不飽和であっても良い。例え
ば、脂肪族オキシカルボニル基とは、直鎖のアルキル鎖
を有するアルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカ
ルボニル)、分岐アルキル鎖を有するアルコキシカルボ
ニル基(例えば、iso−プロピルオキシカルボニ
ル),環状のアルキル鎖を有するシクロアルコキシカル
ボニル基(例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルシクロヘキシルカルボニル)、アルケニルオキシカル
ボニル基(例えば、アリルオキシカルボニル)などであ
る。
Specific examples of R 2 and R 3 which are electron-withdrawing groups having a σp value of 0.20 or more include acyl group, acyloxy group, carbamoyl group, aliphatic oxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group and cyano group. , Nitro group, formyl group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, dialkoxyphosphoryl group, diarylphosphinyl group, aliphatic sulfinyl group, arylsulfinyl group, aliphatic sulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonyloxy group, An acylthio group, a sulfamoyl group, a thiocyanate group, a thiocarbonyl group, a halogenated alkyl group, a halogenated alkoxy group, a halogenated aryloxy group, a halogenated alkylamino group, a halogenated alkylthio group, and a σp value of 0.20 or more. An aryl group substituted with an electron-withdrawing group, Examples include a heterocyclic group, a halogen atom, an azo group, or a selenocyanate group. Among these substituents, the group which can have a substituent may further have a substituent such as those described above for R1. The above-mentioned aliphatic oxycarbonyl group, aliphatic sulfinyl group, and aliphatic sulfonyl group each have a straight-chain, branched-chain, or cyclic aliphatic moiety, and may be saturated. , May be unsaturated. For example, an aliphatic oxycarbonyl group refers to an alkoxycarbonyl group having a linear alkyl chain (for example, methoxycarbonyl), an alkoxycarbonyl group having a branched alkyl chain (for example, iso-propyloxycarbonyl), or a cyclic alkyl chain. A cycloalkoxycarbonyl group (e.g., 2,6-di-t-butyl-4-methylcyclohexylcarbonyl), an alkenyloxycarbonyl group (e.g., allyloxycarbonyl).

【0029】R2及びR3をさらに詳しく述べると、σp
値が0.20以上の電子吸引性基としては、アシル基
(例えば、アセチル、3−フェニルプロパノイル、ベン
ゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイル)、アシルオキ
シ基(例えば、アセトキシ)、カルバモイル基(例え
ば、カルバモイル、N−エチルカルバモイル、N−フェ
ニルカルバモイル、N,N−ジブチルカルバモイル、N
−(2−ドデシルオキシエチル)カルバモイル、N−
(4−n−ペンタデカンアミドフェニル)カルバモイ
ル、N−メチル−N−ドデシルカルバモイル、N−〔3
−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル〕カ
ルバモイル)、脂肪族オキシカルボニル基(例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、iso−プロ
ピルオキシカルボニル、tert−ブチルオキシカルボ
ニル、iso−ブチルオキシカルボニル、ブチルオキシ
カルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシ
ルオキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、
2−(ジエチルカルバモイル)エトキシカルボニル、2
−(パーフルオロヘキシル)エトキシカルボニル、2−
デシルヘキシルオキシカルボニルメトキシカルボニル、
2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシルオ
キシカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェノキシカルボニル、2,5−ジアミルフェノキ
シカルボニル)、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、ジ
アルキルホスホノ基(例えば、ジメチルホスホノ)、ジ
アリールホスホノ基(例えば、ジフェニルホスホノ)、
ジアルコキシホスホリル基(例えば、ジメトキシホスホ
リル)、ジアリールホスフィニル基(例えば、ジフェニ
ルホスフィニル)、脂肪族スルフィニル基(例えば、3
−フェノキシプロピルスルフィニル)、アリールスルフ
ィニル基(例えば、3−ペンタデシルフェニルスルフィ
ニル)、脂肪族スルホニル基(例えば、メタンスルホニ
ル、オクタンスルホニル)、アリールスルホニル基(例
えば、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル)、ス
ルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキシ、
トルエンスルホニルオキシ)、アシルチオ基(例えば、
アセチルチオ、ベンゾイルチオ)、スルファモイル基
(例えば、N−エチルスルファモイル、N,N−ジプロ
ピルスルファモイル、N−(2−ドデシルオキシエチ
ル)スルファモイル、N−エチル−N−ドデシルスルフ
ァモイル、N,N−ジエチルスルファモイル)、チオシ
アネート基、チオカルボニル基(例えば、メチルチオカ
ルボニル、フェニルチオカルボニル)、ハロゲン化アル
キル基(例えば、トリフルオロメチル、ヘプタフルオロ
プロピル)、ハロゲン化アルコキシ(例えば、トリフル
オロメチルオキシ)、ハロゲン化アリールオキシ基(例
えば、ペンタフルオロフェニルオキシ)、ハロゲン化ア
ルキルアミノ基(例えば、N,N−ジ−(トリフルオロ
メチル)アミノ)、ハロゲン化アルキルチオ基(例え
ば、ジフルオロメチルチオ、1,1,2,2−テトラフ
ルオロエチルチオ)、σp値が0.20以上の他の電子
吸引性基で置換されたアリール基(例えば、2,4−ジ
ニトロフェニル、2,4,6−トリクロロフェニル、ペ
ンタクロロフェニル)、複素環基(例えば、2−ベンゾ
オキサゾリル、2−ベンゾチアゾリル、1−フェニル−
2−ベンズイミダゾリル、5−クロロ−1−テトラゾリ
ル、1−ピロリル)、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子)、アゾ基(例えばフェニルアゾ)または
セレノシアネート基が挙げられる。これらの置換基のう
ち、さらに置換基を有することが可能な基は、置換基を
さらに有してもよい。
If R 2 and R 3 are described in more detail,
Examples of the electron-withdrawing group having a value of 0.20 or more include an acyl group (eg, acetyl, 3-phenylpropanoyl, benzoyl, 4-dodecyloxybenzoyl), an acyloxy group (eg, acetoxy), a carbamoyl group (eg, carbamoyl) , N-ethylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl, N
-(2-dodecyloxyethyl) carbamoyl, N-
(4-n-pentadecanamidophenyl) carbamoyl, N-methyl-N-dodecylcarbamoyl, N- [3
-(2,4-di-t-amylphenoxy) propyl] carbamoyl), an aliphatic oxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, iso-propyloxycarbonyl, tert-butyloxycarbonyl, iso-butyloxycarbonyl, Butyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, dodecyloxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl,
2- (diethylcarbamoyl) ethoxycarbonyl, 2
-(Perfluorohexyl) ethoxycarbonyl, 2-
Decylhexyloxycarbonylmethoxycarbonyl,
2,6-di-t-butyl-4-methylcyclohexyloxycarbonyl), an aryloxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl, 2,5-diamylphenoxycarbonyl), a cyano group, a nitro group, a formyl group, a dialkylphosphono Groups (eg, dimethylphosphono), diarylphosphono groups (eg, diphenylphosphono),
Dialkoxyphosphoryl group (eg, dimethoxyphosphoryl), diarylphosphinyl group (eg, diphenylphosphinyl), aliphatic sulfinyl group (eg, 3
-Phenoxypropylsulfinyl), arylsulfinyl group (eg, 3-pentadecylphenylsulfinyl), aliphatic sulfonyl group (eg, methanesulfonyl, octanesulfonyl), arylsulfonyl group (eg, benzenesulfonyl, toluenesulfonyl), sulfonyloxy group (For example, methanesulfonyloxy,
Toluenesulfonyloxy), acylthio group (for example,
Acetylthio, benzoylthio), sulfamoyl group (for example, N-ethylsulfamoyl, N, N-dipropylsulfamoyl, N- (2-dodecyloxyethyl) sulfamoyl, N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl, N , N-diethylsulfamoyl), thiocyanate group, thiocarbonyl group (eg, methylthiocarbonyl, phenylthiocarbonyl), alkyl halide group (eg, trifluoromethyl, heptafluoropropyl), alkoxy halide (eg, trifluoro Methyloxy), a halogenated aryloxy group (eg, pentafluorophenyloxy), a halogenated alkylamino group (eg, N, N-di- (trifluoromethyl) amino), a halogenated alkylthio group (eg, difluoromethylthio) , 1,1,2,2-tetrafluoroethylthio), an aryl group substituted by another electron-withdrawing group having a σp value of 0.20 or more (for example, 2,4-dinitrophenyl, 2,4,6 -Trichlorophenyl, pentachlorophenyl), a heterocyclic group (eg, 2-benzoxazolyl, 2-benzothiazolyl, 1-phenyl-
Examples thereof include 2-benzimidazolyl, 5-chloro-1-tetrazolyl, and 1-pyrrolyl), a halogen atom (for example, a chlorine atom and a bromine atom), an azo group (for example, phenylazo) and a selenocyanate group. Among these substituents, a group that can have a substituent may further have a substituent.

【0030】R2として好ましくは、シアノ基、炭素数
1〜36、好ましくは炭素数1〜20の脂肪族オキシカ
ルボニル基、炭素数6〜36、好ましくは炭素数6〜2
0のアリールオキシカルボニル基が挙げられ、特に好ま
しくはシアノ基である。
R 2 is preferably a cyano group, an aliphatic oxycarbonyl group having 1 to 36 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms, a C 6 to 36 carbon atom, preferably a 6 to 2 carbon atom.
And an aryloxycarbonyl group of 0, particularly preferably a cyano group.

【0031】R3として好ましくは、脂肪族オキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、脂肪族スルホ
ニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基が挙げられ、より好ましくは炭
素数1〜36、さらに好ましくは炭素数1〜20の脂肪
族オキシカルボニル基、炭素数6〜36、より好ましく
は炭素数6〜20のアリールオキシカルボニル基であ
る。特に好ましくはシクロアルキルオキシカルボニル基
である。
Preferred examples of R 3 include an aliphatic oxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an aliphatic sulfonyl group, an arylsulfonyl group, a cyano group, a carbamoyl group and a sulfamoyl group, more preferably having 1 to 36 carbon atoms. More preferably, they are an aliphatic oxycarbonyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryloxycarbonyl group having 6 to 36 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms. Particularly preferred is a cycloalkyloxycarbonyl group.

【0032】R4は上記R1で規定したような置換基であ
る。この中で好ましくは、ハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、スルホニルオ
キシ基、イミド基、ヒドロキシ基、無置換のアミノ基等
が挙げられる。 R4としてより好ましいものは、アシル
オキシ基、ヒドロキシ基、イミド基、無置換のアミノ基
である。さらにアシルオキシ基の中で好ましいのはアセ
チルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ
基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフ
ルオロアセチルオキシ基等が挙げられ、特に好ましいの
はアセチル基である。イミド基で好ましいのはフタルイ
ミド基、コハク酸イミド基等が挙げられ、特に好ましい
のはフタルイミド基である。これらの基が置換されてい
る場合、その置換基としては上記R1で規定したような
基が挙げられる。
R 4 is a substituent as defined for R 1 above. Of these, preferred are a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a sulfonyloxy group, an imide group, a hydroxy group, and an unsubstituted amino group. More preferred as R 4 are an acyloxy group, a hydroxy group, an imide group, and an unsubstituted amino group. Further, among the acyloxy groups, preferred are an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a pivaloyloxy group, a benzoyloxy group, a trifluoroacetyloxy group and the like, and particularly preferred is an acetyl group. Preferred imide groups include a phthalimide group and a succinimide group, and particularly preferred is a phthalimide group. When these groups are substituted, examples of the substituent include those defined for R 1 above.

【0033】R5は上記R1で規定したような置換基であ
る。この中で好ましくは、水素原子、炭素数1〜36の
置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜36の置換
または無置換のアリール基が挙げられる。R5としてさ
らに好ましくは水素原子、炭素数1〜10の置換または
無置換のアルキル基、炭素数6〜20の置換または無置
換のアリール基である。R5として特に好ましいものは
メチル基、置換または無置換のアリール基で、置換アリ
ール基の置換基として特に好ましいものはアルキル基、
アルコキシ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、ハ
ロゲン原子が挙げられる。これらの基が置換されている
場合、その置換基としては上記R1で規定したような基
が挙げられる。連結基Xはスルホニル基もしくはカルボ
ニル基である。
R 5 is a substituent as defined for R 1 above. Of these, preferred are a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 36 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 36 carbon atoms. R 5 is more preferably a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Particularly preferred as R 5 is a methyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and particularly preferred as a substituent of the substituted aryl group is an alkyl group,
Examples include an alkoxy group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom. When these groups are substituted, examples of the substituent include those defined for R 1 above. The linking group X is a sulfonyl group or a carbonyl group.

【0034】また(I-B)式において、R6は上記R1
規定したような置換基である。この中で好ましくは、水
素原子、炭素数1〜36の置換または無置換のアルキル
基、炭素数6〜36の置換または無置換のアリール基が
挙げられる。R6としてさらに好ましくは炭素数1〜1
0の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜20の
置換または無置換のアリール基である。R6として特に
好ましいものは置換または無置換のアルキル基で、特に
好ましい置換基としてはメチル基が挙げられる。これら
の基が置換されている場合、その置換基としては上記R
1で規定したような基が挙げられる。
In the formula (IB), R 6 is a substituent as defined for R 1 above. Of these, preferred are a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 36 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 36 carbon atoms. More preferably, R 6 has 1 to 1 carbon atoms.
A substituted or unsubstituted alkyl group of 0; and a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Particularly preferred as R 6 is a substituted or unsubstituted alkyl group, and a particularly preferred substituent is a methyl group. When these groups are substituted, the substituent may be the above R
Examples include groups as defined in 1 .

【0035】また(I-C)式において、Yにより形成さ
れる環としては、フタルイミド基、1,2−シクロヘキ
サンジカルボキシイミド基、スクシンイミド基等が挙げ
られ、この中でより好ましくはフタルイミド基である。
これらの基が置換されている場合、その置換基としては
上記R1で規定したような基が挙げられる。
In the formula (IC), the ring formed by Y includes a phthalimide group, a 1,2-cyclohexanedicarboximide group, a succinimide group and the like. is there.
When these groups are substituted, examples of the substituent include those defined for R 1 above.

【0036】以下に一般式(I)及び一般式(II)で表わさ
れる化合物の具体的化合物例を示すが、本発明はこれら
に限定されない。
Specific examples of the compounds represented by formulas (I) and (II) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0037】[0037]

【化5】 Embedded image

【0038】[0038]

【化6】 Embedded image

【0039】[0039]

【化7】 Embedded image

【0040】[0040]

【化8】 Embedded image

【0041】[0041]

【化9】 Embedded image

【0042】[0042]

【化10】 Embedded image

【0043】[0043]

【化11】 Embedded image

【0044】[0044]

【化12】 Embedded image

【0045】[0045]

【化13】 Embedded image

【0046】[0046]

【化14】 Embedded image

【0047】次に一般式(I)で表わされる化合物から一
般式(II)で表わされる化合物を製造する方法について詳
しく説明する。
Next, the method for producing the compound represented by the general formula (II) from the compound represented by the general formula (I) will be described in detail.

【0048】4当量型ピロロトリアゾールカプラーの合
成法は、特開2000−44563号などに記載の通
り、広く知られている。次に化合物I-Aは、4当量型ピ
ロロトリアゾールカプラーをメチロール化することによ
って得られる。カップリング位をメチロール化する方法
は多く知られており、例えば、Can. J. Chem., 1984
年、1945頁に記載の方法がある。これを4当量型ピロロ
トリアゾールカプラーにも適用することが可能であり、
化合物I-Aの合成が容易に達成される。
A method for synthesizing a 4-equivalent pyrrolotriazole coupler is widely known as described in JP-A-2000-44563. Next, compound IA is obtained by methylolating a 4-equivalent pyrrolotriazole coupler. Many methods for converting the coupling position to methylol are known, for example, in Can. J. Chem., 1984.
Year, there is a method described on page 1945. This can also be applied to 4-equivalent pyrrolotriazole couplers,
The synthesis of compound IA is easily achieved.

【0049】化合物I-Aより化合物I-Bを合成する際
(工程A)、化合物I-Aとアシル化剤を単に混合するだ
けでもよいが、好ましくは、塩基存在下で両者を反応さ
せるのがよい。工程Aで用いる手法について述べる。
When compound IB is synthesized from compound IA (step A), compound IA and the acylating agent may be simply mixed, but preferably, they are reacted in the presence of a base. Is good. The method used in step A will be described.

【0050】用いられるアシル化剤としては、塩化アセ
チル、臭化アセチル、塩化ピバロイル、塩化ベンゾイル
等のハロゲン化アシル、無水酢酸、無水プロピオン酸、
無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物などが挙げられる。
このうち好ましくは、塩化アセチル、無水酢酸であり、
特に好ましくは無水酢酸である。用いられるアシル化剤
の化合物I-Aで表される化合物に対するモル比は、1.
0〜100、好ましくは1.0〜20、さらに好ましく
は1.0〜5.0である。
The acylating agents used include acyl halides such as acetyl chloride, acetyl bromide, pivaloyl chloride, benzoyl chloride, acetic anhydride, propionic anhydride,
Acid anhydrides such as trifluoroacetic anhydride are exemplified.
Of these, acetyl chloride and acetic anhydride are preferred,
Particularly preferred is acetic anhydride. The molar ratio of the acylating agent used to the compound represented by the compound IA was 1.
It is 0-100, preferably 1.0-20, and more preferably 1.0-5.0.

【0051】用いられる塩基としては、無機塩基、有機
塩基、有機金属系の塩基等が使用できる。例えば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、水素化リチウム、t−ブトキシカリウム、t
−ブトキシナトリウム、1,1,3,3−テトラメチル
グアニジン、ピリジン、N,N−ジメチルアミノピリジ
ン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕−7−ウン
デセン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,
0〕−5−ノネン(DBN)、ジイソブチルエチルアミ
ン、トリエチルアミン、酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム、トリメチルシリルオキシカリウム、ナトリウムメト
キシド、カリウムメトキシド、リチウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、ナトリウムアミド、n−ブチルリ
チウム、メチルリチウム、t−ブチルリチウム、i−プ
ロピルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等が挙
げられる。中でも好ましいのは、ピリジン、N,N−ジ
メチルアミノピリジン、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
等が挙げられ、このうちより好ましくはN,N−ジメチ
ルアミノピリジンである。用いられる塩基の化合物I-A
で表される化合物に対するモル比は、0.01〜10
0、好ましくは0.1〜20、さらに好ましくは0.2
〜5.0である。
As the base to be used, an inorganic base, an organic base, an organic metal base or the like can be used. For example, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydride, potassium hydride, lithium hydride, potassium t-butoxy, t
-Butoxy sodium, 1,1,3,3-tetramethylguanidine, pyridine, N, N-dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (DBU), 1,5- Diazabicyclo [4,3
0] -5-Nonene (DBN), diisobutylethylamine, triethylamine, sodium acetate, potassium acetate, trimethylsilyloxypotassium, sodium methoxide, potassium methoxide, lithium methoxide, sodium ethoxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, water Examples include lithium oxide, sodium amide, n-butyllithium, methyllithium, t-butyllithium, i-propyllithium, lithium diisopropylamide and the like. Among them, pyridine, N, N-dimethylaminopyridine, sodium acetate, potassium acetate and the like are preferable, and among them, N, N-dimethylaminopyridine is more preferable. Compound IA of the base used
The molar ratio to the compound represented by 0.01 to 10
0, preferably 0.1-20, more preferably 0.2
55.0.

【0052】工程Aで使用する反応溶媒としては、塩化
メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ア
セトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N,
N−ジメチルイミダゾリジオン、酢酸エチル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、水、四塩化炭素、酢酸、メタ
ノ−ル、エタノール、ベンゼン、トルエン、ピリジン、
アセトン等が挙げられる。これらは混合して用いても良
く、より好ましくはテトラヒドロフランである。溶媒の
使用量は原料として用いる化合物に対して質量比で2〜
50倍が適当であり、2〜10倍が好ましい。
The reaction solvent used in step A includes methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N
-Dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N,
N-dimethylimidazolidione, ethyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, water, carbon tetrachloride, acetic acid, methanol, ethanol, benzene, toluene, pyridine,
Acetone and the like can be mentioned. These may be used as a mixture, more preferably tetrahydrofuran. The amount of the solvent used is 2 to 2 in mass ratio to the compound used as the raw material.
50 times is appropriate, and 2 to 10 times is preferable.

【0053】工程Aでの反応温度は、−78℃〜200
℃、好ましくは−20℃〜150℃、さらに好ましくは
−10℃〜120℃であり、特に好ましくは0℃〜50
℃である。反応時間は1分〜24時間、好ましくは15
分〜12時間、さらに好ましくは30分〜6時間であ
る。
The reaction temperature in Step A is from -78 ° C to 200
° C, preferably -20 ° C to 150 ° C, more preferably -10 ° C to 120 ° C, and particularly preferably 0 ° C to 50 ° C.
° C. The reaction time is 1 minute to 24 hours, preferably 15 minutes.
Minutes to 12 hours, more preferably 30 minutes to 6 hours.

【0054】次に化合物I-Bより化合物I-Cを製造する
方法(工程B)について詳しく説明する。用いられる酸
イミド化剤としては、フタルイミド、スクシンイミド等
の酸イミドのナトリウム塩、もしくはカリウム塩等が挙
げられる。これら塩の調製は、酸イミドを塩基で処理し
て行われる。この際用いられる塩基としては、無機塩
基、有機塩基、有機金属系の塩基等が使用できる。例え
ば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、水素化リチウム、t−ブトキシカ
リウム、t−ブトキシナトリウム、1,1,3,3−テ
トラメチルグアニジン、ピリジン、N,N−ジメチルア
ミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕
−7−ウンデセン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ
〔4,3,0〕−5−ノネン(DBN)、ジイソブチル
エチルアミン、トリエチルアミン、酢酸ナトリウム、酢
酸カリウム、トリメチルシリルオキシカリウム、ナトリ
ウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムアミド、n−
ブチルリチウム、メチルリチウム、t−ブチルリチウ
ム、i−プロピルリチウム、リチウムジイソプロピルア
ミド等が挙げられる。中でも好ましいのは、 ナトリウ
ムメトキシド、カリウムメトキシド、水素化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。本
発明では市販されているフタルイミドカリウムを用いる
ことが特に好ましい。
Next, the method for producing compound IC from compound IB (step B) will be described in detail. Examples of the acid imidizing agent used include sodium salts or potassium salts of acid imides such as phthalimide and succinimide. The preparation of these salts is carried out by treating the acid imide with a base. As the base used at this time, an inorganic base, an organic base, an organic metal base or the like can be used. For example, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydride, potassium hydride, lithium hydride, potassium t-butoxy, sodium t-butoxy, 1,1,3,3-tetramethyl Guanidine, pyridine, N, N-dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0]
-7-undecene (DBU), 1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonene (DBN), diisobutylethylamine, triethylamine, sodium acetate, potassium acetate, trimethylsilyloxypotassium, sodium methoxide, potassium methoxide , Lithium methoxide, sodium ethoxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium amide, n-
Butyllithium, methyllithium, t-butyllithium, i-propyllithium, lithium diisopropylamide and the like. Among them, preferred are sodium methoxide, potassium methoxide, sodium hydride, sodium carbonate, potassium carbonate and the like. In the present invention, it is particularly preferable to use commercially available potassium phthalimide.

【0055】用いられる酸イミド化剤の、化合物I-Bで
表される化合物に対するモル比は、1.0〜100、好
ましくは1.0〜20、さらに好ましくは1.0〜5.
0である。工程Bで使用する反応溶媒としては、塩化メ
チレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、アセ
トニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N,N
−ジメチルイミダゾリジオン、酢酸エチル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、水、四塩化炭素、酢酸、メタ
ノ−ル、エタノール、ベンゼン、トルエン、ピリジン、
アセトン等が挙げられる。これらは混合して用いても良
く、より好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドであ
る。溶媒の使用量は原料として用いる化合物に対して質
量比で2〜50倍が適当であり、2〜10倍が好まし
い。
The molar ratio of the acid imidizing agent used to the compound represented by the compound IB is from 1.0 to 100, preferably from 1.0 to 20, more preferably from 1.0 to 5.
0. The reaction solvent used in Step B includes methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-
Dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N, N
-Dimethylimidazolidione, ethyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, water, carbon tetrachloride, acetic acid, methanol, ethanol, benzene, toluene, pyridine,
Acetone and the like can be mentioned. These may be used as a mixture, and more preferably N, N-dimethylformamide. The amount of the solvent to be used is appropriately 2 to 50 times, preferably 2 to 10 times, by mass relative to the compound used as a raw material.

【0056】工程Bでの反応温度は、−78℃〜200
℃、好ましくは−20℃〜150℃、さらに好ましくは
−10℃〜120℃であり、特に好ましくは20℃〜1
00℃である。反応時間は1分〜24時間、好ましくは
15分〜12時間、さらに好ましくは30分〜6時間で
ある。
The reaction temperature in Step B is from -78 ° C to 200
° C, preferably −20 ° C. to 150 ° C., more preferably −10 ° C. to 120 ° C., and particularly preferably 20 ° C. to 1 ° C.
00 ° C. The reaction time is 1 minute to 24 hours, preferably 15 minutes to 12 hours, more preferably 30 minutes to 6 hours.

【0057】次に化合物I-Cより化合物I-Dを製造する
方法(工程C)について詳しく説明する。化合物I-Cの
ような酸イミドを加水分解にてI-Dに導く際、用いられ
る試薬としては塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸といっ
たハロゲン化水素酸、もしくは炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸リチウムといった炭酸塩が挙げられる。さ
らにアンモニアに代表されるアミン類や、ヒドラジンを
用いた分解によってもI-Dに導くことが可能であり、こ
の際用いられる試薬はヒドラジン一水和物、フェニルヒ
ドラジン等が挙げられる。この中でより好ましくはヒド
ラジン一水和物を用いた分解反応である。用いられるヒ
ドラジンの、化合物I-Cで表される化合物に対するモル
比は、1.0〜100、好ましくは1.0〜20、さら
に好ましくは1.0〜5.0である。
Next, the method for producing compound ID from compound IC (step C) will be described in detail. When an acid imide such as compound IC is led to ID by hydrolysis, the reagents used are hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrohalic acid such as hydroiodic acid, or sodium carbonate, potassium carbonate, Carbonates such as lithium carbonate. Further, it is possible to lead to ID by decomposition using amines represented by ammonia or hydrazine, and the reagent used in this case includes hydrazine monohydrate, phenylhydrazine and the like. Of these, a decomposition reaction using hydrazine monohydrate is more preferable. The molar ratio of the hydrazine to the compound represented by the compound IC is 1.0 to 100, preferably 1.0 to 20, and more preferably 1.0 to 5.0.

【0058】工程Cで使用する反応溶媒としては、塩化
メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ア
セトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N,
N−ジメチルイミダゾリジオン、酢酸エチル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、水、四塩化炭素、酢酸、メタ
ノ−ル、エタノール、ベンゼン、トルエン、ピリジン、
アセトン等が挙げられ、これらは混合して用いても良
い。より好ましくはメタノ−ル、エタノールであり、特
に好ましくはエタノールである。溶媒の使用量は原料と
して用いる化合物に対して質量比で2〜50倍が適当で
あり、3〜30倍が好ましい。工程Cでの反応温度は、
−78℃〜200℃、好ましくは−20℃〜150℃、
さらに好ましくは−10℃〜120℃であり、特に好ま
しくは20℃〜100℃である。反応時間は1分〜24
時間、好ましくは15分〜12時間、さらに好ましくは
30分〜6時間である。
The reaction solvent used in Step C includes methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N
-Dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N,
N-dimethylimidazolidione, ethyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, water, carbon tetrachloride, acetic acid, methanol, ethanol, benzene, toluene, pyridine,
Acetone and the like may be mentioned, and these may be used as a mixture. More preferred are methanol and ethanol, and particularly preferred is ethanol. The amount of the solvent to be used is appropriately 2 to 50 times, preferably 3 to 30 times, the mass ratio of the compound used as a raw material. The reaction temperature in step C is
-78 ° C to 200 ° C, preferably -20 ° C to 150 ° C,
The temperature is more preferably -10C to 120C, and particularly preferably 20C to 100C. Reaction time is 1 minute to 24
Time, preferably 15 minutes to 12 hours, more preferably 30 minutes to 6 hours.

【0059】次に化合物I-Dより一般式(II)で表わされ
る化合物を製造する方法(工程D)について詳しく説明
する。工程Dでは、化合物I-Dとスルホニル化剤もしく
はアシル化剤を単に混合するだけでもよいが、好ましく
は、塩基存在下で両者を反応させるのがよい。工程Dで
用いる手法について述べる。
Next, a method for producing the compound represented by the general formula (II) from the compound ID (step D) will be described in detail. In the step D, the compound ID and the sulfonylating agent or the acylating agent may be simply mixed, but preferably the two are reacted in the presence of a base. The method used in step D will be described.

【0060】用いられるスルホニル化剤としては、アル
キルスルホニルクロリド、アリールスルホニルクロリ
ド、アルキルスルホン酸無水物、アリールスルホン酸無
水物等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換基を有
していてもよい。この中でより好ましくはメタンスルホ
ニルクロリド、置換もしくは無置換のアリールスルホニ
ルクロリドであり、置換基としてはメチル基、アルコキ
シ基、ニトロ基、ハロゲン原子が挙げられる。
Examples of the sulfonylating agent used include alkylsulfonyl chloride, arylsulfonyl chloride, alkylsulfonic anhydride, and arylsulfonic anhydride. These substituents may further have a substituent. . Of these, methanesulfonyl chloride and substituted or unsubstituted arylsulfonyl chloride are more preferable, and examples of the substituent include a methyl group, an alkoxy group, a nitro group, and a halogen atom.

【0061】また用いられるアシル化剤としては、塩化
アセチル、臭化アセチル、塩化ピバロイル、塩化ベンゾ
イル等のハロゲン化アシル、無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物などが挙げられ
る。これらの置換基はさらに置換基を有していてもよ
い。この中でより好ましくは塩化アセチル、置換もしく
は無置換の芳香族カルボン酸クロリドであり、置換基と
してはメチル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原
子が挙げられる。
Examples of the acylating agent to be used include acyl halides such as acetyl chloride, acetyl bromide, pivaloyl chloride and benzoyl chloride, and acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and trifluoroacetic anhydride. . These substituents may further have a substituent. Of these, acetyl chloride and substituted or unsubstituted aromatic carboxylic acid chlorides are more preferable, and examples of the substituent include a methyl group, an alkoxy group, a nitro group, and a halogen atom.

【0062】用いられるスルホニル化剤もしくはアシル
化剤の、化合物I-Dで表される化合物に対するモル比
は、1.0〜100、好ましくは1.0〜20、さらに
好ましくは1.0〜5.0である。
The molar ratio of the sulfonylating agent or acylating agent used to the compound represented by the compound ID is 1.0 to 100, preferably 1.0 to 20, more preferably 1.0 to 5 0.0.

【0063】用いられる塩基としては、無機塩基、有機
塩基、有機金属系の塩基等が使用できる。例えば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、水素化リチウム、t−ブトキシカリウム、t
−ブトキシナトリウム、1,1,3,3−テトラメチル
グアニジン、ピリジン、2,6−ルチジン、2−ピコリ
ン、N,N−ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザ
ビシクロ〔5,4,0〕−7−ウンデセン(DBU)、
1,5−ジアザビシクロ〔4,3,0〕−5−ノネン
(DBN)、ジイソブチルエチルアミン、トリエチルア
ミン、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、トリメチルシリ
ルオキシカリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメ
トキシド、リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、ナトリウムアミド、n−ブチルリチウム、メチルリ
チウム、t−ブチルリチウム、i−プロピルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミド等が挙げられる。中でも
好ましいのは、炭酸カリウム、ピリジン、トリエチルア
ミン等が挙げられ、このうちより好ましくはピリジン、
トリエチルアミンである。
As the base to be used, an inorganic base, an organic base, an organic metal base or the like can be used. For example, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydride, potassium hydride, lithium hydride, potassium t-butoxy, t
-Butoxy sodium, 1,1,3,3-tetramethylguanidine, pyridine, 2,6-lutidine, 2-picoline, N, N-dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7 -Undecene (DBU),
1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonene (DBN), diisobutylethylamine, triethylamine, sodium acetate, potassium acetate, trimethylsilyloxypotassium, sodium methoxide, potassium methoxide, lithium methoxide, sodium ethoxide , Sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium amide, n-butyllithium, methyllithium, t-butyllithium, i-propyllithium,
Lithium diisopropylamide and the like. Among them, preferred are potassium carbonate, pyridine, triethylamine, etc., of which pyridine,
Triethylamine.

【0064】工程Dで使用する反応溶媒としては、塩化
メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ア
セトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N,
N−ジメチルイミダゾリジオン、酢酸エチル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、水、四塩化炭素、酢酸、メタ
ノ−ル、エタノール、ベンゼン、トルエン、ピリジン、
アセトン等が挙げられ、これらは混合して用いても良
い。好ましくは塩化メチレンである。溶媒の使用量は原
料として用いる式(I-D)で表される化合物に対して質
量比で2〜50倍が適当であり、3〜20倍が好まし
い。
The reaction solvent used in Step D includes methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N
-Dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N,
N-dimethylimidazolidione, ethyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, water, carbon tetrachloride, acetic acid, methanol, ethanol, benzene, toluene, pyridine,
Acetone and the like may be mentioned, and these may be used as a mixture. Preferred is methylene chloride. The amount of the solvent to be used is suitably 2 to 50 times, preferably 3 to 20 times by mass, the compound represented by the formula (ID) used as a raw material.

【0065】工程Dでの反応温度は、−78℃〜200
℃、好ましくは−20℃〜150℃、さらに好ましくは
−10℃〜120℃であり、特に好ましくは0℃〜10
0℃である。反応時間は1分〜24時間、好ましくは1
5分〜12時間、さらに好ましくは30分〜6時間であ
る。
The reaction temperature in Step D is from -78 ° C to 200
° C, preferably -20 ° C to 150 ° C, more preferably -10 ° C to 120 ° C, and particularly preferably 0 ° C to 10 ° C.
0 ° C. The reaction time is 1 minute to 24 hours, preferably 1 minute.
5 minutes to 12 hours, more preferably 30 minutes to 6 hours.

【0066】工程Aで得られる式(I-B)で表わされる
化合物を特に単離精製する必要は無く、そのまま次の工
程Bに使用することができる。単離精製した場合と比較
して収率の低下は認められず、実験操作を簡略化するこ
とができる。また工程Cで得られる式(I-D)で表わさ
れる化合物を特に単離精製する必要は無く、そのまま次
の工程Dに使用することができる。単離精製した場合と
比較して収率の低下は認められず、実験操作を簡略化す
ることができる。
The compound represented by the formula (IB) obtained in the step A does not need to be particularly isolated and purified, and can be used as it is in the next step B. No decrease in yield is observed as compared with the case of isolation and purification, and the experimental procedure can be simplified. Further, the compound represented by the formula (ID) obtained in Step C does not need to be particularly isolated and purified, and can be used as it is in the next Step D. No decrease in yield is observed as compared with the case of isolation and purification, and the experimental procedure can be simplified.

【0067】[0067]

【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。本発明の実施態様はこれに限定されない。 <実施例1>(例示化合物II-1の合成) 例示化合物I-1(23.8g、21.4mmol)の
テトラヒドロフラン溶液(100mL)中に、無水酢酸
(3.03mL、32.1mmol)、ジメチルアミノ
ピリジン(2.61g、21.4mmol)を添加し、
室温で1時間攪拌した。原料の消失を確認後(この時点
で例示化合物I-5が生成している)、反応溶液を濃縮
し、ジメチルホルムアミド(100mL)の溶液とし
た。ここにフタルイミドカリウム(8.50g、45.
9mmol)を添加し、80℃で1時間攪拌した。水で
反応を停止し、有機層を酢酸エチルで抽出後、水で2
回、飽和食塩水で1回洗浄した。無水硫酸マグネシウム
で乾燥、濃縮後、析出固体をアセトニトリルと酢酸エチ
ルの混合溶媒で洗浄し、例示化合物I-8を15.8g
得た(収率72%)。
Next, the present invention will be described in more detail by way of examples. Embodiments of the present invention are not so limited. <Example 1> (Synthesis of Exemplified Compound II-1) In a tetrahydrofuran solution (100 mL) of Exemplified Compound I-1 (23.8 g, 21.4 mmol), acetic anhydride (3.03 mL, 32.1 mmol) and dimethyl Aminopyridine (2.61 g, 21.4 mmol) was added,
Stirred at room temperature for 1 hour. After confirming the disappearance of the raw materials (Exemplified Compound I-5 was generated at this time), the reaction solution was concentrated to obtain a solution of dimethylformamide (100 mL). Here, potassium phthalimide (8.50 g, 45.
9 mmol) and stirred at 80 ° C. for 1 hour. The reaction was stopped with water, and the organic layer was extracted with ethyl acetate.
It was washed once with saturated saline. After drying over anhydrous magnesium sulfate and concentration, the precipitated solid was washed with a mixed solvent of acetonitrile and ethyl acetate to give 15.8 g of Exemplified Compound I-8.
(72% yield).

【0068】引き続き例示化合物I-8(4.88g、
5.02mmol)のエタノール溶液(100mL)中
に、ヒドラジン一水和物(1.0mL、20.1mmo
l)を添加し、室温で2時間攪拌した(この時点で例示
化合物I-13が生成している)。析出してくる不溶固
体をエタノールで洗いながら除去し、ろ液を減圧濃縮し
た。これを塩化メチレン(50mL)溶液とした後、氷
冷下ピリジン(0.89mL、11.0mmol)、p
−ニトロスルホニルクロリド(1.11g、5.02m
mol)を順次添加した。室温で1時間攪拌した後、水
で反応を停止し、有機層を塩化メチレンで抽出した。
水、飽和食塩水で1回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、減圧濃縮した。粗生成物はシリカゲルカラム
クロマトグラフィ(ヘキサン:酢酸エチル=1:4)で
精製し、例示化合物II-1を2.10g得た(収率39
%)。
Subsequently, the exemplified compound I-8 (4.88 g,
Hydrazine monohydrate (1.0 mL, 20.1 mmol) in an ethanol solution (5.0 mL) of 5.02 mmol).
l) was added and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours (at this point, Exemplified Compound I-13 had been formed). The precipitated insoluble solid was removed while washing with ethanol, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. This was made into a methylene chloride (50 mL) solution, and then pyridine (0.89 mL, 11.0 mmol) and p
-Nitrosulfonyl chloride (1.11 g, 5.02 m
mol) were added sequentially. After stirring at room temperature for 1 hour, the reaction was stopped with water, and the organic layer was extracted with methylene chloride.
The extract was washed once with water and saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 4) to obtain 2.10 g of Exemplified Compound II-1 (yield: 39).
%).

【0069】<実施例2>(例示化合物II-2の合成) 実施例1に記載の方法に従い、工程Dにおいて、p−ニ
トロスルホニルクロリドの代わりにトルエンスルホニル
クロリドを用いて、例示化合物II-2の合成を行った。
収率を表1に示す。
<Example 2> (Synthesis of Exemplified Compound II-2) According to the method described in Example 1, in Step D, instead of p-nitrosulfonyl chloride, toluenesulfonyl chloride was used instead of Exemplified Compound II-2. Was synthesized.
The yield is shown in Table 1.

【0070】<実施例3>(例示化合物II-3の合成) 実施例1に記載の方法に従い、p−ニトロスルホニルク
ロリドの代わりにメタンスルホニルクロリドを用いて、
例示化合物II-3の合成を行った。収率を表1に示す。
Example 3 (Synthesis of Exemplified Compound II-3) According to the method described in Example 1, methanesulfonyl chloride was used instead of p-nitrosulfonyl chloride.
Example Compound II-3 was synthesized. The yield is shown in Table 1.

【0071】<実施例4>(例示化合物II-4の合成) 実施例1に記載の方法に従い、p−ニトロスルホニルク
ロリドの代わりに塩化p-トルオイルを用いて、例示化合
物II-4の合成を行った。収率を表1に示す。
Example 4 (Synthesis of Exemplified Compound II-4) According to the method described in Example 1, the synthesis of Exemplified Compound II-4 was carried out using p-toluoyl chloride instead of p-nitrosulfonyl chloride. went. The yield is shown in Table 1.

【0072】[0072]

【表1】 [Table 1]

【0073】この結果から、本製造法が一般式(II)で表
わされる各種化合物に適用可能であることがわかる。本
発明における化合物I-Aのヒドロキシル基を適当な脱離
基に変換し、これに対して窒素官能基を導入すれば、一
般式(II)で表わされる化合物が容易に合成できると考え
られる。しかしながら、下記に示す比較例ではこの目的
は達成されなかった。
From the results, it is understood that the present production method is applicable to various compounds represented by the general formula (II). It is considered that the compound represented by the general formula (II) can be easily synthesized by converting the hydroxyl group of the compound IA in the present invention into an appropriate leaving group and introducing a nitrogen functional group into the hydroxyl group. However, this object was not achieved in the following comparative examples.

【0074】<比較例1>4当量シアンカプラー(II
I)の活性位に、脱離能を持つ塩素原子を有するクロロ
メチル基を導入する目的で、次のような実験を行った。
下式に示すような4当量シアンカプラー(III)(1.
00g、1.15mmol)を酢酸(5.0mL)、ク
ロロホルム(5.0mL)に溶解し、室温で攪拌した。
ここに塩化亜鉛(0.16g、1.15mmol)、ク
ロロメチルメチルエーテル(0.09g、1.15mm
ol)を順次添加し、室温で1時間攪拌した。水で反応
を停止し、有機層を酢酸エチルで抽出後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥、濃縮した。これを薄層クロマトグラフ
ィで展開したところ原料(III)は消失し、新たな生成
物が確認された。これをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィで単離精製し、プロトンNMR及びMSスペクトル
測定を行ったところ、この化合物が目的とするクロロメ
チル体(I-15)ではなく、ピロロトリアゾールのメ
チレンビス体(IV)であることを確認した。
Comparative Example 1 4-equivalent cyan coupler (II
The following experiment was conducted for the purpose of introducing a chloromethyl group having a chlorine atom capable of leaving at the active position of I).
A 4-equivalent cyan coupler (III) (1.
00g, 1.15 mmol) was dissolved in acetic acid (5.0 mL) and chloroform (5.0 mL), and the mixture was stirred at room temperature.
Here, zinc chloride (0.16 g, 1.15 mmol) and chloromethyl methyl ether (0.09 g, 1.15 mm
ol) were sequentially added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction was stopped with water, the organic layer was extracted with ethyl acetate, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. When this was developed by thin layer chromatography, the raw material (III) disappeared, and a new product was confirmed. This was isolated and purified by silica gel column chromatography, and proton NMR and MS spectra were measured. This compound was not the intended chloromethyl form (I-15), but the methylenebis form (IV) of pyrrolotriazole. It was confirmed.

【0075】[0075]

【化15】 Embedded image

【0076】<比較例2>I-Aで表わされる化合物のヒ
ドロキシル基を脱離基であるメタンスルホニルオキシ基
に変換する目的で、次のような実験を行った。例示化合
物I-1(1.00g、1.11mmol)のピリジン
溶液(7.0mL)中に、メタンスルホニルクロリド
(0.13mL、1.67mmol)、を添加し、室温
で1時間攪拌した。水で反応を停止し、有機層を酢酸エ
チルで抽出後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し
た。これを薄層クロマトグラフィで展開したところ多数
の生成物が確認され、その構造を決定することは困難で
あった。また目的物(I-16)を確認することはでき
なかった。
Comparative Example 2 The following experiment was conducted for the purpose of converting the hydroxyl group of the compound represented by IA into a methanesulfonyloxy group as a leaving group. Methanesulfonyl chloride (0.13 mL, 1.67 mmol) was added to a pyridine solution (7.0 mL) of Exemplified Compound I-1 (1.00 g, 1.11 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction was stopped with water, the organic layer was extracted with ethyl acetate, dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated. When this was developed by thin-layer chromatography, many products were confirmed, and it was difficult to determine the structure. Also, the target product (I-16) could not be confirmed.

【0077】[0077]

【化16】 Embedded image

【0078】このように、一般式(II)で表される化合物
を合成するにあたり、一般式(I)でR4がハロゲン原子
(塩素原子)やメタンスルホニルオキシ基、トルエンス
ルホニルオキシ基といったある程度の脱離能を有する化
合物に変換しようとすると、ピロロトリアゾールのメチ
レンビス体が多量に生成するか、もしくは反応が複雑化
した。この事が一般式(II)で表される化合物を合成する
上で大きな問題となっていた。
As described above, in synthesizing the compound represented by the general formula (II), R 4 in the general formula (I) is a certain amount such as a halogen atom (chlorine atom), a methanesulfonyloxy group or a toluenesulfonyloxy group. When trying to convert to a compound having an elimination ability, a large amount of a methylenebis-form of pyrrolotriazole was generated or the reaction became complicated. This has been a major problem in synthesizing the compound represented by the general formula (II).

【0079】これと比較して本発明では、問題となって
いたピロロトリアゾールのメチレンビス体の生成を完全
に抑制することができた。かつ化合物I-BおよびI-Dを
単離精製することなく次の反応に用いることができ、実
験操作の簡略化も達成した。化合物I-BおよびI-Dを単
離精製した場合と比較して収率の低下は認められない。
In comparison with this, in the present invention, the formation of the methylenebis-form of pyrrolotriazole, which was a problem, could be completely suppressed. In addition, compounds IB and ID could be used for the next reaction without isolation and purification, and simplification of the experimental operation was also achieved. No decrease in yield is observed as compared with the case where compounds IB and ID are isolated and purified.

【0080】さらに引き続く反応で得られる例示化合物
I-Dを用いれば、一般式(II)で表される種々の5−スル
ホニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物及び5−アシルアミ
ノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,
4〕トリアゾール化合物を合成することが可能であり、
本発明の方法は非常に汎用性が高い。
Using the exemplified compound ID obtained by the subsequent reaction, various 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] represented by the general formula (II) can be used.
[1,2,4] triazole compound and 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,
4] It is possible to synthesize a triazole compound,
The method of the present invention is very versatile.

【0081】[0081]

【発明の効果】本発明によって、5位に種々のスルホニ
ルアミノメチル基及びアシルアミノ基を有する1H−ピ
ロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール類を
簡略な操作で、収率よく製造することが可能となった。
According to the present invention, 1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazoles having various sulfonylaminomethyl groups and acylamino groups at the 5-position can be obtained by a simple operation. It has become possible to manufacture efficiently.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (54)【発明の名称】 5−スルホニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合 物及び5−アシルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化 合物の製造方法 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (54) [Title of the Invention] 5-Sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound and 5-acylaminomethyl-1H For producing pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(I)で表される化合物を用いるこ
とを特徴とする一般式(II)で表される5−スルホニルア
ミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,
4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシルアミノメチ
ル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリ
アゾール化合物の製造方法。 【化1】 (式中、R1は水素原子または置換基を表す。R2および
3はそれぞれ独立にハメットの置換基定数σpの値が
0.2以上の電子吸引性基を表す。R4、R5は置換基を
表す。Xはスルホニル基またはカルボニル基を表わ
す。)
1. A compound represented by the general formula (I), wherein 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1] represented by the general formula (II) is used. , 2,
4] A process for producing a triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound. Embedded image (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a substituent. R 2 and R 3 each independently represent an electron-withdrawing group having a Hammett's substituent constant σp of 0.2 or more. R 4 , R 5 Represents a substituent, and X represents a sulfonyl group or a carbonyl group.)
【請求項2】 一般式(I)、(II)中、R1がアルキル基、
アリール基、複素環基、シアノ基、ニトロ基、アシルア
ミノ基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイ
ルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環
チオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキ
シカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、スルホニル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキ
シ基、カルバモイルオキシ基、イミド基、スルフィニル
基、ホスホニル基、アシル基であり、R2及びR3がそれ
ぞれ独立にアシル基、アシルオキシ基、カルバモイル
基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、ジアルキル
ホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアルコキシホス
ホリル基、ジアリールホスフィニル基、脂肪族スルフィ
ニル基、アリールスルフィニル基、脂肪族スルホニル
基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシ
ルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオ
カルボニル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アル
コキシ基、ハロゲン化アリールオキシ基、ハロゲン化ア
ルキルアミノ基、ハロゲン化アルキルチオ基、σpの値
が0.2以上の電子吸引性基で置換されたアリール基、
複素環基、ハロゲン原子、アゾ基、またはセレノシアネ
ート基、R4が複素環基、ヒドロキシル基、アシルオキ
シ基、アミノ基、またはイミド基、R5がアルキル基ま
たはアリール基、Xがスルホニル基またはカルボニル基
であることを特徴とする請求項1記載の5−スルホニル
アミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,
2,4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシルアミノ
メチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕
トリアゾール化合物の製造方法。
2. In the general formulas (I) and (II), R 1 is an alkyl group,
Aryl group, heterocyclic group, cyano group, nitro group, acylamino group, arylamino group, ureido group, sulfamoylamino group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group , A sulfonamide group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbamoyloxy group, an imide group, a sulfinyl group, a phosphonyl group, an acyl group, and R 2 and R 3 are Acyl group, acyloxy group, carbamoyl group, aliphatic oxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, nitro group, formyl group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, dialkoxyphosphoryl group, diary Ruphosphinyl group, aliphatic sulfinyl group, arylsulfinyl group, aliphatic sulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonyloxy group, acylthio group, sulfamoyl group, thiocyanate group, thiocarbonyl group, halogenated alkyl group, halogenated alkoxy group, halogenated An aryloxy group, a halogenated alkylamino group, a halogenated alkylthio group, an aryl group substituted with an electron-withdrawing group having a value of σp of 0.2 or more,
A heterocyclic group, a halogen atom, an azo group, or a selenocyanate group, R 4 is a heterocyclic group, a hydroxyl group, an acyloxy group, an amino group, or an imide group; R 5 is an alkyl group or an aryl group; X is a sulfonyl group or a carbonyl group 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,
2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4]
A method for producing a triazole compound.
【請求項3】 一般式(I)のR4がヒドロキシル基である
ことを特徴とする請求項1または2に記載の5−スルホ
ニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシル
アミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,
2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
3. The 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] according to claim 1 or 2, wherein R 4 in the general formula (I) is a hydroxyl group.
[1,2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2
2,4] A method for producing a triazole compound.
【請求項4】 一般式(I)のR4がアシルオキシ基である
ことを特徴とする請求項1または2に記載の5−スルホ
ニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシル
アミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,
2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
4. The 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] according to claim 1, wherein R 4 in the formula (I) is an acyloxy group.
[1,2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2
2,4] A method for producing a triazole compound.
【請求項5】 一般式(I)のR4がフタルイミド基である
ことを特徴とする請求項1または2に記載の5−スルホ
ニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシル
アミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,
2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
5. The 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] according to claim 1, wherein R 4 in the general formula (I) is a phthalimide group.
[1,2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2
2,4] A method for producing a triazole compound.
【請求項6】 一般式(I)のR4がアミノ基であることを
特徴とする請求項1または2に記載の5−スルホニルア
ミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,
4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシルアミノメチ
ル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリ
アゾール化合物の製造方法。
6. The 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1] according to claim 1 or 2, wherein R 4 in the formula (I) is an amino group. , 2,
4] A process for producing a triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound.
【請求項7】 化合物I-Aを出発原料とし、化合物I-
B、I-C、I-Dを経て一般式(II)で表される化合物に変
換することを特徴とする請求項1または2に記載の5−
スルホニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−
b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合物及び5−アシル
アミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,
2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。 【化2】 (式中、R1、R2、R3、R5は、請求項1における一般
式(II)中のR1、R2、R 3、R5と同義である。R6はア
ルキル基、アリール基を表わす。Xはスルホニル基また
はカルボニル基を表わす。Yはこれを含む環を形成する
のに必要な非金属原子群を表わす。)
7. A method according to claim 1, wherein the compound IA is used as a starting material.
Via B, IC, and ID, the compound is converted into the compound represented by the general formula (II).
3. The method according to claim 1, wherein
Sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-
b] [1,2,4] triazole compound and 5-acyl
Aminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,
2,4] A method for producing a triazole compound. Embedded image(Where R1, RTwo, RThree, RFiveIs the general term in claim 1
R in the formula (II)1, RTwo, R Three, RFiveIs synonymous with R6Is
Represents an alkyl group or an aryl group. X is a sulfonyl group or
Represents a carbonyl group. Y forms a ring containing it
Represents a group of nonmetallic atoms necessary for )
【請求項8】 化合物I-Aを出発原料とし化合物I-B、
I-C、I-Dを経て一般式(II)で表される化合物に変換す
る過程の中で、化合物I-Bを単離精製しないことを特徴
とする請求項7に記載の5−スルホニルアミノメチル−
1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾ
ール化合物もしくは5−アシルアミノメチル−1H−ピ
ロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化合
物の製造方法。
8. Compound IB, starting from compound IA,
8. The 5-sulfonyl compound according to claim 7, wherein the compound IB is not isolated and purified during the process of converting the compound represented by the general formula (II) via IC and ID. Aminomethyl-
Method for producing 1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound .
【請求項9】 化合物I-Aを出発原料とし化合物I-B、
I-C、I-Dを経て一般式(II)で表される化合物に変換す
る過程の中で、化合物I-Dを単離精製しないことを特徴
とする、請求項7に記載の5−スルホニルアミノメチル
−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリア
ゾール化合物もしくは5−アシルアミノメチル−1H−
ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール化
合物の製造方法。
9. Compound IB, starting from compound IA
The compound according to claim 7, wherein the compound ID is not isolated and purified in the process of converting the compound represented by the general formula (II) via IC and ID. Sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-
A method for producing a pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole compound.
【請求項10】 化合物I-Aを出発原料とし化合物I-
B、I-C、I-Dを経て一般式(II)で表される化合物に変
換する過程の中で、化合物I-BとI-Dの両方を単離精製
しないことを特徴とする、請求項7に記載の5−スルホ
ニルアミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール化合物もしくは5−アシル
アミノメチル−1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,
2,4〕トリアゾール化合物の製造方法。
10. Compound I-A starting from compound IA
B, IC, in the process of converting to the compound represented by the general formula (II) through ID, characterized in that both compounds IB and ID are not isolated and purified, The 5-sulfonylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] according to claim 7.
[1,2,4] triazole compound or 5-acylaminomethyl-1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2
2,4] A method for producing a triazole compound.
JP2000252964A 2000-08-23 2000-08-23 5-sulfonylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole compound and 5-acylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2- b][1,2,4]triazole compound Pending JP2002069071A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000252964A JP2002069071A (en) 2000-08-23 2000-08-23 5-sulfonylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole compound and 5-acylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2- b][1,2,4]triazole compound

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000252964A JP2002069071A (en) 2000-08-23 2000-08-23 5-sulfonylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole compound and 5-acylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2- b][1,2,4]triazole compound

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002069071A true JP2002069071A (en) 2002-03-08

Family

ID=18742132

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000252964A Pending JP2002069071A (en) 2000-08-23 2000-08-23 5-sulfonylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole compound and 5-acylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2- b][1,2,4]triazole compound

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002069071A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008292970A (en) * 2006-09-27 2008-12-04 Fujifilm Corp Compound and its tautomer, metal complex compound, colored photosensitive curing composition, color filter, and method for producing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008292970A (en) * 2006-09-27 2008-12-04 Fujifilm Corp Compound and its tautomer, metal complex compound, colored photosensitive curing composition, color filter, and method for producing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4621046A (en) Pyrazolo(1,5-B)-1,2,4-triazole derivatives
US4705863A (en) Process for producing pyrazolo[1,5-b][1,2,4]triazole derivatives
JPS60190779A (en) Preparation of pyrazolo(1,5-b)(1,2,4)triazole derivative
JP4331823B2 (en) Pyrrolo [1,2-a] -1,3,5-triazin-4-one compounds
JP2002069071A (en) 5-sulfonylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole compound and 5-acylaminomethyl-1h-pyrrolo-[1,2- b][1,2,4]triazole compound
US5110941A (en) Methods of producing 1H-pyraolo(5,1-c)-1,2,4-triazoles and pyrazole derivatives
JPS60215687A (en) Production of pyrazolo(1,5-b)(1,2,4)triazole derivative
JP3274555B2 (en) Method for producing 1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole derivative
JP2660775B2 (en) Method for producing pyrazoloazoles
JP2000086661A (en) 1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole derivative and its production
JPH069636A (en) Production of 1h-pyrazolo(1,5-b)(1,2,4)triazole compound by cyclization of n-(4-substituted pyrazolyl)amidoxime
US6384219B1 (en) 1H-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4,]triazole compound and its synthetic intermediate, and method of preparing a 1H-1,2,4-triazole-5-yl-acetic acid ester compound
JP2000086662A (en) Production of 1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole derivative
JP2002060391A (en) Method for producing 5-sulfonyllaminomethyl-1h- pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole compound
JP4402220B2 (en) 1H-pyrrolo- [1,2-b] [1,2,4] triazole derivatives and intermediates thereof
JP2000044563A (en) Production of 1h-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4]triazole compounds
US5510492A (en) Process of preparing pyrazolo 1,5-b! 1,2,4! triazoles
JP3014226B2 (en) Method for producing pyrazoloazoles
JP4133286B2 (en) Method for producing benzenesulfonyl chloride compound
JP2000063382A (en) 1H-PYRROLO[1,2-b] [1,2,4]TRIAZOL-5-YLAMINE DERIVATIVE AND ITS PRODUCTION
JP2004091429A (en) Method for producing sulfonamide compound
JPH0566386B2 (en)
JPH09258399A (en) Method for halogenating photographic coupler by using haloisocyanyric acid
JP2003155276A (en) Method for producing amide oxime
JPH05186470A (en) Production of pyrazolo(1,5-b) (1,2,4)triazole-based photographic coupler