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JP2001185665A - Radiating plate made of silicon carbide and metal composite material and board for module - Google Patents

Radiating plate made of silicon carbide and metal composite material and board for module

Info

Publication number
JP2001185665A
JP2001185665A JP36670399A JP36670399A JP2001185665A JP 2001185665 A JP2001185665 A JP 2001185665A JP 36670399 A JP36670399 A JP 36670399A JP 36670399 A JP36670399 A JP 36670399A JP 2001185665 A JP2001185665 A JP 2001185665A
Authority
JP
Japan
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silicon carbide
metal
weight
thermal conductivity
radiating plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP36670399A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazutaka Majima
一隆 馬嶋
Masahiro Tsuji
昌宏 辻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP36670399A priority Critical patent/JP2001185665A/en
Publication of JP2001185665A publication Critical patent/JP2001185665A/en
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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiating plate capable of being suitably used as a board for a module for mounting a semiconductor element having a large heating amount, excellent durability for a temperature cycle due to substantially equal thermal expansion coefficient to that of an aluminum nitride board having sufficiently highly thermal conductivity. SOLUTION: The radiating plate comprises a silicon carbide and metal composite material impregnated with a metal in open pores existed in a porous texture constituted of a silicon carbide crystal. In this case, the mean grain size of the crystal is 20 μm or more, its porosity is 30% or less, its thermal conductivity is 100 W/m.K or more. The plate comprises 15 to 50 pts.wt. of metal to 100 pts.wt. of the silicon carbide.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、放熱特性に優れた
放熱板、及び、該放熱板が用いられた、発熱量の大きな
半導体素子を搭載するためのモジュール用基板に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat radiating plate having excellent heat radiating characteristics, and a module substrate for mounting a semiconductor element having a large heat value, using the heat radiating plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】IGBT(絶縁ゲート型バイポーラトラ
ンジスタ)やSIT(静電誘導トランジスタ)のような
動作時に多量の発熱を伴う電力用半導体素子を実装する
基板として、絶縁性基板と放熱板とを備えた放熱特性に
優れるモジュール用基板が用いられている。
2. Description of the Related Art An insulating substrate and a heat sink are provided as a substrate on which a power semiconductor element such as an IGBT (insulated gate bipolar transistor) or an SIT (static induction transistor) which generates a large amount of heat during operation is mounted. In addition, a module substrate having excellent heat dissipation characteristics is used.

【0003】図5は、この種のモジュール用基板が用い
られたパワーモジュールを模式的に示した断面図であ
る。このパワーモジュール20では、絶縁性基板12の
一主面に導体回路15が形成され、この導体回路15の
一部に半導体素子16が搭載されており、他の導体回路
15と半導体素子16とは、ワイヤー15aを用いたワ
イヤーボンディングにより接続されている。また、導体
回路15の一端には、外部端子19が半田層18を介し
て接続されている。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a power module using this type of module substrate. In the power module 20, a conductor circuit 15 is formed on one main surface of the insulating substrate 12, and a semiconductor element 16 is mounted on a part of the conductor circuit 15, and the other conductor circuit 15 and the semiconductor element 16 Are connected by wire bonding using the wires 15a. An external terminal 19 is connected to one end of the conductor circuit 15 via a solder layer 18.

【0004】一方、絶縁性基板12の底面には、ほぼ全
面に金属層13が形成され、この金属層13には、半田
層14を介して放熱板21が接合されている。
On the other hand, a metal layer 13 is formed on almost the entire bottom surface of the insulating substrate 12, and a heat sink 21 is joined to the metal layer 13 via a solder layer 14.

【0005】このパワーモジュール20では、スイッチ
ング等の動作により半導体素子16に多量の熱が発生す
るが、この熱は、絶縁性基板12、金属層14及び放熱
板11を介して外部に放散されるため、半導体素子16
の過度の温度上昇を防止することができる。
In the power module 20, a large amount of heat is generated in the semiconductor element 16 by an operation such as switching, and the heat is radiated to the outside through the insulating substrate 12, the metal layer 14, and the heat radiating plate 11. Therefore, the semiconductor element 16
Excessive temperature rise can be prevented.

【0006】従来より、この導体回路15や金属層13
を構成する材料として、銅が用いられており、一方、絶
縁性基板12を構成する材料として、アルミナ等のセラ
ミックが用いられていた。
Conventionally, the conductor circuit 15 and the metal layer 13
Is used as a material for forming the insulating substrate 12, while ceramic such as alumina is used as a material for forming the insulating substrate 12.

【0007】しかし、このような材料を用いたパワーモ
ジュール20では、半導体素子16の半田付け等の工程
や使用時の半導体素子16の発熱等により温度サイクル
を受けたとき、銅とセラミックとの熱膨張差に起因する
熱応力により、絶縁性基板12に割れが発生してしまう
という問題があった。
However, in the power module 20 using such a material, when subjected to a temperature cycle due to a process such as soldering of the semiconductor element 16 or heat generation of the semiconductor element 16 during use, heat of copper and ceramic is generated. There is a problem that cracks occur in the insulating substrate 12 due to thermal stress caused by the difference in expansion.

【0008】このような問題を解決するため、導体回路
用の金属として、変形抵抗の小さいアルミニウムを使用
し、かつ、絶縁性基板12として、熱伝導率に優れる窒
化アルミニウム基板が使用されたパワーモジュールが開
発されている。また、このパワーモジュールでは、放熱
板11として、炭化珪素多孔質体中にアルミニウムを含
浸させた、いわゆるAlSiCが使用されている。
In order to solve such a problem, a power module using aluminum having a small deformation resistance as a metal for a conductor circuit and using an aluminum nitride substrate having an excellent thermal conductivity as an insulating substrate 12. Is being developed. In this power module, so-called AlSiC in which aluminum is impregnated in a silicon carbide porous body is used as heat sink 11.

【0009】これらの材料が使用されたパワーモジュー
ルでは、導体回路15と絶縁性基板12との熱膨張差に
起因する、絶縁性基板12の割れ等を防止することがで
きる。また、AlSiCからなる放熱板11は、その熱
膨張率が比較的窒化アルミニウムに近いため、絶縁性基
板12と放熱板11との接合部分にクラック等が形成さ
れにくい。さらに、放熱板11は、熱伝導率も高いた
め、この放熱板と絶縁性基板等から構成される基板は、
放熱特性に優れている。
In a power module using these materials, it is possible to prevent the insulating substrate 12 from cracking due to a difference in thermal expansion between the conductor circuit 15 and the insulating substrate 12. In addition, since the heat radiating plate 11 made of AlSiC has a coefficient of thermal expansion relatively close to that of aluminum nitride, cracks and the like are not easily formed at the joint between the insulating substrate 12 and the heat radiating plate 11. Furthermore, since the heat sink 11 has a high thermal conductivity, the heat sink and a substrate composed of an insulating substrate and the like are:
Excellent heat dissipation characteristics.

【0010】しかしながら、この従来のAlSiCから
なる放熱板11の熱膨張係数は、6.7×10-6(/
℃)程度であるのに対し、窒化アルミニウムからなる絶
縁性基板12の熱膨張率は、4.5×10-6(/℃)程
度で、放熱板11の熱膨張係数の方が約1.5倍大きい
ため、両者の熱膨張率が一致しているとは言いがたく、
また、放熱板11の熱伝導率も充分とは言えなかった。
However, the thermal expansion coefficient of the conventional heat radiating plate 11 made of AlSiC is 6.7 × 10 −6 (/
C.), the thermal expansion coefficient of the insulating substrate 12 made of aluminum nitride is about 4.5 × 10 −6 (/ ° C.), and the heat expansion coefficient of the heat radiating plate 11 is about 1.10 ° C.). Because it is five times larger, it is hard to say that the thermal expansion coefficients of both are the same,
Moreover, the heat conductivity of the heat sink 11 was not sufficient.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題に
鑑みてなされたものであり、熱伝導率が充分に高く、か
つ、窒化アルミニウム基板との熱膨張率もほぼ等しいた
め、このような発熱量の大きい半導体素子を搭載するた
めの基板に好適に用いることができる放熱板、及び、該
放熱板が用いられたモジュール用基板を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has a sufficiently high thermal conductivity and a substantially equal thermal expansion coefficient with an aluminum nitride substrate. It is an object of the present invention to provide a heat sink that can be suitably used as a substrate for mounting a semiconductor element that generates a large amount of heat, and a module substrate using the heat sink.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の炭化珪素・金属
複合体からなる放熱板は、炭化珪素結晶によって構成さ
れる多孔質組織中に開放気孔が存在し、その開放気孔中
に金属が含浸された炭化珪素・金属複合体からなる放熱
板であって、上記炭化珪素結晶の平均粒径が20μm以
上、気孔率が30%以下、熱伝導率が100W/m・K
以上であり、炭化珪素100重量部に対して15〜50
重量部の金属が含浸されていることを特徴とするもので
ある。
According to the heat sink made of the silicon carbide / metal composite of the present invention, open pores are present in a porous structure composed of silicon carbide crystals, and the open pores are impregnated with a metal. A heat sink comprising a silicon carbide / metal composite, wherein the silicon carbide crystal has an average particle diameter of 20 μm or more, a porosity of 30% or less, and a thermal conductivity of 100 W / m · K.
As described above, 15 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of silicon carbide
It is characterized by being impregnated with parts by weight of metal.

【0013】また、本発明のモジュール用基板は、一主
面に導体回路が形成された絶縁性基板と、上記絶縁性基
板の他の主面に金属層を介して接合された放熱板とを備
えた、半導体素子を搭載するためのモジュール用基板で
あって、放熱板として、上記炭化珪素・金属複合体から
なる放熱板が用いられていることを特徴とするものであ
る。以下、本発明を詳細に説明する。
Further, the module substrate of the present invention comprises an insulating substrate having a conductor circuit formed on one main surface thereof, and a heat radiating plate joined to the other main surface of the insulating substrate via a metal layer. A module substrate for mounting a semiconductor element, wherein a heat sink made of the silicon carbide / metal composite is used as a heat sink. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】まず、本発明の炭化珪素・金属複
合体からなる放熱板(以下、単に放熱板ともいう)につ
いて説明する。本発明の放熱板を構成する炭化珪素・金
属複合体(以下、単に複合体ともいう)は、炭化珪素結
晶によって構成される多孔質組織中に開放気孔が存在
し、その開放気孔中に金属が含浸された複合体であっ
て、上記炭化珪素結晶の平均粒径が20μm以上、気孔
率が30%以下、熱伝導率が100W/m・K以上であ
り、炭化珪素100重量部に対して15〜50重量部の
金属が含浸されていることを特徴とする。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, a radiator plate (hereinafter, simply referred to as a radiator plate) comprising the silicon carbide / metal composite of the present invention will be described. In the silicon carbide / metal composite (hereinafter, also simply referred to as composite) constituting the heat sink of the present invention, open pores exist in a porous structure composed of silicon carbide crystals, and metal exists in the open pores. An impregnated composite, wherein the silicon carbide crystal has an average particle size of 20 μm or more, a porosity of 30% or less, a thermal conductivity of 100 W / m · K or more, and 15 wt. It is characterized by being impregnated with 5050 parts by weight of metal.

【0015】上記複合体では、炭化珪素結晶の平均粒径
が20μm以上という比較的大きな値に設定されている
ため、熱伝導率が従来と比べてより高くなっている。こ
れは、熱が結晶の内部を伝導する効率は、熱が結晶間を
伝導する効率に比べて一般的に高いため、平均粒径が大
きいほど熱伝導率が高くなるからである。また、本発明
の複合体では、焼結が進行し、図2の走査型電子顕微鏡
写真(SEM写真)に示したようにネック結合が大きく
なっているため、さらに熱伝導率が高くなっている。し
かし、図3のSEM写真に示したように、焼結が進行し
ない場合には、ネック結合も進行しないため、熱伝導率
が高くならない。
In the above-described composite, the average particle size of the silicon carbide crystal is set to a relatively large value of 20 μm or more, so that the thermal conductivity is higher than in the prior art. This is because the efficiency of heat conduction inside the crystal is generally higher than the efficiency of heat conduction between crystals, so that the larger the average particle size, the higher the thermal conductivity. Further, in the composite of the present invention, sintering progresses, and as shown in the scanning electron micrograph (SEM photograph) of FIG. 2, the neck connection is increased, so that the thermal conductivity is further increased. . However, as shown in the SEM photograph of FIG. 3, when the sintering does not proceed, the neck connection does not proceed, so that the thermal conductivity does not increase.

【0016】また、多孔質組織の気孔率が30%以下と
いう小さい値に設定されていることも、熱伝導性の向上
に寄与している。すなわち、気孔率が小さくなると多孔
質組織内における空隙が減少する結果、熱が伝導しやす
くなるからである。さらに、炭化珪素100重量部に対
して15〜50重量部の金属が含浸されていることも熱
伝導率の向上に寄与している。
The fact that the porosity of the porous structure is set to a small value of 30% or less also contributes to the improvement of the thermal conductivity. That is, as the porosity decreases, the voids in the porous structure decrease, so that heat is easily conducted. Further, the fact that the metal is impregnated with 15 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of silicon carbide also contributes to the improvement of the thermal conductivity.

【0017】上記複合体は、このように構成されている
結果、熱伝導率の値が100W/m・K以上と大きな値
となり、温度のバラツキも生じにくくなる。熱伝導率の
値は、180〜280W/m・Kであることが好まし
く、200〜260W/m・Kであることがより好まし
い。上記複合体では、上記開放気孔の気孔率や粒子の粒
径等を、さらに好ましい範囲に設定することにより、上
記した好ましい熱伝導率を達成することができる。
As a result of the above-described composite, the composite has a large value of thermal conductivity of 100 W / m · K or more, and is less likely to have a temperature variation. The value of the thermal conductivity is preferably from 180 to 280 W / m · K, and more preferably from 200 to 260 W / m · K. In the composite, the above-described preferable thermal conductivity can be achieved by setting the porosity of the open pores, the particle size of the particles, and the like to more preferable ranges.

【0018】上記複合体を構成する炭化珪素の平均粒径
は、20〜100μmが好ましく、30〜90μmがよ
り好ましく、40〜70μmが最も好ましい。平均粒径
が大きくなりすぎると、複合体が過度に緻密化されてし
まうおそれがある。また、上記炭化珪素の開放気孔の気
孔率は、5〜30%が好ましく、10〜20%がより好
ましく、10〜20%が最も好ましい。
The average particle size of silicon carbide constituting the composite is preferably 20 to 100 μm, more preferably 30 to 90 μm, and most preferably 40 to 70 μm. If the average particle size is too large, the composite may be excessively densified. The porosity of the open pores of the silicon carbide is preferably 5 to 30%, more preferably 10 to 20%, and most preferably 10 to 20%.

【0019】また、上記複合体は、平均粒径が0.1〜
1.0μmの細かい炭化珪素結晶(以下、細結晶とい
う)を10〜50体積%含み、かつ、平均粒径が25〜
150μmの粗い炭化珪素結晶(以下、粗結晶という)
を50〜90体積%含むものであることが好ましい。
The composite has an average particle diameter of 0.1 to 0.1.
It contains 10 to 50% by volume of fine silicon carbide crystals (hereinafter, referred to as fine crystals) of 1.0 μm, and has an average particle size of 25 to
150 μm coarse silicon carbide crystal (hereinafter referred to as coarse crystal)
Is preferably 50 to 90% by volume.

【0020】上記のように、細結晶と粗結晶とが適宜の
比率で含まれる複合体の場合、図4のSEM写真で示し
たように、粗結晶間に形成される空隙が細結晶で充填さ
れた状態となりやすく、実質的な空隙の比率が小さくな
る。その結果、複合体の熱抵抗がいっそう小さくなり、
このことが熱伝導率の向上に大きく貢献しているものと
考えられる。一方、図5のSEM写真で示したように、
粗結晶の回りに細結晶が存在しないと、ネック結合があ
る程度進行しても、空隙の比率が大きくなるため、熱伝
導率が余り向上しない。
As described above, in the case of a composite containing fine crystals and coarse crystals in an appropriate ratio, the voids formed between the coarse crystals are filled with fine crystals as shown in the SEM photograph of FIG. It is easy to be in a state where the gap is formed, and the ratio of the substantial void is reduced. As a result, the thermal resistance of the composite becomes even smaller,
This is considered to have greatly contributed to the improvement of the thermal conductivity. On the other hand, as shown in the SEM photograph of FIG.
If there are no fine crystals around the coarse crystals, even if the neck coupling proceeds to some extent, the ratio of the voids increases, and the thermal conductivity does not improve much.

【0021】細結晶の平均粒径は、0.1〜1.0μm
が好ましく、0.2〜0.9μmがより好ましく、0.
3〜0.7μmが最も好ましい。
The average diameter of the fine crystals is 0.1 to 1.0 μm.
Is preferable, 0.2 to 0.9 μm is more preferable, and 0.
Most preferably, it is 3 to 0.7 μm.

【0022】細結晶の平均粒径を極めて小さくしようと
すると、高価な微粉末の使用が必要となるため、材料コ
ストの高沸につながるおそれがある。逆に、細結晶の平
均粒径が大きくなりすぎると、粗結晶間に形成された空
隙を充填することができなくなり、複合体の熱抵抗を充
分に低減することができなくなるおそれがある。
If an attempt is made to reduce the average particle size of the fine crystals to an extremely small value, it is necessary to use expensive fine powder, which may lead to high boiling of the material cost. Conversely, if the average grain size of the fine crystals is too large, the voids formed between the coarse crystals cannot be filled, and the thermal resistance of the composite may not be sufficiently reduced.

【0023】この複合体において、細結晶は、10〜5
0体積%含まれていることが好ましく、15〜40体積
%含まれていることがより好ましく、20〜40体積%
含まれていることが最も好ましい。細結晶の含有比率が
小さくなりすぎると、粗結晶間に形成される空隙を充填
するのに充分な量の細結晶が確保されにくくなり、複合
体の熱抵抗を確実に低減することができなくなるおそれ
がある。逆に、細結晶の含有比率が大きくなりすぎる
と、上記空隙を充填する細結晶がむしろ過剰になり、本
来、熱伝導性の向上に必要な程度の粗結晶が確保されな
くなる。従って、却って複合体の熱抵抗が大きくなるお
それがある。
In this composite, the fine crystals are 10 to 5
It is preferably contained at 0% by volume, more preferably 15 to 40% by volume, and more preferably 20 to 40% by volume.
Most preferably, it is included. If the content ratio of the fine crystals is too small, it becomes difficult to secure a sufficient amount of the fine crystals to fill the voids formed between the coarse crystals, and the thermal resistance of the composite cannot be reliably reduced. There is a risk. Conversely, if the content ratio of the fine crystals is too large, the amount of the fine crystals filling the voids becomes rather excessive, and the coarse crystals required to improve the thermal conductivity cannot be secured. Therefore, the thermal resistance of the composite may be rather increased.

【0024】上記複合体において、粗結晶の平均粒径
は、25〜150μmが好ましく、40〜100μmが
より好ましく、60〜80μmが最も好ましい。粗結晶
の平均粒径を小さくしようとすると、上記細結晶粒子と
の粒径差が小さくなる結果、細結晶と粗結晶との混合に
よる熱抵抗低減効果を期待することができなくなるおそ
れがある。逆に、粗結晶の平均粒径が大きくなりすぎる
と、粗結晶間に形成される個々の空隙が大きくなること
から、たとえ充分な量の細結晶があったとしても、当該
空隙を充分に充填することが困難になる。よって、複合
体の熱抵抗を充分に低減することができなくなるおそれ
がある。
In the above composite, the average grain size of the crude crystals is preferably 25 to 150 μm, more preferably 40 to 100 μm, and most preferably 60 to 80 μm. If an attempt is made to reduce the average particle size of the coarse crystals, the difference in particle size between the fine crystals and the fine crystals becomes small. As a result, the effect of reducing the thermal resistance by mixing the fine crystals and the coarse crystals may not be expected. Conversely, if the average grain size of the coarse crystals is too large, individual voids formed between the coarse crystals become large, so that even if there is a sufficient amount of fine crystals, the voids are sufficiently filled. It becomes difficult to do. Therefore, there is a possibility that the thermal resistance of the composite cannot be sufficiently reduced.

【0025】上記複合体において粗結晶は、50〜90
体積%含まれていることが好ましく、60〜85体積%
含まれていることがより好ましく、60〜80体積%含
まれていることが最も好ましい。粗結晶の含有比率が小
さくなりすぎると、本来、熱伝導率の向上に必要な程度
の粗結晶が確保されなくなり、却って複合体の熱抵抗が
大きくなるおそれがある。逆に、粗結晶の含有比率が大
きくなりすぎると、相対的に細結晶の含有比率が小さく
なってしまい、粗結晶間に形成される空隙を充分に充填
することができなくなる。よって、複合体の熱抵抗を確
実に低減することができなくなるおそれがある。
In the above composite, the crude crystals are 50 to 90
%, Preferably 60 to 85% by volume.
It is more preferably contained, and most preferably 60 to 80% by volume. When the content ratio of the coarse crystals is too small, the coarse crystals required to improve the thermal conductivity cannot be originally secured, and the thermal resistance of the composite may be rather increased. Conversely, when the content ratio of the coarse crystals is too large, the content ratio of the fine crystals becomes relatively small, and it becomes impossible to sufficiently fill the voids formed between the coarse crystals. Therefore, there is a possibility that the thermal resistance of the composite cannot be reliably reduced.

【0026】本発明の放熱板を構成する複合体では、炭
化珪素100重量部に対して15〜50重量部の金属が
含浸されている。金属含浸を行うことにより、金属が焼
結体の開放気孔内に充填され、見かけ上は緻密体とな
り、結果として熱伝導性及び強度の向上が図られる。
In the composite constituting the heat sink of the present invention, 15 to 50 parts by weight of metal is impregnated with respect to 100 parts by weight of silicon carbide. By performing the metal impregnation, the metal is filled in the open pores of the sintered body, and the metal becomes apparently dense, and as a result, the thermal conductivity and the strength are improved.

【0027】上記含浸用金属としては、特に金属シリコ
ンが好ましい。金属シリコンは、炭化珪素との馴染みが
よい物質であることに加え、それ自体が高い熱伝導性を
有している。ゆえに、金属シリコンを焼結体の開放気孔
内に充填することによって、熱伝導性及び強度の向上を
確実に達成することができる。
As the impregnating metal, metallic silicon is particularly preferred. Metallic silicon has a high thermal conductivity in itself, in addition to being a material that is well compatible with silicon carbide. Therefore, by filling metallic silicon into the open pores of the sintered body, it is possible to reliably achieve improvements in thermal conductivity and strength.

【0028】この場合、金属シリコンは、炭化珪素10
0重量部に対して15〜45重量部含浸されていること
が好ましく、15〜39重量部含浸されていることがよ
り好ましい。含浸量が15重量部未満であると、開放気
孔を充分に充填することができなくなり、複合体の熱抵
抗を確実に低減することができなくなるおそれがある。
逆に、含浸量が30重量部を超えると、結晶部分の比率
が相対的に低下してしまう結果、場合によっては却って
熱伝導率が低下してしまう可能性がある。
In this case, the metal silicon is silicon carbide 10
It is preferably impregnated with 15 to 45 parts by weight, more preferably with 15 to 39 parts by weight, based on 0 part by weight. If the impregnation amount is less than 15 parts by weight, the open pores cannot be sufficiently filled, and the thermal resistance of the composite may not be reduced reliably.
Conversely, if the impregnation amount exceeds 30 parts by weight, the ratio of the crystal part relatively decreases, and in some cases, the thermal conductivity may instead decrease.

【0029】なお、金属シリコン以外のもの、例えば、
金属アルミニウムを選択した場合には、その含浸量は、
炭化珪素100重量部に対して20〜50重量部が好ま
しい。含浸量が上記範囲を逸脱すると、熱伝導率の低下
及び熱膨張率の増大を来すおそれがある。
Incidentally, other than metal silicon, for example,
When metal aluminum is selected, its impregnation amount is
It is preferably 20 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of silicon carbide. If the impregnation amount is outside the above range, the thermal conductivity may decrease and the coefficient of thermal expansion may increase.

【0030】次に、このような複合体からなる放熱板を
製造する方法について説明する。上記放熱板は、粗粉末
に微粉末を所定割合で混合する材料調製工程、成形工
程、焼成工程、及び、金属含浸工程を経て製造される。
金属含浸工程は、焼成工程前に行われてもよく、焼成工
程後に行われてもよい。
Next, a method of manufacturing a heat sink made of such a composite will be described. The heat sink is manufactured through a material preparation step of mixing a fine powder with a coarse powder at a predetermined ratio, a molding step, a firing step, and a metal impregnation step.
The metal impregnation step may be performed before the firing step, or may be performed after the firing step.

【0031】上記材料調製工程においては、平均粒径5
〜100μmのα型炭化珪素の粗粉末に対して、平均粒
径0.1〜1.0μmのα型炭化珪素の微粉末を10〜
100重量部配合し、これを均一に混合する。
In the material preparation step, the average particle size is 5
Α-type silicon carbide fine powder having an average particle size of 0.1 to 1.0 μm is added to α-type silicon carbide coarse powder of
100 parts by weight are mixed and uniformly mixed.

【0032】原料となるα型炭化珪素の粗粉末の平均粒
径は、5〜100μmが好ましく、15〜75μmがよ
り好ましく、25〜60μmがより好ましい。また、α
型炭化珪素の微粉末の平均粒径は、0.1〜1.0μm
が好ましく、0.1〜0.8μmがより好ましく、0.
2〜0.5μmが最も好ましい。
The average particle size of the coarse powder of α-type silicon carbide as a raw material is preferably 5 to 100 μm, more preferably 15 to 75 μm, and even more preferably 25 to 60 μm. Also, α
The average particle size of the fine silicon carbide powder is 0.1 to 1.0 μm
Is preferable, and 0.1 to 0.8 μm is more preferable.
Most preferably, it is 2 to 0.5 μm.

【0033】粗粉末100重量部に対する微粉末の配合
量は、10〜100重量部が好ましく、15〜65重量
部がより好ましく、20〜60重量部が最も好ましい。
The amount of the fine powder relative to 100 parts by weight of the coarse powder is preferably 10 to 100 parts by weight, more preferably 15 to 65 parts by weight, and most preferably 20 to 60 parts by weight.

【0034】この材料調製工程においては、上記炭化珪
素粉末のほかに、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂
等の成形用バインダやアルコール、水、ベンゼン等の分
散溶媒を必要に応じて配合し、これを振動ミル等により
混合した後、ニーダー等を用いて混練することにより、
原料スラリーを調製する。
In this material preparation step, in addition to the above-mentioned silicon carbide powder, a molding binder such as polyvinyl alcohol and acrylic resin and a dispersing solvent such as alcohol, water and benzene are blended as required, and this is mixed with a vibration mill. After mixing by kneading using a kneader or the like,
Prepare raw material slurry.

【0035】また、上記原料スラリー中には、さらに炭
素源となる有機物が炭素重量換算で1〜10重量%配合
されていることが好ましく、6〜9重量%配合されてい
ることがより好ましい。すなわち、上記有機物に由来す
る炭素が焼結体の炭化珪素の表面に付着することによ
り、侵入してきた金属シリコンと炭素とが反応し、そこ
で新たに炭化珪素が生成する。従って、そこに強いネッ
キングが起き、これにより熱伝導率及び強度の向上が図
られるからである(図4参照)。
The raw material slurry preferably further contains 1 to 10% by weight, more preferably 6 to 9% by weight, of an organic substance as a carbon source in terms of carbon weight. That is, the carbon derived from the organic substance adheres to the surface of the silicon carbide of the sintered body, so that the metal silicon and the carbon that have entered react with each other, and silicon carbide is newly generated there. Therefore, strong necking occurs there, thereby improving the thermal conductivity and strength (see FIG. 4).

【0036】上記有機物としては、例えば、フェノール
レジン、カーボンブラック、アセチレンブラック、ピッ
チ、タール等が挙げられる。このなかでも、フェノール
レジンは、ボールミルを用いた場合に、原料を均一に混
合することができるという点で有利である。
Examples of the organic substance include phenolic resin, carbon black, acetylene black, pitch, tar and the like. Among them, phenolic resin is advantageous in that raw materials can be uniformly mixed when a ball mill is used.

【0037】成形工程においては、この原料スラリーを
用いて炭化珪素の顆粒を形成した後、金型等を用いて所
定形状に成形する。炭化珪素粉末を顆粒化する方法とし
ては、例えば、噴霧乾燥による顆粒化法(スプレードラ
イ法)のように従来より公知の方法を用いることができ
る。また、成形圧力は、1.0〜1.5t/cm2 が好
ましく、1.1〜1.4t/cm2 がより好ましい。ま
た、得られる成形体の密度は、2.0g/cm3 以上が
好ましく、2.2〜2.7g/cm3 がより好ましい。
In the forming step, silicon carbide granules are formed using the raw material slurry, and then formed into a predetermined shape using a mold or the like. As a method of granulating the silicon carbide powder, a conventionally known method such as a granulation method by spray drying (spray drying method) can be used. Further, the molding pressure is preferably 1.0~1.5t / cm 2, 1.1~1.4t / cm 2 is more preferable. The density of the resulting molded article, 2.0 g / cm 3 or more preferably, 2.2~2.7g / cm 3 is more preferable.

【0038】焼成工程においては、得られた成形体を1
700〜2400℃の温度範囲で焼成して、多孔質体を
作製する。焼成温度は、2000〜2400℃が好まし
く、200〜2300℃がより好ましい。この際、焼成
炉の内部は、アルゴン、ヘリウム、窒素等の非酸化性雰
囲気又は不活性雰囲気に保つ。なお、このとき、焼成炉
内を真空状態にしてもよい。
In the firing step, the obtained molded body is
It is fired in a temperature range of 700 to 2400 ° C. to produce a porous body. The firing temperature is preferably from 2000 to 2400 ° C, more preferably from 200 to 2300 ° C. At this time, the inside of the firing furnace is maintained in a non-oxidizing atmosphere such as argon, helium, or nitrogen or an inert atmosphere. At this time, the inside of the firing furnace may be in a vacuum state.

【0039】さらに、焼成時においては、ネック部の成
長を促進させるため、成形体からの炭化珪素の揮発を抑
制することが好ましい。成形体からの炭化珪素の揮発を
抑制する方法としては、外気の侵入を遮断可能な耐熱性
の容器内に成形体を装入する方法がある。上記耐熱性の
容器の形成材料としては、黒鉛又は炭化珪素が好適であ
る。
Further, at the time of firing, it is preferable to suppress the volatilization of silicon carbide from the compact in order to promote the growth of the neck portion. As a method for suppressing the volatilization of silicon carbide from the molded body, there is a method of charging the molded body into a heat-resistant container capable of blocking invasion of the outside air. As a material for forming the heat-resistant container, graphite or silicon carbide is preferable.

【0040】続く金属含浸工程においては、以下のよう
にして多孔質体に金属を含浸する。例えば、金属シリコ
ンを含浸する場合、前もって焼結体に炭素質物質を含浸
することが好ましい。このような炭素質物質としては、
例えば、フルフラール樹脂、フェノール樹脂、リグニン
スルホン酸塩、ポリビニルアルコール、コーンスター
チ、蜜糖、コールタールピッチ、アルギン酸塩等の各種
有機物質が挙げられる。なお、カーボンブラック、アセ
チレンブラックのような熱分解物質も同様に使用するこ
とができる。
In the subsequent metal impregnation step, the porous body is impregnated with metal as follows. For example, when impregnating metal silicon, it is preferable to impregnate the sintered body with a carbonaceous substance in advance. Such carbonaceous materials include:
For example, various organic substances such as furfural resin, phenolic resin, lignin sulfonate, polyvinyl alcohol, corn starch, beet sugar, coal tar pitch, alginate and the like can be mentioned. It should be noted that pyrolytic substances such as carbon black and acetylene black can also be used.

【0041】上記炭素質物質を予め含浸させておくこと
により、焼結体の開放気孔の表面に新たな炭化珪素の膜
が形成されるため、これによって溶融シリコンと多孔質
体との結合が強固なものになる。また、炭素質物質の含
浸により、焼結体の強度も強くなる。
By impregnating the carbonaceous material in advance, a new silicon carbide film is formed on the surface of the open pores of the sintered body, whereby the bond between the molten silicon and the porous body is strengthened. It becomes something. Further, the impregnation of the carbonaceous material increases the strength of the sintered body.

【0042】金属シリコンを開放気孔中に充填する方法
としては、例えば、金属シリコンを加熱溶融させて含浸
する方法が挙げられる。また、微粉化した金属シリコン
を分散媒中に分散させ、この分散液を多孔質体に含浸さ
せた後乾燥させ、金属シリコンの溶融温度以上に加熱す
る方法も適用することができる。上記金属の含浸は、焼
成を行う前の成形体に行われてもよい。この後、必要に
より焼結体に切削加工を施すとともに研磨等を施し、所
定形状の板状体とすることにより放熱板を作製する。
As a method of filling the open pores with the metallic silicon, for example, a method of impregnating the metallic silicon by heating and melting can be mentioned. Alternatively, a method in which finely divided metal silicon is dispersed in a dispersion medium, the dispersion is impregnated in a porous body, dried, and heated to a temperature equal to or higher than the melting temperature of metal silicon can also be applied. The impregnation of the metal may be performed on the compact before firing. Thereafter, if necessary, the sintered body is cut and polished to obtain a plate-shaped body having a predetermined shape, thereby producing a radiator plate.

【0043】このようにして得られた新たな構成の炭化
珪素・金属複合体からなる放熱板は、熱伝導率の値が1
00W/m・K以上と熱伝導性に優れるとともに、金属
を含有しているため、機械的強度にも優れる。さらに、
製造条件によっては、熱伝導率180〜280W/m・
K、200〜260W/m・Kとさらに熱伝導性に優れ
た放熱板とすることができる。このような放熱板は、下
記するモジュール用基板等に使用する放熱板として最適
である。
The heat radiating plate made of the silicon carbide / metal composite having a new structure thus obtained has a thermal conductivity of 1
It has excellent thermal conductivity of 00 W / m · K or more and also has excellent mechanical strength because it contains metal. further,
Depending on the manufacturing conditions, the thermal conductivity is 180 to 280 W / m ·
K, 200 to 260 W / m · K. Such a radiator plate is most suitable as a radiator plate used for a module substrate described below.

【0044】次に、上記放熱板が用いられたモジュール
用基板について説明する。本発明のモジュール用基板
は、一主面に導体回路が形成された絶縁性基板と、上記
絶縁性基板の他の主面に金属層を介して接合された放熱
板とを備えた、半導体素子を搭載するためのモジュール
用基板であって、上記放熱板には、上記した炭化珪素・
金属複合体からなる放熱板が用いられていることを特徴
とする。
Next, a description will be given of a module substrate using the above-mentioned heat sink. A module substrate according to the present invention includes: a semiconductor element including: an insulating substrate having a conductive circuit formed on one main surface; and a heat sink joined to another main surface of the insulating substrate via a metal layer. A module substrate for mounting the silicon carbide.
A heat radiating plate made of a metal composite is used.

【0045】図1は、本発明のモジュール用基板が用い
られたパワーモジュールを模式的に示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a power module using the module substrate of the present invention.

【0046】このパワーモジュール10では、絶縁性基
板12の上面に導体回路15が形成され、この導体回路
の一部に半導体素子16が半田層17を介して接続、固
定されており、導体回路15の他の部分と半導体素子1
6とは、ワイヤー15aを用いたワイヤーボンディング
により接続されている。また、導体回路15の一端に
は、外部端子19が半田層18を介して接続されてい
る。
In this power module 10, a conductor circuit 15 is formed on the upper surface of the insulating substrate 12, and a semiconductor element 16 is connected and fixed to a part of the conductor circuit via a solder layer 17. Other parts and semiconductor element 1
6 is connected by wire bonding using a wire 15a. An external terminal 19 is connected to one end of the conductor circuit 15 via a solder layer 18.

【0047】一方、絶縁性基板12の底面には、ほぼ全
面に金属層13が形成され、このアルミニウム等からな
る金属層13に、本発明の複合体からなる放熱板11が
直接接合され、この放熱板11がクーリングユニット2
0に取り付けられている。この放熱板11は、アルミニ
ウム等と熱膨張率が近い、Al−Siが添加されたロー
材を介して金属層14に接合されていてもよい。
On the other hand, a metal layer 13 is formed on almost the entire bottom surface of the insulating substrate 12, and the heat radiating plate 11 made of the composite of the present invention is directly joined to the metal layer 13 made of aluminum or the like. Heat sink 11 is cooling unit 2
It is attached to 0. The radiator plate 11 may be joined to the metal layer 14 via a brazing material having a thermal expansion coefficient close to that of aluminum or the like and to which Al-Si is added.

【0048】クーリングユニット20は、空冷式であっ
てもよく、水冷式であってもよい。水冷式の場合には、
通常、放熱板11と接する部分に水等の冷媒が流されて
いる。
The cooling unit 20 may be air-cooled or water-cooled. In case of water cooling type,
Normally, a coolant such as water flows in a portion in contact with the heat sink 11.

【0049】このパワーモジュール10では、導体回路
15と金属層13とを有する絶縁性基板12及び放熱板
11が、本発明のモジュール用基板を構成する。放熱板
11としては、上述した炭化珪素・金属複合体からなる
放熱板を用いるが、この放熱板は、製造条件を選ぶこと
により、例えば、200〜260W/m・Kと極めて高
い熱伝導率を示すとともに、機械的特性にも優れてい
る。また、この放熱板11は、室温〜800℃における
熱膨張率が3.5×10-6〜5.0×10-6(/℃)と
窒化アルミニウム(熱膨張率:約4.5×10-6/℃)
等の絶縁性基板とほぼ等しいため、温度サイクルに対し
ても優れた耐久性を示す。なお、この放熱板11の厚さ
は、通常、3〜4mmが好ましい。
In this power module 10, the insulating substrate 12 having the conductor circuit 15 and the metal layer 13 and the heat sink 11 constitute the module substrate of the present invention. As the heat radiating plate 11, a heat radiating plate made of the above-described silicon carbide / metal composite is used. This heat radiating plate has an extremely high thermal conductivity of, for example, 200 to 260 W / m · K by selecting manufacturing conditions. As well as excellent mechanical properties. The heat sink 11 has a thermal expansion coefficient of 3.5 × 10 −6 to 5.0 × 10 −6 (/ ° C.) from room temperature to 800 ° C., and aluminum nitride (thermal expansion coefficient: about 4.5 × 10 6 ). -6 / ℃)
And so on, so that they exhibit excellent durability even with temperature cycles. The thickness of the heat radiating plate 11 is usually preferably 3 to 4 mm.

【0050】絶縁性基板12の材質は特に限定されず、
例えば、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム等が挙
げられるが、これらのなかでは、熱伝導性に優れた窒化
アルミニウムが好ましい。絶縁性基板12が窒化アルミ
ニウムからなる場合には、窒化アルミニウム焼結体は、
アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、希土類
酸化物等の金属酸化物を0.1〜10重量%含有してい
てもよい。これらの酸化物としては、例えば、Y2
3 、CaO、Li2 O、Rb23 等が挙げられる。
The material of the insulating substrate 12 is not particularly limited.
For example, alumina, silicon nitride, aluminum nitride and the like can be mentioned, and among these, aluminum nitride having excellent thermal conductivity is preferable. When the insulating substrate 12 is made of aluminum nitride, the aluminum nitride sintered body
It may contain 0.1 to 10% by weight of a metal oxide such as an alkali metal oxide, an alkaline earth metal oxide and a rare earth oxide. These oxides include, for example, Y 2 O
3 , CaO, Li 2 O, Rb 2 O 3 and the like.

【0051】導体回路15及び金属層13の材質として
は、例えば、銅、アルミニウム等が挙げられるが、比較
的高い導電率を有するとともに変形抵抗の小さいアルミ
ニウムが好ましい。特に、金属層13にアルミニウムを
用いた場合には、放熱板11と直接接合することが可能
となる。特に、放熱板11に含浸させる金属としてアル
ミニウムやシリコンを用いると、このアルミニウムと放
熱板中のアルミニウムやシリコンとが、接合界面で相互
に溶融、混合されるため、両者は強固に接合される。な
お、絶縁性基板と導体回路等の接合は、例えば、Al−
Siを含むロー材を用いて行うことができる。
The material of the conductor circuit 15 and the metal layer 13 includes, for example, copper and aluminum, but aluminum having relatively high conductivity and low deformation resistance is preferable. In particular, when aluminum is used for the metal layer 13, it can be directly joined to the heat sink 11. In particular, when aluminum or silicon is used as the metal to be impregnated in the heat radiating plate 11, the aluminum and silicon in the heat radiating plate are melted and mixed with each other at the bonding interface, so that the two are strongly bonded. The bonding between the insulating substrate and the conductor circuit is performed, for example, using Al-
It can be performed using a brazing material containing Si.

【0052】本発明のモジュール用基板に搭載する半導
体素子は特に限定されないが、該モジュール用基板は、
放熱特性に優れているため、動作時に発熱量が多い半導
体素子の搭載用として最適である。このような半導体素
子としては、例えば、IGBT、SIT等が挙げられ
る。このように本発明のモジュール用基板は、放熱特性
に優れるとともに、温度サイクル等の熱衝撃に対しても
優れた耐久性を有している。
The semiconductor element mounted on the module substrate of the present invention is not particularly limited.
Because of its excellent heat dissipation characteristics, it is most suitable for mounting semiconductor elements that generate a large amount of heat during operation. Examples of such a semiconductor element include IGBT and SIT. As described above, the module substrate of the present invention has excellent heat dissipation characteristics and also has excellent durability against thermal shock such as a temperature cycle.

【0053】[0053]

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0054】実施例1 まず、出発材料として、平均粒径30μmのα型炭化珪
素の粗粉末(#400)と、平均粒径0.3μmのα型
炭化珪素の微粉末(GMF−15H2)とを準備した。
そして、上記粗粉末100重量部に対して、上記微粉末
30重量部を配合し、これを均一に混合した。
Example 1 First, as starting materials, a coarse powder of α-type silicon carbide having an average particle diameter of 30 μm (# 400) and a fine powder of α-type silicon carbide having an average particle diameter of 0.3 μm (GMF-15H2) Was prepared.
Then, 30 parts by weight of the fine powder were blended with 100 parts by weight of the coarse powder, and were uniformly mixed.

【0055】次に、この混合物100重量部に対し、ポ
リビニルアルコール5重量部、フェノールレジン3重量
部、水50重量部を配合した後、ボールミル中にて5時
間混合することにより、均一な混合物を得た。
Next, 5 parts by weight of polyvinyl alcohol, 3 parts by weight of phenol resin, and 50 parts by weight of water are blended with 100 parts by weight of this mixture, and then mixed in a ball mill for 5 hours to obtain a uniform mixture. Obtained.

【0056】この混合物を所定時間乾燥させて水分をあ
る程度除去した後、その乾燥混合物を適量採取し、顆粒
化した。このとき、顆粒の水分含有量を約0.8重量%
になるように調整した。次いで、この混合物の顆粒を、
金属製押し型を用いて1.3t/cm2 のプレス圧力で
成形した。得られた板状の生成形体の密度は、2.6g
/cm3 であった。
After the mixture was dried for a predetermined time to remove a certain amount of water, an appropriate amount of the dried mixture was collected and granulated. At this time, the water content of the granules was reduced to about 0.8% by weight.
It was adjusted to become. The granules of this mixture are then
It was formed at a pressing pressure of 1.3 t / cm 2 using a metal stamping die. The density of the obtained plate-shaped green compact was 2.6 g.
/ Cm 3 .

【0057】次いで、上記成形体を黒鉛製ルツボに入
れ、タンマン型焼成炉を使用してその焼成を行った。焼
成は、1気圧のアルゴン雰囲気中において実施した。ま
た、焼成時においては、10℃/分の昇温速度で最高温
度である2200℃まで加熱し、その後は、その温度で
4時間保持した。
Next, the compact was placed in a graphite crucible and fired using a tanman type firing furnace. The firing was performed in an argon atmosphere at 1 atm. In addition, at the time of baking, heating was performed to a maximum temperature of 2200 ° C. at a rate of 10 ° C./min, and thereafter, the temperature was maintained for 4 hours.

【0058】次いで、得られた多孔質焼結体にフェノー
ル樹脂(炭化率:30重量%)を予め真空含浸した後、
乾燥を行った。その後、上記多孔質焼結体の表面に、金
属シリコンを含むスラリーをコーティングした。ここで
は、上記スラリーとして、平均粒径が20μm、純度が
99重量%以上の金属シリコン粉末100重量部と、5
%アクリル酸エステル・ベンゼン溶液60重量部とが混
合されたものを用いた。そして、金属シリコンをコーテ
ィングした多孔質焼結体をアルゴンガス気流中で450
℃/時間の昇温速度で加熱し、最高温度1450℃で約
1時間保持した。このような処理により、金属シリコン
を多孔質焼結体中に浸透させて、炭化珪素・金属複合体
を得た。なお、ここでは、炭化珪素100重量部に対す
る金属シリコンの含有量を30重量部に設定した。
Next, the obtained porous sintered body was previously impregnated with a phenol resin (carbonization ratio: 30% by weight) under vacuum,
Drying was performed. Thereafter, the surface of the porous sintered body was coated with a slurry containing metallic silicon. Here, 100 parts by weight of metal silicon powder having an average particle diameter of 20 μm and a purity of 99% by weight or more,
% Acrylic acid ester / benzene solution (60 parts by weight) was used. Then, the porous sintered body coated with metallic silicon is placed in an argon gas stream for 450 minutes.
The mixture was heated at a rate of temperature rise of 1 ° C./hour and maintained at a maximum temperature of 1450 ° C. for about 1 hour. By such a treatment, metallic silicon was permeated into the porous sintered body to obtain a silicon carbide / metal composite. Here, the content of metallic silicon with respect to 100 parts by weight of silicon carbide was set to 30 parts by weight.

【0059】得られた炭化珪素・金属複合体からなる基
材は、多孔質組織における開放気孔の気孔率が20%、
全体として熱伝導率が210W/m・K、全体としての
密度が3.0g/cm3 であった。また、炭化珪素結晶
の平均粒径は、30μmであった。具体的には、平均粒
径が1.0μmの細結晶を20体積%含み、かつ、平均
粒径が40μmの粗結晶を80体積%含んでいた。
The substrate comprising the obtained silicon carbide / metal composite has an open porosity of 20% in the porous structure,
The overall thermal conductivity was 210 W / m · K, and the overall density was 3.0 g / cm 3 . The average particle size of the silicon carbide crystal was 30 μm. Specifically, it contained 20% by volume of fine crystals having an average particle size of 1.0 μm and 80% by volume of coarse crystals having an average particle size of 40 μm.

【0060】続いて、従来公知の手法により上記基材に
面出し加工を施した後、研磨加工等を施し、縦:70m
m、横:130mm、厚さ:3mm放熱板の作製を完了
した。
Subsequently, the base material is subjected to a facing process by a conventionally known method, and then a polishing process or the like is performed to obtain a vertical length of 70 m.
m, width: 130 mm, thickness: 3 mm Preparation of the heat sink was completed.

【0061】次に、導体回路等を有する絶縁性基板とし
て、一面に厚さ0.4mmのアルミニウムからなる導体
回路が、Al−Siを含有するロー材を用いて接合さ
れ、他の一面にアルミニウム板が同様のロー材を用いて
接合された厚さ4mmの窒化アルミニウム製基板を用
い、得られた放熱板と上記窒化アルミニウム製基板と
を、アルミニウム板を挟んで加熱、圧着することにより
接合し、モジュール用基板の作製を完了した。
Next, as an insulating substrate having a conductor circuit or the like, a conductor circuit made of aluminum having a thickness of 0.4 mm on one side is joined using a brazing material containing Al--Si, and the other side is made of aluminum. Using a 4 mm-thick aluminum nitride substrate to which the plate was joined using the same brazing material, the obtained heat sink and the above-mentioned aluminum nitride substrate were joined by heating and pressure bonding with the aluminum plate interposed therebetween. Thus, the fabrication of the module substrate was completed.

【0062】得られたモジュール用基板を、−55℃に
保った後、150℃に保つヒートサイクルを1000回
繰り返すヒートサイクル試験に供した後、該モジュール
用基板を縦に切断し、放熱板と絶縁性基板との接合状態
や導体回路や金属層と絶縁性基板との接合状態を顕微鏡
で観察したが、クラック等は全く観察されなかった。
The obtained module substrate was subjected to a heat cycle test in which a heat cycle of maintaining the temperature at -55 ° C. and then maintaining the temperature at 150 ° C. 1,000 times was repeated 1,000 times. Microscope observation of the bonding state with the insulating substrate and the bonding state between the conductor circuit and the metal layer and the insulating substrate revealed no cracks or the like.

【0063】次に、このモジュール用基板に、IGBT
素子を搭載し、クーリングユニットに取り付けた後、パ
ワーモジュールを実際に作動させ、IGBT素子の温度
を測定したが、IGBT素子は、素子として充分に機能
し得る温度を保持していた。
Next, an IGBT was added to this module substrate.
After mounting the element and attaching it to the cooling unit, the power module was actually operated and the temperature of the IGBT element was measured. The IGBT element maintained a temperature at which it could function sufficiently as an element.

【0064】実施例2 平均粒径35μmのα型炭化珪素の粗粉末(#360)
を用いるとともに、上記粗粉末100重量部に対して、
上記微粉末40重量部を配合し、これを均一に混合し
た。それ以外の条件については、基本的に実施例1と同
様とした。
Example 2 Crude powder of α-type silicon carbide having an average particle diameter of 35 μm (# 360)
And with respect to 100 parts by weight of the coarse powder,
40 parts by weight of the above fine powder were blended and uniformly mixed. Other conditions were basically the same as in Example 1.

【0065】その結果、得られた炭化珪素・金属複合体
からなる基材は、多孔質組織における開放気孔の気孔率
が17%、全体としての熱伝導率が220W/m・K、
全体としての密度が3.0g/cm3 であった。また、
炭化珪素結晶の平均粒径は、36μmであった。具体的
には、平均粒径が1.0μmの細結晶を20体積%含
み、かつ、平均粒径が45μmの粗結晶を80体積%含
んでいた。
As a result, the obtained substrate made of the silicon carbide / metal composite had a porosity of 17% of open pores in the porous structure, an overall thermal conductivity of 220 W / m · K,
The overall density was 3.0 g / cm 3 . Also,
The average particle size of the silicon carbide crystals was 36 μm. Specifically, it contained 20% by volume of fine crystals having an average particle size of 1.0 μm and 80% by volume of coarse crystals having an average particle size of 45 μm.

【0066】この炭化珪素・金属複合体を用い、実施例
1と同様にモジュール用基板を作製しし、ヒートサイク
ル試験を行った後、放熱板と絶縁性基板との接合状態や
導体回路の接合状態を観察したが、クラック等は全く観
察されなかった。
Using this silicon carbide / metal composite, a module substrate was prepared in the same manner as in Example 1, and a heat cycle test was performed. Then, the bonding state between the heat sink and the insulating substrate and the bonding of the conductor circuit were performed. The state was observed, but no cracks or the like were observed at all.

【0067】また、このモジュール用基板に、IGBT
素子を搭載し、これをクーリングユニットに取り付けて
作動させ、IGBT素子の温度を測定したが、IGBT
素子は、素子として充分に機能し得る温度を保持してい
た。
Further, an IGBT is provided on the module substrate.
The temperature of the IGBT element was measured by mounting the element and attaching it to the cooling unit and operating it.
The element maintained a temperature at which the element could function sufficiently.

【0068】実施例3 平均粒径57μmのα型炭化珪素の粗粉末(#240)
を用いるとともに、上記粗粉末100重量部に対して、
上記微粉末40重量部を配合し、これを均一に混合し
た。それ以外の条件については、基本的に実施例1と同
様とした。
Example 3 Coarse powder of α-type silicon carbide having an average particle size of 57 μm (# 240)
And with respect to 100 parts by weight of the coarse powder,
40 parts by weight of the above fine powder were blended and uniformly mixed. Other conditions were basically the same as in Example 1.

【0069】その結果、得られた炭化珪素・金属複合体
からなる基材は、多孔質組織における開放気孔の気孔率
が15%、全体としての熱伝導率が230W/m・K、
全体としての密度が3.1g/cm3 であった。また、
炭化珪素結晶の平均粒径は、65μmであった。具体的
には、平均粒径が1.0μmの細結晶を20体積%含
み、かつ、平均粒径が80μmの粗結晶を80体積%含
んでいた。
As a result, the obtained substrate composed of the silicon carbide / metal composite had a porosity of open pores in the porous structure of 15%, an overall thermal conductivity of 230 W / m · K,
The overall density was 3.1 g / cm 3 . Also,
The average particle size of the silicon carbide crystals was 65 μm. Specifically, it contained 20% by volume of fine crystals having an average particle size of 1.0 μm and 80% by volume of coarse crystals having an average particle size of 80 μm.

【0070】この炭化珪素・金属複合体を用い、実施例
1と同様にモジュール用基板を作製しし、ヒートサイク
ル試験を行った後、放熱板と絶縁性基板との接合状態や
導体回路の接合状態を観察したが、クラック等は全く観
察されなかった。
Using this silicon carbide / metal composite, a module substrate was prepared in the same manner as in Example 1, and a heat cycle test was performed. Then, the bonding state between the heat sink and the insulating substrate and the bonding of the conductor circuit were performed. The state was observed, but no cracks or the like were observed at all.

【0071】また、このモジュール用基板に、IGBT
素子を搭載し、これをクーリングユニットに取り付けて
作動させ、IGBT素子の温度を測定したが、IGBT
素子は、素子として充分に機能し得る温度を保持してい
た。
Further, an IGBT is provided on the module substrate.
The temperature of the IGBT element was measured by mounting the element and attaching it to the cooling unit and operating it.
The element maintained a temperature at which the element could function sufficiently.

【0072】比較例1 平均粒径10μmのα型炭化珪素の粗粉末を用いるとと
もに、上記粗粉末100重量部に対して、平均粒径が
0.7μmのα型炭化珪素の微粉末45重量部を配合
し、これを均一に混合した。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 A coarse powder of α-type silicon carbide having an average particle size of 10 μm was used, and 45 parts by weight of fine powder of α-type silicon carbide having an average particle size of 0.7 μm were used with respect to 100 parts by weight of the coarse powder. Was blended and mixed uniformly.

【0073】この混合物100重量部に対し、ポリビニ
ルアルコール5重量部、水50重量部を配合した後、ボ
ールミル中にて5時間混合することにより、均一な混合
物を得た。
After blending 5 parts by weight of polyvinyl alcohol and 50 parts by weight of water with respect to 100 parts by weight of this mixture, they were mixed in a ball mill for 5 hours to obtain a uniform mixture.

【0074】この混合物を所定時間乾燥させて水分をあ
る程度除去した後、その乾燥混合物を適量採取し、顆粒
化した。次いで、この混合物の顆粒を、金属製押し型を
用いて0.6t/cm2 のプレス圧力で成形した。得ら
れた板状の生成形体の密度は、2.0g/cm3 であっ
た。この後、この成形体に実施例1と同様の条件金属シ
リコンの含浸を行った。
After the mixture was dried for a predetermined time to remove water to some extent, an appropriate amount of the dried mixture was collected and granulated. Next, the granules of this mixture were molded using a metal mold at a pressing pressure of 0.6 t / cm 2 . The density of the obtained plate-shaped green compact was 2.0 g / cm 3 . Thereafter, the compact was impregnated with metallic silicon under the same conditions as in Example 1.

【0075】次いで、上記成形体を黒鉛製ルツボに入
れ、タンマン型焼成炉を使用してその焼成を行った。焼
成は、1気圧のアルゴン雰囲気中において実施した。ま
た、焼成時においては、10℃/分の昇温速度で最高温
度である1700℃まで加熱し、その後は、その温度で
4時間保持した。
Next, the compact was placed in a graphite crucible and fired using a tanman firing furnace. The firing was performed in an argon atmosphere at 1 atm. In addition, at the time of sintering, heating was performed at a heating rate of 10 ° C./min to a maximum temperature of 1700 ° C., and thereafter, the temperature was maintained for 4 hours.

【0076】得られた炭化珪素・金属複合体からなる基
材は、多孔質組織における開放気孔の気孔率が38%、
全体として熱伝導率が80W/m・K、全体としての密
度が2.8g/cm3 であった。また、炭化珪素結晶の
平均粒径は、10μmであった。
The base material comprising the obtained silicon carbide / metal composite has a porosity of 38% for open pores in a porous structure,
The overall thermal conductivity was 80 W / m · K, and the overall density was 2.8 g / cm 3 . The average particle size of the silicon carbide crystal was 10 μm.

【0077】この炭化珪素・金属複合体を用い、実施例
1と同様にモジュール用基板を作製しした。また、この
モジュール用基板に、IGBT素子を搭載し、これをク
ーリングユニットに取り付けて作動させ、IGBT素子
の温度を測定したが、IGBT素子は、時間の経過とと
もに温度が上昇し、素子として充分に機能し得る温度を
超えてしまった。
Using this silicon carbide / metal composite, a module substrate was produced in the same manner as in Example 1. In addition, an IGBT element was mounted on the module substrate, and the IGBT element was mounted on a cooling unit and operated, and the temperature of the IGBT element was measured. It has exceeded the temperature at which it can function.

【0078】[0078]

【発明の効果】本発明の炭化珪素・金属複合体からなる
放熱板は、上記のように構成されているので、熱伝導率
が充分に高く、かつ、窒化アルミニウム基板との熱膨張
率もほぼ等しいため温度サイクルに対する耐久性に優
れ、発熱量の大きい半導体素子を搭載するためのモジュ
ール用基板として好適に用いることができる。また、本
発明のモジュール用基板は、上記のように構成されてい
るので、放熱特性及び耐久性に優れる。
As described above, the heat sink made of the silicon carbide / metal composite of the present invention has a sufficiently high thermal conductivity and a substantially high coefficient of thermal expansion with the aluminum nitride substrate. Since they are equal, they have excellent durability against temperature cycles and can be suitably used as a module substrate for mounting a semiconductor element that generates a large amount of heat. Further, since the module substrate of the present invention is configured as described above, it is excellent in heat radiation characteristics and durability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のモジュール用基板を模式的に示す断面
図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a module substrate of the present invention.

【図2】本発明の放熱板を構成する炭化珪素・金属複合
体の組織を示すSEM写真である。
FIG. 2 is an SEM photograph showing a structure of a silicon carbide / metal composite constituting a heat sink of the present invention.

【図3】従来の炭化珪素・金属複合体の組織を示すSE
M写真である。
FIG. 3 is an SE showing the structure of a conventional silicon carbide / metal composite.
It is an M photograph.

【図4】本発明の放熱板を構成する炭化珪素・金属複合
体の組織を示すSEM写真である。
FIG. 4 is an SEM photograph showing the structure of the silicon carbide / metal composite constituting the heat sink of the present invention.

【図5】従来の炭化珪素・金属複合体の組織を示すSE
M写真である。
FIG. 5 is an SE showing the structure of a conventional silicon carbide / metal composite.
It is an M photograph.

【図6】従来のパワーモジュールを模式的に示す断面図
である。
FIG. 6 is a sectional view schematically showing a conventional power module.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 パワーモジュール 11 放熱板 12 絶縁性基板 13 金属板 14、17、18 半田層 15 導体回路 15a ワイヤー 16 半導体素子 17、18 半田層 19 外部端子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Power module 11 Heat sink 12 Insulating substrate 13 Metal plate 14, 17, 18 Solder layer 15 Conductor circuit 15a Wire 16 Semiconductor element 17, 18 Solder layer 19 External terminal

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 炭化珪素結晶によって構成される多孔質
組織中に開放気孔が存在し、その開放気孔中に金属が含
浸された炭化珪素・金属複合体からなる放熱板であっ
て、前記炭化珪素結晶の平均粒径が20μm以上、気孔
率が30%以下、熱伝導率が100W/m・K以上であ
り、炭化珪素100重量部に対して15〜50重量部の
金属が含浸されていることを特徴とする炭化珪素・金属
複合体からなる放熱板。
1. A heat radiating plate comprising a silicon carbide / metal composite in which open pores are present in a porous structure composed of silicon carbide crystals and a metal is impregnated in the open pores, The average grain size of the crystal is 20 μm or more, the porosity is 30% or less, the thermal conductivity is 100 W / m · K or more, and 15 to 50 parts by weight of metal is impregnated with respect to 100 parts by weight of silicon carbide. A heat sink comprising a silicon carbide-metal composite, characterized by the following.
【請求項2】 平均粒径が0.1〜1.0μmの細かい
炭化珪素結晶を10〜50体積%含み、かつ、平均粒径
が25〜150μmの粗い炭化珪素結晶を50〜90体
積%含む請求項1記載の炭化珪素・金属複合体からなる
放熱板。
2. The composition contains 10 to 50% by volume of fine silicon carbide crystals having an average particle size of 0.1 to 1.0 μm and 50 to 90% by volume of coarse silicon carbide crystals having an average particle size of 25 to 150 μm. A heat sink comprising the silicon carbide / metal composite according to claim 1.
【請求項3】 一主面に導体回路が形成された絶縁性基
板と、前記絶縁性基板の他の主面に金属層を介して接合
された放熱板とを備えた、半導体素子を搭載するための
モジュール用基板であって、前記放熱板には、請求項1
記載の放熱板が用いられていることを特徴とするモジュ
ール用基板。
3. A semiconductor element comprising: an insulating substrate having a conductive circuit formed on one main surface; and a heat radiating plate joined to another main surface of the insulating substrate via a metal layer. 2. The module substrate according to claim 1, wherein the radiator plate includes:
A substrate for a module, wherein the radiator plate according to any one of the preceding claims is used.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003060136A (en) * 2001-08-08 2003-02-28 Ibiden Co Ltd Substrate for module
KR100995772B1 (en) * 2010-04-06 2010-11-22 주식회사 신한세라믹 Ceramic heat sink and its manufacturing method

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