JP2002043753A - Manufacturing method of multilayer printed circuit board - Google Patents
Manufacturing method of multilayer printed circuit boardInfo
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板の製造方法に係わり、特に高密度の多層プリント配線
板を生産性良く低コストで製造する方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, and more particularly to a method for manufacturing a high-density multilayer printed wiring board with good productivity at low cost.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年の電子機器の小型・高密度化に伴
い、各種のビアホール構造を取り込んだビルドアップ多
層プリント配線板が開発されている。このような配線板
は、従来から、以下に示すようなビルドアップ工法を用
いて製造されている。2. Description of the Related Art With the recent trend toward smaller and higher-density electronic devices, build-up multilayer printed wiring boards incorporating various via hole structures have been developed. Such a wiring board has been conventionally manufactured by using a build-up method as described below.
【0003】すなわち、ベースとなる内層配線板の上に
絶縁樹脂層を設け、レーザーの照射により、絶縁樹脂層
に内層回路との導通のための非貫通穴を形成した後、こ
の絶縁樹脂層の上に粗面化処理を行い、さらに無電解銅
メッキおよび電解銅メッキを順に行い、内外層の導体層
を電気的に接続するビアを形成する方法が行われてい
る。また、絶縁樹脂層と銅箔とが一体に貼着された銅箔
付き樹脂シートを内層配線板に積層し、コンフォーマル
として銅箔に開口を形成した後、レーザーによる穴明け
を行う方法も採られている。That is, an insulating resin layer is provided on an inner wiring board serving as a base, and a non-through hole for conduction with an inner circuit is formed in the insulating resin layer by laser irradiation. A method of performing a surface roughening process, further performing an electroless copper plating and an electrolytic copper plating in order, and forming a via that electrically connects the inner and outer conductor layers is performed. In addition, a method in which a resin sheet with copper foil, in which an insulating resin layer and copper foil are integrally bonded, is laminated on an inner wiring board, an opening is formed in the copper foil as a conformal pattern, and then a laser drilling is performed. Have been.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】このような多層プリン
ト配線板の製造方法においては、絶縁樹脂層のレーザー
による穴明け工程で、穴(非貫通穴)の底部に炭化した
樹脂のような残渣が残留するため、メッキ工程の前処理
として、デスミア処理といわれる残渣の除去および清浄
化処理を行う必要があった。そして、デスミア処理とし
ては、例えば過マンガン酸ナトリウム溶液のような酸化
剤による化学的な除去が行われ、補助的にプラズマによ
るデスミア処理が用いられていた。In such a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, a residue such as carbonized resin is formed at the bottom of a hole (non-through hole) in a step of drilling an insulating resin layer by a laser. Since it remains, it was necessary to remove and clean a residue called desmear treatment as a pretreatment of the plating step. As the desmear treatment, for example, a chemical removal using an oxidizing agent such as a sodium permanganate solution is performed, and a desmear treatment using plasma is used as an auxiliary.
【0005】しかしながら、プリント配線板の高密度化
によりビア径が小径化するにしたがって、デスミア処理
において残渣が完全に除去できない場合があり、その結
果層間部での接続信頼性が十分に得られず、プリント配
線板の歩留まりを悪くするという問題があった。また、
補助的手法として使用されるプラズマデスミアは、処理
に要する時間が長いため、コストアップの原因となって
いた。[0005] However, as the via diameter becomes smaller due to the higher density of the printed wiring board, residues may not be completely removed in the desmearing process, and as a result, the connection reliability between the interlayer portions may not be sufficiently obtained. However, there is a problem that the yield of printed wiring boards is deteriorated. Also,
Plasma desmear, which is used as an auxiliary method, has a long processing time, and has caused an increase in cost.
【0006】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、穴明け後のデスミア処理が不要で、ビアによる層間
の接続信頼性が高く、低コストで生産性向上が可能なビ
ルドアップ多層プリント配線板の製造方法を提供するこ
とを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and does not require desmear processing after drilling, has high reliability in connection between layers by vias, and is capable of improving productivity at low cost. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a wiring board.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、絶縁樹脂層の
穴明けをブラスト手法を用いて行うことにより、穴内の
残渣の残留をなくし、デスミア処理を不要とすることが
できることを見出し、本発明を完成した。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, by performing piercing of the insulating resin layer by using a blast method, the residual residue in the holes has been obtained. And found that the desmear treatment can be eliminated, thus completing the present invention.
【0008】すなわち、本発明の多層プリント配線板の
製造方法は、内層配線板の少なくとも片面に層間樹脂絶
縁層を形成する工程と、前記層間樹脂絶縁層の所定の位
置に配線層間を電気的に接続するビアを形成する工程と
を備えた多層プリント配線板の製造方法において、前記
ビアの形成工程が、前記層間樹脂絶縁層をブラスト処理
することにより、前記内層配線板の配線層に達する非貫
通穴を形成する工程と、前記非貫通穴内に導体層を形成
する工程とを有することを特徴とする。That is, in the method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, a step of forming an interlayer resin insulating layer on at least one surface of an inner wiring board, and electrically connecting a wiring layer at a predetermined position of the interlayer resin insulating layer. Forming a via to be connected, wherein the step of forming the via includes a step of blasting the interlayer resin insulating layer so as to reach a wiring layer of the inner layer wiring board. Forming a hole; and forming a conductor layer in the non-through hole.
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0010】本発明において、内層配線板としては、ガ
ラスエポキシ基板、ポリイミド基板、ビスマレイミドト
リアジン(BT)基板、フッ素樹脂(ポリテトラフルオ
ロエチレン)基板、ポリフェニレンエーテル(PPE)
基板などの樹脂基板、あるいはこれら樹脂基板の銅張積
層基板、セラミック基板、金属基板などをベース基板と
し、少なくとも片面に配線層(導体回路パターン)を有
する配線板を用いることができる。In the present invention, as the inner wiring board, a glass epoxy substrate, a polyimide substrate, a bismaleimide triazine (BT) substrate, a fluororesin (polytetrafluoroethylene) substrate, a polyphenylene ether (PPE)
A resin board such as a board, or a copper-clad laminated board, a ceramic board, a metal board, or the like of such a resin board may be used as a base board, and a wiring board having a wiring layer (conductor circuit pattern) on at least one surface can be used.
【0011】また、層間樹脂絶縁層としては、熱硬化性
樹脂、熱可塑性樹脂、あるいは熱硬化性樹脂と熱可塑性
樹脂の複合体から成る層が挙げられる。そして、このよ
うな樹脂絶縁層を内層配線板の少なくとも片面に形成す
るには、樹脂を塗布する方法、そのままシート状に成形
した樹脂シートまたは樹脂シートに銅箔を貼り合せて一
体化した銅箔付き樹脂シートを熱圧着する方法、あるい
は前記樹脂をガラス繊維布などに含浸させた樹脂含浸シ
ートを積層する方法などが採られる。The interlayer resin insulating layer includes a layer made of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or a composite of a thermosetting resin and a thermoplastic resin. In order to form such a resin insulating layer on at least one side of the inner wiring board, a method of applying a resin, a resin sheet formed into a sheet shape as it is, or a copper foil bonded to a resin sheet and integrated with the copper foil Or a method of laminating a resin impregnated sheet in which the resin is impregnated into a glass fiber cloth or the like.
【0012】本発明において、ブラスト処理用の粒子
(研掃剤)としては、アルミナ系、炭化ケイ素系、亜鉛
系の材料から成り、粒径が0.5〜30μmの粉体粒子を使用
することができる。また、本発明では、これらの研掃剤
を圧縮空気を用いて高速で噴射し加工するエアーブラス
ト法の他に、水等の液体の中に前記研掃剤を混入して噴
射するウェットブラスト法も使用することができる。In the present invention, as blasting particles (abrasives), powder particles made of alumina-based, silicon carbide-based, or zinc-based materials and having a particle size of 0.5 to 30 μm can be used. . Further, in the present invention, in addition to the air blast method in which these abrasives are sprayed and processed at high speed using compressed air, a wet blast method in which the abrasives are mixed into a liquid such as water and injected. Can also be used.
【0013】本発明において、ブラスト処理により層間
樹脂絶縁層の所定の位置に所定の径の非貫通穴を形成す
るには、以下に示すように形成されたマスク(ブラスト
マスク)が使用される。すなわち、内層配線板上に銅箔
付き樹脂シートを積層する方法では、フォトエッチング
法により銅箔の所定の位置に開口を形成した後、この銅
箔をマスクとして層間樹脂絶縁層をブラスト処理する。In the present invention, a mask (blast mask) formed as described below is used to form a non-through hole having a predetermined diameter at a predetermined position of the interlayer resin insulating layer by blasting. That is, in the method of laminating a resin sheet with a copper foil on the inner wiring board, an opening is formed at a predetermined position of the copper foil by a photo-etching method, and then the interlayer resin insulating layer is blasted using the copper foil as a mask.
【0014】また、感光性の樹脂から成るレジストを使
用して、ブラストマスクを形成することもできる。すな
わち、絶縁樹脂シートを熱圧着することにより形成され
た層間樹脂絶縁層の上に、感光性のレジスト層を形成
し、このレジスト層にフォトエッチングを施して所定の
位置に開口を有する樹脂マスクを形成した後、ブラスト
処理を行うことができる。Further, a blast mask can be formed by using a resist made of a photosensitive resin. That is, a photosensitive resist layer is formed on an interlayer resin insulating layer formed by thermocompression bonding of an insulating resin sheet, and this resist layer is subjected to photoetching to form a resin mask having an opening at a predetermined position. After formation, blasting can be performed.
【0015】ブラスト処理の条件は、層間樹脂絶縁層の
種類や厚さ、形成すべき非貫通穴の径などによって異な
るが、例えばエアーブラストでは、噴射圧力0.4〜8kg
/cm2でブラストノズルの走査速度を0.5〜5m/分と
することが望ましい。The conditions for the blasting process vary depending on the type and thickness of the interlayer resin insulating layer, the diameter of the non-through hole to be formed, and the like.
/ Cm 2, the scanning speed of the blast nozzle is desirably 0.5 to 5 m / min.
【0016】本発明においては、ビルドアップ法による
多層プリント配線板の製造において、ビアホール形成の
ための非貫通穴の形成をブラスト処理により行っている
ので、レーザー穴明け機を必要とせず、かつ穴明け後の
デスミア処理が不要であるうえに、ビアによる層間の接
続信頼性が高く、低コストで生産性が高い。In the present invention, in manufacturing a multilayer printed wiring board by a build-up method, a non-through hole for forming a via hole is formed by blasting, so that a laser drilling machine is not required and a hole is not required. Desmear treatment after dawn is not required, and connection reliability between via layers is high, and low cost and high productivity are achieved.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。なお、本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to these examples.
【0018】本発明の第1の実施例においては、図1に
示すように、絶縁体(内層絶縁体)1の両面に内層銅箔
回路2を有する内層配線板3を形成する。すなわち、両
面銅張積層板の両面の銅箔上に、市販の感光性ドライフ
ィルムを貼り付け、露光および現像工程を経てエッチン
グレジストのパターンを形成した後、エッチングレジス
トが形成されていない部分の銅箔をエッチング液により
溶解・除去し、さらにエッチングレジストを剥離して、
内層銅箔回路2を形成する。ここで、銅箔のエッチング
液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液や硫
酸過酸化水素水溶液など、公知のエッチング液を使用す
ることができる。さらに、後述する層間樹脂絶縁層との
密着性の向上のために、内層銅箔回路2の表面に粗面化
処理を施す。粗面化処理としては、黒化処理や硫酸過酸
化水素系の化学処理などの方法がある。In the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1, an inner wiring board 3 having an inner copper foil circuit 2 on both surfaces of an insulator (inner insulator) 1 is formed. That is, on a copper foil on both sides of a double-sided copper-clad laminate, a commercially available photosensitive dry film is adhered, and after an exposure and development process, an etching resist pattern is formed. Dissolve and remove the foil with an etchant, peel off the etching resist,
An inner copper foil circuit 2 is formed. Here, as the etching solution for the copper foil, a known etching solution such as an aqueous solution of ferric chloride, an aqueous solution of cupric chloride, or an aqueous solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide can be used. Further, the surface of the inner layer copper foil circuit 2 is subjected to a surface roughening treatment in order to improve the adhesion with an interlayer resin insulating layer described later. Examples of the surface roughening treatment include a blackening treatment and a chemical treatment based on sulfuric acid and hydrogen peroxide.
【0019】次に、図2に示すように、内層配線板3の
両面に、絶縁樹脂層4と銅箔5とが貼着された銅箔付き
樹脂シート6をそれぞれ重ね、加熱・加圧し積層一体化
する。Next, as shown in FIG. 2, a resin sheet 6 with a copper foil on which an insulating resin layer 4 and a copper foil 5 are adhered is laminated on both surfaces of the inner layer wiring board 3 and is laminated by heating and pressing. Integrate.
【0020】次いで、図3に示すように、銅箔付き樹脂
シート6の両面の銅箔5の所定の位置(ビア形成位置)
に、マスク穴として所定の径を有する開口7を形成す
る。開口(マスク穴)7の形成は、銅箔5上に市販の感
光性ドライフィルムを貼り付け、露光および現像工程を
経て、ビア形成位置に開口を有するエッチングレジスト
を形成した後、レジスト開口部の銅箔を、塩化第二鉄溶
液のようなエッチング液により溶解・除去し、さらにエ
ッチングレジストを剥離することにより行う。Next, as shown in FIG. 3, predetermined positions (via formation positions) of the copper foil 5 on both sides of the resin sheet 6 with a copper foil.
Then, an opening 7 having a predetermined diameter is formed as a mask hole. The opening (mask hole) 7 is formed by attaching a commercially available photosensitive dry film on the copper foil 5, forming an etching resist having an opening at a via formation position through exposure and development steps, and then forming a resist opening. The copper foil is dissolved and removed with an etchant such as a ferric chloride solution, and the etching resist is peeled off.
【0021】次に、図4に示すように、開口7を有する
銅箔5の上からエアーブラスト装置によりブラスト処理
を行い、図5に示すように、絶縁樹脂層4に内層銅箔回
路2が露出するような非貫通穴8を形成する。エアーブ
ラストの条件は、例えば粒径が5〜10μmのアルミナ粒
子を研掃剤9とし、噴射圧力が2kg/cm2で、ブラス
トノズルの走査速度を1.5m/分とする。Next, as shown in FIG. 4, blasting is performed on the copper foil 5 having the opening 7 by an air blast device, and as shown in FIG. A non-through hole 8 that is exposed is formed. The conditions of the air blast are, for example, alumina particles having a particle size of 5 to 10 μm as the abrasive 9, an injection pressure of 2 kg / cm 2, and a scanning speed of the blast nozzle of 1.5 m / min.
【0022】次に、市販の無電解銅メッキ液を用いて、
非貫通穴8の内面および外層の銅箔5上に無電解銅メッ
キを施した後、厚付けのためにさらに電解銅メッキを施
し、銅メッキ層10を形成する(図6参照)。なお図
中、符号10aは、こうして形成されたビアを示す。Next, using a commercially available electroless copper plating solution,
After electroless copper plating is performed on the inner surface of the non-through hole 8 and on the outer layer copper foil 5, electrolytic copper plating is further performed for thickening to form a copper plating layer 10 (see FIG. 6). In the drawing, reference numeral 10a indicates the via thus formed.
【0023】次いで、銅メッキ層10上に感光性ドライ
フィルムを貼り付け、露光および現像工程を経てエッチ
ングレジストのパターンを形成した後、外層の銅箔5お
よび銅メッキ層10の露出部分を公知のエッチング液に
より溶解・除去し、さらにエッチングレジストを剥離す
ることにより、図7に示すように、外層の導体回路パタ
ーン11を形成する。こうして多層プリント配線板が得
られる。また、図2に示す銅箔付き樹脂シート6の積層
工程から図7に示す導体回路パターン11の形成工程を
繰り返すことにより、さらに多層化された多層プリント
配線板を得ることができる。Next, a photosensitive dry film is stuck on the copper plating layer 10 and an etching resist pattern is formed through exposure and development steps. Then, the exposed portions of the outer copper foil 5 and the copper plating layer 10 are exposed to a known material. By dissolving / removing with an etchant and further removing the etching resist, an outer conductive circuit pattern 11 is formed as shown in FIG. Thus, a multilayer printed wiring board is obtained. Further, by repeating the steps of laminating the resin sheet 6 with the copper foil shown in FIG. 2 and the step of forming the conductor circuit pattern 11 shown in FIG. 7, a multilayer printed wiring board having a further multilayer structure can be obtained.
【0024】このように構成される第1の実施例におい
ては、ビア形成のための非貫通穴8の形成を、エアーブ
ラストにより行っているので、レーザー穴明け機を必要
とせず、かつ穴内に残渣が残留することがないので穴明
け後のデスミア処理が不要であるうえに、層間の接続信
頼性が高い。したがって、低コストで効率良くビルドア
ップ多層プリント配線板を得ることができる。また、こ
の実施例では、絶縁樹脂層4と銅箔5とが貼着一体化さ
れた銅箔付き樹脂シート6を用いて層間樹脂絶縁層を形
成しているので、外層の銅箔パターンと絶縁樹脂層との
接着強度が大きく、層間が剥離しにくい多層プリント配
線板を得ることができる。In the first embodiment configured as described above, since the non-through hole 8 for forming the via is formed by air blast, a laser drilling machine is not required and the hole is not formed in the hole. Since no residue remains, desmearing after drilling is not required, and the connection reliability between layers is high. Therefore, a build-up multilayer printed wiring board can be efficiently obtained at low cost. Further, in this embodiment, since the interlayer resin insulating layer is formed using the resin sheet 6 with the copper foil in which the insulating resin layer 4 and the copper foil 5 are adhered and integrated, the insulating resin layer 4 and the copper foil 5 are insulated. It is possible to obtain a multilayer printed wiring board having a high adhesive strength to a resin layer and a low peeling between layers.
【0025】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。Next, a second embodiment of the present invention will be described.
【0026】この実施例では、図8に示すように、内層
配線板3の両面に、熱可塑性または熱硬化性の樹脂シー
ト12を加熱・加圧して積層することにより、層間樹脂
絶縁層を形成する。次いで、樹脂シート12の上に、感
光性ドライフィルムを貼り付けるなどの方法で感光性の
レジスト層を形成し、このレジスト層にフォトエッチン
グ(露光および現像)を施して、所定の位置に開口7を
有する樹脂レジスト層13を形成する。そして、図9に
示すように、この樹脂レジスト層13をマスクとしてブ
ラスト処理を行い、樹脂シート12に非貫通穴8を形成
する。In this embodiment, as shown in FIG. 8, a thermoplastic or thermosetting resin sheet 12 is laminated on both surfaces of the inner wiring board 3 by heating and pressing to form an interlayer resin insulating layer. I do. Next, a photosensitive resist layer is formed on the resin sheet 12 by, for example, pasting a photosensitive dry film, and the resist layer is subjected to photoetching (exposure and development) to form openings 7 in predetermined positions. Is formed. Then, as shown in FIG. 9, blasting is performed using the resin resist layer 13 as a mask to form the non-through holes 8 in the resin sheet 12.
【0027】次いで、図10に示すように、非貫通穴8
の内面および樹脂シート12上に無電解銅メッキおよび
電解銅メッキを順に施し、銅メッキ層10を形成する。
その後、銅メッキ層10上に感光性ドライフィルムを貼
り付け、露光、現像工程を経てエッチングレジストのパ
ターンを形成した後、銅メッキ層10の露出部分をエッ
チング除去して、図11に示すように、外層導体回路パ
ターン11を形成する。Next, as shown in FIG.
An electroless copper plating and an electrolytic copper plating are sequentially performed on the inner surface of the resin sheet 12 and the resin sheet 12 to form a copper plating layer 10.
Thereafter, a photosensitive dry film is stuck on the copper plating layer 10, and an exposure and development process is performed to form an etching resist pattern. Then, the exposed portion of the copper plating layer 10 is removed by etching, as shown in FIG. The outer conductor circuit pattern 11 is formed.
【0028】このように構成される第2の実施例におい
ては、第1の実施例と同様に、レーザー穴明け機を必要
としないせず、かつビア形成用の穴明けを行った後のデ
スミア処理が不要であり、層間のビア接続の信頼性が高
く、低コストで生産性が高い。また、外層の導体回路パ
ターン11を無電解メッキおよび電解メッキにより形成
しており、導体層が厚くなり過ぎることがないので、小
径(例えば100μm以下の径)のビアホールを生産性
良く形成することができるという利点がある。In the second embodiment constructed as described above, as in the first embodiment, a laser drilling machine is not required, and the desmear after drilling for via formation is performed. No processing is required, the reliability of via connection between layers is high, and the productivity is low and the cost is high. In addition, since the conductor circuit pattern 11 of the outer layer is formed by electroless plating and electrolytic plating, and the conductor layer does not become too thick, it is possible to form a via hole having a small diameter (for example, a diameter of 100 μm or less) with high productivity. There is an advantage that you can.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ビア用の非貫通穴の穴明けにおいて、レーザ
ー穴明け機を必要とせず、かつ穴明け後のデスミア処理
が不要であり、従来より少ない工程数で層間の接続信頼
性の高いビルドアップ多層プリント配線板を得ることが
できる。したがって、多層プリント配線板の製造におい
て、コストを低減し生産性を向上させることが可能とな
る。As is apparent from the above description, according to the present invention, in drilling a non-through hole for a via, a laser drilling machine is not required, and desmearing after drilling is unnecessary. In addition, a build-up multilayer printed wiring board having high connection reliability between layers can be obtained with a smaller number of steps than in the related art. Therefore, in manufacturing a multilayer printed wiring board, it is possible to reduce costs and improve productivity.
【図1】本発明に係る多層プリント配線板の製造方法の
第1の実施例において、内層配線板の形成工程を説明す
るための断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a step of forming an inner-layer wiring board in a first embodiment of the method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
【図2】本発明の第1の実施例において、銅箔付き樹脂
シートの積層工程を説明するための断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a step of laminating a resin sheet with a copper foil in the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第1の実施例において、銅箔に対する
開口(マスク穴)の形成工程を説明するための断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a step of forming an opening (mask hole) in a copper foil in the first embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第1の実施例において、ブラスト処理
工程を説明するための断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining a blast processing step in the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第1の実施例において、ブラスト処理
により絶縁樹脂層に非貫通穴が形成された状態を示す断
面図。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which a non-through hole is formed in the insulating resin layer by blasting in the first embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第1の実施例において、銅メッキ層の
形成工程を説明するための断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a copper plating layer in the first embodiment of the present invention.
【図7】本発明の第1の実施例において得られた多層プ
リント配線板の断面図。FIG. 7 is a cross-sectional view of the multilayer printed wiring board obtained in the first embodiment of the present invention.
【図8】本発明の第2の実施例において、樹脂シートの
積層工程を説明するための断面図。FIG. 8 is a sectional view for explaining a resin sheet laminating step in the second embodiment of the present invention.
【図9】本発明の第2の実施例において、樹脂レジスト
層をマスクとするブラスト処理工程を説明するための断
面図。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a blast processing step using a resin resist layer as a mask in the second embodiment of the present invention.
【図10】本発明の第2の実施例において、銅メッキ層
の形成工程を説明するための断面図。FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a step of forming a copper plating layer in the second embodiment of the present invention.
【図11】本発明の第2の実施例において得られた多層
プリント配線板の断面図。FIG. 11 is a sectional view of a multilayer printed wiring board obtained in a second embodiment of the present invention.
2………内層銅箔回路 3………内層配線板 5………銅箔 6………銅箔付き樹脂シート 7………開口(マスク穴) 8………非貫通穴 9………研掃剤 10………銅メッキ層 10a………ビア 11………外層導体パターン 12………樹脂シート 13………樹脂レジスト層 2 ... inner layer copper foil circuit 3 ... inner layer wiring board 5 ... copper foil 6 ... resin sheet with copper foil 7 ... opening (mask hole) 8 ... non-through hole 9 ... Abrasive 10 Copper plating layer 10a Via 11 Outer conductor pattern 12 Resin sheet 13 Resin resist layer
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Claims (5)
絶縁層を形成する工程と、前記層間樹脂絶縁層の所定の
位置に配線層間を電気的に接続するビアを形成する工程
とを備えた多層プリント配線板の製造方法において、 前記ビアの形成工程が、前記層間樹脂絶縁層をブラスト
処理することにより、前記内層配線板の配線層に達する
非貫通穴を形成する工程と、前記非貫通穴内に導体層を
形成する工程とを有することを特徴とする多層プリント
配線板の製造方法。1. A multilayer comprising: a step of forming an interlayer resin insulation layer on at least one surface of an inner wiring board; and a step of forming a via for electrically connecting a wiring layer at a predetermined position of the interlayer resin insulation layer. In the method for manufacturing a printed wiring board, the step of forming the via includes a step of forming a non-through hole reaching the wiring layer of the inner wiring board by blasting the interlayer resin insulating layer; Forming a conductor layer.
縁樹脂層と銅箔とが貼着された複合シートを積層するこ
とにより、前記層間樹脂絶縁層を形成し、かつ前記非貫
通穴の形成工程で、前記銅箔の所定の位置に開口を形成
した後、該銅箔をマスクとして前記ブラスト処理を行う
ことを特徴とする請求項1記載の多層プリント配線板の
製造方法。2. The method according to claim 1, further comprising: laminating a composite sheet having an insulating resin layer and a copper foil attached to at least one side of the inner wiring board to form the interlayer resin insulating layer and form the non-through hole. 2. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein in the step, after forming an opening at a predetermined position of the copper foil, the blasting is performed using the copper foil as a mask.
樹脂シートを積層することにより、前記層間樹脂絶縁層
を形成し、かつ前記非貫通穴の形成工程で、所定の位置
に開口を有する樹脂レジスト層を前記絶縁樹脂シートの
上に形成した後、前記樹脂レジスト層をマスクとしてブ
ラスト処理を行うことを特徴とする請求項1記載の多層
プリント配線板の製造方法。3. A resin resist having the interlayer resin insulating layer formed by laminating an insulating resin sheet on at least one surface of the inner wiring board, and having an opening at a predetermined position in the non-through hole forming step. 2. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein after forming a layer on the insulating resin sheet, blasting is performed using the resin resist layer as a mask.
ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載
の多層プリント配線板の製造方法。4. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein said blasting is air blasting.
あることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記
載の多層プリント配線板の製造方法。5. The method according to claim 1, wherein the blasting is wet blasting.
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