JP2001257190A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JP2001257190A JP2001257190A JP2000067915A JP2000067915A JP2001257190A JP 2001257190 A JP2001257190 A JP 2001257190A JP 2000067915 A JP2000067915 A JP 2000067915A JP 2000067915 A JP2000067915 A JP 2000067915A JP 2001257190 A JP2001257190 A JP 2001257190A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高価な圧力計を使用することなくフィルター
の目詰まりを監視することが可能な基板処理装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 基板処理装置は、そこに貯留した処理液
中に基板を浸漬して処理するための処理液槽2と、処理
液槽2に貯留された処理液を循環するための処理液循環
路3と、処理液循環路3中に処理液を循環させるための
ベローズポンプからなる循環ポンプ4と、循環ポンプ4
により処理液循環路3中を循環する処理液を濾過するた
めのフィルター5と、第1、第2のベローズの往復移動
時間に基づいて循環ポンプ4の駆動状態を検出するセン
サと、循環ポンプ4の駆動状態に基づき処理液循環路3
中を循環する処理液の圧力が一定以上になったことを検
知して検知信号を出力する制御部とを備える。
の目詰まりを監視することが可能な基板処理装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 基板処理装置は、そこに貯留した処理液
中に基板を浸漬して処理するための処理液槽2と、処理
液槽2に貯留された処理液を循環するための処理液循環
路3と、処理液循環路3中に処理液を循環させるための
ベローズポンプからなる循環ポンプ4と、循環ポンプ4
により処理液循環路3中を循環する処理液を濾過するた
めのフィルター5と、第1、第2のベローズの往復移動
時間に基づいて循環ポンプ4の駆動状態を検出するセン
サと、循環ポンプ4の駆動状態に基づき処理液循環路3
中を循環する処理液の圧力が一定以上になったことを検
知して検知信号を出力する制御部とを備える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用
マスク基板等の基板を、純水や薬液等の処理液により処
理する基板処理装置に関する。
液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用
マスク基板等の基板を、純水や薬液等の処理液により処
理する基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】このような基板処理装置としては、従
来、そこに貯留した処理液中に基板を浸漬して処理する
ための処理液槽と、この処理液槽に貯留された処理液を
循環するための処理液循環路と、この処理液循環路中に
処理液を循環させるための循環ポンプと、この循環ポン
プにより処理液循環路中を循環する処理液を濾過するた
めのフィルターとを備えたものが知られている。
来、そこに貯留した処理液中に基板を浸漬して処理する
ための処理液槽と、この処理液槽に貯留された処理液を
循環するための処理液循環路と、この処理液循環路中に
処理液を循環させるための循環ポンプと、この循環ポン
プにより処理液循環路中を循環する処理液を濾過するた
めのフィルターとを備えたものが知られている。
【0003】このような従来の基板処理装置において
は、処理液槽中に貯留され循環する処理液中に基板を浸
漬することにより、この基板に対して洗浄等の処理を実
行する構成となっている。そして、基板の処理に供され
た処理液は、フィルターを通過することにより、そこに
混入したパーティクル等が濾過される構成となってい
る。
は、処理液槽中に貯留され循環する処理液中に基板を浸
漬することにより、この基板に対して洗浄等の処理を実
行する構成となっている。そして、基板の処理に供され
た処理液は、フィルターを通過することにより、そこに
混入したパーティクル等が濾過される構成となってい
る。
【0004】上述した従来の基板処理装置においては、
処理液の濾過を継続することにより、フィルターにパー
ティクル等が蓄積され、フィルターに目詰まりが発生す
る。このような目詰まりが発生した場合においては、処
理液の循環量が減少して基板の処理品質が低下するとい
う問題が生ずる。また、フィルターの目詰まりが発生し
た場合においては、処理液循環路中の処理液の圧力が異
常に高くなり、液漏れの危険性が生ずるという問題も発
生する。
処理液の濾過を継続することにより、フィルターにパー
ティクル等が蓄積され、フィルターに目詰まりが発生す
る。このような目詰まりが発生した場合においては、処
理液の循環量が減少して基板の処理品質が低下するとい
う問題が生ずる。また、フィルターの目詰まりが発生し
た場合においては、処理液循環路中の処理液の圧力が異
常に高くなり、液漏れの危険性が生ずるという問題も発
生する。
【0005】このため、処理液循環路中に、そこを通過
する処理液の圧力を検出するための圧力計を配設するこ
とにより、フィルターの目詰まりを監視するようにした
基板処理装置も提案されている(例えば、特開平3−2
1309号公報)。
する処理液の圧力を検出するための圧力計を配設するこ
とにより、フィルターの目詰まりを監視するようにした
基板処理装置も提案されている(例えば、特開平3−2
1309号公報)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、処理液
循環路中に処理液の圧力を検出するための圧力計を配設
する場合おいては、この圧力計に対して、パーティクル
を発生しないことや、耐薬品性や耐熱性等の条件が要求
される。このため、圧力計自体が高価なものとなるとい
う問題が生ずる。
循環路中に処理液の圧力を検出するための圧力計を配設
する場合おいては、この圧力計に対して、パーティクル
を発生しないことや、耐薬品性や耐熱性等の条件が要求
される。このため、圧力計自体が高価なものとなるとい
う問題が生ずる。
【0007】また、処理液循環路中に処理液の圧力を検
出するための圧力計を配設した場合おいては、処理液循
環路から分岐した枝管が生ずることから、処理液の滞留
部が発生する。このため、この処理液の滞留部の発生に
起因するパーティクルの堆積や、処理液が特に純粋であ
る場合のバクテリアの発生等の問題が生ずる。
出するための圧力計を配設した場合おいては、処理液循
環路から分岐した枝管が生ずることから、処理液の滞留
部が発生する。このため、この処理液の滞留部の発生に
起因するパーティクルの堆積や、処理液が特に純粋であ
る場合のバクテリアの発生等の問題が生ずる。
【0008】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、高価な圧力計を使用することなくフィ
ルターの目詰まりを監視することが可能な基板処理装置
を提供することを目的とする。
れたものであり、高価な圧力計を使用することなくフィ
ルターの目詰まりを監視することが可能な基板処理装置
を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、そこに貯留した処理液中に基板を浸漬して処理する
ための処理液槽と、前記処理液槽に貯留された処理液を
循環するための処理液循環路と、前記処理液循環路中に
処理液を循環させるための循環ポンプと、前記循環ポン
プにより前記処理液循環路中を循環する処理液を濾過す
るためのフィルターとを備えた基板処理装置において、
前記循環ポンプの駆動状態を検出する検出手段と、前記
検出手段により検出した循環ポンプの駆動状態に基づ
き、前記処理液循環路中を循環する処理液の圧力が一定
以上になったことを検知して検知信号を出力する検知手
段と、を備えたことを特徴とする。
は、そこに貯留した処理液中に基板を浸漬して処理する
ための処理液槽と、前記処理液槽に貯留された処理液を
循環するための処理液循環路と、前記処理液循環路中に
処理液を循環させるための循環ポンプと、前記循環ポン
プにより前記処理液循環路中を循環する処理液を濾過す
るためのフィルターとを備えた基板処理装置において、
前記循環ポンプの駆動状態を検出する検出手段と、前記
検出手段により検出した循環ポンプの駆動状態に基づ
き、前記処理液循環路中を循環する処理液の圧力が一定
以上になったことを検知して検知信号を出力する検知手
段と、を備えたことを特徴とする。
【0010】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明において、前記循環ポンプはベローズポンプであ
り、前記検出手段は前記ベローズポンプにおけるベロー
ズの往復移動時間に基づいてその駆動状態を検出する。
の発明において、前記循環ポンプはベローズポンプであ
り、前記検出手段は前記ベローズポンプにおけるベロー
ズの往復移動時間に基づいてその駆動状態を検出する。
【0011】請求項3に記載の発明は、請求項1または
請求項2いずれかに記載の発明において、前記検知手段
により出力される検知信号に基づいて、警告表示または
警告音の少なくとも一方を発生せしめる警告手段をさら
に備えている。
請求項2いずれかに記載の発明において、前記検知手段
により出力される検知信号に基づいて、警告表示または
警告音の少なくとも一方を発生せしめる警告手段をさら
に備えている。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る基板処理
装置の概要図である。
面に基づいて説明する。図1はこの発明に係る基板処理
装置の概要図である。
【0013】この基板処理装置は、そこに貯留した処理
液中に基板1を浸漬して処理するための処理液槽2と、
この処理液槽2に貯留された処理液を循環するための処
理液循環路3と、この処理液循環路3中に処理液を循環
させるための循環ポンプ4と、この循環ポンプ4により
処理液循環路3中を循環する処理液を濾過するためのフ
ィルター5とを備える。
液中に基板1を浸漬して処理するための処理液槽2と、
この処理液槽2に貯留された処理液を循環するための処
理液循環路3と、この処理液循環路3中に処理液を循環
させるための循環ポンプ4と、この循環ポンプ4により
処理液循環路3中を循環する処理液を濾過するためのフ
ィルター5とを備える。
【0014】また、処理液槽2は、処理液を貯留するた
めの内槽21と、この内槽21の上端部からオーバフロ
ーした処理液を受け取るためのオーバフロー槽22と、
内槽21内で基板1を支持するための複数の支持部材2
3と、内槽21内に処理液を噴出するための一対の処理
液噴出管24から構成される。
めの内槽21と、この内槽21の上端部からオーバフロ
ーした処理液を受け取るためのオーバフロー槽22と、
内槽21内で基板1を支持するための複数の支持部材2
3と、内槽21内に処理液を噴出するための一対の処理
液噴出管24から構成される。
【0015】この基板処理装置においては、処理液噴出
管24における処理液噴出孔25から噴出した処理液
は、支持部材23により起立状態で支持された基板1に
沿って内槽21中を上昇し、基板1の処理に供される。
そして、この処理液は、内槽21の上端部からオーバフ
ローし、オーバフロー槽22に向けて流下する。
管24における処理液噴出孔25から噴出した処理液
は、支持部材23により起立状態で支持された基板1に
沿って内槽21中を上昇し、基板1の処理に供される。
そして、この処理液は、内槽21の上端部からオーバフ
ローし、オーバフロー槽22に向けて流下する。
【0016】しかる後、この処理液は処理液循環路3中
に配設された循環ポンプ4の作用により、フィルター5
に向けて送液される。そして、この処理液は、フィルタ
ー5を通過する際に、そこに混入するパーティクル等を
除去した後、再度、処理液噴出管24を介して内槽21
中に噴出される。
に配設された循環ポンプ4の作用により、フィルター5
に向けて送液される。そして、この処理液は、フィルタ
ー5を通過する際に、そこに混入するパーティクル等を
除去した後、再度、処理液噴出管24を介して内槽21
中に噴出される。
【0017】なお、このような処理を継続して実行した
場合には、フィルター5にパーティクル等が蓄積され、
目詰まりが発生する。このような目詰まりが発生した場
合においては、処理液の循環量が減少して基板1の処理
品質が低下し、あるいは、処理液循環路3中の処理液の
圧力が異常に高くなり、液漏れの危険性が生ずるという
問題が発生する。このため、この基板処理装置において
は、後述する方法により、フィルター5の目詰まりを監
視している。
場合には、フィルター5にパーティクル等が蓄積され、
目詰まりが発生する。このような目詰まりが発生した場
合においては、処理液の循環量が減少して基板1の処理
品質が低下し、あるいは、処理液循環路3中の処理液の
圧力が異常に高くなり、液漏れの危険性が生ずるという
問題が発生する。このため、この基板処理装置において
は、後述する方法により、フィルター5の目詰まりを監
視している。
【0018】図2は、上述した循環ポンプ4の構成を示
す概要図である。
す概要図である。
【0019】この循環ポンプ4としては、第1のベロー
ズ41と第2のベローズ42とを備えたベローズポンプ
が使用される。この循環ポンプ4においては、図示しな
いベローズ駆動機構の駆動により、第1、第2のベロー
ズ41、42が、図2において実線で示す状態と、図2
において二点鎖線で示す状態との間を往復移動すること
で処理液を吐出する構成となっている。
ズ41と第2のベローズ42とを備えたベローズポンプ
が使用される。この循環ポンプ4においては、図示しな
いベローズ駆動機構の駆動により、第1、第2のベロー
ズ41、42が、図2において実線で示す状態と、図2
において二点鎖線で示す状態との間を往復移動すること
で処理液を吐出する構成となっている。
【0020】より詳細には、第1のベローズ41が実線
で示す状態から二点鎖線で示す状態に変化する際に、第
1のベローズ41内に貯留された処理液が吐出される。
そして、第1のベローズ41内の処理液が吐出されてい
る際には、第2のベローズ42は、図2において実線で
示す状態から二点鎖線で示す状態に変化し、このとき、
第2のベローズ42内に処理液が流入する。
で示す状態から二点鎖線で示す状態に変化する際に、第
1のベローズ41内に貯留された処理液が吐出される。
そして、第1のベローズ41内の処理液が吐出されてい
る際には、第2のベローズ42は、図2において実線で
示す状態から二点鎖線で示す状態に変化し、このとき、
第2のベローズ42内に処理液が流入する。
【0021】次に、第2のベローズ42が二点鎖線で示
す状態から実線で示す状態に変化し、第2のベローズ4
2内に貯留された処理液が吐出される。このときには、
第1のベローズ41が、二点鎖線で示す状態から実線で
示す状態に変化し、第1のベローズ41内に処理液が流
入する。
す状態から実線で示す状態に変化し、第2のベローズ4
2内に貯留された処理液が吐出される。このときには、
第1のベローズ41が、二点鎖線で示す状態から実線で
示す状態に変化し、第1のベローズ41内に処理液が流
入する。
【0022】なお、第1、第2のベローズ41、42に
おける拡張側のストローク端部には、各々、第1のセン
サ43および第2のセンサ44が配設されている。これ
らの第1、第2のセンサ43、44は、第1、第2のベ
ローズ41、42が拡張側のストローク端部まで移動し
たことを検出するためのものである。これらの第1、第
2のセンサ43、44は、循環ポンプ4の駆動状態を検
出する検出手段として機能する。
おける拡張側のストローク端部には、各々、第1のセン
サ43および第2のセンサ44が配設されている。これ
らの第1、第2のセンサ43、44は、第1、第2のベ
ローズ41、42が拡張側のストローク端部まで移動し
たことを検出するためのものである。これらの第1、第
2のセンサ43、44は、循環ポンプ4の駆動状態を検
出する検出手段として機能する。
【0023】図3は、この発明に係る基板処理装置の主
要な電気的構成を示すブロック図である。
要な電気的構成を示すブロック図である。
【0024】この基板処理装置は、装置の制御に必要な
動作プログラムが格納されたROM11と、制御時にデ
ータ等が一時的にストアされるRAM12と、論理演算
を実行するCPU13とから成る制御部10を備える。
動作プログラムが格納されたROM11と、制御時にデ
ータ等が一時的にストアされるRAM12と、論理演算
を実行するCPU13とから成る制御部10を備える。
【0025】この制御部10は、上述した循環ポンプ4
と、インターフェース14を介して接続されている。ま
た、制御部10は、入力部としてのキーボード15と、
インターフェース14を介して接続されている。さら
に、制御部10は、CRT16とアラーム17とを備え
た警告部18と、インターフェース14を介して接続さ
れている。なお、このCRT16は、後述する検知信号
に基づいて警告表示を行うための警告手段として機能す
る。また、アラーム17は、後述する検知信号に基づい
て警告音を発生するための警告手段として機能する。
と、インターフェース14を介して接続されている。ま
た、制御部10は、入力部としてのキーボード15と、
インターフェース14を介して接続されている。さら
に、制御部10は、CRT16とアラーム17とを備え
た警告部18と、インターフェース14を介して接続さ
れている。なお、このCRT16は、後述する検知信号
に基づいて警告表示を行うための警告手段として機能す
る。また、アラーム17は、後述する検知信号に基づい
て警告音を発生するための警告手段として機能する。
【0026】次に、上述した基板処理装置により基板1
を処理する場合におけるフィルター5の目詰まりの監視
動作について説明する。図4は、この目詰まり監視動作
を示すフローチャートである。
を処理する場合におけるフィルター5の目詰まりの監視
動作について説明する。図4は、この目詰まり監視動作
を示すフローチャートである。
【0027】基板処理装置により基板1を処理するとき
に、フィルター5の目詰まりを監視するためには、基板
1の処理に先立って、処理液循環路3中を循環する処理
液の圧力が一定以上となりフィルター5に目詰まりが発
生したと判断する際の循環ポンプ4が1ストロークの送
液動作を実行するのに要する時間Tを設定する(ステッ
プS1)。
に、フィルター5の目詰まりを監視するためには、基板
1の処理に先立って、処理液循環路3中を循環する処理
液の圧力が一定以上となりフィルター5に目詰まりが発
生したと判断する際の循環ポンプ4が1ストロークの送
液動作を実行するのに要する時間Tを設定する(ステッ
プS1)。
【0028】即ち、循環ポンプ4においては、第1、第
2のベローズ41、42の各々が、実線で示す状態と二
点鎖線で示す状態とをとることにより、1ストロークの
送液動作を実行する。そして、この1ストロークの送液
動作に要する時間は、循環ポンプ4の吐出側の圧力が高
くなるほど長くなる。このため、循環ポンプ4の1スト
ロークの送液動作に要する時間を監視することで、処理
液循環路3中を循環する処理液の圧力が一定以上となっ
たことを検知することができ、これにより、フィルター
5における目詰まりの発生を監視することが可能とな
る。
2のベローズ41、42の各々が、実線で示す状態と二
点鎖線で示す状態とをとることにより、1ストロークの
送液動作を実行する。そして、この1ストロークの送液
動作に要する時間は、循環ポンプ4の吐出側の圧力が高
くなるほど長くなる。このため、循環ポンプ4の1スト
ロークの送液動作に要する時間を監視することで、処理
液循環路3中を循環する処理液の圧力が一定以上となっ
たことを検知することができ、これにより、フィルター
5における目詰まりの発生を監視することが可能とな
る。
【0029】ここで、循環ポンプ4の1ストロークの送
液動作に要する時間は、循環ポンプ4における第1、第
2のベローズ41、42の往復移動時間を第1、第2の
センサ43、44で測定することにより検出することが
できる。
液動作に要する時間は、循環ポンプ4における第1、第
2のベローズ41、42の往復移動時間を第1、第2の
センサ43、44で測定することにより検出することが
できる。
【0030】なお、フィルター5に目詰まりが発生した
と判断する際の循環ポンプ4が1ストロークの送液動作
を実行するのに要する時間Tは、基板1を精度よく処理
するために必要とされる処理液の循環量等に基づき、実
験的に測定すればよい。新規のフィルター5を使用した
場合の循環ポンプ4が1ストロークの送液動作を実行す
るのに要する時間が1秒程度であれば、上述した時間T
は、例えば、3秒程度とすればよい。
と判断する際の循環ポンプ4が1ストロークの送液動作
を実行するのに要する時間Tは、基板1を精度よく処理
するために必要とされる処理液の循環量等に基づき、実
験的に測定すればよい。新規のフィルター5を使用した
場合の循環ポンプ4が1ストロークの送液動作を実行す
るのに要する時間が1秒程度であれば、上述した時間T
は、例えば、3秒程度とすればよい。
【0031】この時間Tは、図3に示すキーボード15
から入力され、制御部10のRAM12に記憶される。
から入力され、制御部10のRAM12に記憶される。
【0032】時間Tの設定が完了すれば、基板1の処理
を開始する(ステップS2)。この基板1の処理中にお
いても、循環ポンプ4における第1、第2のセンサ4
3、44は、第1、第2のベローズ41、42の往復移
動時間を常に測定している(ステップS3)。
を開始する(ステップS2)。この基板1の処理中にお
いても、循環ポンプ4における第1、第2のセンサ4
3、44は、第1、第2のベローズ41、42の往復移
動時間を常に測定している(ステップS3)。
【0033】そして、循環ポンプ4の1ストロークの送
液動作に要する時間がTを越えた場合には、制御部10
は、処理液循環路3中を循環する処理液の圧力が一定以
上となったと判断する。そして、制御部10は、処理液
循環路3中を循環する処理液の圧力が一定以上となった
ことを検知する検知信号を出力する。このときには、制
御部10は、処理液循環路3中を循環する処理液の圧力
が一定以上になったことを検知して検知信号を出力する
検知手段として機能する。
液動作に要する時間がTを越えた場合には、制御部10
は、処理液循環路3中を循環する処理液の圧力が一定以
上となったと判断する。そして、制御部10は、処理液
循環路3中を循環する処理液の圧力が一定以上となった
ことを検知する検知信号を出力する。このときには、制
御部10は、処理液循環路3中を循環する処理液の圧力
が一定以上になったことを検知して検知信号を出力する
検知手段として機能する。
【0034】この検知信号は、警告部18におけるCR
T16とアラーム17とに送信される。これにより、C
RT16は、フィルター5に目詰まりが発生したことを
警告する警告表示をその画面に表示する。また、アラー
ム17は、フィルター5に目詰まりが発生したことを警
告する警告音を発生する(ステップS4)。
T16とアラーム17とに送信される。これにより、C
RT16は、フィルター5に目詰まりが発生したことを
警告する警告表示をその画面に表示する。また、アラー
ム17は、フィルター5に目詰まりが発生したことを警
告する警告音を発生する(ステップS4)。
【0035】そして、現在処理中の基板1の処理が完了
した時点で、基板処理装置による新たな基板1の処理を
中止する。
した時点で、基板処理装置による新たな基板1の処理を
中止する。
【0036】なお、上述したように、CRT16により
警告表示を行うかわりに、ランプ等により警告表示を行
ってもよい。また、警告音は、ROM11またはRAM
12に予め記憶した音声信号により行ってもよい。さら
に、警告表示を行うCRT16と警告音を発生するアラ
ーム17のいずれか一方のみを使用して警告を行うよう
にしてもよい。
警告表示を行うかわりに、ランプ等により警告表示を行
ってもよい。また、警告音は、ROM11またはRAM
12に予め記憶した音声信号により行ってもよい。さら
に、警告表示を行うCRT16と警告音を発生するアラ
ーム17のいずれか一方のみを使用して警告を行うよう
にしてもよい。
【0037】上述した実施形態においては、循環ポンプ
4として第1、第2のベローズ41、42を有するベロ
ーズポンプを使用し、これらの第1、第2のベローズ4
1、42の往復移動時間を第1、第2のセンサ43、4
4で測定することにより、循環ポンプ4の駆動状態を検
出している。しかしながら、この循環ポンプ4として、
例えば、サックバック型あるいはディスペンサー型等と
呼称されるシングルベローズ型ベローズポンプを使用
し、このシングルベローズ型ベローズポンプのベローズ
の往復移動時間をセンサ等で測定するようにしてもよ
い。
4として第1、第2のベローズ41、42を有するベロ
ーズポンプを使用し、これらの第1、第2のベローズ4
1、42の往復移動時間を第1、第2のセンサ43、4
4で測定することにより、循環ポンプ4の駆動状態を検
出している。しかしながら、この循環ポンプ4として、
例えば、サックバック型あるいはディスペンサー型等と
呼称されるシングルベローズ型ベローズポンプを使用
し、このシングルベローズ型ベローズポンプのベローズ
の往復移動時間をセンサ等で測定するようにしてもよ
い。
【0038】さらには、循環ポンプ4として、例えば、
ダイヤフラムポンプ等のその他のポンプを使用し、この
ポンプの駆動状態を検出手段で検出することにより、処
理液循環路3中を循環する処理液の圧力が一定以上にな
ったことを検知するようにしてもよい。
ダイヤフラムポンプ等のその他のポンプを使用し、この
ポンプの駆動状態を検出手段で検出することにより、処
理液循環路3中を循環する処理液の圧力が一定以上にな
ったことを検知するようにしてもよい。
【0039】
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、循環ポ
ンプの駆動状態を検出する検出手段と、この検出手段に
より検出した循環ポンプの駆動状態に基づき処理液循環
路中を循環する処理液の圧力が一定以上になったことを
検知して検知信号を出力する検知手段とを備えたことか
ら、圧力計を使用することなくフィルターの目詰まりを
監視することができる。
ンプの駆動状態を検出する検出手段と、この検出手段に
より検出した循環ポンプの駆動状態に基づき処理液循環
路中を循環する処理液の圧力が一定以上になったことを
検知して検知信号を出力する検知手段とを備えたことか
ら、圧力計を使用することなくフィルターの目詰まりを
監視することができる。
【0040】このため、高価な圧力計を使用する必要が
なくなり、装置全体のコストを低減することが可能とな
る。また、圧力計による処理液の滞留部が形成されない
ことから、処理液の滞留部の発生に起因するパーティク
ルの堆積や、バクテリアの発生等の問題を解消すること
ができる。
なくなり、装置全体のコストを低減することが可能とな
る。また、圧力計による処理液の滞留部が形成されない
ことから、処理液の滞留部の発生に起因するパーティク
ルの堆積や、バクテリアの発生等の問題を解消すること
ができる。
【0041】請求項2に記載の発明によれば、循環ポン
プがベローズポンプであり、検出手段はベローズポンプ
におけるベローズの往復移動時間に基づいてその駆動状
態を検出することから、ベローズの往復移動時間に基づ
いて容易に処理液の圧力の上昇を検知することが可能と
なる。
プがベローズポンプであり、検出手段はベローズポンプ
におけるベローズの往復移動時間に基づいてその駆動状
態を検出することから、ベローズの往復移動時間に基づ
いて容易に処理液の圧力の上昇を検知することが可能と
なる。
【0042】請求項3に記載の発明によれば、検知手段
により出力される検知信号に基づいて警告表示または警
告音の少なくとも一方を発生せしめる警告手段をさらに
備えることから、処理液の循環量が減少することによる
基板1の処理品質の低下や、処理液循環路中の処理液の
圧力が高くなることによる液漏れの発生等を、未然に防
止することが可能となる。
により出力される検知信号に基づいて警告表示または警
告音の少なくとも一方を発生せしめる警告手段をさらに
備えることから、処理液の循環量が減少することによる
基板1の処理品質の低下や、処理液循環路中の処理液の
圧力が高くなることによる液漏れの発生等を、未然に防
止することが可能となる。
【図1】この発明に係る基板処理装置の概要図である。
【図2】循環ポンプ4の構成を示す概要図である。
【図3】この発明に係る基板処理装置の主要な電気的構
成を示すブロック図である。
成を示すブロック図である。
【図4】この発明に係る基板処理装置により基板1を処
理する場合におけるフィルター5の目詰まりの監視動作
を示すフローチャートである。
理する場合におけるフィルター5の目詰まりの監視動作
を示すフローチャートである。
1 基板 2 処理液槽 3 処理液循環路 4 循環ポンプ 5 フィルター 10 制御部 15 キーボード 16 CRT 17 アラーム 18 警告部 41 第1のベローズ 42 第2のベローズ 43 第1のセンサ 44 第2のセンサ
Claims (3)
- 【請求項1】 そこに貯留した処理液中に基板を浸漬し
て処理するための処理液槽と、前記処理液槽に貯留され
た処理液を循環するための処理液循環路と、前記処理液
循環路中に処理液を循環させるための循環ポンプと、前
記循環ポンプにより前記処理液循環路中を循環する処理
液を濾過するためのフィルターとを備えた基板処理装置
において、 前記循環ポンプの駆動状態を検出する検出手段と、 前記検出手段により検出した循環ポンプの駆動状態に基
づき、前記処理液循環路中を循環する処理液の圧力が一
定以上になったことを検知して検知信号を出力する検知
手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の基板処理装置におい
て、 前記循環ポンプはベローズポンプであり、 前記検出手段は前記ベローズポンプにおけるベローズの
往復移動時間に基づいてその駆動状態を検出する基板処
理装置。 - 【請求項3】 請求項1または請求項2いずれかに記載
の基板処理装置において、 前記検知手段により出力される検知信号に基づいて、警
告表示または警告音の少なくとも一方を発生せしめる警
告手段をさらに備えた基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000067915A JP2001257190A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000067915A JP2001257190A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001257190A true JP2001257190A (ja) | 2001-09-21 |
Family
ID=18587037
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000067915A Pending JP2001257190A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001257190A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006184989A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 液体供給装置、基板処理装置および液体供給方法 |
CN109112528A (zh) * | 2018-10-16 | 2019-01-01 | 广州钛尔锐科技有限公司 | 一种金属表面处理剂自动检测加药装置 |
-
2000
- 2000-03-13 JP JP2000067915A patent/JP2001257190A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006184989A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 液体供給装置、基板処理装置および液体供給方法 |
CN109112528A (zh) * | 2018-10-16 | 2019-01-01 | 广州钛尔锐科技有限公司 | 一种金属表面处理剂自动检测加药装置 |
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