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JP2001312068A - Original plate of planographic printing plate - Google Patents

Original plate of planographic printing plate

Info

Publication number
JP2001312068A
JP2001312068A JP2000132478A JP2000132478A JP2001312068A JP 2001312068 A JP2001312068 A JP 2001312068A JP 2000132478 A JP2000132478 A JP 2000132478A JP 2000132478 A JP2000132478 A JP 2000132478A JP 2001312068 A JP2001312068 A JP 2001312068A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
polymer
acid
radical polymerization
Prior art date
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Granted
Application number
JP2000132478A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
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Inventor
Kazuto Shimada
和人 嶋田
Yasuhito Oshima
康仁 大島
Kazuto Kunida
一人 國田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a negative original plate of a planographic printing plate capable of recording with an IR laser, having good adhesion of a photosensitive layer to the base and excellent in image reproducibility and printing resistance. SOLUTION: The original plate is obtained by successively disposing a middle layer containing a compound having a radical polymerization reactive group and a photosensitive layer containing I) an IR absorbent, II) a polymerization initiator and III) a compound having a polymeizable unsaturated group and capable of recording with an IR laser on a base made hydrophilic by treatment. Preferably the compound in the middle layer further has a cationic group in its molecule.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は赤外線レーザで書き
込み可能な平版印刷版原版に関し、詳しくは、耐刷性に
優れたネガ型の記録層を有する平版印刷版原版に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor that can be written with an infrared laser, and more particularly to a lithographic printing plate precursor having a negative recording layer with excellent printing durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個
体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進
んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版する際の露光光源として、これらのレ
ーザーは非常に有用である。前述の赤外線領域に発光領
域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤
外線レーザ用ネガ型平版印刷版材料は、赤外線吸収剤
と、光又は熱によりラジカルを発生する重合開始剤と、
重合性化合物とを含む感光層を有する平版印刷版材料で
ある。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of lasers has been remarkable, and in particular, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region in the near infrared to infrared region have been increasing in output and miniaturization. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. Using an infrared laser having an emission region in the infrared region as an exposure light source, a negative type lithographic printing plate material for an infrared laser, an infrared absorber, and a polymerization initiator that generates radicals by light or heat,
A lithographic printing plate material having a photosensitive layer containing a polymerizable compound.

【0003】このようなネガ型の画像記録材料として
は、例えば、熱重合系の印刷版として、特開平8−10
8621号、特開平9−34110号公報に記載される
ような技術が知られている。これらの平版印刷版は画像
形成性には優れているものの、支持体としてポリエチレ
ンテレフタレート(PET)のようなプラスチックフィ
ルムやアルミニウム基板を陽極酸化(AD)処理後、ケ
イ酸ソーダで親水化処理された基板を用いており、基板
と感光層との密着性が低く、網点や細線等の画像再現性
が不充分であったり、耐刷性が低いという問題があっ
た。支持体表面や感光層の組成を制御して、支持体と感
光層との接着性を物理的に向上させる技術が種々検討さ
れているが、単に密着性のみを向上した場合には、感度
や現像性に影響を与え、現像後の残膜により非画像部に
汚れが発生する等の問題を生じる懸念があるため、画像
再現性や感度に影響を与えない改良手段が求められてい
た。
As such a negative type image recording material, for example, a heat-polymerized printing plate is disclosed in
Techniques such as those described in JP-A-8621 and JP-A-9-34110 are known. Although these lithographic printing plates are excellent in image-forming properties, a plastic film such as polyethylene terephthalate (PET) or an aluminum substrate as a support was subjected to anodizing (AD) treatment and then subjected to hydrophilic treatment with sodium silicate. Since a substrate is used, there is a problem that adhesion between the substrate and the photosensitive layer is low, image reproducibility such as halftone dots and fine lines is insufficient, and printing durability is low. Various techniques for controlling the composition of the support surface and the photosensitive layer to physically improve the adhesion between the support and the photosensitive layer have been studied. Since there is a concern that the developing property is affected, and there is a problem that a residual film after development may cause stains in the non-image area, there is a demand for an improvement means that does not affect the image reproducibility and sensitivity.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は赤外線レーザで記録可能であり、支持体と感光層との
密着性が良好であり、画像再現性、耐刷性に優れたネガ
型の平版印刷版原版を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a negative type which is recordable with an infrared laser, has good adhesion between a support and a photosensitive layer, and has excellent image reproducibility and printing durability. Is to provide a lithographic printing plate precursor.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討の結
果、親水化されたアルミニウム基板上に重合性の化合物
を含有する中間層を設けることで上記課題を解決し得る
ことを見出し、本発明を完成した。即ち、本発明のヒー
トモード対応平版印刷版原版は、親水化処理された支持
体上に、ラジカル重合反応性基を有する化合物を含有す
る中間層、及び、I)赤外線吸収剤、II)重合開始剤、
及び、III)重合性の不飽和基を有する化合物を含有
し、赤外線レーザーで記録可能な感光層を、順次設けて
なることを特徴とする。ここで、中間層に含まれるラジ
カル重合反応性基を有する化合物がさらにカチオン性基
を有することが好ましい態様である。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by providing an intermediate layer containing a polymerizable compound on a hydrophilized aluminum substrate. Completed the invention. That is, the lithographic printing plate precursor corresponding to the heat mode of the present invention comprises, on a support subjected to hydrophilic treatment, an intermediate layer containing a compound having a radical polymerization reactive group, and I) an infrared absorber, and II) polymerization initiation. Agent,
And III) a photosensitive layer containing a compound having a polymerizable unsaturated group and being recordable by an infrared laser. Here, in a preferred embodiment, the compound having a radical polymerization reactive group contained in the intermediate layer further has a cationic group.

【0006】なお、本発明において「ヒートモード対
応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であるこ
とを意味する。本発明におけるヒートモード露光の定義
について詳述する。Hans−Joachim Tim
pe,IS&Ts NIP 15:1999 Inte
rnational Conference on D
igital Printing Technolog
ies.P.209に記載されているように、感光体材
料において光吸収物質(例えば色素)を光励起させ、化
学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するその光吸
収物質の光励起から化学的或いは物理的変化までのプロ
セスには大きく分けて二つのモードが存在することが知
られている。1つは光励起された光吸収物質が感光材料
中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用(例え
ば、エネルギー移動、電子移動)をすることで失活し、
その結果として活性化した反応物質が上述の画像形成に
必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるフォ
トンモードであり、もう1つは光励起された光吸収物質
が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質が上述
の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こす
いわゆるヒートモードである。その他、物質が局所的に
集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散るアブレ
ーションや1分子が多数の光子を一度に吸収する多光子
吸収など特殊なモードもあるがここでは省略する。
In the present invention, "corresponding to the heat mode" means that recording by heat mode exposure is possible. The definition of the heat mode exposure in the present invention will be described in detail. Hans-Joachim Tim
pe, IS & Ts NIP 15: 1999 Inte
rational Conference on D
digital printing technology
ies. P. As described in 209, a photoabsorbing substance (for example, a dye) is photoexcited in a photoreceptor material, and undergoes a chemical or physical change to form a chemical or physical change from the photoexcitation of the photoabsorbing substance forming an image. It is known that there are roughly two modes in the above processes. One is that the photo-excited light-absorbing substance deactivates due to some photochemical interaction (eg, energy transfer, electron transfer) with other reactants in the photosensitive material,
As a result, a so-called photon mode in which the activated reactant causes a chemical or physical change required for the above-described image formation, and the other is that the photoexcited light absorbing substance generates heat and deactivates, and the heat is lost. This is a so-called heat mode in which a reactant causes a chemical or physical change required for image formation by utilizing the above-mentioned method. In addition, there are special modes such as ablation in which substances are explosively scattered by the energy of light locally collected and multiphoton absorption in which one molecule absorbs many photons at a time, but these modes are omitted here.

【0007】上述の各モードを利用した露光プロセスを
フォントモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォ
ントモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目
的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子
のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。
例えばn個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考
える。フォントモード露光では光化学的相互作用を利用
しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要
請により1光子のエネルギーを足し併せて使用すること
ができない。つまり、何らかの反応を起こすためには
「1光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係
が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に
熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエ
ネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「n個
の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が
あれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱
拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部
分(反応点)から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光
励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄
積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次
の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つ
まり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量で
あっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と
低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果
が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。無論、
フォントモード露光では後続反応種の拡散の影響で似た
様な現象が起こる場合もあるが基本的には、このような
ことは起こらない。
[0007] The exposure processes utilizing the above-described modes are called font mode exposure and heat mode exposure. The technical difference between the font mode exposure and the heat mode exposure is whether or not the energy amount of several photons to be exposed can be added to the energy amount of the target reaction.
For example, consider a case where a certain reaction occurs using n photons. In the font mode exposure, photochemical interaction is used, so that the energy of one photon cannot be added and used due to the requirement of the law of conservation of quantum energy and momentum. That is, in order to cause a certain reaction, the relationship of “energy amount of one photon ≧ energy amount of reaction” is necessary. On the other hand, in heat mode exposure, heat is generated after light excitation, and light energy is converted into heat and used, so that the amount of energy can be added. Therefore, the relationship “energy amount of n photons ≧ energy amount of reaction” is sufficient. However, this energy addition is restricted by thermal diffusion. In other words, if the next photoexcitation-deactivation process occurs and heat is generated before heat escapes from the exposed portion (reaction point) of interest by thermal diffusion, the heat is reliably accumulated and added, and the temperature rises in that portion. Leads to. However, when the next heat is generated slowly, the heat escapes and is not accumulated. In other words, in the heat mode exposure, even if the total exposure energy is the same, the result is different between the case where the high energy light is irradiated for a short time and the case where the low energy light is irradiated for a long time. It becomes advantageous for accumulation of. Of course,
In the font mode exposure, a similar phenomenon may occur due to the influence of the diffusion of the subsequent reactive species, but basically, this does not occur.

【0008】即ち、感光材料の特性として見た場合、フ
ォントモードでは露光パワー密度(w/cm2)(=単
位時間当たりのエネルギー密度)に対し感光材料の固有
感度(画像形成に必要な反応のためのエネルギー量)は
一定となるが、ヒートモードでは露光パワー密度に対し
感光材料の固有感度が上昇することになる。従って、実
際に画像記録材料として実用上、必要な生産性を維持で
きる程度の露光時間を固定すると、各モードを比較した
場合、フォントモード露光では通常は約0.1mJ/c
2程度の高感度化が達成できるもののどんな少ない露
光量でも反応が起こるため、未露光部での低露光カブリ
の問題が生じ易い。これに対し、ヒートモード露光では
ある一定以上の露光量でないと反応が起こらず、また感
光材料の熱安定性との関係から通常は50mJ/cm2
程度が必要となるが、低露光カブリの問題が回避され
る。そして、事実上ヒートモード露光では感光材料の版
面での露光パワー密度が5000w/cm2以上が必要
であり、好ましくは10000w/cm2以上が必要と
なる。但し、ここでは詳しく述べなかったが5.0×1
5/cm2以上の高パワー密度レーザーを利用するとア
ブレーションが起こり、光源を汚す等の問題から好まし
くない。
That is, in terms of the characteristics of the photosensitive material, in the font mode, the intrinsic sensitivity of the photosensitive material (reaction required for image formation) is compared with the exposure power density (w / cm 2 ) (= energy density per unit time). Energy amount) is constant, but in the heat mode, the intrinsic sensitivity of the photosensitive material increases with respect to the exposure power density. Therefore, if the exposure time is fixed so that the productivity necessary for practical use as an image recording material can be maintained, the font mode exposure is usually about 0.1 mJ / c when comparing the modes.
Although a high sensitivity of about m 2 can be achieved, the reaction occurs even with any small amount of exposure, so that the problem of low-exposure fog in the unexposed area is likely to occur. On the other hand, in the heat mode exposure, a reaction does not take place unless the exposure amount exceeds a certain level, and usually 50 mJ / cm 2 in view of the thermal stability of the photosensitive material.
Although required, the problem of low exposure fog is avoided. And, in fact heat mode exposure requires exposure power density at the plate surface of the photosensitive material is 5000 W / cm 2 or more, preferably it is necessary to 10000 W / cm 2 or more. However, although not described in detail here, 5.0 × 1
When a high power density laser of 0 5 / cm 2 or more is used, ablation occurs, which is not preferable because of problems such as staining the light source.

【0009】本発明においては、支持体と感光層との間
に、中間層として、ラジカル重合性基を有する化合物を
配置することで、画像記録に用いられるヒートモード露
光による発熱により、中間層の内部でもラジカル重合性
基を有する化合物の重合反応が行われ、基板と感光層の
密着が向上する。特に、本発明の好ましい態様であるラ
ジカル重合反応性基を有する化合物がカチオン性基や酸
基を持つ場合には、加熱された領域におけるこれらの官
能基の働きにより、中間層と基板或いは支持体との相互
作用が強化され、密着性がさらに向上する。また、中間
層がカチオン性基、酸基、カルボン酸基、リン酸基、水
酸基、アミン、スルホン酸基等の親水性基を有すること
により、未露光部においては優れた現像性を示し、地汚
れ防止効果が発現される。
In the present invention, by disposing a compound having a radical polymerizable group as an intermediate layer between the support and the photosensitive layer, heat generation by heat mode exposure used for image recording causes heat generation of the intermediate layer. The polymerization reaction of the compound having a radical polymerizable group is also performed inside, and the adhesion between the substrate and the photosensitive layer is improved. In particular, when the compound having a radical polymerization reactive group, which is a preferred embodiment of the present invention, has a cationic group or an acid group, the action of these functional groups in the heated region causes the intermediate layer and the substrate or the support to act. Interaction is strengthened, and the adhesion is further improved. Further, since the intermediate layer has a hydrophilic group such as a cationic group, an acid group, a carboxylic acid group, a phosphoric acid group, a hydroxyl group, an amine, and a sulfonic acid group, it exhibits excellent developability in an unexposed area, A stain prevention effect is exhibited.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に以下に詳述する
中間層とヒートモード対応のネガ型感光層とを順次設け
てなる。また、必要に応じて、本発明の効果を損なわな
い範囲で、表面保護層、バックコート層等の公知の層を
設けることもできる。本発明における中間層は、陽極酸
化処理されたアルミニウム基板、或いは陽極酸化処理
(以下、AD処理と称する)後にケイ酸ソーダなどで親
水化処理されたアルミニウム基板上に設けることができ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor according to the invention is provided with an intermediate layer, which will be described in detail below, and a heat-mode-compatible negative photosensitive layer on a support in this order. If necessary, known layers such as a surface protective layer and a back coat layer may be provided as long as the effects of the present invention are not impaired. The intermediate layer in the present invention can be provided on an anodized aluminum substrate or an aluminum substrate that has been subjected to anodizing treatment (hereinafter referred to as AD treatment) and then subjected to hydrophilic treatment with sodium silicate or the like.

【0011】[中間層]最初に、本発明の平版印刷版原
版の特徴部分である中間層について説明する。本発明の
中間層に用いられるラジカル重合反応性基を有する化合
物として、特開平9−34104号公報の段落番号〔0
014〕〜〔0015〕に記載の親水性のエチレン性不
飽和結合を有する化合物を用いることができる。親水性
の化合物を用いることにより未露光部では優れた溶解性
を発現し、露光部では重合によって現像液の浸透性が抑
制され、接着性、密着性が向上する。また、露光時の発
熱により露光部においては重合が促進され、接着がより
強固となる。好ましい親水性のエチレン性不飽和結合を
有する化合物としては、密着性、現像性の観点からは、
リン酸基、カルボン酸基、水酸基、カチオン性基を有す
る化合物が好ましい。さらには、以下に示すエチレン性
不飽和結合を有する化合物であるポリマー等を使用する
ことができる。また、そのポリマーを合成する為のモノ
マーも中間層の形成に好適に使用することができる。本
発明に係る中間層の形成に用いられるポリマーは、その
主鎖構造が好ましくはアクリル系樹脂、スチレン系樹
脂、またはそれらの共重合体、ウレタン樹脂、ポリ
エステル系樹脂、もしくはポリアミド樹脂である。耐
刷性、および合成適性の点から好ましくはアクリル系
樹脂、スチレン系樹脂、またはそれらの共重合体であ
る。また、分子量については平版印刷版原版の性能設計
により任意に設定できる。重量平均分子量が低いと汚れ
性の点で好ましい結果を与え、高いと耐刷性が良くな
る。好ましい重量平均分子量としては、2,000〜1,
000,000、より好ましくは5,000〜100,0
00である。
[Intermediate Layer] First, the intermediate layer, which is a characteristic part of the lithographic printing plate precursor according to the invention, will be described. As the compound having a radical polymerization reactive group used in the intermediate layer of the present invention, JP-A-9-34104, paragraph [0]
014] to [0015], compounds having a hydrophilic ethylenically unsaturated bond can be used. By using a hydrophilic compound, excellent solubility is exhibited in the unexposed area, and in the exposed area, the permeability of the developer is suppressed by polymerization, and the adhesiveness and adhesion are improved. Further, polymerization is promoted in the exposed portion due to heat generated during exposure, and the adhesion becomes stronger. Preferred compounds having a hydrophilic ethylenically unsaturated bond include, from the viewpoint of adhesion and developability,
Compounds having a phosphoric acid group, a carboxylic acid group, a hydroxyl group, or a cationic group are preferred. Further, a polymer or the like which is a compound having an ethylenically unsaturated bond shown below can be used. Further, a monomer for synthesizing the polymer can also be suitably used for forming the intermediate layer. The polymer used for forming the intermediate layer according to the present invention preferably has an acrylic resin, a styrene resin, or a copolymer thereof, a urethane resin, a polyester resin, or a polyamide resin in its main chain structure. An acrylic resin, a styrene resin, or a copolymer thereof is preferable from the viewpoints of printing durability and synthesis suitability. Further, the molecular weight can be arbitrarily set by the performance design of the lithographic printing plate precursor. If the weight average molecular weight is low, favorable results are obtained in terms of stain resistance, and if the weight average molecular weight is high, printing durability is improved. Preferred weight average molecular weights are 2,000 to 1,
00000, more preferably 5,000 to 100,0
00.

【0012】これらの化合物中に存在するラジカル重合
反応性基としては、付加重合可能な不飽和結合(例えば
(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリルアミド基、
(メタ)アクリロニトリル基、アリル基、スチレン構
造、ビニルエーテル構造や、アセチレン構造等)、−S
H、−PH、SiH、−GeH、ジスルフィド構造等が
挙げられる。耐刷性の点から、付加重合可能な不飽和結
合基であることが好ましい。なお、ここで(メタ)アク
リル基とは、アクリル基またはメタアクリル基を表す。
また、中間層を構成する化合物には、前記ラジカル重合
反応性基に加えて、カチオン性基を分子内に有すること
が好ましい。
The radical polymerization reactive groups present in these compounds include unsaturated bonds capable of addition polymerization (for example, (meth) acryloyl group, (meth) acrylamide group,
(Meth) acrylonitrile group, allyl group, styrene structure, vinyl ether structure, acetylene structure, etc.), -S
H, -PH, SiH, -GeH, a disulfide structure and the like. From the viewpoint of printing durability, an unsaturated bond group capable of addition polymerization is preferable. Here, the (meth) acryl group represents an acryl group or a methacryl group.
In addition, the compound constituting the intermediate layer preferably has a cationic group in the molecule in addition to the radical polymerization reactive group.

【0013】カチオン性基としては、周期律表第V族あ
るいは第VI族の原子からなるカチオン性基が挙げら
れ、好ましくは窒素原子、リン原子あるいは硫黄原子か
らなるカチオン性基であり、より好ましくは窒素原子か
らなるカチオン性基である。
Examples of the cationic group include a cationic group composed of an atom of Group V or Group VI of the periodic table, preferably a cationic group composed of a nitrogen atom, a phosphorus atom or a sulfur atom, and more preferably. Is a cationic group consisting of a nitrogen atom.

【0014】以下に、本発明におけるカチオン性基およ
びラジカル重合反応性基を有するポリマーの具体的な合
成法を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。 アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、またはそれらの共
重合体 アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、またはそれらの共重
合体にカチオン性基およびラジカル重合反応性基を導入
する方法としては、下記−1)〜−5)等が挙げら
れる。
Hereinafter, specific methods for synthesizing a polymer having a cationic group and a radical polymerization reactive group according to the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto. Acrylic Resin, Styrene Resin, or Copolymer Thereof As a method for introducing a cationic group and a radical polymerization reactive group into an acrylic resin, styrene resin, or a copolymer thereof, the following -1) to -5) and the like.

【0015】−1)カチオン性基を有するアクリルま
たはスチレン系モノマーと、反応性官能基を少なくとも
1個有するアクリルまたはスチレン系モノマーを共重合
し、該反応性基を側鎖に有するポリマーとした後、得ら
れたポリマーに、該反応性官能基と反応しうる基とラジ
カル重合反応性基を同時に有する化合物を高分子反応さ
せ、ラジカル重合反応性基を導入する方法。カチオン性
基を有するアクリルまたはスチレン系モノマーとしては
下記一般式(1)〜(3)で表される化合物が挙げられ
る。
-1) An acrylic or styrene monomer having a cationic group and an acrylic or styrene monomer having at least one reactive functional group are copolymerized to form a polymer having the reactive group in a side chain. A method in which a compound having both a group capable of reacting with the reactive functional group and a radical polymerization reactive group at the same time is polymerized to the obtained polymer to introduce a radical polymerization reactive group. Examples of the acrylic or styrene-based monomer having a cationic group include compounds represented by the following general formulas (1) to (3).

【0016】[0016]

【化1】 Embedded image

【0017】式中、R1は水素原子またはメチル基、R2
は置換基を表す。R3は炭素原子数が1〜20までの置
換基を有していてもよいアルキル基、またはアラルキル
基を表す。Aは酸素原子、またはNR4を表す。(R4
水素原子、または炭素原子数が1〜10までの置換基を
有していてもよい炭化水素基を表す。)Jは単結合、ま
たは二価の連結基を、Dはカチオン性基を表す。Z-
ハロゲンイオン、C104 -、BF4 -、PF6 -、Sb
6 -、SO3 -、アルキルスルホン酸イオン、およびアリ
ールスルホン酸イオンからなる群から選ばれる一価の陰
イオンを表す。pは0〜4までの整数を表すが、pが2
〜4である場合にはR2は同一であってもよいし、互い
に異なっていてもよい。
In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2
Represents a substituent. R 3 represents an alkyl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group. A represents an oxygen atom or NR 4,. (R 4 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent having 1 to 10 carbon atoms.) J represents a single bond or a divalent linking group, and D represents a cationic group. Represents a group. Z - is a halogen ion, C10 4 -, BF 4 - , PF 6 -, Sb
Represents a monovalent anion selected from the group consisting of F 6 , SO 3 , alkyl sulfonate ions, and aryl sulfonate ions. p represents an integer of 0 to 4;
When it is 44, R 2 may be the same or different from each other.

【0018】R2としては、非金属原子からなる任意の
置換基を挙げることができるが、より好ましい置換基と
しては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子)、炭素原子数が1〜5までの置換基を
有していてもよいアルキル基、アルコキシル基が挙げら
れる。
As R 2 , any substituent consisting of a nonmetallic atom can be mentioned. More preferred substituents are a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom) and a carbon atom number. Is an alkyl group or an alkoxyl group which may have 1 to 5 substituents.

【0019】R3は炭素原子数が1〜20までの置換基
を有していてもよいアルキル基、またはアラルキル基を
表すが、好ましい具体例としては、メチル基、エチル
基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、ネオペンチル
基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、メトキシエチ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、カルボキシメチル
基、1,2−エポキシプルピル基、2−メチルチオエチ
ル基、2−(メトキシカルボニル)エチル基、4−クロ
ロヘキシル基、2−メチル−2−ペンテニル基、パーフ
ルオロヘキシル基、−CH2CH2SO3 -基(この場合、
-は不要)、テトラヒドロフルフリル基、ベンジル
基、4−(t−ブチル)ベンジル基、3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)ベンジル基、ナフト−2−イル−メ
チル基、フエネチル基等が挙げられる。
R 3 represents an alkyl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms or an aralkyl group. Preferred examples thereof include a methyl group, an ethyl group and an n-pentyl group. , I-pentyl, neopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, methoxyethyl, 2-hydroxypropyl, carboxymethyl, 1,2-epoxypropyl, 2-methylthioethyl, 2- (methoxy Carbonyl) ethyl group, 4-chlorohexyl group, 2-methyl-2-pentenyl group, perfluorohexyl group, -CH 2 CH 2 SO 3 - group (in this case,
Z - is not required), tetrahydrofurfuryl group, a benzyl group, 4-(t-butyl) benzyl group, 3,5-bis (trifluoromethyl) benzyl group, naphth-2-yl - methyl group, and phenethyl group No.

【0020】Jは単結合、または二価の連結基であり、
二価の連結基としては非金属原子からなる任意の連結基
を挙げることができる。より好ましい連結基としては、
−O−、−S−、−NR4−、−CO−、−SO2−、−
NR4CO−、−NR4COO−、または−NR4CON
4−(R4は一般式(1)におけると同義である。ただ
し、R4が複数個存在する場合には、それらは同一であ
ってもよいし、異なっていてもよい。)からなる群から
選ばれる基によって1回以上中断されていてもよく、あ
mた、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20ま
でのニ価の炭化水素基を挙げることができる。より好ま
しくは、中断も置換もされていない炭素原子1〜20ま
での炭化水素基である。
J is a single bond or a divalent linking group,
As the divalent linking group, any linking group consisting of a non-metallic atom can be exemplified. More preferred linking groups include
-O -, - S -, - NR 4 -, - CO -, - SO 2 -, -
NR 4 CO -, - NR 4 COO-, or -NR 4 CON
R 4 - (. R 4 has the same meaning as in general formula (1) where, if R 4 is present in plurality, they may be the same or different.) Consisting of It may be interrupted one or more times by a group selected from the group, and examples thereof include divalent hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. More preferably, it is an uninterrupted or unsubstituted hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms.

【0021】Dはカチオン性基を表し、具体的には下記
一般式(4)〜(6)で表されるカチオン性基である。
D represents a cationic group, specifically a cationic group represented by the following general formulas (4) to (6).

【0022】[0022]

【化2】 Embedded image

【0023】式中、R5〜R7はそれぞれ独立に水素原
子、または炭素原子数1〜20までの置換基を有してい
てもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基を表
し、R8は炭素原子数1〜20までの置換基を有してい
てもよいアルキリデン基を表す。R4〜R8は互いに連結
して、またはJの一部分と結合して環を形成してもよ
い。Y1は窒素原子またはリン原子を表し、Y2は硫黄原
子を表す。Z-は一般式(3)におけると同義である。
一般式(4)〜(6)で表されるカチオン性基の中で
も、合成が容易であることから、一般式(4)または
(5)で表され、さらにY1が窒素原子であるカチオン
性基が特に好ましい。
In the formula, R 5 to R 7 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms, and R 8 represents Represents an alkylidene group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms. R 4 to R 8 may be linked to each other or to a part of J to form a ring. Y 1 represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, and Y 2 represents a sulfur atom. Z - has the same meaning as in formula (3).
Among the cationic groups represented by the general formulas (4) to (6), the cationic group represented by the general formula (4) or (5), furthermore, Y 1 is a nitrogen atom because of easy synthesis. Groups are particularly preferred.

【0024】カチオン性基を有するアクリル、およびス
チレン系モノマーの具体例を以下に示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。(カチオン性基を有す
る単量体の具体例)
Specific examples of acrylic and styrene monomers having a cationic group are shown below, but the present invention is not limited to these. (Specific examples of monomers having a cationic group)

【0025】[0025]

【化3】 Embedded image

【0026】[0026]

【化4】 Embedded image

【0027】[0027]

【化5】 Embedded image

【0028】[0028]

【化6】 Embedded image

【0029】[0029]

【化7】 Embedded image

【0030】反応性官能基は少なくとも1個有するアク
リルまたはスチレン系モノマーとしては、下記一般式
(7)または(8)で表されるアクリル酸エステル、メ
タクリル酸エステル、アクリルアミド、メタクリルアミ
ドまたはスチレンの各誘導体を挙げることができる。
Examples of the acryl or styrene monomer having at least one reactive functional group include acrylate, methacrylate, acrylamide, methacrylamide and styrene represented by the following general formula (7) or (8). Derivatives can be mentioned.

【0031】[0031]

【化8】 Embedded image

【0032】式中、Eはヒドロキシル基、ハロゲン化カ
ルボニル基、カルボキシル基またはその塩、アミノ基、
エポキシ基、およびハロアルキル基からなる群から選ば
れる反応性官能基を表す。A、R1、R2、Jおよびpは
一般式(1)および(2)におけると同義である。
In the formula, E is a hydroxyl group, a carbonyl halide group, a carboxyl group or a salt thereof, an amino group,
It represents a reactive functional group selected from the group consisting of an epoxy group and a haloalkyl group. A, R 1 , R 2 , J and p have the same meanings as in formulas (1) and (2).

【0033】このような反応性官能基を少なくとも1個
有するアクリルまたはスチレン系モノマーの具体例とし
ては、「高分子データ・ハンドブック−基礎編−(高分
子学会編、培風館、1986)」記載のヒドロキシル
基、ハロゲン化カルボニル基、カルボキシル基またはそ
の塩、アミノ基、エポキシ基、およびハロアルキル基か
らなる群から選ばれる反応性官能基を有するアクリル
酸、メタクリル酸誘導体、アクリル酸エステル誘導体、
メタクリル酸エステル誘導体、アクリルアミド、メタク
リルアミド誘導体が挙げられる。
Specific examples of such an acrylic or styrene-based monomer having at least one reactive functional group include hydroxyl groups described in "Polymer Data Handbook-Basic Edition-(Polymer Society, Baifukan, 1986)". Group, a carbonyl halide group, a carboxyl group or a salt thereof, an amino group, an epoxy group, and an acrylic acid having a reactive functional group selected from the group consisting of a haloalkyl group, a methacrylic acid derivative, an acrylate derivative,
Examples include methacrylic acid ester derivatives, acrylamide, and methacrylamide derivatives.

【0034】反応性官能基を少なくとも1個有するアク
リルまたはスチレン系モノマーと、カチオン性基を有す
るアクリルまたはスチレン系モノマーを共重合し、該反
応性官能基を側鎖に有するポリマーとする場合には、反
応性官能基を少なくとも1個有するアクリルまたはスチ
レン系モノマーを単独で用いてもよいし、2種以上を組
み合わせて使用してもよい。また、カチオン性基を有す
るアクリルまたはスチレン系モノマーについても単独で
用いてもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよ
い。
When an acrylic or styrene monomer having at least one reactive functional group and an acrylic or styrene monomer having a cationic group are copolymerized to form a polymer having the reactive functional group in a side chain, Alternatively, an acrylic or styrene monomer having at least one reactive functional group may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. Further, an acrylic or styrene monomer having a cationic group may be used alone or in combination of two or more.

【0035】また、必要に応じて他のモノマーを1種以
上さらに組み合わせて共重合させ、3元以上のコポリマ
ーとすることができる。このようなモノマーとしては、
中間層にアルカリ現像性を付与するという観点から、酸
基を有するモノマーを用いることが好ましい。酸基とし
て好ましいのは、酸解離定数(pKa)が7以下の酸基
であり、より好ましくは、−COOH、−SO3H、−
OSO3H、−PO32、−OPO32、−CONHS
2−または−SO2NHSO2−である。このようなモ
ノマーの具体例としては、特開平11−84674号記
載のものを挙げることができる。共重合の方法としては
従来公知の重合法が使用でき、ポリマーの形態としては
ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合
体が好ましい。
Further, if necessary, one or more other monomers may be further combined and copolymerized to obtain a tertiary or higher copolymer. Such monomers include:
From the viewpoint of imparting alkali developability to the intermediate layer, it is preferable to use a monomer having an acid group. Preferred as acid groups, an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less of the acid groups, more preferably, -COOH, -SO 3 H, -
OSO 3 H, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2, -CONHS
O 2 — or —SO 2 NHSO 2 —. Specific examples of such a monomer include those described in JP-A-11-84674. As the copolymerization method, a conventionally known polymerization method can be used, and the form of the polymer is preferably a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.

【0036】前述の方法により得た反応性官能基を側鎖
に有するポリマーに、該反応性官能基と反応しうる基と
ラジカル重合反応性基を同時に有する化合物を、下記反
応から選択される方法によって高分子反応し、ラジカル
重合反応性基を導入することによって、本発明における
カチオン性基およびラジカル重合反応性基を有するポリ
マーが得られる。
The polymer having a reactive functional group in the side chain obtained by the above-described method is combined with a compound having a group capable of reacting with the reactive functional group and a radical polymerization reactive group simultaneously by a method selected from the following reactions. Thus, a polymer having a cationic group and a radical polymerization reactive group in the present invention is obtained by introducing a radical polymerization reactive group into a polymer.

【0037】(a)ポリマー側鎖のヒドロキシル基と、
ラジカル重合反応性基を有するイソシアネート類を用い
たウレタン化反応 (b)ポリマー側鎖のヒドロキシル基と、ラジカル重合
反応性基を有するカルボン酸、カルボン酸ハライド、ス
ルホン酸ハライド、またはカルボン酸無水物を用いたエ
ステル化反応 (c)ポリマー側鎖のカルボキシル基またはその塩と、
ラジカル重合反応性基を有するイソシアネート類を用い
たエステル化反応 (d)ポリマー側鎖のハロゲン化カルボニル基、カルボ
キシル基またはその塩と、ラジカル重合反応性基を有す
るアルコール類を用いたエステル化反応
(A) a hydroxyl group of a polymer side chain;
Urethane reaction using isocyanates having a radical polymerization reactive group (b) A hydroxyl group in a polymer side chain and a carboxylic acid, a carboxylic acid halide, a sulfonic acid halide or a carboxylic anhydride having a radical polymerization reactive group Esterification reaction used (c) a carboxyl group of a polymer side chain or a salt thereof,
Esterification reaction using isocyanates having a radical polymerization reactive group (d) Esterification reaction using a carbonyl group, a carboxyl group or a salt thereof in a polymer side chain and an alcohol having a radical polymerization reactive group

【0038】(e)ポリマー側鎖のハロゲン化カルボニ
ル基、カルボキシル基またはその塩と、ラジカル重合反
応性基を有するアミン類を用いたアミド化反応 (f)ポリマー側鎖のアミノ基と、ラジカル重合反応性
基を有するイソシアネート類を用いたウレア化反応 (g)ポリマー側鎖のアミノ基と、ラジカル重合反応性
基を有するカルボン酸、カルボン酸ハロゲン化物、スル
ホン酸ハロゲン化物、またはカルボン酸無水物を用いた
アミド化反応 (h)ポリマー側鎖のエポキシ基と、ラジカル重合反応
性基を有する各種求核性化合物との開環反応 (i)ポリマー側鎖のハロアルキル基と、ラジカル重合
反応性基を有するアルコール類とのエーテル化反応
(E) Amidation reaction using a carbonyl group, a carboxyl group or a salt thereof of a polymer side chain with an amine having a radical polymerization reactive group. (F) An amino group of a polymer side chain and radical polymerization Ureaization reaction using isocyanates having a reactive group (g) An amino group in a polymer side chain and a carboxylic acid, a carboxylic acid halide, a sulfonic acid halide, or a carboxylic anhydride having a radical polymerization reactive group Amidation reaction used (h) Ring-opening reaction between epoxy group on polymer side chain and various nucleophilic compounds having radical polymerization reactive group (i) Haloalkyl group on polymer side chain and radical polymerization reactive group Reaction with alcohols

【0039】−2)下記一般式(9)〜(11)で表
されるモノマーを重合しポリマーとした後、ハロアルキ
ル基とラジカル重合反応性基を同時に有する化合物を反
応させ、カチオン性基とラジカル重合反応性基を同時に
導入する方法。
-2) After polymerizing monomers represented by the following general formulas (9) to (11) to form a polymer, a compound having both a haloalkyl group and a radical polymerization reactive group is reacted to form a cationic group and a radical A method of simultaneously introducing a polymerization reactive group.

【0040】[0040]

【化9】 Embedded image

【0041】式中、R1、R2、A、J、およびpは一般
式(1)および(2)におけると同義である。Gは下記
一般式(12)または(13)で表される基を表す。
In the formula, R 1 , R 2 , A, J, and p have the same meanings as in formulas (1) and (2). G represents a group represented by the following general formula (12) or (13).

【0042】[0042]

【化10】 Embedded image

【0043】式中、R5、R6、Y1およびY2は一般式
(4)〜(6)におけると同義である。R5およびR6
互いに連結して、またはJの一部分と結合して環を形成
してもよい。一般式(12)または(13)で表される
基の中でも、合成が容易であることからY1が窒素原子
である基が特に好ましい。
In the formula, R 5 , R 6 , Y 1 and Y 2 have the same meanings as in formulas (4) to (6). R 5 and R 6 may be linked to each other or to a part of J to form a ring. Among the groups represented by the general formulas (12) and (13), a group in which Y 1 is a nitrogen atom is particularly preferable because of easy synthesis.

【0044】一般式(9)〜(11)で表されるモノマ
ー具体例としては、7−アミノ−3,7−ジメチルオク
チルメタクリレート、2−(5−エチル−2−ピリジ
ル)エチルアクリレート、2−(ジメチルアミノ)エチ
ルアクリレート、3−(ジメチルアミノ)フェニルアク
リレート、2−(ジメチルアミノ)−2−メチルプロピ
ルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−ピペリジノプロ
ピルアクリレート、(2−ジエチルアミノ)エチルメタ
クリレート、(ジシクロヘキシルアミノ)エチルメタク
リレート、N−(2−ジメチルアミノエチル)アクリル
アミド、N−2−(モルホリノエチル)アクリルアミ
ド、N−(3−ジエチルアミノプロピル)アクリルアミ
ド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロ
ピル)アクリルアミド、N−(1,3−ジメチルモルホ
リノブチル)アクリルアミド、N−(1,3−ジメチル
ピロリジノブチル)アクリルアミド、N−〔4−(フェ
ニルアミノ)フェニル〕アクリルアミド、N−(2−ジ
メチルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2,2
−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)メタクリル
アミド、アミノスチレン、N,N−ジメチルアミノスチ
レン、4−アミノ−3−ニトロスチレン、(アミノメチ
ル)スチレン、ビニルベンジルジアリルアミン、N−
(ビニルベンジル)ピペリジン、N−(ビニルベンジ
ル)モルホリン、(2−アミノエチル)スチレン、(ジ
エチルアミノエチル)スチレン、(ビニルフェニル)メ
チルスルフィド、(ビニルフェニル)メチルスルフィ
ド、ビニルピリジン、2−ビニル−5−メチルピリジ
ン、5−エチル−2−ビニルピリジン、5−ブロモ−3
−ビニルピリジン等が挙げられる。
Specific examples of the monomers represented by the general formulas (9) to (11) include 7-amino-3,7-dimethyloctyl methacrylate, 2- (5-ethyl-2-pyridyl) ethyl acrylate, (Dimethylamino) ethyl acrylate, 3- (dimethylamino) phenyl acrylate, 2- (dimethylamino) -2-methylpropyl acrylate, 2-hydroxy-3-piperidinopropyl acrylate, (2-diethylamino) ethyl methacrylate, Dicyclohexylamino) ethyl methacrylate, N- (2-dimethylaminoethyl) acrylamide, N-2- (morpholinoethyl) acrylamide, N- (3-diethylaminopropyl) acrylamide, N- (1,1-dimethyl-3-dimethylamino) Propyl) acrylamide, N- (1,3-dimethylmorpholinobutyl) acrylamide, N- (1,3-dimethylpyrrolidinobutyl) acrylamide, N- [4- (phenylamino) phenyl] acrylamide, N- (2-dimethylaminoethyl) methacryl Amide, N- (2,2
-Dimethyl-3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, aminostyrene, N, N-dimethylaminostyrene, 4-amino-3-nitrostyrene, (aminomethyl) styrene, vinylbenzyldiallylamine, N-
(Vinylbenzyl) piperidine, N- (vinylbenzyl) morpholine, (2-aminoethyl) styrene, (diethylaminoethyl) styrene, (vinylphenyl) methylsulfide, (vinylphenyl) methylsulfide, vinylpyridine, 2-vinyl-5 -Methylpyridine, 5-ethyl-2-vinylpyridine, 5-bromo-3
-Vinyl pyridine and the like.

【0045】一般式(8)または(9)で表されるモノ
マーは単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせ
て使用してもよい。また、必要に応じて他のモノマーを
1種以上さらに組み合わせて共重合させ、2元以上のコ
ポリマーとすることができる。このようなモノマーとし
ては、前述の酸基を有するモノマーが好ましい。
The monomers represented by formula (8) or (9) may be used alone or in combination of two or more. If necessary, one or more other monomers may be further combined and copolymerized to form a binary or more copolymer. As such a monomer, the aforementioned monomer having an acid group is preferable.

【0046】このように一般式(9)〜(11)で表さ
れるモノマーを重合することによって得たポリマーに対
し、ハロアルキル基とラジカル重合反応性基を同時に有
する化合物を反応させることによって、カチオン性基お
よびラジカル重合反応性基を同時に導入することがで
き、本発明におけるカチオン性基およびラジカル重合反
応性基を有するポリマーが得られる。この時、ハロアル
キル基とラジカル重合反応性基を同時に有する化合物は
単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いても
よい。
By reacting the polymer obtained by polymerizing the monomers represented by the general formulas (9) to (11) with a compound having both a haloalkyl group and a radical polymerization reactive group, a cation is obtained. The radical group and the radical polymerization reactive group can be introduced simultaneously, and the polymer having the cationic group and the radical polymerization reactive group in the present invention can be obtained. At this time, the compound having a haloalkyl group and a radical polymerization reactive group simultaneously may be used alone or in combination of two or more.

【0047】ハロアルキル基とラジカル重合反応性基を
同時に有する化合物の具体例としては、3−ブロモ−1
−プロピン、1−ブロモ−2−ブチン、6−ブロモ−1
−ヘキシン、2−ブロモエチルビニルエーテル、3−ヨ
ードプロピルビニルエーテル、6−ヨードヘキシルビニ
ルエーテル、2−ブロモエチルアクリレート、シンナミ
ルブロミド、クロロメチルスチレン、ビニルベンジルブ
ロミド、臭化アリル、ヨウ化アリル等が挙げられる。
Specific examples of the compound having both a haloalkyl group and a radical polymerization reactive group include 3-bromo-1
-Propyne, 1-bromo-2-butyne, 6-bromo-1
-Hexyne, 2-bromoethyl vinyl ether, 3-iodopropyl vinyl ether, 6-iodohexyl vinyl ether, 2-bromoethyl acrylate, cinnamyl bromide, chloromethylstyrene, vinylbenzyl bromide, allyl bromide, allyl iodide and the like. .

【0048】−3)下記一般式(14)または(1
5)で表されるモノマーを重合し、−CH2X基を側鎖
に有するポリマーとした後、下記一般式(16)〜(1
8)に表される化合物を反応させ、カチオン性基とラジ
カル重合反応性基を同時に導入する方法。
-3) The following general formula (14) or (1)
After polymerizing the monomer represented by 5) to obtain a polymer having a —CH 2 X group in the side chain, the following general formulas (16) to (1)
A method in which the compound represented by 8) is reacted to simultaneously introduce a cationic group and a radical polymerization reactive group.

【0049】[0049]

【化11】 Embedded image

【0050】式中、R1、R2、R5、R6、A、J、
1、Y2、およびpは一般式(1)〜(6)におけると
同義である。Xは塩素、臭素およびヨウ素よりなる群か
ら選ばれる原子を表す。Mはラジカル重合反応性基を表
す。
Wherein R 1 , R 2 , R 5 , R 6 , A, J,
Y 1 , Y 2 and p have the same meanings as in formulas (1) to (6). X represents an atom selected from the group consisting of chlorine, bromine and iodine. M represents a radical polymerization reactive group.

【0051】一般式(14)または(15)で表される
化合物の具体例としては、2−ブロモエチルアクリレー
ト、クロロメチルスチレン、ブロモメチルスチレン等が
挙げられる。一般式(14)または(15)で表される
モノマーは単独で使用してもよいし、2種以上を組み合
わせて使用してもよい。また、必要に応じて他のモノマ
ーを1種以上さらに組み合わせて共重合させ、2元以上
のコポリマーとすることができる。このようなモノマー
としては、前述の酸基を有するモノマーが好ましい。
Specific examples of the compound represented by the general formula (14) or (15) include 2-bromoethyl acrylate, chloromethylstyrene, bromomethylstyrene and the like. The monomers represented by the general formula (14) or (15) may be used alone or in combination of two or more. If necessary, one or more other monomers may be further combined and copolymerized to form a binary or more copolymer. As such a monomer, the aforementioned monomer having an acid group is preferable.

【0052】一般式(14)または(15)で表される
モノマーを重合することによって得た−CH2X基を側
鎖に有するポリマーに対し、該−CH2X基と反応しカ
チオン性基を発現する基とラジカル重合反応性基を同時
に有する一般式(16)〜(18)で表される化合物を
反応させることによって、カチオン性基およびラジカル
重合反応性基が同時にポリマー中に導入され、本発明に
おけるカチオン性基およびラジカル重合反応性基を有す
るポリマーが得られる。
The polymer having a —CH 2 X group in the side chain obtained by polymerizing the monomer represented by the general formula (14) or (15) reacts with the —CH 2 X group to form a cationic group. Is reacted with the compounds represented by the general formulas (16) to (18) having a radical polymerization reactive group at the same time, whereby a cationic group and a radical polymerization reactive group are simultaneously introduced into the polymer, A polymer having a cationic group and a radical polymerization reactive group in the present invention is obtained.

【0053】一般式(16)〜(18)で表される化合
物の具体例としては、一般式(9)〜(11)で表され
るモノマーの具体例として示した化合物の他、1−ジエ
チルアミノ−1−ヘキシン、2−ジメチルアミノエチル
ビニルエーテル、ジエタノールアミンモノビニルエーテ
ル、2−フェニルアミノエチルビニルエーテル、2−ピ
ロリジルエチルモノビニルエーテル、2−メチルチオエ
チルビニルエーテル、2−アリルチオエチルビニルエー
テル、3−ネオペンチルチオプロピルビニルエーテル、
3−ベンジルチオプロピルビニルエーテル、2−フェニ
ルチオエチルビニルエーテル、トリアリルアミン、3−
(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(4−メトキシ
フェニル)アクリロニトリル、ジアリルスルフィド、ピ
リジルアセチレン等が挙げられる。
Specific examples of the compounds represented by the general formulas (16) to (18) include, in addition to the compounds shown as specific examples of the monomers represented by the general formulas (9) to (11), 1-diethylamino -1-hexyne, 2-dimethylaminoethyl vinyl ether, diethanolamine monovinyl ether, 2-phenylaminoethyl vinyl ether, 2-pyrrolidylethyl monovinyl ether, 2-methylthioethyl vinyl ether, 2-allylthioethyl vinyl ether, 3-neopentylthiopropyl Vinyl ether,
3-benzylthiopropyl vinyl ether, 2-phenylthioethyl vinyl ether, triallylamine, 3-
(4-dimethylaminophenyl) -2- (4-methoxyphenyl) acrylonitrile, diallyl sulfide, pyridylacetylene and the like.

【0054】一般式(16)〜(18)で表される化合
物の中でも、合成が容易であることから、一般式(1
6)または(17)で表され、さらにY1が窒素原子で
ある化合物、あるいは一般式(18)で表される化合物
が特に好ましい。また、一般式(16)または(17)
で表される化合物は単独で使用してもよいし、2種以上
を組み合わせて使用してもよい。
Among the compounds represented by the general formulas (16) to (18), the compounds represented by the general formula (1)
A compound represented by formula (6) or (17), wherein Y 1 is a nitrogen atom, or a compound represented by formula (18) is particularly preferred. The general formula (16) or (17)
May be used alone or in combination of two or more.

【0055】−4)カチオン性基を有するモノマー
と、反応速度が比較的遅いラジカル重合反応性基を有す
るアクリルまたはスチレン系モノマーを共重合する方
法。カチオン性基を有するモノマーとしては、前述の一
般式(1)〜(3)で表されるものを挙げることができ
る。反応速度が比較的遅いラジカル重合反応性基を有す
るアクリルまたはスチレン系モノマーとしては、重合に
より主鎖骨格を形成するアクリルまたはスチレン構造
と、それよりも付加重合性の低い不飽和結合(例えば、
アリル基、アセチレン構造等)を有するモノマーが挙げ
られる。
-4) A method of copolymerizing a monomer having a cationic group and an acrylic or styrene monomer having a radical polymerization reactive group having a relatively slow reaction rate. Examples of the monomer having a cationic group include those represented by the aforementioned general formulas (1) to (3). The acrylic or styrene-based monomer having a radical polymerization reactive group having a relatively slow reaction rate includes an acrylic or styrene structure forming a main chain skeleton by polymerization, and an unsaturated bond having a lower addition polymerization property (for example,
Allyl group, acetylene structure, etc.).

【0056】該モノマーは、分子中に反応性の異なる少
なくとも2個のラジカル重合反応性基を有するが、カチ
オン性基を有するモノマーとの共重合においては、アク
リルまたはスチレン構造のラジカル反応性が高いため、
反応速度が比較的遅いラジカル重合反応性基は重合に与
らない。したがって、ゲル化を起こすことなく側鎖にラ
ジカル重合反応性基を導入でき、本発明におけるカチオ
ン性基およびラジカル反応性を有するポリマーが得られ
る。
The monomer has at least two radical polymerization reactive groups having different reactivities in the molecule, but when copolymerized with a monomer having a cationic group, the radical reactivity of an acryl or styrene structure is high. For,
A radical polymerization reactive group having a relatively slow reaction rate does not participate in the polymerization. Therefore, a radical polymerization reactive group can be introduced into a side chain without causing gelation, and a polymer having a cationic group and radical reactivity in the present invention can be obtained.

【0057】反応速度が比較的遅いラジカル重合反応性
基を有するアクリルまたはスチレン系モノマーの好まし
い具体例としては、アリルアクリレート、アリルメタク
リレート、アリルオキシメチルメタクリレート、アセチ
ルメチルメタクリレート、2−プロピニルアクリレー
ト、2−メチル−2−プロピニルアクリレート、3−ブ
チニルアクリレート、N−アリルアクリルアミド、N−
アリルメタクリルアミド、アリルスチレン、(ビニルフ
ェニル)アリルエーテル、(ビニルフェニル)アセチレ
ン等が挙げられる。
Preferred specific examples of the acrylic or styrenic monomer having a radical polymerization reactive group having a relatively slow reaction rate include allyl acrylate, allyl methacrylate, allyloxymethyl methacrylate, acetylmethyl methacrylate, 2-propynyl acrylate, 2-propynyl acrylate, Methyl-2-propynyl acrylate, 3-butynyl acrylate, N-allylacrylamide, N-
Allyl methacrylamide, allyl styrene, (vinyl phenyl) allyl ether, (vinyl phenyl) acetylene, etc. are mentioned.

【0058】カチオン性基を有するモノマーと、反応速
度が比較的遅いラジカル重合反応性基を有するモノマー
は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合
わせて使用してもよい。また、必要に応じて他のモノマ
ーを1種以上さらに組み合わせて共重合させ、3元以上
のコポリマーとすることができる。このようなモノマー
としては、中間層にアルカリ現像性を付与するという観
点から、前述の酸基を有するモノマーを用いることが好
ましい。
The monomer having a cationic group and the monomer having a radical polymerization reactive group having a relatively slow reaction rate may be used alone or in combination of two or more. If necessary, one or more other monomers may be further combined and copolymerized to form a tertiary or higher copolymer. As such a monomer, it is preferable to use the above-described monomer having an acid group from the viewpoint of imparting alkali developability to the intermediate layer.

【0059】−5)反応速度が比較的遅いラジカル重
合反応性基とカチオン性基を同時に有するモノマーを重
合させる方法。反応速度が比較的遅いラジカル重合反応
性基とカチオン性基を同時に有するモノマーとしては、
一般式(19)〜(21)で表される化合物を挙げるこ
とができる。
-5) A method of polymerizing a monomer having a radical polymerization reactive group and a cationic group having a relatively low reaction rate at the same time. As a monomer having both a radical polymerization reactive group and a cationic group having a relatively slow reaction rate,
Compounds represented by formulas (19) to (21) can be given.

【0060】[0060]

【化12】 Embedded image

【0061】式中、R1、R2、A、J、Z-、およびp
は一般式(1)〜(3)におけると同義である。R2
主鎖骨格を成すスチレン構造よりも反応性の低いラジカ
ル重合性基を有しているアルキル基、アラルキル基を表
す。D’は下記一般式(22)〜(24)で表されるカ
チオン性基を表す。
Wherein R 1 , R 2 , A, J, Z , and p
Has the same meaning as in formulas (1) to (3). R 2 represents an alkyl group or an aralkyl group having a radical polymerizable group having lower reactivity than the styrene structure forming the main chain skeleton. D ′ represents a cationic group represented by the following general formulas (22) to (24).

【0062】[0062]

【化13】 Embedded image

【0063】式中、Y1、Y2、およびZ-は一般式
(4)〜(6)におけると同義である。R11〜R12はそ
れぞれ独立に水素原子、または炭素原子数1〜20まで
の置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、
アラルキル基を表し、R13は炭素原子数1〜20までの
置換基を有していてもよいアルキリデン基を表す。ただ
し、一般式(22)においてはR10〜R12、一般式(2
3)においてはR10またはR13、一般式(24)におい
てはR10またはR11のうち少なくとも1つに主鎖骨格を
成すアクリルまたはスチレン構造よりも反応の低いラジ
カル重合性基を有している。また、可能であるならば、
10〜R13は互いに結合して、またはJのいずれかの部
分と結合して環を成形してもよい。
In the formula, Y 1 , Y 2 and Z have the same meanings as in formulas (4) to (6). R 11 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, or an alkyl group or an aryl group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms,
R 13 represents an aralkyl group, and R 13 represents an alkylidene group which may have a substituent having 1 to 20 carbon atoms. However, in the general formula (22), R 10 to R 12 and the general formula (2)
3) R 10 or R 13 in in formula (24) has a low radical polymerizable group reactive than acrylic or styrene structure forms a main chain skeleton to at least one of R 10 or R 11 I have. Also, if possible,
R 10 to R 13 may be bonded to each other or to any part of J to form a ring.

【0064】一般式(22)〜(24)で表されるカチ
オン性基の中でも、合成が容易であることから、一般式
(22)または(23)で表され、さらにY1が窒素原
子である基が特に好ましい。以下に反応速度が比較的遅
いラジカル重合反応性基とカチオン性基を同時に有する
モノマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
Among the cationic groups represented by the general formulas (22) to (24), since the synthesis is easy, the cationic group is represented by the general formula (22) or (23), and Y 1 is a nitrogen atom. Certain groups are particularly preferred. Specific examples of the monomer having a radical polymerization reactive group and a cationic group having a relatively low reaction rate at the same time are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0065】[0065]

【化14】 Embedded image

【0066】[0066]

【化15】 Embedded image

【0067】本発明の中間層を構成する化合物のうち、
基板との密着性及び現像性の観点から、ラジカル重合反
応性基に加え、リン或いはカチオン部を有する化合物が
好ましい。また、耐刷性、密着性の面からは、エチレン
性不飽和結合を有するポリマーが好ましく、更に好まし
くは、そのポリマーがアンモニウム、ピリジニウム塩構
造を有する化合物である。
Among the compounds constituting the intermediate layer of the present invention,
From the viewpoints of adhesion to the substrate and developability, a compound having phosphorus or a cation moiety in addition to the radical polymerization reactive group is preferred. Further, from the viewpoint of printing durability and adhesion, a polymer having an ethylenically unsaturated bond is preferable, and a compound having the ammonium or pyridinium salt structure is more preferable.

【0068】本発明の平版印刷版用原版における中間層
は、次のような方法で設けることができる。すなわち、
水もしくはメタノール、エタノールなどの有機溶剤また
はそれらの混合溶剤に上記ラジカル重合反応性基を有す
るポリマーを溶解させた溶液を、親水化処理を施したア
ルミニウム支持体上に塗布、乾燥して中間層を設ける方
法と、水又はメタノール、エタノールなどの有機溶剤も
しくはそれらの混合溶剤に上記ラジカル重合反応性基を
有するポリマーを溶解させた容液に、親水化処理を施し
たアルミニウム支持体を浸漬して該ラジカル重合反応性
基を有するポリマーを吸着させ、しかる後、水などによ
って、洗浄、乾燥して中間層を設ける方法である。前者
の方法では、上記ラジカル重合反応性基を0.005〜
10重量%の濃度で溶解した塗布液を種々の方法で塗布
できる。例えばバーコーター塗布、回転塗布、スプレー
塗布、カーテン塗布等のいずれの方法を用いてもよい。
また、本発明の化合物を溶解した溶液に浸漬後、水など
によって洗浄する方法では、溶液の濃度は0.01〜2
0重量%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬
温度は20℃〜90℃、好ましくは25℃〜50℃であ
り、浸漬時間は、0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜
1分である。
The intermediate layer in the lithographic printing plate precursor according to the present invention can be provided by the following method. That is,
A solution obtained by dissolving the polymer having a radical polymerization reactive group in an organic solvent such as water or methanol or ethanol or a mixed solvent thereof is applied to a hydrophilized aluminum support, and dried to form an intermediate layer. The method of providing, and immersing the aluminum support subjected to hydrophilization treatment in a solution in which the polymer having the radical polymerization reactive group is dissolved in water or an organic solvent such as methanol or ethanol or a mixed solvent thereof, and This is a method in which a polymer having a radical polymerization reactive group is adsorbed and then washed and dried with water or the like to form an intermediate layer. In the former method, the radical polymerization reactive group is added in an amount of 0.005 to
A coating solution dissolved at a concentration of 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used.
In the method of washing with water or the like after immersion in a solution in which the compound of the present invention is dissolved, the concentration of the solution is 0.01 to 2
0% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, the immersion temperature is 20 ° C to 90 ° C, preferably 25 ° C to 50 ° C, and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds. Seconds ~
One minute.

【0069】該中間層の乾燥後の被覆量は、2mg/m
2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5mg/
2〜100mg/m2、さらに好ましくは5mg/m2
〜50mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2
り少ないと充分な耐刷性能が得られない。また、200
mg/m2より多くても、充分な耐刷性能が得られな
い。本発明の平版印刷版用原版における中間層を設ける
際に使用する溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、
水酸化カリウム等の塩基性物質や、塩酸、硫酸、リン
酸、スルホン酸、カルボン酸等の酸性物質によりpHを
調節し、pH1〜12の範囲で使用することもできる。
また、塗布方法として、特開平7−314937号や特
開平5−278362号公報に記載される中間層の酸性
条件で塗布する方法や、シリケートをあらかじめ酸処理
しておく方法をとることで、密着性を一層高めることが
できる。なお、中間層には、平版印刷版用原版の調子再
現性改良の目的で、黄色染料を添加することもできる。
The coating amount of the intermediate layer after drying was 2 mg / m
2 to 200 mg / m 2 is suitable, preferably 5 mg / m 2.
m 2 ~100mg / m 2, more preferably 5 mg / m 2
5050 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. Also, 200
If the amount is more than mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The solution used when providing the intermediate layer in the lithographic printing plate precursor of the present invention is ammonia, triethylamine,
The pH can be adjusted with a basic substance such as potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, or carboxylic acid, and the pH can be used in the range of 1 to 12.
In addition, as a coating method, a method of applying under an acidic condition of an intermediate layer described in JP-A-7-314937 or JP-A-5-278362, or a method of previously treating a silicate with an acid is used to obtain a close contact. Properties can be further enhanced. A yellow dye may be added to the intermediate layer for the purpose of improving the tone reproducibility of the lithographic printing plate precursor.

【0070】また本発明の平版印刷版用原版における中
間層には、公知の、例えばカルボキシメチルセルロー
ス、デキストリン、アラビアゴム、2−アミノエチルホ
スホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、グリシ
ンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、トリエタノールア
ミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸
塩等を混合させることができる。本発明の中間層は、前
記ラジカル重合反応性基を有するポリマーを少なくとも
20重量%以上含むことが望ましく、より好ましくは5
0重量%以上、最も好ましくは80重量%以上である。
該中間層は、特開平9−34104号や特開平10−2
60536号公報に記載されるような他の成分、例え
ば、バインダーポリマーや光重合性化合物、光重合開始
剤等を目的に応じて添加することもできる。
In the intermediate layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a known phosphonic acid having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, glycine or β-alanine may be used. And a hydrochloride of an amine having a hydroxyl group such as a hydrochloride of triethanolamine. The intermediate layer of the present invention desirably contains at least 20% by weight or more of the polymer having the radical polymerization reactive group, more preferably 5% by weight or more.
It is at least 0% by weight, most preferably at least 80% by weight.
The intermediate layer is disclosed in JP-A-9-34104 and JP-A-10-2104.
Other components as described in Japanese Patent No. 60536, for example, a binder polymer, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and the like can be added according to the purpose.

【0071】[支持体]本発明の平版印刷版原版に使用
される支持体としては、親水化処理された支持体、特
に、寸法安定性がよく、比較的安価である親水化処理さ
れたアルミニウム板が好ましい。支持体に用いられる好
適なアルミニウム基板は、純アルミニウム板及びアルミ
ニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であ
り、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着された
プラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等
がある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%以下
である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純
アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精
錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有す
るものでもよい。このように本発明に適用されるアルミ
ニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来
より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用する
ことができる。前記アルミニウム板の厚みは、およそ
0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜0.4
mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmである。
[Support] As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a support subjected to hydrophilic treatment, in particular, a hydrophilic treated aluminum which has good dimensional stability and is relatively inexpensive. Plates are preferred. A suitable aluminum substrate used for the support is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate is approximately 0.1 to 0.6 mm, preferably 0.15 to 0.4 mm.
mm, particularly preferably 0.2 to 0.3 mm.

【0072】本発明の平版印刷版原版に用いられる支持
体は、以下のような工程により親水か処理されたものが
好ましい。アルミニウム板はまず、粗面化処理される
が、粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を
除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカ
リ水溶液等による脱脂処理が行われる。アルミニウム板
の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、
例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を
溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる
方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公
知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗
面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流に
より行う方法がある。また、特開昭54−63902号
公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も
利用することができる。この様に粗面化されたアルミニ
ウム板は、所望により、アルカリエッチング処理、中和
処理を経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽
極酸化処理を施す。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それ
らの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められ
る。
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is preferably one that has been subjected to hydrophilic treatment by the following steps. The aluminum plate is first subjected to a surface roughening treatment. Prior to the surface roughening, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an aqueous alkali solution for removing rolling oil on the surface is performed. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods.
For example, it is performed by a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. In addition, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used. The aluminum plate thus roughened is subjected to an anodic oxidation treatment, if necessary, through alkali etching treatment and neutralization treatment to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, phosphoric acid,
Oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0073】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、より好
ましくは2.0〜6.0g/m2 の範囲である。陽極酸
化被膜が1.0g/m2 未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は
平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電
気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2
の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C.
Current density 5 to 60 A / dm 2, voltage 1 to 100 V, which is an electrolyzing time of 10 seconds to 5 minutes. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide coating is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, and the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing. "Scratch dirt" is likely to occur. Although such anodizing treatment is performed on a surface used for printing of the support of lithographic printing plates, the back around the electric lines of force, 0.01 to 3 g / m 2 on the back surface
Is generally formed.

【0074】支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化
処理の後に施されるものであり、従来より知られている
処理法が用いられる。このような親水化処理としては、
米国特許第2,714,066号、同第3,181,4
61号、第3,280,734号及び第3,902,7
34号公報に開示されているようなアルカリ金属ケイ酸
塩(例えば、ケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この
方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸
漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭36
−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸
カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第
4,153,461号、同第4,689,272号公報
に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理す
る方法等が用いられる。これらの中で、本発明において
特に好ましい親水化処理はケイ酸塩処理である。ケイ酸
塩処理について、以下に説明する。
The surface of the support is made hydrophilic after the anodic oxidation treatment, and a conventionally known treatment method is used. As such a hydrophilic treatment,
U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,4
No. 61, No. 3,280,734 and No. 3,902,7
There is an alkali metal silicate (for example, an aqueous solution of sodium silicate) as disclosed in JP-A-34. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, Tokuboku Sho 36
Potassium fluoride zirconate disclosed in U.S. Pat. No. 2,220,632 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272. A method of treating with polyvinyl phosphonic acid is used. Among these, a particularly preferred hydrophilization treatment in the present invention is a silicate treatment. The silicate treatment will be described below.

【0075】上述の如き処理を施したアルミニウム板の
陽極酸化皮膜を、アルカリ金属ケイ酸塩が0.1〜30
重量%、好ましくは0.5〜10重量%であり、25℃
でのpHが10〜13である水溶液に、例えば15〜8
0℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属ケイ酸
塩水溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0
より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用い
られるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用され
る。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高くするため
に使用される水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の
処理液にアルカリ土類金属塩もしくは第IVB族金属塩を
配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カ
ルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝
酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸
塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げ
られる。第IVB族金属塩として、四塩化チタン、三塩化
チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、
硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、
二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化
ジルコニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類
金属塩もしくは、第IVB族金属塩は単独又は2以上組み
合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ま
しい範囲は0.01〜10重量%であり、更に好ましい
範囲は0.05〜5.0重量%である。ケイ酸塩処理に
より、アルミニウム板表面上の親水性が一層改善される
ため、印刷の際、インクが非画像部に付着しにくくな
り、汚れ性能が向上する。
The anodic oxide film of the aluminum plate treated as described above is coated with an alkali metal silicate of 0.1 to 30%.
% By weight, preferably 0.5 to 10% by weight,
Aqueous solution having a pH of 10 to 13, for example, 15 to 8
Immerse at 0 ° C for 0.5-120 seconds. If the pH of the aqueous alkali metal silicate solution is lower than 10, the solution gels and 13.0.
If it is higher, the oxide film will be dissolved. As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. Hydroxides used to increase the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt may be added to the above-mentioned processing solution. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. No. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium titanium oxalate,
Titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride oxide,
Zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride and the like can be mentioned. Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.01 to 10% by weight, and the more preferred range is 0.05 to 5.0% by weight. Since the silicate treatment further improves the hydrophilicity on the aluminum plate surface, the ink hardly adheres to the non-image area during printing, and the stain performance is improved.

【0076】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開
平5−45885号公報記載の有機高分子化合物および
特開平6−35174号公報記載の有機または無機金属
化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化
物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆
層のうち、Si(OCH3 4 、Si(OC
2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC
4 9 4 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手
し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像
性に優れており特に好ましい。
On the back surface of the support, a back coat is provided if necessary. Examples of the back coat include a coating comprising a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Layers are preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC
2 H 5) 4, Si ( OC 3 H 7) 4, Si (OC
Alkoxy compounds of silicon such as 4 H 9 ) 4 are inexpensive and readily available, and a coating layer of a metal oxide provided therefrom is particularly preferred because of its excellent development resistance.

【0077】[感光層]本発明の平版印刷版原版では、
前記支持体上に中間層を設け、さらに、I)赤外線吸収
剤、II)重合開始剤、及び、III)重合性の不飽和基を
有する化合物を含有し、赤外線レーザーで記録可能な感
光層を設ける。
[Photosensitive layer] In the lithographic printing plate precursor according to the invention,
An intermediate layer is provided on the support, and further, a photosensitive layer containing I) an infrared absorber, II) a polymerization initiator, and III) a compound having a polymerizable unsaturated group and recordable by an infrared laser is provided. Provide.

【0078】以下に、感光層の他の成分について説明す
る。感光層を構成する組成物は、I)赤外線吸収剤、I
I)重合開始剤、III)重合性の不飽和基を有する化合
物、及び、好ましくは、IV)水不溶性且つアルカリ水溶
液可溶性のバインダーを含有する熱(光)重合性組成物
である。本発明に用いることのできる熱重合性組成物と
しては、例えば、特開平8−108621号、特開平9
−34110号、特開平7−306528号の各公報に
記載されるような感光、感熱性画像記録層を構成する組
成物が挙げられる。
Hereinafter, other components of the photosensitive layer will be described. The composition constituting the photosensitive layer includes: I) an infrared absorber;
It is a heat (photo) polymerizable composition containing I) a polymerization initiator, III) a compound having a polymerizable unsaturated group, and preferably, IV) a binder insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution. Examples of the thermopolymerizable composition that can be used in the present invention include JP-A-8-108621 and JP-A-9-108621.
And JP-A-7-306528, for example, a composition constituting a light-sensitive and heat-sensitive image recording layer.

【0079】I)赤外線吸収剤 本発明において、感光層に含まれる赤外線吸収剤は、赤
外線レーザの照射により熱を発生する光熱変換機能を有
する物質である。本発明において使用される赤外線吸収
剤は、波長760nmから1200nmに吸収極大を有
する染料又は顔料であることが好ましい。
I) Infrared absorbent In the present invention, the infrared absorbent contained in the photosensitive layer is a substance having a photothermal conversion function of generating heat by irradiation with an infrared laser. The infrared absorber used in the present invention is preferably a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

【0080】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures such as "Dye Handbook" (edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan, 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes Is mentioned.

【0081】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, etc .;
No. 96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
No. 94595, etc., methine dyes described in
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in No. 12792, etc.,
Cyanine dyes described in British Patent 434,875 and the like can be mentioned.

【0082】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted aryl benzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169) described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranyl compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethinethiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used.

【0083】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
As another preferred example of the dye, US Pat. No. 4,756,993 discloses a compound represented by the formula (I):
Near-infrared absorbing dyes described as (II) can be mentioned.

【0084】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シ
アニン色素が好ましく、特に下記一般式(I)で示され
るシアニン色素が最も好ましい。
Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes. Further, a cyanine dye is preferable, and a cyanine dye represented by the following general formula (I) is most preferable.

【0085】[0085]

【化16】 Embedded image

【0086】一般式(I)中、X1は、ハロゲン原子、
またはX2−L1を示す。ここで、X2は酸素原子また
は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭
化水素基を示す。R1およびR2は、それぞれ独立に、炭
素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の
保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上
の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2
とは互いに結合し、5員環または6員環を形成している
ことが特に好ましい。
In the general formula (I), X 1 is a halogen atom,
Or an X 2 -L 1. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the viewpoint of storage stability of a photosensitive layer coating liquid, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon group having two or more carbon atoms, further, R 1 and R 2
And particularly preferably combine with each other to form a 5- or 6-membered ring.

【0087】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数12個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、
カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R
7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、
水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示
す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。ま
た、Z1-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のい
ずれかにスルホ基が置換されている場合は、Z1-は必要
ない。好ましいZ1-は、感光層塗布液の保存安定性か
ら、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロ
ボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、
およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩
素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、お
よびアリールスルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred examples of the substituent include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different, and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms,
Examples include a carboxyl group and a sulfo group. R 5 , R 6 , R
7 and R 8 may be the same or different,
It represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the viewpoint of availability of raw materials, a hydrogen atom is preferable. Z 1- represents a counter anion. However, when any of R 1 to R 8 is substituted with a sulfo group, Z 1- is not required. Preferred Z 1− is, from the storage stability of the photosensitive layer coating solution, a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion,
And sulfonate ions, particularly preferably perchlorate ion, hexafluorophosphate ion and arylsulfonate ion.

【0088】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例として
は、特願平11−310623号明細書の段落番号[0
017]〜[0019]に記載されたものを挙げること
ができる。
In the present invention, specific examples of the cyanine dye represented by formula (I) which can be suitably used include paragraph [0] of Japanese Patent Application No. 11-310623.
017] to [0019].

【0089】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
The pigment used in the present invention includes:
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used.

【0090】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyeing lake pigments,
Azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0091】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0092】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
If it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution of the image-sensitive layer.

【0093】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986).

【0094】これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一
の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加して
もよいが、ネガ型平版印刷版原版を作成した際に、感光
層の波長760nm〜1200nmの範囲における吸収
極大での光学濃度が、0.1〜3.0の間にあることが
好ましい。この範囲をはずれた場合、感度が低くなる傾
向がある。光学濃度は前記赤外線吸収剤の添加量と記録
層の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度は両
者の条件を制御することにより得られる。記録層の光学
濃度は常法により測定することができる。測定方法とし
ては、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後
の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決
定された厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度計で
測定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に記
録層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられ
る。
These infrared absorbers may be added to the same layer as the other components, or may be added to another layer provided separately. However, when the negative type lithographic printing plate precursor is prepared, Preferably, the optical density of the photosensitive layer at the absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is between 0.1 and 3.0. Outside of this range, sensitivity tends to decrease. Since the optical density is determined by the amount of the infrared absorbing agent added and the thickness of the recording layer, a predetermined optical density can be obtained by controlling both conditions. The optical density of the recording layer can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a transparent or white support, a coating layer after drying is formed to a recording layer having a thickness appropriately determined in a range necessary for a lithographic printing plate, and a transmission type optical densitometer is used. Examples include a method of measuring, a method of forming a recording layer on a reflective support such as aluminum, and measuring a reflection density.

【0095】II)重合開始剤 重合開始剤は、前記I)赤外線吸収剤と組み合わせて用
い、赤外線レーザを照射した際に赤外線吸収剤が発生し
た熱エネルギーによりラジカルを発生し、III)重合性
の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進させる化
合物を指す。なお、本発明において、重合開始剤とは、
前記熱エネルギーにより分解し、ラジカルなどの重合開
始成分を生成するもののみならず、赤外線レーザの光エ
ネルギーそのものにより開始剤として機能するもの、或
いは、熱及び光の双方のエネルギーにより重合開始剤と
して機能するものを包含する。重合開始剤としては、公
知の熱重合開始剤、赤外線感応性の光重合開始剤などを
選択して使用することができ、例えば、オニウム塩、ト
リハロメチル基を有するトリアジン化合物、過酸化物、
アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノンジアジドなど
が挙げられるが、オニウム塩が高感度であり、好まし
い。本発明において重合開始剤として好適に用い得るオ
ニウム塩について説明する。好ましいオニウム塩として
は、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩
が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は
酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能す
る。本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下
記一般式(III)〜(V)で表されるオニウム塩であ
る。
II) Polymerization Initiator The polymerization initiator is used in combination with the above-mentioned I) infrared absorber, and generates a radical by thermal energy generated by the infrared absorber when irradiated with an infrared laser. A compound that initiates and promotes the polymerization of a compound having an unsaturated group. In the present invention, the polymerization initiator,
Not only those that decompose by the thermal energy and generate polymerization initiator components such as radicals, but also those that function as initiators by the light energy of the infrared laser itself, or that function as polymerization initiators by both heat and light energy To include. As the polymerization initiator, known thermal polymerization initiators, infrared-sensitive photopolymerization initiators and the like can be selected and used, for example, onium salts, triazine compounds having a trihalomethyl group, peroxides,
Examples thereof include an azo-based polymerization initiator, an azide compound, and a quinonediazide. Onium salts are preferred because of their high sensitivity. The onium salt that can be suitably used as a polymerization initiator in the present invention will be described. Preferred onium salts include iodonium salts, diazonium salts, and sulfonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators. Onium salts suitably used in the present invention are onium salts represented by the following general formulas (III) to (V).

【0096】[0096]

【化17】 Embedded image

【0097】式(III)中、Ar11とAr12は、それぞ
れ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20個
以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有
する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニ
トロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子
数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個
以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスル
ホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表
し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォ
スフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンで
ある。
In the formula (III), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. When the aryl group has a substituent, preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a 12 or less carbon atom. Aryloxy groups. Z 11- represents a counter ion selected from the group consisting of a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, and is preferably a perchlorate ion or a hexafluorophosphate. And arylsulfonate ions.

【0098】式(IV)中、Ar21は、置換基を有してい
ても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下
のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキ
シ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素
原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数1
2個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12個
以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21 -はZ11-
と同義の対イオンを表す。
In the formula (IV), Ar 21 represents an optionally substituted aryl group having 20 or less carbon atoms. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and a 12 or less carbon atom. Alkylamino group, dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, 1 carbon atom
An arylamino group having 2 or less or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms is exemplified. Z 21 - is Z 11-
Represents a counter ion having the same meaning as

【0099】式(V)中、R31、R32及びR33は、それ
ぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していて
も良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下の
アルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオン
を表す。
In the formula (V), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, and an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .

【0100】本発明において、ラジカル発生剤として好
適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、
特願平11−310623号明細書の段落番号[003
0]〜[0033]に記載されたものを挙げることがで
きる。
In the present invention, specific examples of onium salts that can be suitably used as a radical generator include:
Paragraph number [003 of Japanese Patent Application No. 11-310623]
0] to [0033].

【0101】また、特開平9−34110号公報の段落
番号[0012]〜[0050]に記載の一般式(I)
〜(IV)で表されるオニウム塩、特開平8−10862
1公報の段落番号[0016]に記載の熱重合開始剤な
どの公知の重合開始剤も好ましく用いられる。本発明に
おいて重合開始剤として用いられるラジカル発生剤は、
極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、
さらに360nm以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、画像形成材
料の取り扱いを白灯下で実施することができる。
Also, general formulas (I) described in paragraphs [0012] to [0050] of JP-A-9-34110 are disclosed.
-Onium salts represented by formulas (IV) to (IV):
Known polymerization initiators such as the thermal polymerization initiator described in Paragraph No. [0016] of JP-A-1 (1998) are also preferably used. The radical generator used as a polymerization initiator in the present invention,
Preferably, the maximum absorption wavelength is 400 nm or less,
Further, the thickness is preferably 360 nm or less. By setting the absorption wavelength in the ultraviolet region, the image forming material can be handled under a white light.

【0102】III)重合性の不飽和基を有する化合物 本発明に使用される重合性の不飽和基を有する化合物
は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有す
る付加重合性化合物であり、好ましくは、末端エチレン
性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有
する化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産業
分野において広く知られるものであり、本発明において
はこれらを特に限定無く用いることができる。これら
は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、
3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならび
にそれらの共重合体などの化学的形態をもつものを包含
する。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽
和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)や、そのエステル類、アミド類があげられ、好まし
くは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物
とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化
合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基
や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する
不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは
多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、
単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応
物等も好適に使用される。
III) Compound Having a Polymerizable Unsaturated Group The compound having a polymerizable unsaturated group used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, Preferably, it is selected from compounds having at least one, and preferably two or more, terminal ethylenically unsaturated bonds. Such compounds are widely known in the industrial field, and they can be used in the present invention without any particular limitation. These are, for example, monomers, prepolymers, ie dimers,
Includes those having chemical forms such as trimers and oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters and amides thereof, and are preferred. As the ester, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group, an addition reaction product of an amide with a monofunctional or polyfunctional isocyanate, an epoxy,
A dehydration condensation product with a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.

【0103】また、イソシアナト基や、エポキシ基、等
の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステ
ル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、
アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、
トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カ
ルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能の
アルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も
好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボ
ン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニル
エーテル等に置き換えた化合物群を使用する事も可能で
ある。
Further, unsaturated carboxylic esters, amides and monofunctional or polyfunctional alcohols having an electrophilic substituent such as an isocyanato group or an epoxy group,
Amines, addition products with thiols, halogen groups,
Substitution products of unsaturated carboxylic esters and amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds in which unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like is substituted for the above unsaturated carboxylic acid.

【0104】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーとしては、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、イタコン酸エステル、
クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイ
ン酸エステル等が挙げられ、その具体例は、本発明者ら
が先に提案した特願2000−73858号、明細書の
段落番号〔0089〕〜〔0093〕に記載されるもの
を挙げることができる。
The monomers of the ester of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylates, methacrylates, itaconic esters,
Examples thereof include crotonic acid esters, isocrotonic acid esters, and maleic acid esters, and specific examples thereof are described in Japanese Patent Application No. 2000-73858 previously proposed by the present inventors, paragraphs [0089] to [0093] of the specification. Mention may be made of those described.

【0105】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926、特公昭51−47334、特開
昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭59−5240、特開昭59−524
1、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。さらに、前述のエステ
ルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240 and JP-A-59-5240. 59-524
1, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Further, the above-mentioned ester monomers can be used as a mixture.

【0106】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like. Examples of other preferred amide-based monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

【0107】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式(2)で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。
A urethane-based addition-polymerizable compound produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups per molecule, to which a hydroxyl-containing vinyl monomer represented by the following general formula (2) is added. Examples include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups.

【0108】[0108]

【化18】 Embedded image

【0109】一般式(2)中、RおよびR’はHあるい
はCH3を示す。また、特開昭51−37193号、特
公平2−32293号、特公平2−16765号に記載
されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭5
8−49860号、特公昭56−17654号、特公昭
62−39417、特公昭62−39418号記載のエ
チレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好
適である。
In the general formula (2), R and R ′ represent H or CH 3 . Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765, and
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A-8-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, and JP-B-62-39418 are also suitable.

【0110】さらに、特開昭63−277653,特開
昭63−260909号、特開平1−105238号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常
に感光スピードに優れた感光性組成物を得ることができ
る。
Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277563, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238. Can obtain a photosensitive composition having an extremely high photosensitive speed.

【0111】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1
984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして
紹介されているものも使用することができる。
As another example, see JP-A-48-641.
No. 83, JP-B-49-43191, JP-B-52-30
No. 490, polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in each publication. Also,
JP-B-46-43946, JP-B-1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
Vinyl phosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Further, the Journal of the Adhesion Society of Japan vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1
984) as photocurable monomers and oligomers.

【0112】これらの、付加重合性化合物について、ど
の様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、
添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な
感材の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば
次のような観点から選択される。感光スピードの点では
1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多
くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわ
ち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のもの
が良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例え
ばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレ
ン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用す
ることで、感光性と、強度を両方を調節する方法も有効
である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物
は感光スピードや、膜強度に優れる反面、現像スピード
や現像液中での析出といった点で好ましく無い場合があ
る。
Regarding these addition polymerizable compounds, what kind of structure is used, whether they are used alone or in combination,
Details of the method of use, such as the amount of addition, can be arbitrarily set in accordance with the final performance design of the light-sensitive material. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of the photosensitive speed, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or more functional structure is preferable. In order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functional groups are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylates, methacrylates, styrene compounds, vinyl ethers) It is also effective to adjust both the photosensitivity and the intensity by using the compound (1) in combination. A compound having a large molecular weight or a compound having a high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but may not be preferable in terms of developing speed and precipitation in a developing solution.

【0113】また、感光性組成物中の他の成分(例えば
バインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶
性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法
は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、
2種以上の併用により相溶性を向上させうる事がある。
また、平版印刷版用原版とする場合、後述の支持体、オ
ーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の
構造を選択することもあり得る。感光性組成物中の付加
重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有
利であるが、多すぎる場合には、好ましくない相分離が
生じたり、感光性組成物の粘着性による製造工程上の問
題(例えば、感材成分の転写、粘着に由来する製造不
良)や、平版印刷版用原版とした場合、現像液からの析
出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、好
ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して5
〜80重量%、好ましくは25〜75重量%である。ま
た、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。
そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する
重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面
粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に
選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといっ
た層構成・塗布方法も実施しうる。
Also, the selection and use of the addition polymerization compound is important for the compatibility and dispersibility with other components (eg, binder polymer, polymerization initiator, colorant, etc.) in the photosensitive composition. Factors, such as the use of low-purity compounds,
The compatibility may be improved by using two or more kinds in combination.
In the case of a lithographic printing plate precursor, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of a support, an overcoat layer, and the like described below. Regarding the compounding ratio of the addition polymerizable compound in the photosensitive composition, the larger the proportion, the more advantageous in sensitivity. However, if the proportion is too large, undesired phase separation may occur or the production of the photosensitive composition due to the stickiness may occur. There may be problems in the process (for example, poor production resulting from transfer of the photosensitive material components and adhesion) and problems such as precipitation from a developing solution when used as a lithographic printing plate precursor. From these viewpoints, the preferred compounding ratio is often 5 to the total components of the composition.
8080% by weight, preferably 25-75% by weight. These may be used alone or in combination of two or more.
In addition, the method of using the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoints of the degree of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface tackiness, etc. Depending on the case, a layer structure and a coating method such as undercoating and overcoating may be performed.

【0114】IV)水不溶性且つアルカリ水溶液可溶性の
バインダー 本発明の平版印刷版原版においては、感光層にさらにバ
インダーポリマーを使用することが好ましい。バインダ
ーとしては線状有機高分子重合体を含有させることが好
ましい。このような「線状有機高分子重合体」として
は、どれを使用しても構わない。好ましくは水現像ある
いは弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカ
リ水可溶性または膨潤性である線状有機高分子重合体が
選択される。線状有機高分子重合体は、組成物の皮膜形
成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機
溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例え
ば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能
になる。このような線状有機高分子重合体としては、側
鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭5
9−44615号、特公昭54−34327号、特公昭
58−12577号、特公昭54−25957号、特開
昭54−92723号、特開昭59−53836号、特
開昭59−71048号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。
IV) Binder Insoluble in Water and Soluble in Alkaline Aqueous Solution In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferred to further use a binder polymer in the photosensitive layer. It is preferable to contain a linear organic high molecular polymer as the binder. Any of such “linear organic high molecular polymers” may be used. Preferably, a water-soluble or weakly alkaline water-soluble or swellable linear organic high molecular polymer that enables water development or weakly alkaline water development is selected. The linear organic high molecular polymer is selected and used not only as a film forming agent of the composition but also as a water, weakly alkaline water or organic solvent developing agent. For example, when a water-soluble organic high molecular polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic high molecular polymer include an addition polymer having a carboxylic acid group in a side chain, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
Nos. 9-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, and JP-A-59-71048. Those described, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, and the like. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful.

【0115】特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アク
リレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体は、
膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適で
ある。
In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / Other addition-polymerizable vinyl monomers as needed) copolymer,
It is suitable because it has an excellent balance of film strength, sensitivity and developability.

【0116】また、特公平7−12004号、特公平7
−120041号、特公平7−120042号、特公平
8−12424号、特開昭63−287944号、特開
昭63−287947号、特開平1−271741号、
特願平10−116232号等に記載される、酸基を含
有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度
に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、特開平11−171907記載のアミド基を有す
るバインダーは優れた現像性と膜強度をあわせもち、好
適である。
Further, Japanese Patent Publication No. 7-12004, Japanese Patent Publication No.
JP-A-120041, JP-B-7-120042, JP-B-8-12424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287947, JP-A-1-271174,
The urethane-based binder polymer containing an acid group described in Japanese Patent Application No. 10-116232 is very excellent in strength, and therefore is advantageous in terms of printing durability and low exposure suitability.
Further, a binder having an amide group described in JP-A-11-171907 is suitable because it has excellent developability and film strength.

【0117】さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)―プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は全組成物中に任意な量を混和させることができる。し
かし90重量%を超える場合には形成される画像強度等
の点で好ましい結果を与えない。好ましくは30〜85
重量%である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。
Further, as the water-soluble linear organic polymer, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful. These linear organic high molecular polymers can be incorporated in any amount in the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, no favorable result is obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably 30 to 85
% By weight. The weight ratio of the photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond and the linear organic high molecular polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3.

【0118】本発明のバインダーポリマーは実質的に水
に不溶でアルカリ水溶液に可溶なものが用いられる。こ
のため、現像液として、環境上好ましくない有機溶剤を
用いないかもしくは非常に少ない使用量に制限できる。
このようなバインダーポリマーの酸価(ポリマーlgあ
たりの酸含率を化学等量数で表したもの)と分子量は画
像強度と現像性の観点から適宜選択される。好ましい酸
価は、0.4〜3.Omeq/gであり好ましい分子量
は3000から50万の範囲で、より好ましくは、酸価
が0.6〜2.0分子量が1万から30万の範囲であ
る。
The binder polymer of the present invention is substantially insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution. For this reason, an organic solvent which is not environmentally unfavorable is not used or the amount used is extremely small as a developer.
The acid value (the acid content per gram of the polymer expressed by a chemical equivalent number) and the molecular weight of such a binder polymer are appropriately selected from the viewpoint of image strength and developability. Preferred acid values are 0.4-3. The molecular weight is Omeq / g, and the preferred molecular weight is in the range of 3,000 to 500,000, and more preferably the acid value is in the range of 0.6 to 2.0, and the molecular weight is in the range of 10,000 to 300,000.

【0119】(V)その他の成分 本発明において感光層には、さらにその用途、製造方法
等に適したその他の成分を適宜添加することができる。
以下、好ましい添加剤に関し例示する。 (V−1)共増感剤 ある種の添加剤(以後、共増感剤という)を用いること
で、感度をさらに向上させる事ができる。これらの作用
機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセ
スに基づくものと考えられる。即ち、熱重合開始剤によ
り開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応
の過程で生じる様々な中間活性種(ラジカル、カチオ
ン)と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成
するものと推定される。これらは、大きくは、(a)還
元されて活性ラジカルを生成しうるもの、(b)酸化さ
れて活性ラジカルを生成しうるもの、(C)活性の低い
ラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換する
か、もしくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類で
きるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関し
ては、通説がない場合も多い。
(V) Other Components In the present invention, other components suitable for the use, the production method and the like can be appropriately added to the photosensitive layer.
Hereinafter, preferred additives will be exemplified. (V-1) Co-sensitizer The sensitivity can be further improved by using a certain additive (hereinafter referred to as a co-sensitizer). Although their mechanism of action is not clear, most are thought to be based on the following chemical processes. That is, a co-sensitizer reacts with a photoreaction initiated by a thermal polymerization initiator and various intermediate active species (radicals, cations) generated during the subsequent addition polymerization reaction to generate a new active radical. It is estimated that These are roughly (a) those that can be reduced to produce active radicals, (b) those that can be oxidized to produce active radicals, and (C) those that react with less active radicals and are more active radicals. Or acting as a chain transfer agent, but it is often unconventional as to which of these compounds an individual compound belongs to.

【0120】(a)還元されて活性ラジカルを生成する
化合物 炭素−ハロゲン結合結合を有する化合物:還元的に炭素
−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考
えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−
トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等
が好適に使用できる。窒素−窒素結合を有する化合物:
還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生
すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダ
ゾール類等が好適に使用される。酸素−酸素結合を有す
る化合物:還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジ
カルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有
機過酸化物類等が好適に使用される。 オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−
窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられ
る。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、
トリアリールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジ
ニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用される。 フエロセン、鉄アレーン錯体類:還元的に活性ラジカル
を生成しうる。
(A) Compound that generates an active radical upon being reduced Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that a carbon-halogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, trihalomethyl-s-
Triazines, trihalomethyloxadiazoles and the like can be suitably used. Compounds having a nitrogen-nitrogen bond:
It is considered that the nitrogen-nitrogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used. Compound having an oxygen-oxygen bond: It is considered that the oxygen-oxygen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, organic peroxides and the like are preferably used. Onium compound: a carbon-hetero bond or an oxygen-
It is thought that the nitrogen bond is cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, diaryliodonium salts,
Triarylsulfonium salts, N-alkoxypyridinium (azinium) salts and the like are preferably used. Ferrocene, iron arene complexes: can generate active radicals reductively.

【0121】(b)酸化されて活性ラジカルを生成する
化合物 アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂
し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には
例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用
される。 アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素
上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するもの
と考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル
基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。
具体的には、例えば、エタノールアミン類、N−フェニ
ルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類
等があげられる。 含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄
原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活
性ラジカルを生成しうる。また、S−S結合を有する化
合物もS−S解裂による増感が知られる。
(B) Compound which is oxidized to form an active radical Alkyl ate complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to form an active radical. Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used. Alkylamine compound: It is considered that the CX bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group, or the like.
Specific examples include ethanolamines, N-phenylglycines, N-trimethylsilylmethylanilines and the like. Sulfur- and tin-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atom of the above-mentioned amines is replaced with a sulfur atom or a tin atom can generate an active radical by the same action. Compounds having an SS bond are also known to be sensitized by SS cleavage.

【0122】α−置換メチルカルボニル化合物:酸化に
より、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラ
ジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエー
テルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、
2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノプロノン−1類、並びに、これら
と、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、N−OHを
エーテル化したオキシムエーテル類をあげる事ができ
る。 スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成しう
る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等をあ
げる事ができる。
Α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by cleavage of the bond between carbonyl and α carbon by oxidation. In addition, those obtained by converting carbonyl to oxime ether also show the same action. In particular,
2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl]
-2-Morpholinopronones-1 and oxime ethers obtained by reacting these with hydroxyamines and then etherifying N-OH. Sulfinates: Active radicals can be generated reductively. Specific examples include sodium arylsulfin and the like.

【0123】(c)ラジカルと反応し高活性ラジカルに
変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物:例え
ば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合
物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水
素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化さ
れた後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しう
る。具体的には、例えば、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール類等があげられる。
(C) Compounds which react with radicals to convert them into highly active radicals or act as chain transfer agents: For example, compounds having SH, PH, SiH, GeH in the molecule are used. These can generate a radical by donating hydrogen to a low-activity radical species, or can generate a radical by being oxidized and then deprotonated. Specific examples include 2-mercaptobenzimidazoles.

【0124】これらの共増感剤のより具体的な例は、例
えば、特開昭9−236913号公報中に、感度向上を
目的とした添加剤として、多く記載されており、それら
を本発明においても適用することができる。これらの共
増感剤は、単独でまたは2種以上併用して用いることが
できる。使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化
合物100重量部に対し0.05〜100重量部、好ま
しくは1〜80重量部、さらに好ましくは3〜50重量
部の範囲が適当である。
Many more specific examples of these co-sensitizers are described in, for example, JP-A-9-236913 as additives for the purpose of improving sensitivity. Can also be applied. These co-sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The amount is suitably in the range of 0.05 to 100 parts by weight, preferably 1 to 80 parts by weight, more preferably 3 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond.

【0125】(V−2)重合禁止剤 また、本発明においては以上の基本成分の他に感光層塗
布液の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻
止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ま
しい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p
−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t―ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t―ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.01
重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印
刷版用原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過
程でその感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸
誘導体の添加量は、全組成物の約0.5重量%〜約10
重量%が好ましい。
(V-2) Polymerization Inhibitor In the present invention, in addition to the above basic components, there is no need for a compound having an ethylenically unsaturated double bond which can be polymerized during the production or storage of the photosensitive layer coating solution. It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent a thermal polymerization. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p
-Methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4- Methyl-
6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxyamine, and the like. The amount of the thermal polymerization inhibitor added is about 0.01 to the weight of the whole composition.
% By weight to about 5% by weight is preferred. In addition, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and when used as a lithographic printing plate precursor, after application to a support or the like, During the drying process, it may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer. The amount of the higher fatty acid derivative to be added ranges from about 0.5% by weight to about 10% by weight of the total composition.
% By weight is preferred.

【0126】(V−3)着色剤等 さらに、本発明の平版印刷版用原版における感光層の着
色を目的として、染料もしくは顔料を添加してもよい。
これにより、印刷版としての、製版後の視認性や、画像
濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させる事
ができる。着色剤としては、多くの染料は光重合系感光
層の感度の低下を生じるので、着色剤としては、特に顔
料の使用が好ましい。具体例としては例えばフタロシア
ニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタ
ンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオ
レット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン
系染料などの染料がある。染料および顔料の添加量は全
組成物の約0.5重量%〜約5重量%が好ましい。
(V-3) Colorant, etc. Further, a dye or pigment may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention.
As a result, it is possible to improve the so-called plate inspection, such as the visibility of the printing plate after plate making and the suitability for an image density measuring device. As a coloring agent, a pigment is particularly preferable because many dyes lower the sensitivity of the photopolymerizable photosensitive layer. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of dyes and pigments added is preferably from about 0.5% to about 5% by weight of the total composition.

【0127】(V−4)その他の添加剤 さらに、本発明に係る感光層には、硬化皮膜の物性を改
良するために無機充填剤や、その他可塑剤、感光層表面
のインク着肉性を向上させうる感脂化剤等の公知の添加
剤を加えてもよい。
(V-4) Other Additives In order to improve the physical properties of the cured film, the photosensitive layer according to the present invention may contain an inorganic filler, other plasticizers, and an ink deposit on the surface of the photosensitive layer. Known additives such as a sensitizer that can be improved may be added.

【0128】可塑剤としては例えばジオクチルフタレー
ト、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジ
カプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリク
レジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチル
セバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤
を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化
合物と結合剤との合計重量に対し10重量%以下添加す
ることができる。
Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin and the like. A binder was used. In this case, it can be added in an amount of 10% by weight or less based on the total weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.

【0129】また、後述する膜強度(耐刷性)向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。その
他、感光層と支持体との密着性向上や、未露光感光層の
現像除去性を高めるための添加剤を用いることも可能で
ある。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物や、ホ
スホン化合物等、基板と比較的強い相互作用を有する化
合物の添加や下塗りにより、密着性が向上し、耐刷性を
高めることが可能であり、一方、ポリアクリル酸や、ポ
リスルホン酸のような親水性ポリマーの添加や下塗りに
より、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上が可能
となる。
Further, a UV initiator, a thermal crosslinking agent and the like can be added to enhance the effect of heating and exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later. In addition, it is also possible to use an additive for improving the adhesion between the photosensitive layer and the support and for improving the development and removal of the unexposed photosensitive layer. For example, by adding or undercoating a compound having a diazonium structure or a compound having a relatively strong interaction with the substrate, such as a phosphone compound, the adhesion can be improved and the printing durability can be increased. Addition of an acid or a hydrophilic polymer such as polysulfonic acid or undercoating improves the developability of the non-image area and improves the stainability.

【0130】平版印刷版原版の感光層を形成する際に
は、感光層に含有される諸成分を種々の有機溶剤に溶か
して中間層上に塗布し、乾燥して製膜することが一般的
である。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレ
ンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセ
トン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノ
ール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メト
キシプロピルアセテート、N,N―ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、γ―ブチロラクトン、乳酸
メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独
あるいは混合して使用することができる。そして、塗布
溶液中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当であ
る。
In forming a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, it is general to form a film by dissolving various components contained in the photosensitive layer in various organic solvents, coating the solution on an intermediate layer, and drying. It is. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, methyl lactic acid And ethyl. These solvents can be used alone or as a mixture. The appropriate concentration of the solid content in the coating solution is 2 to 50% by weight.

【0131】前記感光層の塗布量は、感光層の感度、現
像性、露光膜の強度・耐刷性等の影響を考慮し、用途に
応じ適宜選択することが望ましい。塗布量が少なすぎる
場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合
には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理
にもより長い時間を要するため好ましくない。本発明の
平版印刷版原版における塗布量は、一般的には、乾燥後
の重量で約0.lg/m2〜約10g/m2の範囲が適当
である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。
The amount of the photosensitive layer to be applied is desirably selected in accordance with the intended use in consideration of the sensitivity, developability of the photosensitive layer, and the strength and printing durability of the exposed film. When the coating amount is too small, the printing durability becomes insufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, and it takes a long time for exposure, and a longer time is required for the developing process, which is not preferable. The coating amount of the lithographic printing plate precursor according to the invention is generally about 0. range of lg / m 2 ~ about 10 g / m 2 are suitable. More preferably, it is 0.5 to 5 g / m 2 .

【0132】[保護層]本発明の平版印刷版原版は、通
常、露光を大気中で行うため、光重合性組成物の層の上
に、さらに、保護層を設ける事が好ましい。保護層は、
感光層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大
気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の感
光層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。
従って、この様な保護層に望まれる特性は、酸素等の低
分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露光に
用いる光の透過性が良好で、感光層との密着性に優れ、
かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望まし
い。
[Protective Layer] The lithographic printing plate precursor according to the invention is usually provided with a protective layer on the photopolymerizable composition layer, since the exposure is usually performed in the air. The protective layer is
The present invention prevents low-molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that inhibit an image forming reaction caused by exposure in the photosensitive layer from being mixed into the photosensitive layer, thereby enabling exposure in the atmosphere.
Therefore, the desired properties of such a protective layer is that the permeability of low molecular compounds such as oxygen is low, and further, the transparency of light used for exposure is good, and the adhesion with the photosensitive layer is excellent.
In addition, it is desirable that it can be easily removed in a developing step after exposure.

【0133】このような、保護層に関する工夫が従来よ
りなされており、米国特許第3、458、311号、特
開昭55−49729号に詳しく記載されている。保護
層に使用できる材料としては例えば、比較的、結晶性に
優れた水溶性高分子化合物を用いる事がよく、具体的に
は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸
性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリ
ル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これ
らのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いる
事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にも
っとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニ
ルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するた
めの、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一
部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換され
ていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有
していても良い。
Such a device for the protective layer has been conventionally devised, and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used, and specifically, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polystyrene. Although water-soluble polymers such as acrylic acid are known, use of polyvinyl alcohol as a main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, or an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for obtaining necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, a part thereof may have another copolymer component.

【0134】ポリビニルアルコールの具体例としては7
1〜100%加水分解され、分子量が300から240
0の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式
会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PV
A−117、PVA−117H、PVA−120、PV
A−124、PVA−124H、PVA一CS、PVA
―CST、PVA一HC、PVA−203、PVA−2
04、PVA−205、PVA−210、PVA−21
7、PVA−220、PVA−224、PVA−217
EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−
224E、PVA−405、PVA−420、PVA−
613、L−8等があげられる。
Specific examples of polyvinyl alcohol include 7
1-100% hydrolyzed, molecular weight 300-240
A range of 0 can be given. Specifically, Kuraray's PVA-105, PVA-110, PVA
A-117, PVA-117H, PVA-120, PV
A-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA
-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-2
04, PVA-205, PVA-210, PVA-21
7, PVA-220, PVA-224, PVA-217
EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-
224E, PVA-405, PVA-420, PVA-
613 and L-8.

【0135】保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使
用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブ
リ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には
使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置
換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程
酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかし
ながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存
時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不
要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じ
る。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い
上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親
水性の層を新油性の重合層に積層すると、接着力不足に
よる膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害
により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。
The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), the amount of coating, and the like are selected in consideration of fogging properties, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen blocking properties and development removability. Generally, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units in the protective layer) and the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier properties, which is advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that an unnecessary polymerization reaction occurs at the time of production or raw storage, and that unnecessary fogging and thickening of an image occur at the time of image exposure. Further, the adhesion to the image area and the scratch resistance are also extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a lipophilic polymer layer, film peeling due to insufficient adhesive force tends to occur, and the peeled portion causes defects such as poor film curing due to inhibition of oxygen polymerization.

【0136】これに対し、これら2層間の接着性を改す
べく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第2
92、501号、米国特許第44、563号には、主に
ポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、ア
クリル系エマルジヨンまたは水不溶性ビニルピロリドン
−ビニルアセテート共重合体などを20〜60重量%混
合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性
が得られることが記載されている。本発明における保護
層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用する
事ができる。このような保護層の塗布方法については、
例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−
49729号に詳しく記載されている。
On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesiveness between these two layers. For example, US Patent No. 2
No. 92,501 and U.S. Pat. No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer or the like is mixed in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol in an amount of 20 to 60% by weight. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by laminating on a polymer layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Regarding the method of applying such a protective layer,
For example, U.S. Pat. No. 3,458,311;
No. 49729.

【0137】さらに、保護層に他の機能を付与する事も
できる。例えば、露光に使う波長の光の透過性に優れ、
露光に係わらない波長の光を効率良く吸収しうる、着色
剤(水溶性染料等)の添加により、感度低下を起こすこ
となく、セーフライト適性をさらに高める事ができる。
Further, other functions can be imparted to the protective layer. For example, it excels in the transmission of light of the wavelength used for exposure,
By adding a colorant (a water-soluble dye or the like) capable of efficiently absorbing light having a wavelength not related to exposure, the suitability for safelight can be further increased without lowering the sensitivity.

【0138】[露光]以上のようにして、本発明の平版
印刷版原版を作成することができる。この平版印刷版原
版は、波長760nmから1200nmの赤外線を放射
する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光され
る。本発明においては、レーザ照射後すぐに現像処理を
行っても良いが、レーザ照射工程と現像工程の間に加熱
処理を行ってもよい。加熱処理の条件は、80℃〜15
0℃の範囲内で10秒〜5分間行うことが好ましい。こ
の加熱処理により、レーザ照射時、記録に必要なレーザ
エネルギーを減少させることができる。
[Exposure] As described above, the planographic printing plate precursor of the invention can be prepared. This lithographic printing plate precursor is image-exposed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. In the present invention, the developing treatment may be performed immediately after the laser irradiation, or the heat treatment may be performed between the laser irradiation step and the developing step. The conditions of the heat treatment are 80 ° C to 15 ° C.
It is preferable to carry out for 10 seconds to 5 minutes within the range of 0 ° C. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.

【0139】[現像]本発明の平版印刷版原版を製版す
る際には、通常、画像露光したのち、現像液で感光層の
未露光部を除去し、画像を得る。平版印刷版の作成に使
用する際の好ましい現像液としては、特公昭57−74
27号に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、
第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭
酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ
剤やモノエタノールアミンまたはジエタノールアミンな
どのような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。この
ようなアルカリ溶液の濃度が0.1〜10重量%、好ま
しくは0.5〜5重量%になるように添加される。
[Development] In making the lithographic printing plate precursor according to the invention, usually, after image exposure, an unexposed portion of the photosensitive layer is removed with a developing solution to obtain an image. Preferred developers for use in preparing a lithographic printing plate include JP-B-57-74.
No. 27, such as sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, and tertiary phosphorus. Ammonium acid,
Aqueous solutions of inorganic alkali agents such as ammonium diphosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia and organic alkali agents such as monoethanolamine or diethanolamine are suitable. The alkaline solution is added so that the concentration of the alkaline solution is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight.

【0140】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3375171号および同第3615480号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭5
0−26601号、同58−54341号、特公昭56
−39464号、同56−42860号の各公報に記載
されている現像液も優れている。
Also, such an alkaline aqueous solution includes:
If necessary, a small amount of a surfactant or an organic solvent such as benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol or 2-butoxyethanol can be contained. For example, those described in U.S. Pat. Nos. 3,375,171 and 3,615,480 can be mentioned. Further, Japanese Unexamined Patent Publication No.
Nos. 0-26601, 58-54341, Tokubo Sho56
The developers described in JP-A-39464 and JP-A-56-42860 are also excellent.

【0141】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スクィージ、あるいは、スクィージローラーで、その塗
布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after coating with a desensitizing gum if desired. Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before burning,
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-A Nos. 1859 and 61-159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the amount of the coating uniform with a squeegee or a squeegee roller after the coating.

【0142】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合
物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きな
どのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。こ
の様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The burned lithographic printing plate can be subjected to a conventional treatment such as washing with water or gumming, if necessary. When a liquid is used, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0143】[0143]

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

【0144】<中間層に用いるポリマーの合成> (合成例1、−1法)撹拌棒および撹拌羽根、環流冷
却器、および温度計を設置した200mlの三つのフラ
スコに、反応溶媒として2−メトキシエタノール70
g、(4−ビニルベンジル)トリエチルアンモニウムク
ロリド21.3g、および4−ビニル安息香酸8.3g
を入れ、窒素気流下、50℃で30分撹拌し、均一溶液
とした。そこへ重合開始剤として2,2´−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.04gを加
え、80℃で7時間撹拌し、重合を行った。この溶液を
酢酸エチル500ml投入し、得られた沈殿物を真空乾
燥し、カチオン性基と反応性基を有するポリマーを2
9.5g得た。このポリマーの酸価は、1.85meq
/gであった。
<Synthesis of Polymer Used for Intermediate Layer> (Synthesis Example 1, Method 1) In a 200-ml three-necked flask equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer, 2-methoxy was used as a reaction solvent. Ethanol 70
g, 21.3 g of (4-vinylbenzyl) triethylammonium chloride, and 8.3 g of 4-vinylbenzoic acid
And stirred at 50 ° C. for 30 minutes under a nitrogen stream to obtain a homogeneous solution. Thereto was added 1.04 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 7 hours to perform polymerization. This solution was charged with 500 ml of ethyl acetate, and the resulting precipitate was dried under vacuum to remove a polymer having a cationic group and a reactive group into 2 parts.
9.5 g were obtained. The acid value of this polymer is 1.85 meq
/ G.

【0145】撹拌棒および撹拌羽根、環流冷却器、およ
び温度計を設置した200mlの三つのフラスコに、反
応溶媒としてメタノール150ml、得られたカチオン
性基と反応性基を有するポリマー9.5gを加え溶解し
た。そこへグリシジルメタクリレート1.3gを加え、
5時間加熱還流した。この溶液を酢酸エチル1000m
lに投入し、得られた沈殿物を真空乾燥することによ
り、本発明におけるカチオン性基およびラジカル重合反
応性基を有するポリマー(P−1)を10.1g得た。
このポリマーの酸価は0.79meq/gであった。
150 ml of methanol as a reaction solvent and 9.5 g of the obtained polymer having a cationic group and a reactive group were added to three 200 ml flasks equipped with a stirring rod and a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer. Dissolved. 1.3 g of glycidyl methacrylate was added thereto,
The mixture was refluxed for 5 hours. This solution is diluted with ethyl acetate 1000m
The resulting precipitate was dried under vacuum to obtain 10.1 g of a polymer (P-1) having a cationic group and a radical polymerization reactive group in the present invention.
The acid value of this polymer was 0.79 meq / g.

【0146】(合成例2、−1法)撹拌棒および撹拌
羽根、環流冷却器、および温度計を設置した200ml
の三つのフラスコに、反応溶媒としてジメチルスルホキ
シド150ml、合成例1で得られたカチオン性基と反
応性基を有するポリマー9.5gを加え溶解した。そこ
へ2−(メタクリロイロキシ)エチルイソシアネート
1.4g及びジラウリン酸ジ−n−ブチルスズ3滴を加
え、50℃で5時間加熱撹拌した。この溶液を酢酸エチ
ル1000mlに投入し、得られた沈殿物を真空乾燥す
ることにより、本発明におけるカチオン性基およびラジ
カル重合反応性基を有するポリマー(P−2)を10.
3g得た。このポリマーの酸価は0.84meq/gで
あった。
(Synthesis Example 2, Method 1) 200 ml provided with a stirring rod and stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer
150 ml of dimethyl sulfoxide as a reaction solvent and 9.5 g of a polymer having a cationic group and a reactive group obtained in Synthesis Example 1 were added and dissolved in the three flasks. Thereto, 1.4 g of 2- (methacryloyloxy) ethyl isocyanate and 3 drops of di-n-butyltin dilaurate were added, and the mixture was heated and stirred at 50 ° C. for 5 hours. This solution was poured into 1,000 ml of ethyl acetate, and the resulting precipitate was dried in vacuo to obtain the polymer (P-2) having a cationic group and a radical polymerization reactive group in the present invention.
3 g were obtained. The acid value of this polymer was 0.84 meq / g.

【0147】(合成例3、−2法)撹拌棒および撹拌
羽根、環流冷却器、および温度計を設置した200ml
の三つのフラスコに、反応溶媒としてメタノール50
g、ポリ(4−ビニルピリジン)(重量平均分子量2
0,000)10.5gを入れ溶解した。そこへ4−
(クロロメチル)スチレン6.1gを加え、8時間加熱
環流した。この溶液を酢酸エチル8000mlに投入
し、得られた沈殿物を真空乾燥することにより、本発明
におけるカチオン性基およびラジカル重合反応性基を有
するポリマー(P−3)を15.4g得た。
(Synthesis Example 3, Method 2) 200 ml provided with a stirring rod and stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer
In three flasks, methanol 50 was used as the reaction solvent.
g, poly (4-vinylpyridine) (weight average molecular weight 2)
(0000) was dissolved. There 4-
6.1 g of (chloromethyl) styrene was added, and the mixture was refluxed under heating for 8 hours. This solution was poured into 8000 ml of ethyl acetate, and the obtained precipitate was dried under vacuum to obtain 15.4 g of a polymer (P-3) having a cationic group and a radical polymerization reactive group in the present invention.

【0148】(合成例4、−2法)撹拌棒および撹拌
羽根、環流冷却器、および温度計を設置した200ml
の三つのフラスコに、反応溶媒としてメタノール50
g、ポリ〔(ジメチルアミノ)エチルメタクリレート〕
(重量平均分子量78,000)15.7gを入れ溶解
した。そこへプロパルギルブロミド12.0gを加え、
8時間加熱環流した。この溶液を酢酸エチル8000m
lに投入し、得られた沈殿物を真空乾燥することによ
り、本発明におけるカチオン性基およびラジカル重合反
応性基を有するポリマー(P−4)を21.3g得た。
(Synthesis Example 4, Method -2) 200 ml provided with a stirring rod and stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer
In three flasks, methanol 50 was used as the reaction solvent.
g, poly [(dimethylamino) ethyl methacrylate]
(Weight average molecular weight: 78,000) 15.7 g was added and dissolved. Then add 12.0 g of propargyl bromide,
The mixture was heated under reflux for 8 hours. This solution was treated with 8000 m of ethyl acetate.
The resulting precipitate was dried under vacuum to obtain 21.3 g of a polymer (P-4) having a cationic group and a radical polymerization reactive group in the present invention.

【0149】(合成例5、−3法)撹拌棒および撹拌
羽根、環流冷却器、および温度計を設置した200ml
の三つのフラスコに、反応溶媒としてメタノール80m
lとアセトン20ml、およびポリ(クロロメチルスチ
レン)(重量平均分子量24,000)7.6gを入れ
溶解した。2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリレー
ト1.6gを加え、40℃で3時間加熱した。そこへN
−n−ブチルアミン6.6gを加え、さらに40℃で3
時間加熱した。この溶液を酢酸エチル500mlに投入
し、得られた沈殿物を真空乾燥することにより、本発明
におけるカチオン性基およびラジカル重合反応性基を有
するポリマー(P−5)を12.4g得た。
(Synthesis Example 5, Method -3) 200 ml provided with a stirring rod and stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer
80m3 of methanol as a reaction solvent
l, 20 ml of acetone and 7.6 g of poly (chloromethylstyrene) (weight average molecular weight 24,000) were added and dissolved. 1.6 g of 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate was added and heated at 40 ° C. for 3 hours. There N
-6.6 g of n-butylamine, and further added at 40 ° C.
Heated for hours. This solution was poured into 500 ml of ethyl acetate, and the obtained precipitate was dried under vacuum to obtain 12.4 g of a polymer (P-5) having a cationic group and a radical polymerization reactive group in the present invention.

【0150】(合成例6、−4法)撹拌棒および撹拌
羽根、環流冷却器、および温度計を設置した200ml
の三つのフラスコに、反応溶媒として2−メトキシエタ
ノール90g、〔2−(メタクリロイロキシ)エチル〕
トリメチルアンモニウムメチルスルフェート(80重量
%簾水溶液)17.7g、アリルメタクリレート3.8
g、およびメタクリル酸1.7gを入れ、窒素気流下、
50℃で30分撹拌し、均一溶液とした。そこへ重合開
始剤として2,2´−アゾビス(2,4−ジメチルバレ
ロニトリル)1.24gを加え、80℃で8時間撹拌し
て重合を行った。この溶液を酢酸エチル1000mlに
投入し、得られた沈殿物を真空乾燥することにより、本
発明におけるカチオン性基およびラジカル重合反応性基
を有するポリマー(P−6)を19.6g得た。このポ
リマーの酸価は0.96meq/gであった。
(Synthesis Example 6, Method -4) 200 ml provided with a stirring rod and stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer
90 g of 2-methoxyethanol as a reaction solvent and [2- (methacryloyloxy) ethyl]
Trimethylammonium methyl sulfate (80% by weight aqueous solution of aqueous solution) 17.7 g, allyl methacrylate 3.8
g, and 1.7 g of methacrylic acid, and under a nitrogen stream,
The mixture was stirred at 50 ° C. for 30 minutes to obtain a homogeneous solution. Thereto was added 1.24 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 8 hours to perform polymerization. This solution was poured into 1000 ml of ethyl acetate, and the obtained precipitate was dried in vacuo to obtain 19.6 g of a polymer (P-6) having a cationic group and a radical polymerization reactive group in the present invention. The acid value of this polymer was 0.96 meq / g.

【0151】(合成例7、−5法)撹拌棒および撹拌
羽根、環流冷却器、および温度計を設置した200ml
の三つのフラスコに、反応溶媒としてN,N−ジメチル
アセトアミド50g、および(4−ビニルベンジル)ト
リアリルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート1
2.0gを50℃で30分撹拌し、均一溶液とした。そ
こへ重合開始剤として2,2´−アゾビス(2,4−ジ
メチルバレロニトリル)0.15gを加え、80℃で7
時間撹拌して重合を行った。この溶液を水1000ml
に投入し、得られた沈殿物を真空乾燥することにより、
本発明におけるカチオン性基およびラジカル重合反応性
基を有するポリマー(P−7)を10.3g得た。
(Synthesis Example 7, Method -5) 200 ml equipped with a stirring rod and stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer
Into three flasks, 50 g of N, N-dimethylacetamide as a reaction solvent and (4-vinylbenzyl) triallylammonium hexafluorophosphate 1
2.0 g was stirred at 50 ° C. for 30 minutes to obtain a homogeneous solution. Thereto was added 0.15 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator.
The polymerization was carried out by stirring for an hour. 1000 ml of this solution in water
And the resulting precipitate is dried under vacuum,
10.3 g of a polymer (P-7) having a cationic group and a radical polymerization reactive group in the present invention was obtained.

【0152】(実施例1〜17、比較例1〜4)以下の
手順で平版印刷版原版を作成した。 <支持体の作成>厚み0.3mmのアルミニウム版(材
質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミスー水懸濁
液を用いこの表面を砂目立て表面のエッチングを行い、
水洗後、更に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。
この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であ
った。次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度1
5A/dm2で3g/m2の直流電極酸化被膜を設けた後、
水洗し、乾燥して基板(A)を作成した。基板(A)を
ケイ酸ナトリウム2重量%水溶液で25℃で15秒処理
し、水洗して基板(B)を作成した。
(Examples 1 to 17, Comparative Examples 1 to 4) A lithographic printing plate precursor was prepared in the following procedure. <Preparation of support> An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm was washed with trichloroethylene and degreased, and then the surface was grained using a nylon brush and a 400 mesh Pumice water suspension. ,
After washing with water, it was further immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water.
At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, this plate was subjected to current density of 1 using 7% sulfuric acid as an electrolyte.
After providing a direct current electrode oxidized film of 3 g / m 2 at 5A / dm 2,
After washing with water and drying, a substrate (A) was prepared. The substrate (A) was treated with a 2% by weight aqueous solution of sodium silicate at 25 ° C. for 15 seconds, and washed with water to form a substrate (B).

【0153】<中間層の形成>上記で得られた支持体
(基板(B))の親水化処理された表面上に、下記
(A)または(B)の組成の中間層塗布液を調製し、塗
布後、80℃で15秒間乾燥させ、中間層を形成した。
ラジカル重合反応性基を有するポリマーとしては、前記
合成例により得たポリマーP−1〜P−7に加えて、以
下に示す例示モノマーT−1〜T−5を用いた。乾燥後
の塗布量は15mg/m2であった。また、前記中間層
を形成しない基板(A)及び基板(B)を比較例1及び
比較例2用の支持体とした。さらに、下記中間層塗布液
のラジカル重合反応性基を有するポリマーに変えて、下
記のラジカル重合反応性基を有しない繰り返し単位R−
1、R−2を有するポリマーを含有したものを用いて中
間層を形成した基板を、比較例3及び比較例4の平版印
刷版原版用支持体とした。
<Formation of Intermediate Layer> An intermediate layer coating solution having the following composition (A) or (B) was prepared on the hydrophilized surface of the support (substrate (B)) obtained above. After coating, the coating was dried at 80 ° C. for 15 seconds to form an intermediate layer.
As the polymer having a radical polymerization reactive group, the following exemplified monomers T-1 to T-5 were used in addition to the polymers P-1 to P-7 obtained in the above Synthesis Examples. The coating amount after drying was 15 mg / m 2 . The substrates (A) and (B) on which the intermediate layer was not formed were used as supports for Comparative Examples 1 and 2. Further, in place of the polymer having a radical polymerization reactive group in the following intermediate layer coating solution, the following repeating unit R- having no radical polymerization reactive group
A substrate on which an intermediate layer was formed using a polymer containing the polymer having 1, R-2 was used as a lithographic printing plate precursor support in Comparative Examples 3 and 4.

【0154】 (中間層塗布液A) ・ラジカル重合反応性基を有するポリマー(表1記載の化合物) 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g(Intermediate Layer Coating Solution A) Polymer having a radical polymerization reactive group (compounds shown in Table 1) 0.3 g methanol 100 g water 1 g

【0155】 (中間層塗布液B) ・ラジカル重合反応性基を有するポリマー(表1記載の化合物) 0.3g ・メタノール 70g ・水 70g(Intermediate Layer Coating Solution B) Polymer having a radical polymerization reactive group (compound shown in Table 1) 0.3 g methanol 70 g water 70 g

【0156】<感光層の塗設>上記中間層を設けた支持
体上に、下記組成の感光層塗布液を調整し、乾燥後の塗
布量が2.0g/m2になるように塗布し、100℃で
2分間乾燥させて感光層を形成し、平版印刷版原版を得
た。
<Coating of photosensitive layer> A coating solution of a photosensitive layer having the following composition was prepared on a support provided with the above-mentioned intermediate layer, and coated so that the coating amount after drying was 2.0 g / m 2. After drying at 100 ° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer, a lithographic printing plate precursor was obtained.

【0157】 (感光層塗布液) ・付加重合性化合物(表1記載の化合物) 1.5g ・バインダー(表1記載の化合物) 2.0g ・赤外線吸収剤(表1記載の化合物) 0.1g ・重合開始剤(表1記載の化合物) 0.2g ・フッ素系ノニオン界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g ・ビクトリアピュアブルー 0.04g ・メチルエチルケトン 10g ・メタノール 7g ・2−メトキシ−1−プロパノール 10g(Coating solution for photosensitive layer) Addition polymerizable compound (compound shown in Table 1) 1.5 g Binder (compound shown in Table 1) 2.0 g Infrared absorber (compound shown in Table 1) 0.1 g・ Polymerization initiator (compounds listed in Table 1) 0.2 g ・ Fluorine nonionic surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.02 g ・ Victoria Pure Blue 0.04 g ・ Methyl ethyl ketone 10 g ・ Methanol 7 g ・ 2-Methoxy-1-propanol 10 g

【0158】[0158]

【表1】 [Table 1]

【0159】[0159]

【化19】 Embedded image

【0160】(表1中の付加重合性化合物) (M−1)ペンタエリスリトールテトラアクリレート (M−2)グリセリンジメタクリレートヘキサメチレン
ジイソシアネートウレタンプレポリマー
(Addition polymerizable compounds in Table 1) (M-1) pentaerythritol tetraacrylate (M-2) glycerin dimethacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer

【0161】(表1中のバインダーポリマー) (B−1) アリルメタクリレート/メタクリル酸/N−イソプロピ
ルアミド共重合体 (共重合モル比:67/13/20) 酸価(NaOH滴定により実測)1.15meq/g 重合平均分子量13万 (B−2) アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合モル比:83/17) 酸価(NaOH滴定により実測)1.55meq/g 重合平均分子量12.5万 (B−3) 下記ジイソシアネートとジオールの縮合物であるポリウ
レタン樹脂 (a)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート (b)ヘキサメチレンジイソシアネート (c)ポリプロピレングルコール(重量平均分子量:10
00) (d)2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸 ((a)/(b)/(c)/(d) 共重合モル比:40/10/1
5/35) 酸価(NaOH滴定により実測)1.05meq/g 重合平均分子量4.5万
(Binder polymer in Table 1) (B-1) Allyl methacrylate / methacrylic acid / N-isopropylamide copolymer (copolymerization molar ratio: 67/13/20) Acid value (actually measured by NaOH titration) 1 .15 meq / g Polymerization average molecular weight 130,000 (B-2) Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio: 83/17) Acid value (actually measured by NaOH titration) 1.55 meq / g Polymerization average molecular weight 12. 50,000 (B-3) Polyurethane resin which is a condensate of the following diisocyanate and diol: (a) 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (b) hexamethylene diisocyanate (c) polypropylene glycol (weight average molecular weight: 10
00) (d) 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid ((a) / (b) / (c) / (d) copolymer molar ratio: 40/10/1)
5/35) Acid value (actually measured by NaOH titration) 1.05 meq / g Polymerization average molecular weight 45,000

【0162】<露光、現像>得られた平版印刷版用原版
を出力500mW、波長830nm、ビーム径17μm
(l/e2)の半導体レーザを用いて主走査速度5m/秒
にて露光した後、富士フィルム(株)社製DN3C現像
液、またはDP−4現像液及びリンス液FR−3(1:
7)を仕込んだ自動現像機(富士写真フィルム(株)
製:PSプロセッサー900VR)を用いて現像し、以
下の評価を行った。なお、現像処理に際していずれの現
像液を用いたかは前記表1に併記した。また、評価結果
は下記表2に示す。
<Exposure and Development> The obtained lithographic printing plate precursor was output at a power of 500 mW, a wavelength of 830 nm, and a beam diameter of 17 μm.
After exposure at a main scanning speed of 5 m / sec using a (l / e 2 ) semiconductor laser, a DN3C developer or a DP-4 developer and a rinsing solution FR-3 (1:
7) Automatic developing machine (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
(Manufactured by PS Processor 900VR) and the following evaluation was performed. Table 1 also shows which developing solution was used in the developing process. The evaluation results are shown in Table 2 below.

【0163】<耐刷性試験>印刷機としてローランド社
製R201を使用し、インキとして大日本インキ社製G
EOS−G(N)を使用した。ベタ画像部の印刷物を観
察し、画像がかすれはじめた枚数によって耐刷性を調べ
た。比較例1における数値(枚数)を100とした相対
比で表した。数字が大きいほど耐刷性が良いと評価す
る。
<Printing durability test> R201 manufactured by Roland was used as a printing machine, and G was manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
EOS-G (N) was used. The printed matter in the solid image area was observed, and the printing durability was examined based on the number of sheets at which the image began to fade. It was represented by a relative ratio where the numerical value (number of sheets) in Comparative Example 1 was 100. The greater the number, the better the printing durability.

【0164】<密着性試験>密着性は印刷機としてロー
ランド社製R201を使用し、インキとして大日本イン
キ社製GEOS−G(N)を使用した。印刷開始から5
000枚目に富士写真フィルム(株)製PSプレートク
リーナーCL−2を印刷用スポンジにしみこませ、網点
部を拭き、版面のインキを洗浄した。その後、10,0
00枚印刷を行い、印刷物における網点の版飛びの有無
を目視で観察した。 ○:版飛びなし ×:版飛び
<Adhesion Test> Adhesion was measured by using R201 manufactured by Roland as a printing machine, and using GEOS-G (N) manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. as an ink. 5 from the start of printing
On the 000th sheet, PS plate cleaner CL-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was infiltrated into a printing sponge, halftone dots were wiped off, and the ink on the plate surface was washed. Then 10,0
The printing of 00 sheets was performed, and the presence or absence of halftone dot skipping in the printed matter was visually observed. ○: No skipping ×: Skipping

【0165】[0165]

【表2】 [Table 2]

【0166】表2に明らかなように、本発明の平版印刷
版原版はいずれも耐刷性に優れ、且つ、版飛びなども観
察されず、網点の密着性も良好であることがわかった。
一方、ラジカル重合反応性基を有しないポリマーを用い
た比較例の平版印刷版原版は、同じ感光層を有している
が、実施例のものに比べて耐刷性が低く、網点の版飛び
が観察され、密着性向上効果が不充分であることがわか
った。
As is evident from Table 2, the lithographic printing plate precursors of the present invention were all excellent in printing durability, no plate skipping was observed, and the halftone dot adhesion was good. .
On the other hand, the lithographic printing plate precursor of Comparative Example using a polymer having no radical polymerization reactive group has the same photosensitive layer, but has lower printing durability than those of Examples, and a halftone plate Flying was observed, and it was found that the effect of improving adhesion was insufficient.

【0167】(実施例18〜34、比較例5〜8)上記
で用いた実施例1〜17及び比較例1〜4の平版印刷版
原版において、感光層上にポリビニルアルコール(ケン
化度98モル%、重合度550)の3重量%の水溶液を
乾燥塗布重量が2g/m2となるよう塗布し、100℃で
2分乾燥して保護層を形成したものを得て、実施例18
〜34、比較例5〜8の平版印刷版原版を得た。これを
実施例1と同様にして評価した結果を下記表3に示す。
(Examples 18 to 34, Comparative Examples 5 to 8) In the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 4 used above, polyvinyl alcohol (a saponification degree of 98 mol) was formed on the photosensitive layer. %, A degree of polymerization of 550) was applied to a dry coating weight of 2 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a protective layer.
To 34 and the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 5 to 8 were obtained. The results of evaluation in the same manner as in Example 1 are shown in Table 3 below.

【0168】[0168]

【表3】 [Table 3]

【0169】表3に明らかなように、表面に保護層を設
けたものは、酸素などによる重合阻害が抑制されている
ため、保護層のないものよりも耐刷性が向上していた
が、全体に、本発明の平版印刷版原版はいずれも耐刷性
に優れ、且つ、版飛びなども観察されず、網点の密着性
も良好であったが、ラジカル重合反応性基を有しないポ
リマーを用いた比較例の平版印刷版原版は、保護層のな
いものと同様に、実施例のものに比べて耐刷性が低く、
網点の版飛びが観察され、密着性向上効果が不充分であ
ることがわかった。
As is clear from Table 3, in the case where the protective layer was provided on the surface, the printing durability was improved as compared with the case without the protective layer because the polymerization inhibition by oxygen and the like was suppressed. As a whole, the lithographic printing plate precursors of the present invention were all excellent in printing durability, in which no plate skipping was observed, and adhesion of halftone dots was good, but a polymer having no radical polymerization reactive group. The lithographic printing plate precursor of the comparative example using, like the one without the protective layer, has lower printing durability than that of the example,
Halftone dot skipping was observed, indicating that the effect of improving adhesion was insufficient.

【0170】[0170]

【発明の効果】本発明のネガ型平版印刷版原版は、赤外
線レーザにより書き込みが可能であり、画像部において
は、支持体と感光層との密着性に優れ、網点、細線など
の画像再現性、及び、耐刷性に優れるという効果を奏す
る。
The negative type lithographic printing plate precursor according to the present invention can be written with an infrared laser, has excellent adhesion between the support and the photosensitive layer in the image area, and reproduces images such as halftone dots and fine lines. This has the effect of excelling in printability and printing durability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 國田 一人 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA04 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BC13 CC11 DA35 DA36 2H096 AA06 BA05 CA03 CA05 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA23 AA24 AA28 AA29 AA30 BA01 BA10 DA52 EA01 EA03  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Kazuto Kunida 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture F-term in Fujisha Shin Film Co., Ltd. (Reference) 2H025 AA04 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BC13 CC11 DA35 DA36 2H096 AA06 BA05 CA03 CA05 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA23 AA24 AA28 AA29 AA30 BA01 BA10 DA52 EA01 EA03

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水化処理された支持体上に、ラジカル
重合反応性基を有する化合物を含有する中間層、及び、
I)赤外線吸収剤、II)重合開始剤、及び、III)重合
性の不飽和基を有する化合物を含有し、赤外線レーザー
で記録可能な感光層を、順次設けてなることを特徴とす
るヒートモード対応平版印刷用原版。
An intermediate layer containing a compound having a radical polymerization reactive group on a support subjected to a hydrophilic treatment, and
A heat mode comprising: a photosensitive layer containing I) an infrared absorber, II) a polymerization initiator, and III) a compound having a polymerizable unsaturated group, and recordable by an infrared laser. The corresponding lithographic printing original plate.
【請求項2】 前記ラジカル重合反応性基を有する化合
物がさらにカチオン性基を有することを特徴とする請求
項1に記載のヒートモード対応平版印刷用原版。
2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the compound having a radical polymerization reactive group further has a cationic group.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005125749A (en) * 2003-09-30 2005-05-19 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic form original plate
JP2005329708A (en) * 2004-03-19 2005-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of lithographic plate
JP2006231838A (en) * 2005-02-28 2006-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd Original film for lithographic printing plate and method for lithographic printing
JP2006264052A (en) * 2005-03-23 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate and lithographic printing method
JP2006264051A (en) * 2005-03-23 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate and lithographic printing method
WO2013032776A1 (en) 2011-08-31 2013-03-07 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
WO2013032780A1 (en) 2011-08-31 2013-03-07 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors for on-press development
WO2019044087A1 (en) 2017-08-31 2019-03-07 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate original plate, method for manufacturing planographic printing plate, and printing method
WO2019087516A1 (en) 2017-10-31 2019-05-09 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate original plate, method for manufacturing planographic printing plate, printing method, and method for manufacturing aluminum support body
WO2021132647A1 (en) 2019-12-27 2021-07-01 富士フイルム株式会社 Original plate for lithographic printing, method for manufacturing lithographic printing plate, and printing method
WO2022138710A1 (en) 2020-12-25 2022-06-30 富士フイルム株式会社 Original plate for planographic printing plate, method for manufacturing planographic printing plate, printing method, and method for manufacturing aluminum support
WO2023032992A1 (en) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate support, lithographic printing plate precursor, and method for producing lithographic printing plate

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7998652B2 (en) 2003-09-30 2011-08-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2005125749A (en) * 2003-09-30 2005-05-19 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic form original plate
JP4644458B2 (en) * 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP2005329708A (en) * 2004-03-19 2005-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of lithographic plate
JP4603907B2 (en) * 2005-02-28 2010-12-22 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP2006231838A (en) * 2005-02-28 2006-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd Original film for lithographic printing plate and method for lithographic printing
JP2006264051A (en) * 2005-03-23 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate and lithographic printing method
JP4542931B2 (en) * 2005-03-23 2010-09-15 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP4542932B2 (en) * 2005-03-23 2010-09-15 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP2006264052A (en) * 2005-03-23 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate and lithographic printing method
WO2013032776A1 (en) 2011-08-31 2013-03-07 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
WO2013032780A1 (en) 2011-08-31 2013-03-07 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors for on-press development
WO2019044087A1 (en) 2017-08-31 2019-03-07 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate original plate, method for manufacturing planographic printing plate, and printing method
WO2019087516A1 (en) 2017-10-31 2019-05-09 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate original plate, method for manufacturing planographic printing plate, printing method, and method for manufacturing aluminum support body
WO2021132647A1 (en) 2019-12-27 2021-07-01 富士フイルム株式会社 Original plate for lithographic printing, method for manufacturing lithographic printing plate, and printing method
EP4442469A1 (en) 2019-12-27 2024-10-09 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of producing lithographic printing plate, and printing method
WO2022138710A1 (en) 2020-12-25 2022-06-30 富士フイルム株式会社 Original plate for planographic printing plate, method for manufacturing planographic printing plate, printing method, and method for manufacturing aluminum support
WO2023032992A1 (en) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate support, lithographic printing plate precursor, and method for producing lithographic printing plate

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