[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2000336092A - メチルクロロシランの直接合成法 - Google Patents

メチルクロロシランの直接合成法

Info

Publication number
JP2000336092A
JP2000336092A JP2000124625A JP2000124625A JP2000336092A JP 2000336092 A JP2000336092 A JP 2000336092A JP 2000124625 A JP2000124625 A JP 2000124625A JP 2000124625 A JP2000124625 A JP 2000124625A JP 2000336092 A JP2000336092 A JP 2000336092A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
catalyst
zinc
component
silicic acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000124625A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3631938B2 (ja
Inventor
Wilfried Kalchauer
カルヒャウアー ヴィルフリート
Herbert Strausberger
シュトラウスベルガー ヘルベルト
Willibald Streckel
シュトレッケル ヴィリーバルト
Ulrich Goetze
ゲッツェ ウルリッヒ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wacker Chemie AG
Original Assignee
Wacker Chemie AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wacker Chemie AG filed Critical Wacker Chemie AG
Publication of JP2000336092A publication Critical patent/JP2000336092A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3631938B2 publication Critical patent/JP3631938B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/16Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 変換率及び/又は選択率にマイナスの影響を
及ぼすことなく、触媒濃度を低下させることができるメ
チルクロロシランの直接合成法を提供する。 【解決手段】 クロロメタンと、ケイ素、銅触媒、亜鉛
助触媒及び熱分解法ケイ酸を含有する接触組成物とを反
応させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱分解法ケイ酸を
含有する接触組成物を用いてのメチルクロロシランの直
接合成法に関する。
【0002】
【従来の技術】好適な触媒及び触媒コンビネーションの
存在下にMueller−Rochowにより直接合成でケイ素とク
ロロメタンとを反応させることによる、メチルクロロシ
ランの製法は既に公知である。例えば、US−Re.3
3452には、銅の元素又は化合物並びに共触媒亜鉛及
び錫からなる触媒コンビネーションを用いる直接合成法
が記載されている。触媒の銅、亜鉛及び錫の相互の量比
は方法に、殊に生産率及び選択率に強い影響を及ぼす一
方で、触媒が接触組成物に導入される形態、例えば金
属、合金又は化合物は、それほど重要ではない。
【0003】US4554370には、触媒としての塩
化銅−I及び抗凝集剤としての熱分解法ケイ酸の存在下
にケイ素とクロロメタンとを反応させる方法が記載され
ている。熱分解法ケイ酸の併用により、接触組成物であ
るケイ素及び触媒からなる混合物中での凝集物の形成が
阻止されるという。
【0004】直接合成の目的は、可能な限り経費的に有
利に、かつ可能な限り環境に優しく、例えば、線状ポリ
シロキサンの製造のために必要なジメチルジクロロシラ
ンを高い収率で、かつ高い空間/効率比で製造すること
である。即ち、同等の選択率及び変換率で、より少量の
触媒を必要とする方法が、より経費的に有利で、更に環
境に優しい。それというのも、使用済み触媒を再び後処
理するか、又は保管可能な形に変える必要があるためで
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、変換
率及び選択率の保持下に、接触組成物中の銅触媒又は助
触媒の濃度を低減することができる、Mueller-Rochowに
よるメチルクロロシランの直接合成法を提供することで
あった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、クロロ
メタンと、ケイ素、銅触媒、亜鉛助触媒及び熱分解法ケ
イ酸を含有する接触組成物との反応による、メチルクロ
ロシランの直接合成法である。
【0007】接触組成物に熱分解法ケイ酸を添加するこ
とにより、変換率及び/又は選択率にマイナスの影響を
及ぼすことなく、銅触媒又は亜鉛助触媒の濃度を低下さ
せることができる。
【0008】本発明の方法で付加的に使用される熱分解
法ケイ酸は、SiO2のみからなるので更なる処理を行
わなくても、環境に優しい。
【0009】この方法は、断続的に又は連続的に実施す
ることができるが、工業的製造では、連続的な実施形態
のみが使用される。反応したケイ素及び、反応粉末と共
に排出される触媒及び助触媒の量を、有利には予備混合
された接触組成物として連続的に後配量することを「連
続的」は意味する。連続的な直接合成を有利には流動床
反応器中で実施するが、その際、クロロメタンを同時に
流動化剤及び反応成分として使用する。
【0010】必要なケイ素は予め粉末に粉砕し、かつ銅
触媒及び助触媒と混合して接触組成物にする。有利には
ケイ素は最高700μmの粒度で、特に有利には最高5
00μm及び最低20μmの粒度で使用する。使用され
るケイ素は通常、>98%の純度を有する。
【0011】連続的直接合成の生産運転は、導入相で始
まる。導入相の開始と共に、塩化メチルを加熱した接触
組成物に導く。それに、粗製シラン形成がその中で生じ
る開始相が続く。反応はさしあたり、低い選択率及び変
換率で進行する。引き続き、安定な生産相に達する。ケ
イ素及び場合により触媒及び助触媒/共触媒を連続して
後配量する。クロロメタンがもはや接触組成物に導入さ
れなくなったら、生産運転は終了する。
【0012】反応器を連続的に運転させる場合には、生
産運転の間に十分に安定な製造相の後に、目的生成物ジ
メチルジクロロシランに対する生産速度が低下する。従
って、生産運転は、一定時間の後に終了させる必要があ
る。生産運転は多くの場合、数日から数週間続く。反応
器を生産運転の終了後に空にし、新たにケイ素、銅触媒
及び助触媒/共触媒を充填し、かつ再び、反応条件にす
る。
【0013】直接合成では、未反応のクロロメタン、ガ
ス状のメチルクロロシラン及び場合により伴出する粒子
を、反応器から出す。伴出した粒子は反応したケイ素粒
子、微細なケイ素粒子、触媒及び助触媒/共触媒からな
る。所望の場合には1つ以上のサイクロンを介して、伴
出した粒子をガス流から分離除去することができるが、
その際、接触組成物からの大きい伴出した粒子は再び、
反応器中に戻し導入することができる。シランを引き続
き、残りの粉末成分及び未反応のクロロメタンから分離
除去し、かつ蒸留に導入する。生成された未反応のクロ
ロメタンは再び、反応器中で使用することができる。
【0014】方法を有利には流動床反応器中で、有利に
は温度範囲250〜400℃で、殊に250〜360℃
で実施する。これは最も低い経費しか必要とせず、この
方法は多くの場合、周囲大気の圧力、即ち約0.1MP
a〜0.5MPaで実施することができるが、より高い
圧力を使用することもできる。
【0015】この方法では、不活性ガス、例えば窒素又
はアルゴンを使用することもできる。有利には、不活性
ガスを使用することができる。
【0016】有利な実施態様では、反応器中に接触組成
物及びガスからなる流動床が生じるようにガス流の量を
選択する。ケイ素、触媒、助触媒及び熱分解ケイ素から
なる混合物を接触組成物と記載している。未反応のクロ
ロメタン及び場合により不活性ガス及び気体状のメチル
クロロシランを反応器から出す。1つ以上のサイクロン
を介して所望の場合には、伴出した粒子をガス流から分
離し、その際、接触組成物からの大きな伴出粒子を再
び、反応器に戻し導入する。接触組成物の調合を、個々
の成分を単純に室温で混合することにより行う。反応器
に導入する前の接触組成物の処理は可能であるが、有利
な実施態様では実施しない。
【0017】特に有利な実施態様では熱分解ケイ素を先
ず、銅触媒及び/又は亜鉛助触媒と混合する。それとい
うのも、それにより、触媒系の流動性が高まり、かつ使
用されるケイ酸によって、様々な触媒成分の吸湿性作用
が低減し、それに伴い、取り扱い性が著しく改善される
ためである。
【0018】本発明の方法では、(a)銅の形態を有利
には、金属の銅、銅合金、酸化銅及び塩化銅から選択す
る。酸化銅は例えば、酸化銅混合物の形の、かつ酸化銅
(II)の形の銅であってよい。塩化銅はCuClの形
で、又はCuCl2の形で使用することができ、その
際、相応する混合物も使用することができる。有利な実
施態様では、銅を酸化銅及び/又はCuClとして使用
する。
【0019】有利には金属の銅及びケイ素に対して銅触
媒0.3〜10質量%、殊には0.5〜7質量%を使用
するが、特に有利には0.5〜4.5質量%である。
【0020】本発明の方法では、(b)亜鉛を有利には
金属の亜鉛の形で、更に銅及び場合により他の助触媒と
の合金として、酸化亜鉛、又は塩化亜鉛として使用す
る。使用される亜鉛の量は、銅及び金属としての亜鉛に
対して有利には0.3〜60質量%、殊には0.8〜4
0質量%であり、特に有利には1〜20質量%である。
【0021】本発明の方法では亜鉛の他に、有利にはリ
ン、セシウム、バリウム、鉄及びことに錫及びアンチモ
ンから選択される他の助触媒(c)を使用することもで
きる。アンチモン及び/又は錫(c)を有利には金属又
は合金として使用する。使用アンチモン及び/又は錫の
量は有利には合計で、金属として算出して使用される銅
に対して200〜8000ppm、殊には300〜40
00ppmであり、特に有利にはアンチモン及び/又は
錫500〜3000ppmである。
【0022】本発明の方法では、(d)熱分解法ケイ
酸、有利には表面処理により疎水化された熱分解法ケイ
酸を使用する。表面処理は例えば、オルガノシランもし
くはオルガノシロキサンを用いて、又はヒドロキシ基の
アルコキシ基へのエーテル化により行うことができる。
有利には、熱分解法ケイ酸は最低50m2/gのBET
表面積を有する。表面処理を伴う、かつ伴わない熱分解
法ケイ酸は市場で、例えばWacker-Chemie GmbHで名称Wa
cker(登録商標)HDKの下に入手することができる。使
用される熱分解法ケイ酸の量は有利には、使用される触
媒(a〜c)の合計に対して0.3〜5質量%であり、
特に有利には0.5〜2.5質量%を使用する。より低
いもしくはより高い濃度の熱分解法ケイ酸も可能である
が、より高い濃度は更なる改善をもたらさず、かつより
低い濃度では、本方法の利点が低減する。
【0023】本方法の有利な1実施態では、(a〜b)
からなる触媒成分の少なくとも1種を非金属の形で使用
し、(a)及び(b)からなる触媒成分の両方が、非金
属の形で使用される実施形が特に有利である。
【0024】後続の例では、特に記載のない限り、 a)量は全て質量に関する; b)圧力は全て0.10MPa(絶対); c)温度は全て20℃; d)シランM2=ジメチルジクロロシラン。
【0025】例 好適な触媒の存在下でのケイ素とクロロメタンとの反応
の結果は、接触組成物の組成の他に、実験装置及び実験
実施の設計にも依存する。後に挙げた2つのパラメータ
ーを除き、かつ本発明の利点を明らかに示すことができ
るように、後続の例で記載の実験を、次の標準処理法で
実施した。
【0026】ケイ素粉末:粉砕され、70〜240μm
の範囲の粒度にふるいにかけられた、次の主な不純物を
含有する市販のケイ素金属:Al0.20%、Fe0.
27%、Ca0.04%; 酸化銅:US−A5306328、例5の記載により製
造 熱分解法ケイ酸:様々なタイプ、Wacker-Chemieで、商
標Wacker(登録商標)HDKの下に入手可能。
【0027】他の全ての化学物質は化学物質市場で、例
えばFluka Chemie GmbH(ドイツ)で入手可能である。
【0028】実験装置:加熱コイルを有する実験室用流
動床反応器(内径25mm及び高さ500mmを有する
垂直ガラス管)、ガス供給フリット、ブライン冷却(Sol
ekuehlung)を伴う蒸留橋及び受器フラスコ。
【0029】標準処理法 銅触媒[A]g、亜鉛共触媒[B]g、錫粉末8mg及
びWacker-HDK[C]gを完全混和し、ケイ素120gと
混合し、反応器中に充填し、かつ40l/hの窒素流下
に340℃に加熱する。
【0030】引き続き、クロロメタン40l/hを反応
器に導通させ、かつ接触組成物を395℃に加熱する。
導入時間の後に、2〜30分の範囲でシラン形成が始ま
り、反応温度は360℃に低下し、かつメチルクロロシ
ラン50mlが集まる(開始相)。引き続き、更にメチ
ルクロロシラン30mlが集まる。このシラン30ml
が生じるまでの時間を生産相と称し、この生産速度(P
R2)は次の式:
【0031】
【数1】
【0032】により算出される。
【0033】メチルクロロシラン30mlのシラン組成
をGC分析により質量パーセントで測定した。
【0034】例1(ZnCl2の形での亜鉛共触媒とH
DKとの混合による、触媒取り扱い性の著しい改善の証
明) ZnCl2をそれぞれWacker(登録商標)HDK−H20及
びWacker(登録商標)HDK−H2000(疎水性熱分解
法ケイ酸)0及び1.0質量%と完全混合し、かつ開放
して室温に放置した。
【0035】結果:HDK添加を伴わないと、ZnCl
2は吸湿性特性の故に3〜4時間後に完全に凝集した。
ZnCl2へのH−20添加物1%を伴うと、この材料
は空気中での貯蔵4日後になお完全に流動性である。
【0036】ZnCl2へのH−2000添加物1%を
伴うと、この材料は空気中での貯蔵30日後になお完全
に流動性である。
【0037】例2〜9(触媒系CuCl/ZnCl2
Sn中への分解法ケイ酸の添加により、同時に変換率を
低下させることなく、Zn成分の濃度を低減することが
できることの証明。HDK添加物を伴わないと、この効
果は観察されない)。一般的な部分に記載されたような
実施、例2〜5は本発明によらない。
【0038】
【表1】
【0039】例10〜13(触媒系CuO/ZnO/S
nへの熱分解法ケイ酸の添加により、同時に変換率を低
下させることなく、Zn成分の濃度を低減することがで
きることの証明。HDK添加物を伴わないと、この効果
は観察されない。)一般的な部で記載されているような
実施、例10〜11は本発明ではない。
【0040】
【表2】
【0041】例14〜19(触媒系CuCl/ZnCl
2/Snへの熱分解法ケイ酸の添加により、同時に変換
率を低下させることなく、Cu触媒の濃度を低減するこ
とができることの証明。HDK添加物を伴わないと、こ
の効果は観察されない。一般的な部で記載しているよう
な実施、例14〜16は本発明ではなく、HDK濃度も
同様に変えた。
【0042】
【表3】
【0043】例20〜24(触媒系CuO/ZnCl2
/Sn中に、減らしたZn量で、HDKタイプは、変換
率の保持に影響を有することを証明)一般的な部に記載
されているように実施、例20〜21は本発明によらな
い。
【0044】H−20及びH2000は疎水性、熱分解
法ケイ酸であり、N−20は親水性熱分解法ケイ酸であ
る。
【0045】
【表4】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヘルベルト シュトラウスベルガー ドイツ連邦共和国 メーリング/エート ハイデガッセ 4 (72)発明者 ヴィリーバルト シュトレッケル ドイツ連邦共和国 メーリング/エート ノイハウザー シュトラーセ 8 (72)発明者 ウルリッヒ ゲッツェ ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン カー ル−グロス−シュトラーセ 27

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メチルクロロシランの直接合成法におい
    て、クロロメタンと、ケイ素、銅触媒、亜鉛助触媒及び
    熱分解法ケイ酸を含有する接触組成物とを反応させるこ
    とを特徴とする、メチルクロロシランの直接合成法。
  2. 【請求項2】 方法を連続的に実施する、請求項1に記
    載の方法。
  3. 【請求項3】 銅の形態を、金属の銅、銅合金、酸化銅
    及び塩化銅から選択する、請求項1又は2に記載の方
    法。
  4. 【請求項4】 亜鉛の他に、錫及びアンチモンから選択
    される更なる助触媒を使用する、請求項1から3までの
    いずれか1項に記載の方法。
JP2000124625A 1999-04-27 2000-04-25 メチルクロロシランの直接合成法 Expired - Fee Related JP3631938B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19919337.1 1999-04-27
DE19919337A DE19919337C1 (de) 1999-04-27 1999-04-27 Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000336092A true JP2000336092A (ja) 2000-12-05
JP3631938B2 JP3631938B2 (ja) 2005-03-23

Family

ID=7906180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000124625A Expired - Fee Related JP3631938B2 (ja) 1999-04-27 2000-04-25 メチルクロロシランの直接合成法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6175030B1 (ja)
EP (1) EP1048670B1 (ja)
JP (1) JP3631938B2 (ja)
DE (2) DE19919337C1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100839939B1 (ko) * 2001-12-29 2008-06-20 주식회사 케이씨씨 메틸클로로실란의 제조방법

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3775467B2 (ja) * 1999-10-25 2006-05-17 信越化学工業株式会社 オルガノハロシランの製造方法
DE19951773C1 (de) * 1999-10-27 2001-03-15 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen
JP3818360B2 (ja) * 2000-10-20 2006-09-06 信越化学工業株式会社 有機ハロシランの製造方法
DE10349286A1 (de) * 2003-10-23 2005-05-25 Wacker-Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Organosilanen
CN101417923B (zh) * 2008-12-01 2011-08-17 山东东岳有机硅材料有限公司 一种氯甲烷回收精制的方法
DE102011006869A1 (de) * 2011-04-06 2012-10-11 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung einer Kontaktmasse

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE33452E (en) 1983-07-28 1990-11-20 General Electric Company Method for making alkylhalosilanes
US4504597A (en) * 1983-11-04 1985-03-12 Scm Corporation Cupreous catalyst and process making same
US4504596A (en) * 1984-01-30 1985-03-12 Scm Corporation Cupreous catalyst and process for making same
US4554370A (en) 1984-10-29 1985-11-19 General Electric Company Method for making alkylhalosilanes
DE4142432A1 (de) 1991-12-20 1993-06-24 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur herstellung von kupferpulver
DE19621795A1 (de) * 1996-05-30 1997-12-04 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen
DE19817775A1 (de) * 1998-04-21 1999-10-28 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100839939B1 (ko) * 2001-12-29 2008-06-20 주식회사 케이씨씨 메틸클로로실란의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
DE19919337C1 (de) 2000-05-18
EP1048670A1 (de) 2000-11-02
EP1048670B1 (de) 2001-11-14
DE50000038D1 (de) 2001-12-20
US6175030B1 (en) 2001-01-16
JP3631938B2 (ja) 2005-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2562833B2 (ja) トリアルコキシシラン−テトラアルコキシシラン混合物の製造方法
JP2003531007A (ja) 触体の製造方法
US6258970B1 (en) Method for promoting dialkyldihalosilane formation during direct method alkylhalosilane production
JP4570731B2 (ja) アルキルハロシランの製造方法
JP3631938B2 (ja) メチルクロロシランの直接合成法
JP3272689B2 (ja) メチルクロロシランの直接合成法
JPH03148287A (ja) ジメチルジクロロシランとメチルジクロロシランの調製方法
GB2263113A (en) A process for producing trialkoxysilanes
US7153992B2 (en) Process for preparing methylchlorosilanes
US5512662A (en) Process for preparing methylchlorosilanes
US4487950A (en) Method for making methylchlorosilanes
JPH0259590A (ja) 有機クロルシランの製造法
US5625088A (en) Process for preparing dimethyldichlorosilane
JPH04288088A (ja) 促進剤としてランタニド化合物を含む触媒を使用するジメチルジクロルシランの直接合成法
JPS6111957B2 (ja)
US6211394B1 (en) Process for the preparation of organochlorosilanes
JP4340257B2 (ja) メチルクロロシランの製造方法
JP4181130B2 (ja) アルキルハロシランの直接合成のための触媒系及び方法
JP2985461B2 (ja) トリアルコキシシランの製造方法
US3110721A (en) Preparation of organo-halogenosilanes
JPH09194488A (ja) アルキルハロゲンシランの製造方法
JPH1171384A (ja) アルキルハロシランの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041020

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20041220

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S633 Written request for registration of reclamation of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313633

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081224

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081224

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091224

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101224

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101224

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111224

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111224

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121224

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131224

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees