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JP2001194247A - Thermistor temperature sensor - Google Patents

Thermistor temperature sensor

Info

Publication number
JP2001194247A
JP2001194247A JP2000002165A JP2000002165A JP2001194247A JP 2001194247 A JP2001194247 A JP 2001194247A JP 2000002165 A JP2000002165 A JP 2000002165A JP 2000002165 A JP2000002165 A JP 2000002165A JP 2001194247 A JP2001194247 A JP 2001194247A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermistor
thin
thin film
temperature sensor
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000002165A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Inoue
孝 井上
Yoko Sakota
洋子 迫田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000002165A priority Critical patent/JP2001194247A/en
Publication of JP2001194247A publication Critical patent/JP2001194247A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermistor temperature sensor the output voltage of which is highly linear over a wide temperature range and which can detect temperature with high accuracy. SOLUTION: The thermistor temperature sensor is constituted in such a way that a first thin film fixed resistor 31 is connected in series between input and output electrodes 51 and 53 on an insulating substrate 11 and, at the same time, a first thin film thermistor 12 is connected between the input and output electrodes 51 and 53 and a ground electrode 52. In addition, a second thin film thermistor 13 is directly connected to a second thin film fixed resistor 32 between the first thin film fixed resistor 31 and first thin film thermistor 12 and the ground electrode 52 on the substrate 11. Each connection is made by using a conductive pattern 41.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は情報機器、通信機
器、家電機器、住設機器、自動車機器等に用いられるサ
ーミスタ温度センサに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermistor temperature sensor used for information equipment, communication equipment, home electric appliances, household equipment, automobile equipment and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報機器、通信機器、家電機器、
住設機器、自動車機器等においてサーミスタ温度センサ
により温度特性を有する電子部品の温度特性、あるいは
電子部品周辺の温度検知を行いその温度特性を補償する
要望が大きくなっている。
2. Description of the Related Art In recent years, information equipment, communication equipment, home electric appliances,
There is an increasing demand for detecting the temperature characteristic of an electronic component having a temperature characteristic or a temperature around an electronic component by using a thermistor temperature sensor in a home appliance, an automobile device, or the like to compensate for the temperature characteristic.

【0003】サーミスタ温度センサによる温度検知を行
うための回路としては、図2に示すような回路が広い温
度範囲にわたりサーミスタ温度センサの出力電圧の直線
性に優れていると知られている。
As a circuit for performing temperature detection by a thermistor temperature sensor, it is known that a circuit as shown in FIG. 2 has excellent linearity of the output voltage of the thermistor temperature sensor over a wide temperature range.

【0004】即ち抵抗体31,32にサーミスタ12,
13を直列に接続したものを並列に接続したものであ
る。
That is, the thermistor 12 is connected to the resistors 31 and 32.
13 are connected in series.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】図2に示す回路構成を
実現するために、例えばサーミスタを個別に電子部品あ
るいは電子機器に取り付けるとそれぞれのサーミスタに
温度差が生じ易く、温度検知に誤差が生じるという問題
点を有する。
When the thermistors are individually mounted on electronic components or electronic equipment, for example, to realize the circuit configuration shown in FIG. 2, a temperature difference is likely to occur between the thermistors, and an error occurs in temperature detection. There is a problem that.

【0006】そこで本発明は、使用するサーミスタに温
度差が生じるのを防止し、広い温度範囲にわたり出力電
圧の直線性に優れ、高精度に温度検知を行うことのでき
るサーミスタ温度センサを提供することを目的とするも
のである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a thermistor temperature sensor which prevents a temperature difference from occurring in a thermistor to be used, has excellent linearity of output voltage over a wide temperature range, and can perform temperature detection with high accuracy. It is intended for.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のサーミスタ温度センサは、一対の入、出力電
極と、この入、出力電極間に直列に接続した第1の抵抗
体と、前記入、出力電極間に並列に接続した第1の薄膜
サーミスタと、前記第1の抵抗体と前記第1の薄膜サー
ミスタ間に並列に接続した第2の抵抗体と、この第2の
抵抗体に直列に接続した第2の薄膜サーミスタとを備
え、少なくとも前記第1及び第2の薄膜サーミスタを同
一絶縁基板上に形成したものであり、サーミスタ間に温
度差が生じにくく、出力電圧の直線性に優れ、高精度に
温度検知を行うことができるのである。
To achieve this object, a thermistor temperature sensor according to the present invention comprises: a pair of input and output electrodes; a first resistor connected in series between the input and output electrodes; A first thin-film thermistor connected in parallel between the input and output electrodes; a second resistor connected in parallel between the first resistor and the first thin-film thermistor; And a second thin-film thermistor connected in series to at least the first and second thin-film thermistors. The first and second thin-film thermistors are formed on the same insulating substrate. This makes it possible to perform temperature detection with high accuracy.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、一対の入、出力電極と、この入、出力電極間に直列
に接続した第1の抵抗体と、前記入、出力電極間に並列
に接続した第1の薄膜サーミスタと、前記第1の抵抗体
と前記第1の薄膜サーミスタ間に並列に接続した第2の
抵抗体と、この第2の抵抗体に直列に接続した第2の薄
膜サーミスタと、前記第1及び第2の薄膜サーミスタに
接続したグランド電極とを備え、少なくとも前記第1及
び第2の薄膜サーミスタを同一絶縁基板上に形成したサ
ーミスタ温度センサであり、第1及び第2の薄膜サーミ
スタ間に温度差が生じることを防ぎ、高精度に温度検知
が可能なものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The invention according to claim 1 of the present invention is directed to a pair of input and output electrodes, a first resistor connected in series between the input and output electrodes, and the input and output electrodes. A first thin-film thermistor connected in parallel between the first resistor and a second resistor connected in parallel between the first resistor and the first thin-film thermistor; and a second resistor connected in series to the second resistor. A thermistor temperature sensor comprising: a second thin-film thermistor; and a ground electrode connected to the first and second thin-film thermistors, wherein at least the first and second thin-film thermistors are formed on the same insulating substrate. This prevents a temperature difference from occurring between the first and second thin film thermistors and enables highly accurate temperature detection.

【0009】請求項2に記載の発明は、第(n+1)
(ただしn=2以上の整数)の抵抗体とこの第(n+
1)の抵抗体に直列に接続した第(n+1)の薄膜サー
ミスタとを第1の抵抗体とグランド電極間で第nの抵抗
体及び第nの薄膜サーミスタと並列に接続したものであ
り、かつ前記第n及び第(n+1)の薄膜サーミスタを
同一絶縁基板上に形成した請求項1に記載のサーミスタ
温度センサであり、さらに広い温度範囲にわたり出力電
圧の直線性を有するものである。
According to a second aspect of the present invention, the (n + 1) th
(Where n is an integer of 2 or more) and the (n +
An (n + 1) th thin film thermistor connected in series to the resistor of (1), and connected in parallel with the nth resistor and the nth thin film thermistor between the first resistor and the ground electrode; and 2. The thermistor temperature sensor according to claim 1, wherein said nth and (n + 1) th thin film thermistors are formed on the same insulating substrate, and have a linear output voltage over a wider temperature range.

【0010】請求項3に記載の発明は、第1〜第nの抵
抗体も絶縁基板上に形成した請求項1に記載のサーミス
タ温度センサであり、小型化を図ることができるもので
ある。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a thermistor temperature sensor according to the first aspect, wherein the first to n-th resistors are also formed on an insulating substrate, and the size can be reduced.

【0011】請求項4に記載の発明は、第nの薄膜サー
ミスタの抵抗値は、第(n−1)の薄膜サーミスタの抵
抗値の1.5倍以上の抵抗値を有する請求項1に記載の
サーミスタ温度センサであり、さらに広い温度範囲にわ
たり出力電圧の直線性を向上させることが可能となる。
According to a fourth aspect of the present invention, the resistance value of the n-th thin film thermistor is 1.5 times or more the resistance value of the (n-1) th thin film thermistor. Thermistor temperature sensor, and it is possible to improve the linearity of the output voltage over a wider temperature range.

【0012】請求項5に記載の発明は、第1〜第nの薄
膜サーミスタの内少なくとも一つは、サーミスタ層の表
面に一対の櫛型電極を形成したものであり、この櫛型電
極に電気的に接続するように少なくとも一つの抵抗値調
整用電極を形成すると共に、前記櫛型電極と前記抵抗値
調整用電極間と、前記抵抗値調整用電極を複数設けた場
合は前記抵抗値調整用電極間を絶縁するために設けたス
リットとを備え、前記抵抗値調整用電極は、除去するこ
とにより前記薄膜サーミスタの抵抗値を所定の割合だけ
変化させるようにした請求項1に記載のサーミスタ温度
センサであり、薄膜サーミスタの抵抗値を所望の値に調
整可能なため、さらに温度検知精度を向上させることが
できるものである。
According to a fifth aspect of the present invention, at least one of the first to n-th thin film thermistors has a pair of comb-shaped electrodes formed on the surface of the thermistor layer. At least one resistance adjusting electrode is formed so as to be electrically connected, and between the comb-shaped electrode and the resistance adjusting electrode, and when a plurality of the resistance adjusting electrodes are provided, the resistance adjusting electrode is provided. 2. The thermistor temperature according to claim 1, further comprising a slit provided for insulating the electrodes, wherein the resistance adjusting electrode is removed to change a resistance value of the thin film thermistor by a predetermined ratio. The sensor is a sensor that can adjust the resistance value of the thin film thermistor to a desired value, so that the temperature detection accuracy can be further improved.

【0013】請求項6に記載の発明は、複数の抵抗値調
整用電極を形成する場合、薄膜サーミスタの抵抗値を2
m%[m:0〜(前記抵抗値調整用電極数−1)の正の
整数]ずつ変化させるようにした請求項5に記載のサー
ミスタ温度センサであり、薄膜サーミスタの抵抗値を高
精度に調整することができるので、温度検知精度がさら
に向上するものである。
According to a sixth aspect of the present invention, when a plurality of resistance value adjusting electrodes are formed, the resistance value of the thin film thermistor is set to two.
6. The thermistor temperature sensor according to claim 5, wherein the resistance value of the thin-film thermistor is changed with high accuracy by m % [m: 0 (positive integer of (the number of resistance adjustment electrodes−1)). Since the adjustment can be performed, the accuracy of the temperature detection is further improved.

【0014】請求項7に記載の発明は、少なくとも第1
〜第nの薄膜サーミスタの表面を絶縁保護膜で被覆した
請求項1に記載のサーミスタ温度センサであり、外部の
湿気等から保護し、経時変化を抑制することができ、長
期にわたり安定した温度検知精度を保持することができ
るものである。
According to a seventh aspect of the present invention, at least the first
2. The thermistor temperature sensor according to claim 1, wherein the surface of the nth thin-film thermistor is covered with an insulating protective film, which protects against external moisture and the like, can suppress a change with time, and can stably detect temperature for a long time. Accuracy can be maintained.

【0015】以下、本発明の実施の形態について図面を
参照しながら説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0016】(実施の形態1)図1は本発明の実施の形
態1におけるサーミスタ温度センサの上面図である。
FIG. 1 is a top view of a thermistor temperature sensor according to a first embodiment of the present invention.

【0017】図1において11は絶縁基板、12は第1
の薄膜サーミスタ、13は第2の薄膜サーミスタであり
共に絶縁基板11上に形成したサーミスタ層21の表面
に一対の櫛型電極22,23を形成したものである。ま
た、31は第1の薄膜固定抵抗、32は第2の薄膜固定
抵抗、41は導電パターン、51は入力電極、52はグ
ランド電極、53は出力電極である。
In FIG. 1, reference numeral 11 denotes an insulating substrate, and 12 denotes a first substrate.
The thin-film thermistor 13 is a second thin-film thermistor, in which a pair of comb electrodes 22 and 23 are formed on the surface of a thermistor layer 21 formed on the insulating substrate 11. 31 is a first thin film fixed resistor, 32 is a second thin film fixed resistor, 41 is a conductive pattern, 51 is an input electrode, 52 is a ground electrode, and 53 is an output electrode.

【0018】なお入、出力電極51,53間に直列に第
1の薄膜固定抵抗31を接続すると共に、入、出力電極
51,53とグランド電極52間に第1の薄膜サーミス
タ12を接続している。また第1の薄膜固定抵抗31と
第1の薄膜サーミスタ12間とグランド電極52間に第
2の薄膜固定抵抗32に第2の薄膜サーミスタ13を直
列に接続したものを接続している。さらに各接続は導電
パターン41により行っている。
The first thin-film fixed resistor 31 is connected in series between the input and output electrodes 51 and 53, and the first thin-film thermistor 12 is connected between the input and output electrodes 51 and 53 and the ground electrode 52. I have. The second thin-film fixed resistor 32 and the second thin-film thermistor 13 connected in series are connected between the first thin-film fixed resistor 31 and the first thin-film thermistor 12 and between the ground electrode 52. Further, each connection is made by the conductive pattern 41.

【0019】図2は本実施の形態1のサーミスタ温度セ
ンサの等価回路図である。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the thermistor temperature sensor according to the first embodiment.

【0020】このサーミスタ温度センサは以下の方法に
より得られる。
This thermistor temperature sensor is obtained by the following method.

【0021】まず、アルミナあるいは窒化アルミからな
る絶縁基板11の全面にMn,Co,Ni,Fe,Al
の内少なくとも二種類からなる複合酸化物をターゲット
に高周波スパッタリングにより形成した後、反応性イオ
ンエッチング、ウエットエッチング等のフォトリソグラ
フィープロセスを用い絶縁基板11上の所定の位置に第
1の薄膜サーミスタ12及び第2の薄膜サーミスタ13
のサーミスタ層21を形成する。なおスパッタリング
は、絶縁基板11とサーミスタ層21の密着性を向上さ
せるために、絶縁基板11を200〜400℃に加熱し
て行う。またスパッタリングガスにはArにO2を流量
比で約5%程度導入し、ガス圧0.2〜5.0Paの範
囲で行う。なお、サーミスタ層21の厚みは0.2〜
3.0μmの範囲である。
First, Mn, Co, Ni, Fe, Al is coated on the entire surface of an insulating substrate 11 made of alumina or aluminum nitride.
After forming at least two types of composite oxides on a target by high frequency sputtering, the first thin film thermistor 12 and the first thin film thermistor 12 are placed at predetermined positions on the insulating substrate 11 using a photolithography process such as reactive ion etching or wet etching. Second thin film thermistor 13
Is formed. Note that the sputtering is performed by heating the insulating substrate 11 to 200 to 400 ° C. in order to improve the adhesion between the insulating substrate 11 and the thermistor layer 21. O 2 is introduced into Ar as a sputtering gas at a flow rate of about 5% at a gas pressure of 0.2 to 5.0 Pa. The thermistor layer 21 has a thickness of 0.2 to
It is in the range of 3.0 μm.

【0022】次に、絶縁基板11上に形成したサーミス
タ層21が所望の結晶構造となるような温度(600〜
1000℃)で熱処理を行い、サーミスタ層21の結晶
化を行う。その後、絶縁基板11の上面全体に、スパッ
タリングでPtあるいはAu等からなる約0.1μmの
厚みの薄膜を形成する。このスパッタリングは、絶縁基
板11の温度100〜300℃、スパッタリングガスと
してArを用い、ガス圧は0.2〜5.0Paの範囲で
行う。次いで、反応性イオンエッチング、ウエットエッ
チング、リフトオフ等のフォトリソグラフィープロセス
を用い、サーミスタ層21上にそれぞれ一対の櫛型電極
22,23を形成すると共に、入力電極51、グランド
電極52、出力電極53及び導電パターン41を形成す
る。
Next, at a temperature (600 to 600) at which the thermistor layer 21 formed on the insulating substrate 11 has a desired crystal structure.
Heat treatment is performed at 1000 ° C.) to crystallize the thermistor layer 21. Thereafter, a thin film of about 0.1 μm in thickness made of Pt, Au, or the like is formed on the entire upper surface of the insulating substrate 11 by sputtering. This sputtering is performed at a temperature of 100 to 300 ° C. for the insulating substrate 11, Ar as a sputtering gas, and a gas pressure of 0.2 to 5.0 Pa. Next, a pair of comb electrodes 22 and 23 are respectively formed on the thermistor layer 21 by using a photolithography process such as reactive ion etching, wet etching, and lift-off, and the input electrode 51, the ground electrode 52, the output electrode 53, and the like. The conductive pattern 41 is formed.

【0023】最後に、絶縁基板11上にNi−Crを主
成分とする合金あるいはRuO2等からなる抵抗体薄膜
を蒸着あるいはスパッタリングにより形成した後、反応
性イオンエッチング、ウエットエッチング等のフォトリ
ソグラフィープロセスを用い絶縁基板11上の所定の位
置に第1の薄膜固定抵抗31及び第2の薄膜固定抵抗3
3を形成し、本実施の形態1のサーミスタ温度センサを
得る。
Finally, after a resistive thin film made of an alloy mainly composed of Ni—Cr or RuO 2 is formed on the insulating substrate 11 by vapor deposition or sputtering, a photolithography process such as reactive ion etching or wet etching is performed. The first thin film fixed resistor 31 and the second thin film fixed resistor 3
3 to obtain the thermistor temperature sensor according to the first embodiment.

【0024】本実施の形態1のサーミスタ温度センサ
は、熱伝導性に優れた一枚の絶縁基板11上に第1及び
第2の薄膜サーミスタ12,13を形成することで第1
及び第2の薄膜サーミスタ12,13間に温度差が生じ
ること無く、第1及び第2の薄膜サーミスタ12,13
で出力電圧の直線性を補正を行うことにより、広い温度
範囲(例えば−20〜80℃:100℃以上)にわたり
出力電圧の直線性に優れ、高精度な温度検知を可能にす
るものである。
In the thermistor temperature sensor according to the first embodiment, the first and second thin-film thermistors 12 and 13 are formed on a single insulating substrate 11 having excellent thermal conductivity.
The first and second thin film thermistors 12 and 13 do not have a temperature difference between the first and second thin film thermistors 12 and 13.
By correcting the linearity of the output voltage in the above, the linearity of the output voltage is excellent over a wide temperature range (for example, −20 to 80 ° C .: 100 ° C. or higher), and highly accurate temperature detection is possible.

【0025】(実施の形態2)図3は本発明の実施の形
態2のサーミスタ温度センサに用いる第1の薄膜サーミ
スタ12の上面図、図4は図3のA−B断面図である。
なお、第1の薄膜サーミスタ12及び第2の薄膜サーミ
スタ13は基本的には同様の構成で形成されるので本実
施の形態2においては第1の薄膜サーミスタ12につい
て説明する。また第1の薄膜サーミスタ12及び第2の
薄膜サーミスタ13を除く部分は実施の形態1に示すサ
ーミスタ温度センサと同様の構成とし、説明を省略す
る。
(Embodiment 2) FIG. 3 is a top view of a first thin-film thermistor 12 used in a thermistor temperature sensor according to Embodiment 2 of the present invention, and FIG. 4 is a sectional view taken along a line AB in FIG.
The first thin-film thermistor 12 and the second thin-film thermistor 13 are basically formed in the same configuration. Therefore, in the second embodiment, the first thin-film thermistor 12 will be described. Portions other than the first thin-film thermistor 12 and the second thin-film thermistor 13 have the same configuration as the thermistor temperature sensor described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0026】図3において、21は絶縁基板11上に形
成したサーミスタ層、22,23は櫛型電極、231,
232,233,234は抵抗値調整用電極、241,
242,243,244は絶縁スリット、25はトリミ
ング溝である。
In FIG. 3, 21 is a thermistor layer formed on the insulating substrate 11, 22 and 23 are comb electrodes, 231,
232, 233, and 234 are resistance value adjusting electrodes;
242, 243, 244 are insulating slits, and 25 is a trimming groove.

【0027】以下にこの第1の薄膜サーミスタ12(第
2の薄膜サーミスタ13も同様の構成で同時に形成す
る)の形成方法を説明する。
A method of forming the first thin-film thermistor 12 (the second thin-film thermistor 13 is also formed in the same configuration at the same time) will be described below.

【0028】まず、絶縁基板11上の所定の位置に実施
の形態1と同様にフォトリソグラフィープロセスを用い
てサーミスタ層21を形成するとともに絶縁スリット2
41,242,243,244を形成する。
First, the thermistor layer 21 is formed at a predetermined position on the insulating substrate 11 by using a photolithography process as in the first embodiment, and the insulating slit 2 is formed.
41, 242, 243 and 244 are formed.

【0029】次に、絶縁基板11上に形成したサーミス
タ層21が所望の結晶構造となるような温度(600〜
1000℃)で熱処理を行い、サーミスタ層21の結晶
化を行った後、絶縁基板11の上面全体に実施の形態1
と同様にスパッタリングにてPtあるいはAu等からな
る約0.1μmの厚みの薄膜を形成する。
Next, a temperature (600 to 600) at which the thermistor layer 21 formed on the insulating substrate 11 has a desired crystal structure.
After performing a heat treatment at 1000 ° C. to crystallize the thermistor layer 21, the first embodiment is applied to the entire upper surface of the insulating substrate 11.
In the same manner as described above, a thin film having a thickness of about 0.1 μm made of Pt, Au or the like is formed by sputtering.

【0030】次いで、実施の形態1と同様にフォトリソ
グラフィープロセスを用い櫛型電極22,23を形成す
るとともに抵抗値調整用電極231,232,233,
234を形成し、第1の薄膜サーミスタ12を得る。な
おこの時に入力電極51、グランド電極52、出力電極
53及び導電パターン41も形成する。
Next, as in the first embodiment, the comb-shaped electrodes 22 and 23 are formed by using a photolithography process, and the resistance adjusting electrodes 231, 232, 233 are formed.
234 are formed to obtain the first thin film thermistor 12. At this time, the input electrode 51, the ground electrode 52, the output electrode 53, and the conductive pattern 41 are also formed.

【0031】その後実施の形態1と同様の方法にて絶縁
基板11上に第1の薄膜固定抵抗31及び第2の薄膜固
定抵抗33を形成し、本実施の形態2のサーミスタ温度
センサを得る。
Thereafter, a first thin-film fixed resistor 31 and a second thin-film fixed resistor 33 are formed on the insulating substrate 11 in the same manner as in the first embodiment, and a thermistor temperature sensor according to the second embodiment is obtained.

【0032】なお抵抗値調整用電極231,232,2
33,234は、それぞれ除去したときに、第1の薄膜
サーミスタ12の抵抗値変化率が2m-1%(m:1〜抵
抗値調整用電極231,232,333,234の数)
ずつ、変化するように、つまり本実施の形態2において
は、4本の抵抗値調整用電極231,232,333,
234を除去すると、それぞれ第1の薄膜サーミスタ1
2の抵抗値が初期値と比較して1%、2%、4%、8%
変化するように形成するのである。
The resistance adjusting electrodes 231, 232, 2
33, 234, when removed, the resistance change rate of the first thin film thermistor 12 is 2 m -1 % (m: 1 to the number of the resistance adjusting electrodes 231, 232, 333, 234).
In this second embodiment, four resistance adjusting electrodes 231, 232, 333,
234 are removed, the first thin film thermistor 1
2 is 1%, 2%, 4%, 8% compared to the initial value
It is formed to change.

【0033】また、櫛型電極23と抵抗値調整用電極2
31、抵抗値調整用電極231と232、232と23
3、233と234の間に形成された絶縁スリット24
1,242,243,244は、櫛型電極23と抵抗値
調整用電極231、抵抗値調整用電極231と232、
232と233、233と234間の電気的絶縁を確保
するものである。これらのことは第1の薄膜サーミスタ
12と同様の構成である第2の薄膜サーミスタ13につ
いても言える。
Further, the comb-shaped electrode 23 and the resistance adjusting electrode 2
31, resistance value adjusting electrodes 231 and 232, 232 and 23
3, an insulating slit 24 formed between 233 and 234
1, 242, 243 and 244 are comb-shaped electrodes 23 and resistance adjusting electrodes 231; resistance adjusting electrodes 231 and 232;
232 and 233, and electrical insulation between 233 and 234. These facts can be applied to the second thin film thermistor 13 having the same configuration as the first thin film thermistor 12.

【0034】以上のように形成された本実施の形態2の
サーミスタ温度センサにおいて、第1の薄膜サーミスタ
12及び第2の薄膜サーミスタ13の抵抗値を測定し目
標抵抗値とのずれの割合に応じて除去する抵抗値調整用
電極231,232,233,234を選択する。ここ
で例えば抵抗値調整用電極232を選択した場合につい
て説明する。図3及び図4に示すように抵抗値調整用電
極232の一部を下層のサーミスタ層21を含めてレー
ザ等で除去し、トリミング溝25で隣接する絶縁スリッ
ト242,243間をつなぐと共に、櫛型電極23と抵
抗値調整用電極232とを絶縁する。
In the thermistor temperature sensor of the second embodiment formed as described above, the resistance values of the first thin-film thermistor 12 and the second thin-film thermistor 13 are measured, and according to the ratio of deviation from the target resistance value. And the resistance adjusting electrodes 231, 232, 233, 234 to be removed are selected. Here, for example, a case where the resistance adjusting electrode 232 is selected will be described. As shown in FIGS. 3 and 4, a part of the resistance adjusting electrode 232 including the lower thermistor layer 21 is removed by a laser or the like, and the insulating slits 242 and 243 adjacent to each other are connected by the trimming groove 25 and the comb is formed. The mold electrode 23 is insulated from the resistance adjusting electrode 232.

【0035】このように目標抵抗値とのずれの割合に応
じて除去する抵抗値調整用電極231,232,23
3,234を少なくとも一つ以上選択し、隣接する絶縁
スリット241,242,243,244間をトリミン
グ溝25でつなぐように、かつ櫛型電極23と絶縁する
ようにサーミスタ層21を含めて除去する。従って初期
値と比較すると1〜15%まで1%刻みで高精度に抵抗
値調整を行うことが可能となるため、高い抵抗値精度を
有する薄膜サーミスタとなる。従ってサーミスタ温度セ
ンサの出力電圧の直線性をさらに高めることができ、結
果として温度検知精度を向上させることができる。
As described above, the resistance value adjusting electrodes 231, 232, and 23 are removed in accordance with the ratio of deviation from the target resistance value.
3, and at least one is selected, and the insulating slits 241, 242, 243, and 244 adjacent to each other are removed including the thermistor layer 21 so as to be connected with the trimming groove 25 and insulated from the comb-shaped electrode 23. . Therefore, since the resistance value can be adjusted with high accuracy from 1% to 15% in increments of 1% as compared with the initial value, a thin film thermistor having high resistance value accuracy can be obtained. Therefore, the linearity of the output voltage of the thermistor temperature sensor can be further improved, and as a result, the temperature detection accuracy can be improved.

【0036】なお、本実施の形態2においては、抵抗値
調整用電極231,232,233,234を4本形成
しているが、その数は何本形成してもかまわない。従っ
て抵抗値調整用電極の数をm(mは1以上の整数)本と
し選択的に除去したときに薄膜サーミスタの抵抗値変化
率が初期値と比較して薄膜サーミスタ12の抵抗値を2
0%=1%〜2m-1%まで1%刻みでデジタル的に調整す
ることが可能となるのである。
In the second embodiment, four resistance value adjusting electrodes 231, 232, 233, and 234 are formed. However, any number may be formed. Therefore, when the number of the resistance adjusting electrodes is set to m (m is an integer of 1 or more) and selectively removed, the resistance change rate of the thin film thermistor is compared with the initial value, and the resistance of the thin film thermistor 12 is 2
It is possible to digitally adjust from 0 % = 1% to 2 m-1 % in 1% steps.

【0037】また、本実施の形態2においては、第1の
薄膜サーミスタ12の抵抗値を1%刻みで調整できるよ
うに抵抗値調整用電極231,232,233,234
を形成したが、これは第1の薄膜サーミスタ12の求め
られる抵抗値との公差が±1%の場合に対応するためで
ある。従って、例えば求められる抵抗値との公差が±3
%の時は薄膜サーミスタの抵抗値が3%刻みあるいはそ
れ以下の割合で変化するように抵抗値調整用電極を形成
すればよい。
In the second embodiment, the resistance adjusting electrodes 231, 232, 233, 234 are provided so that the resistance of the first thin film thermistor 12 can be adjusted in steps of 1%.
Was formed in order to cope with a case where the tolerance of the first thin film thermistor 12 with respect to the required resistance value was ± 1%. Therefore, for example, the tolerance with the required resistance value is ± 3.
In the case of%, the resistance value adjusting electrode may be formed so that the resistance value of the thin film thermistor changes in steps of 3% or less.

【0038】さらに絶縁スリットを設けるときは、各抵
抗値調整用電極間及び抵抗値調整用電極と櫛型電極間と
の絶縁状態が確実に確保できるようにする必要がある。
なぜならば、これらの電気的絶縁が確保できていない
と、各電極間の相互作用により、デジタル的に抵抗値調
整を行うことが難しくなるからである。
Further, when the insulating slit is provided, it is necessary to ensure the insulation between the resistance adjusting electrodes and between the resistance adjusting electrodes and the comb-shaped electrodes.
This is because, if these electrical insulations cannot be secured, it is difficult to digitally adjust the resistance value due to the interaction between the electrodes.

【0039】さらにまた、薄膜サーミスタの抵抗値は抵
抗値調整用電極を除去すると増加することとなる。その
ため薄膜サーミスタの抵抗値が最初から目標抵抗値とな
るように櫛型電極及び抵抗値調整用電極を形成すると、
薄膜サーミスタの初期抵抗値が高い場合抵抗値の調整が
不可能となる。従って薄膜サーミスタの抵抗値が目標抵
抗値よりも低目に櫛型電極及び抵抗値調整用電極を形成
することにより、抵抗値調整が不可能なものが発生する
のを防ぐことができる。
Further, the resistance of the thin film thermistor increases when the resistance adjusting electrode is removed. Therefore, if the comb-shaped electrode and the resistance adjusting electrode are formed so that the resistance of the thin film thermistor becomes the target resistance from the beginning,
When the initial resistance value of the thin film thermistor is high, the resistance value cannot be adjusted. Therefore, by forming the comb-shaped electrode and the electrode for adjusting the resistance value so that the resistance value of the thin film thermistor is lower than the target resistance value, it is possible to prevent the occurrence of a case where the resistance value cannot be adjusted.

【0040】(実施の形態3)図5は本発明の実施の形
態3におけるサーミスタ温度センサの上面図である。
(Embodiment 3) FIG. 5 is a top view of a thermistor temperature sensor according to Embodiment 3 of the present invention.

【0041】このサーミスタ温度センサは、実施の形態
1あるいは実施の形態2で示したサーミスタ温度センサ
の表面を絶縁保護膜61で被覆したものであり、この絶
縁保護膜61の下層の構成は、実施の形態1あるいは実
施の形態2に示すサーミスタ温度センサと同じであるの
で、同要素については同番号を付して説明を省略する。
In this thermistor temperature sensor, the surface of the thermistor temperature sensor shown in the first or second embodiment is covered with an insulating protective film 61. Since it is the same as the thermistor temperature sensor shown in the first embodiment or the second embodiment, the same elements are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

【0042】本実施の形態3のサーミスタ温度センサは
以下の方法により得られる。
The thermistor temperature sensor according to the third embodiment is obtained by the following method.

【0043】まず、実施の形態1あるいは2に示すサー
ミスタ温度センサを形成する。
First, the thermistor temperature sensor shown in the first or second embodiment is formed.

【0044】次に、図5に示すように入力電極51、グ
ランド電極52、出力電極53が露出するように絶縁基
板11の表面をガラスあるいはポリイミド樹脂、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂等を印刷し、熱処理を行うこと
により絶縁保護膜61を形成する。
Next, as shown in FIG. 5, the surface of the insulating substrate 11 is printed with glass or polyimide resin, epoxy resin, phenol resin, or the like so that the input electrode 51, the ground electrode 52, and the output electrode 53 are exposed. Is performed to form the insulating protective film 61.

【0045】以上のように形成された本実施の形態3の
サーミスタ温度センサは、第1及び第2の薄膜サーミス
タ12,13、第1及び第2の薄膜固定抵抗31,21
を外部からの熱や湿気等から保護し、第1及び第2の薄
膜サーミスタ12,13、第1及び第2の薄膜固定抵抗
31,32の抵抗値の経時変化を抑制することができ、
長期にわたり安定した温度検知精度を保持することが可
能なものである。
The thermistor temperature sensor of the third embodiment formed as described above includes the first and second thin film thermistors 12 and 13 and the first and second thin film fixed resistors 31 and 21.
Can be protected from external heat, moisture, and the like, and the aging of the resistance values of the first and second thin-film thermistors 12, 13 and the first and second thin-film fixed resistors 31, 32 can be suppressed.
It is possible to maintain stable temperature detection accuracy for a long time.

【0046】以下本発明のポイントについて記載する。Hereinafter, the points of the present invention will be described.

【0047】(1)図6に示すように本発明のサーミス
タ温度センサは−40℃〜125℃の間において従来の
ようにサーミスタを個別に接続した場合と比較すると出
力電圧の直線性に優れ高精度な温度検知ができる。
(1) As shown in FIG. 6, the thermistor temperature sensor of the present invention is superior in the linearity of the output voltage between -40 ° C. and 125 ° C. as compared with the conventional case where the thermistors are individually connected. Accurate temperature detection is possible.

【0048】(2)実施の形態1〜3においては薄膜サ
ーミスタと薄膜固定抵抗をそれぞれ2個用いたが、薄膜
サーミスタ及び薄膜固定抵抗はそれぞれ3個以上かつ同
数用いることにより、さらに広い温度範囲にわたり、サ
ーミスタ温度センサの出力電圧の直線性を得ることが可
能となる。この場合、薄膜サーミスタは全て同一絶縁基
板上に形成することが望ましい。
(2) In the first to third embodiments, two thin-film thermistors and two thin-film fixed resistors are used. However, by using three or more thin-film thermistors and three or more thin-film fixed resistors each in the same number, a wider temperature range can be obtained. Thus, it is possible to obtain the linearity of the output voltage of the thermistor temperature sensor. In this case, it is desirable that all the thin film thermistors are formed on the same insulating substrate.

【0049】また、第(n+1)(ただしn=2以上の
整数)の薄膜抵抗体とこの第(n+1)の薄膜抵抗体に
直列に接続した第(n+1)の薄膜サーミスタとを第1
の薄膜抵抗体31とグランド電極52との間で第nの薄
膜抵抗体及び第nの薄膜サーミスタと並列に接続する。
The (n + 1) th (where n is an integer not less than 2) thin film resistor and an (n + 1) th thin film thermistor connected in series to the (n + 1) th thin film resistor are provided as a first thin film thermistor.
Between the thin film resistor 31 and the ground electrode 52 in parallel with the nth thin film resistor and the nth thin film thermistor.

【0050】(3)実施の形態1〜3に示したように薄
膜サーミスタだけでなく薄膜固定抵抗も同一絶縁基板に
形成することにより、サーミスタ温度センサの小型化を
図ることができる。
(3) As described in the first to third embodiments, by forming not only the thin-film thermistor but also the thin-film fixed resistor on the same insulating substrate, the size of the thermistor temperature sensor can be reduced.

【0051】(4)第2の薄膜サーミスタ13の抵抗値
を第1の薄膜サーミスタ12の抵抗値の1.5倍以上、
好ましくは5〜20倍とすることにより、さらに広い温
度範囲にわたり出力電圧の直線性を向上させることが可
能となる。
(4) The resistance value of the second thin film thermistor 13 is 1.5 times or more the resistance value of the first thin film thermistor 12.
By preferably setting the ratio to 5 to 20, the linearity of the output voltage can be improved over a wider temperature range.

【0052】即ちn個の薄膜サーミスタを形成する場合
は、第nの薄膜サーミスタの抵抗値を第(n−1)の薄
膜サーミスタの抵抗値の1.5倍以上とする。
That is, when forming n thin film thermistors, the resistance value of the n th thin film thermistor is 1.5 times or more the resistance value of the (n-1) th thin film thermistor.

【0053】(5)同一絶縁基板上に薄膜サーミスタ及
び薄膜固定抵抗を複数形成する場合、薄膜サーミスタを
隣接させて形成し、できるだけ非測定物に近接するよう
に配置して、温度測定精度に誤差が生じないようにする
ことが望ましい。
(5) When a plurality of thin-film thermistors and thin-film fixed resistors are formed on the same insulating substrate, the thin-film thermistors are formed adjacent to each other and arranged as close as possible to a non-measurement object. It is desirable to prevent the occurrence of.

【0054】(6)実施の形態1〜3において第1及び
第2の薄膜サーミスタ12,13の電極は櫛型電極2
2,23としたが、電極形状はこれに限るものでなく所
望の抵抗値となるように自由に設定することが可能であ
る。またサーミスタ層21の組成、厚みも同様に自由に
設定することが可能である。
(6) In the first to third embodiments, the electrodes of the first and second thin film thermistors 12 and 13 are comb-shaped electrodes 2
However, the shape of the electrode is not limited to this, and can be freely set so as to have a desired resistance value. Also, the composition and thickness of the thermistor layer 21 can be freely set similarly.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上本発明によると、広い温度範囲(1
00℃以上)にわたり出力電圧の直線性に優れ、高精度
な温度検知が可能なサーミスタ温度センサを提供するこ
とができる。
As described above, according to the present invention, a wide temperature range (1
It is possible to provide a thermistor temperature sensor that is excellent in linearity of the output voltage over the temperature range of 00 ° C. or higher and that can detect the temperature with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1におけるサーミスタ温度
センサの上面図
FIG. 1 is a top view of a thermistor temperature sensor according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1〜3におけるサーミスタ
温度センサの等価回路図
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of a thermistor temperature sensor according to the first to third embodiments of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態2におけるサーミスタ温度
センサの第1の薄膜サーミスタの上面図
FIG. 3 is a top view of a first thin film thermistor of the thermistor temperature sensor according to the second embodiment of the present invention.

【図4】図4のA−B断面図FIG. 4 is a sectional view taken along a line AB in FIG. 4;

【図5】本発明の実施の形態3におけるサーミスタ温度
センサの上面図
FIG. 5 is a top view of a thermistor temperature sensor according to Embodiment 3 of the present invention.

【図6】本発明のサーミスタ温度センサの温度−出力電
圧特性曲線図
FIG. 6 is a temperature-output voltage characteristic curve diagram of the thermistor temperature sensor of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 絶縁基板 12 第1の薄膜サーミスタ 13 第2の薄膜サーミスタ 21 サーミスタ層 22 櫛型電極 23 櫛型電極 25 トリミング溝 31 第1の薄膜固定抵抗 32 第2の薄膜固定抵抗 41 導電パターン 51 入力電極 52 グランド電極 53 出力電極 231 抵抗値調整用電極 232 抵抗値調整用電極 233 抵抗値調整用電極 234 抵抗値調整用電極 241 絶縁スリット 242 絶縁スリット 243 絶縁スリット 244 絶縁スリット DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Insulating substrate 12 1st thin film thermistor 13 2nd thin film thermistor 21 Thermistor layer 22 Comb electrode 23 Comb electrode 25 Trimming groove 31 First thin film fixed resistor 32 Second thin film fixed resistor 41 Conductive pattern 51 Input electrode 52 Ground electrode 53 Output electrode 231 Resistance adjusting electrode 232 Resistance adjusting electrode 233 Resistance adjusting electrode 234 Resistance adjusting electrode 241 Insulating slit 242 Insulating slit 243 Insulating slit 244 Insulating slit

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の入、出力電極と、この入、出力電
極間に直列に接続した第1の抵抗体と、前記入、出力電
極間に並列に接続した第1の薄膜サーミスタと、前記第
1の抵抗体と前記第1の薄膜サーミスタ間に並列に接続
した第2の抵抗体と、この第2の抵抗体に直列に接続し
た第2の薄膜サーミスタと、前記第1及び第2の薄膜サ
ーミスタに接続したグランド電極を備え、少なくとも前
記第1及び第2の薄膜サーミスタを同一絶縁基板上に形
成したサーミスタ温度センサ。
A pair of input and output electrodes; a first resistor connected in series between the input and output electrodes; a first thin-film thermistor connected in parallel between the input and output electrodes; A second resistor connected in parallel between a first resistor and the first thin-film thermistor, a second thin-film thermistor connected in series to the second resistor, and the first and second thin-film thermistors; A thermistor temperature sensor comprising a ground electrode connected to a thin-film thermistor, wherein at least the first and second thin-film thermistors are formed on the same insulating substrate.
【請求項2】 第(n+1)(ただしn=2以上の整
数)の抵抗体とこの第(n+1)の抵抗体に直列に接続
した第(n+1)の薄膜サーミスタとを第1の抵抗体と
グランド電極間で第nの抵抗体及び第nの薄膜サーミス
タと並列に接続したものであり、かつ前記第n及び第
(n+1)の薄膜サーミスタを同一絶縁基板上に形成し
た請求項1に記載のサーミスタ温度センサ。
2. A first resistor comprising an (n + 1) th resistor (where n is an integer of 2 or more) and an (n + 1) th thin film thermistor connected in series to the (n + 1) th resistor. The n-th resistor and the n-th thin-film thermistor are connected in parallel between ground electrodes, and the n-th and (n + 1) -th thin-film thermistors are formed on the same insulating substrate. Thermistor temperature sensor.
【請求項3】 第1〜第nの抵抗体も絶縁基板上に形成
した請求項1に記載のサーミスタ温度センサ。
3. The thermistor temperature sensor according to claim 1, wherein the first to n-th resistors are also formed on an insulating substrate.
【請求項4】 第nの薄膜サーミスタの抵抗値は、第
(n−1)の薄膜サーミスタの抵抗値の1.5倍以上の
抵抗値を有する請求項1に記載のサーミスタ温度セン
サ。
4. The thermistor temperature sensor according to claim 1, wherein the resistance value of the nth thin film thermistor is 1.5 times or more the resistance value of the (n−1) th thin film thermistor.
【請求項5】 第1〜第nの薄膜サーミスタの内少なく
とも一つは、サーミスタ層の表面に一対の櫛型電極を形
成したものであり、この櫛型電極に電気的に接続するよ
うに少なくとも一つの抵抗値調整用電極を形成すると共
に、前記櫛型電極と前記抵抗値調整用電極間と、前記抵
抗値調整用電極を複数設けた場合は前記抵抗値調整用電
極間も絶縁するために設けたスリットとを備え、前記抵
抗値調整用電極は除去することにより前記薄膜サーミス
タの抵抗値を所定の割合だけ変化させるようにした請求
項1に記載のサーミスタ温度センサ。
5. At least one of the first to n-th thin film thermistors has a pair of comb electrodes formed on the surface of a thermistor layer, and at least one of the first to n-th thin film thermistors is electrically connected to the comb electrodes. In order to form one resistance adjustment electrode, and also to insulate between the comb-shaped electrode and the resistance adjustment electrode and between the resistance adjustment electrodes when a plurality of the resistance adjustment electrodes are provided. The thermistor temperature sensor according to claim 1, further comprising a slit provided, wherein the resistance adjusting electrode is removed to change a resistance value of the thin film thermistor by a predetermined ratio.
【請求項6】 複数の抵抗値調整用電極を形成する場
合、薄膜サーミスタの抵抗値を2m%[m:0〜(前記
抵抗値調整用電極数−1)の正の整数]ずつ変化させる
ようにした請求項5に記載のサーミスタ温度センサ。
6. When forming a plurality of resistance value adjusting electrodes, the resistance value of the thin film thermistor is changed by 2 m % [m: 0 (positive integer of (the number of resistance value adjusting electrodes−1))]. 6. The thermistor temperature sensor according to claim 5, wherein:
【請求項7】 少なくとも第1〜第nの薄膜サーミスタ
の表面を絶縁保護膜で被覆した請求項1に記載のサーミ
スタ温度センサ。
7. The thermistor temperature sensor according to claim 1, wherein at least the surfaces of the first to n-th thin film thermistors are covered with an insulating protective film.
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