JP2000336092A - メチルクロロシランの直接合成法 - Google Patents
メチルクロロシランの直接合成法Info
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Abstract
及ぼすことなく、触媒濃度を低下させることができるメ
チルクロロシランの直接合成法を提供する。 【解決手段】 クロロメタンと、ケイ素、銅触媒、亜鉛
助触媒及び熱分解法ケイ酸を含有する接触組成物とを反
応させる。
Description
含有する接触組成物を用いてのメチルクロロシランの直
接合成法に関する。
存在下にMueller−Rochowにより直接合成でケイ素とク
ロロメタンとを反応させることによる、メチルクロロシ
ランの製法は既に公知である。例えば、US−Re.3
3452には、銅の元素又は化合物並びに共触媒亜鉛及
び錫からなる触媒コンビネーションを用いる直接合成法
が記載されている。触媒の銅、亜鉛及び錫の相互の量比
は方法に、殊に生産率及び選択率に強い影響を及ぼす一
方で、触媒が接触組成物に導入される形態、例えば金
属、合金又は化合物は、それほど重要ではない。
化銅−I及び抗凝集剤としての熱分解法ケイ酸の存在下
にケイ素とクロロメタンとを反応させる方法が記載され
ている。熱分解法ケイ酸の併用により、接触組成物であ
るケイ素及び触媒からなる混合物中での凝集物の形成が
阻止されるという。
利に、かつ可能な限り環境に優しく、例えば、線状ポリ
シロキサンの製造のために必要なジメチルジクロロシラ
ンを高い収率で、かつ高い空間/効率比で製造すること
である。即ち、同等の選択率及び変換率で、より少量の
触媒を必要とする方法が、より経費的に有利で、更に環
境に優しい。それというのも、使用済み触媒を再び後処
理するか、又は保管可能な形に変える必要があるためで
ある。
率及び選択率の保持下に、接触組成物中の銅触媒又は助
触媒の濃度を低減することができる、Mueller-Rochowに
よるメチルクロロシランの直接合成法を提供することで
あった。
メタンと、ケイ素、銅触媒、亜鉛助触媒及び熱分解法ケ
イ酸を含有する接触組成物との反応による、メチルクロ
ロシランの直接合成法である。
とにより、変換率及び/又は選択率にマイナスの影響を
及ぼすことなく、銅触媒又は亜鉛助触媒の濃度を低下さ
せることができる。
法ケイ酸は、SiO2のみからなるので更なる処理を行
わなくても、環境に優しい。
ることができるが、工業的製造では、連続的な実施形態
のみが使用される。反応したケイ素及び、反応粉末と共
に排出される触媒及び助触媒の量を、有利には予備混合
された接触組成物として連続的に後配量することを「連
続的」は意味する。連続的な直接合成を有利には流動床
反応器中で実施するが、その際、クロロメタンを同時に
流動化剤及び反応成分として使用する。
触媒及び助触媒と混合して接触組成物にする。有利には
ケイ素は最高700μmの粒度で、特に有利には最高5
00μm及び最低20μmの粒度で使用する。使用され
るケイ素は通常、>98%の純度を有する。
まる。導入相の開始と共に、塩化メチルを加熱した接触
組成物に導く。それに、粗製シラン形成がその中で生じ
る開始相が続く。反応はさしあたり、低い選択率及び変
換率で進行する。引き続き、安定な生産相に達する。ケ
イ素及び場合により触媒及び助触媒/共触媒を連続して
後配量する。クロロメタンがもはや接触組成物に導入さ
れなくなったら、生産運転は終了する。
産運転の間に十分に安定な製造相の後に、目的生成物ジ
メチルジクロロシランに対する生産速度が低下する。従
って、生産運転は、一定時間の後に終了させる必要があ
る。生産運転は多くの場合、数日から数週間続く。反応
器を生産運転の終了後に空にし、新たにケイ素、銅触媒
及び助触媒/共触媒を充填し、かつ再び、反応条件にす
る。
ス状のメチルクロロシラン及び場合により伴出する粒子
を、反応器から出す。伴出した粒子は反応したケイ素粒
子、微細なケイ素粒子、触媒及び助触媒/共触媒からな
る。所望の場合には1つ以上のサイクロンを介して、伴
出した粒子をガス流から分離除去することができるが、
その際、接触組成物からの大きい伴出した粒子は再び、
反応器中に戻し導入することができる。シランを引き続
き、残りの粉末成分及び未反応のクロロメタンから分離
除去し、かつ蒸留に導入する。生成された未反応のクロ
ロメタンは再び、反応器中で使用することができる。
は温度範囲250〜400℃で、殊に250〜360℃
で実施する。これは最も低い経費しか必要とせず、この
方法は多くの場合、周囲大気の圧力、即ち約0.1MP
a〜0.5MPaで実施することができるが、より高い
圧力を使用することもできる。
はアルゴンを使用することもできる。有利には、不活性
ガスを使用することができる。
物及びガスからなる流動床が生じるようにガス流の量を
選択する。ケイ素、触媒、助触媒及び熱分解ケイ素から
なる混合物を接触組成物と記載している。未反応のクロ
ロメタン及び場合により不活性ガス及び気体状のメチル
クロロシランを反応器から出す。1つ以上のサイクロン
を介して所望の場合には、伴出した粒子をガス流から分
離し、その際、接触組成物からの大きな伴出粒子を再
び、反応器に戻し導入する。接触組成物の調合を、個々
の成分を単純に室温で混合することにより行う。反応器
に導入する前の接触組成物の処理は可能であるが、有利
な実施態様では実施しない。
ず、銅触媒及び/又は亜鉛助触媒と混合する。それとい
うのも、それにより、触媒系の流動性が高まり、かつ使
用されるケイ酸によって、様々な触媒成分の吸湿性作用
が低減し、それに伴い、取り扱い性が著しく改善される
ためである。
には、金属の銅、銅合金、酸化銅及び塩化銅から選択す
る。酸化銅は例えば、酸化銅混合物の形の、かつ酸化銅
(II)の形の銅であってよい。塩化銅はCuClの形
で、又はCuCl2の形で使用することができ、その
際、相応する混合物も使用することができる。有利な実
施態様では、銅を酸化銅及び/又はCuClとして使用
する。
媒0.3〜10質量%、殊には0.5〜7質量%を使用
するが、特に有利には0.5〜4.5質量%である。
金属の亜鉛の形で、更に銅及び場合により他の助触媒と
の合金として、酸化亜鉛、又は塩化亜鉛として使用す
る。使用される亜鉛の量は、銅及び金属としての亜鉛に
対して有利には0.3〜60質量%、殊には0.8〜4
0質量%であり、特に有利には1〜20質量%である。
ン、セシウム、バリウム、鉄及びことに錫及びアンチモ
ンから選択される他の助触媒(c)を使用することもで
きる。アンチモン及び/又は錫(c)を有利には金属又
は合金として使用する。使用アンチモン及び/又は錫の
量は有利には合計で、金属として算出して使用される銅
に対して200〜8000ppm、殊には300〜40
00ppmであり、特に有利にはアンチモン及び/又は
錫500〜3000ppmである。
酸、有利には表面処理により疎水化された熱分解法ケイ
酸を使用する。表面処理は例えば、オルガノシランもし
くはオルガノシロキサンを用いて、又はヒドロキシ基の
アルコキシ基へのエーテル化により行うことができる。
有利には、熱分解法ケイ酸は最低50m2/gのBET
表面積を有する。表面処理を伴う、かつ伴わない熱分解
法ケイ酸は市場で、例えばWacker-Chemie GmbHで名称Wa
cker(登録商標)HDKの下に入手することができる。使
用される熱分解法ケイ酸の量は有利には、使用される触
媒(a〜c)の合計に対して0.3〜5質量%であり、
特に有利には0.5〜2.5質量%を使用する。より低
いもしくはより高い濃度の熱分解法ケイ酸も可能である
が、より高い濃度は更なる改善をもたらさず、かつより
低い濃度では、本方法の利点が低減する。
からなる触媒成分の少なくとも1種を非金属の形で使用
し、(a)及び(b)からなる触媒成分の両方が、非金
属の形で使用される実施形が特に有利である。
の結果は、接触組成物の組成の他に、実験装置及び実験
実施の設計にも依存する。後に挙げた2つのパラメータ
ーを除き、かつ本発明の利点を明らかに示すことができ
るように、後続の例で記載の実験を、次の標準処理法で
実施した。
の範囲の粒度にふるいにかけられた、次の主な不純物を
含有する市販のケイ素金属:Al0.20%、Fe0.
27%、Ca0.04%; 酸化銅:US−A5306328、例5の記載により製
造 熱分解法ケイ酸:様々なタイプ、Wacker-Chemieで、商
標Wacker(登録商標)HDKの下に入手可能。
えばFluka Chemie GmbH(ドイツ)で入手可能である。
動床反応器(内径25mm及び高さ500mmを有する
垂直ガラス管)、ガス供給フリット、ブライン冷却(Sol
ekuehlung)を伴う蒸留橋及び受器フラスコ。
びWacker-HDK[C]gを完全混和し、ケイ素120gと
混合し、反応器中に充填し、かつ40l/hの窒素流下
に340℃に加熱する。
器に導通させ、かつ接触組成物を395℃に加熱する。
導入時間の後に、2〜30分の範囲でシラン形成が始ま
り、反応温度は360℃に低下し、かつメチルクロロシ
ラン50mlが集まる(開始相)。引き続き、更にメチ
ルクロロシラン30mlが集まる。このシラン30ml
が生じるまでの時間を生産相と称し、この生産速度(P
R2)は次の式:
をGC分析により質量パーセントで測定した。
DKとの混合による、触媒取り扱い性の著しい改善の証
明) ZnCl2をそれぞれWacker(登録商標)HDK−H20及
びWacker(登録商標)HDK−H2000(疎水性熱分解
法ケイ酸)0及び1.0質量%と完全混合し、かつ開放
して室温に放置した。
2は吸湿性特性の故に3〜4時間後に完全に凝集した。
ZnCl2へのH−20添加物1%を伴うと、この材料
は空気中での貯蔵4日後になお完全に流動性である。
伴うと、この材料は空気中での貯蔵30日後になお完全
に流動性である。
Sn中への分解法ケイ酸の添加により、同時に変換率を
低下させることなく、Zn成分の濃度を低減することが
できることの証明。HDK添加物を伴わないと、この効
果は観察されない)。一般的な部分に記載されたような
実施、例2〜5は本発明によらない。
nへの熱分解法ケイ酸の添加により、同時に変換率を低
下させることなく、Zn成分の濃度を低減することがで
きることの証明。HDK添加物を伴わないと、この効果
は観察されない。)一般的な部で記載されているような
実施、例10〜11は本発明ではない。
2/Snへの熱分解法ケイ酸の添加により、同時に変換
率を低下させることなく、Cu触媒の濃度を低減するこ
とができることの証明。HDK添加物を伴わないと、こ
の効果は観察されない。一般的な部で記載しているよう
な実施、例14〜16は本発明ではなく、HDK濃度も
同様に変えた。
/Sn中に、減らしたZn量で、HDKタイプは、変換
率の保持に影響を有することを証明)一般的な部に記載
されているように実施、例20〜21は本発明によらな
い。
法ケイ酸であり、N−20は親水性熱分解法ケイ酸であ
る。
Claims (4)
- 【請求項1】 メチルクロロシランの直接合成法におい
て、クロロメタンと、ケイ素、銅触媒、亜鉛助触媒及び
熱分解法ケイ酸を含有する接触組成物とを反応させるこ
とを特徴とする、メチルクロロシランの直接合成法。 - 【請求項2】 方法を連続的に実施する、請求項1に記
載の方法。 - 【請求項3】 銅の形態を、金属の銅、銅合金、酸化銅
及び塩化銅から選択する、請求項1又は2に記載の方
法。 - 【請求項4】 亜鉛の他に、錫及びアンチモンから選択
される更なる助触媒を使用する、請求項1から3までの
いずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
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DE19919337.1 | 1999-04-27 | ||
DE19919337A DE19919337C1 (de) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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