JP2001135263A - Image-forming apparatus and manufacturing method therefor - Google Patents
Image-forming apparatus and manufacturing method thereforInfo
- Publication number
- JP2001135263A JP2001135263A JP30964399A JP30964399A JP2001135263A JP 2001135263 A JP2001135263 A JP 2001135263A JP 30964399 A JP30964399 A JP 30964399A JP 30964399 A JP30964399 A JP 30964399A JP 2001135263 A JP2001135263 A JP 2001135263A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spacer
- front plate
- resin layer
- phosphor
- width
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子源と蛍光体と
を備える画像形成装置およびその製造方法に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an image forming apparatus having an electron source and a phosphor and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来技術】従来から画像形成装置として多用されてき
たCRTは、容積及び重量が大で高電圧が必要であると
いう欠点から、近年のマルチメディアの浸透に伴い、情
報のインターフェースとして発光ダイオード(LED)
や液晶表示素子(LCD)、あるいはPDP(Plasma D
isplay Panel)、FED(Field Emission Display)等
の大画面で高画質、その上、軽量薄型で設置場所を選ば
ないなどの特徴を有する平面画像形成装置が開発され、
これらの利用範囲が拡大しつつある。2. Description of the Related Art A CRT, which has been widely used as an image forming apparatus, has a disadvantage that it has a large volume and weight and requires a high voltage. )
Or liquid crystal display (LCD) or PDP (Plasma D
A flat image forming device has been developed that has features such as isplay panel), FED (Field Emission Display), etc., with large screens, high image quality, light weight and thinness, and can be installed anywhere.
The range of their use is expanding.
【0003】前記FEDは、背面板と正面板を成す一対
の平坦な基板を対向配置して平板状の真空容器を形成
し、背面板の真空容器内表面に電気信号により電子を放
出するマトリックス形態の電子放出素子群を設けると共
に、前記真空容器内面の正面板側に電子線により可視発
光を行う蛍光体をRGBの画素に対応して形成して構成
されており、前記電子放出素子に所定の電圧を選択的に
印加して電子を放出させることにより、画面上の所望の
位置に所望の光点を表示し画像表示を行うものであり、
LCDに比べ視野角が広く、PDPと比べても消費電力
が低く抑えることができるという長所がある。The FED is a matrix type in which a pair of flat substrates forming a back plate and a front plate are arranged to face each other to form a flat vacuum vessel, and electrons are emitted to the inner surface of the vacuum vessel of the back plate by an electric signal. And a phosphor that emits visible light by an electron beam is formed on the front plate side of the inner surface of the vacuum vessel in correspondence with RGB pixels. By selectively applying a voltage to emit electrons, a desired light spot is displayed at a desired position on the screen and an image is displayed.
There is an advantage that the viewing angle is wider than LCD and power consumption can be suppressed lower than PDP.
【0004】かかるFEDは、異常放電の発生を抑制す
るため電子放出素子と蛍光体との間隔を500μm以上
に保ち、また、発光輝度のムラなどの問題を回避するた
め前記間隔をFED全面にわたって一定に保つ必要があ
るとともに、さらに、内部を10-3Pa以上の高真空と
する必要がある。ところが、FEDの表示面積が大きく
なるに従い、特にFED中央部付近で正面板と背面板
が、大気圧によって押されて歪みや撓みを生じ、著しい
場合は正面板と背面板の変形や破壊が発生するという問
題があった。In such an FED, the distance between the electron-emitting device and the phosphor is kept at 500 μm or more in order to suppress the occurrence of abnormal discharge, and the distance is kept constant over the entire surface of the FED in order to avoid problems such as uneven brightness of light emission. , And further, it is necessary to make the inside a high vacuum of 10 −3 Pa or more. However, as the display area of the FED increases, the front plate and the back plate are pushed by the atmospheric pressure, particularly near the center of the FED, causing distortion and bending. In a severe case, the front plate and the back plate are deformed or broken. There was a problem of doing.
【0005】このような正面板と背面板が大気圧によっ
て変形・破壊する問題を解決する手法として、特開平5
−36363号公報では、前面板の厚みを厚くすること
が提案されているが、この方法では、軽量化できるとい
うFEDの利点をなくしてしまうという問題があった。As a method for solving such a problem that the front plate and the back plate are deformed or broken by the atmospheric pressure, Japanese Patent Laid-Open No.
Japanese Patent Publication No. 36363 proposes increasing the thickness of the front plate. However, this method has a problem in that the advantage of the FED that the weight can be reduced is lost.
【0006】そこで、特開平10−92314号公報に
は、正面板と背面板を一定に保持するために電子放出素
子を形成した背面板上の所定の位置に所定形状に切り出
したガラス板からなるスペーサを配設置し、ガラスフリ
ットなどの接着剤で接合したFEDが開示されている。Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 10-92314 discloses a glass plate cut into a predetermined shape at a predetermined position on a back plate on which electron-emitting devices are formed in order to keep the front plate and the back plate constant. An FED in which spacers are arranged and bonded with an adhesive such as glass frit is disclosed.
【0007】また、特開平10−334832号公報で
は、スペーサを正面板に固定し、背面板と当接させるこ
とによって、組立時に正面板表面に形成された蛍光体を
損傷する危険性を回避できることが開示されている。In Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-334832, the risk of damaging the phosphor formed on the surface of the front plate during assembly can be avoided by fixing the spacer to the front plate and bringing the spacer into contact with the rear plate. Is disclosed.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、特開
平10−92314号公報のガラス板を所定形状に加工
してガラスフリットにて接合するスペーサの形成方法で
は、微小な形状のスペーサを簡単に精度良く形成するこ
とが困難であるとともに、ガラスフリットを溶融固着さ
せる工程においてスペーサが傾斜または転倒し、製造歩
留まりが低下するという問題があった。However, in the method of forming a spacer in which a glass plate is processed into a predetermined shape and bonded with a glass frit according to Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-92314, a spacer having a minute shape can be easily and accurately formed. In addition to the difficulty in forming the glass frit, there is a problem that the spacer is inclined or falls in the step of melting and fixing the glass frit, and the production yield is reduced.
【0009】また、特開平10−334832号公報で
は、組立時に正面板表面に形成された蛍光体を損傷する
危険性を回避できるものの、製造時にスペーサを基板表
面に貼り合わせる接着剤の厚みやスペーサの焼結等によ
りスペーサが若干傾いた場合には、スペーサの耐荷重が
著しく低下してチッピングを生じたり、正面板と背面板
とを支持することができないという問題があった。In Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-334832, the risk of damaging the phosphor formed on the front plate surface during assembly can be avoided. When the spacer is slightly tilted due to sintering or the like, there has been a problem that the withstand load of the spacer is remarkably reduced to cause chipping and that the front plate and the back plate cannot be supported.
【0010】本発明は前記課題を解決するためになされ
たもので、その目的は、装置の組立が容易にできるとと
もに、スペーサの耐久性を向上できる画像形成装置及び
その製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an image forming apparatus capable of easily assembling the apparatus and improving the durability of a spacer, and a method of manufacturing the same. is there.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題に
鑑み鋭意検討した結果、スペーサを正面板側と一体に形
成するとともに、前記スペーサにおいて正面板側の端部
の幅よりも背面板側の端部の幅を広くすることによっ
て、スペーサ接合時に正面板表面の蛍光体を破損するこ
とがなく、かつスペーサの正面板への接合角度が傾いた
場合でも、スペーサの耐荷重が著しく低下することなく
正面板と背面板とを安定して支持できることを見いだし
た。Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies in view of the above-mentioned problems, and as a result, have formed a spacer integrally with the front plate side, and have a rear plate having a width greater than the width of the end of the spacer on the front plate side. By increasing the width of the end on the side, the phosphor on the front plate surface is not damaged at the time of joining the spacer, and even if the joining angle of the spacer to the front plate is inclined, the load capacity of the spacer is significantly reduced. It was found that the front plate and the back plate could be stably supported without performing.
【0012】即ち、本発明の画像形成装置は、電子放出
素子が設けられた背面板と、蛍光体が設けられ前記背面
板と対向する位置に配された正面板と、前記背面板と前
記正面板との間に配されたスペーサと、を有し、前記電
子放出素子から放出される電子を前記蛍光体に照射して
画像を形成する画像形成装置において、前記スペーサを
前記正面板と一体に形成してなるとともに、前記スペー
サの幅が正面板端部の幅より背面板側の端部の幅が広い
ことを特徴とするものである。That is, in the image forming apparatus of the present invention, there is provided a back plate provided with an electron-emitting device, a front plate provided with a phosphor and arranged at a position facing the back plate; And a spacer disposed between the front plate and the front plate, wherein the spacer is integrated with the front plate, wherein the spacer is integrally formed with the phosphor by irradiating the phosphor with electrons emitted from the electron-emitting device. The width of the spacer is wider at the rear plate side end than at the front plate end width.
【0013】また、前記スペーサが台形形状であって、
前記スペーサの側面と正面板の垂線との成す角度θが
0.5〜8゜であることが好ましい。Further, the spacer has a trapezoidal shape,
It is preferable that the angle θ between the side surface of the spacer and the perpendicular of the front plate is 0.5 to 8 °.
【0014】さらに、本発明の画像形成装置の製造方法
は、(a)セラミックスまたはガラスからなる正面板表
面に蛍光体を被着形成する工程と、(b)前記正面板の
前記蛍光体形成面に軟質の樹脂層を形成する工程と、
(c)成形型基材表面にスペーサ形状の凸部を複数配置
し、かつ前記凸部の先端の幅が前記凸部の基材側の幅よ
り広いスペーサ成形型を、前記正面板表面の樹脂層を表
面に押圧、離型して、前記樹脂層にスペーサ用空隙を形
成する工程と、(d)前記正面板表面の前記スペーサ用
空隙中にガラス粉末および/またはセラミック粉末を含
有するペーストを充填してスペーサ成形体を形成する工
程と、(e)前記正面板表面の樹脂層を除去する工程
と、(f)前記正面板表面のスペーサ成形体を焼成して
前記正面板表面にスペーサを一体的に形成する工程と、
(g)前記スペーサの先端面に背面板を接着固定する工
程とを具備することを特徴とするものである。Further, in the method of manufacturing an image forming apparatus according to the present invention, there are provided (a) a step of forming a phosphor on a surface of a front plate made of ceramics or glass, and (b) a step of forming the phosphor on the front plate. Forming a soft resin layer on the
(C) A plurality of spacer-shaped projections are arranged on the surface of the molding die base material, and the width of the tip of the projection is wider than the width of the projections on the base material side. Pressing the layer against the surface and releasing to form a space for the spacer in the resin layer; and (d) applying a paste containing glass powder and / or ceramic powder in the space for the spacer on the front plate surface. Filling to form a spacer molded body; (e) removing the resin layer on the front plate surface; and (f) firing the spacer molded body on the front plate surface to form a spacer on the front plate surface. A step of integrally forming;
(G) a step of bonding and fixing a back plate to the tip end surface of the spacer.
【0015】また、本発明の画像形成装置の他の製造方
法は、(a)セラミックスまたはガラスからなる正面板
表面に軟質の樹脂層を形成する工程と、(b)成形型基
材表面にスペーサ形状の凸部を複数配置し、かつ前記凸
部の先端の幅が前記凸部の基材側の幅より広いスペーサ
成形型を、前記正面板表面の樹脂層を表面に押圧、離型
して、前記樹脂層にスペーサ用空隙を形成する工程と、
(c)前記正面板表面の前記スペーサ用空隙中にガラス
粉末および/またはセラミック粉末を含有するペースト
を充填してスペーサ成形体を形成する工程と、(d)前
記正面板表面の樹脂層を除去する工程と、(e)前記正
面板表面のスペーサ成形体を焼成して前記正面板表面に
スペーサを一体的に形成する工程と、(f)前記正面板
の前記スペーサ形成面に蛍光体を形成する工程と、
(g)前記スペーサの先端面に背面板を接着固定する工
程とを具備することを特徴とするものである。Another method of manufacturing an image forming apparatus according to the present invention includes the steps of (a) forming a soft resin layer on the surface of a front plate made of ceramics or glass; A plurality of convex portions having a shape are arranged, and the width of the tip of the convex portion is larger than the width of the convex portion on the base material side, and the resin layer on the front plate surface is pressed against the surface, and separated. Forming a space for a spacer in the resin layer,
(C) a step of filling a paste containing glass powder and / or ceramic powder into the space for spacers on the front plate surface to form a spacer molded body; and (d) removing a resin layer on the front plate surface. (E) baking the spacer molded body on the front plate surface to integrally form a spacer on the front plate surface; and (f) forming a phosphor on the spacer forming surface of the front plate. The process of
(G) a step of bonding and fixing a back plate to the tip end surface of the spacer.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】本発明の画像形成装置の一例であ
るFEDについて図1の概略断面図を基に説明する。F
ED1は、所定間隔離間して平行に形成された背面板2
と正面板3とが、枠体4にそれぞれ接合され、背面板
2、正面板3、枠体4とで封止されたパネル5が形成さ
れている。また、パネル5内には背面板2と正面板3と
を支持する並列に配設されたリブ状のスペーサ6が形成
され、これによって、背面板2と正面板3との距離が一
定に保持されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An FED, which is an example of an image forming apparatus according to the present invention, will be described with reference to a schematic sectional view of FIG. F
ED1 is a back plate 2 formed in parallel with a predetermined separation.
And the front plate 3 are respectively joined to the frame 4 to form a panel 5 sealed by the back plate 2, the front plate 3 and the frame 4. In the panel 5, rib-shaped spacers 6 arranged in parallel to support the rear plate 2 and the front plate 3 are formed, so that the distance between the rear plate 2 and the front plate 3 is kept constant. Have been.
【0017】また、正面板3のパネル5内面には、後述
の電子放出素子8に対向してR、G、Bに発光する蛍光
体7が所定パターンに配置され、画像信号に応じて電子
放出素子8から放出した電子が所定の蛍光体7に衝突す
ることにより発光することができる。On the inner surface of the panel 5 of the front panel 3, phosphors 7, which emit R, G, and B light, are arranged in a predetermined pattern so as to face an electron emitting element 8, which will be described later. Light can be emitted when electrons emitted from the element 8 collide with a predetermined phosphor 7.
【0018】さらに、背面板2表面には、正電極及び負
電極をなすそれぞれの導体層(図示せず。)が交差する
ように配置され、該交差点で電子放出素子8が構成され
ている。なお、本発明では、上述した正、負電極間に絶
縁体を介装した電子放出素子8に限定されるものではな
く、例えば、表面伝導型や電界放出型の電子放出素子で
あってもよい。Further, on the surface of the back plate 2, respective conductor layers (not shown) forming a positive electrode and a negative electrode are arranged so as to intersect, and the electron-emitting device 8 is formed at the intersection. The present invention is not limited to the above-described electron-emitting device 8 in which an insulator is interposed between the positive and negative electrodes, and may be, for example, a surface conduction type or field emission type electron-emitting device. .
【0019】本発明によれば、スペーサ6を正面板3と
一体に形成してなるとともに、スペーサ6の幅が正面板
3側の端部より背面板2側の端部が広いことが大きな特
徴である。これによって、スペーサ6を正面板3側に形
成することによって、製造時に蛍光体7を損傷すること
なく容易に形成できるとともに、たとえスペーサ6が正
面板3に対して傾いて形成された場合、スペーサ6の背
面板2側の幅が狭いと基板が垂線方向に平行な面を存続
させることができず、スペーサ6の耐荷重が極端に低下
する。これに対して、スペーサ6の背面板2側の幅を広
く形成したことによって、基板の垂線方向に平行な面を
存続させることができ、スペーサ6の耐荷重が極端に低
下することなく、安定して背面板2と正面板3とを支持
することができる。According to the present invention, the spacer 6 is formed integrally with the front plate 3, and the width of the spacer 6 is wider at the rear plate 2 end than at the front plate 3 end. It is. Thus, by forming the spacer 6 on the front plate 3 side, the phosphor 7 can be easily formed without damaging the phosphor 7 at the time of manufacturing, and even if the spacer 6 is formed to be inclined with respect to the front plate 3, If the width of the back plate 6 on the side of the back plate 2 is small, the substrate cannot keep the plane parallel to the perpendicular direction, and the load resistance of the spacer 6 is extremely reduced. On the other hand, by forming the width of the spacer 6 on the side of the back plate 2 wider, a surface parallel to the perpendicular direction of the substrate can be maintained, and the load resistance of the spacer 6 can be stably maintained without drastically decreasing. Thus, the rear plate 2 and the front plate 3 can be supported.
【0020】なお、スペーサ6の断面形状は効率のよい
発光およびスペーサの耐荷重向上の点で台形形状である
ことが望ましい。The cross-sectional shape of the spacer 6 is desirably a trapezoidal shape from the viewpoint of efficient light emission and improvement of load resistance of the spacer.
【0021】背面板2および正面板3は、石英ガラス、
ソーダライムガラス、低ソーダガラス、鉛アルカリケイ
酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、ビスマス系ガラス等のガ
ラス基板、アルミナ、シリカ等のセラミックス基板から
なり、また、正面板3は透明な材料にて形成される。The back plate 2 and the front plate 3 are made of quartz glass,
It is composed of a glass substrate such as soda lime glass, low soda glass, lead alkali silicate glass, borosilicate glass, bismuth glass, or a ceramic substrate such as alumina or silica, and the front plate 3 is formed of a transparent material. .
【0022】さらに、電子放出素子8を形成する前記正
電極および負電極用の導体層は、銀(Ag)、アルミニ
ウム(Al)、ニッケル(Ni)、白金(Pt)、金
(Au)、パラジウム(Pd)等の金属またはそれぞれ
を主成分とする合金、及び、アモルファスシリコン、ポ
リシリコン、グラファイト等を用いることができる。ま
た、正電極用導体層と負電極用導体層との交差点にはS
i、Ti、Ga、W、Al、Pd等の酸化物や窒化物か
ら選ばれる少なくとも1種からなる絶縁体が介層され
る。Further, the conductor layers for the positive electrode and the negative electrode forming the electron-emitting device 8 are made of silver (Ag), aluminum (Al), nickel (Ni), platinum (Pt), gold (Au), palladium. A metal such as (Pd) or an alloy containing each as a main component, amorphous silicon, polysilicon, graphite, or the like can be used. Further, at the intersection of the conductor layer for the positive electrode and the conductor layer for the negative electrode, S
An insulator made of at least one selected from oxides and nitrides of i, Ti, Ga, W, Al, Pd and the like is interposed.
【0023】さらに、所望により電子放出素子8への不
純物の拡散防止のために背面板2と電子放出素子8との
間にシリカ、窒化ケイ素等のセラミックス薄膜等からな
る拡散防止層(図示せず。)が介在することが望まし
い。Further, if necessary, a diffusion preventing layer (not shown) made of a ceramic thin film of silica, silicon nitride or the like is provided between the back plate 2 and the electron emitting element 8 in order to prevent diffusion of impurities into the electron emitting element 8. )) Is desirable.
【0024】なお、図1中、スペーサ6は電子放出素子
8のR、G、Bの3つを1組とし、各組毎に形成されて
いるが、1列毎の配置であってもよく、4つ以上の素子
毎に形成されていてもよい。また、スペーサ6はリブ状
に限定されるものではなく、例えば、図2に示すよう
に、短冊状、柱状、枠状であってもパネル5を確保する
強度を保持していればよい。In FIG. 1, the spacers 6 are formed for each of the three sets of R, G, and B of the electron-emitting device 8, but may be arranged for each row. It may be formed for every four or more elements. Further, the spacer 6 is not limited to the rib shape. For example, as shown in FIG. 2, it is sufficient that the spacer 6 has sufficient strength to secure the panel 5 even in a strip shape, a column shape, or a frame shape.
【0025】さらに、蛍光体7形成部以外の特定の位置
にはブラックマトリックスが配置されることが望まし
い。ブラックマトリックスは黒色または暗色となる材料
からなり、例えば、Fe、Ni、Cu、Mn等の酸化物
粉末と低融点ガラスとの混合物や金属クロム、グラファ
イト等を用いることができる。Further, it is desirable that a black matrix is arranged at a specific position other than the phosphor 7 forming portion. The black matrix is made of a material that becomes black or dark, and for example, a mixture of an oxide powder of Fe, Ni, Cu, Mn and the like and a low melting point glass, metallic chromium, graphite and the like can be used.
【0026】また、蛍光体に蓄積される電荷を逃がすた
め、正面板3と蛍光体7との間に透明なITO膜(図示
せず。)を形成するか、またはアルミニウム(Al)、
銀(Ag)、ニッケル(Ni)、白金(Pt)、等から
なる箔からなるメタルバック(図示せず。)を蛍光体7
表面に蒸着法などによって形成することが望ましい。Further, in order to release electric charges accumulated in the phosphor, a transparent ITO film (not shown) is formed between the front plate 3 and the phosphor 7 or aluminum (Al),
A metal back (not shown) made of a foil made of silver (Ag), nickel (Ni), platinum (Pt), or the like is used as the phosphor 7.
It is desirable to form it on the surface by an evaporation method or the like.
【0027】さらに、メタルバックは蛍光体7に蓄積さ
れる電荷を逃がす目的の他に、蛍光体7からの発光を反
射させ、輝度を高める働きをもなす。また、メタルバッ
クの厚みは電子放出素子8からの電子が透過するととも
に、蛍光体7からパネル5内に放出される光を反射する
という目的からおよそ100〜300nmであることが
望ましい。さらに、メタルバックは前面板3全面に形成
してもよいが、スペーサ6の前面板3への接合強度を高
めるためには、スペーサ6を形成する正面板3表面には
メタルバックを形成しないことが望ましい。Further, the metal back serves not only to release the electric charge accumulated in the phosphor 7 but also to reflect the light emitted from the phosphor 7 to increase the luminance. The thickness of the metal back is desirably about 100 to 300 nm for the purpose of transmitting electrons from the electron-emitting device 8 and reflecting light emitted from the phosphor 7 into the panel 5. Further, the metal back may be formed on the entire surface of the front plate 3. However, in order to increase the bonding strength of the spacer 6 to the front plate 3, the metal back should not be formed on the surface of the front plate 3 on which the spacer 6 is formed. Is desirable.
【0028】さらに、スペーサ6に金属粉末等の導電性
粒子を分散させ、スペーサ6端部を電位制御回路(図示
せず。)と接続することにより、スペーサ6表面が帯電
することを防止できる。Further, by dispersing conductive particles such as metal powder in the spacer 6 and connecting the end of the spacer 6 to a potential control circuit (not shown), the surface of the spacer 6 can be prevented from being charged.
【0029】次に、本発明の画像形成装置の製造方法に
ついて、図1の画像形成装置を製造する方法の一例を示
す図3の工程図をもとに説明する。なお、図3では、枠
体4を省略している。Next, a method of manufacturing the image forming apparatus according to the present invention will be described with reference to a process chart of FIG. 3 showing an example of a method of manufacturing the image forming apparatus of FIG. In FIG. 3, the frame 4 is omitted.
【0030】まず、上述した材料からなる正面板3を作
製し、所定形状にカットした後、格子状のブラックマト
リックスをフォトリソグラフィ法、印刷法等により形成
し、該ブラックマトリックスによって囲まれた領域の所
定の位置に、フォトリソグラフィ法、印刷法、インクジ
ェット法等の公知の方法により蛍光体7を形成する。な
お、スペーサ6の正面板3への接合強度向上の点で、蛍
光体7は正面板3のスペーサ6形成部にはマスク等を用
いて形成しないことが望ましい。First, a front plate 3 made of the above-described material is prepared, cut into a predetermined shape, and then a grid-like black matrix is formed by a photolithography method, a printing method, or the like, and a region surrounded by the black matrix is formed. The phosphor 7 is formed at a predetermined position by a known method such as a photolithography method, a printing method, and an inkjet method. From the viewpoint of improving the bonding strength of the spacer 6 to the front plate 3, it is preferable that the phosphor 7 is not formed on the portion of the front plate 3 where the spacer 6 is formed by using a mask or the like.
【0031】また、蛍光体7に蓄積される電荷を逃がす
ため、正面板3と蛍光体7との間にペースト塗布法、蒸
着法等によりITO膜(図示せず。)を形成するか、ま
たはアルミニウム(Al)、銀(Ag)、ニッケル(N
i)、白金(Pt)、等からなり100〜300nm程
度の厚みを有する箔からなるメタルバック(図示せ
ず。)を蛍光体7表面に蒸着法などによって形成するこ
とが望ましく、さらに、蛍光体7の損傷を防ぐため、ま
た前記メタルバックを薄くかつ均一な厚みに形成するた
めに樹脂からなる保護層20を蛍光体7表面に形成する
ことが望ましい。In order to release the electric charge accumulated in the phosphor 7, an ITO film (not shown) is formed between the front plate 3 and the phosphor 7 by a paste coating method, a vapor deposition method, or the like, or Aluminum (Al), silver (Ag), nickel (N
i), a metal back (not shown) made of foil having a thickness of about 100 to 300 nm made of, for example, platinum (Pt) or the like is preferably formed on the surface of the phosphor 7 by vapor deposition or the like. It is desirable to form a protective layer 20 made of resin on the surface of the phosphor 7 in order to prevent the metal back 7 from being damaged and to form the metal back to be thin and uniform in thickness.
【0032】なお、保護層20は後述のバインダ、溶剤
の他、消泡材やレベリング材等を添加した樹脂ペースト
をフォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法
等にて形成でき、後述の樹脂層21の除去時または熱処
理により消失することが望ましい。The protective layer 20 can be formed of a resin paste to which a defoaming material or a leveling material is added by a photolithography method, a printing method, an ink jet method or the like in addition to a binder and a solvent described later. Is desirably eliminated at the time of removal or by heat treatment.
【0033】次に、軟質の樹脂層21形成用の樹脂ペー
ストを調製する。樹脂は、ワックス、アクリル系、ブチ
ラール系、エポキシ系等の熱可塑性樹脂、紫外線硬化樹
脂、電子線硬化樹脂、熱硬化性樹脂等の硬化可能な樹脂
が望ましい。また、上記樹脂ペーストに、DBP(フタ
ル酸ジブチル)、DOP(フタル酸ジオクチル)、α−
テルピネオール等の可塑剤、ベンジルアルコール、IP
A(イソプロピルアルコール)、カルビトール等の高沸
点溶剤を添加して所望の柔らかさに調整することが望ま
しい。Next, a resin paste for forming the soft resin layer 21 is prepared. The resin is desirably a curable resin such as a wax, an acrylic resin, a butyral resin, an epoxy resin, or the like, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, or a thermosetting resin. In addition, DBP (dibutyl phthalate), DOP (dioctyl phthalate), α-
Plasticizers such as terpineol, benzyl alcohol, IP
It is desirable to add a high boiling point solvent such as A (isopropyl alcohol), carbitol or the like to adjust to a desired softness.
【0034】さらに、樹脂層21の保形性を高めるため
に、平均粒径50μm以下、特に10μm以下で、例え
ばビーズ状の硬化したプラスチック等からなる第二の樹
脂粉末を添加してもよい。なお、第二の樹脂粉末は、最
終的に除去されることが望ましく、この点で、600℃
以下の熱処理で完全に分解揮散することが望ましい。Further, in order to enhance the shape retaining property of the resin layer 21, a second resin powder having an average particle diameter of 50 μm or less, particularly 10 μm or less, and made of, for example, a hardened bead-like plastic may be added. It is desirable that the second resin powder is finally removed.
It is desirable to completely decompose and volatilize by the following heat treatment.
【0035】そして、正面板3表面に、前記樹脂ペース
トをスクリーン印刷、ドクターブレード、スリットコー
ター、スピンコーター法等の公知の膜形成法により所定
厚み塗布し樹脂層21を形成する。ここで、上述したと
おり、所望により蛍光体7の保形性を保つために正面板
3と樹脂層21との界面に厚み1〜20μm程度の保護
層20を介在させることが望ましい。The resin paste is applied to the surface of the front plate 3 to a predetermined thickness by a known film forming method such as screen printing, a doctor blade, a slit coater, or a spin coater to form a resin layer 21. Here, as described above, it is desirable to interpose the protective layer 20 having a thickness of about 1 to 20 μm at the interface between the front plate 3 and the resin layer 21 in order to maintain the shape retention of the phosphor 7 if desired.
【0036】また、保護層20を後述のスペーサ成形体
28中の樹脂と同一の成分で形成すれば樹脂層23の正
面板3への密着性を高めることもできる。If the protective layer 20 is formed of the same components as the resin in the spacer molded body 28 described later, the adhesion of the resin layer 23 to the front plate 3 can be enhanced.
【0037】さらに、樹脂層21の他の形成方法として
は、PET(ポリエチレンテレフタレート)等のポリエ
ステル系樹脂フィルム等の表面に上記手法により所定厚
みの樹脂膜を形成し、所定形状にカットした後、正面板
3表面に所望により加熱しつつ圧着してもよい。Further, as another method of forming the resin layer 21, a resin film having a predetermined thickness is formed on the surface of a polyester resin film such as PET (polyethylene terephthalate) by the above-described method, and cut into a predetermined shape. It may be press-bonded to the surface of the front plate 3 while being heated as required.
【0038】次に、樹脂層21に対し、成形型基材22
表面にスペーサ形状の凸部23を複数配置し、かつ凸部
23の基材22側の端部幅より凸部23の先端側の端部
幅が狭いスペーサ成形型24を、正面板3表面の樹脂層
21を表面に押圧、離型して、樹脂層21にスペーサ用
空隙26を形成する。Next, the resin layer 21 is applied to the mold base material 22.
A spacer forming die 24 in which a plurality of spacer-shaped convex portions 23 are arranged on the surface and the end width of the convex portion 23 on the front end side is narrower than the end width of the convex portion 23 on the base material 22 side is used. The resin layer 21 is pressed against the surface and released to form a space 26 for the spacer in the resin layer 21.
【0039】つまり、スペーサ用空隙26の断面形状
は、スペーサ用空隙26の開口部の幅、すなわちスペー
サ用空隙26の背面板2側の端部の幅が、スペーサ用空
隙26の底部、すなわちスペーサ用空隙26の前面板3
側の端部の幅よりも広く形成される。上述のように成形
型24の凸部23を先端側の端部幅より基材22側の端
部幅を広く形成したことによって、樹脂の成形型への充
填性および樹脂の成形型からの離型性が向上し、成形型
の押圧、離型が容易に行えるというメリットがある。That is, the sectional shape of the spacer gap 26 is such that the width of the opening of the spacer gap 26, that is, the width of the end of the spacer gap 26 on the back plate 2 side is the bottom of the spacer gap 26, that is, the spacer. Front plate 3 of air gap 26
It is formed wider than the width of the end on the side. As described above, the protrusion 23 of the mold 24 is formed so that the end width on the base material 22 side is wider than the end width on the front end side, so that the resin can be filled into the mold and the resin can be separated from the mold. There is an advantage that the moldability is improved, and the pressing and releasing of the mold can be easily performed.
【0040】成型型24内の凸部23は、例えば、スペ
ーサ用空隙26の底部、すなわちスペーサ6の正面板3
側の端部が300μm以下、特に150μm以下、スペ
ーサ用空隙26の開口部、すなわち、背面板2側の端部
での幅が350μm以下、特に200μm以下、高さ1
00μm以上、特に500μm以上のリブ状をなし、特
に、上述したような台形形状であることが望ましい。ま
た、スペーサ用空隙26はその複数本が並列に配設され
ており、また、スペーサの間隔100μm以上、スペー
サ間のピッチ200μm以上であれば形成可能である。
なお、上記スペーサ形状の数値範囲は、後述のスペーサ
成形体を焼成したスペーサに対応するものであり、スペ
ーサ用空隙26のサイズは焼成による収縮分大きくな
る。The protrusion 23 in the molding die 24 is formed, for example, at the bottom of the space 26 for the spacer, that is, the front plate 3 of the spacer 6.
Side end is 300 μm or less, particularly 150 μm or less, and the width of the opening of the space 26 for spacer, that is, the end at the back plate 2 side is 350 μm or less, particularly 200 μm or less, and height 1
It is desirably in the form of a rib of at least 00 μm, particularly at least 500 μm, and particularly desirably the trapezoidal shape as described above. A plurality of spacer gaps 26 are arranged in parallel, and the spacer gaps 26 can be formed as long as the spacing between the spacers is 100 μm or more and the pitch between the spacers is 200 μm or more.
The numerical value range of the spacer shape corresponds to a spacer formed by firing a spacer molded body described later, and the size of the spacer gap 26 increases by shrinkage due to firing.
【0041】成形型24は、金属、セラミックス、ガラ
ス、硬化した樹脂等の剛性の高い材質またはゴム等から
なり、平板型またはロール型であることが望ましい。ま
た、成形型24の表面には、離型性の向上あるいは耐摩
耗性の向上等のために、表面処理などを施しても何等問
題ない。The molding die 24 is made of a highly rigid material such as metal, ceramics, glass, hardened resin or rubber, or the like, and is preferably a flat plate type or a roll type. There is no problem even if the surface of the mold 24 is subjected to a surface treatment or the like in order to improve the releasability or the wear resistance.
【0042】さらに、成形型24の凸部23の形状はリ
ブ状に限定されるものではなく、図4に示すように短冊
状、柱状、枠状であってもよく、これにより、図2に示
すような短冊状、柱状、枠状のスペーサを作製すること
ができる。Further, the shape of the convex portion 23 of the molding die 24 is not limited to a rib shape, but may be a strip shape, a column shape, or a frame shape as shown in FIG. The strip-shaped, column-shaped, and frame-shaped spacers as shown can be manufactured.
【0043】押圧方法は、成形型24が平板型の場合、
成形型24を樹脂層21表面の所定の位置に配設して所
定の圧力にて押圧した後成形型24を離型する方法や、
成形型24がロール型の場合、ロール状の成形型24を
樹脂層21表面の所定の位置に配設して押圧しながらロ
ール状の成形型24を回転、移動させる方法が適用でき
る。そして、所望により、上記スペーサ用空隙26を形
成した樹脂層21を硬化する。The pressing method is as follows: when the molding die 24 is a flat plate type,
A method of disposing the mold 24 at a predetermined position on the surface of the resin layer 21 and pressing the mold 24 at a predetermined pressure, and then releasing the mold 24,
When the mold 24 is a roll mold, a method in which the roll mold 24 is arranged at a predetermined position on the surface of the resin layer 21 and the roll mold 24 is rotated and moved while being pressed can be applied. Then, if desired, the resin layer 21 in which the spacer gap 26 has been formed is cured.
【0044】一方、平均粒径0.5〜6μmのガラス粉
末と、バインダ、可塑剤、分散剤、溶剤等の有機物とを
混練してスペーサ用ペーストを作製する。On the other hand, a glass paste having an average particle size of 0.5 to 6 μm and an organic substance such as a binder, a plasticizer, a dispersant, and a solvent are kneaded to prepare a paste for a spacer.
【0045】ガラス粉末としては、PbO、SiO2お
よびB2O3を含有するか、または前記ガラス粉末がBi
2O3およびB2O3を含有することが望ましく、融点が6
50℃以下であり、650℃以下の温度でスペーサを緻
密化できることがガラス基板の熱変形が回避される点か
ら望ましい。The glass powder contains PbO, SiO 2 and B 2 O 3 or the glass powder is Bi
It preferably contains 2 O 3 and B 2 O 3 and has a melting point of 6.
It is preferable that the spacer be densified at a temperature of 50 ° C. or lower and a temperature of 650 ° C. or lower from the viewpoint of avoiding thermal deformation of the glass substrate.
【0046】バインダとしては、アクリル系、ポリビニ
ルブチラール系、可塑剤としては、DBP(フタル酸ジ
ブチル)、DOP(フタル酸ジオクチル)、分散剤とし
ては、ノニオン系、リン酸系分散剤、溶剤としては、I
PA等の高級アルコール等が使用可能である。Acrylic and polyvinyl butyral binders are used, DBP (dibutyl phthalate) and DOP (dioctyl phthalate) are used as plasticizers, nonionic and phosphoric acid dispersants are used as dispersants, and solvents are used as dispersants. , I
Higher alcohols such as PA can be used.
【0047】また、上記スペーサ用ペースト中には、所
望により、前記ガラスの歪点の調整、スペーサの熱膨張
係数の制御、着色のため、平均粒径0.5〜6μmのT
iO 2、ZrO2、ZnO、SiO2、BN、Al2O3等
のセラミックフィラーを添加してもよく、また、スペー
サの焼成による収縮防止、スペーサへの導電性付与のた
めに、平均粒径0.5〜6μmのSi、Zn、Al、S
n、Cu、Mg等の金属粉末を添加してもよい。In the above-mentioned paste for spacers,
If desired, adjust the strain point of the glass, thermal expansion of the spacer
For controlling and coloring the coefficient, T having an average particle size of 0.5 to 6 μm
iO Two, ZrOTwo, ZnO, SiOTwo, BN, AlTwoOThreeetc
Ceramic filler may be added.
To prevent shrinkage due to baking, and to provide conductivity to spacers.
For example, Si, Zn, Al, S having an average particle size of 0.5 to 6 μm
Metal powders such as n, Cu, and Mg may be added.
【0048】そして、樹脂層21のスペーサ用空隙26
内に上記スペーサ用ペーストをスクリーン印刷、ディス
ペンサーによる充填、真空注入、スキージングによる擦
り込み等の公知の印刷法によって充填し、これを硬化し
てスペーサ成形体28とする。Then, the space 26 for the spacer of the resin layer 21 is formed.
The spacer paste is filled therein by a known printing method such as screen printing, filling with a dispenser, vacuum injection, rubbing by squeezing, and the like, and cured to form a spacer molded body 28.
【0049】次に、スペーサ成形体28を形成後、
(1)ブラシ洗浄等にて物理的に引き剥がす方法、
(2)溶剤等で樹脂層21を溶解させて流し出す方法、
(3)熱処理により樹脂層21を燃焼、揮散させる方
法、のうち少なくとも1つの方法を用いて正面板3表面
に残存する樹脂層21を除去する。Next, after forming the spacer molded body 28,
(1) Method of physically peeling off by brush cleaning, etc.
(2) a method of dissolving the resin layer 21 with a solvent or the like and flowing it out;
(3) The resin layer 21 remaining on the surface of the front plate 3 is removed by using at least one of the methods of burning and volatilizing the resin layer 21 by heat treatment.
【0050】さらに、樹脂層21を除去した後、酸化性
雰囲気または非酸化性雰囲気中、例えば、400〜65
0℃、特に450〜500℃にて焼成することにより正
面板3表面にスペーサ6を一体的に形成することができ
る。なお、上記熱処理による樹脂層21の除去の少なく
とも一部を焼成と同時に行うこともできる。Further, after the resin layer 21 is removed, an oxidizing atmosphere or a non-oxidizing atmosphere, for example, 400 to 65
By firing at 0 ° C., particularly at 450 to 500 ° C., the spacer 6 can be integrally formed on the surface of the front plate 3. Note that at least a part of the removal of the resin layer 21 by the heat treatment can be performed simultaneously with the firing.
【0051】一方、上述した材料からなる背面板2表面
に、フォトリソグラフィ法等により上述した材料からな
る導体層を正電極用導体層と負電極用導体層とが所定の
位置で交差するように被着形成し、かつその交差点には
スパッタリング法、蒸着法、イオンビームスパッタリン
グ法、CVD法、MBE法等により上述した材料からな
る絶縁体が介装されることによって電子放出素子8が形
成される。On the other hand, a conductor layer made of the above-mentioned material is formed on the surface of the back plate 2 made of the above-mentioned material by photolithography or the like so that the conductor layer for the positive electrode and the conductor layer for the negative electrode intersect at a predetermined position. The electron-emitting device 8 is formed by depositing and interposing an insulator made of the above-described material by a sputtering method, an evaporation method, an ion beam sputtering method, a CVD method, an MBE method, or the like at an intersection thereof. .
【0052】そして、背面板2と正面板3との間に枠体
4を配置するとともに、フリットガラスを印刷法により
背面板のスペーサおよび枠体を固着する部分、および/
またはスペーサおよび枠体の先端面に塗布し、上述した
正面板3表面に形成されたスペーサ6の先端面を背面板
2の所定の位置に位置合わせして400〜500℃で熱
処理することによって枠体4およびスペーサ6を貼り合
わせた後、パネルの一端に真空ポンプを配設してパネル
5内を10-4Pa程度まで真空減圧して封止することに
より、本発明の画像表示装置を作製することができる。The frame 4 is arranged between the rear plate 2 and the front plate 3, and the frit glass is fixed to the rear plate spacer and the frame by a printing method, and / or
Alternatively, the frame is formed by applying the heat treatment at 400 to 500 ° C. by coating the front end face of the spacer and the frame body with the front end face of the spacer 6 formed on the front plate 3 and positioning the front end face of the spacer 6 at a predetermined position on the back plate 2. After bonding the body 4 and the spacer 6, a vacuum pump is provided at one end of the panel, and the inside of the panel 5 is evacuated to about 10 -4 Pa and sealed, thereby producing the image display device of the present invention. can do.
【0053】なお、蛍光体7は、スペーサ6を正面板3
に一体化した後、被着形成してもよく、この場合、上記
同様にスペーサ6を正面板3表面に形成した後、スペー
サ6形成部以外の正面板3表面に上述の蛍光体ペースト
を用いてインクジェット法またはマスク等を用いた印刷
法等によって被着形成することができる。そして、蛍光
体ペーストを被着形成した正面板3を400〜600
℃、特に450〜500℃程度で熱処理してペーストを
揮散除去することにより、蛍光体7を形成することがで
きる。It should be noted that the phosphor 7 is formed by connecting the spacer 6 to the front plate 3.
After the spacer 6 is formed on the surface of the front plate 3 in the same manner as described above, the above-described phosphor paste is used on the surface of the front plate 3 other than the spacer 6 forming portion. Can be formed by an inkjet method or a printing method using a mask or the like. Then, the front plate 3 on which the phosphor paste is adhered is formed to 400 to 600.
The phosphor 7 can be formed by heat-treating the paste at a temperature of about 450 ° C., particularly about 450 to 500 ° C. to volatilize and remove the paste.
【0054】[0054]
【実施例】(実施例1)成形型凸部の先端側の端部幅8
0μm、凸部の基材からの高さ1200μm、凸部の長
さ10mmおよび表1に示す成形型凸部の前記基材側の
端部幅からなるスペーサ形状の凸部をピッチ700μm
で有する10mm角の金属成形型を準備した。なお、前
記スペーサ形状の凸部の側面と正面板表面における垂線
との成す角度θを表1に示した。Embodiment 1 (Embodiment 1) End width 8 on the front end side of a mold projection.
0 μm, the height of the projections from the base material is 1200 μm, the length of the projections is 10 mm, and the spacer-shaped projections comprising the end width of the molding die projections shown in Table 1 on the substrate side are pitch 700 μm.
A 10 mm square metal mold having the above conditions was prepared. Table 1 shows the angle θ between the side surface of the spacer-shaped protrusion and the perpendicular to the front plate surface.
【0055】なお、試料No.7については、図5に示
すようにスペーサの背面板側半分が台形(θ=5°)
で、正面板側半分が長方形(θ=0°)となるように形
成した。The sample No. For 7, the half of the spacer on the back plate side is trapezoidal (θ = 5 °) as shown in FIG.
Thus, the front plate side half was formed in a rectangular shape (θ = 0 °).
【0056】一方、厚さ2mmの40×40mmサイズ
のソーダライムガラスから成るガラス基板表面にITO
膜を蒸着法により形成した。On the other hand, the surface of a glass substrate made of soda lime glass having a thickness of 2 mm and a size of 40 × 40 mm was coated with ITO.
The film was formed by an evaporation method.
【0057】また、パラフィンワックス中に可塑剤を混
錬し、スリットコータによって前記ITO膜表面に厚み
1050μmのシート状の樹脂層を成形した後、25×
25mmに切断して、前記樹脂層表面から前記平板型を
押圧し、塑性変形させ、成形型を離型することにより、
スペーサ用空隙をガラス基板表面の樹脂層における所定
の位置に形成した。A plasticizer is kneaded in paraffin wax, and a sheet-like resin layer having a thickness of 1050 μm is formed on the surface of the ITO film by a slit coater.
By cutting to 25 mm, pressing the flat mold from the surface of the resin layer, plastic deformation, by releasing the mold,
Spacers for the spacers were formed at predetermined positions in the resin layer on the surface of the glass substrate.
【0058】そして、前記樹脂層を前記金属平型にて押
圧して塑性変形させた後、前記金属平型を離型して正面
板上に高さ1200μm、ピッチ700μmのスペーサ
用空隙を形成した。After the resin layer was pressed by the flat metal mold and plastically deformed, the flat metal mold was released to form a space for spacers having a height of 1200 μm and a pitch of 700 μm on the front plate. .
【0059】さらに、平均粒径5μmの低融点ガラス粉
末とチタニア粉末及びシリコン粉末とバインダ、溶媒、
分散剤とを混錬したペーストを前記スペーサ用空隙内へ
充填し、乾燥固化させてスペーサ成形体を得た後、90
℃に加熱して前記樹脂層を溶質、除去した。Further, a low melting point glass powder having an average particle size of 5 μm, a titania powder, a silicon powder, a binder, a solvent,
A paste kneaded with a dispersant is filled into the space for the spacer, and dried and solidified to obtain a spacer molded body.
The resin layer was heated to ℃ to remove the solute.
【0060】次いで、樹脂層を除去した基板を加熱して
脱バインダした後、500℃の温度で10分間焼成して
正面板と一体化したスペーサ付基板を作製した。Next, the substrate from which the resin layer had been removed was heated to remove the binder, and then baked at a temperature of 500 ° C. for 10 minutes to produce a substrate with spacers integrated with the front plate.
【0061】得られたスペーサ付基板を側面より三次元
測定器を用いて観察してスペーサの傾きを測定した。そ
して、表1に示す各角度βで正面板に焼結一体化された
パネル中央部付近のスペーサ以外のスペーサを除去し、
上記表1に示す各角度βで正面板に形成されたスペーサ
に対してその上部から垂線方向より加重し、スペーサが
破断する荷重をスペーサの強度とみなして測定した。結
果は、表1に示した。The obtained substrate with spacer was observed from the side using a three-dimensional measuring device, and the inclination of the spacer was measured. Then, the spacers other than the spacer near the center of the panel that was sintered and integrated with the front plate at each angle β shown in Table 1 were removed,
The spacer formed on the front plate at each angle β shown in Table 1 was loaded from above in the direction perpendicular to the spacer, and the load at which the spacer broke was measured as the strength of the spacer. The results are shown in Table 1.
【0062】なお、スペーサの正面板に対する角度β
は、図6に示すようにスペーサの先端および基部におけ
る各々の中心点を結んだ直線と、正面板表面に対する垂
線とのなす角度とした。The angle β of the spacer with respect to the front plate is
Is the angle between a straight line connecting the respective center points at the tip and base of the spacer as shown in FIG. 6 and a perpendicular to the front plate surface.
【0063】[0063]
【表1】 [Table 1]
【0064】表1の結果から、スペーサの幅を正面板接
合部側の端部よりも背面板接合部側の端部が広くなるよ
うに形成した試料No.2〜7では、例えスペーサが傾
いて形成された場合でも極端に強度が低下することなく
安定して正面板を支持できることが確認できた。From the results shown in Table 1, it was found that the width of the spacer was larger in the end of the joint portion of the rear plate than in the joint portion of the front plate. In Nos. 2 to 7, it was confirmed that even when the spacer was formed inclined, the front plate could be stably supported without extremely lowering the strength.
【0065】これに対して、スペーサの背面板接合部側
の端部と正面板接合部側の端部幅とが同じである試料N
o.1では、スペーサの傾きに対して耐荷重が大きく低
下した。On the other hand, in the case of the sample N in which the end width of the spacer on the side of the back plate joint and the width of the end of the spacer on the front plate joint side are the same.
o. In No. 1, the withstand load significantly decreased with respect to the inclination of the spacer.
【0066】(実施例2)直径200mmの金属円柱を
用意し、円柱の側面に先端側の幅100μm、基材側の
幅200μmの断面が台形形状で、高さ1100μmの
スペーサ形状の凸部をピッチ900μmで形成したロー
ル成形型を準備した。(Example 2) A metal cylinder having a diameter of 200 mm was prepared, and a spacer having a width of 100 μm on the tip side and a width of 200 μm on the substrate side having a trapezoidal shape and a height of 1100 μm was formed on the side surface of the cylinder. A roll mold having a pitch of 900 μm was prepared.
【0067】一方、厚さ2mmの200×200mmサ
イズのソーダライムガラスから成るガラス基板表面に低
融点ガラス、酸化鉄(Fe2O3)、酸化ニッケル(Ni
2O3)、酸化クロム(Cr2O3)を主成分とするペース
トを印刷法により塗布後、焼成し、厚さ10μmの格子
状のブラックマトリックスを形成した。そして、ブラッ
クマトリックスで囲まれた所定の位置にスクリーン印刷
法を用いてR、G、Bの蛍光体をそれぞれ塗布し、これ
を焼成し、厚さ15〜25μmの蛍光体層を形成した。
その後、スクリーン印刷法を用いて蛍光体層表面にアク
リル樹脂を主成分とする保護層として10μm厚み形成
した。さらに、保護層を硬化させた後、表面に蒸着法を
用いてアルミニウムからなるメタルバックを200nm
厚で蒸着した。この時、保護層及びアルミニウムは、図
3のようにスペーサを形成する部分以外に形成した。On the other hand, a low melting glass, iron oxide (Fe 2 O 3 ), nickel oxide (Ni
2 O 3), after applying a paste mainly composed of chromium oxide (Cr 2 O 3) by a printing method and baking, to form a lattice-shaped black matrix having a thickness of 10 [mu] m. Then, R, G, and B phosphors were respectively applied to predetermined positions surrounded by a black matrix by using a screen printing method, and were fired to form phosphor layers having a thickness of 15 to 25 μm.
Thereafter, a 10 μm thick protective layer mainly composed of an acrylic resin was formed on the surface of the phosphor layer by screen printing. Further, after curing the protective layer, a metal back made of aluminum was vapor-deposited on the surface by a vapor deposition method to a thickness of 200 nm.
Deposited in thick. At this time, the protective layer and the aluminum were formed in portions other than the portion where the spacer was formed as shown in FIG.
【0068】そして、上記メタルバック表面に実施例1
と同様に樹脂層を被着形成した後、実施例1と同じ凸部
形状を有するロール形状の成形型を用いて押圧回転させ
ながら前記樹脂層上を移動させて塑性変形させて、実施
例1の試料No.3と同じ形状のスペーサ用空隙を正面
板表面に高さ1100μm、ピッチ900μm正面板表
面の蛍光体を形成しない所定の位置に位置合わせして形
成した。Then, the first embodiment was applied to the surface of the metal back.
After the resin layer is formed in the same manner as in Example 1, the resin layer is moved on the resin layer while being pressed and rotated using a roll-shaped mold having the same convex shape as in Example 1 to be plastically deformed. Sample No. A spacer gap having the same shape as that of No. 3 was formed on the front plate surface at a height of 1100 μm and a pitch of 900 μm at a predetermined position on the front plate surface where no phosphor was formed.
【0069】そして、実施例1と同様にスペーサ用成形
体を作製し脱バインダした後、500℃の温度で10分
間焼成して正面板一体化したスペーサを作製した。Then, a molded body for a spacer was prepared and debindered in the same manner as in Example 1, and baked at a temperature of 500 ° C. for 10 minutes to prepare a spacer integrated with the front plate.
【0070】一方、ガラス基板からなる背面板表面の所
定の位置にスパッタリング法によって絶縁体であるSi
O2を介してプラチナ(Pt)からなる正電極およびタ
ングステン(W)とアモルファスシリコン(Si)から
なる負電極用の導体層を形成し、電子放出素子を形成し
た。On the other hand, an insulating material, Si, is formed on a predetermined position on the surface of the back plate made of a glass substrate by sputtering.
A conductive layer for a positive electrode made of platinum (Pt) and a conductive layer for a negative electrode made of tungsten (W) and amorphous silicon (Si) were formed via O 2 to form an electron-emitting device.
【0071】そして、上記正面板と背面板との間に20
0×200mm、幅5mm、厚み1050μmの枠体を
配置するとともに、上述の正面板に形成したスペーサの
端部を前記背面板の所定の位置に位置合わせしてフリッ
トガラスにより450℃で10分加熱して接着し、画像
形成装置を組み立てた。さらに、得られた画像形成装置
を10-4Pa程度まで真空排気を行ったが、スペーサが
破断することなく正面板および背面板を支持することが
できた。The distance between the front plate and the rear plate is 20.
A frame having a size of 0 × 200 mm, a width of 5 mm, and a thickness of 1050 μm is arranged, and the end of the spacer formed on the front plate is aligned with a predetermined position on the back plate, and heated at 450 ° C. for 10 minutes with frit glass. Then, the image forming apparatus was assembled. Further, the obtained image forming apparatus was evacuated to about 10 −4 Pa, and the front plate and the back plate could be supported without breaking the spacer.
【0072】また、得られた画像形成装置に電圧を印加
し、電界放出素子より電子を放出させたところ、蛍光体
が励起され発光が観測された。さらに変調電極に情報信
号に応じた電圧を印加することで画像が表示され、蛍光
体の破損が起こることなく製造できることがわかった。Further, when a voltage was applied to the obtained image forming apparatus and electrons were emitted from the field emission device, the phosphor was excited and light emission was observed. Further, it was found that by applying a voltage corresponding to the information signal to the modulation electrode, an image was displayed, and the phosphor could be manufactured without damage.
【0073】[0073]
【発明の効果】本発明の画像形成装置によれば、スペー
サを正面板側と一体に形成することで蛍光体の損傷を回
避できるとともに、前記スペーサの正面板側の幅を背面
板側の幅よりも広くすることによって、例えスペーサが
傾いて形成された場合でも極端に強度が低下することが
ないために、安定して正面板および背面板を支持するこ
とができる。According to the image forming apparatus of the present invention, by forming the spacer integrally with the front plate side, it is possible to prevent the phosphor from being damaged, and to reduce the width of the spacer on the front plate side to the width on the back plate side. By making the spacer wider, even if the spacer is formed inclined, the strength is not significantly reduced, so that the front plate and the back plate can be stably supported.
【図1】本発明の画像形成装置の一例を示す概略断面図
である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of an image forming apparatus of the present invention.
【図2】本発明の画像形成装置におけるスペーサの形状
を示す概略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view showing a shape of a spacer in the image forming apparatus of the present invention.
【図3】本発明の画像形成装置の製造方法を示す工程図
である。FIG. 3 is a process chart showing a method for manufacturing the image forming apparatus of the present invention.
【図4】本発明の画像形成装置における成形型の形状を
示す概略斜視図である。FIG. 4 is a schematic perspective view showing a shape of a mold in the image forming apparatus of the present invention.
【図5】実施例1の試料No.7のスペーサ形状を説明
するための図である。FIG. 5 shows a sample No. of Example 1. FIG. 7 is a diagram for explaining a spacer shape of No. 7;
【図6】実施例1におけるスペーサの正面板との傾き角
βを説明するための概略断面図である。FIG. 6 is a schematic sectional view for explaining an inclination angle β between the spacer and the front plate in the first embodiment.
1・・・FED 2・・・背面板 3・・・正面板 4・・・枠体 5・・・パネル 6・・・スペーサ 7・・・蛍光体 8・・・電子放出素子 9・・・ブラックマトリックス DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... FED 2 ... Back plate 3 ... Front plate 4 ... Frame 5 ... Panel 6 ... Spacer 7 ... Phosphor 8 ... Electron emission element 9 ... Black matrix
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 逆瀬川 清浩 鹿児島県国分市山下町1番4号 京セラ株 式会社総合研究所内 (72)発明者 濱田 浩児 滋賀県八日市市蛇溝町長谷野1166番地の6 京セラ株式会社滋賀工場内 Fターム(参考) 5C012 AA05 BB07 5C032 AA01 CD06 5C036 EF01 EF06 EG02 EG50 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kiyohiro Sakasegawa 1-4-4 Yamashita-cho, Kokubu-shi, Kagoshima Inside the Kyocera Research Institute. 6 Kyocera Corporation Shiga Plant F-term (reference) 5C012 AA05 BB07 5C032 AA01 CD06 5C036 EF01 EF06 EG02 EG50
Claims (4)
体が設けられ前記背面板と対向する位置に配された正面
板と、前記背面板と前記正面板との間に配されたスペー
サと、を有し、前記電子放出素子から放出される電子を
前記蛍光体に照射して画像を形成する画像形成装置にお
いて、前記スペーサを前記正面板と一体に形成してなる
とともに、前記スペーサの幅が正面板側の端部より背面
板側の端部が広いことを特徴とする画像形成装置。1. A back plate provided with an electron-emitting device, a front plate provided with a phosphor and disposed at a position facing the back plate, and disposed between the back plate and the front plate. And an image forming apparatus that forms an image by irradiating the phosphor with electrons emitted from the electron-emitting device, wherein the spacer is formed integrally with the front plate, and the spacer is An image forming apparatus, wherein the width of the end is larger at the rear plate side than at the front plate side.
記スペーサの側面と前記正面板表面に対する垂線との成
す角度が0.5〜8゜であることを特徴とする請求項1
記載の画像形成装置。2. The spacer according to claim 1, wherein the cross section of the spacer is trapezoidal, and an angle between a side surface of the spacer and a perpendicular to the front plate surface is 0.5 to 8 °.
The image forming apparatus as described in the above.
正面板表面に蛍光体を被着形成する工程と、(b)前記
正面板の前記蛍光体形成面に軟質の樹脂層を形成する工
程と、(c)成形型基材表面にスペーサ形状の凸部を複
数配置し、かつ前記凸部の先端の幅が前記凸部の基材側
の幅より広いスペーサ成形型を、前記正面板表面の樹脂
層を表面に押圧、離型して、前記樹脂層にスペーサ用空
隙を形成する工程と、(d)前記正面板表面の前記スペ
ーサ用空隙中にガラス粉末および/またはセラミック粉
末を含有するペーストを充填してスペーサ成形体を形成
する工程と、(e)前記正面板表面の樹脂層を除去する
工程と、(f)前記正面板表面のスペーサ成形体を焼成
して前記正面板表面にスペーサを一体的に形成する工程
と、(g)前記スペーサの先端面に背面板を接着固定す
る工程とを具備することを特徴とする画像形成装置の製
造方法。3. A step of (a) forming a phosphor on a surface of a front plate made of ceramics or glass, and (b) forming a soft resin layer on the phosphor forming surface of the front plate. (C) A plurality of spacer-shaped projections are arranged on the surface of the molding die base material, and the width of the tip of the projection is wider than the width of the projections on the base material side. Pressing the layer against the surface and releasing to form a space for the spacer in the resin layer; and (d) applying a paste containing glass powder and / or ceramic powder in the space for the spacer on the front plate surface. Filling to form a spacer molded body; (e) removing the resin layer on the front plate surface; and (f) firing the spacer molded body on the front plate surface to form a spacer on the front plate surface. Integrally forming; and (g) forming the Method of manufacturing an image forming apparatus characterized by comprising a step of bonding and fixing the back plate to the front end surface of the p o.
正面板表面に軟質の樹脂層を形成する工程と、(b)成
形型基材表面にスペーサ形状の凸部を複数配置し、かつ
前記凸部の先端の幅が前記凸部の基材側の幅より広いス
ペーサ成形型を、前記正面板表面の樹脂層を表面に押
圧、離型して、前記樹脂層にスペーサ用空隙を形成する
工程と、(c)前記正面板表面の前記スペーサ用空隙中
にガラス粉末および/またはセラミック粉末を含有する
ペーストを充填してスペーサ成形体を形成する工程と、
(d)前記正面板表面の樹脂層を除去する工程と、
(e)前記正面板表面のスペーサ成形体を焼成して前記
正面板表面にスペーサを一体的に形成する工程と(f)
前記正面板の前記スペーサ形成面に蛍光体を形成する工
程と、(g)前記スペーサの先端面に背面板を接着固定
する工程とを具備することを特徴とする画像形成装置の
製造方法。4. A step of (a) forming a soft resin layer on the surface of a front plate made of ceramics or glass; and (b) arranging a plurality of spacer-shaped protrusions on the surface of a molding die base material, and A step of forming a spacer gap in the resin layer by pressing a spacer molding die whose tip width is larger than the width of the protrusion on the substrate side, pressing the resin layer on the front plate surface against the surface, and releasing the mold. (C) filling a paste containing glass powder and / or ceramic powder into the space for spacer on the surface of the front plate to form a spacer molded body;
(D) removing a resin layer on the front plate surface;
(E) firing the molded spacer on the front plate surface to form a spacer integrally on the front plate surface; and (f).
A method for manufacturing an image forming apparatus, comprising: a step of forming a phosphor on the spacer forming surface of the front plate; and (g) a step of bonding and fixing a back plate to a tip end surface of the spacer.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30964399A JP2001135263A (en) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | Image-forming apparatus and manufacturing method therefor |
EP00112779A EP1061546B1 (en) | 1999-06-17 | 2000-06-16 | Spacers used for picture display devices and a method of producing the same |
US09/595,979 US6653769B1 (en) | 1999-06-17 | 2000-06-16 | Spacers used for picture display devices and a method of producing the same |
DE60034629T DE60034629T2 (en) | 1999-06-17 | 2000-06-16 | Spacer elements for use in image display devices and methods of making same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30964399A JP2001135263A (en) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | Image-forming apparatus and manufacturing method therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001135263A true JP2001135263A (en) | 2001-05-18 |
Family
ID=17995521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30964399A Pending JP2001135263A (en) | 1999-06-17 | 1999-10-29 | Image-forming apparatus and manufacturing method therefor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001135263A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006019033A1 (en) * | 2004-08-16 | 2006-02-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for manufacturing image display and image display |
-
1999
- 1999-10-29 JP JP30964399A patent/JP2001135263A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006019033A1 (en) * | 2004-08-16 | 2006-02-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for manufacturing image display and image display |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100352534B1 (en) | Spacer structures for use in flat panel displays and methods for forming same | |
CN1503308A (en) | Display device | |
EP1596411B1 (en) | Image display apparatus and method for manufacturing the same | |
JP2001338528A (en) | Conductive frit for sealing and sealing member using the same as well as image forming device | |
EP1101238B1 (en) | Flat panel display walls and methods for forming such | |
JP3999942B2 (en) | SUBSTRATE WITH PROJECT MEMBER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND IMAGE FORMING APPARATUS | |
JP2001135263A (en) | Image-forming apparatus and manufacturing method therefor | |
JP3898394B2 (en) | Manufacturing method of substrate with spacer | |
JP4518661B2 (en) | Manufacturing method of image display device | |
JP3999922B2 (en) | Protruded substrate and flat display | |
JP2002075253A (en) | Front plate for planar display and planar display using the same | |
JP2000200543A (en) | Sealed panel device and its manufacture | |
US20040113540A1 (en) | Vacuum container and method for manufacturing the same, and image display apparatus and method for manufacturing the same | |
JP4203186B2 (en) | Field emission display panel | |
JP4041271B2 (en) | Protruded substrate and flat display using the same | |
JP2002110072A (en) | Substrate with projection member, method of manufacturing the same, and image forming device using the same | |
JP2002015685A (en) | Image formation equipment | |
TWI291590B (en) | Image display device | |
JP3878790B2 (en) | Protruded substrate and method for manufacturing the same, flat display and method for manufacturing the same | |
EP1544892A1 (en) | Image-displaying device, method of producing spacer used for image-displaying device, and image-displaying device with the spacer produced by the method | |
JP3878792B2 (en) | Protruded substrate, method of manufacturing the same, and flat display | |
JP2001035420A (en) | Spacer, its manufacture, display module substrate and display module | |
JP2004031265A (en) | Thick film sheet member and its manufacturing method | |
JP3938185B2 (en) | Image display device and manufacturing method thereof | |
JP3878958B2 (en) | Porcelain composition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061012 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20090625 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090626 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100330 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100907 |