JP2001252606A - 微細パターン形成装置及び微細パターン補修装置 - Google Patents
微細パターン形成装置及び微細パターン補修装置Info
- Publication number
- JP2001252606A JP2001252606A JP2000072460A JP2000072460A JP2001252606A JP 2001252606 A JP2001252606 A JP 2001252606A JP 2000072460 A JP2000072460 A JP 2000072460A JP 2000072460 A JP2000072460 A JP 2000072460A JP 2001252606 A JP2001252606 A JP 2001252606A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipette
- fine pattern
- liquid material
- substrate
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】正確且つ容易に原価を低減しつつ微細パターン
を形成・補修する微細パターン形成装置又は補修装置を
提供する。 【構成】液体材料を微細パターンを形成する線の欠落部
に、ピペットから連続的に流出させ、線状の被膜を形成
することにより補修する。 【効果】補修被膜の形状を整える作業が不用となり原価
低減に寄与する。
を形成・補修する微細パターン形成装置又は補修装置を
提供する。 【構成】液体材料を微細パターンを形成する線の欠落部
に、ピペットから連続的に流出させ、線状の被膜を形成
することにより補修する。 【効果】補修被膜の形状を整える作業が不用となり原価
低減に寄与する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は微細パターン形成装置及
び微細パターン補修装置に関するものである。
び微細パターン補修装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来微細パターンの欠落部分の補修に
は、ペーストを塗布針に付着させてこれを欠陥部に転写
する技術が使用されている。又、長い欠落部分の補修に
は、簡単な指令により連続的にペーストを塗布針に付着
させこれを欠陥部にスポット状に転写する技術が使用さ
れている。
は、ペーストを塗布針に付着させてこれを欠陥部に転写
する技術が使用されている。又、長い欠落部分の補修に
は、簡単な指令により連続的にペーストを塗布針に付着
させこれを欠陥部にスポット状に転写する技術が使用さ
れている。
【０００３】又、微細パターンの欠落部分の補修はピペ
ットから補修用の液体材料をスポット状に流出させるこ
とにより行われている。揮発し易い溶媒を用いた液体材
料の場合、ピペットからパルス状のガス加圧装置により
液体材料を雰囲気制御の下にインジェクトすることによ
り断線部に供給し補修する技術が使用されている。
ットから補修用の液体材料をスポット状に流出させるこ
とにより行われている。揮発し易い溶媒を用いた液体材
料の場合、ピペットからパルス状のガス加圧装置により
液体材料を雰囲気制御の下にインジェクトすることによ
り断線部に供給し補修する技術が使用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ペーストを塗布針に付
着させて長い欠落部分の補修をする場合、単独のスポッ
ト塗布でも同様であるが、例えば、特開平１１−１０８
８４８号公報に開示されている技術では、塗布されたペ
ーストの被膜はスポットが複数個連続したものとなり、
パターンの線は滑らかな線として補修されない。形状、
幅共に正確さを著しく欠くものとなるために形状を整え
正確な線の形状にするための煩瑣な後作業が必要であ
る。
着させて長い欠落部分の補修をする場合、単独のスポッ
ト塗布でも同様であるが、例えば、特開平１１−１０８
８４８号公報に開示されている技術では、塗布されたペ
ーストの被膜はスポットが複数個連続したものとなり、
パターンの線は滑らかな線として補修されない。形状、
幅共に正確さを著しく欠くものとなるために形状を整え
正確な線の形状にするための煩瑣な後作業が必要であ
る。
【０００５】図８は従来の微細パターンを構成する線の
小さい欠落部分の補修を示す概念図である。線１には欠
落部２がある。液体材料のスポット状に流出した被膜に
よる補修部３の形状は正確に線の形状にはならず、一般
にスポットの大きさは線の幅よりも大きくなり、線を逸
脱した逸脱部４が生ずる。このために逸脱部４を除去
し、正確な線の形状に整えるための後作業が必要とな
る。図９は従来の微細パターンの線の長い欠落部分の補
修を示す概念図である。欠落部２が長い場合、補修部３
は連続する複数のスポットから構成されるから縁には凹
凸が残る。滑らかな線の形状にするための逸脱部４を除
去する煩瑣な後作業が必要である。
小さい欠落部分の補修を示す概念図である。線１には欠
落部２がある。液体材料のスポット状に流出した被膜に
よる補修部３の形状は正確に線の形状にはならず、一般
にスポットの大きさは線の幅よりも大きくなり、線を逸
脱した逸脱部４が生ずる。このために逸脱部４を除去
し、正確な線の形状に整えるための後作業が必要とな
る。図９は従来の微細パターンの線の長い欠落部分の補
修を示す概念図である。欠落部２が長い場合、補修部３
は連続する複数のスポットから構成されるから縁には凹
凸が残る。滑らかな線の形状にするための逸脱部４を除
去する煩瑣な後作業が必要である。
【０００６】又、液体材料をピペットで塗布する場合、
特開平８−６６６５２公報に開示された発明によれば、
複数のスポットを順次連続して形成するために雰囲気制
御を行わなければならない。そのため雰囲気制御装置が
必要となり複雑さと作業量の増加を招くし、補修後に線
の形状を整え正確な線の形状にするための煩瑣な後作業
が欠かせない。
特開平８−６６６５２公報に開示された発明によれば、
複数のスポットを順次連続して形成するために雰囲気制
御を行わなければならない。そのため雰囲気制御装置が
必要となり複雑さと作業量の増加を招くし、補修後に線
の形状を整え正確な線の形状にするための煩瑣な後作業
が欠かせない。
【０００７】本発明は上記の課題に鑑み、開口部を有す
るピペットを使用し、逸脱部を除去する煩瑣な後作業が
不必要で、且つ雰囲気制御装置を必要とせず、正確且つ
容易に原価を低減しつつ微細パターンを形成・補修する
微細パターン形成装置又は補修装置を提供することを目
的とする。
るピペットを使用し、逸脱部を除去する煩瑣な後作業が
不必要で、且つ雰囲気制御装置を必要とせず、正確且つ
容易に原価を低減しつつ微細パターンを形成・補修する
微細パターン形成装置又は補修装置を提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に液体
材料の被膜を形成する被膜形成手段を具備し、前記被膜
形成手段により形成された被膜を介し微細パターンを形
成する微細パターン形成装置において、前記被膜形成手
段は、前記液体材料を溜置し、且つ開口部を有するピペ
ットと、前記ピペットを駆動するピペット駆動装置とを
具備し、前記ピペット駆動装置が前記ピペットを前記開
口部が前記基板に沿って移動するように駆動する間、前
記液体材料は前記開口部から連続的に流出し、前記被膜
が前記基板上に線状に形成されることを特徴とする微細
パターン形成装置を構成した。
材料の被膜を形成する被膜形成手段を具備し、前記被膜
形成手段により形成された被膜を介し微細パターンを形
成する微細パターン形成装置において、前記被膜形成手
段は、前記液体材料を溜置し、且つ開口部を有するピペ
ットと、前記ピペットを駆動するピペット駆動装置とを
具備し、前記ピペット駆動装置が前記ピペットを前記開
口部が前記基板に沿って移動するように駆動する間、前
記液体材料は前記開口部から連続的に流出し、前記被膜
が前記基板上に線状に形成されることを特徴とする微細
パターン形成装置を構成した。
【０００９】又、基板上に液体材料の被膜を形成する被
膜形成手段を具備し、前記被膜形成手段により形成され
た被膜を介し微細パターンを形成する微細パターン形成
装置において、前記被膜形成手段は、前記液体材料を溜
置し、且つ開口部を有するピペットと、前記基板を載置
するステージと、前記ステージを駆動するステージ駆動
装置とを具備し、前記ステージ駆動装置が前記基板を前
記開口部に沿って移動するように前記ステージを駆動す
る間、前記液体材料は前記開口部から連続的に流出し、
前記被膜が前記基板上に線状に形成されることを特徴と
する微細パターン形成装置を構成した。
膜形成手段を具備し、前記被膜形成手段により形成され
た被膜を介し微細パターンを形成する微細パターン形成
装置において、前記被膜形成手段は、前記液体材料を溜
置し、且つ開口部を有するピペットと、前記基板を載置
するステージと、前記ステージを駆動するステージ駆動
装置とを具備し、前記ステージ駆動装置が前記基板を前
記開口部に沿って移動するように前記ステージを駆動す
る間、前記液体材料は前記開口部から連続的に流出し、
前記被膜が前記基板上に線状に形成されることを特徴と
する微細パターン形成装置を構成した。
【００１０】又、基板上に液体材料の被膜を形成する被
膜形成手段を具備し、前記被膜形成手段により形成され
た被膜を介し、微細パターンの欠落部を補修する微細パ
ターン補修装置において、前記被膜形成手段は、前記液
体材料を溜置し、且つ開口部を有するピペットと、前記
ピペットを駆動するピペット駆動装置とを具備し、前記
ピペット駆動装置が前記ピペットを前記開口部が前記基
板に沿って移動するように駆動する間、前記液体材料は
前記開口部から連続的に流出し、前記被膜が前記基板上
に線状に形成されることを特徴とする微細パターン補修
装置を構成した。
膜形成手段を具備し、前記被膜形成手段により形成され
た被膜を介し、微細パターンの欠落部を補修する微細パ
ターン補修装置において、前記被膜形成手段は、前記液
体材料を溜置し、且つ開口部を有するピペットと、前記
ピペットを駆動するピペット駆動装置とを具備し、前記
ピペット駆動装置が前記ピペットを前記開口部が前記基
板に沿って移動するように駆動する間、前記液体材料は
前記開口部から連続的に流出し、前記被膜が前記基板上
に線状に形成されることを特徴とする微細パターン補修
装置を構成した。
【００１１】又、基板上に液体材料の被膜を形成する被
膜形成手段を具備し、前記被膜形成手段によりにより形
成された被膜を介し、微細パターンの欠落部を補修する
微細パターン補修装置において、前記被膜形成手段は、
前記液体材料を溜置し、且つ開口部を有するピペット
と、前記基板を載置するステージと、前記ステージを駆
動するステージ駆動装置とを具備し、前記ステージ駆動
装置が前記基板を前記開口部に沿って移動するように前
記ステージを駆動する間、前記液体材料は前記開口部か
ら連続的に流出し、前記被膜が前記基板上に線状に形成
されることを特徴とする微細パターン補修装置を構成し
た。
膜形成手段を具備し、前記被膜形成手段によりにより形
成された被膜を介し、微細パターンの欠落部を補修する
微細パターン補修装置において、前記被膜形成手段は、
前記液体材料を溜置し、且つ開口部を有するピペット
と、前記基板を載置するステージと、前記ステージを駆
動するステージ駆動装置とを具備し、前記ステージ駆動
装置が前記基板を前記開口部に沿って移動するように前
記ステージを駆動する間、前記液体材料は前記開口部か
ら連続的に流出し、前記被膜が前記基板上に線状に形成
されることを特徴とする微細パターン補修装置を構成し
た。
【００１２】又、前記ピペットがマイクロインジエクシ
ョン用ピペットであることを特徴とする請求項１、請求
項２、請求項３、又は請求項４に記載の発明を構成し
た。。
ョン用ピペットであることを特徴とする請求項１、請求
項２、請求項３、又は請求項４に記載の発明を構成し
た。。
【００１３】又、加圧装置を具備し、前記加圧装置は前
記ピペットに溜置された前記液体材料に圧を連続的に印
加することを特徴とする請求項１、請求項２、請求項
３、又は請求項４に記載の発明を構成した。
記ピペットに溜置された前記液体材料に圧を連続的に印
加することを特徴とする請求項１、請求項２、請求項
３、又は請求項４に記載の発明を構成した。
【００１４】
【作用】ピペットと基板とが相対的に移動しつつ、ピペ
ットの開口部から欠落部に液体材料が連続的に流出して
基板を被覆し、微細パターンが形成又は補修される。液
体材料は一定速度で連続的に流出するから被膜は幅が一
定し滑らかな両縁を有する帯状の細線に形成される。そ
して補修部分の縁に凹凸がないから、微細パターンの形
成又は補修された線を整えるための作業は必要でない。
ットの開口部から欠落部に液体材料が連続的に流出して
基板を被覆し、微細パターンが形成又は補修される。液
体材料は一定速度で連続的に流出するから被膜は幅が一
定し滑らかな両縁を有する帯状の細線に形成される。そ
して補修部分の縁に凹凸がないから、微細パターンの形
成又は補修された線を整えるための作業は必要でない。
【００１５】
【実施例】本発明の一実施例に係る微細パターン補修装
置を図１〜図６により説明する。図１は微細パターン補
修装置の概念図、図２は微細パターンの一部を示す平面
図、図３は微細パターンの線の欠落部を示す平面図、図
４は欠落部に液体材料を被覆することを示す側面図、図
５は欠落部に液体材料を被覆することを示す平面図、図
６は欠落部に液体材料を被覆することを示す側面図であ
る。基板１１は合成樹脂製の板であり、支持台２１に水
平に支持され、支持台２１はＸ−Ｙに移動可能なステー
ジ２２に載置されている。観察光学系２３は基板１１を
観察するための観察光学系である。ピペット２４は開口
した先端部２４ａを有するガラス製のピペットである。
ピペット２４はその内部に液体材料２５を溜置し、先端
部２４ａより液体材料２５を流出するようになってい
る。先端部２４ａの開口径は１〜数十μｍである。液体
材料２５はコロイド状銀を含有している。ピペット２４
はピペット支持腕２６に支持され、ピペット駆動機構２
７により、Ｘ−Ｙに移動可能となっている。制御装置３
０はステージ２２、観察光学系２３、ピペット駆動機構
２７を制御する制御装置である。モニタ３１は観察光学
系２３を介し観察された像を映し出すＣＲＴを備えてい
る。
置を図１〜図６により説明する。図１は微細パターン補
修装置の概念図、図２は微細パターンの一部を示す平面
図、図３は微細パターンの線の欠落部を示す平面図、図
４は欠落部に液体材料を被覆することを示す側面図、図
５は欠落部に液体材料を被覆することを示す平面図、図
６は欠落部に液体材料を被覆することを示す側面図であ
る。基板１１は合成樹脂製の板であり、支持台２１に水
平に支持され、支持台２１はＸ−Ｙに移動可能なステー
ジ２２に載置されている。観察光学系２３は基板１１を
観察するための観察光学系である。ピペット２４は開口
した先端部２４ａを有するガラス製のピペットである。
ピペット２４はその内部に液体材料２５を溜置し、先端
部２４ａより液体材料２５を流出するようになってい
る。先端部２４ａの開口径は１〜数十μｍである。液体
材料２５はコロイド状銀を含有している。ピペット２４
はピペット支持腕２６に支持され、ピペット駆動機構２
７により、Ｘ−Ｙに移動可能となっている。制御装置３
０はステージ２２、観察光学系２３、ピペット駆動機構
２７を制御する制御装置である。モニタ３１は観察光学
系２３を介し観察された像を映し出すＣＲＴを備えてい
る。
【００１６】次に動作につき、説明する。基板１１をス
テージ２２に載置されている支持台２１上に水平に載置
する。観察光学系２３の焦点を制御装置３０により自動
的に又はモニタ３１を介して目視により基板１１の表面
に合致させる。観察光学系２３の視野には図２に示すよ
うに、先ずパターン１２が出現する。パターン１２に欠
陥があると、映像は拡大され、図３に示すように、線１
３と線端１３ａと線端１３ｂとの間の欠落部１４とが捕
捉される。欠落部１４の情報は観察光学系２３を介し制
御装置３０に出力される。制御装置３０は欠落部１４を
認識し、その座標位置や形状を記憶する。欠落部１４の
像はモニタ３１において視認可能であり、制御装置３０
によるピペット２４の駆動は視認の下にも可能である。
テージ２２に載置されている支持台２１上に水平に載置
する。観察光学系２３の焦点を制御装置３０により自動
的に又はモニタ３１を介して目視により基板１１の表面
に合致させる。観察光学系２３の視野には図２に示すよ
うに、先ずパターン１２が出現する。パターン１２に欠
陥があると、映像は拡大され、図３に示すように、線１
３と線端１３ａと線端１３ｂとの間の欠落部１４とが捕
捉される。欠落部１４の情報は観察光学系２３を介し制
御装置３０に出力される。制御装置３０は欠落部１４を
認識し、その座標位置や形状を記憶する。欠落部１４の
像はモニタ３１において視認可能であり、制御装置３０
によるピペット２４の駆動は視認の下にも可能である。
【００１７】ピペット２４は、先端部２４ａの開口径が
線１３の幅より小さいものを選択する。液体材料２５の
粘性、表面張力等の性状や、線幅その他の条件よるが、
概ね０．８〜０．２倍程度が適当であり、例えば線幅が
５０μｍの場合、１０〜４５μｍ位、線幅が２０μｍの
場合、４〜１６μｍ位のものが選択使用される。ピペッ
ト支持腕１６に支持されたピペット２４を、制御装置３
０により、その先端部２４ａが線端１３ａの線１３内の
近傍の点１３ｃの直上に来るように移動させる。次いで
先端部２４ａを点１３ｃに接触させ、そして先端部２４
ａを点１３ｃから隔離する。点１３ｃの上に液体材料２
５の滴２５ａが生成し、先端部２４ａと点１３ｃの間を
橋渡しする。両者を隔離する距離は先端部２４ａの開口
径の大きさとほぼ同一又はやや大きい距離が適当であ
る。即ち、線幅２０μｍ、開口径４μｍの場合、隔離距
離は４〜１０μｍ程度である。隔離距離が小さすぎると
後述の線形成の際、液体材料２５が延び難く、大きすぎ
ると液体材料２５が途切れやすくなる。
線１３の幅より小さいものを選択する。液体材料２５の
粘性、表面張力等の性状や、線幅その他の条件よるが、
概ね０．８〜０．２倍程度が適当であり、例えば線幅が
５０μｍの場合、１０〜４５μｍ位、線幅が２０μｍの
場合、４〜１６μｍ位のものが選択使用される。ピペッ
ト支持腕１６に支持されたピペット２４を、制御装置３
０により、その先端部２４ａが線端１３ａの線１３内の
近傍の点１３ｃの直上に来るように移動させる。次いで
先端部２４ａを点１３ｃに接触させ、そして先端部２４
ａを点１３ｃから隔離する。点１３ｃの上に液体材料２
５の滴２５ａが生成し、先端部２４ａと点１３ｃの間を
橋渡しする。両者を隔離する距離は先端部２４ａの開口
径の大きさとほぼ同一又はやや大きい距離が適当であ
る。即ち、線幅２０μｍ、開口径４μｍの場合、隔離距
離は４〜１０μｍ程度である。隔離距離が小さすぎると
後述の線形成の際、液体材料２５が延び難く、大きすぎ
ると液体材料２５が途切れやすくなる。
【００１８】次いで、ピペット駆動機構２７により、ピ
ペット２４を一定速度で駆動し、図５及び図６に示すよ
うにその先端部２４ａを点１３ｃから線端１３ｂの線１
３内の近傍の点１３ｄの直上に移動させる。この移動の
間、液体材料２５は既に基板１１上に流出したものの表
面張力の作用により、ピペット２４内の液体材料２５が
順次先端部２４ａから流出する。ピペット２４が一定速
度で移動するに伴い、一定量の液体材料２５が流出し、
一定の幅と高さを有する線状の液体材料２５が流出し、
点１３ｃと点１３ｄの間に一定幅の線状の被膜２５ｂが
形成される。
ペット２４を一定速度で駆動し、図５及び図６に示すよ
うにその先端部２４ａを点１３ｃから線端１３ｂの線１
３内の近傍の点１３ｄの直上に移動させる。この移動の
間、液体材料２５は既に基板１１上に流出したものの表
面張力の作用により、ピペット２４内の液体材料２５が
順次先端部２４ａから流出する。ピペット２４が一定速
度で移動するに伴い、一定量の液体材料２５が流出し、
一定の幅と高さを有する線状の液体材料２５が流出し、
点１３ｃと点１３ｄの間に一定幅の線状の被膜２５ｂが
形成される。
【００１９】この様にして形成された被膜の幅が欠落部
１４の補修に充分であれば、補修のための被覆作業は終
了する。被膜の幅が不充分であれば，更に、図５に示す
ように点１３ｄに隣接する点１３ｅから、点１３ｃに隣
接する点１３ｆの間に同様にして、線状の被膜２５ｃを
形成する。必要に応じて上述の動作を反復する。線状の
被膜が並列し線１３の幅の被膜２５ｄが形成され、順次
欠落部１４が完全に被覆されるまで線状の被膜を形成
し、線状の被膜の集合１５の形成をもって補修は完了す
る。その後必要に応じて赤外線加熱を行う等液体材料２
５の性質に応じて後処理を行うが、線の縁を整える作業
は不用である。
１４の補修に充分であれば、補修のための被覆作業は終
了する。被膜の幅が不充分であれば，更に、図５に示す
ように点１３ｄに隣接する点１３ｅから、点１３ｃに隣
接する点１３ｆの間に同様にして、線状の被膜２５ｃを
形成する。必要に応じて上述の動作を反復する。線状の
被膜が並列し線１３の幅の被膜２５ｄが形成され、順次
欠落部１４が完全に被覆されるまで線状の被膜を形成
し、線状の被膜の集合１５の形成をもって補修は完了す
る。その後必要に応じて赤外線加熱を行う等液体材料２
５の性質に応じて後処理を行うが、線の縁を整える作業
は不用である。
【００２０】同様にして、基板に所定のパターンを最初
から描写するように形成することができる。これは本実
施例の微細パターン形成装置の実施態様である。
から描写するように形成することができる。これは本実
施例の微細パターン形成装置の実施態様である。
【００２１】本発明の第２の実施例に係る微細パターン
補修装置を説明する。本実施例の構成はピペットとして
マイクロインジエクション用ピペットを使用する点以外
は前述した一実施例の構成と異なるところがないので一
実施例で説明に使用した各図を援用すると共に、説明の
詳述を省略する。ピペットはマイクロインジエクション
用ピペットである。マイクロインジエクション用ピペッ
トは微細な細胞等に液を注入するために開発使用されて
いるピペットであり、極めて細い開口径を有している。
本実施例で使用するマイクロインジエクション用ピペッ
トの先端部の開口径は１〜５μｍのものが一般的であ
る。１μｍ以下のものは液体材料の性状により使用困難
なものがあり、５μｍ以上のものは通常のピペットで使
用勝手の良好なものがあるからである。従って、マイク
ロインジエクション用ピペットを使用しての補修は、線
幅１〜２０μｍの範囲の微細パターンが適当な対象であ
る。しかし開口径、線幅の範囲は上記の範囲に限定され
るものではない。
補修装置を説明する。本実施例の構成はピペットとして
マイクロインジエクション用ピペットを使用する点以外
は前述した一実施例の構成と異なるところがないので一
実施例で説明に使用した各図を援用すると共に、説明の
詳述を省略する。ピペットはマイクロインジエクション
用ピペットである。マイクロインジエクション用ピペッ
トは微細な細胞等に液を注入するために開発使用されて
いるピペットであり、極めて細い開口径を有している。
本実施例で使用するマイクロインジエクション用ピペッ
トの先端部の開口径は１〜５μｍのものが一般的であ
る。１μｍ以下のものは液体材料の性状により使用困難
なものがあり、５μｍ以上のものは通常のピペットで使
用勝手の良好なものがあるからである。従って、マイク
ロインジエクション用ピペットを使用しての補修は、線
幅１〜２０μｍの範囲の微細パターンが適当な対象であ
る。しかし開口径、線幅の範囲は上記の範囲に限定され
るものではない。
【００２２】次に動作につき、説明する。基板１１をス
テージ２２に載置されている支持台２１上に水平に載置
する。観察光学系２３の視野に欠落部１４が入るよう
に、制御装置３０によりステージ２２を駆動し、基板１
１を移動させる。更に、制御装置３０によりステージ２
２を駆動し、ピペット２４の先端部２４ａが線端１３ａ
の線１３内の近傍の点１３ｃの直上に来るように基板１
１を移動する。ピペット駆動機構２７によりピペット２
４を基板１１に近接させる。両者を接触させ、液体材料
２５で両者を橋渡しする。次いで先端部２４ａの開口径
の大きさとほぼ同一又はやや大きい距離だけ両者を隔離
する。次いで、制御装置３０によりステージ２２を駆動
し、ピペット２４の先端部２４ａが線端１３ｂの線１３
内の近傍の点１３ｄの直上に来るようにする。次いで、
先端部２４ａが点１３ｃから点１３ｄに対応するまでス
テージ２２を一定速度で駆動する。液体材料２５は欠落
部１４上に連続的に一定量流出し、点１３ｃと点１３ｄ
の間に一定幅の線状の被膜２５ｂが形成される。必要に
応じて上述の動作と同様にして線の数を増加させる。欠
落部１４が完全に被覆されるまで線状の被膜を形成し、
線状の被膜の集合１５の形成をもって補修は完了する。
その後必要に応じて赤外線加熱を行う等液体材料２５の
性質に応じて後処理を行うが、線の縁を整える作業は不
用である。
テージ２２に載置されている支持台２１上に水平に載置
する。観察光学系２３の視野に欠落部１４が入るよう
に、制御装置３０によりステージ２２を駆動し、基板１
１を移動させる。更に、制御装置３０によりステージ２
２を駆動し、ピペット２４の先端部２４ａが線端１３ａ
の線１３内の近傍の点１３ｃの直上に来るように基板１
１を移動する。ピペット駆動機構２７によりピペット２
４を基板１１に近接させる。両者を接触させ、液体材料
２５で両者を橋渡しする。次いで先端部２４ａの開口径
の大きさとほぼ同一又はやや大きい距離だけ両者を隔離
する。次いで、制御装置３０によりステージ２２を駆動
し、ピペット２４の先端部２４ａが線端１３ｂの線１３
内の近傍の点１３ｄの直上に来るようにする。次いで、
先端部２４ａが点１３ｃから点１３ｄに対応するまでス
テージ２２を一定速度で駆動する。液体材料２５は欠落
部１４上に連続的に一定量流出し、点１３ｃと点１３ｄ
の間に一定幅の線状の被膜２５ｂが形成される。必要に
応じて上述の動作と同様にして線の数を増加させる。欠
落部１４が完全に被覆されるまで線状の被膜を形成し、
線状の被膜の集合１５の形成をもって補修は完了する。
その後必要に応じて赤外線加熱を行う等液体材料２５の
性質に応じて後処理を行うが、線の縁を整える作業は不
用である。
【００２３】同様にして、基板に所定のパターンを最初
から描写するように形成することができる。これが本実
施例の微細パターン形成装置の実施態様である。
から描写するように形成することができる。これが本実
施例の微細パターン形成装置の実施態様である。
【００２４】本発明の第３の実施例に係る微細パターン
補修装置を図７により、又図１〜図６を援用して説明す
る。前述した各実施例と同一又は類似の部分は同一の符
号を以て説明し、同一又は類似の部分の説明の詳述を省
略する。図７は微細パターン補修装置の概念図である。
基板１１は支持台２１に水平に支持され、支持台２１は
Ｘ−Ｙに移動可能なステージ２２に載置されている。観
察光学系２３は基板１１を観察するための観察光学系で
ある。ピペット２４は開口した先端部２４ａを有するガ
ラス製のピペットである。ピペット２４はその内部に液
体材料２５を溜置し、先端部２４ａより液体材料２５を
流出するようになっている。ピペット２４はピペット支
持腕２６に支持され、ピペット駆動機構２７により、Ｘ
−Ｙに移動可能となっている。ガス圧印加機構２８はピ
ペット２４内にチューブ２９を介しガス圧を連続的に一
定圧を印加可能であり、液体材料２５を連続的に流出さ
せるようになっている。制御装置３０はステージ２２、
観察光学系２３、ピペット駆動機構２７、ガス圧印加機
構２８を制御する制御装置である。
補修装置を図７により、又図１〜図６を援用して説明す
る。前述した各実施例と同一又は類似の部分は同一の符
号を以て説明し、同一又は類似の部分の説明の詳述を省
略する。図７は微細パターン補修装置の概念図である。
基板１１は支持台２１に水平に支持され、支持台２１は
Ｘ−Ｙに移動可能なステージ２２に載置されている。観
察光学系２３は基板１１を観察するための観察光学系で
ある。ピペット２４は開口した先端部２４ａを有するガ
ラス製のピペットである。ピペット２４はその内部に液
体材料２５を溜置し、先端部２４ａより液体材料２５を
流出するようになっている。ピペット２４はピペット支
持腕２６に支持され、ピペット駆動機構２７により、Ｘ
−Ｙに移動可能となっている。ガス圧印加機構２８はピ
ペット２４内にチューブ２９を介しガス圧を連続的に一
定圧を印加可能であり、液体材料２５を連続的に流出さ
せるようになっている。制御装置３０はステージ２２、
観察光学系２３、ピペット駆動機構２７、ガス圧印加機
構２８を制御する制御装置である。
【００２５】次に動作につき、説明する。基板１１をス
テージ２２に載置されている支持台２１上に水平に載置
する。観察光学系２３の焦点を制御装置３０により基板
１１の表面に合致させる。観察光学系２３の視野には図
２に示すように、先ずパターン１２が出現する。パター
ン１２に欠陥があると、映像は拡大され、図３に示すよ
うに、線１３と線端１３ａと線端１３ｂとの間の欠落部
１４とが捕捉される。欠落部１４の情報は観察光学系２
３を介し制御装置３０に出力される。制御装置３０は欠
落部１４を認識し、その座標位置や形状を記憶する。
テージ２２に載置されている支持台２１上に水平に載置
する。観察光学系２３の焦点を制御装置３０により基板
１１の表面に合致させる。観察光学系２３の視野には図
２に示すように、先ずパターン１２が出現する。パター
ン１２に欠陥があると、映像は拡大され、図３に示すよ
うに、線１３と線端１３ａと線端１３ｂとの間の欠落部
１４とが捕捉される。欠落部１４の情報は観察光学系２
３を介し制御装置３０に出力される。制御装置３０は欠
落部１４を認識し、その座標位置や形状を記憶する。
【００２６】ピペット支持腕２６に支持されたピペット
２４を、制御装置３０により、その先端部２４ａが線端
１３ａの線１３内の近傍の点１３ｃの直上に来るように
移動させる。次いで先端部２４ａを点１３ｃに接触さ
せ、そして先端部２４ａを点１３ｃから隔離する。点１
３ｃの上に液体材料２５の滴２５ａが生成し、先端部２
４ａを点１３ｃの間を橋渡しする。この際既に加圧をし
て橋渡してもよい。
２４を、制御装置３０により、その先端部２４ａが線端
１３ａの線１３内の近傍の点１３ｃの直上に来るように
移動させる。次いで先端部２４ａを点１３ｃに接触さ
せ、そして先端部２４ａを点１３ｃから隔離する。点１
３ｃの上に液体材料２５の滴２５ａが生成し、先端部２
４ａを点１３ｃの間を橋渡しする。この際既に加圧をし
て橋渡してもよい。
【００２７】次いで、ピペット駆動機構２７により、ピ
ペット２４を一定速度で駆動し、図５及び図６に示すよ
うにその先端部２４ａを点１３ｃから線端１３ｂの線１
３内の近傍の点１３ｄの直上に移動させる。この移動の
間、ガス圧印加機構２８から連続的に一定のガス圧を印
加する。ピペット２４内の液体材料２５は順次先端部２
４ａから流出する。ピペット２４が一定速度で移動する
に伴い、一定量の液体材料２５が流出し、一定の幅と高
さを有する線状の液体材料２５が流出し、点１３ｃと点
１３ｄの間に一定幅の線状の被膜２５ｂが形成される。
ペット２４を一定速度で駆動し、図５及び図６に示すよ
うにその先端部２４ａを点１３ｃから線端１３ｂの線１
３内の近傍の点１３ｄの直上に移動させる。この移動の
間、ガス圧印加機構２８から連続的に一定のガス圧を印
加する。ピペット２４内の液体材料２５は順次先端部２
４ａから流出する。ピペット２４が一定速度で移動する
に伴い、一定量の液体材料２５が流出し、一定の幅と高
さを有する線状の液体材料２５が流出し、点１３ｃと点
１３ｄの間に一定幅の線状の被膜２５ｂが形成される。
【００２８】なお、印加するガス圧を変化させ、又はピ
ペット２４の移動速度を変化させることにより、線幅を
変更することができる。
ペット２４の移動速度を変化させることにより、線幅を
変更することができる。
【００２９】ピペット駆動機構２７によるピペット２４
の移動に代え、ステージ２２を移動させて線状被膜２５
ｂを形成することもできる。
の移動に代え、ステージ２２を移動させて線状被膜２５
ｂを形成することもできる。
【００３０】同様にして、基板に所定のパターンを最初
から描写するように形成することができる。これが本実
施例の微細パターン形成装置の実施態様である。
から描写するように形成することができる。これが本実
施例の微細パターン形成装置の実施態様である。
【００３１】各実施例において、コロイド状銀を含む液
体材料を用いているが、本発明はこれに限定されること
なく、導電性微細パターン、絶縁性微細パターン、又は
レジスト微細パターン等を形成する液体材料を用いるこ
とができるのは言うまでもない。
体材料を用いているが、本発明はこれに限定されること
なく、導電性微細パターン、絶縁性微細パターン、又は
レジスト微細パターン等を形成する液体材料を用いるこ
とができるのは言うまでもない。
【００３２】一実施例及び第３の実施例において、マイ
クロインジエクション用ピペットを用いることができる
のは言うまでもない。
クロインジエクション用ピペットを用いることができる
のは言うまでもない。
【００３３】
【発明の効果】本発明により、開口部を有するピペット
を使用しながら、逸脱部を除去する煩瑣な後作業が不必
要で、且つ雰囲気制御装置を必要とせず、正確且つ容易
に原価を低減しつつ微細パターンを形成・補修する微細
パターン形成装置又は補修装置を提供することが可能と
なる。
を使用しながら、逸脱部を除去する煩瑣な後作業が不必
要で、且つ雰囲気制御装置を必要とせず、正確且つ容易
に原価を低減しつつ微細パターンを形成・補修する微細
パターン形成装置又は補修装置を提供することが可能と
なる。
【図１】本発明の一実施例に係る微細パターン補修装置
の概念図である。
の概念図である。
【図２】本発明の一実施例に係る微細パターンの一部を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図３】本発明の一実施例に係る微細パターンの線の欠
落部を示す平面図である。
落部を示す平面図である。
【図４】本発明の一実施例に係る欠落部に液体材料を被
覆することを示す側面図である。
覆することを示す側面図である。
【図５】本発明の一実施例に係る欠落部に液体材料を被
覆することを示す平面図である。
覆することを示す平面図である。
【図６】本発明の一実施例に係る欠落部に液体材料を被
覆することを示す側面図である。
覆することを示す側面図である。
【図７】本発明の第３の実施例に係る微細パターン補修
装置の概念図である。
装置の概念図である。
【図８】従来の微細パターンを構成する線の小さい欠落
部分の補修を示す概念図である。
部分の補修を示す概念図である。
【図９】従来の微細パターンの線の長い欠落部分の補修
を示す概念図である。
を示す概念図である。
１１・・・基板、１３・・・線、１４・・・欠落部、２
４・・・ピペット
４・・・ピペット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｋ 3/22 Ｈ０５Ｋ 3/22 Ａ Ｆターム(参考） 2H096 HA05 4D075 AC08 AC78 AC93 DA06 DA27 DB31 DC21 4F041 AA02 AA05 AA16 AB01 BA04 BA23 BA32 BA56 4G075 AA24 BD03 BD16 DA02 EC01 EC06 EC13 ED13 EE12 EE22 5E343 AA02 AA11 DD18 ER51 FF05 GG08
Claims (6)
- 【請求項１】基板上に液体材料の被膜を形成する被膜形
成手段を具備し、前記被膜形成手段により形成された被
膜を介し微細パターンを形成する微細パターン形成装置
において、前記被膜形成手段は、前記液体材料を溜置
し、且つ開口部を有するピペットと、前記ピペットを駆
動するピペット駆動装置とを具備し、前記ピペット駆動
装置が前記ピペットを前記開口部が前記基板に沿って移
動するように駆動する間、前記液体材料は前記開口部か
ら連続的に流出し、前記被膜が前記基板上に線状に形成
されることを特徴とする微細パターン形成装置。 - 【請求項２】基板上に液体材料の被膜を形成する被膜形
成手段を具備し、前記被膜形成手段により形成された被
膜を介し微細パターンを形成する微細パターン形成装置
において、前記被膜形成手段は、前記液体材料を溜置
し、且つ開口部を有するピペットと、前記基板を載置す
るステージと、前記ステージを駆動するステージ駆動装
置とを具備し、前記ステージ駆動装置が前記基板を前記
開口部に沿って移動するように前記ステージを駆動する
間、前記液体材料は前記開口部から連続的に流出し、前
記被膜が前記基板上に線状に形成されることを特徴とす
る微細パターン形成装置。 - 【請求項３】基板上に液体材料の被膜を形成する被膜形
成手段を具備し、前記被膜形成手段により形成された被
膜を介し、微細パターンの欠落部を補修する微細パター
ン補修装置において、前記被膜形成手段は、前記液体材
料を溜置し、且つ開口部を有するピペットと、前記ピペ
ットを駆動するピペット駆動装置とを具備し、前記ピペ
ット駆動装置が前記ピペットを前記開口部が前記基板に
沿って移動するように駆動する間、前記液体材料は前記
開口部から連続的に流出し、前記被膜が前記基板上に線
状に形成されることを特徴とする微細パターン補修装
置。 - 【請求項４】基板上に液体材料の被膜を形成する被膜形
成手段を具備し、前記被膜形成手段によりにより形成さ
れた被膜を介し、微細パターンの欠落部を補修する微細
パターン補修装置において、前記被膜形成手段は、前記
液体材料を溜置し、且つ開口部を有するピペットと、前
記基板を載置するステージと、前記ステージを駆動する
ステージ駆動装置とを具備し、前記ステージ駆動装置が
前記基板を前記開口部に沿って移動するように前記ステ
ージを駆動する間、前記液体材料は前記開口部から連続
的に流出し、前記被膜が前記基板上に線状に形成される
ことを特徴とする微細パターン補修装置。 - 【請求項５】前記ピペットがマイクロインジエクション
用ピペットであることを特徴とする請求項１、請求項
２、請求項３、又は請求項４に記載の発明。 - 【請求項６】加圧装置を具備し、前記加圧装置は前記ピ
ペットに溜置された前記液体材料に圧を連続的に印加す
ることを特徴とする請求項１、請求項２、請求項３、又
は請求項４に記載の発明。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000072460A JP2001252606A (ja) | 2000-03-10 | 2000-03-10 | 微細パターン形成装置及び微細パターン補修装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000072460A JP2001252606A (ja) | 2000-03-10 | 2000-03-10 | 微細パターン形成装置及び微細パターン補修装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001252606A true JP2001252606A (ja) | 2001-09-18 |
Family
ID=18590865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000072460A Pending JP2001252606A (ja) | 2000-03-10 | 2000-03-10 | 微細パターン形成装置及び微細パターン補修装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001252606A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007214508A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Sony Corp | 配線基板修正方法及び配線基板修正装置 |
| CN101934261A (zh) * | 2009-06-30 | 2011-01-05 | 塔工程有限公司 | 修复密封胶图案的方法及具有修复的密封胶图案的基板 |
| JP2011171724A (ja) * | 2010-01-19 | 2011-09-01 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の配線修正方法、基板の配線修正装置及び基板の配線形成装置 |
| JP2012050968A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Shibaura Mechatronics Corp | ペースト塗布装置及びペースト塗布方法 |
| KR20210119494A (ko) * | 2019-02-01 | 2021-10-05 | 엑스티피엘 에스.에이. | 유체 프린팅 방법 |
-
2000
- 2000-03-10 JP JP2000072460A patent/JP2001252606A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007214508A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Sony Corp | 配線基板修正方法及び配線基板修正装置 |
| JP4696945B2 (ja) * | 2006-02-13 | 2011-06-08 | ソニー株式会社 | 配線基板修正方法及び配線基板修正装置 |
| CN101934261A (zh) * | 2009-06-30 | 2011-01-05 | 塔工程有限公司 | 修复密封胶图案的方法及具有修复的密封胶图案的基板 |
| JP2011171724A (ja) * | 2010-01-19 | 2011-09-01 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の配線修正方法、基板の配線修正装置及び基板の配線形成装置 |
| JP2012050968A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Shibaura Mechatronics Corp | ペースト塗布装置及びペースト塗布方法 |
| KR20210119494A (ko) * | 2019-02-01 | 2021-10-05 | 엑스티피엘 에스.에이. | 유체 프린팅 방법 |
| JP2022526211A (ja) * | 2019-02-01 | 2022-05-24 | エックスティーピーエル エス．アー． | 流体を印刷する方法 |
| JP7256273B2 (ja) | 2019-02-01 | 2023-04-11 | エックスティーピーエル エス．アー． | 流体を印刷する方法 |
| KR102662361B1 (ko) | 2019-02-01 | 2024-04-30 | 엑스티피엘 에스.에이. | 유체 프린팅 방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20090262155A1 (en) | Complex system having ink-jet printing function and testing function, and an ink-jet printing apparatus having the same | |
| KR101214698B1 (ko) | 페이스트 도포 장치 및 페이스트 도포 방법 | |
| JP2012124381A (ja) | 塗布装置、塗布方法、およびパターン修正装置 | |
| JP2001252606A (ja) | 微細パターン形成装置及び微細パターン補修装置 | |
| CN113696638A (zh) | 玻璃基板电路打印方法和设备 | |
| TW200821662A (en) | Method for repairing defective portion in flat display panel | |
| JP2022526693A (ja) | 流体印刷装置 | |
| JP2010005814A (ja) | スクリーン印刷装置 | |
| JP2004321932A (ja) | 接着剤の塗布装置及び接着剤の塗布方法 | |
| JP2012101175A (ja) | 塗布機構、塗布方法、および塗布装置 | |
| JP7256273B2 (ja) | 流体を印刷する方法 | |
| JP2012124380A (ja) | 塗布装置、塗布方法、およびパターン修正装置 | |
| JP3903905B2 (ja) | ペースト塗布装置およびペースト塗布方法ならびにペースト塗布における描画性判定装置 | |
| JPH1157572A (ja) | 接着剤塗布装置 | |
| JPH0954206A (ja) | カラーフィルタの修復装置及びカラーフィルタの修復方法 | |
| JP3758892B2 (ja) | 欠陥修正方法および欠陥修正装置 | |
| JP3725310B2 (ja) | ペースト塗布修正装置 | |
| JPH09253556A (ja) | 塗布装置および塗布方法並びにカラーフィルタの製造装置および製造方法 | |
| JP3518404B2 (ja) | ペースト塗布方法 | |
| TW201731594A (zh) | 膜圖案描繪方法、塗布膜基材、及塗布裝置 | |
| JPH08141464A (ja) | ペースト塗布機 | |
| JP2002186892A (ja) | 塗布装置 | |
| JP3518403B2 (ja) | ペースト塗布方法 | |
| JP3689551B2 (ja) | 粘性流体塗布装置 | |
| JP4696945B2 (ja) | 配線基板修正方法及び配線基板修正装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040224 |