JP2001194780A - パターン膜被覆物品の製造方法および感光性組成物 - Google Patents
パターン膜被覆物品の製造方法および感光性組成物Info
- Publication number
- JP2001194780A JP2001194780A JP2000002881A JP2000002881A JP2001194780A JP 2001194780 A JP2001194780 A JP 2001194780A JP 2000002881 A JP2000002881 A JP 2000002881A JP 2000002881 A JP2000002881 A JP 2000002881A JP 2001194780 A JP2001194780 A JP 2001194780A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive composition
- metal alkoxide
- allyl group
- coated article
- patterned film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0042—Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 成膜性が優れ、光照射後の現像において光未
照射部の膜を完全に除去することができ、パターン精度
に優れたパターン膜被覆物品の製造方法および感光性組
成物を提供する。 【解決手段】感光性を有する有機金属化合物および加水
分解性金属アルコキシドを含む感光性組成物を基材上に
塗布し、光照射して塗布膜の露光部を重合させた後、非
露光部を溶解、除去するパターン膜被覆物品の製造方法
において、前記有機金属化合物はアリル基含有金属アル
コキシドであることを特徴とするパターン膜被覆物品の
製造方法である。
照射部の膜を完全に除去することができ、パターン精度
に優れたパターン膜被覆物品の製造方法および感光性組
成物を提供する。 【解決手段】感光性を有する有機金属化合物および加水
分解性金属アルコキシドを含む感光性組成物を基材上に
塗布し、光照射して塗布膜の露光部を重合させた後、非
露光部を溶解、除去するパターン膜被覆物品の製造方法
において、前記有機金属化合物はアリル基含有金属アル
コキシドであることを特徴とするパターン膜被覆物品の
製造方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はパターン膜被覆物品
の製造方法、特に感光性を有する有機金属化合物を含む
感光性組成物を基材上に塗布した後、光照射し重合硬化
させた後、光未照射部を取り除くパターン膜被覆物品の
製造方法、および感光性組成物に関する。
の製造方法、特に感光性を有する有機金属化合物を含む
感光性組成物を基材上に塗布した後、光照射し重合硬化
させた後、光未照射部を取り除くパターン膜被覆物品の
製造方法、および感光性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来からパターン膜を形成させるための
感光性材料の開発は進められてきており、数多く提案さ
れている。一般的に感光性材料に求められる要求特性は
次のようなものが挙げられる。照射するエネルギーに
対して高感度である。高解像度である。すなわちパタ
ーン精度及び加工性が優れている。基板との密着性が
高いことなどである。 これまで感光性を有するゾルゲ
ル材料を用いて金属酸化物薄膜のパターンを形成するこ
とが試みられている。
感光性材料の開発は進められてきており、数多く提案さ
れている。一般的に感光性材料に求められる要求特性は
次のようなものが挙げられる。照射するエネルギーに
対して高感度である。高解像度である。すなわちパタ
ーン精度及び加工性が優れている。基板との密着性が
高いことなどである。 これまで感光性を有するゾルゲ
ル材料を用いて金属酸化物薄膜のパターンを形成するこ
とが試みられている。
【０００３】例えば、メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、ジルコニウムアルコキシドおよびアクリル
酸などからなる感光性材料を用いて、露光・現像（リー
チング）によりグレーティングを有する光導波路素子を
作製することが述べられている（JOURNAL OF LIGHTWAVE
TECHNOLOGY,VOL.16,No.9,pp1640〜1646,SEPTEMBER 199
8年、ＳＰＩＥ Ｖｏｌ．３２８２，頁１７〜３０、お
よびＳＰＩＥ Ｖｏｌ．３２８２，頁５０〜５８）。
キシシラン、ジルコニウムアルコキシドおよびアクリル
酸などからなる感光性材料を用いて、露光・現像（リー
チング）によりグレーティングを有する光導波路素子を
作製することが述べられている（JOURNAL OF LIGHTWAVE
TECHNOLOGY,VOL.16,No.9,pp1640〜1646,SEPTEMBER 199
8年、ＳＰＩＥ Ｖｏｌ．３２８２，頁１７〜３０、お
よびＳＰＩＥ Ｖｏｌ．３２８２，頁５０〜５８）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記方法では、
露光後の現像において光未照射部の膜を十分に除去する
ことが困難であり良好なパターンが得られないために、
導波路を作製する場合は導波光が漏れたり、回折格子を
作製する場合においては回折光の明瞭なパターンは得ら
れずぼやけたり回折光同士がつながったりというような
問題があった。
露光後の現像において光未照射部の膜を十分に除去する
ことが困難であり良好なパターンが得られないために、
導波路を作製する場合は導波光が漏れたり、回折格子を
作製する場合においては回折光の明瞭なパターンは得ら
れずぼやけたり回折光同士がつながったりというような
問題があった。
【０００５】本発明者らはこのような問題点に着目し、
成膜性が優れ、光照射後の現像において光未照射部の膜
を完全に除去することができ（いわゆる「リーチングの
切れ」がよく）、パターン精度に優れたパターン膜被覆
物品の製造方法および感光性組成物を提供することを目
的としている。
成膜性が優れ、光照射後の現像において光未照射部の膜
を完全に除去することができ（いわゆる「リーチングの
切れ」がよく）、パターン精度に優れたパターン膜被覆
物品の製造方法および感光性組成物を提供することを目
的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、感光
性を有する有機金属化合物および加水分解性金属アルコ
キシドを含む感光性組成物を基材上に塗布し、光照射し
て塗布膜の露光部を重合させた後、非露光部を溶解、除
去するパターン膜被覆物品の製造方法において、前記有
機金属化合物はアリル基含有金属アルコキシドであるこ
とを特徴とするパターン膜被覆物品の製造方法である。
性を有する有機金属化合物および加水分解性金属アルコ
キシドを含む感光性組成物を基材上に塗布し、光照射し
て塗布膜の露光部を重合させた後、非露光部を溶解、除
去するパターン膜被覆物品の製造方法において、前記有
機金属化合物はアリル基含有金属アルコキシドであるこ
とを特徴とするパターン膜被覆物品の製造方法である。
【０００７】また本発明は、アリル基を有するトリアル
コキシシランを含む感光性組成物を基材上に塗布し、光
照射して塗布膜の露光部を重合させた後、非露光部を溶
解、除去するパターン膜被覆物品の製造方法である。
コキシシランを含む感光性組成物を基材上に塗布し、光
照射して塗布膜の露光部を重合させた後、非露光部を溶
解、除去するパターン膜被覆物品の製造方法である。
【０００８】本発明における感光性組成物で用いられる
感光性を有するアリル基含有金属アルコキシドとして、
それぞれアリル基を含有するケイ素、チタン、ジルコニ
ウムまたはアルミニウムのアルコキシドを挙げることが
できる。これらの中でアリル基を有するケイ素アルコキ
シドが好ましく用いられる。アリル基を有するケイ素ア
ルコキシド（以下、単に「アリルシラン」ということが
ある）としては、アリルトリメトキシシラン、アリルト
リエトキシシランにようなアリル基を有するトリアルコ
キシシラン、ジアリルジメトキシシラン、ジアリルジエ
トキシシランのようなジアリルジアルコキシシラン、ア
リルアミノトリメトキシシランなどが用いられる。それ
らの中で、アリルトリメトキシシランおよびアリルトリ
エトキシシランが特に好ましく用いられる。アリルトリ
クロロシラン、ジアリルジクロロシランなどのクロロア
リルシラン系物質も使用することができるが、反応時に
塩化水素ガスが発生するので作業環境に配慮する必要が
ある。
感光性を有するアリル基含有金属アルコキシドとして、
それぞれアリル基を含有するケイ素、チタン、ジルコニ
ウムまたはアルミニウムのアルコキシドを挙げることが
できる。これらの中でアリル基を有するケイ素アルコキ
シドが好ましく用いられる。アリル基を有するケイ素ア
ルコキシド（以下、単に「アリルシラン」ということが
ある）としては、アリルトリメトキシシラン、アリルト
リエトキシシランにようなアリル基を有するトリアルコ
キシシラン、ジアリルジメトキシシラン、ジアリルジエ
トキシシランのようなジアリルジアルコキシシラン、ア
リルアミノトリメトキシシランなどが用いられる。それ
らの中で、アリルトリメトキシシランおよびアリルトリ
エトキシシランが特に好ましく用いられる。アリルトリ
クロロシラン、ジアリルジクロロシランなどのクロロア
リルシラン系物質も使用することができるが、反応時に
塩化水素ガスが発生するので作業環境に配慮する必要が
ある。
【０００９】上記感光性を有するアリル基含有金属アル
コキシドの含有量は前記感光性組成物中に５重量％以上
であることが好ましく、９５．４９重量％以下であるこ
とが好ましい。
コキシドの含有量は前記感光性組成物中に５重量％以上
であることが好ましく、９５．４９重量％以下であるこ
とが好ましい。
【００１０】本発明における感光性組成物で用いられる
加水分解性金属アルコキシドとしては、ケイ素、チタ
ン、ジルコニウムまたはアルミニウムのアルコキシドを
挙げることができる。それらの中でケイ素、チタンまた
はジルコニウムのテトラアルコキシドまたはトリアルコ
キシド、およびアルミニウムのトリアルコキシドが好ま
しく用いられる。上記テトラアルコキシドおよびアルミ
ニウムのトリアルコキシドとして、テトラエトキシシラ
ン、テトラメトキシシラン、トリブトキシアルミニウ
ム、テトラプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジ
ルコニウム、テトライソプロポキシチタン、テトラブト
キシチタン等を例示することができる。
加水分解性金属アルコキシドとしては、ケイ素、チタ
ン、ジルコニウムまたはアルミニウムのアルコキシドを
挙げることができる。それらの中でケイ素、チタンまた
はジルコニウムのテトラアルコキシドまたはトリアルコ
キシド、およびアルミニウムのトリアルコキシドが好ま
しく用いられる。上記テトラアルコキシドおよびアルミ
ニウムのトリアルコキシドとして、テトラエトキシシラ
ン、テトラメトキシシラン、トリブトキシアルミニウ
ム、テトラプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジ
ルコニウム、テトライソプロポキシチタン、テトラブト
キシチタン等を例示することができる。
【００１１】そして、ケイ素、チタンまたはジルコニウ
ムのトリアルコキシドとして、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシ
シラン、フェニルトリメトキシシラン、３−メタクリロ
キシアルキルトリアルコキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−アクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミ
ノ）プロピルトリメトキシシラン、（２−シクロヘキセ
ニル−２−エチル）トリアルコキシシラン、５−（ビシ
クロヘプテニル）トリアルコキシシラン、（アクリロキ
シメチル）フェネチルトリアルコキシシラン、１，１―
ビス（トリアルコキシシリルメチル）エチレン、ビス
（トリエトキシシリル）エチレン、ビス（トリエトキシ
シリル）−１，７―オクタンジエン、ブテニルトリエト
キシシラン、（３−シクロペンタジエニルプロピル）ト
リエトキシシラン、５−ヘキセニルトリアルコキシシラ
ン、Ｏ−（メタクリロキシエチル）−Ｎ−（トリエトキ
シシリルプロピル）ウレタン、１，７−オクタジエニル
トリエトキシシラン、７−オクテニルトリアルコキシシ
ラン、（２，４−ペンタジエニル）トリアルコキシシラ
ン、スチリルエチルトリメトキシシラン、ビニルトリイ
ソプロペノキシシラン；チタンアリルアセトアセテート
トリイソプロポキサイド、チタンメタクリレートトリイ
ソプロポキサイド、チタンメタクリルオキシエチルアセ
トアセテートトリイソプロポキサイド、(２-メタクリル
オキシエトキシ)トリイソプロポキシチタネート；ジル
コニウムメタクリルオキシエチルアセトアセテートトリ
イソプロポキサイドなどが例示できる。
ムのトリアルコキシドとして、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシ
シラン、フェニルトリメトキシシラン、３−メタクリロ
キシアルキルトリアルコキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−アクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミ
ノ）プロピルトリメトキシシラン、（２−シクロヘキセ
ニル−２−エチル）トリアルコキシシラン、５−（ビシ
クロヘプテニル）トリアルコキシシラン、（アクリロキ
シメチル）フェネチルトリアルコキシシラン、１，１―
ビス（トリアルコキシシリルメチル）エチレン、ビス
（トリエトキシシリル）エチレン、ビス（トリエトキシ
シリル）−１，７―オクタンジエン、ブテニルトリエト
キシシラン、（３−シクロペンタジエニルプロピル）ト
リエトキシシラン、５−ヘキセニルトリアルコキシシラ
ン、Ｏ−（メタクリロキシエチル）−Ｎ−（トリエトキ
シシリルプロピル）ウレタン、１，７−オクタジエニル
トリエトキシシラン、７−オクテニルトリアルコキシシ
ラン、（２，４−ペンタジエニル）トリアルコキシシラ
ン、スチリルエチルトリメトキシシラン、ビニルトリイ
ソプロペノキシシラン；チタンアリルアセトアセテート
トリイソプロポキサイド、チタンメタクリレートトリイ
ソプロポキサイド、チタンメタクリルオキシエチルアセ
トアセテートトリイソプロポキサイド、(２-メタクリル
オキシエトキシ)トリイソプロポキシチタネート；ジル
コニウムメタクリルオキシエチルアセトアセテートトリ
イソプロポキサイドなどが例示できる。
【００１２】またジ−ｓ−ブトキシアルミノキシトリエ
トキシシランのような異種金属アルコキシドも用いられ
る。加水分解性金属テトラアルコキシドは、オリゴマー
（例えば平均重合度が５以下のオリゴマー）でもよく、
また一部または全部が加水分解していてもよい。ただ
し、加水分解性金属テトラアルコキシドの含有量をモル
％または重量％などで表す場合は、そのモノマーまたは
加水分解前の物質について表すものとする。
トキシシランのような異種金属アルコキシドも用いられ
る。加水分解性金属テトラアルコキシドは、オリゴマー
（例えば平均重合度が５以下のオリゴマー）でもよく、
また一部または全部が加水分解していてもよい。ただ
し、加水分解性金属テトラアルコキシドの含有量をモル
％または重量％などで表す場合は、そのモノマーまたは
加水分解前の物質について表すものとする。
【００１３】これら加水分解性金属アルコキシドは必要
に応じて、アセチルアセトン、メチルアセチルアセト
ン、エチルアセチルアセトン、ジエチルアセチルアセト
ンのようなβ−ジケトンなどの配位子でキレート化して
もよい。アセチルアセトンアルミニウムやチタニウムア
セチルアセトナートは後述の重合促進剤の作用を兼ね備
えている。
に応じて、アセチルアセトン、メチルアセチルアセト
ン、エチルアセチルアセトン、ジエチルアセチルアセト
ンのようなβ−ジケトンなどの配位子でキレート化して
もよい。アセチルアセトンアルミニウムやチタニウムア
セチルアセトナートは後述の重合促進剤の作用を兼ね備
えている。
【００１４】これら加水分解性金属アルコキシド中で、
テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、および
テトラブトキシジルコニウムが特に好ましく用いられ
る。例えばテトラブトキシジルコニウムを使用すると膜
の硬度をさらに上げることができる。またジルコニウム
アルコキシドやチタンアルコキシドを使用または併用す
ることにより、膜の屈折率を高めて所望の値にすること
ができる。
テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、および
テトラブトキシジルコニウムが特に好ましく用いられ
る。例えばテトラブトキシジルコニウムを使用すると膜
の硬度をさらに上げることができる。またジルコニウム
アルコキシドやチタンアルコキシドを使用または併用す
ることにより、膜の屈折率を高めて所望の値にすること
ができる。
【００１５】本発明における感光性組成物に上記加水分
解性金属アルコキシドを含ませることにより、強固なネ
ットワークの膜を形成したり、膜の耐薬品性を上げた
り、膜の耐候性を向上させることができる。これらの加
水分解性金属アルコキシドの量は、あまり多すぎると相
対的に前記アリル基含有金属アルコキシドの量が低下す
るので、アリルシランに対して１〜５０重量％が好まし
い。より好ましくは５〜４０重量％である。上記加水分
解性金属アルコキシドの含有量は前記感光性組成物中に
１重量％以上であることが好ましく、５０重量％以下で
あることが好ましい。本発明におけるアリルシランとし
てアリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラ
ンのようなトリアルコキシシランが用いられる場合は、
感光性組成物中に上記加水分解性金属アルコキシドを含
有させなくてもよい。加水分解性金属アルコキシドを含
有させない場合、前記アリル基含有金属アルコキシドの
含有量は前記感光性組成物中に、９６．４９重量％以下
であることが好ましい。しかし、膜強度をさらに高くし
たり、膜の耐薬品性をさらに上げたり、膜の耐候性をさ
らに向上させる場合には上記加水分解性金属アルコキシ
ドを添加することが好ましい。
解性金属アルコキシドを含ませることにより、強固なネ
ットワークの膜を形成したり、膜の耐薬品性を上げた
り、膜の耐候性を向上させることができる。これらの加
水分解性金属アルコキシドの量は、あまり多すぎると相
対的に前記アリル基含有金属アルコキシドの量が低下す
るので、アリルシランに対して１〜５０重量％が好まし
い。より好ましくは５〜４０重量％である。上記加水分
解性金属アルコキシドの含有量は前記感光性組成物中に
１重量％以上であることが好ましく、５０重量％以下で
あることが好ましい。本発明におけるアリルシランとし
てアリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラ
ンのようなトリアルコキシシランが用いられる場合は、
感光性組成物中に上記加水分解性金属アルコキシドを含
有させなくてもよい。加水分解性金属アルコキシドを含
有させない場合、前記アリル基含有金属アルコキシドの
含有量は前記感光性組成物中に、９６．４９重量％以下
であることが好ましい。しかし、膜強度をさらに高くし
たり、膜の耐薬品性をさらに上げたり、膜の耐候性をさ
らに向上させる場合には上記加水分解性金属アルコキシ
ドを添加することが好ましい。
【００１６】本発明における感光性組成物は、前記加水
分解性金属アルコキシドおよび感光性を有するアリル基
含有金属アルコキシドを加水分解するための水、ならび
に、必要に応じて、前記加水分解を促進するための触
媒、光反応開始剤、重合促進剤、溶媒を含有する。水の
含有量は、触媒水溶液の水も含めて、必要な化学量論比
の０．８〜３０倍であり、モル比で表して、前記加水分
解性金属アルコキシドおよび感光性を有するアリル基含
有金属アルコキシドの合計に対して１〜２０倍が好まし
く、より好ましくは２〜１０倍である。そして感光性組
成物中の好ましい水含有量は通常、３〜５０重量％、よ
り好ましくは５〜３０重量％である。ただし、前記加水
分解性金属アルコキシドおよび感光性を有するアリル基
含有金属アルコキシドがすでに部分的にまたは全面的に
加水分解されているときは、水の含有量はゼロまたは上
記よりも少量でよい。
分解性金属アルコキシドおよび感光性を有するアリル基
含有金属アルコキシドを加水分解するための水、ならび
に、必要に応じて、前記加水分解を促進するための触
媒、光反応開始剤、重合促進剤、溶媒を含有する。水の
含有量は、触媒水溶液の水も含めて、必要な化学量論比
の０．８〜３０倍であり、モル比で表して、前記加水分
解性金属アルコキシドおよび感光性を有するアリル基含
有金属アルコキシドの合計に対して１〜２０倍が好まし
く、より好ましくは２〜１０倍である。そして感光性組
成物中の好ましい水含有量は通常、３〜５０重量％、よ
り好ましくは５〜３０重量％である。ただし、前記加水
分解性金属アルコキシドおよび感光性を有するアリル基
含有金属アルコキシドがすでに部分的にまたは全面的に
加水分解されているときは、水の含有量はゼロまたは上
記よりも少量でよい。
【００１７】前記触媒は、必須ではないが含有させるこ
とが好ましい成分であり、塩酸、硝酸（ＨＮＯ3）、硫
酸などの無機酸類、酢酸、しゅう酸、蟻酸、プロピオン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸類が用いられ
る。触媒の含有量は、酸の種類およびプロトン酸として
の強さ（弱酸、強酸）によって異なるが、少なすぎると
加水分解・脱水縮合反応の進行が遅くなり、多すぎると
縮合反応が進みすぎて分子量が大きくなりすぎ、沈殿物
や塗布液のゲル化を生じやすくなるので好ましくない。
したがって添加する酸触媒の量は、例えば、酸触媒とし
て塩酸を用いる場合については、モル比で表して、前記
加水分解性金属アルコキシドおよび感光性を有するアリ
ル基含有金属アルコキシドの合計１モルに対して、０．
０１ミリモル〜１００ミリモル（０．００００１〜０．
１モル）が好ましく、より好ましくは０．０５ミリモル
〜５０ミリモルである。そして感光性組成物中の好まし
い酸触媒含有量は通常、０．００００２〜１０重量％、
より好ましくは０．０００１〜１重量％である。ただ
し、前記加水分解性金属アルコキシドまたは感光性を有
するアリル基含有金属アルコキシドがすでに部分的にま
たは全面的に加水分解されているときは、酸触媒の含有
量はゼロまたは上記よりも少量でよい。
とが好ましい成分であり、塩酸、硝酸（ＨＮＯ3）、硫
酸などの無機酸類、酢酸、しゅう酸、蟻酸、プロピオン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸類が用いられ
る。触媒の含有量は、酸の種類およびプロトン酸として
の強さ（弱酸、強酸）によって異なるが、少なすぎると
加水分解・脱水縮合反応の進行が遅くなり、多すぎると
縮合反応が進みすぎて分子量が大きくなりすぎ、沈殿物
や塗布液のゲル化を生じやすくなるので好ましくない。
したがって添加する酸触媒の量は、例えば、酸触媒とし
て塩酸を用いる場合については、モル比で表して、前記
加水分解性金属アルコキシドおよび感光性を有するアリ
ル基含有金属アルコキシドの合計１モルに対して、０．
０１ミリモル〜１００ミリモル（０．００００１〜０．
１モル）が好ましく、より好ましくは０．０５ミリモル
〜５０ミリモルである。そして感光性組成物中の好まし
い酸触媒含有量は通常、０．００００２〜１０重量％、
より好ましくは０．０００１〜１重量％である。ただ
し、前記加水分解性金属アルコキシドまたは感光性を有
するアリル基含有金属アルコキシドがすでに部分的にま
たは全面的に加水分解されているときは、酸触媒の含有
量はゼロまたは上記よりも少量でよい。
【００１８】本発明における感光性組成物で用いられる
光反応開始剤は、必須ではないが含有させることが好ま
しい成分であり、前記感光性を有するアリル基含有金属
アルコキシド中の重合性炭素−炭素二重結合を有するア
リル基に光を照射させた際に光重合を開始、促進させる
ものであり、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエー
テル、過酸化ベンゾイル、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ル−１−フェニルケトン（チバガイギー社、「イルガキ
ュア１８４」）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニルプロパン−１−オン（メルク社、「ダロキュア１
１７３」）、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク
社、「ダロキュア１１１６」）、２，２−ジメトキシ−
２−フェニルアセトフェノン（チバガイギー社、「イル
ガキュア６５１」）等が好適に用いられる。光反応開始
剤の含有量は前記アリル基含有金属アルコキシド１モル
に対して、０．００１〜０．２モルであることが好まし
く、また感光性組成物中の光反応開始剤の含有量は０．
１〜２０重量％であることが好ましく、さらに好ましく
は０．５〜１０重量％である。
光反応開始剤は、必須ではないが含有させることが好ま
しい成分であり、前記感光性を有するアリル基含有金属
アルコキシド中の重合性炭素−炭素二重結合を有するア
リル基に光を照射させた際に光重合を開始、促進させる
ものであり、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエー
テル、過酸化ベンゾイル、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ル−１−フェニルケトン（チバガイギー社、「イルガキ
ュア１８４」）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニルプロパン−１−オン（メルク社、「ダロキュア１
１７３」）、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク
社、「ダロキュア１１１６」）、２，２−ジメトキシ−
２−フェニルアセトフェノン（チバガイギー社、「イル
ガキュア６５１」）等が好適に用いられる。光反応開始
剤の含有量は前記アリル基含有金属アルコキシド１モル
に対して、０．００１〜０．２モルであることが好まし
く、また感光性組成物中の光反応開始剤の含有量は０．
１〜２０重量％であることが好ましく、さらに好ましく
は０．５〜１０重量％である。
【００１９】本発明で用いられる重合促進剤は、必須で
はないが含有させることが好ましい成分であり、前記金
属アルコキシドおよび前記アリル基含有金属アルコキシ
ドが加水分解した後に縮重合して、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉの結
合を形成する際の重合促進の触媒としての役割を有して
いる。重合促進剤としては、トリエチルアミン、ｎ-ブ
チルアミンなどの有機アミン；アセチルアセトンでキレ
ート化したアセチルアセトンアルミニウム、チタニウム
アセチルアセトナート、クロムアセチルアセトナート等
の金属アセチルアセトナート；オクチルスズ、塩化第二
錫などの錫化合物が好適に用いられる。重合促進剤の含
有量は、モル比で表して、前記金属アルコキシドおよび
前記アリル基含有金属アルコキシドの合計１モルに対し
て、０．０００５〜０．１モルであることが好ましく、
また感光性組成物中の重合促進剤の含有量は０．０１〜
１０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは
０．０５〜１０重量％である。
はないが含有させることが好ましい成分であり、前記金
属アルコキシドおよび前記アリル基含有金属アルコキシ
ドが加水分解した後に縮重合して、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉの結
合を形成する際の重合促進の触媒としての役割を有して
いる。重合促進剤としては、トリエチルアミン、ｎ-ブ
チルアミンなどの有機アミン；アセチルアセトンでキレ
ート化したアセチルアセトンアルミニウム、チタニウム
アセチルアセトナート、クロムアセチルアセトナート等
の金属アセチルアセトナート；オクチルスズ、塩化第二
錫などの錫化合物が好適に用いられる。重合促進剤の含
有量は、モル比で表して、前記金属アルコキシドおよび
前記アリル基含有金属アルコキシドの合計１モルに対し
て、０．０００５〜０．１モルであることが好ましく、
また感光性組成物中の重合促進剤の含有量は０．０１〜
１０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは
０．０５〜１０重量％である。
【００２０】本発明で使用される溶媒である有機溶剤
は、必須ではないが含有させることが好ましい成分であ
る。前記金属アルコキシドおよび前記アリル基含有金属
アルコキシドが加水分解するときに発生するアルコール
自体が溶媒となるので特別に添加しなくてもよい場合が
ある。しかし、通常は、被覆の形成方法の種類によって
適した溶媒が使用される。被覆の形成方法としては、キ
ャスト法、ディップコート法、グラビアコート法，フレ
キソ印刷法，ロールコート法などが好適に使用される
が、キャスト法やディップコート法で用いられる有機溶
剤は蒸発速度の大きな溶媒が好適である。すなわち、溶
媒の蒸発速度があまりにも小さいと塗膜の乾燥が遅いの
で液の流動性が高くなり均一な塗膜が形成されない場合
があるので、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、tert−ブトキシアルコールなどのような蒸発
速度の大きいアルコール系の溶媒が好適に使用できる。
は、必須ではないが含有させることが好ましい成分であ
る。前記金属アルコキシドおよび前記アリル基含有金属
アルコキシドが加水分解するときに発生するアルコール
自体が溶媒となるので特別に添加しなくてもよい場合が
ある。しかし、通常は、被覆の形成方法の種類によって
適した溶媒が使用される。被覆の形成方法としては、キ
ャスト法、ディップコート法、グラビアコート法，フレ
キソ印刷法，ロールコート法などが好適に使用される
が、キャスト法やディップコート法で用いられる有機溶
剤は蒸発速度の大きな溶媒が好適である。すなわち、溶
媒の蒸発速度があまりにも小さいと塗膜の乾燥が遅いの
で液の流動性が高くなり均一な塗膜が形成されない場合
があるので、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、tert−ブトキシアルコールなどのような蒸発
速度の大きいアルコール系の溶媒が好適に使用できる。
【００２１】一方グラビアコート法、フレキソ印刷法、
ロールコート法に使用される有機溶剤は、以下に述べる
ような、蒸発速度の極めて小さい溶媒が好適である。こ
れは蒸発速度が大きすぎる溶媒では、十分にレベリング
が行われないうちに溶媒が蒸発してしまうため塗布外観
が汚くなる場合があるからである。溶媒の蒸発速度は、
酢酸ブチルのそれを１００とした相対蒸発速度指数で、
一般的に評価されている。この値が４０以下の溶媒は極
めて小さい蒸発速度をもつ溶媒として分類されており、
このような溶媒がグラビアコート法，フレキソ印刷法，
ロールコート法の有機溶媒として好ましい。たとえばエ
チルセロソルブ，ブチルセロソルブ，セロソルブアセテ
ート，ジエチレングリコールモノエチルエーテル，ヘキ
シレングリコール，ジエチレングリコール，エチレング
リコール，トリプロピレングリコール，ジアセトンアル
コール，テトラヒドロフルフリルアルコール，などが挙
げられる。
ロールコート法に使用される有機溶剤は、以下に述べる
ような、蒸発速度の極めて小さい溶媒が好適である。こ
れは蒸発速度が大きすぎる溶媒では、十分にレベリング
が行われないうちに溶媒が蒸発してしまうため塗布外観
が汚くなる場合があるからである。溶媒の蒸発速度は、
酢酸ブチルのそれを１００とした相対蒸発速度指数で、
一般的に評価されている。この値が４０以下の溶媒は極
めて小さい蒸発速度をもつ溶媒として分類されており、
このような溶媒がグラビアコート法，フレキソ印刷法，
ロールコート法の有機溶媒として好ましい。たとえばエ
チルセロソルブ，ブチルセロソルブ，セロソルブアセテ
ート，ジエチレングリコールモノエチルエーテル，ヘキ
シレングリコール，ジエチレングリコール，エチレング
リコール，トリプロピレングリコール，ジアセトンアル
コール，テトラヒドロフルフリルアルコール，などが挙
げられる。
【００２２】本発明に使用されるコーティング液の溶媒
としては、上記のような溶媒の一種が望ましいが、コー
ティング方法やコーティング液の特性に応じて上記の溶
媒を複数混合して用いても構わない。
としては、上記のような溶媒の一種が望ましいが、コー
ティング方法やコーティング液の特性に応じて上記の溶
媒を複数混合して用いても構わない。
【００２３】溶媒の含有量は、モル比で表して、前記金
属アルコキシドおよび前記アリル基含有金属アルコキシ
ドの合計に対して０．３〜５倍が好ましく、より好まし
くは０．５〜３倍であり、感光性組成物中の溶媒含有量
は０〜５０重量％であることが好ましく、さらに好まし
くは０〜２０重量％である。
属アルコキシドおよび前記アリル基含有金属アルコキシ
ドの合計に対して０．３〜５倍が好ましく、より好まし
くは０．５〜３倍であり、感光性組成物中の溶媒含有量
は０〜５０重量％であることが好ましく、さらに好まし
くは０〜２０重量％である。
【００２４】本発明における感光性組成物には、諸種の
添加剤を加えてもよい。例えば膜厚みを大きくする膜厚
増加剤、増粘剤、レベリング剤、フローコントロール剤
などがこれらの例として挙げられる。例えば、ジメチル
ポリシロキサンなどのシリコーン、ポリエチレングリコ
ールなどのグリコール類を例示できる。
添加剤を加えてもよい。例えば膜厚みを大きくする膜厚
増加剤、増粘剤、レベリング剤、フローコントロール剤
などがこれらの例として挙げられる。例えば、ジメチル
ポリシロキサンなどのシリコーン、ポリエチレングリコ
ールなどのグリコール類を例示できる。
【００２５】本発明における感光性組成物は最終的には
光照射によってパターン形成を行う必要があるのでパタ
ーン加工性の観点からはシロキサンポリマーを有機溶媒
またはアルカリ水溶液に溶解する必要がある。従って前
記金属アルコキシドおよび前記アリル基含有金属アルコ
キシドの重合度を上げすぎるとリーチングしにくくなる
ので加水分解条件には注意が必要になってくる。アリル
基含有金属アルコキシド、加水分解性金属アルコキシ
ド、および必要に応じて加水分解触媒、光反応開始剤、
重合促進剤、水および溶媒を含有する感光性組成物は、
これらを配合した後に、室温〜５０℃で３０分〜１２時
間、反応させて加水分解させることにより調製される。
光照射によってパターン形成を行う必要があるのでパタ
ーン加工性の観点からはシロキサンポリマーを有機溶媒
またはアルカリ水溶液に溶解する必要がある。従って前
記金属アルコキシドおよび前記アリル基含有金属アルコ
キシドの重合度を上げすぎるとリーチングしにくくなる
ので加水分解条件には注意が必要になってくる。アリル
基含有金属アルコキシド、加水分解性金属アルコキシ
ド、および必要に応じて加水分解触媒、光反応開始剤、
重合促進剤、水および溶媒を含有する感光性組成物は、
これらを配合した後に、室温〜５０℃で３０分〜１２時
間、反応させて加水分解させることにより調製される。
【００２６】本発明の感光性組成物は、重量％で表し
て、 アリル基を有する金属 アルコキシド ５〜９５．４９％、 加水分解性金属アルコキシド １〜５０％、 光反応開始剤 ０．５〜１０％、 重合促進剤 ０．０１〜１０％、 溶媒 ０〜５０％、および 水 ３〜５０％、 を含むことが好ましい。
て、 アリル基を有する金属 アルコキシド ５〜９５．４９％、 加水分解性金属アルコキシド １〜５０％、 光反応開始剤 ０．５〜１０％、 重合促進剤 ０．０１〜１０％、 溶媒 ０〜５０％、および 水 ３〜５０％、 を含むことが好ましい。
【００２７】また、本発明の感光性組成物は、重量％で
表して、アリル基を有するト リアルコキシシラン ５〜９６．４９％、 光反応開始剤 ０．５〜１０％、 重合促進剤 ０．０１〜１０％、 溶媒 ０〜５０％、および 水 ３〜５０％、 を含むことが好ましい。
表して、アリル基を有するト リアルコキシシラン ５〜９６．４９％、 光反応開始剤 ０．５〜１０％、 重合促進剤 ０．０１〜１０％、 溶媒 ０〜５０％、および 水 ３〜５０％、 を含むことが好ましい。
【００２８】本発明に用いる基材としては、平板状、曲
板状、棒状等の任意の形状のものが用いられる。基材と
して基材表面の反り量（基材の表面方向の単位長さあた
りのその表面に垂直な方向の熱変形長さ）が小さいこと
が望ましい。反り量がこの範囲を越えると膜の成形過程
において基板と膜が界面で剥離もしくは膜に亀裂を生じ
るおそれがあるので、基材の材料、寸法、形状を選ぶこ
とが好ましい。
板状、棒状等の任意の形状のものが用いられる。基材と
して基材表面の反り量（基材の表面方向の単位長さあた
りのその表面に垂直な方向の熱変形長さ）が小さいこと
が望ましい。反り量がこの範囲を越えると膜の成形過程
において基板と膜が界面で剥離もしくは膜に亀裂を生じ
るおそれがあるので、基材の材料、寸法、形状を選ぶこ
とが好ましい。
【００２９】また、この基材は５×１０-5/℃以下の線
膨張率を有することが好ましい。基材の線膨張率が５×
１０-5/℃を超えると、例えばポリプロピレン（９〜１
５×10-5/℃）のような高い熱膨張係数を有するプラス
チックス基材の場合、オルガノポリシロキサン膜の成形
過程において基材と膜が界面で剥離したり、膜に亀裂を
生じるからである。通常の無機ガラスは５×１０-5/℃
以下の線膨張率を有する。また基材の少なくとも表面は
酸化物であることが好ましい。もし膜と接する基材表面
が酸化物でない場合、膜の成形過程において付着強度が
下がり、場合によっては基材と膜が界面で剥離を生じる
からである。好ましい基材の材質の例として、珪酸塩系
ガラス、ホウ酸系ガラス、リン酸系ガラス等の酸化物ガ
ラス、石英、セラミックス、金属、シリコン、エポキシ
樹脂、ガラス繊維強化ポリスチレンなどを挙げることが
できる。金属はそのままでは膜が接合しないが、あらか
じめ金属の表面を酸化剤で処理しておけば基材として使
用することができる。このなかでも、コストの点から
は、フロートガラス（線膨張係数：１×１０-5／℃）が
好ましく、熱膨張係数の点からは、石英ガラス（線膨張
係数：８×１０-7／℃）、ゼロ膨張ガラス（線膨張係
数：−３〜０．０×１０-7／℃、商品名：ネオセラム、
ゼロデュアガラス）が最も好ましい。また集積光学素子
を製造する場合には、シリコン基板（線膨張係数：４
１．５×１０-7／℃）を用いてもよい。
膨張率を有することが好ましい。基材の線膨張率が５×
１０-5/℃を超えると、例えばポリプロピレン（９〜１
５×10-5/℃）のような高い熱膨張係数を有するプラス
チックス基材の場合、オルガノポリシロキサン膜の成形
過程において基材と膜が界面で剥離したり、膜に亀裂を
生じるからである。通常の無機ガラスは５×１０-5/℃
以下の線膨張率を有する。また基材の少なくとも表面は
酸化物であることが好ましい。もし膜と接する基材表面
が酸化物でない場合、膜の成形過程において付着強度が
下がり、場合によっては基材と膜が界面で剥離を生じる
からである。好ましい基材の材質の例として、珪酸塩系
ガラス、ホウ酸系ガラス、リン酸系ガラス等の酸化物ガ
ラス、石英、セラミックス、金属、シリコン、エポキシ
樹脂、ガラス繊維強化ポリスチレンなどを挙げることが
できる。金属はそのままでは膜が接合しないが、あらか
じめ金属の表面を酸化剤で処理しておけば基材として使
用することができる。このなかでも、コストの点から
は、フロートガラス（線膨張係数：１×１０-5／℃）が
好ましく、熱膨張係数の点からは、石英ガラス（線膨張
係数：８×１０-7／℃）、ゼロ膨張ガラス（線膨張係
数：−３〜０．０×１０-7／℃、商品名：ネオセラム、
ゼロデュアガラス）が最も好ましい。また集積光学素子
を製造する場合には、シリコン基板（線膨張係数：４
１．５×１０-7／℃）を用いてもよい。
【００３０】上記感光性組成物を、所定形状の基材例え
ば基板の上に０．５μｍ〜２００μｍのウェット厚みに
塗布して、塗膜を形成した後、その塗膜の上に所定の形
状の光透過領域と光遮蔽領域のパターンを有するフォト
マスクを配置し、そのフォトマスクを介して紫外線を、
照射される位置での光強度が１〜２００ｍＷ／ｃｍ2に
なるように、１秒〜３０分間塗膜に照射して、フォトマ
スクの光透過領域に対応する露光塗膜部分を重合させ、
フォトマスクの光遮蔽領域に対応する非露光塗膜部分を
アルコールまたはアルカリ水溶液でリーチング（溶解除
去）し、その後８０〜３５０℃で１０分〜５時間加熱す
ることにより硬化させて、厚みが１００ｎｍ〜５０μ
ｍ、特に好ましくは厚みが１００ｎｍ〜１０μｍの、上
記フォトマスクの光透過領域パターンに一致する形状の
パターン膜が被覆された物品、例えば光導波路素子、回
折格子その他の光学素子が得られる。前記光照射によ
り、非露光の塗膜部分では、アリル基含有金属アルコキ
シドの光重合（アリル基の重合性炭素−炭素二重結合が
開いて他との結合）は生じず、溶剤によりアリル基含有
金属アルコキシドは加水分解性金属アルコキシドの加水
分解物とともに溶解除去される。露光された塗膜部分中
のアリル基含有金属アルコキシドはその中の重合性炭素
−炭素二重結合が開いて再結合することにより重合され
て、溶剤に不溶となり、続く加熱処理により露光塗膜部
分のアリル基含有金属アルコキシドおよび加水分解性金
属アルコキシドの加水分解・脱水縮合反応が完成して硬
化する。
ば基板の上に０．５μｍ〜２００μｍのウェット厚みに
塗布して、塗膜を形成した後、その塗膜の上に所定の形
状の光透過領域と光遮蔽領域のパターンを有するフォト
マスクを配置し、そのフォトマスクを介して紫外線を、
照射される位置での光強度が１〜２００ｍＷ／ｃｍ2に
なるように、１秒〜３０分間塗膜に照射して、フォトマ
スクの光透過領域に対応する露光塗膜部分を重合させ、
フォトマスクの光遮蔽領域に対応する非露光塗膜部分を
アルコールまたはアルカリ水溶液でリーチング（溶解除
去）し、その後８０〜３５０℃で１０分〜５時間加熱す
ることにより硬化させて、厚みが１００ｎｍ〜５０μ
ｍ、特に好ましくは厚みが１００ｎｍ〜１０μｍの、上
記フォトマスクの光透過領域パターンに一致する形状の
パターン膜が被覆された物品、例えば光導波路素子、回
折格子その他の光学素子が得られる。前記光照射によ
り、非露光の塗膜部分では、アリル基含有金属アルコキ
シドの光重合（アリル基の重合性炭素−炭素二重結合が
開いて他との結合）は生じず、溶剤によりアリル基含有
金属アルコキシドは加水分解性金属アルコキシドの加水
分解物とともに溶解除去される。露光された塗膜部分中
のアリル基含有金属アルコキシドはその中の重合性炭素
−炭素二重結合が開いて再結合することにより重合され
て、溶剤に不溶となり、続く加熱処理により露光塗膜部
分のアリル基含有金属アルコキシドおよび加水分解性金
属アルコキシドの加水分解・脱水縮合反応が完成して硬
化する。
【００３１】本発明の感光性組成物は上述のように、塗
布膜の一部を光照射により重合硬化させた後、光未照射
部を溶解、除去するパターン膜被覆物品の製造に用いら
れるが、その他に、基材と種々の表面形状を有する型材
との間に感光性組成物を配置し、必要に応じてプレス
し、その後に全体を光照射して重合硬化さて、その型材
の表面を転写された表面形状を有する膜を基材に接着し
た、マイクロレンズ、回折格子、光導波路などの光学素
子その他の被覆物品を製造することができる。
布膜の一部を光照射により重合硬化させた後、光未照射
部を溶解、除去するパターン膜被覆物品の製造に用いら
れるが、その他に、基材と種々の表面形状を有する型材
との間に感光性組成物を配置し、必要に応じてプレス
し、その後に全体を光照射して重合硬化さて、その型材
の表面を転写された表面形状を有する膜を基材に接着し
た、マイクロレンズ、回折格子、光導波路などの光学素
子その他の被覆物品を製造することができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】以下に本発明を具体的に説明す
る。 ［実施例１］ 感光性組成物の調製 ジルコニウムテトラブトキシド７．６７gをとり、アセ
ト酢酸エチル３．３９gを加えて０．５時間攪拌する。
次にこれにアリルトリエトキシシラン１２．９gを加え
て０．５時間攪拌した後、これに０．０６重量％濃度の
ＨＮＯ3水溶液３．６gを加えて３時間、溶液が均一にな
るまで攪拌する。その後、これに光反応開始剤のベンゾ
インイソブチルエーテル０．８０gと重合促進剤である
アセチルアセトンアルミニウム０．０３２gを加えてさ
らに２時間攪拌し感光性組成物を調製した。
る。 ［実施例１］ 感光性組成物の調製 ジルコニウムテトラブトキシド７．６７gをとり、アセ
ト酢酸エチル３．３９gを加えて０．５時間攪拌する。
次にこれにアリルトリエトキシシラン１２．９gを加え
て０．５時間攪拌した後、これに０．０６重量％濃度の
ＨＮＯ3水溶液３．６gを加えて３時間、溶液が均一にな
るまで攪拌する。その後、これに光反応開始剤のベンゾ
インイソブチルエーテル０．８０gと重合促進剤である
アセチルアセトンアルミニウム０．０３２gを加えてさ
らに２時間攪拌し感光性組成物を調製した。
【００３３】厚み０．５ｍｍで２ｃｍ×２ｃｍの石英基
板（屈折率１．４６）をイソプロピルアルコール中で２
０分間超音波洗浄し、純水中でさらに２０分間超音波洗
浄した。これに上記感光性組成物組成物を滴下し、スピ
ンコートして組成物を前記基板上に均一に塗布した。こ
れを９０℃で１０分間加熱して乾燥した。フォトマスク
（２ｃｍ×２ｃｍの大きさでその中央に長さ２ｃｍで幅
が１５μｍの細長い紫外光透過部を２０μｍの間隔を隔
てて平行に２本設けてあり、その他の部分は紫外線を遮
蔽する。）を塗布膜面に乗せ、これを窒素雰囲気下に置
き、３０ｃｍ上方の距離から５ｅＶ（波長３６５ｎｍ）
の紫外線を１０分間照射した。膜面における紫外線の強
度は１０ｍＷ／ｃｍ2であった。この照射により、膜中
の露光部分（前記紫外光透過部に対応する部分）では、
アリルトリエトキシシランのアリル基が有する重合性炭
素−炭素二重結合が開いてアリルトリエトキシシランの
重合体（イソプロピルアルコールに非溶解）が生成され
る。しかし非露光部分（前記紫外遮蔽部に対応する部
分）はそのような重合体は生成されずイソプロピルアル
コールに溶解性を有する。露光終了後、基板をイソプロ
ピルアルコール中に浸漬して洗って膜の非露光部分を溶
解、除去した。１５０℃で１時間加熱、乾燥することに
より、アリルトリエトキシシランおよびジルコニウムテ
トラブトキシドの加水分解・脱水縮重合反応が完成し
て、石英基板上にそれぞれ、幅１５μｍ、高さ１２μｍ
で長さ２ｃｍの２本の導波路コア（屈折率１．４７）が
２０μｍの間隔を隔てて平行に配置されたリッジ型光導
波路を得た。ＳＥＭ(走査型電子顕微鏡)観察の結果、２
つの導波路コアの間の石英基板部分には非露光部分残留
物が全く観察されず、紫外線非露光部分のリーチングが
きれいにおこなわれたことがわかった。
板（屈折率１．４６）をイソプロピルアルコール中で２
０分間超音波洗浄し、純水中でさらに２０分間超音波洗
浄した。これに上記感光性組成物組成物を滴下し、スピ
ンコートして組成物を前記基板上に均一に塗布した。こ
れを９０℃で１０分間加熱して乾燥した。フォトマスク
（２ｃｍ×２ｃｍの大きさでその中央に長さ２ｃｍで幅
が１５μｍの細長い紫外光透過部を２０μｍの間隔を隔
てて平行に２本設けてあり、その他の部分は紫外線を遮
蔽する。）を塗布膜面に乗せ、これを窒素雰囲気下に置
き、３０ｃｍ上方の距離から５ｅＶ（波長３６５ｎｍ）
の紫外線を１０分間照射した。膜面における紫外線の強
度は１０ｍＷ／ｃｍ2であった。この照射により、膜中
の露光部分（前記紫外光透過部に対応する部分）では、
アリルトリエトキシシランのアリル基が有する重合性炭
素−炭素二重結合が開いてアリルトリエトキシシランの
重合体（イソプロピルアルコールに非溶解）が生成され
る。しかし非露光部分（前記紫外遮蔽部に対応する部
分）はそのような重合体は生成されずイソプロピルアル
コールに溶解性を有する。露光終了後、基板をイソプロ
ピルアルコール中に浸漬して洗って膜の非露光部分を溶
解、除去した。１５０℃で１時間加熱、乾燥することに
より、アリルトリエトキシシランおよびジルコニウムテ
トラブトキシドの加水分解・脱水縮重合反応が完成し
て、石英基板上にそれぞれ、幅１５μｍ、高さ１２μｍ
で長さ２ｃｍの２本の導波路コア（屈折率１．４７）が
２０μｍの間隔を隔てて平行に配置されたリッジ型光導
波路を得た。ＳＥＭ(走査型電子顕微鏡)観察の結果、２
つの導波路コアの間の石英基板部分には非露光部分残留
物が全く観察されず、紫外線非露光部分のリーチングが
きれいにおこなわれたことがわかった。
【００３４】［比較例１］上記実施例１の感光性組成物
の調製において使用したアリルトリエトキシシラン１
２．９gに代えてトリメトキシシリルプロピルメタクリ
レート１０gを使用する他は実施例１と同様のモル比に
て感光性組成物を調製した。
の調製において使用したアリルトリエトキシシラン１
２．９gに代えてトリメトキシシリルプロピルメタクリ
レート１０gを使用する他は実施例１と同様のモル比に
て感光性組成物を調製した。
【００３５】上記感光性組成物を、上記実施例１と同様
にして、石英基板上に塗布、乾燥、紫外線照射、非露光
部分除去および加熱を行ってリッジ型光導波路を得た。
導波路コア（屈折率１．４７）の寸法は幅１５μｍ、高
さ１２μｍであった。ＳＥＭ(走査型電子顕微鏡)観察の
結果、２つの導波路コアの間の石英基板部分には非露光
部分残留物が石英基板部分の面積の約５％の広さで残っ
ていることが観察された。
にして、石英基板上に塗布、乾燥、紫外線照射、非露光
部分除去および加熱を行ってリッジ型光導波路を得た。
導波路コア（屈折率１．４７）の寸法は幅１５μｍ、高
さ１２μｍであった。ＳＥＭ(走査型電子顕微鏡)観察の
結果、２つの導波路コアの間の石英基板部分には非露光
部分残留物が石英基板部分の面積の約５％の広さで残っ
ていることが観察された。
【００３６】［実施例２］ 感光性組成物の調製 アリルトリメトキシシラン１６．２gに０．０６重量％
濃度のＨＮＯ3水溶液３．６gを加えて３時間、溶液が均
一になるまで攪拌する。その後、光反応開始剤のベンゾ
インイソブチルエーテル０．８gと重合促進剤であるア
セチルアセトンアルミニウム０．３２gを加えてさらに
１時間攪拌することにより感光性組成物を調製した。
濃度のＨＮＯ3水溶液３．６gを加えて３時間、溶液が均
一になるまで攪拌する。その後、光反応開始剤のベンゾ
インイソブチルエーテル０．８gと重合促進剤であるア
セチルアセトンアルミニウム０．３２gを加えてさらに
１時間攪拌することにより感光性組成物を調製した。
【００３７】上記感光性組成物を用い、上記実施例１で
非露光部分除去でのイソプロピルアルコールに代えて濃
度５重量％のＮａＯＨ水溶液を用いた他は上記実施例１
と同様にして、石英基板上に塗布、乾燥、紫外線照射、
非露光部分除去、加熱を行ってリッジ型光導波路を得
た。導波路コア（屈折率１．４６５）の寸法は幅１５μ
ｍ、高さ１３μｍであった。ＳＥＭ(走査型電子顕微鏡)
観察の結果、２つの導波路コアの間の石英基板部分には
非露光部分残留物が全く観察されなかった。
非露光部分除去でのイソプロピルアルコールに代えて濃
度５重量％のＮａＯＨ水溶液を用いた他は上記実施例１
と同様にして、石英基板上に塗布、乾燥、紫外線照射、
非露光部分除去、加熱を行ってリッジ型光導波路を得
た。導波路コア（屈折率１．４６５）の寸法は幅１５μ
ｍ、高さ１３μｍであった。ＳＥＭ(走査型電子顕微鏡)
観察の結果、２つの導波路コアの間の石英基板部分には
非露光部分残留物が全く観察されなかった。
【００３８】［実施例３］ 感光性組成物の調製 アリルトリエトキシシラン１６．２gに、テトラエトキ
シシラン８．３gを加え、それに０．０６重量％濃度の
ＨＮＯ3水溶液３．６gを加えて３時間、溶液が均一にな
るまで攪拌する。その後、光反応開始剤のベンゾインイ
ソブチルエーテル０．０８gと重合促進剤であるアセチ
ルアセトンアルミニウム０．０３gを加えてさらに１時
間攪拌し感光性組成物を調製した。
シシラン８．３gを加え、それに０．０６重量％濃度の
ＨＮＯ3水溶液３．６gを加えて３時間、溶液が均一にな
るまで攪拌する。その後、光反応開始剤のベンゾインイ
ソブチルエーテル０．０８gと重合促進剤であるアセチ
ルアセトンアルミニウム０．０３gを加えてさらに１時
間攪拌し感光性組成物を調製した。
【００３９】上記感光性組成物を用い、実施例２で用い
たフォトマスクの代わりにフォトマスク（２ｃｍ×２ｃ
ｍの大きさで、幅１０μｍ、長さ２ｃｍで、間隔が１０
μｍのストライプ状の紫外光透過部を約１０００個平行
に設けた）を用いた他は、上記実施例２と同様にして、
石英基板上に塗布、乾燥、紫外線照射、非露光部分除
去、加熱を行って回折格子を得た。回折格子の各凸部の
寸法は幅１０μｍ、長さ２ｃｍ、高さ１０μｍであっ
た。Ｈｅ−Ｎｅレーザより発振する６３２．８ｎｍのビ
ームを用いて回折の状態を観察したところ、１次回折光
および２次回折光がともにきれいに観察された。またＳ
ＥＭ(走査型電子顕微鏡)観察の結果、回折格子各凸部の
間の石英基板部分には非露光部分残留物が全く観察され
なかった。
たフォトマスクの代わりにフォトマスク（２ｃｍ×２ｃ
ｍの大きさで、幅１０μｍ、長さ２ｃｍで、間隔が１０
μｍのストライプ状の紫外光透過部を約１０００個平行
に設けた）を用いた他は、上記実施例２と同様にして、
石英基板上に塗布、乾燥、紫外線照射、非露光部分除
去、加熱を行って回折格子を得た。回折格子の各凸部の
寸法は幅１０μｍ、長さ２ｃｍ、高さ１０μｍであっ
た。Ｈｅ−Ｎｅレーザより発振する６３２．８ｎｍのビ
ームを用いて回折の状態を観察したところ、１次回折光
および２次回折光がともにきれいに観察された。またＳ
ＥＭ(走査型電子顕微鏡)観察の結果、回折格子各凸部の
間の石英基板部分には非露光部分残留物が全く観察され
なかった。
【００４０】［比較例２］上記比較例１で調製した感光
性組成物を用いて、上記実施例３と同様にして、石英基
板上に塗布、乾燥、紫外線照射、非露光部分除去、加熱
を行って、実施例３とほぼ同一寸法の回折格子を得た。
Ｈｅ−Ｎｅレーザより発振する６３２．８ｎｍのビーム
を用いて回折の状態を観察したところ、規則正しい回折
光として観察されなかった。またＳＥＭ(走査型電子顕
微鏡)観察の結果、回折格子各凸部の間の石英基板部分
には非露光部分残留物が、石英基板部分の面積の約５％
にわたって所々に観察された。
性組成物を用いて、上記実施例３と同様にして、石英基
板上に塗布、乾燥、紫外線照射、非露光部分除去、加熱
を行って、実施例３とほぼ同一寸法の回折格子を得た。
Ｈｅ−Ｎｅレーザより発振する６３２．８ｎｍのビーム
を用いて回折の状態を観察したところ、規則正しい回折
光として観察されなかった。またＳＥＭ(走査型電子顕
微鏡)観察の結果、回折格子各凸部の間の石英基板部分
には非露光部分残留物が、石英基板部分の面積の約５％
にわたって所々に観察された。
【００４１】［比較例３］トリメトキシシリルプロピル
メタクリレート２４．８gに０．０６重量％ＨＮＯ3水溶
液３．６gを加えて３時間、溶液が均一になるまで攪拌
する。その後、光反応開始剤のベンゾインイソブチルエ
ーテル０．８gと重合促進剤であるアセチルアセトンア
ルミニウム０．３２gを加えてさらに１時間攪拌するこ
とにより感光性組成物を調製した。
メタクリレート２４．８gに０．０６重量％ＨＮＯ3水溶
液３．６gを加えて３時間、溶液が均一になるまで攪拌
する。その後、光反応開始剤のベンゾインイソブチルエ
ーテル０．８gと重合促進剤であるアセチルアセトンア
ルミニウム０．３２gを加えてさらに１時間攪拌するこ
とにより感光性組成物を調製した。
【００４２】上記感光性組成物をディップコーティング
法により石英基板上に塗布したが、風乾している間に基
板上のゾルが島状や液滴状に凝集し、平滑な塗膜として
得られなかった。
法により石英基板上に塗布したが、風乾している間に基
板上のゾルが島状や液滴状に凝集し、平滑な塗膜として
得られなかった。
【００４３】［比較例４］トリメトキシシリルプロピル
メタクリレート19.8gにテトラエトキシシラン4.17g、0.
06重量%HNO3水溶液3.6gを加えて３時間、溶液が均一に
なるまで攪拌する。その後、光反応開始剤のベンゾイン
イソブチルエーテル0.80gと重合促進剤であるアセチル
アセトンアルミニウム0.32gを加えてさらに１時間攪拌
することにより感光性組成物を調製した。
メタクリレート19.8gにテトラエトキシシラン4.17g、0.
06重量%HNO3水溶液3.6gを加えて３時間、溶液が均一に
なるまで攪拌する。その後、光反応開始剤のベンゾイン
イソブチルエーテル0.80gと重合促進剤であるアセチル
アセトンアルミニウム0.32gを加えてさらに１時間攪拌
することにより感光性組成物を調製した。
【００４４】上記感光性組成物をディップコーティング
法により石英基板上に塗布した後、実施例３と同様に紫
外線照射、非露光部分除去、加熱を行って回折格子を作
製した。SEM観察で非露光部分に残留物が観察され、He-
Neレーザーの６３２．８nmのビームを試料に照射して回
折光を観察したところ明瞭な回折光は観察されず、光は
ぼやけたり、回折光同士がつながったりというような状
況であった。
法により石英基板上に塗布した後、実施例３と同様に紫
外線照射、非露光部分除去、加熱を行って回折格子を作
製した。SEM観察で非露光部分に残留物が観察され、He-
Neレーザーの６３２．８nmのビームを試料に照射して回
折光を観察したところ明瞭な回折光は観察されず、光は
ぼやけたり、回折光同士がつながったりというような状
況であった。
【００４５】［比較例５］ビニルトリエトキシシラン１
９．３gに０．０６重量％ＨＮＯ3水溶液３．６g加えて
３時間、溶液が均一になるまで攪拌する。その後、光反
応開始剤のベンゾインイソブチルエーテル０．８gと重
合促進剤であるアセチルアセトンアルミニウム０．３２
gを加えてさらに１時間攪拌することにより感光性組成
物を調製した。
９．３gに０．０６重量％ＨＮＯ3水溶液３．６g加えて
３時間、溶液が均一になるまで攪拌する。その後、光反
応開始剤のベンゾインイソブチルエーテル０．８gと重
合促進剤であるアセチルアセトンアルミニウム０．３２
gを加えてさらに１時間攪拌することにより感光性組成
物を調製した。
【００４６】上記感光性組成物を用い、上記実施例３と
同様にして、石英基板上に塗布、乾燥、紫外線照射し
た。紫外線照射が終わった塗膜をイソプロピルアルコー
ルでリンスすると、非露光部のみならず露光部もリーチ
ングされてしまい、光照射しても重合しなかった。
同様にして、石英基板上に塗布、乾燥、紫外線照射し
た。紫外線照射が終わった塗膜をイソプロピルアルコー
ルでリンスすると、非露光部のみならず露光部もリーチ
ングされてしまい、光照射しても重合しなかった。
【００４７】［比較例６］ビニルトリエトキシシラン1
5.2gにテトラエトキシシラン4.17g、0.06重量%HNO3水溶
液3.6gを加えて３時間、溶液が均一になるまで攪拌す
る。その後、光反応開始剤のベンゾインイソブチルエー
テル0.80gと重合促進剤であるアセチルアセトンアルミ
ニウム0.32gを加えてさらに１時間攪拌することにより
感光性組成物を調製した。
5.2gにテトラエトキシシラン4.17g、0.06重量%HNO3水溶
液3.6gを加えて３時間、溶液が均一になるまで攪拌す
る。その後、光反応開始剤のベンゾインイソブチルエー
テル0.80gと重合促進剤であるアセチルアセトンアルミ
ニウム0.32gを加えてさらに１時間攪拌することにより
感光性組成物を調製した。
【００４８】上記感光性組成物をディップコーティング
法により石英基板上に塗布した後、実施例３と同様に、
マスキング、紫外線照射、非露光部分除去、加熱を行っ
て回折格子を作製した。SEM観察で露光部分以外でも膜
がリーチングされているのが観察され、キレイなストラ
イプ状のパターンは得られなかった。、He-Neレーザー
の６３２．８nmのビームを試料に照射して回折光を観察
したところ明瞭な回折光は観察されず、光はぼやけた
り、回折光同士がつながったりというような状況であっ
た。
法により石英基板上に塗布した後、実施例３と同様に、
マスキング、紫外線照射、非露光部分除去、加熱を行っ
て回折格子を作製した。SEM観察で露光部分以外でも膜
がリーチングされているのが観察され、キレイなストラ
イプ状のパターンは得られなかった。、He-Neレーザー
の６３２．８nmのビームを試料に照射して回折光を観察
したところ明瞭な回折光は観察されず、光はぼやけた
り、回折光同士がつながったりというような状況であっ
た。
【００４９】
【発明の効果】本発明によれば、感光性組成物を基板に
塗布し、所定のパターンのフォトマスクを介して光照射
した後、非露光部を有機溶媒またはアルカリ水溶液など
でリーチングすれば、露光部と非露光部の境界がはっき
りした精度に優れた微細パターン膜が得られ、従って耐
熱性、耐水性、耐薬品性等の特性が高い、光導波路、回
折格子などの光学素子として用いられるパターン膜被覆
物品が得られる。
塗布し、所定のパターンのフォトマスクを介して光照射
した後、非露光部を有機溶媒またはアルカリ水溶液など
でリーチングすれば、露光部と非露光部の境界がはっき
りした精度に優れた微細パターン膜が得られ、従って耐
熱性、耐水性、耐薬品性等の特性が高い、光導波路、回
折格子などの光学素子として用いられるパターン膜被覆
物品が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 忠永 清治 大阪府堺市中百舌鳥町６丁目998−３ (72)発明者 松田 厚範 大阪府河内長野市緑ヶ丘中町12−５ (72)発明者 河津 光宏 大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本 板硝子株式会社内 (72)発明者 中村 浩一郎 大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本 板硝子株式会社内 (72)発明者 山本 博章 大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本 板硝子株式会社内
Claims (27)
- 【請求項１】 感光性を有する有機金属化合物および加
水分解性金属アルコキシドを含む感光性組成物を基材上
に塗布し、光照射して塗布膜の露光部を重合させた後、
非露光部を溶解、除去するパターン膜被覆物品の製造方
法において、前記有機金属化合物はアリル基含有金属ア
ルコキシドであることを特徴とするパターン膜被覆物品
の製造方法。 - 【請求項２】 前記アリル基含有金属アルコキシドはア
リルトリメトキシシランまたはアリルトリエトキシシラ
ンである請求項１記載のパターン膜被覆物品の製造方
法。 - 【請求項３】 前記加水分解性金属アルコキシドは、ケ
イ素、チタン、ジルコニウムまたはアルミニウムのアル
コキシドを含む請求項１または２記載のパターン膜被覆
物品の製造方法。 - 【請求項４】 前記加水分解性金属アルコキシドは、ケ
イ素、チタン、もしくはジルコニウムのテトラアルコキ
シドまたはトリアルコキシド、またはアルミニウムのト
リアルコキシドを含む請求項１〜３のいずれか１項記載
のパターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項５】 前記加水分解性金属アルコキシドは、テ
トラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリブト
キシアルミニウム、テトラプロポキシジルコニウム、テ
トラブトキシジルコニウム、テトライソプロポキシチタ
ン、またはテトラブトキシチタン、メチルトリエトキシ
シラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、およびフェニルトリメトキシシランからな
る群より選ばれた少なくとも１種の金属アルコキシドを
含む請求項１〜４のいずれか１項記載のパターン膜被覆
物品の製造方法。 - 【請求項６】 前記感光性組成物は、前記アリル基含有
金属アルコキシドおよび前記加水分解性金属アルコキシ
ドを、前記アリル基含有金属アルコキシド１００重量部
に対して、前記加水分解性金属アルコキシドを１〜５０
重量部含有する請求項１〜５のいずれか１項記載のパタ
ーン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項７】 前記感光性組成物は、さらに光反応開始
剤を、前記アリル基含有金属アルコキシド１モルに対し
て、０．００１〜０．２モル含有する請求項１〜６のい
ずれか１項記載のパターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項８】 前記感光性組成物は、さらに重合促進剤
を、モル比で表して、前記金属アルコキシドおよび前記
アリル基含有金属アルコキシドの合計１モルに対して、
０．０００５〜０．１モル含有する請求項１〜７のいず
れか１項記載のパターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項９】 前記感光性組成物は、さらに水を、モル
比で表して、前記加水分解性金属アルコキシドおよび感
光性を有するアリル基含有金属アルコキシドの合計に対
して１〜２０倍含有する請求項１〜８のいずれか１項記
載のパターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項１０】 前記感光性組成物は、重量％で表し
て、前記アリル基含有金属アルコキシド ５〜９５．４
９％、前記加水分解性金属アルコキシド １〜５０％、
前記光反応開始剤 ０．５〜１０％、前記重合促進剤
０．０１〜１０％、溶媒 ０〜５０％、および前記水
３〜５０％、を含む請求項１〜９のいずれか１項記載の
パターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項１１】 アリル基を有するトリアルコキシシラ
ンを含む感光性組成物を基材上に塗布し、光照射して塗
布膜の露光部を重合させた後、非露光部を溶解、除去す
るパターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項１２】 前記アリル基を有するトリアルコキシ
シランはアリルトリメトキシシランまたはアリルトリエ
トキシシランである請求項１１記載のパターン膜被覆物
品の製造方法。 - 【請求項１３】 前記感光性組成物は、さらに光反応開
始剤を、前記アリル基含有トリアルコキシシラン１モル
に対して、０．００１〜０．２モル含有する請求項１１
または１２記載のパターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項１４】 前記感光性組成物は、さらに重合促進
剤を、モル比で表して、前記アリル基含有トリアルコキ
シシラン１モルに対して、０．０００５〜０．１モル含
有する請求項１１〜１３のいずれか１項記載のパターン
膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項１５】 前記感光性組成物は、さらに水を、モ
ル比で表して、前記アリル基含有トリアルコキシシラン
に対して１〜２０倍含有する請求項１１〜１４のいずれ
か１項記載のパターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項１６】 前記感光性組成物は、重量％で表し
て、前記アリル基を有するトリアルコキシシラン ５〜
９６．４９％、前記光反応開始剤 ０．５〜１０％、前
記重合促進剤 ０．０１〜１０％、溶媒 ０〜５０％、
および前記水 ３〜５０％、を含む請求項１１〜１５の
いずれか１項記載のパターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項１７】 前記パターン膜被覆物品が光導波路、
回折格子、またはマイクロレンズである請求項１〜１６
のいずれか１項記載のパターン膜被覆物品の製造方法。 - 【請求項１８】 アリル基含有金属アルコキシド、光反
応開始剤、重合促進剤および水を主成分とする感光性組
成物。 - 【請求項１９】 さらに、加水分解性金属アルコキシド
を含む請求項１８記載の感光性組成物。 - 【請求項２０】 前記加水分解性金属アルコキシドは、
ケイ素、チタン、ジルコニウムまたはアルミニウムのア
ルコキシドを含む請求項１９記載の感光性組成物。 - 【請求項２１】 前記加水分解性金属アルコキシドは、
ケイ素、チタン、もしくはジルコニウムのテトラアルコ
キシドまたはトリアルコキシド、またはアルミニウムの
トリアルコキシドを含む請求項１９記載の感光性組成
物。 - 【請求項２２】 前記加水分解性金属アルコキシドは、
テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリブ
トキシアルミニウム、テトラプロポキシジルコニウム、
テトラブトキシジルコニウム、テトライソプロポキシチ
タン、またはテトラブトキシチタン、メチルトリエトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエ
トキシシラン、およびフェニルトリメトキシシランから
なる群より選ばれた少なくとも１種の金属アルコキシド
を含む請求項１９記載の感光性組成物。 - 【請求項２３】 前記アリル基含有金属アルコキシドが
アリルトリアルコキシシランである請求項１８〜２２の
いずれか１項記載の感光性組成物。 - 【請求項２４】 前記アリルトリアルコキシシランがア
リルトリメトキシシランまたはアリルトリエトキシシラ
ンである請求項２３記載の感光性組成物。 - 【請求項２５】 上記、感光性組成物が、重量％で表し
て、アリルトリアルコキシシラン ５〜９６．４９％、
光反応開始剤 ０．５〜１０％、重合促進剤 ０．０１
〜１０％、溶媒 ０〜５０％、および水 ３〜３０％、
を含む請求項２３記載の感光性組成物。 - 【請求項２６】 上記、感光性組成物が、重量％で表し
て、アリル基含有金属アルコキシド ５〜９５．４９、
加水分解性金属アルコキシド １〜５０％、光反応開始
剤 ０．５〜１０％、重合促進剤 ０．０１〜１０％、
溶媒 ０〜５０％、および水 ３〜５０％、を含む請求
項１８〜２４のいずれか１項記載の感光性組成物。 - 【請求項２７】 上記、感光性組成物が、さらに酸触媒
を０．００００２〜１０重量％含む請求項１８〜２６の
いずれか１項記載の感光性組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000002881A JP2001194780A (ja) | 2000-01-11 | 2000-01-11 | パターン膜被覆物品の製造方法および感光性組成物 |
| EP00987786A EP1160625A1 (en) | 2000-01-11 | 2000-12-28 | Method for producing article coated with patterned film and photosensitive composition |
| PCT/JP2000/009382 WO2001051992A1 (fr) | 2000-01-11 | 2000-12-28 | Procede servant a fabriquer un article revetu par une couche portant des motifs et composition photosensible |
| US09/936,323 US6723487B2 (en) | 2000-01-11 | 2000-12-28 | Method for producing article coated with patterned film and photosensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000002881A JP2001194780A (ja) | 2000-01-11 | 2000-01-11 | パターン膜被覆物品の製造方法および感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001194780A true JP2001194780A (ja) | 2001-07-19 |
Family
ID=18531928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000002881A Withdrawn JP2001194780A (ja) | 2000-01-11 | 2000-01-11 | パターン膜被覆物品の製造方法および感光性組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6723487B2 (ja) |
| EP (1) | EP1160625A1 (ja) |
| JP (1) | JP2001194780A (ja) |
| WO (1) | WO2001051992A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004347851A (ja) * | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 硬化収縮性パターン形成用材料、パターン形成方法及びカラーフィルター |
| CN105223775A (zh) * | 2014-07-04 | 2016-01-06 | 富士胶片株式会社 | 硬化性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、以及触摸屏及显示装置 |
| CN105278246A (zh) * | 2014-07-04 | 2016-01-27 | 富士胶片株式会社 | 硬化性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、触摸屏及显示装置 |
| JP2016027084A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-18 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、タッチパネル及び表示装置 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6849305B2 (en) | 2000-04-28 | 2005-02-01 | Ekc Technology, Inc. | Photolytic conversion process to form patterned amorphous film |
| EP1491498A1 (en) * | 2002-02-28 | 2004-12-29 | Japan Science and Technology Agency | Titania nanosheet alignment thin film, process for producing the same and article including the titania nanosheet alignment thin film |
| ATE439612T1 (de) * | 2003-12-05 | 2009-08-15 | 3M Innovative Properties Co | Prozess zur herstellung von photonischen kristallen |
| US20050124712A1 (en) * | 2003-12-05 | 2005-06-09 | 3M Innovative Properties Company | Process for producing photonic crystals |
| KR101353824B1 (ko) * | 2007-06-12 | 2014-01-21 | 삼성전자주식회사 | 유기 절연체 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조된 유기절연체 |
| US8668961B2 (en) * | 2008-07-31 | 2014-03-11 | Guardian Industries Corp. | Titania coating and method of making same |
| US9176377B2 (en) | 2010-06-01 | 2015-11-03 | Inpria Corporation | Patterned inorganic layers, radiation based patterning compositions and corresponding methods |
| SG188770A1 (en) | 2011-09-22 | 2013-04-30 | Agency Science Tech & Res | A process for making a patterned metal oxide structure |
| US9310684B2 (en) | 2013-08-22 | 2016-04-12 | Inpria Corporation | Organometallic solution based high resolution patterning compositions |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2877588B2 (ja) | 1991-10-28 | 1999-03-31 | ローム株式会社 | 金属酸化物薄膜のパターン形成法 |
| JP3039165B2 (ja) * | 1992-11-10 | 2000-05-08 | 日本板硝子株式会社 | 光記録膜及びその製造方法 |
| JP3817750B2 (ja) | 1994-03-17 | 2006-09-06 | 日産化学工業株式会社 | 紫外線照射による金属酸化物被膜のパターン形成用コーティング剤及びパターン形成方法 |
| JP4050370B2 (ja) * | 1998-01-07 | 2008-02-20 | 株式会社Ｋｒｉ | 無機質含有感光性樹脂組成物および無機パターン形成方法 |
| US6268089B1 (en) * | 1998-02-23 | 2001-07-31 | Agere Systems Guardian Corp. | Photorecording medium and process for forming medium |
| JPH11338145A (ja) | 1998-05-25 | 1999-12-10 | Fujifilm Olin Co Ltd | 感光性有機・無機複合組成物、その製造方法およびフォトレジスト |
| TW581746B (en) * | 1999-11-12 | 2004-04-01 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Photosensitive composition, optical waveguide element and production process therefor |
| US6534235B1 (en) * | 2000-10-31 | 2003-03-18 | Kansai Research Institute, Inc. | Photosensitive resin composition and process for forming pattern |
-
2000
- 2000-01-11 JP JP2000002881A patent/JP2001194780A/ja not_active Withdrawn
- 2000-12-28 EP EP00987786A patent/EP1160625A1/en not_active Withdrawn
- 2000-12-28 US US09/936,323 patent/US6723487B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-12-28 WO PCT/JP2000/009382 patent/WO2001051992A1/ja not_active Application Discontinuation
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004347851A (ja) * | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 硬化収縮性パターン形成用材料、パターン形成方法及びカラーフィルター |
| CN105223775A (zh) * | 2014-07-04 | 2016-01-06 | 富士胶片株式会社 | 硬化性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、以及触摸屏及显示装置 |
| CN105278246A (zh) * | 2014-07-04 | 2016-01-27 | 富士胶片株式会社 | 硬化性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、触摸屏及显示装置 |
| JP2016027154A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-18 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、並びに、タッチパネル及び表示装置 |
| JP2016027084A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-18 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、タッチパネル及び表示装置 |
| CN105278246B (zh) * | 2014-07-04 | 2020-03-13 | 富士胶片株式会社 | 硬化性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、触摸屏及显示装置 |
| CN105223775B (zh) * | 2014-07-04 | 2020-03-13 | 富士胶片株式会社 | 硬化性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、以及触摸屏及显示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6723487B2 (en) | 2004-04-20 |
| US20020160298A1 (en) | 2002-10-31 |
| WO2001051992A1 (fr) | 2001-07-19 |
| EP1160625A1 (en) | 2001-12-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8680179B2 (en) | Composite composition for micropatterned layers | |
| JP2001194780A (ja) | パターン膜被覆物品の製造方法および感光性組成物 | |
| JP4651935B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型オルガノポリシロキサン樹脂組成物、光伝送部材および光伝送部材の製造方法 | |
| JP3133039B2 (ja) | 光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パターン形成方法 | |
| JP2008528716A (ja) | 高緩和能、高耐薬品性および機械的安定性を有する、マイクロパターン化層のための複合組成物 | |
| JP2016503829A (ja) | 一次構造および／または二次構造の異なる２つの領域を有する層または三次元成形品、成形品の製造方法、およびこの方法を実施するための材料 | |
| JP2008524374A (ja) | シロキサン樹脂コーティング | |
| JPH07331173A (ja) | 光学材料形成用塗液組成物および光学材料 | |
| JPH0356177A (ja) | 感光性平板印刷版 | |
| Du et al. | Sol-gel waveguide fabrication parameters: an experimental investigation | |
| JP3273519B2 (ja) | ポリシロキサン系光導波路の製造方法 | |
| Chisham et al. | Gratings fabrication by ultraviolet light imprinting and embossing in a sol-gel silica glass | |
| JP2006143835A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物、これを用いた光導波路、及び光導路の製造方法 | |
| TWI274197B (en) | Radiation curable composition, optical wave-guide and method for formation thereof | |
| WO2010024336A1 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
| Bohannan et al. | Photolithographic patterning and doping of silica xerogel films | |
| EP1209492B1 (en) | Formation of materials such as waveguides with a refractive index step | |
| US20030031958A1 (en) | Photosensitive composition and process for producing articles covered with a patterned film | |
| JP2006117846A (ja) | パターン形成用樹脂組成物及びパターン形成方法 | |
| JP2003262712A (ja) | 光学膜被覆物品 | |
| JPH09255782A (ja) | 光硬化型無機・有機ハイブリッド材料とそれより成る三次元光導波路 | |
| JPH11109153A (ja) | 有機・無機高分子複合体およびその製造方法 | |
| JPS59155038A (ja) | 無機コ−テイング膜およびその製造方法 | |
| WO2024179027A1 (zh) | 玻璃制品的制作方法、玻璃制品及电子设备 | |
| JP2003167101A (ja) | 光学素子の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040128 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040128 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061130 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070710 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071003 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071205 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20080515 |