JP2001077248A - Semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents
Semiconductor device and manufacture thereofInfo
- Publication number
- JP2001077248A JP2001077248A JP24753399A JP24753399A JP2001077248A JP 2001077248 A JP2001077248 A JP 2001077248A JP 24753399 A JP24753399 A JP 24753399A JP 24753399 A JP24753399 A JP 24753399A JP 2001077248 A JP2001077248 A JP 2001077248A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- semiconductor element
- resin
- manufacturing
- die pad
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
- H01L2924/1815—Shape
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、情報報処理および
通信用途等に用いられる半導体素子が搭載された半導体
装置の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device having a semiconductor element used for information reporting and communication.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の半導体装置の断面形状を図17に
示す。この半導体装置は、ダイスパッッド2の上に半導
体素子6が載置され、半導体素子6と電極リード3とが
電極ワイヤ7により結線され、ダイスパッド2、半導体
素子6および電極リード3が樹脂により封止され、固定
されたものである。2. Description of the Related Art FIG. 17 shows a sectional shape of a conventional semiconductor device. In this semiconductor device, a semiconductor element 6 is mounted on a die pad 2, the semiconductor element 6 and the electrode lead 3 are connected by an electrode wire 7, and the die pad 2, the semiconductor element 6 and the electrode lead 3 are sealed with a resin. It is fixed.
【0003】従来の半導体装置の製造方法を図18を用
いて説明する。この従来の製造方法に係るコムフレーム
として、例えば図19に示すものが用いられる。A conventional method for manufacturing a semiconductor device will be described with reference to FIG. As a comb frame according to this conventional manufacturing method, for example, the one shown in FIG. 19 is used.
【0004】まず、コムフレーム1の中央部にあるダイ
スパッド2に半導体素子6を固定した後、ワイヤボンド
を行い半導体素子6と電極リード3との結線を電極ワイ
ヤ7により行う(図18(a))。First, after fixing the semiconductor element 6 to the die pad 2 at the center of the comb frame 1, wire bonding is performed to connect the semiconductor element 6 and the electrode lead 3 with the electrode wire 7 (FIG. 18 (a) )).
【0005】その後、ダイスパッド2、電極リード3、
半導体素子6、電極ワイヤ7を覆う金型8で密封し(図
18(b))、金型8のゲート9より空間10に樹脂を
流し込んで樹脂封止を行って図17に示す半導体装置を
作成する。この樹脂封止の際に用いられるゲート9は通
常ダイスパッド2の側面方向または裏面方向の位置に設
けられている。After that, a die pad 2, an electrode lead 3,
The semiconductor device 6 is sealed with a mold 8 covering the electrode wires 7 (FIG. 18 (b)), and a resin is poured into the space 10 from the gate 9 of the mold 8 to perform resin sealing. create. The gate 9 used at the time of this resin sealing is usually provided at a position in the direction of the side surface or the back surface of the die pad 2.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記従来の半導体装置
の製造方法においては、下記に示す問題があった。The above-mentioned conventional method for manufacturing a semiconductor device has the following problems.
【0007】まず、樹脂封止の際の樹脂の流れによって
ダイスパッド2が樹脂の流れ方向に力を受け、樹脂流入
時のダイスパッド2の移動や変形を避けるため、ダイス
パッド2はコムフレーム1の外枠4に対して少なくとも
2本のダイスパッド固定用リード5によって固定されな
ければならなかった。実際に樹脂流入時にダイスパッド
2が移動したり、変形したりすると、ダイスパッド2が
電極リード3に接触してショートを起こしたり、ダイス
パッド2の変形応力が半導体素子6へ伝わわって半導体
装置の特性を変化させるといった問題が生じていた。こ
のような問題は、小型で端子数が多い素子を実現するた
めにファインピッチ化する必要からコムフレーム1の厚
さを薄くした場合にはより顕著な問題となっていた。First, the die pad 2 receives a force in the flow direction of the resin due to the flow of the resin at the time of the resin sealing. Must be fixed to the outer frame 4 by at least two die pad fixing leads 5. If the die pad 2 actually moves or deforms when the resin flows, the die pad 2 comes into contact with the electrode lead 3 to cause a short circuit, or the deformation stress of the die pad 2 is transmitted to the semiconductor element 6 and the semiconductor device However, there has been a problem in that the characteristics of the device have been changed. Such a problem has become more prominent when the thickness of the comb frame 1 is reduced because it is necessary to reduce the pitch in order to realize a small-sized element having a large number of terminals.
【0008】また、ダイスパッド2を支えるダイスパッ
ド固定用リード5を2本以上使用すれば、電位的に独立
した電極リードの端子数はその分減少し、実際に使用で
きる端子数が少なくなるという問題があった。特にパッ
ケージサイズを大型化したり、端子ピッチを小さくする
ことによって端子数を増やすことができない場合におい
て大きな問題となっていた。Further, when two or more dice pad fixing leads 5 for supporting the dice pad 2 are used, the number of terminals of the electrode leads which are electrically independent decreases correspondingly, and the number of terminals which can be actually used is reduced. There was a problem. In particular, this has been a serious problem when the number of terminals cannot be increased by increasing the package size or reducing the terminal pitch.
【0009】上記課題に鑑み、本発明はダイスパッドを
外枠に対して1本のダイスパッド固定用リードによって
固定したコムフレームを用い、樹脂封止する際にダイス
パッドを挟みこむ形状を有する金型を用いることによっ
て、樹脂封止する際の樹脂の流れを受けてもダイスパッ
ドを変形させないようにし、これによって安定に半導体
装置を製造することができる製造方法を提供することが
できるとともに電位的に独立した端子の数を多くするこ
とができるものである。In view of the above problems, the present invention uses a comb frame in which a die pad is fixed to an outer frame by a single die pad fixing lead, and has a shape in which the die pad is sandwiched when sealing with resin. By using a mold, it is possible to provide a manufacturing method capable of stably manufacturing a semiconductor device by preventing a die pad from being deformed even when subjected to a flow of resin at the time of resin sealing. Thus, the number of independent terminals can be increased.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の半導体装置の製造方法は、互いに表裏の関係
にある2枚の主面を備えたダイスパッドを有するコムフ
レームを、前記ダイスパッドの主面に向かって凹部と凸
部とを有しかつ一部に樹脂封入口を有する1対の金型を
用い、前記ダイスパッドの主面の少なくとも一部を前記
凸部で押さえて挟み、前記樹脂封入口より前記凹部に樹
脂を流し込んで樹脂成形を行う工程を有するものであ
る。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention is directed to a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a comb frame having a dice pad having two main surfaces in a front-to-back relationship with each other; Using a pair of dies having a concave portion and a convex portion toward the main surface of the pad and having a resin filling port in a part, at least a part of the main surface of the die pad is pressed and sandwiched by the convex portion. And a step of pouring a resin into the concave portion from the resin filling port to perform resin molding.
【0011】この構成により、樹脂成形時にダイスパッ
ドを、その主面の少なくとも一部を介して1対の金型に
より挟んでいるので、樹脂形成時に樹脂の圧力によって
ダイスパッドの変形を抑えることができる。With this configuration, the die pad is sandwiched by the pair of dies through at least a part of the main surface thereof at the time of molding the resin, so that the deformation of the die pad can be suppressed by the pressure of the resin at the time of forming the resin. it can.
【0012】本発明の半導体装置の製造方法は、かかる
構成につき、コムフレームが外枠と、前記ダイスパッド
と前記外枠とを接続する唯1本の固定リードとを備えた
ものである。In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the comb frame includes an outer frame and only one fixed lead connecting the die pad and the outer frame.
【0013】この構成により、さらにダイスパッドを支
える固定リードが唯1本ですむので、電位的に独立した
端子の数を多くすることができる。With this configuration, since only one fixed lead for supporting the die pad is required, the number of potential independent terminals can be increased.
【0014】本発明の半導体装置の製造方法は、かかる
構成につき、コムフレームを前記金型を用いて挟むの
に、前記ダイスパッドの主面の外縁近傍を前記金型の凸
部で押さえるものである。In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, in the above structure, the vicinity of the outer edge of the main surface of the die pad is pressed by the convex portion of the mold when the comb frame is sandwiched by the mold. is there.
【0015】この構成により、さらにダイスパッドをよ
り強固に金型で挟むことができるので、樹脂の流れによ
る変形がより生じにくくなる。According to this configuration, the die pad can be more firmly sandwiched by the mold, so that the deformation due to the flow of the resin is less likely to occur.
【0016】本発明の半導体装置の製造方法は、かかる
構成につき、樹脂成形を行う工程の前に前記ダイスパッ
ドの主面の少なくとも一部に半導体素子を搭載する工程
を有するものである。The method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention, having such a configuration, includes a step of mounting a semiconductor element on at least a part of the main surface of the die pad before the step of performing resin molding.
【0017】この構成により、さらに半導体素子を1回
の工程で樹脂封止することができる。With this configuration, the semiconductor element can be further sealed with a resin in one step.
【0018】本発明の半導体装置の製造方法は、かかる
構成につき、樹脂成形を行う工程の際に前記金型の凸部
で前記半導体素子の一部を押さえるものである。In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, a part of the semiconductor element is pressed by the convex portion of the mold during the step of performing resin molding.
【0019】この構成により、さらに半導体素子を露出
させることができて半導体素子の調整を容易にすること
ができる。With this configuration, the semiconductor element can be further exposed, and the adjustment of the semiconductor element can be facilitated.
【0020】本発明の半導体装置の製造方法は、かかる
構成につき、樹脂成形を行う工程の後に前記半導体素子
を覆う保護部材を取り付ける工程を有するものである。The method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a step of attaching a protective member covering the semiconductor element after the step of performing resin molding.
【0021】この構成により、さらに半導体素子を保護
部材により保護することができる。According to this configuration, the semiconductor element can be further protected by the protection member.
【0022】本発明の半導体装置の製造方法は、かかる
構成につき、半導体素子を搭載する工程の後に前記半導
体素子を覆う保護部材を取り付ける工程を有し、前記樹
脂成形の工程の際に前記金型の凸部で前記半導体素子の
一部を前記保護部材を間に介して押さえるものである。The method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, having such a configuration, comprises a step of attaching a protective member covering the semiconductor element after the step of mounting the semiconductor element, and the step of forming the mold by the resin molding step. A part of the semiconductor element is pressed by the convex portion with the protective member interposed therebetween.
【0023】この構成により、さらに半導体素子の上に
保護部材を取り付けて金型で挟んでいるので、金型によ
る半導体素子へのダメージを低減させることができる。According to this configuration, since the protective member is further mounted on the semiconductor element and sandwiched by the mold, damage to the semiconductor element by the mold can be reduced.
【0024】本発明の半導体装置の製造方法は、かかる
構成につき、樹脂成形を行う工程の際に前記半導体素子
を覆う凹部を有する金型により挟むものである。In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, such a configuration is sandwiched by a mold having a concave portion for covering the semiconductor element in the step of performing resin molding.
【0025】この構成により、さらに半導体素子を覆う
凹部を有する金型を用いているので、ダイスパッドの変
形を抑えて樹脂成形を行うことができるとともに半導体
素子を樹脂により汚さずに露出させることができる。According to this configuration, since a mold having a concave portion that further covers the semiconductor element is used, resin molding can be performed while suppressing deformation of the die pad, and the semiconductor element can be exposed without being soiled by the resin. it can.
【0026】本発明の半導体装置の製造方法は、かかる
構成につき、樹脂成形を行う工程の後に前記半導体素子
を覆う保護部材を取り付けるものである。In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, a protective member for covering the semiconductor element is attached after the step of performing resin molding.
【0027】この構成により、さらに半導体素子を保護
部材により保護することができる。With this configuration, the semiconductor element can be further protected by the protective member.
【0028】本発明の半導体装置の製造方法は、かかる
構成につき、樹脂成形を行った後に半導体素子を搭載
し、半導体素子を覆う保護部材を取り付けるものであ
る。In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, a semiconductor element is mounted after resin molding, and a protective member for covering the semiconductor element is attached.
【0029】この構成により、さらに半導体素子を、保
護部材を含めて集積配置することができる。According to this configuration, the semiconductor elements can be further integratedly arranged including the protective member.
【0030】本発明の半導体装置は、半導体素子と、前
記半導体素子を搭載するダイスパッドと、前記ダイスパ
ッドの外側に配置された電極端子と、前記ダイスパッド
の外縁と前記電極端子の内縁とを覆う樹脂と、前記樹脂
上に設けられかつ前記半導体素子と前記電極端子とを電
気的に接続する配線層とを有するものである。A semiconductor device according to the present invention includes a semiconductor element, a dice pad on which the semiconductor element is mounted, an electrode terminal disposed outside the dice pad, and an outer edge of the dice pad and an inner edge of the electrode terminal. It has a covering resin and a wiring layer provided on the resin and electrically connecting the semiconductor element and the electrode terminal.
【0031】この構成により、半導体素子に電気的に接
続されるワイヤボンドの長さを短くすることができる。According to this configuration, the length of the wire bond electrically connected to the semiconductor element can be shortened.
【0032】本発明の半導体装置は、半導体素子と、前
記半導体素子を搭載するダイスパッドと、前記ダイスパ
ッドの外側に配置された電極端子と、前記電極端子上に
形成されかつ前記半導体素子と前記電極端子とを電気的
に接続するフリップチップボンドとを有するものであ
る。A semiconductor device according to the present invention includes a semiconductor element, a dice pad on which the semiconductor element is mounted, an electrode terminal disposed outside the dice pad, and the semiconductor element formed on the electrode terminal, and And a flip chip bond for electrically connecting the electrode terminals.
【0033】この構成により、半導体素子に対するワイ
ヤボンドを不要にすることができる。According to this configuration, wire bonding to the semiconductor element can be made unnecessary.
【0034】本発明の半導体装置は、かかる構成につ
き、電極端子は樹脂により保持されたものである。According to the semiconductor device of the present invention, the electrode terminals are held by a resin.
【0035】この構成により、さらに電極端子は樹脂に
より保持されているので、電極端子にフリップチップボ
ンドを安定に設けることができる。According to this configuration, since the electrode terminals are further held by the resin, a flip chip bond can be stably provided on the electrode terminals.
【0036】[0036]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を用いて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0037】(実施の形態1)本発明の第1の実施の形
態に係るコムフレームおよび半導体装置、並びに半導体
装置の製造方法について、図1〜図4を用いて説明す
る。(Embodiment 1) A comb frame, a semiconductor device, and a method of manufacturing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
【0038】第1の実施の形態に係る本発明のコムフレ
ームを上面から見た図を図2に示す。このコムフレーム
11は、表裏両面のうちのどちらかに半導体素子を配置
するためのダイスパッド2があり、そのダイスパッド2
の両側には複数の電極リード3が配置されており、ダイ
スパッド2は唯1本のダイスパッド固定用リード12で
コムフレーム11の外枠4に固定されている。FIG. 2 shows a view of the comb frame of the present invention according to the first embodiment as viewed from above. The comb frame 11 has a dice pad 2 for arranging a semiconductor element on one of the front and back surfaces.
A plurality of electrode leads 3 are disposed on both sides of the die frame 2, and the die pad 2 is fixed to the outer frame 4 of the comb frame 11 with only one die pad fixing lead 12.
【0039】第1の実施の形態に係る本発明の半導体装
置およびその製造方法に係る工程フローを図1に示す。FIG. 1 shows a process flow of a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention and a method of manufacturing the same.
【0040】まず、コムフレーム11をダイスパッド2
の少なくとも一部を両側から挟みこむように金型8で固
定し(図1(a))、樹脂13を流し込んでプリモール
ドパッケージ14を形成する(図1(b))。図1
(a)において金型8は左右のキャビティ部が分断され
ているように見えるが、紙面垂直方向に立体的につなが
っているので樹脂13が流れ込んで行く。また、電極リ
ード3の下部より樹脂13を注入するが、電極リード3
の隙間を通じて電極リード3の上部にも樹脂13が流れ
込む。First, the comb frame 11 is connected to the dice pad 2
Is fixed with a mold 8 so as to be sandwiched from both sides (FIG. 1A), and a resin 13 is poured to form a pre-mold package 14 (FIG. 1B). FIG.
In FIG. 5A, the mold 8 appears to be divided into left and right cavities, but the resin 13 flows in because the cavities are connected three-dimensionally in the direction perpendicular to the plane of the paper. The resin 13 is injected from the lower part of the electrode lead 3.
The resin 13 flows into the upper part of the electrode lead 3 through the gap.
【0041】このプリモールドパッケージ14の上面図
を図3に示す。次に、このダイスパッド2の片面に半導
体素子6を固定し、半導体素子6上のボンディングパッ
ドとあらかじめ露出するように成形されたプリモールド
パッケージ14の電極リード3とを電極ワイヤ7で結線
し(図1(c))、最後にコムフレーム11の外枠4か
ら切り出すと同時に所定の長さに電極リード3をカット
することにより半導体装置を完成させる(図1
(d))。FIG. 3 is a top view of the pre-mold package 14. Next, the semiconductor element 6 is fixed to one surface of the die pad 2, and the bonding pad on the semiconductor element 6 and the electrode lead 3 of the pre-molded package 14 formed so as to be exposed in advance are connected by the electrode wire 7 ( Finally, the semiconductor device is completed by cutting the electrode lead 3 to a predetermined length at the same time as cutting out the outer frame 4 of the comb frame 11 (FIG. 1 (c)).
(D)).
【0042】このような製造方法により、プリモールド
パッケージ14の端子の電位をすべて独立させることが
できる。それにより、半導体装置の独立した電位を有す
る端子数を増加させることができる。According to such a manufacturing method, all the potentials of the terminals of the pre-mold package 14 can be made independent. Thus, the number of terminals having independent potentials of the semiconductor device can be increased.
【0043】また、このような製造方法により、ダイス
パッド2は上下の金型8でしっかりと固定されているた
め、樹脂13の圧力によっても変形のほとんどないダイ
スパッド2を有する半導体装置を製造することができ
る。Further, by such a manufacturing method, since the die pad 2 is firmly fixed by the upper and lower molds 8, a semiconductor device having the die pad 2 which is hardly deformed even by the pressure of the resin 13 is manufactured. be able to.
【0044】また、このようにして製造された半導体装
置について、ダイスパッド2の半導体素子6が固定され
た面とは反対側の面が露出するので、半導体素子6が発
生する熱を効率よく逃がすことができ、また、その面に
対してヒートシンクや別の半導体素子等を搭載させるこ
とができ、放熱性に優れた半導体装置や集積化された半
導体装置を得ることができる。In the semiconductor device manufactured in this manner, the surface of the die pad 2 opposite to the surface on which the semiconductor element 6 is fixed is exposed, so that the heat generated by the semiconductor element 6 is efficiently released. In addition, a heat sink, another semiconductor element, or the like can be mounted on the surface, so that a semiconductor device excellent in heat dissipation or an integrated semiconductor device can be obtained.
【0045】なお、図2に示す半導体装置およびその製
造方法においては金型8の形状により挟みこむ部分とし
てダイスパッド2および電極リード3の表側とダイスパ
ッド2の裏面を挟みこんだ形状になっているが、図4
(a)に示すように両側ともに電極リード3をも挟みこ
んでも同様の効果が得られる。In the semiconductor device shown in FIG. 2 and the method of manufacturing the same, a portion sandwiched by the shape of the die 8 has a shape sandwiching the front surface of the die pad 2 and the electrode lead 3 and the back surface of the die pad 2. Figure 4
As shown in (a), the same effect can be obtained by sandwiching the electrode leads 3 on both sides.
【0046】また、図4(b)に示すようにダイスパッ
ド2のみを挟みこみ電極リード3を露出させないように
し、樹脂13の表面に電極配線パタン15を形成しても
よい。このようにすれば、電極ワイヤ7の長さを短くす
ることができる。Further, as shown in FIG. 4B, an electrode wiring pattern 15 may be formed on the surface of the resin 13 by sandwiching only the die pad 2 so that the electrode lead 3 is not exposed. By doing so, the length of the electrode wire 7 can be reduced.
【0047】また、図4(c)に示すように半導体素子
6を電極リード3に対してフリップチップボンド16に
より固定しても同様の効果を得ることができ、かつワイ
ヤボンド不要で電極数の多い素子を容易に実現すること
ができる。さらに電極端子は樹脂により保持されている
ので、電極リード3に対してフリップチップボンド16
を安定に設けることができる。Also, as shown in FIG. 4C, the same effect can be obtained even if the semiconductor element 6 is fixed to the electrode lead 3 by the flip chip bond 16, and the number of electrodes can be reduced without wire bonding. Many elements can be easily realized. Further, since the electrode terminals are held by resin, the flip-chip bond 16
Can be provided stably.
【0048】また、ダイスパッド2の露出部に配置した
半導体素子6を、図4(d)に示すようにさらに樹脂1
7をポッティングしたり、図4(e)に示すようにガラ
スや樹脂等からなる封止板18を上部に固定すれば半導
体素子6に対する気密性が向上し、信頼性上良好な半導
体装置を実現することができる。Further, as shown in FIG. 4D, the semiconductor element 6 disposed on the exposed portion of the die pad 2 is further
By potting 7 or fixing a sealing plate 18 made of glass, resin or the like on the upper portion as shown in FIG. 4 (e), the hermeticity of the semiconductor element 6 is improved, and a semiconductor device having good reliability is realized. can do.
【0049】なお、上記実施の形態は小型で端子数が多
い半導体装置を実現するためにファインピッチ化した、
厚さの薄いコムフレーム、プリモールドパッケージおよ
び半導体装置においても同様の効果を得ることができ、
より有効である。In the above embodiment, a fine pitch is used to realize a small semiconductor device having a large number of terminals.
The same effect can be obtained in a thin comb frame, a pre-mold package and a semiconductor device,
More effective.
【0050】(実施の形態2)本発明の第2の実施の形
態に係る半導体装置およびその製造方法について、図5
および図6を用いて説明する。(Second Embodiment) A semiconductor device according to a second embodiment of the present invention and a method of manufacturing the same will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.
【0051】この実施の形態において、用いるコムフレ
ーム11は実施の形態1と同様であり、ダイスパッド2
が唯1本のダイスパッド固定用リード12でコムフレー
ム11の外枠4に固定されているものである。In this embodiment, the comb frame 11 used is the same as in the first embodiment,
Are fixed to the outer frame 4 of the comb frame 11 with only one die pad fixing lead 12.
【0052】この実施の形態に係る本発明の半導体装置
の製造方法に係る工程フローを図5に示す。FIG. 5 shows a process flow according to the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention according to this embodiment.
【0053】まず、コムフレーム11についてダイスパ
ッド2の上に半導体素子6を固定し(図5(a))、半
導体素子6上のボンディングパッドと電極リード3とを
電極ワイヤ7で結線し(図5(b))、その後ダイスパ
ッド2の少なくとも一部を両側から挟みこむように金型
8で固定し(図5(c))、ゲート9より空間部10に
樹脂13を流し込んでパッケージ19を形成し、最後に
コムフレーム11の外枠4からパッケージ19を切り出
すと同時に所定の長さに電極リード3をカットすること
により半導体装置を完成させる(図5(d))。First, the semiconductor element 6 of the comb frame 11 is fixed on the die pad 2 (FIG. 5A), and the bonding pad on the semiconductor element 6 and the electrode lead 3 are connected by the electrode wire 7 (FIG. 5A). 5 (b)), and then fix at least a part of the die pad 2 with a mold 8 so as to sandwich it from both sides (FIG. 5 (c)), and pour the resin 13 into the space 10 from the gate 9 to form the package 19. Finally, the semiconductor device is completed by cutting out the package 19 from the outer frame 4 of the comb frame 11 and cutting the electrode lead 3 to a predetermined length (FIG. 5D).
【0054】図5(c)における金型8は左右のキャビ
ティ部が分断されているように見えるが、紙面垂直方向
に立体的につながっているので樹脂13が流れ込んで行
く。また、電極リード3の下部より樹脂13を注入する
が、電極リード3の隙間を通じて電極リード3の上部に
も樹脂13が流れ込む。Although the left and right cavities of the mold 8 in FIG. 5C appear to be separated, the resin 13 flows in because the cavities are connected three-dimensionally in the direction perpendicular to the paper surface. The resin 13 is injected from the lower part of the electrode lead 3, and the resin 13 flows into the upper part of the electrode lead 3 through the gap between the electrode leads 3.
【0055】このような製造方法により、第1の実施の
形態における効果に加え、樹脂封入前に半導体素子6お
よびダイスパッド2に固定するので、一回の樹脂封入で
もって半導体素子6を封止させることができ、半導体素
子の信頼性を向上させることができる。According to such a manufacturing method, in addition to the effects of the first embodiment, the semiconductor element 6 is fixed to the semiconductor element 6 and the die pad 2 before encapsulating the resin. And the reliability of the semiconductor element can be improved.
【0056】なお、図6に示すように金型8で挟みこむ
部分としてダイスパッド2外縁近傍または外周部全体を
選択することにより、樹脂の流れによる変形をより生じ
にくくすることができる。As shown in FIG. 6, by selecting the vicinity of the outer edge of the die pad 2 or the entire outer peripheral portion as the portion to be sandwiched by the mold 8, deformation due to resin flow can be made more difficult to occur.
【0057】(実施の形態3)本発明の第3の実施の形
態に係る半導体装置およびその製造方法について、図7
〜図12を用いて説明する。(Embodiment 3) A semiconductor device according to a third embodiment of the present invention and a method of manufacturing the same will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.
【0058】この実施の形態において、用いるコムフレ
ームは実施の形態1と同様であり、ダイスパッド2が唯
1本のダイスパッド固定用リード12でコムフレーム1
1の外枠4に固定されているものである。In this embodiment, the comb frame used is the same as that of the first embodiment, and the dice pad 2 is composed of only one die pad fixing lead 12 and the com frame 1 is used.
1 is fixed to the outer frame 4.
【0059】この実施の形態に係る本発明の半導体装置
およびその製造方法に係る工程フローを図7に示す。FIG. 7 shows a process flow relating to the semiconductor device of the present invention and the method of manufacturing the same according to this embodiment.
【0060】コムフレーム11について、ダイスパッド
2の上に第1の半導体素子20を固定し、第1の半導体
素子20上のボンディングパッドと電極リード3とを電
極ワイヤ7で結線し(図7(a))、その後ダイスパッ
ド2の少なくとも一部を両側から挟みこむように金型8
で固定し(図7(b))、ゲート9より空間部10に樹
脂13を流し込んでパッケージ19を形成する(図7
(c))。図7(b)における金型8は左右のキャビテ
ィ部が分断されているように見えるが、紙面垂直方向に
立体的につながっているので樹脂13が流れ込んで行
く。また、電極リード3の下部より樹脂13を注入する
が、電極リード3の隙間を通じて電極リード3の上部に
も樹脂13が流れ込む。In the comb frame 11, the first semiconductor element 20 is fixed on the die pad 2, and the bonding pads on the first semiconductor element 20 and the electrode leads 3 are connected by the electrode wires 7 (FIG. 7 ( a)) Then, the mold 8 is held so as to sandwich at least a part of the die pad 2 from both sides.
(FIG. 7B), and the resin 13 is poured into the space 10 from the gate 9 to form a package 19 (FIG. 7).
(C)). Although the left and right cavities appear to be separated in the mold 8 in FIG. 7B, the resin 13 flows in because the cavities are connected three-dimensionally in the direction perpendicular to the paper surface. The resin 13 is injected from the lower part of the electrode lead 3, and the resin 13 flows into the upper part of the electrode lead 3 through the gap between the electrode leads 3.
【0061】次にダイスパッド2の露出部分に第2の半
導体素子21を配置し、電極ワイヤ7によりワイヤボン
ドを行う(図7(d))。Next, the second semiconductor element 21 is arranged on the exposed portion of the die pad 2, and wire bonding is performed with the electrode wires 7 (FIG. 7D).
【0062】最後にコムフレーム11の外枠4から切り
出すと同時に所定の長さに電極リード3をカットするこ
とにより半導体装置を完成させる(図7(e))。Finally, the semiconductor device is completed by cutting out the comb frame 11 from the outer frame 4 and simultaneously cutting the electrode lead 3 to a predetermined length (FIG. 7E).
【0063】このような製造方法により、ダイスパッド
2は上下の金型8でしっかりと固定されているため、第
1の実施の形態と同様な効果が得られるとともに複数の
半導体素子をダイスパッド2の上に搭載できるので、集
積化された半導体装置を得ることができる。According to such a manufacturing method, since the die pad 2 is firmly fixed by the upper and lower molds 8, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and a plurality of semiconductor elements can be mounted on the die pad 2. Therefore, an integrated semiconductor device can be obtained.
【0064】また、このようにして製造された半導体装
置について、第1の実施の形態と同様の効果が得られ
る。The same effects as those of the first embodiment can be obtained for the semiconductor device manufactured as described above.
【0065】なお、図8(a)に示すように金型8で挟
みこむ部分としてダイスパッド2外縁近傍または外周部
全体を選択してもよい。そうすることによりダイスパッ
ド2をより強固に金型8により挟むことができるので、
樹脂の流れによる変形がより生じにくくなるという効果
が得られる。As shown in FIG. 8 (a), the vicinity of the outer edge of the die pad 2 or the entire outer peripheral portion may be selected as a portion to be sandwiched by the mold 8. By doing so, the die pad 2 can be more firmly sandwiched by the mold 8,
The effect is obtained that the deformation due to the flow of the resin is less likely to occur.
【0066】また、第2の半導体素子21に対して樹脂
ポッティング17(図8(b))や封止板18(図8
(c))により気密封止することにより、さらに信頼性
上有利な半導体装置が得られる。Further, the resin potting 17 (FIG. 8B) and the sealing plate 18 (FIG. 8) are applied to the second semiconductor element 21.
By performing hermetic sealing according to (c)), a semiconductor device more advantageous in reliability can be obtained.
【0067】さらに、第2の半導体素子21が受光素子
もしくは発光素子の場合、透明な樹脂ポッティングや透
明なガラス板で封止することにより、光の入出力を可能
にできる。Further, when the second semiconductor element 21 is a light receiving element or a light emitting element, light can be input and output by sealing with a transparent resin potting or a transparent glass plate.
【0068】また、半導体素子が受光素子や発光素子の
場合、図9に示すように封止板18の代わりに光学レン
ズ22(図9(a))、回折素子23(グレーティング
またはホログラム素子)(図9(b))、プリズム24
(図9(c))、偏光フィルタ25(図9(d))等の
光学素子で封止することにより、気密封止だけでなく光
学機能をハイブリッドに集積化した半導体装置を実現す
ることができる。When the semiconductor element is a light receiving element or a light emitting element, an optical lens 22 (FIG. 9A) and a diffraction element 23 (grating or hologram element) are used instead of the sealing plate 18 as shown in FIG. FIG. 9B), prism 24
By sealing with optical elements such as (FIG. 9C) and the polarizing filter 25 (FIG. 9D), it is possible to realize a semiconductor device in which not only hermetic sealing but also optical functions are integrated in a hybrid manner. it can.
【0069】また、この第3の実施の形態においては複
数の半導体素子が全て一つのダイスパッド上に搭載され
ているが、図10に示す、電極リード3を有する2つの
ダイスパッド26および27を有し、それぞれが外枠2
8に唯1本のダイスパッド固定用リード29、30で固
定されたコムフレーム31を用い、図11に示すように
第1および第2の半導体素子20および21それぞれに
ダイスパッド26および27を配置する構造にしてもよ
い。In the third embodiment, a plurality of semiconductor elements are all mounted on one dice pad. However, two dice pads 26 and 27 having electrode leads 3 shown in FIG. Each having an outer frame 2
8, a comb frame 31 fixed by only one die pad fixing lead 29, 30 is used, and dice pads 26 and 27 are arranged on the first and second semiconductor elements 20 and 21, respectively, as shown in FIG. The structure may be such that:
【0070】そのような構成により、電位が異なる複数
の半導体素子を同一のパッケージに収納することができ
る。With such a configuration, a plurality of semiconductor elements having different potentials can be housed in the same package.
【0071】またこのとき、基板電位が同じ半導体素子
に関し、図12に示すように第3の半導体素子32を、
第1の半導体素子20が搭載されたのと同一のダイスパ
ッド26上に搭載してもよい。At this time, as for the semiconductor elements having the same substrate potential, as shown in FIG.
It may be mounted on the same dice pad 26 on which the first semiconductor element 20 is mounted.
【0072】この構成によりダイスパッド数を低減する
ことができ、半導体装置のサイズを小型化する上でさら
に効果がある。With this configuration, the number of dice pads can be reduced, which is more effective in reducing the size of the semiconductor device.
【0073】これらの半導体装置は、樹脂封入時にそれ
ぞれのダイスパッドが上下の金型で挟み込まれるように
樹脂成形される。These semiconductor devices are resin-molded such that each die pad is sandwiched between upper and lower molds when the resin is sealed.
【0074】この構造から派生してさらに多くの半導体
チップを配置するダイスパッドを配置する場合、従来で
あればダイスパッドをそれぞれ2本のリードで固定する
場合に(ダイスパッド数×2)本のダイスパッド固定用
リードが必要であったが、本発明によれば(ダイスパッ
ド×1)本のダイスパッド固定用リードですむため、半
導体素子の端子数を削減することができる。When arranging dice pads for arranging more semiconductor chips derived from this structure, conventionally, when each dice pad is fixed by two leads (the number of dice pads × 2) Although a die pad fixing lead was necessary, according to the present invention, (die pad × 1) dice pad fixing leads are sufficient, so that the number of terminals of the semiconductor element can be reduced.
【0075】(実施の形態4)本発明の第4の実施の形
態に係る半導体装置およびその製造方法について、図1
3〜図15を用いて説明する。(Fourth Embodiment) A semiconductor device and a method of manufacturing the same according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIGS.
【0076】この実施の形態において、用いるコムフレ
ームは実施の形態1と同様であり、ダイスパッド2が唯
1本のリード12でコムフレーム11の外枠5に固定さ
れているものである。In this embodiment, the comb frame to be used is the same as that of the first embodiment, and the die pad 2 is fixed to the outer frame 5 of the comb frame 11 with only one lead 12.
【0077】この第4の実施の形態について、本発明の
半導体装置およびその製造方法に係る工程フローを図1
3に示す。With respect to the fourth embodiment, a process flow relating to a semiconductor device and a method of manufacturing the same according to the present invention is shown in FIG.
3 is shown.
【0078】まず、コムフレーム11について、ダイス
パッド2の上に半導体素子6を固定し(図13
(a))、次に半導体素子6上のボンディングパッドと
電極リード3とを電極ワイヤ7によりワイヤボンドで結
線する(図13(b))。First, the semiconductor element 6 of the comb frame 11 is fixed on the die pad 2 (FIG. 13).
(A)) Next, the bonding pads on the semiconductor element 6 and the electrode leads 3 are connected by wire bonding with the electrode wires 7 (FIG. 13B).
【0079】その後、半導体素子6の表面の一部とダイ
スパッド2の裏面側の少なくとも一部を両側から挟みこ
むように金型8で固定し(図13(c))、ゲート9よ
り空間部10に樹脂13を流し込んでパッケージ33を
形成する(図13(d))。このようにして半導体装置
を完成させる。Thereafter, a part of the front surface of the semiconductor element 6 and at least a part of the back surface of the die pad 2 are fixed with a mold 8 so as to be sandwiched from both sides (FIG. 13C). The package 13 is formed by pouring the resin 13 into the package 13 (FIG. 13D). Thus, the semiconductor device is completed.
【0080】なお、図13(c)における金型図面は左
右のキャビティ部が分断されているように見えるが、紙
面垂直方向に立体的につながっているので樹脂13が流
れ込んで行く。また、電極リード3の下部より樹脂13
を注入するが、電極リード3の隙間を通じて電極リード
3の上部にも樹脂13が流れ込む。Although the left and right cavities appear to be divided in the mold drawing in FIG. 13C, the resin 13 flows in because the cavities are connected three-dimensionally in the direction perpendicular to the paper surface. In addition, the resin 13 is provided from the lower part
Is injected, but the resin 13 also flows into the upper part of the electrode lead 3 through the gap between the electrode leads 3.
【0081】このような製造方法により、半導体素子6
とダイスパッド2は上下の金型8でしっかりと固定され
ているため、第1の実施の形態と同様な効果が得られる
とともに、端子のすべての電位が独立である半導体装置
を実現することができ、特に半導体素子6が発光または
受光素子の場合には、半導体素子6の表面を金型8で挟
み込む部分として、発光部もしくは受光部表面を選択す
ることにより、発光部もしくは受光部表面に樹脂13が
ほとんど回り込まないため、樹脂13による光ロスの少
ないデバイスを実現することができる。According to such a manufacturing method, the semiconductor element 6
Since the die pad 2 and the die pad 2 are firmly fixed by the upper and lower molds 8, the same effect as in the first embodiment can be obtained, and a semiconductor device in which all the potentials of the terminals are independent can be realized. In particular, when the semiconductor element 6 is a light-emitting or light-receiving element, the surface of the semiconductor element 6 is sandwiched between the molds 8 so that the light-emitting or light-receiving surface is selected, so that the surface of the light-emitting or light-receiving section is covered Since the resin 13 hardly goes around, a device with less light loss due to the resin 13 can be realized.
【0082】また、このようにして製造された半導体装
置について、第1の実施の形態と同様の効果が得られる
とともに、半導体素子6が外部から見えるので、半導体
装置の調整を容易に行うことができる。The semiconductor device manufactured as described above has the same effects as those of the first embodiment, and the semiconductor element 6 can be seen from the outside, so that the semiconductor device can be easily adjusted. it can.
【0083】また、図14(a)に示すように半導体素
子6の上面にガラス等の保護部材34を接着後、保護部
材34の表面とダイスパッド2の裏面を金型で挟み込む
形で樹脂成形することにより金型8による半導体素子6
へのダメージの少ない半導体装置を実現することができ
る。この構造において、半導体素子として発光または受
光素子の場合は、保護部材としてガラス板等の透明部材
を使用することにより光の入出力も可能となり、より効
果的である。Further, as shown in FIG. 14A, after a protective member 34 such as glass is adhered to the upper surface of the semiconductor element 6, resin molding is performed in such a manner that the surface of the protective member 34 and the rear surface of the die pad 2 are sandwiched by a mold. The semiconductor element 6 by the mold 8
A semiconductor device with less damage to the semiconductor device can be realized. In this structure, in the case of a light emitting or light receiving element as a semiconductor element, the use of a transparent member such as a glass plate as a protective member enables light input / output, which is more effective.
【0084】また、保護部材34として図14に示すよ
うに、光学レンズ35(図14(b))、回折素子36
(グレーティングまたはホログラム素子)(図14
(c))、プリズム37(図14(d))、偏光フィル
タ38(図14(e))等の光学素子を用いれば、光の
入出力を制御することができ、より高機能なデバイスを
実現することができる。As shown in FIG. 14, an optical lens 35 (FIG. 14B) and a diffraction element 36 are used as the protection member 34.
(Grating or hologram element) (FIG. 14
(C)), the use of optical elements such as the prism 37 (FIG. 14 (d)) and the polarization filter 38 (FIG. 14 (e)) makes it possible to control the input and output of light, and to provide a device with higher functionality. Can be realized.
【0085】また、図15に示すように、半導体素子6
としてダイスパッド2上に受光素子39が配置され、発
光素子40が受光素子39の上部に配置された構造の場
合、発光素子40よりも大きな凹部を設けた金型41で
発光素子40周りの受光素子39の表面を金型41で押
さえることにより、発光素子40を押さえることなく発
光素子40の周辺には樹脂13がほとんど回り込まず、
発光素子40に樹脂による応力がほとんどかからず、発
光素子40から発生する熱で樹脂13が変質しにくくす
ることができる。Further, as shown in FIG.
In the case where the light receiving element 39 is arranged on the die pad 2 and the light emitting element 40 is arranged above the light receiving element 39, light receiving around the light emitting element 40 is performed by a mold 41 having a concave portion larger than the light emitting element 40. By pressing the surface of the element 39 with the mold 41, the resin 13 hardly goes around the light emitting element 40 without pressing the light emitting element 40,
The light-emitting element 40 is hardly stressed by the resin, and the resin 13 can be hardly deteriorated by the heat generated from the light-emitting element 40.
【0086】(実施の形態5)本発明の第5の実施の形
態に係る半導体装置について、図16を用いて説明す
る。(Fifth Embodiment) A semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
【0087】この実施の形態において、コムフレームは
実施の形態1と同様であり、ダイスパッドが唯1本のダ
イスパッド固定用リード12でコムフレーム11の外枠
5に固定されているものである。In this embodiment, the comb frame is the same as that of the first embodiment, and the dice pad is fixed to the outer frame 5 of the comb frame 11 by only one die pad fixing lead 12. .
【0088】図16(a)においてはダイスパッド42
の厚さが電極リード3の厚さよりも大きくなったパッケ
ージ43の構造を示している。このような構造にすれば
パッケージ43の裏面にダイスパッド42がより露出さ
れることになり、半導体素子6が発生する熱をさらに効
率よく逃がすことができ、また、パッケージ43の裏面
に熱容量の大きな部材もしくは放熱フィン等の部材を固
定することにより、半導体素子6から発生する熱をさら
に効率よく放散することができるという効果が得られ
る。In FIG. 16A, the die pad 42
3 shows a structure of the package 43 in which the thickness of the package 43 is larger than the thickness of the electrode lead 3. With such a structure, the die pad 42 is more exposed on the back surface of the package 43, so that the heat generated by the semiconductor element 6 can be more efficiently dissipated, and the back surface of the package 43 has a large heat capacity. By fixing the member or the member such as the radiation fin, the effect that the heat generated from the semiconductor element 6 can be more efficiently dissipated can be obtained.
【0089】また、図16(b)に示すような、半導体
素子6を搭載した側とは反対の面の表面積を大きくし、
ダイスパッド42と樹脂13との接触面の面積を大きく
した構造にすれば、ダイスパッド42と樹脂13との界
面が材料の違いにより完全に密着せず気密性が低下する
ことを防止することができ、気密性をさらに向上させる
ことができる。Further, as shown in FIG. 16B, the surface area of the surface opposite to the side on which the semiconductor element 6 is mounted is increased,
With a structure in which the area of the contact surface between the die pad 42 and the resin 13 is increased, it is possible to prevent the interface between the die pad 42 and the resin 13 from completely adhering due to a difference in material, thereby preventing a decrease in airtightness. The airtightness can be further improved.
【0090】また、図16(c)に示すように、ダイス
パッド42の裏面側に6角レンチやプラスネジ、マイナ
スネジに対応した凹部44を設けることにより、半導体
素子6を回転調整する場合に簡便な構造を得ることがで
きる。Further, as shown in FIG. 16C, by providing recesses 44 corresponding to a hexagon wrench, a plus screw, and a minus screw on the back surface of the die pad 42, it is easy to adjust the rotation of the semiconductor element 6. Structure can be obtained.
【0091】また、電極リード3の設計上のピッチ(実
現可能な線幅および線間隔)は一般にコムフレーム11
の厚さにより決定される。すなわち電極リード3の厚さ
が薄いほどエッチングやプレスで加工する場合にピッチ
を細かくし、同一スペースにより多くの電極リードを配
置することができる。しかし電極リードを薄くすると、
強度が低下し、樹脂成形時に変形するなどの課題が発生
する。この問題を解決するため、図16(d)のように
電極リード3の先端を薄くし、外側を厚くするすことに
より、電極ワイヤ7によりワイヤボンドで結線する先端
部分はピッチを小さくして多くのリードを密に配置する
ことができ、かつ強度を確保することができ、強度とリ
ード端子数の多端子化を両立することが可能となるとい
う効果がある。The design pitch (realizable line width and line interval) of the electrode lead 3 is generally
Is determined by the thickness of That is, when the thickness of the electrode lead 3 is smaller, the pitch can be made finer when processing by etching or pressing, and more electrode leads can be arranged in the same space. However, when the electrode leads are thinned,
Problems such as reduced strength and deformation during resin molding occur. In order to solve this problem, the tip of the electrode lead 3 is made thinner and its outer side is made thicker as shown in FIG. This leads to an effect that the leads can be densely arranged, the strength can be secured, and both the strength and the increase in the number of lead terminals can be achieved.
【0092】[0092]
【発明の効果】以上のように本発明の半導体装置の製造
方法によれば、独立な電位を有する端子の数を多くする
ことができるとともに樹脂の圧力によっても変形のほと
んどないダイスパッドを有する半導体装置を製造するこ
とができる。As described above, according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, it is possible to increase the number of terminals having independent potentials and to provide a semiconductor device having a dice pad which is hardly deformed by the pressure of resin. The device can be manufactured.
【0093】また、本発明の半導体装置の製造方法によ
れば、半導体素子が発生する熱を効率よく逃がすことが
でき、また、その面に対してヒートシンクや別の半導体
素子等を搭載させることができて放熱性に優れた半導体
装置や集積化された半導体装置を得ることができる。Further, according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, heat generated by a semiconductor element can be efficiently released, and a heat sink or another semiconductor element can be mounted on the surface. Thus, a semiconductor device having excellent heat dissipation and an integrated semiconductor device can be obtained.
【図1】本発明の、第1の実施の形態に係る半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 1 is a sectional view showing a method for manufacturing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention;
【図2】本発明の、第1ないし第5の実施の形態に係る
コムフレームの上面図FIG. 2 is a top view of the comb frame according to the first to fifth embodiments of the present invention.
【図3】本発明の、第1の実施の形態に係るプリモール
ドパッケージの上面図FIG. 3 is a top view of the pre-mold package according to the first embodiment of the present invention.
【図4】同実施の形態に係る半導体装置の他の例を示す
断面図FIG. 4 is a sectional view showing another example of the semiconductor device according to the embodiment;
【図5】本発明の、第2の実施の形態に係る半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 5 is a sectional view showing the method of manufacturing the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention;
【図6】同実施の形態に係る半導体装置の他の例を示す
断面図FIG. 6 is a sectional view showing another example of the semiconductor device according to the embodiment;
【図7】本発明の、第3の実施の形態に係る半導体装置
の製造方法を示す断面図FIG. 7 is a sectional view showing the method of manufacturing the semiconductor device according to the third embodiment of the present invention;
【図8】同実施の形態に係る半導体装置の他の例を示す
断面図FIG. 8 is a sectional view showing another example of the semiconductor device according to the embodiment;
【図9】同半導体装置の他の例を示す断面図FIG. 9 is a sectional view showing another example of the semiconductor device.
【図10】同実施の形態に係るコムフレームの、別の例
の上面図FIG. 10 is a top view of another example of the comb frame according to the embodiment;
【図11】同実施の形態に係る半導体装置の他の例を示
す断面図FIG. 11 is a sectional view showing another example of the semiconductor device according to the embodiment;
【図12】同半導体装置の他の例を示す断面図FIG. 12 is a sectional view showing another example of the semiconductor device.
【図13】本発明の、第4の実施の形態に係る半導体装
置の製造方法を示す断面図FIG. 13 is a sectional view showing the method of manufacturing the semiconductor device according to the fourth embodiment of the present invention;
【図14】同実施の形態に係る半導体装置の他の例を示
す断面図FIG. 14 is a sectional view showing another example of the semiconductor device according to the embodiment;
【図15】同半導体装置の製造方法の他の例を示す断面
図FIG. 15 is a sectional view showing another example of the method for manufacturing the semiconductor device;
【図16】本発明の、第5の実施の形態に係る半導体装
置を示す断面図FIG. 16 is a sectional view showing a semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention;
【図17】従来の半導体装置の断面図FIG. 17 is a sectional view of a conventional semiconductor device.
【図18】従来の半導体装置の製造方法を示す断面図FIG. 18 is a cross-sectional view showing a conventional method for manufacturing a semiconductor device.
【図19】従来のコムフレームの上面図FIG. 19 is a top view of a conventional comb frame.
1、11、31 コムフレーム 2、26、27、42 ダイスパッド 3 電極リード 4、28 外枠 5、12、29、30 ダイスパッド固定用リード 6 半導体素子 7 電極ワイヤ 8、41 金型 9 ゲート 10 空間 13、17 樹脂 14 プリモールドパッケージ 15 電極配線パタン 16 フリップチップボンド 18 封止板 19、33、43 パッケージ 20 第1の半導体素子 21 第2の半導体素子 22、35 光学レンズ 23、36 回折格子 24、37 プリズム 25、38 偏光フィルタ 32 第3の半導体素子 34 保護部材 39 受光素子 40 発光素子 44 凹部 1, 11, 31 Com frame 2, 26, 27, 42 Dice pad 3 Electrode lead 4, 28 Outer frame 5, 12, 29, 30 Die pad fixing lead 6 Semiconductor element 7 Electrode wire 8, 41 Mold 9 Gate 10 Space 13, 17 Resin 14 Pre-mold package 15 Electrode wiring pattern 16 Flip chip bond 18 Sealing plate 19, 33, 43 Package 20 First semiconductor element 21 Second semiconductor element 22, 35 Optical lens 23, 36 Diffraction grating 24 , 37 prism 25, 38 polarizing filter 32 third semiconductor element 34 protective member 39 light receiving element 40 light emitting element 44 recess
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井島 新一 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 (72)発明者 吉川 昭男 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 Fターム(参考) 4M109 AA01 AA04 BA01 CA05 CA21 DA04 DA07 DB02 EE12 EE13 GA01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shinichi Ijima 1-1, Kochi-cho, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Akio Yoshikawa 1-1-1, Kochi-cho, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 4M109 AA01 AA04 BA01 CA05 CA21 DA04 DA07 DB02 EE12 EE13 GA01
Claims (13)
えたダイスパッドを有するコムフレームを、前記ダイス
パッドの主面に向かって凹部と凸部とを有しかつ一部に
樹脂封入口を有する1対の金型を用い、前記ダイスパッ
ドの主面の少なくとも一部を前記凸部で押さえて挟み、
前記樹脂封入口より前記凹部に樹脂を流し込んで樹脂成
形を行う工程を有する半導体装置の製造方法。1. A comb frame having a dice pad having two main surfaces in a front-to-back relationship with each other is provided. Using a pair of molds having an entrance, at least a part of the main surface of the die pad is pressed and sandwiched by the convex portion,
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising a step of pouring a resin into the recess from the resin sealing opening to perform resin molding.
パッドと前記外枠とを接続する唯1本の固定リードとを
備えた請求項1記載の半導体装置の製造方法。2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein said comb frame includes an outer frame, and only one fixed lead connecting said die pad and said outer frame.
むのに、前記ダイスパッドの主面の外縁近傍を前記金型
の凸部で押さえる請求項1記載の半導体装置の製造方
法。3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the vicinity of an outer edge of a main surface of the die pad is pressed by a convex portion of the mold when the comb frame is sandwiched by the mold.
スパッドの主面の少なくとも一部に半導体素子を搭載す
る工程を有する請求項1記載の半導体装置の製造方法。4. The method according to claim 1, further comprising a step of mounting a semiconductor element on at least a part of a main surface of the die pad before the step of performing the resin molding.
の凸部で前記半導体素子の一部を押さえて挟む請求項4
記載の半導体装置の製造方法。5. The semiconductor device according to claim 4, wherein a part of the semiconductor element is pressed and held by the protrusion of the mold during the step of performing the resin molding.
The manufacturing method of the semiconductor device described in the above.
体素子を覆う保護部材を取り付ける工程を有する請求項
5記載の半導体装置の製造方法。6. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 5, further comprising a step of attaching a protection member covering said semiconductor element after said step of performing resin molding.
記半導体素子を覆う保護部材を取り付ける工程を有し、
前記樹脂成形の工程の際に前記金型の凸部で前記半導体
素子の一部を前記保護部材を間に介して押さえる請求項
4記載の半導体装置の製造方法。7. A step of attaching a protective member covering the semiconductor element after the step of mounting the semiconductor element,
The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 4, wherein a part of the semiconductor element is pressed by the protrusion of the mold through the protective member in the resin molding step.
体素子を覆う凹部を有する金型により挟む請求項4記載
の半導体装置の製造方法。8. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 4, wherein said resin molding is sandwiched by a mold having a concave portion covering said semiconductor element.
体素子を覆う保護部材を取り付ける請求項8記載の半導
体装置の製造方法。9. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 8, wherein a protection member for covering the semiconductor element is attached after the step of performing the resin molding.
素子を搭載し、前記半導体素子を覆う保護部材を取り付
ける請求項1記載の半導体装置の製造方法。10. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein a semiconductor element is mounted after the step of performing resin molding, and a protective member that covers the semiconductor element is attached.
するダイスパッドと、前記ダイスパッドの外側に配置さ
れた電極端子と、前記ダイスパッドの外縁と前記電極端
子の内縁とを覆う樹脂と、前記樹脂上に設けられかつ前
記半導体素子と前記電極端子とを電気的に接続する配線
層とを有する半導体装置。11. A semiconductor element, a dice pad on which the semiconductor element is mounted, an electrode terminal disposed outside the dice pad, a resin covering an outer edge of the dice pad and an inner edge of the electrode terminal, A semiconductor device having a wiring layer provided on a resin and electrically connecting the semiconductor element and the electrode terminal.
するダイスパッドと、前記ダイスパッドの外側に配置さ
れた電極端子と、前記電極端子上に形成されかつ前記半
導体素子と前記電極端子とを電気的に接続するフリップ
チップボンドとを有する半導体装置。12. A semiconductor device, a dice pad on which the semiconductor device is mounted, an electrode terminal disposed outside the dice pad, and electrically connecting the semiconductor element and the electrode terminal formed on the electrode terminal. And a flip-chip bond that is electrically connected.
請求項12記載の半導体装置。13. The semiconductor device according to claim 12, wherein said electrode terminal is held by a resin.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24753399A JP2001077248A (en) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | Semiconductor device and manufacture thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24753399A JP2001077248A (en) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | Semiconductor device and manufacture thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001077248A true JP2001077248A (en) | 2001-03-23 |
Family
ID=17164922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24753399A Pending JP2001077248A (en) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | Semiconductor device and manufacture thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001077248A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100453992B1 (en) * | 2002-04-24 | 2004-10-20 | 에스티에스반도체통신 주식회사 | Pre-mold type semiconductor package and manufacturing method thereof |
JP5170080B2 (en) * | 2007-03-09 | 2013-03-27 | オムロン株式会社 | Package manufacturing method, package, and optical module |
-
1999
- 1999-09-01 JP JP24753399A patent/JP2001077248A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100453992B1 (en) * | 2002-04-24 | 2004-10-20 | 에스티에스반도체통신 주식회사 | Pre-mold type semiconductor package and manufacturing method thereof |
JP5170080B2 (en) * | 2007-03-09 | 2013-03-27 | オムロン株式会社 | Package manufacturing method, package, and optical module |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3630447B2 (en) | Manufacturing method of solid-state imaging device | |
US6982488B2 (en) | Semiconductor package and method for fabricating the same | |
JP3782405B2 (en) | Solid-state imaging device and manufacturing method thereof | |
KR100374241B1 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JPH1174295A (en) | Method for packaging electronic circuit | |
KR20140141474A (en) | Semiconductor device | |
JPH10270637A (en) | Structure of semiconductor device having integrated circuit chips | |
KR101579623B1 (en) | Semiconductor package for image sensor and fabricatingmethod thereof | |
US8802502B2 (en) | TSOP with impedance control | |
JP4075204B2 (en) | Multilayer semiconductor device | |
CN108039355B (en) | Packaging structure and packaging method of optical fingerprint chip | |
JP4239466B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP2016167577A (en) | Resin sealed semiconductor device and manufacturing method of the same | |
JP2001077248A (en) | Semiconductor device and manufacture thereof | |
JPS6352461A (en) | Semiconductor device | |
JPH0582672A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP2004273946A (en) | Semiconductor device | |
JPH05109976A (en) | Semiconductor device | |
JP2000091490A (en) | Semiconductor device | |
JP2927602B2 (en) | Optical coupling device | |
JP2002299549A (en) | Laminated semiconductor device and manufacturing method therefor | |
JP3248854B2 (en) | Structure of a semiconductor device having a plurality of IC chips | |
JP4522167B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JPH05275570A (en) | Semiconductor device | |
JPH02196450A (en) | Resin-sealed semiconductor device |