JP2000290409A - 改質ふっ素樹脂、改質ふっ素樹脂組成物及び改質ふっ素樹脂成形体 - Google Patents
改質ふっ素樹脂、改質ふっ素樹脂組成物及び改質ふっ素樹脂成形体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】優れた機械的耐性を有し、しかも、広い分野に
おいて利用できる改質ふっ素樹脂、改質ふっ素樹脂組成
物及び改質ふっ素樹脂成形体の提供。 【解決手段】結晶融点が比較的近いふっ素樹脂を２種類
以上共存させ、酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰
囲気下で、且つ２種類以上のふっ素樹脂のうち結晶融点
が最も高いふっ素樹脂の結晶融点以上の温度下で、電離
性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照
射してなる改質ふっ素樹脂。
おいて利用できる改質ふっ素樹脂、改質ふっ素樹脂組成
物及び改質ふっ素樹脂成形体の提供。 【解決手段】結晶融点が比較的近いふっ素樹脂を２種類
以上共存させ、酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰
囲気下で、且つ２種類以上のふっ素樹脂のうち結晶融点
が最も高いふっ素樹脂の結晶融点以上の温度下で、電離
性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照
射してなる改質ふっ素樹脂。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、摺動部品、シール
部品、パッキン、ガスケット、半導体製造用容器・配
管、厨房関連製品等に適用できる改質ふっ素樹脂、改質
ふっ素樹脂組成物及び改質ふっ素樹脂成形体に関するも
のである。
部品、パッキン、ガスケット、半導体製造用容器・配
管、厨房関連製品等に適用できる改質ふっ素樹脂、改質
ふっ素樹脂組成物及び改質ふっ素樹脂成形体に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】ポリテトラフルオロエチレン（以下「Ｐ
ＴＦＥ」という）を代表とするふっ素樹脂は、低摩擦
性、耐熱性、非粘着性、電気特性、耐薬品性、クリーン
性等に優れており、産業用、民生用の各種用途に広く利
用されているが、ふっ素樹脂は機械的耐性、特に耐摩耗
性や耐クリープ性に劣ることが指摘されている。
ＴＦＥ」という）を代表とするふっ素樹脂は、低摩擦
性、耐熱性、非粘着性、電気特性、耐薬品性、クリーン
性等に優れており、産業用、民生用の各種用途に広く利
用されているが、ふっ素樹脂は機械的耐性、特に耐摩耗
性や耐クリープ性に劣ることが指摘されている。
【０００３】高分子材料の機械的耐性を改善する方法と
して、電離性放射線の照射により架橋する方法が一般に
知られているが、ＰＴＦＥやテトラフルオロエチレン−
パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）系共重合体
（以下「ＰＦＡ」という）、テトラフルオロエチレン−
ヘキサフルオロエチレン系共重合体（以下「ＰＦＥＰ」
という）のようなパーフロロポリマーは、電離性放射線
の照射により分子鎖が切断して低分子量化する易崩壊型
ふっ素樹脂であり、照射架橋により機械的耐性を改善す
ることはできない。このため、ふっ素樹脂にガラス繊維
や炭素繊維等を補強材として充填することにより機械的
耐性を改善することがなされてきているが、ふっ素樹脂
は元来化学的に不活性であり、充填材との結合性はない
ため、ふっ素樹脂と充填材の界面に空隙が形成され易
く、ガスや液体を浸透させるという新たな問題の発生を
招くことになる。更に、ガラス繊維はふっ酸、高濃度ア
ルカリに溶出し、炭素繊維は電気特性を著しく損ない、
ふっ素樹脂本来の特性を著しく低下させることになる。
して、電離性放射線の照射により架橋する方法が一般に
知られているが、ＰＴＦＥやテトラフルオロエチレン−
パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）系共重合体
（以下「ＰＦＡ」という）、テトラフルオロエチレン−
ヘキサフルオロエチレン系共重合体（以下「ＰＦＥＰ」
という）のようなパーフロロポリマーは、電離性放射線
の照射により分子鎖が切断して低分子量化する易崩壊型
ふっ素樹脂であり、照射架橋により機械的耐性を改善す
ることはできない。このため、ふっ素樹脂にガラス繊維
や炭素繊維等を補強材として充填することにより機械的
耐性を改善することがなされてきているが、ふっ素樹脂
は元来化学的に不活性であり、充填材との結合性はない
ため、ふっ素樹脂と充填材の界面に空隙が形成され易
く、ガスや液体を浸透させるという新たな問題の発生を
招くことになる。更に、ガラス繊維はふっ酸、高濃度ア
ルカリに溶出し、炭素繊維は電気特性を著しく損ない、
ふっ素樹脂本来の特性を著しく低下させることになる。
【０００４】一方、ふっ素樹脂の中でもエチレン−テト
ラフルオロエチレン共重合体（以下「ＥＴＦＥ」とい
う）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体
（以下「ＥＣＴＦＥ」という）、ポリふっ化ビニリデン
（以下「ＰＶＤＦ」という）のようなふっ素樹脂は、ト
リアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ）等の架橋助剤の
存在下で電離性放射線を照射することにより架橋できる
ことが知られており、電線の絶縁被覆、発泡製品等の一
部で実用に供されている。しかし、熱溶融時に架橋助剤
が揮散した添加量が相当減量し、電離性放射線の照射後
の製品の物性にバラツキが発生し品質が安定しない、揮
散した架橋助剤により作業現場が汚染され安全性に欠け
る、成形温度下で架橋助剤とふっ素樹脂が反応して熱架
橋現象が生じ成形性が低下する、といった問題がある。
ラフルオロエチレン共重合体（以下「ＥＴＦＥ」とい
う）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体
（以下「ＥＣＴＦＥ」という）、ポリふっ化ビニリデン
（以下「ＰＶＤＦ」という）のようなふっ素樹脂は、ト
リアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ）等の架橋助剤の
存在下で電離性放射線を照射することにより架橋できる
ことが知られており、電線の絶縁被覆、発泡製品等の一
部で実用に供されている。しかし、熱溶融時に架橋助剤
が揮散した添加量が相当減量し、電離性放射線の照射後
の製品の物性にバラツキが発生し品質が安定しない、揮
散した架橋助剤により作業現場が汚染され安全性に欠け
る、成形温度下で架橋助剤とふっ素樹脂が反応して熱架
橋現象が生じ成形性が低下する、といった問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】かかる状況下におい
て、近年、ＰＴＦＥに酸素不存在の不活性ガス雰囲気下
で、且つＰＴＦＥの融点以上に加熱された状態で電離性
放射線を照射すると、ゴム弾性の付与等の改質がなされ
ることが提案され（特開平６−１１６４２３号公報）、
また、摺動部材への適用が提案されており（特開平９−
２７８９０７号公報）、ふっ素樹脂の機械的耐性を向上
させる試みがなされてきているが、ふっ素樹脂のより広
範囲な用途への適用に対しては更なる改善の余地がある
ことが本発明者等の検討により明らかになった。
て、近年、ＰＴＦＥに酸素不存在の不活性ガス雰囲気下
で、且つＰＴＦＥの融点以上に加熱された状態で電離性
放射線を照射すると、ゴム弾性の付与等の改質がなされ
ることが提案され（特開平６−１１６４２３号公報）、
また、摺動部材への適用が提案されており（特開平９−
２７８９０７号公報）、ふっ素樹脂の機械的耐性を向上
させる試みがなされてきているが、ふっ素樹脂のより広
範囲な用途への適用に対しては更なる改善の余地がある
ことが本発明者等の検討により明らかになった。
【０００６】従って、本発明の目的は、優れた機械的耐
性を有し、しかも、広い分野において利用できる改質ふ
っ素樹脂、改質ふっ素樹脂組成物及び改質ふっ素樹脂成
形体を提供することにある。
性を有し、しかも、広い分野において利用できる改質ふ
っ素樹脂、改質ふっ素樹脂組成物及び改質ふっ素樹脂成
形体を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく、
本発明によれば、結晶融点が比較的近いふっ素樹脂を２
種類以上共存させ、酸素濃度１００torr以下の不活性ガ
ス雰囲気下で、且つ２種類以上のふっ素樹脂のうち結晶
融点が最も高いふっ素樹脂の結晶融点以上の温度下で、
電離性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲
で照射してなる改質ふっ素樹脂が提供される。
本発明によれば、結晶融点が比較的近いふっ素樹脂を２
種類以上共存させ、酸素濃度１００torr以下の不活性ガ
ス雰囲気下で、且つ２種類以上のふっ素樹脂のうち結晶
融点が最も高いふっ素樹脂の結晶融点以上の温度下で、
電離性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲
で照射してなる改質ふっ素樹脂が提供される。
【０００８】本発明において使用される改質用のふっ素
樹脂としては、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ、ＰＦＥＰ、ＥＴＦ
Ｅ、ＥＣＴＦＥ、ＰＶＤＦ等をあげることができる。Ｐ
ＴＦＥの中には、パーフルオロ（アルキルビニルエーテ
ル）、ヘキサフルオロプロピレン、（パーフルオロアル
キル）エチレン、あるいはクロロトリフルオロエチレン
等の共重合性モノマーに基づく重合単位を１モル％以下
含有するものも含まれる。また、ＰＦＡ、ＰＦＥＰ、Ｅ
ＴＦＥ、ＥＣＴＦＥの場合、その分子構造の中に少量の
第３成分を含むことは有り得る。
樹脂としては、ＰＴＦＥ、ＰＦＡ、ＰＦＥＰ、ＥＴＦ
Ｅ、ＥＣＴＦＥ、ＰＶＤＦ等をあげることができる。Ｐ
ＴＦＥの中には、パーフルオロ（アルキルビニルエーテ
ル）、ヘキサフルオロプロピレン、（パーフルオロアル
キル）エチレン、あるいはクロロトリフルオロエチレン
等の共重合性モノマーに基づく重合単位を１モル％以下
含有するものも含まれる。また、ＰＦＡ、ＰＦＥＰ、Ｅ
ＴＦＥ、ＥＣＴＦＥの場合、その分子構造の中に少量の
第３成分を含むことは有り得る。
【０００９】本発明においては、上記のふっ素樹脂のう
ち２種類以上を共存させ、最も結晶融点の高いふっ素樹
脂の結晶融点以上の温度下で電離性放射線を照射するこ
とにより共架橋的化学結合現象が発現され、機械的耐性
が付与されることになる。いずれか１種のふっ素樹脂の
結晶融点に達しない温度下での照射では、照射温度を上
回る結晶融点のふっ素樹脂は選択的に電離性放射線によ
る崩壊が進行して他のふっ素樹脂との共架橋的化学結合
は生じない。ここで、重要なのは照射温度がふっ素樹脂
の結晶融点を大きく上回ると、当該ふっ素樹脂は共架橋
的化学結合現象よりもむしろ熱劣化挙動が主体的となる
ことであり、結晶融点が大きく異なるふっ素樹脂を共存
させると、結晶融点が低い方のふっ素樹脂は熱劣化によ
り特性が大きく低下してしまうことである。このため、
本発明においては、結晶融点が比較的近いふっ素樹脂を
複数種共存させることにしている。
ち２種類以上を共存させ、最も結晶融点の高いふっ素樹
脂の結晶融点以上の温度下で電離性放射線を照射するこ
とにより共架橋的化学結合現象が発現され、機械的耐性
が付与されることになる。いずれか１種のふっ素樹脂の
結晶融点に達しない温度下での照射では、照射温度を上
回る結晶融点のふっ素樹脂は選択的に電離性放射線によ
る崩壊が進行して他のふっ素樹脂との共架橋的化学結合
は生じない。ここで、重要なのは照射温度がふっ素樹脂
の結晶融点を大きく上回ると、当該ふっ素樹脂は共架橋
的化学結合現象よりもむしろ熱劣化挙動が主体的となる
ことであり、結晶融点が大きく異なるふっ素樹脂を共存
させると、結晶融点が低い方のふっ素樹脂は熱劣化によ
り特性が大きく低下してしまうことである。このため、
本発明においては、結晶融点が比較的近いふっ素樹脂を
複数種共存させることにしている。
【００１０】結晶融点が比較的近いふっ素樹脂の好適な
組合せとしては、ＰＴＦＥとＰＦＡ、ＰＦＡとＰＦＥ
Ｐ、及びＰＦＥＰとＥＴＦＥ、ＥＣＴＦＥ、ＰＶＤＦか
ら選ばれる少なくとも１種との組合せといったものをあ
げることができる。例えば、ＰＴＦＥとＰＦＡを共存さ
せる場合は、ＰＴＦＥの通常の結晶融点は３２７℃、Ｐ
ＦＡの通常の結晶融点は３１０℃であり、ＰＴＦＥの結
晶融点である３２７℃以上に加熱して、ＰＴＦＥとＰＦ
Ａが共に溶融状態にあるところで電離性放射線を照射す
ることにより、従来放射線崩壊型とされていたＰＴＦＥ
とＰＦＡが共存下で共架橋的化学結合現象が発現され、
機械的耐性が付与されることになる。ＰＦＡの結晶融点
以上であってもＰＴＦＥの結晶融点に達しない温度下で
は、ＰＴＦＥは選択的に電離性放射線による崩壊が進行
してＰＦＡとの共架橋的化学結合は生じない。ＰＴＦＥ
とＰＦＡを使用する場合、本発明の課題達成のための温
度条件は３３０〜３８０℃、好適には３３５〜３５０℃
であり、３８０℃を越えると共架橋的化学結合現象より
もむしろ熱劣化挙動が主体的となり好ましくない。
組合せとしては、ＰＴＦＥとＰＦＡ、ＰＦＡとＰＦＥ
Ｐ、及びＰＦＥＰとＥＴＦＥ、ＥＣＴＦＥ、ＰＶＤＦか
ら選ばれる少なくとも１種との組合せといったものをあ
げることができる。例えば、ＰＴＦＥとＰＦＡを共存さ
せる場合は、ＰＴＦＥの通常の結晶融点は３２７℃、Ｐ
ＦＡの通常の結晶融点は３１０℃であり、ＰＴＦＥの結
晶融点である３２７℃以上に加熱して、ＰＴＦＥとＰＦ
Ａが共に溶融状態にあるところで電離性放射線を照射す
ることにより、従来放射線崩壊型とされていたＰＴＦＥ
とＰＦＡが共存下で共架橋的化学結合現象が発現され、
機械的耐性が付与されることになる。ＰＦＡの結晶融点
以上であってもＰＴＦＥの結晶融点に達しない温度下で
は、ＰＴＦＥは選択的に電離性放射線による崩壊が進行
してＰＦＡとの共架橋的化学結合は生じない。ＰＴＦＥ
とＰＦＡを使用する場合、本発明の課題達成のための温
度条件は３３０〜３８０℃、好適には３３５〜３５０℃
であり、３８０℃を越えると共架橋的化学結合現象より
もむしろ熱劣化挙動が主体的となり好ましくない。
【００１１】ＰＦＡとＰＦＥＰを共存させる場合は、Ｐ
ＦＡの通常の結晶融点は前述した通り３１０℃、ＰＦＥ
Ｐの結晶融点は２７５℃であり、３１０℃〜３６０℃、
好ましくは３１５℃〜３３０℃の温度で電離性放射線を
照射することが望ましい。
ＦＡの通常の結晶融点は前述した通り３１０℃、ＰＦＥ
Ｐの結晶融点は２７５℃であり、３１０℃〜３６０℃、
好ましくは３１５℃〜３３０℃の温度で電離性放射線を
照射することが望ましい。
【００１２】ＰＦＥＰとＥＴＦＥ、ＥＣＴＦＥ、ＰＶＤ
Ｆから選ばれる少なくとも１種を共存させる場合は、Ｐ
ＦＥＰの通常の結晶融点は前述した通り２７５℃、ＥＴ
ＦＥの通常の結晶融点は２７０℃、ＥＣＴＦＥの通常の
結晶融点は２４５℃、ＰＶＤＦの通常の結晶融点は１８
０℃であり、２８０℃〜３３０℃、好ましくは２８５℃
〜３１０℃の温度下で電離性放射線を照射することが望
ましい。
Ｆから選ばれる少なくとも１種を共存させる場合は、Ｐ
ＦＥＰの通常の結晶融点は前述した通り２７５℃、ＥＴ
ＦＥの通常の結晶融点は２７０℃、ＥＣＴＦＥの通常の
結晶融点は２４５℃、ＰＶＤＦの通常の結晶融点は１８
０℃であり、２８０℃〜３３０℃、好ましくは２８５℃
〜３１０℃の温度下で電離性放射線を照射することが望
ましい。
【００１３】本発明において、例えば、ＰＴＦＥとＰＦ
Ａの２種のふっ素樹脂を前者／後者の重量比で９９／１
〜１／９９の範囲で共存させる手段としては、平均粒径
が２mm以下の粉体同士を混合した混合粉体として、この
ような混合粉体をＰＦＡの結晶融点以上で加熱処理した
混合溶融体として、水性ディスパージョン同士で混合後
凝集して乾燥した混合粒体として、このような水性ディ
スパージョン同士の混合後凝集して乾燥した混合粒体に
石油ナフサを約２０重量％添加し、４０〜８０℃で塑性
加工した複合体として、このような複合体をＰＦＡの結
晶融点以上に加熱処理した複合成形体として、それぞれ
共存させることができる。
Ａの２種のふっ素樹脂を前者／後者の重量比で９９／１
〜１／９９の範囲で共存させる手段としては、平均粒径
が２mm以下の粉体同士を混合した混合粉体として、この
ような混合粉体をＰＦＡの結晶融点以上で加熱処理した
混合溶融体として、水性ディスパージョン同士で混合後
凝集して乾燥した混合粒体として、このような水性ディ
スパージョン同士の混合後凝集して乾燥した混合粒体に
石油ナフサを約２０重量％添加し、４０〜８０℃で塑性
加工した複合体として、このような複合体をＰＦＡの結
晶融点以上に加熱処理した複合成形体として、それぞれ
共存させることができる。
【００１４】更に、本発明においては、ＰＴＦＥ燒結粉
体をコアにして外殻にＰＦＡ粉体で覆ったコア−シェル
型粉体、あるいは、ＰＦＡ溶融粉体をコアにして外殻を
ＰＴＦＥで覆った粉体構造体といった形でＰＴＦＥとＰ
ＦＡを共存させることも可能である。
体をコアにして外殻にＰＦＡ粉体で覆ったコア−シェル
型粉体、あるいは、ＰＦＡ溶融粉体をコアにして外殻を
ＰＴＦＥで覆った粉体構造体といった形でＰＴＦＥとＰ
ＦＡを共存させることも可能である。
【００１５】本発明の改質ふっ素樹脂を得るためには、
上記の温度下で且つ酸素濃度１００torr以下、好ましく
は１０-6torr〜１００torr、更に好ましくは１０-6torr
〜４０torrの不活性ガス雰囲気下で、電離性放射線を照
射線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照射する必要があ
る。酸素濃度が１００torrを越えると、分解が先行して
架橋反応が大幅に阻害されるため各種特性の低下を招
く。本発明において、電離性放射線としては、γ線、電
子線、Ｘ線、中性子線、あるいは高エネルギーイオン等
が使用され、照射線量が１ｋＧｙ未満では十分な改質効
果は達成されず、１０ＭＧｙを越えると機械的耐性の低
下を招くことになる。
上記の温度下で且つ酸素濃度１００torr以下、好ましく
は１０-6torr〜１００torr、更に好ましくは１０-6torr
〜４０torrの不活性ガス雰囲気下で、電離性放射線を照
射線量１ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照射する必要があ
る。酸素濃度が１００torrを越えると、分解が先行して
架橋反応が大幅に阻害されるため各種特性の低下を招
く。本発明において、電離性放射線としては、γ線、電
子線、Ｘ線、中性子線、あるいは高エネルギーイオン等
が使用され、照射線量が１ｋＧｙ未満では十分な改質効
果は達成されず、１０ＭＧｙを越えると機械的耐性の低
下を招くことになる。
【００１６】本発明においては、上記のようにして得た
改質ふっ素樹脂と未改質高分子材料を前者／後者重量比
で９９／１から１／９９の割合で混合して使用すること
も可能である。改質ふっ素樹脂を粉砕等の手段で２mm以
下の微粒子状に加工後、未改質高分子材料に配合し、成
形することにより改質ふっ素樹脂複合成形品を得ること
ができる。具体的には、粉末焼成法、焼成品の機械加工
品（フィルム、シート、異形品等）、ラム押出成形品、
ＰＴＦＥペースト品（含む焼成品）、ＰＴＦＥ水性デス
パージョン含浸製品（硝子繊維、炭素繊維、有機耐熱繊
維、金属多孔体、Ｎｉメッキ複合製品等）があげられ
る。未改質高分子材料としては、改質ふっ素樹脂の成形
温度に耐えられるもの、すなわち、短時間的には４００
℃〜５００℃の成形温度に耐えられる耐熱高分子材料で
あればよく、具体的には、ポリテトラフルオロエチレ
ン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ（アルキル
ビニルエーテル）系共重合体、テトラフルオロエチレン
−ヘキサフルオロエチレン系共重合体、ふっ化ビニリデ
ン、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ポリ
ふっ化ビニリデン、エチレン−クロロトリフルオロエチ
レン共重合体、ポリクロロフルオロエチレン、テトラフ
ルオロエチレン−パーフルオロジイオキサソール共重合
体、ポリふっ化ビニル、ふっ化ビニリデン−ヘキサフル
オロプロペン系共重合体、プロピレン−テトラフルオロ
エチレン系共重合体、ふっ化ビニリデン−パーフルオロ
メチルビニルエーテル−テトラフルオロエチレン系共重
合体、フルオロホスファゼン系ゴム、ポリイミド、芳香
族ポリアミド、ポリアリーレンスルフィド及び芳香族ポ
リエステルといったものをあげることができ、これらは
単独で使用しても２種以上併用してもよい。
改質ふっ素樹脂と未改質高分子材料を前者／後者重量比
で９９／１から１／９９の割合で混合して使用すること
も可能である。改質ふっ素樹脂を粉砕等の手段で２mm以
下の微粒子状に加工後、未改質高分子材料に配合し、成
形することにより改質ふっ素樹脂複合成形品を得ること
ができる。具体的には、粉末焼成法、焼成品の機械加工
品（フィルム、シート、異形品等）、ラム押出成形品、
ＰＴＦＥペースト品（含む焼成品）、ＰＴＦＥ水性デス
パージョン含浸製品（硝子繊維、炭素繊維、有機耐熱繊
維、金属多孔体、Ｎｉメッキ複合製品等）があげられ
る。未改質高分子材料としては、改質ふっ素樹脂の成形
温度に耐えられるもの、すなわち、短時間的には４００
℃〜５００℃の成形温度に耐えられる耐熱高分子材料で
あればよく、具体的には、ポリテトラフルオロエチレ
ン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ（アルキル
ビニルエーテル）系共重合体、テトラフルオロエチレン
−ヘキサフルオロエチレン系共重合体、ふっ化ビニリデ
ン、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ポリ
ふっ化ビニリデン、エチレン−クロロトリフルオロエチ
レン共重合体、ポリクロロフルオロエチレン、テトラフ
ルオロエチレン−パーフルオロジイオキサソール共重合
体、ポリふっ化ビニル、ふっ化ビニリデン−ヘキサフル
オロプロペン系共重合体、プロピレン−テトラフルオロ
エチレン系共重合体、ふっ化ビニリデン−パーフルオロ
メチルビニルエーテル−テトラフルオロエチレン系共重
合体、フルオロホスファゼン系ゴム、ポリイミド、芳香
族ポリアミド、ポリアリーレンスルフィド及び芳香族ポ
リエステルといったものをあげることができ、これらは
単独で使用しても２種以上併用してもよい。
【００１７】また、本発明においては、ふっ素樹脂とふ
っ素ゴムとを共存させ、酸素濃度１００torr以下の不活
性ガス雰囲気下で、且つふっ素樹脂の結晶融点以上の温
度下で、電離性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧ
ｙの範囲で照射することにより、改質ふっ素樹脂とふっ
素ゴムとのブレンド系を得ることも可能である。ふっ素
ゴムとしては、ふっ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロ
ペン系共重合体（以下「ＶＤＦ／ＨＦＰ」という）、プ
ロピレン−テトラフルオロエチレン系共重合体（以下
「Ｐ−ＴＦＥ」という）、ふっ化ビニリデン−パーフル
オロメチルビニルエーテル−テトラフルオロエチレン系
共重合体（以下「ＶＤＦ−ＰＦＭＶＥ−ＴＦＥ」とい
う）、フルオロホスファゼン系ゴム等をあげることがで
きる。
っ素ゴムとを共存させ、酸素濃度１００torr以下の不活
性ガス雰囲気下で、且つふっ素樹脂の結晶融点以上の温
度下で、電離性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧ
ｙの範囲で照射することにより、改質ふっ素樹脂とふっ
素ゴムとのブレンド系を得ることも可能である。ふっ素
ゴムとしては、ふっ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロ
ペン系共重合体（以下「ＶＤＦ／ＨＦＰ」という）、プ
ロピレン−テトラフルオロエチレン系共重合体（以下
「Ｐ−ＴＦＥ」という）、ふっ化ビニリデン−パーフル
オロメチルビニルエーテル−テトラフルオロエチレン系
共重合体（以下「ＶＤＦ−ＰＦＭＶＥ−ＴＦＥ」とい
う）、フルオロホスファゼン系ゴム等をあげることがで
きる。
【００１８】更に、本発明においては、ふっ素樹脂と当
該ふっ素樹脂を改質するときの電離性放射線照射条件下
で機械的耐性を保持可能な耐熱高分子材料を共存させ、
酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気下で、ふっ
素樹脂の結晶融点以上の温度下で、電離性放射線を照射
線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照射することによ
り、改質ふっ素樹脂と高分子材料とのブレンド系を得る
ことができる。耐熱高分子材料としては、ポリイミド、
芳香族ポリアミド、ポリアリレンスルフィド、ポリエー
テルエーテルケロン及び芳香族ポリエステル等をあげる
ことができる。
該ふっ素樹脂を改質するときの電離性放射線照射条件下
で機械的耐性を保持可能な耐熱高分子材料を共存させ、
酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気下で、ふっ
素樹脂の結晶融点以上の温度下で、電離性放射線を照射
線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照射することによ
り、改質ふっ素樹脂と高分子材料とのブレンド系を得る
ことができる。耐熱高分子材料としては、ポリイミド、
芳香族ポリアミド、ポリアリレンスルフィド、ポリエー
テルエーテルケロン及び芳香族ポリエステル等をあげる
ことができる。
【００１９】本発明において、改質ふっ素樹脂からなる
成形品を得る方法としては、結晶融点が比較的近いふっ
素樹脂が２種類以上共存する混合物を所定形状に成形し
てから電離性放射線を照射する方法、結晶融点が比較的
近いふっ素樹脂が２種類以上共存する混合物に、電離性
放射線を照射し、照射後の混合物を粉砕した粉体を所定
形状に成形する方法、結晶融点が比較的近いふっ素樹脂
が２種類以上共存する混合物に、電離性放射線を照射
し、照射後の混合物を粉砕した粉体と未改質の高分子材
料を含有する改質ふっ素樹脂組成物を所定形状に成形す
る方法、ふっ素樹脂とふっ素ゴムが共存する混合物を所
定形状に成形し、当該成形体に電離性放射線を照射する
方法、ふっ素樹脂と当該ふっ素樹脂を改質するときの電
離性放射線照射条件下で機械的特性を保持可能な耐熱高
分子材料が共存する混合物を所定形状に成形し、当該成
形体に電離性放射線を照射する方法等があげられる。
成形品を得る方法としては、結晶融点が比較的近いふっ
素樹脂が２種類以上共存する混合物を所定形状に成形し
てから電離性放射線を照射する方法、結晶融点が比較的
近いふっ素樹脂が２種類以上共存する混合物に、電離性
放射線を照射し、照射後の混合物を粉砕した粉体を所定
形状に成形する方法、結晶融点が比較的近いふっ素樹脂
が２種類以上共存する混合物に、電離性放射線を照射
し、照射後の混合物を粉砕した粉体と未改質の高分子材
料を含有する改質ふっ素樹脂組成物を所定形状に成形す
る方法、ふっ素樹脂とふっ素ゴムが共存する混合物を所
定形状に成形し、当該成形体に電離性放射線を照射する
方法、ふっ素樹脂と当該ふっ素樹脂を改質するときの電
離性放射線照射条件下で機械的特性を保持可能な耐熱高
分子材料が共存する混合物を所定形状に成形し、当該成
形体に電離性放射線を照射する方法等があげられる。
【００２０】本発明により得られる改質ふっ素樹脂、例
えばＰＦＡとＰＴＦＥを共存させて本発明の条件下で電
離性放射線を照射することにより得られる改質ふっ素樹
脂は、その粉砕微粒子をポリエチレン、ポリカーボネー
ト、アクリル樹脂、ＥＰＤＭ、ＰＯＭ、ＣＴＦＥふっ素
樹脂塗料等に添加してフィルム、シート、塗装品、成形
品等の製品形態で撥水、着氷防止、潤滑性、非粘着性等
の機能を活かした用途に提供される。また、Ｎｉメッキ
に配合して潤滑性、非粘着性の金属被膜を形成でき、各
種機械器具に応用できる。特殊な例では、リチウム−イ
オン二次電池集電極結着剤に配合して環境劣化対策に効
果的である。ポリエチレン／ポリプロピレン母材に配合
してセパレート材の制御安定性に寄与できる。Ｐ−ＴＦ
Ｅ系ゴムに配合して燐酸系燃料電池のパッキンの機械的
熱的安定性を改善できる。
えばＰＦＡとＰＴＦＥを共存させて本発明の条件下で電
離性放射線を照射することにより得られる改質ふっ素樹
脂は、その粉砕微粒子をポリエチレン、ポリカーボネー
ト、アクリル樹脂、ＥＰＤＭ、ＰＯＭ、ＣＴＦＥふっ素
樹脂塗料等に添加してフィルム、シート、塗装品、成形
品等の製品形態で撥水、着氷防止、潤滑性、非粘着性等
の機能を活かした用途に提供される。また、Ｎｉメッキ
に配合して潤滑性、非粘着性の金属被膜を形成でき、各
種機械器具に応用できる。特殊な例では、リチウム−イ
オン二次電池集電極結着剤に配合して環境劣化対策に効
果的である。ポリエチレン／ポリプロピレン母材に配合
してセパレート材の制御安定性に寄与できる。Ｐ−ＴＦ
Ｅ系ゴムに配合して燐酸系燃料電池のパッキンの機械的
熱的安定性を改善できる。
【００２１】改質ふっ素樹脂成形品の表面改質、例え
ば、改質ふっ素樹脂の耐放射線性を活かしたプラズマ利
用、あるいは反応活性を活かしてのＵＶ光線利用によ
り、アクリル酸、スチレンスルホン酸ナトリウム、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアクリル酸アミド、メタクリル酸グリシジ
ツエステル等による表面処理によって、改質ふっ素樹脂
来の特性を保持したままで親水性、親油性、非帯電性、
接着性、水中下耐摩耗性等を付与できる。ＰＴＦＥとＰ
ＦＡのブレンド系の改質ふっ素樹脂にパーフルオロカル
ボン酸あるいはフルオロサルホン酸基等のイオン交換性
機能を有するモノマーをグラフトさせることで、イオン
交換性改質ふっ素樹脂を得ることができる。
ば、改質ふっ素樹脂の耐放射線性を活かしたプラズマ利
用、あるいは反応活性を活かしてのＵＶ光線利用によ
り、アクリル酸、スチレンスルホン酸ナトリウム、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアクリル酸アミド、メタクリル酸グリシジ
ツエステル等による表面処理によって、改質ふっ素樹脂
来の特性を保持したままで親水性、親油性、非帯電性、
接着性、水中下耐摩耗性等を付与できる。ＰＴＦＥとＰ
ＦＡのブレンド系の改質ふっ素樹脂にパーフルオロカル
ボン酸あるいはフルオロサルホン酸基等のイオン交換性
機能を有するモノマーをグラフトさせることで、イオン
交換性改質ふっ素樹脂を得ることができる。
【００２２】ＰＴＦＥとポリイミドを共存させて本発明
の条件下で電離性放射線を照射することにより得られる
改質ふっ素樹脂を高濃度ポリイミドに配合した組成物
は、フィルムの形態で低誘電率、耐熱水性絶縁材料とし
て先端機器分野で利用され得る。
の条件下で電離性放射線を照射することにより得られる
改質ふっ素樹脂を高濃度ポリイミドに配合した組成物
は、フィルムの形態で低誘電率、耐熱水性絶縁材料とし
て先端機器分野で利用され得る。
【００２３】ふっ素樹脂と特殊ふっ素樹脂（含ふっ素ア
クリル樹脂、含ふっ素エポキシ樹脂、含ふっ素ポリイミ
ド樹脂）とを共存させて本発明の条件下で電離性放射線
を照射することにより、グラフト反応によるポリマーア
ロイを得ることが可能である。このポリマーアロイは、
潤滑性、撥水性等の機能を付与できる。勿論、特殊ふっ
素樹脂に改質ふっ素樹脂粉末を配合してもよい。
クリル樹脂、含ふっ素エポキシ樹脂、含ふっ素ポリイミ
ド樹脂）とを共存させて本発明の条件下で電離性放射線
を照射することにより、グラフト反応によるポリマーア
ロイを得ることが可能である。このポリマーアロイは、
潤滑性、撥水性等の機能を付与できる。勿論、特殊ふっ
素樹脂に改質ふっ素樹脂粉末を配合してもよい。
【００２４】芳香族ポリエステル（ＰＥＥＫ）、ＰＴＦ
Ｅ及びＰＦＡの３種を共存させて本発明の条件下で電離
性放射線を照射した改質ポリマを高濃度ＰＥＥＫに溶融
配合して得られる改質ふっ素樹脂組成物からなる成形品
は、ＰＥＥＫの高温剛性特性を保持したままでふっ素樹
脂の耐薬品性、耐熱水性が活かされ、１２インチウェハ
ー次世代ＬＳＩ半導体製造装置部品への適用が可能であ
る。
Ｅ及びＰＦＡの３種を共存させて本発明の条件下で電離
性放射線を照射した改質ポリマを高濃度ＰＥＥＫに溶融
配合して得られる改質ふっ素樹脂組成物からなる成形品
は、ＰＥＥＫの高温剛性特性を保持したままでふっ素樹
脂の耐薬品性、耐熱水性が活かされ、１２インチウェハ
ー次世代ＬＳＩ半導体製造装置部品への適用が可能であ
る。
【００２５】ＰＴＦＥとＰ−ＴＦＥを共存させて本発明
の条件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素
樹脂組成物の微粉砕品を、ポリオレフィン樹脂中に１重
量％以下含まれるように添加すると、ＰＴＦＥの潤滑機
能とＰ−ＴＦＥゴムのチクソトロピックな特性との相乗
効果により加工性の向上を図ることができる。
の条件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素
樹脂組成物の微粉砕品を、ポリオレフィン樹脂中に１重
量％以下含まれるように添加すると、ＰＴＦＥの潤滑機
能とＰ−ＴＦＥゴムのチクソトロピックな特性との相乗
効果により加工性の向上を図ることができる。
【００２６】ＰＴＦＥとＰ−ＴＦＥの共凝集系ロール混
練品（ひも状）をＰＦＡチューブ内に充填し、Ｏリング
状に末端溶接加工後に本発明の条件下で電離性放射線を
照射し、照射後再加熱してＯリング真空サイジング型で
脱ガス処理を行うことにより、高寸法精度のＯリング製
品を得ることができる。このＯリング製品は、半導体、
高真空、耐熱、耐薬化学機器等で使用され得る。
練品（ひも状）をＰＦＡチューブ内に充填し、Ｏリング
状に末端溶接加工後に本発明の条件下で電離性放射線を
照射し、照射後再加熱してＯリング真空サイジング型で
脱ガス処理を行うことにより、高寸法精度のＯリング製
品を得ることができる。このＯリング製品は、半導体、
高真空、耐熱、耐薬化学機器等で使用され得る。
【００２７】ＰＦＡとＰＴＦＥを共存させて本発明の条
件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂
の粉体をＰＦＡ粉体と混合した混合粉体は、ライニング
製品として使用できる。基材と混合粉体との接着は、Ｐ
ＴＦＥ系プライマーと改質ふっ素樹脂の一成分であるＰ
ＴＦＥとの作用により改善され、また、ＰＦＡと改質ふ
っ素樹脂の一成分であるＰＦＡとが密着して耐液浸透、
耐ガス浸透に効果的である。このライニング製品の適用
により、顕著な潤滑性付与と１０００倍以上の耐摩耗性
付与が可能となる。
件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂
の粉体をＰＦＡ粉体と混合した混合粉体は、ライニング
製品として使用できる。基材と混合粉体との接着は、Ｐ
ＴＦＥ系プライマーと改質ふっ素樹脂の一成分であるＰ
ＴＦＥとの作用により改善され、また、ＰＦＡと改質ふ
っ素樹脂の一成分であるＰＦＡとが密着して耐液浸透、
耐ガス浸透に効果的である。このライニング製品の適用
により、顕著な潤滑性付与と１０００倍以上の耐摩耗性
付与が可能となる。
【００２８】ＰＦＡとＰＴＦＥを共存させて本発明の条
件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂
の粉体をポリエチレン粉体に配合した混合粉体は、非粘
着性が要求される産業廃棄物等の回収用の大型容器（ポ
リエチレン回転成形製品）等へ適用できる。ポリエチレ
ン回転成形製品は、製品外側、つまり初期肉厚部は従来
通りポリエチレン単体とし、加工の最後の段階で改質ふ
っ素樹脂を投入して製品内側を成形することにより製造
できる。
件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂
の粉体をポリエチレン粉体に配合した混合粉体は、非粘
着性が要求される産業廃棄物等の回収用の大型容器（ポ
リエチレン回転成形製品）等へ適用できる。ポリエチレ
ン回転成形製品は、製品外側、つまり初期肉厚部は従来
通りポリエチレン単体とし、加工の最後の段階で改質ふ
っ素樹脂を投入して製品内側を成形することにより製造
できる。
【００２９】ＰＴＦＥディスパージョンに、ＰＦＡとＰ
ＴＦＥを共存させて本発明の条件下で電離性放射線を照
射して得られる改質ふっ素樹脂の粉体を配合した製品
は、食品工業や化学プラントで多用されている非粘着搬
送ベルトに適用できる。ガラス繊維不織布にＰＴＦＥデ
ィスパージョンを含浸させ、改質ふっ素樹脂粉体を配合
したＰＴＦＥディスパージョンを塗布して表層を形成す
ることにより、耐摩耗性及び非粘着性に優れた搬送ベル
トを実現でき、メンテナンスコストを大幅に低減でき
る。また、改質ふっ素樹脂粉体を配合したＰＴＦＥディ
スパージョン（必要に応じＴｉＯ2 光活性触媒を添加）
をドーム球場の屋根等に使用されているシートに塗装す
ることにより、耐摩耗性、非粘着性Ａ種膜製品を実現で
き、耐久性を大幅に向上できる。
ＴＦＥを共存させて本発明の条件下で電離性放射線を照
射して得られる改質ふっ素樹脂の粉体を配合した製品
は、食品工業や化学プラントで多用されている非粘着搬
送ベルトに適用できる。ガラス繊維不織布にＰＴＦＥデ
ィスパージョンを含浸させ、改質ふっ素樹脂粉体を配合
したＰＴＦＥディスパージョンを塗布して表層を形成す
ることにより、耐摩耗性及び非粘着性に優れた搬送ベル
トを実現でき、メンテナンスコストを大幅に低減でき
る。また、改質ふっ素樹脂粉体を配合したＰＴＦＥディ
スパージョン（必要に応じＴｉＯ2 光活性触媒を添加）
をドーム球場の屋根等に使用されているシートに塗装す
ることにより、耐摩耗性、非粘着性Ａ種膜製品を実現で
き、耐久性を大幅に向上できる。
【００３０】ＰＦＡとＰＴＦＥを共存させて本発明の条
件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂
の粉体をふっ素ゴムに配合して得られる製品は、柔軟性
のある動的シール部品として産業機械器具全般に適用可
能である。特に、鉄からアルミニウム系軽合金への移行
が加速化されている自動車分野においては、当該軽合金
の摩耗を少なくするために柔らかい摺動部材が要求され
ており、本発明による製品はこの傾向に合致したもので
ある。本発明の改質ふっ素樹脂は、動的粘弾性特性の常
温付近のｔａｎδ吸収値がＰＴＦＥに比べて著しく小さ
くなり、結晶転移吸収が大幅に低下する。この事実は、
常温領域でのバネ特性の発現を意味しており、動的シー
ル性（密封性）機能に効果的であり、油圧シリンダーシ
ール、ショックアブソバー等において大きな効果を発揮
する。
件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂
の粉体をふっ素ゴムに配合して得られる製品は、柔軟性
のある動的シール部品として産業機械器具全般に適用可
能である。特に、鉄からアルミニウム系軽合金への移行
が加速化されている自動車分野においては、当該軽合金
の摩耗を少なくするために柔らかい摺動部材が要求され
ており、本発明による製品はこの傾向に合致したもので
ある。本発明の改質ふっ素樹脂は、動的粘弾性特性の常
温付近のｔａｎδ吸収値がＰＴＦＥに比べて著しく小さ
くなり、結晶転移吸収が大幅に低下する。この事実は、
常温領域でのバネ特性の発現を意味しており、動的シー
ル性（密封性）機能に効果的であり、油圧シリンダーシ
ール、ショックアブソバー等において大きな効果を発揮
する。
【００３１】真鍮系金属の表面を多孔構造にし、孔内に
ＰＴＦＥとＰｂ系化合物の混合物を埋め込んだ摺動部材
が自動車用部品で多用されているが、Ｐｂ系化合物が摺
動時に摩損して大気中に放出され、環境汚染の一要因と
なっている。ＰＴＦＥとＰＦＡを共存させて本発明の条
件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂
はＰｂ化合物に代替可能である。当該改質ふっ素樹脂の
粉砕微粒子を、ＰＴＦＥデスパージョンに配合し、真鍮
系多孔質構造体に埋め込み処理を行なうことによりＰｂ
化合物を使用しない摺動部材を実現できる。また、ＰＴ
ＦＥとＰＦＡを共存させて本発明の条件下で電離性放射
線を照射して得られる改質ふっ素樹脂の粉砕微粒子をＰ
ＦＡに配合して溶融押出成形フィルムを得、このフィル
ムと真鍮系多孔質構造体フィルムとを圧延ロールで一体
複合化し、その後筒状に丸め加工して摺動部材を得るこ
とができる。
ＰＴＦＥとＰｂ系化合物の混合物を埋め込んだ摺動部材
が自動車用部品で多用されているが、Ｐｂ系化合物が摺
動時に摩損して大気中に放出され、環境汚染の一要因と
なっている。ＰＴＦＥとＰＦＡを共存させて本発明の条
件下で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂
はＰｂ化合物に代替可能である。当該改質ふっ素樹脂の
粉砕微粒子を、ＰＴＦＥデスパージョンに配合し、真鍮
系多孔質構造体に埋め込み処理を行なうことによりＰｂ
化合物を使用しない摺動部材を実現できる。また、ＰＴ
ＦＥとＰＦＡを共存させて本発明の条件下で電離性放射
線を照射して得られる改質ふっ素樹脂の粉砕微粒子をＰ
ＦＡに配合して溶融押出成形フィルムを得、このフィル
ムと真鍮系多孔質構造体フィルムとを圧延ロールで一体
複合化し、その後筒状に丸め加工して摺動部材を得るこ
とができる。
【００３２】本発明によれば、従来はＰＴＦＥでしか実
現できなかった大型ブロック（成形品）を、ＰＦＡとＰ
ＴＦＥの双方を使用して実現可能である。例えば、ＰＴ
ＦＥとＰＦＡを共存させて本発明の条件下で電離性放射
線を照射して得られる改質ふっ素樹脂の粉砕粉体９０重
量部とＰＦＡ粉体１０重量部の混合粉体を、ＰＴＦＥ成
型用金型で予備成形し、ＰＴＦＥ用焼成炉で焼成するこ
とにより、ＰＴＦＥ（未改質）を用いた従来の大型ブロ
ックの製造法と同様にして、大型ブロックを得ることが
できる。ここで、改質ふっ素樹脂成分９０重量部は、Ｐ
ＴＦＥ（未改質）以上に高溶融粘度を示すので、流動す
る溶融成分（ＰＦＡ）１０重量部が界面に滲み込んで空
隙を無くし、しかも界面の融着力を向上させ、機械的、
化学的に安定した成形品を得ることができる。最終製品
の機能は、改質ふっ素樹脂のＰＴＦＥとＰＦＡの含有比
に依存するが、高温時の弾性率を従来のＰＴＦＥ成形品
より大きく改善でき、半導体、液晶製造プロセスにおい
て、利点が広範囲に発揮される。
現できなかった大型ブロック（成形品）を、ＰＦＡとＰ
ＴＦＥの双方を使用して実現可能である。例えば、ＰＴ
ＦＥとＰＦＡを共存させて本発明の条件下で電離性放射
線を照射して得られる改質ふっ素樹脂の粉砕粉体９０重
量部とＰＦＡ粉体１０重量部の混合粉体を、ＰＴＦＥ成
型用金型で予備成形し、ＰＴＦＥ用焼成炉で焼成するこ
とにより、ＰＴＦＥ（未改質）を用いた従来の大型ブロ
ックの製造法と同様にして、大型ブロックを得ることが
できる。ここで、改質ふっ素樹脂成分９０重量部は、Ｐ
ＴＦＥ（未改質）以上に高溶融粘度を示すので、流動す
る溶融成分（ＰＦＡ）１０重量部が界面に滲み込んで空
隙を無くし、しかも界面の融着力を向上させ、機械的、
化学的に安定した成形品を得ることができる。最終製品
の機能は、改質ふっ素樹脂のＰＴＦＥとＰＦＡの含有比
に依存するが、高温時の弾性率を従来のＰＴＦＥ成形品
より大きく改善でき、半導体、液晶製造プロセスにおい
て、利点が広範囲に発揮される。
【００３３】複写機、特にカラーコピー機においてはウ
レタンブレードの低摩擦化と定着ロールのトナー非粘着
性の向上が要求されている。ＰＴＦＥとＰＦＡを共存さ
せて本発明の条件下で電離性放射線を照射して得られる
改質ふっ素樹脂を液状ポリウレタンに配合した組成物を
成形して得たウレタンブレードは低摩擦化を図ることが
できる。ＰＴＦＥとＰＦＡを共存させて本発明の条件下
で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂、ま
たはＰＦＡとＰ−ＴＦＥを共存させて本発明の条件下で
電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂をＰＦ
Ａに配合した組成物をチューブ成形し、複写機ロールに
適用することにより、トナー非粘着性のロールを実現で
きる。ＰＦＡの非粘着性に加えて改質ふっ素樹脂のスナ
ッピー性（ゴム弾性）により、一段と優れたトナー非粘
着性が発揮される。トナー非粘着性の向上により、トナ
ーの融解温度を低下させてコピーすることが可能とな
り、コピー温度の低下による省エネルギー化を図ること
ができる。
レタンブレードの低摩擦化と定着ロールのトナー非粘着
性の向上が要求されている。ＰＴＦＥとＰＦＡを共存さ
せて本発明の条件下で電離性放射線を照射して得られる
改質ふっ素樹脂を液状ポリウレタンに配合した組成物を
成形して得たウレタンブレードは低摩擦化を図ることが
できる。ＰＴＦＥとＰＦＡを共存させて本発明の条件下
で電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂、ま
たはＰＦＡとＰ−ＴＦＥを共存させて本発明の条件下で
電離性放射線を照射して得られる改質ふっ素樹脂をＰＦ
Ａに配合した組成物をチューブ成形し、複写機ロールに
適用することにより、トナー非粘着性のロールを実現で
きる。ＰＦＡの非粘着性に加えて改質ふっ素樹脂のスナ
ッピー性（ゴム弾性）により、一段と優れたトナー非粘
着性が発揮される。トナー非粘着性の向上により、トナ
ーの融解温度を低下させてコピーすることが可能とな
り、コピー温度の低下による省エネルギー化を図ること
ができる。
【００３４】本発明の改質ふっ素樹脂は、分子生物工学
的な分野への応用が可能である。本発明の改質ふっ素樹
脂の成形加工性、耐放射線性、非化学的汚染性は、医療
機械器具の多種多用な形態、放射線性による滅菌処理、
各種菌の培養等に効果的に対応できるものであり、滅菌
処理やＸ線撮影が行われる生体内の人口骨を含め潤滑性
機能を必要とする機能性人口部位への適用、ＤＮＡ等の
培養によるウイルス種の簡易な判定官能部品への適用が
期待される。
的な分野への応用が可能である。本発明の改質ふっ素樹
脂の成形加工性、耐放射線性、非化学的汚染性は、医療
機械器具の多種多用な形態、放射線性による滅菌処理、
各種菌の培養等に効果的に対応できるものであり、滅菌
処理やＸ線撮影が行われる生体内の人口骨を含め潤滑性
機能を必要とする機能性人口部位への適用、ＤＮＡ等の
培養によるウイルス種の簡易な判定官能部品への適用が
期待される。
【００３５】本発明によれば、耐摩耗性に優れた改質ふ
っ素樹脂繊維を得ることができ、網組加工品等への適用
が可能である。ＰＴＦＥに改質ふっ素樹脂を配合した成
形原料を用い、従来の加工方法を採用することにより、
また、ＰＴＦＥとＰＦＡを配合した成形原料を用い、従
来方法で繊維を形成した後、本発明の条件下で電離性放
射線を照射する方法を採用することにより、更には、Ｐ
ＴＦＥファインパウダーにＰＦＡを配合し、ペースト押
出成形した紐に本発明の条件下で電離性放射線を照射
し、高温（約３７０℃付近）加熱後延伸する方法を採用
すること、更には、ＰＴＦＥファインパウダーにＰＦＡ
粉体を配合して得たペースト押出品を約３４０℃に加熱
し、酸素の希薄な条件下で延伸しながら電離性放射線を
照射する方法を採用することにより、改質ふっ素樹脂繊
維を得ることができる。
っ素樹脂繊維を得ることができ、網組加工品等への適用
が可能である。ＰＴＦＥに改質ふっ素樹脂を配合した成
形原料を用い、従来の加工方法を採用することにより、
また、ＰＴＦＥとＰＦＡを配合した成形原料を用い、従
来方法で繊維を形成した後、本発明の条件下で電離性放
射線を照射する方法を採用することにより、更には、Ｐ
ＴＦＥファインパウダーにＰＦＡを配合し、ペースト押
出成形した紐に本発明の条件下で電離性放射線を照射
し、高温（約３７０℃付近）加熱後延伸する方法を採用
すること、更には、ＰＴＦＥファインパウダーにＰＦＡ
粉体を配合して得たペースト押出品を約３４０℃に加熱
し、酸素の希薄な条件下で延伸しながら電離性放射線を
照射する方法を採用することにより、改質ふっ素樹脂繊
維を得ることができる。
【００３６】ＰＴＦＥ固体潤滑剤（ルブリカント）は、
ＰＴＦＥの切削屑、工場規格外製品（原料、加工品）エ
ンドユーザ使用済み廃材等を回収して洗浄後、電離性放
射線を照射して分解させ（照射前の１／１００程度に低
分子量化）、ジェットミルで粉砕して平均粒径１０μｍ
程度の微粉末を得、これをエンジニアリングプラスチッ
ク、ゴム、塗料、インク、グリース、潤滑油、ＲＴＶシ
リコーンガスケット、液状シーラント等に添加してい
る。本発明の改質ふっ素樹脂粉末は、従来のＰＴＦＥを
大幅に越える固体潤滑剤機能を発揮する。回収したＰＴ
ＦＥ廃材及びＰＦＡ廃材を粉砕した微粉末を混合し、本
発明の条件下で電離性放射線を照射し、ジェットミル粉
砕で再度微粉末化することにより固体潤滑剤を得ること
ができる。また、一旦、酸素存在下で電離性放射線を照
射して低分子量化した後で本発明の条件下で電離性放射
線を照射する方法も採用できる。
ＰＴＦＥの切削屑、工場規格外製品（原料、加工品）エ
ンドユーザ使用済み廃材等を回収して洗浄後、電離性放
射線を照射して分解させ（照射前の１／１００程度に低
分子量化）、ジェットミルで粉砕して平均粒径１０μｍ
程度の微粉末を得、これをエンジニアリングプラスチッ
ク、ゴム、塗料、インク、グリース、潤滑油、ＲＴＶシ
リコーンガスケット、液状シーラント等に添加してい
る。本発明の改質ふっ素樹脂粉末は、従来のＰＴＦＥを
大幅に越える固体潤滑剤機能を発揮する。回収したＰＴ
ＦＥ廃材及びＰＦＡ廃材を粉砕した微粉末を混合し、本
発明の条件下で電離性放射線を照射し、ジェットミル粉
砕で再度微粉末化することにより固体潤滑剤を得ること
ができる。また、一旦、酸素存在下で電離性放射線を照
射して低分子量化した後で本発明の条件下で電離性放射
線を照射する方法も採用できる。
【００３７】
【発明の実施の形態】［実施例１］ＰＴＦＥモールディ
ングパウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０
ｇとＰＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デ
ュポンフロロケミカル社製）２０ｇをジューサー型ミキ
サーで混合し、混合物をＰＴＦＥ予備成形金型で圧力３
０ＭＰａで加圧成形して厚さ２mm、５０mm角シートと
し、これを３６０℃の温度で１時間焼成した。この焼成
シートを３４０℃の加熱炉に入れて１時間経過後に真空
ポンプで吸引し、酸素濃度が０．４torrになった段階で
吸引を停止して窒素ガスを封入し、電子線を２０ｋＧｙ
／回の照射線量で５回照射して（合計照射線量１００ｋ
Ｇｙ）改質シートを得、供試試料とした。
ングパウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０
ｇとＰＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デ
ュポンフロロケミカル社製）２０ｇをジューサー型ミキ
サーで混合し、混合物をＰＴＦＥ予備成形金型で圧力３
０ＭＰａで加圧成形して厚さ２mm、５０mm角シートと
し、これを３６０℃の温度で１時間焼成した。この焼成
シートを３４０℃の加熱炉に入れて１時間経過後に真空
ポンプで吸引し、酸素濃度が０．４torrになった段階で
吸引を停止して窒素ガスを封入し、電子線を２０ｋＧｙ
／回の照射線量で５回照射して（合計照射線量１００ｋ
Ｇｙ）改質シートを得、供試試料とした。
【００３８】［実施例２］ＰＴＦＥモールディングパウ
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰＦ
Ａ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポンフ
ロロケミカル社製）２０ｇをジューサー型ミキサーで混
合し、混合物をＳＵＳトレーに２mm厚さに入れ、３４０
℃の加熱炉に入れて１時間経過後に真空ポンプで吸引
し、酸素濃度が０．４torrになった段階で吸引を停止し
て窒素ガスを封入し、電子線を２０ｋＧｙ／回の照射線
量で５回照射して（合計照射線量１００ｋＧｙ）改質し
た。この改質試料を冷却後卓上型ジェットミルで粉砕し
て平均粒径が６０μｍの改質粉体を得、この改質粉体２
０ｇとＰＴＦＥモールディングパウダー（商品名：Ｇ−
１６３、旭硝子社製）８０ｇをジューサーミキサーで混
合し、次いで厚さ２mm、外径５０mmの円板シートを予備
成形した後、３５０℃で１時間焼成し、供試試料とし
た。
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰＦ
Ａ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポンフ
ロロケミカル社製）２０ｇをジューサー型ミキサーで混
合し、混合物をＳＵＳトレーに２mm厚さに入れ、３４０
℃の加熱炉に入れて１時間経過後に真空ポンプで吸引
し、酸素濃度が０．４torrになった段階で吸引を停止し
て窒素ガスを封入し、電子線を２０ｋＧｙ／回の照射線
量で５回照射して（合計照射線量１００ｋＧｙ）改質し
た。この改質試料を冷却後卓上型ジェットミルで粉砕し
て平均粒径が６０μｍの改質粉体を得、この改質粉体２
０ｇとＰＴＦＥモールディングパウダー（商品名：Ｇ−
１６３、旭硝子社製）８０ｇをジューサーミキサーで混
合し、次いで厚さ２mm、外径５０mmの円板シートを予備
成形した後、３５０℃で１時間焼成し、供試試料とし
た。
【００３９】［実施例３］ＰＴＦＥモールディングパウ
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）２０ｇとＰＦ
Ａ粉末（商品名：Ｐ−６３Ｐ、旭硝子社製）８０ｇをブ
ラベンダーブラストミルで３６０℃で混練し、溶融物を
厚み２mm、５０mm角シート金型に移し、加圧冷却して厚
さ２mmのシートを得た。このシートに対し、実施例１と
同様の条件で電子線を照射して改質し、改質シートを３
４０℃に再加熱し、２mmシート型でサイジング冷却して
寸法精度を向上させ、供試試料とした。
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）２０ｇとＰＦ
Ａ粉末（商品名：Ｐ−６３Ｐ、旭硝子社製）８０ｇをブ
ラベンダーブラストミルで３６０℃で混練し、溶融物を
厚み２mm、５０mm角シート金型に移し、加圧冷却して厚
さ２mmのシートを得た。このシートに対し、実施例１と
同様の条件で電子線を照射して改質し、改質シートを３
４０℃に再加熱し、２mmシート型でサイジング冷却して
寸法精度を向上させ、供試試料とした。
【００４０】［実施例４］ＰＦＡ粉末（商品名：Ｐ−６
３Ｐ、旭硝子社製）８０ｇと実施例２と同様にして得た
平均粒径が６０μｍの改質粉体２０ｇをブラベンダーブ
ラストミルで混練し、厚み２mm、５０mm角型を用い３５
０℃の温度で圧縮成形してシートを得、供試試料とし
た。
３Ｐ、旭硝子社製）８０ｇと実施例２と同様にして得た
平均粒径が６０μｍの改質粉体２０ｇをブラベンダーブ
ラストミルで混練し、厚み２mm、５０mm角型を用い３５
０℃の温度で圧縮成形してシートを得、供試試料とし
た。
【００４１】［実施例５］ＰＴＦＥモールディングパウ
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰＦ
Ａ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポンフ
ロロケミカル社製）２０ｇの割合でジューサー型ミキサ
ーで混合し、この混合物８０ｇと実施例２で得た平均粒
径が６０μｍの架橋粉体２０ｇをジューサー型ミキサー
で混合後、厚さ２mm、外径５０mmの円板シートを予備成
形した後、３５０℃で１時間焼成して供試試料とした。
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰＦ
Ａ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポンフ
ロロケミカル社製）２０ｇの割合でジューサー型ミキサ
ーで混合し、この混合物８０ｇと実施例２で得た平均粒
径が６０μｍの架橋粉体２０ｇをジューサー型ミキサー
で混合後、厚さ２mm、外径５０mmの円板シートを予備成
形した後、３５０℃で１時間焼成して供試試料とした。
【００４２】［比較例１］ＰＴＦＥモールディングパウ
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）を３６０℃、
圧力３０ＭＰａで１時間圧縮成形して厚さ２mm、５０mm
角シートを得、これを供試試料とした。
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）を３６０℃、
圧力３０ＭＰａで１時間圧縮成形して厚さ２mm、５０mm
角シートを得、これを供試試料とした。
【００４３】［比較例２］ＰＦＡ粉末（商品名：Ｐ−６
３Ｐ、旭硝子社製）を３６０℃の温度で溶融し、この溶
融物を厚み２mm、５０mm角シート金型に移し、加圧冷却
して厚さ２mmのシートとし、これを供試試料とした。
３Ｐ、旭硝子社製）を３６０℃の温度で溶融し、この溶
融物を厚み２mm、５０mm角シート金型に移し、加圧冷却
して厚さ２mmのシートとし、これを供試試料とした。
【００４４】［比較例３］ＰＴＦＥモールディングパウ
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰＦ
Ａ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポンフ
ロロケミカル社製）２０ｇをジューサー型ミキサーで混
合し、混合物を予備成形金型で圧力３０ＭＰａで加圧成
形して２mm厚、５０mm角シートを得、これを３６０℃で
１時間焼成し、供試試料とした。
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰＦ
Ａ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポンフ
ロロケミカル社製）２０ｇをジューサー型ミキサーで混
合し、混合物を予備成形金型で圧力３０ＭＰａで加圧成
形して２mm厚、５０mm角シートを得、これを３６０℃で
１時間焼成し、供試試料とした。
【００４５】実施例１〜５及び比較例１〜３の各供試試
料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果
を表１に示す。測定はスラスト型摩擦摩耗試験装置を使
用し、ＳＵＳ３０４製の円筒状リング（外径２５．６mm
φ、内径２０．６mmφ、表面粗さ０．２０μｍ）により
供試試料に０．２５ＭＰａの圧力を加え、速度０．５ｍ
／sec の条件のもとに行った。
料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果
を表１に示す。測定はスラスト型摩擦摩耗試験装置を使
用し、ＳＵＳ３０４製の円筒状リング（外径２５．６mm
φ、内径２０．６mmφ、表面粗さ０．２０μｍ）により
供試試料に０．２５ＭＰａの圧力を加え、速度０．５ｍ
／sec の条件のもとに行った。
【００４６】摩耗係数Ｋ（ｍ・sec ／ＭＰａ／ｍ／hr×
１０-6）は、Ｗ＝ＫＰＶＴの摩耗の関係式により求め
た。なお、式中Ｗは摩耗深さ（ｍ）、Ｐは荷重（ＭＰ
ａ）、Ｖは速度（ｍ／sec ）、Ｔは時間（hr）であり、
圧力と速度の乗数値ＰＶ値は、１．２５kg・ｍ／cm2 ・
sec とし、摩耗深さは、測定時間２時間後の供試試料の
重量減少を測定した後、この被試験シートの減少重量を
減少容量に換算し、これを円筒状リングの接触面積で除
して算出した。
１０-6）は、Ｗ＝ＫＰＶＴの摩耗の関係式により求め
た。なお、式中Ｗは摩耗深さ（ｍ）、Ｐは荷重（ＭＰ
ａ）、Ｖは速度（ｍ／sec ）、Ｔは時間（hr）であり、
圧力と速度の乗数値ＰＶ値は、１．２５kg・ｍ／cm2 ・
sec とし、摩耗深さは、測定時間２時間後の供試試料の
重量減少を測定した後、この被試験シートの減少重量を
減少容量に換算し、これを円筒状リングの接触面積で除
して算出した。
【００４７】
【表１】
【００４８】［実施例６］パーフロロビニルエーテル
（ＰＰＶＥ）０．１モル変性したＰＴＦＥ（商品名：７
０−Ｊ）８０ｇとＰＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１
０、三井・デュポンフロロケミカル社製）２０ｇを使用
し、実施例１と同様な操作で供試試料を得た。
（ＰＰＶＥ）０．１モル変性したＰＴＦＥ（商品名：７
０−Ｊ）８０ｇとＰＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１
０、三井・デュポンフロロケミカル社製）２０ｇを使用
し、実施例１と同様な操作で供試試料を得た。
【００４９】［比較例４］パーフロロビニルエーテル
（ＰＰＶＥ）０．１モル変性したＰＴＦＥ（商品名：７
０−Ｊ）を使用し、比較例１と同様な操作で供試試料を
得た。
（ＰＰＶＥ）０．１モル変性したＰＴＦＥ（商品名：７
０−Ｊ）を使用し、比較例１と同様な操作で供試試料を
得た。
【００５０】実施例６及び比較例４の各供試試料につい
て、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果を表２に
示す。
て、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果を表２に
示す。
【００５１】
【表２】
【００５２】［実施例７〜１５］ＰＴＦＥモールディン
グパウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０重
量部とＰＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・
デュポンフロロケミカル社製）２０重量部の割合でジュ
ーサー型ミキサーで混合し、混合物をＳＵＳトレーに２
mm厚さに入れ、３４０℃の加熱炉に入れて１時間経過後
に真空ポンプで吸引し、酸素濃度が０．４torrになった
段階で吸引を停止して窒素ガスを封入し、電子線を２０
ｋＧｙ／回の照射線量で５回照射して（合計照射線量１
００ｋＧｙ）改質した。この改質試料を冷却後卓上型ジ
ェットミルで粉砕して平均粒径が６０μｍの改質粉体を
得、この改質粉体２０ｇと表３に示す各種ポリマー８０
ｇをブラベンダーブラストミルでそれぞれのポリマーに
適した加工温度条件で混練し、溶融物を厚み２mm、５０
mm角シート金型に移し、加圧冷却して厚さ２mmのシート
を得、供試試料とした。
グパウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０重
量部とＰＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・
デュポンフロロケミカル社製）２０重量部の割合でジュ
ーサー型ミキサーで混合し、混合物をＳＵＳトレーに２
mm厚さに入れ、３４０℃の加熱炉に入れて１時間経過後
に真空ポンプで吸引し、酸素濃度が０．４torrになった
段階で吸引を停止して窒素ガスを封入し、電子線を２０
ｋＧｙ／回の照射線量で５回照射して（合計照射線量１
００ｋＧｙ）改質した。この改質試料を冷却後卓上型ジ
ェットミルで粉砕して平均粒径が６０μｍの改質粉体を
得、この改質粉体２０ｇと表３に示す各種ポリマー８０
ｇをブラベンダーブラストミルでそれぞれのポリマーに
適した加工温度条件で混練し、溶融物を厚み２mm、５０
mm角シート金型に移し、加圧冷却して厚さ２mmのシート
を得、供試試料とした。
【００５３】［比較例５〜１４］実施例７〜１５で使用
した各種ポリマー単独を用いたシートを得、供試試料と
した。
した各種ポリマー単独を用いたシートを得、供試試料と
した。
【００５４】実施例７〜１６及び比較例５〜１４の各供
試試料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その
結果を表３に示す。
試試料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その
結果を表３に示す。
【００５５】
【表３】
【００５６】［実施例１７］水添加ＮＢＲ（商品名：Ｚ
ｅｔｐｏｌ２０２０）１００ｇ、メタクリル酸亜鉛３０
ｇ、有機過酸化物系加硫剤５ｇ、実施例７〜１６と同様
にして得た平均粒径が６０μｍの改質粉体１００ｇをロ
ール混練後、１６０℃で圧縮成形して厚さ２mm、１０cm
角の加硫シートを得、供試試料とした。
ｅｔｐｏｌ２０２０）１００ｇ、メタクリル酸亜鉛３０
ｇ、有機過酸化物系加硫剤５ｇ、実施例７〜１６と同様
にして得た平均粒径が６０μｍの改質粉体１００ｇをロ
ール混練後、１６０℃で圧縮成形して厚さ２mm、１０cm
角の加硫シートを得、供試試料とした。
【００５７】［実施例１８］Ｐ−ＴＦＥ（ふっ素ゴム、
商品名：アフラス２００、旭硝子社製）１００ｇ、ステ
アリン酸ナトリウム１ｇ、酸化マグネシウム５ｇ、水酸
化カルシウム６ｇ、ビスフェノールＡＦ２ｇ、実施例７
〜１６と同様にして得た平均粒径が６０μｍの改質粉体
１００ｇを実施例１７と同様に加硫成形して厚さ２mm、
１０cm角の加硫シートを得、供試試料とした。
商品名：アフラス２００、旭硝子社製）１００ｇ、ステ
アリン酸ナトリウム１ｇ、酸化マグネシウム５ｇ、水酸
化カルシウム６ｇ、ビスフェノールＡＦ２ｇ、実施例７
〜１６と同様にして得た平均粒径が６０μｍの改質粉体
１００ｇを実施例１７と同様に加硫成形して厚さ２mm、
１０cm角の加硫シートを得、供試試料とした。
【００５８】［比較例１５］改質粉体１００重量部に代
えてＰＴＦＥルブリカント（商品名：Ｌ１６９Ｊ）１０
０重量部を配合した以外は実施例１７と同様にして加硫
シートを得、供試試料とした。
えてＰＴＦＥルブリカント（商品名：Ｌ１６９Ｊ）１０
０重量部を配合した以外は実施例１７と同様にして加硫
シートを得、供試試料とした。
【００５９】［比較例１６］改質粉体１００重量部に代
えてＰＴＦＥルブリカント（商品名：Ｌ１６９Ｊ）１０
０重量部を配合した以外は実施例１８と同様にして加硫
シートを得、供試試料とした。
えてＰＴＦＥルブリカント（商品名：Ｌ１６９Ｊ）１０
０重量部を配合した以外は実施例１８と同様にして加硫
シートを得、供試試料とした。
【００６０】実施例１７、１８及び比較例１５、１６の
各供試試料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、
その結果を表４に示す。
各供試試料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、
その結果を表４に示す。
【００６１】
【表４】
【００６２】［実施例１９］ＰＦＡ粉末（商品名：テフ
ロンＭＰ１０、三井・デュポンフロロケミカル社製）８
０ｇとＰＦＥＰ（商品名：ＮＣ１５００）２０ｇをジュ
ーサー型ミキサーで混合し、混合物をブラベンダープラ
ストミルを使用して３６０℃で混練し、溶融物を厚み２
mmのシート金型に取出し、速やかに加圧（３ＭＰａ）冷
却して厚さ２mm、５０mm角のシートを得た。このシート
を３１５℃の加熱炉に入れて１時間経過後に真空ポンプ
で吸引し、酸素濃度が１torr以下になった段階で吸引を
停止して窒素ガスを封入し、電子線を２０ｋＧｙ／回の
照射線量で５回照射して（合計照射線量１００ｋＧｙ）
改質シートを得、供試試料とした。
ロンＭＰ１０、三井・デュポンフロロケミカル社製）８
０ｇとＰＦＥＰ（商品名：ＮＣ１５００）２０ｇをジュ
ーサー型ミキサーで混合し、混合物をブラベンダープラ
ストミルを使用して３６０℃で混練し、溶融物を厚み２
mmのシート金型に取出し、速やかに加圧（３ＭＰａ）冷
却して厚さ２mm、５０mm角のシートを得た。このシート
を３１５℃の加熱炉に入れて１時間経過後に真空ポンプ
で吸引し、酸素濃度が１torr以下になった段階で吸引を
停止して窒素ガスを封入し、電子線を２０ｋＧｙ／回の
照射線量で５回照射して（合計照射線量１００ｋＧｙ）
改質シートを得、供試試料とした。
【００６３】［実施例２０〜２５］実施例１９で得た改
質シートをハンマーミルで粉砕後、卓上型ジェットミル
で粉砕して平均粒径が１００μｍの改質粉体を得、この
改質粉体２０ｇと表５に示す各種ポリマー８０ｇをブラ
ベンダーブラストミルで３６０℃の温度条件で混練し、
溶融物を厚み２mmのシート金型に取出し、速やかに加圧
（３ＭＰａ）冷却して厚さ２mm、５０mm角のシートを
得、供試試料とした。ブラベンダーブラストミル混合温
度は、ＰＦＥＰ：３４０℃、ＥＴＦＥ：３００℃、ＰＶ
ＤＦ：２００℃、ＥＣＴＦＥ：３００℃、ＰＣＴＦＥ：
２００℃とした。
質シートをハンマーミルで粉砕後、卓上型ジェットミル
で粉砕して平均粒径が１００μｍの改質粉体を得、この
改質粉体２０ｇと表５に示す各種ポリマー８０ｇをブラ
ベンダーブラストミルで３６０℃の温度条件で混練し、
溶融物を厚み２mmのシート金型に取出し、速やかに加圧
（３ＭＰａ）冷却して厚さ２mm、５０mm角のシートを
得、供試試料とした。ブラベンダーブラストミル混合温
度は、ＰＦＥＰ：３４０℃、ＥＴＦＥ：３００℃、ＰＶ
ＤＦ：２００℃、ＥＣＴＦＥ：３００℃、ＰＣＴＦＥ：
２００℃とした。
【００６４】［比較例１７］ＰＦＡ粉末（商品名：テフ
ロンＭＰ１０、三井・デュポンフロロケミカル社製）８
０ｇ、ＰＦＥＰ（商品名：ＮＣ１５００）２０ｇ及びＰ
ＴＦＥルブリカント（商品名：Ｌ１６９Ｊ）２０ｇをジ
ューサー型ミキサーで混合し、混合物をブラベンダープ
ラストミルを使用して３６０℃で混練し、溶融物を厚み
２mmのシート金型に取出し、速やかに加圧（３ＭＰａ）
冷却して厚さ２mm、５０mm角のシートを得、供試試料と
した。
ロンＭＰ１０、三井・デュポンフロロケミカル社製）８
０ｇ、ＰＦＥＰ（商品名：ＮＣ１５００）２０ｇ及びＰ
ＴＦＥルブリカント（商品名：Ｌ１６９Ｊ）２０ｇをジ
ューサー型ミキサーで混合し、混合物をブラベンダープ
ラストミルを使用して３６０℃で混練し、溶融物を厚み
２mmのシート金型に取出し、速やかに加圧（３ＭＰａ）
冷却して厚さ２mm、５０mm角のシートを得、供試試料と
した。
【００６５】［比較例１８〜２３］表５に示す各種ポリ
マー８０ｇとＰＴＦＥルブリカント（商品名：Ｌ１６９
Ｊ）２０ｇの割合で使用し、比較例１７と同様にしてシ
ートを得、供試試料とした。
マー８０ｇとＰＴＦＥルブリカント（商品名：Ｌ１６９
Ｊ）２０ｇの割合で使用し、比較例１７と同様にしてシ
ートを得、供試試料とした。
【００６６】実施例１９〜２５及び比較例１７〜２３の
各供試試料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、
その結果を表５に示す。
各供試試料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、
その結果を表５に示す。
【００６７】
【表５】
【００６８】［実施例２６］ＰＴＦＥモールディングパ
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰ
ＥＥＫ（商品名：１５０ＸＦ）２０ｇをジューサー型ミ
キサーで混合し、混合物を予備成形金型で圧力３０ＭＰ
ａで加圧成形して２mm厚さ、５０mm角シートを得、これ
を３６０℃で１時間焼成した。このシートを３４０℃の
加熱炉に入れて１時間経過後に真空ポンプで吸引し、酸
素濃度が０．５torrになった段階で吸引を停止して窒素
ガスを封入し、電子線を２０ｋＧｙ／回の照射線量で５
回照射して（合計照射線量１００ｋＧｙ）改質シートを
得、供試試料とした。
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰ
ＥＥＫ（商品名：１５０ＸＦ）２０ｇをジューサー型ミ
キサーで混合し、混合物を予備成形金型で圧力３０ＭＰ
ａで加圧成形して２mm厚さ、５０mm角シートを得、これ
を３６０℃で１時間焼成した。このシートを３４０℃の
加熱炉に入れて１時間経過後に真空ポンプで吸引し、酸
素濃度が０．５torrになった段階で吸引を停止して窒素
ガスを封入し、電子線を２０ｋＧｙ／回の照射線量で５
回照射して（合計照射線量１００ｋＧｙ）改質シートを
得、供試試料とした。
【００６９】［実施例２７〜３０］ＰＴＦＥモールディ
ングパウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０
ｇとＰＥＥＫ（商品名：１５０ＸＦ）２０ｇをジューサ
ー型ミキサーで混合し、混合物をＳＵＳトレーに２mm厚
に入れ、これを３４０℃の加熱炉に入れて１時間経過後
に真空ポンプで吸引し、酸素濃度が０．５torrになった
段階で吸引を停止して窒素ガスを封入し、電子線を２０
ｋＧｙ／回の照射線量で５回照射して（合計照射線量１
００ｋＧｙ）改質した。この改質試料を冷却後卓上型ジ
ェットミルで粉砕して平均粒径が１００μｍの改質粉体
を得、この改質粉体２０ｇと表６に示す各種ポリマー８
０ｇをブラベンダーブラストミルでそれぞれのポリマー
に適した加工温度条件で混合し、厚み２mm、５０mmの角
シートを得、供試試料とした。シートの作製は、実施例
２７は焼成、実施例２８〜３０は溶融混練後圧縮成形に
よる。
ングパウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０
ｇとＰＥＥＫ（商品名：１５０ＸＦ）２０ｇをジューサ
ー型ミキサーで混合し、混合物をＳＵＳトレーに２mm厚
に入れ、これを３４０℃の加熱炉に入れて１時間経過後
に真空ポンプで吸引し、酸素濃度が０．５torrになった
段階で吸引を停止して窒素ガスを封入し、電子線を２０
ｋＧｙ／回の照射線量で５回照射して（合計照射線量１
００ｋＧｙ）改質した。この改質試料を冷却後卓上型ジ
ェットミルで粉砕して平均粒径が１００μｍの改質粉体
を得、この改質粉体２０ｇと表６に示す各種ポリマー８
０ｇをブラベンダーブラストミルでそれぞれのポリマー
に適した加工温度条件で混合し、厚み２mm、５０mmの角
シートを得、供試試料とした。シートの作製は、実施例
２７は焼成、実施例２８〜３０は溶融混練後圧縮成形に
よる。
【００７０】［実施例３１］ＰＴＦＥモールディングパ
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）６０ｇ、Ｐ
ＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポン
フロロケミカル社製）２０ｇ及びＰＥＥＫ（商品名：１
５０ＸＦ）２０ｇの割合で使用し、実施例２６と同様に
して改質シートを得、供試試料とした。
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）６０ｇ、Ｐ
ＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポン
フロロケミカル社製）２０ｇ及びＰＥＥＫ（商品名：１
５０ＸＦ）２０ｇの割合で使用し、実施例２６と同様に
して改質シートを得、供試試料とした。
【００７１】［実施例３２〜３９］ＰＴＦＥモールディ
ングパウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）６０
ｇ、ＰＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デ
ュポンフロロケミカル社製）２０ｇ及びＰＥＥＫ（商品
名：１５０ＸＦ）２０ｇを使用し、実施例２７〜３０と
同様にして改質粉体を得、この改質粉体２０ｇと表６に
示す各種ポリマー８０ｇをブラベンダーブラストミルで
それぞれのポリマーに適した加工温度条件で混合し、厚
み２mm、５０mmの角シートを得、供試試料とした。ブラ
ベンダーブラストミル混合温度は、ＰＦＡ：３８０℃、
ＰＦＥＰ：３５０℃、ＥＴＦＥ：３２０℃、ＰＰＳ：３
００℃、ＰＥＳ：３２０℃、ＰＡ：３００℃とした。
ングパウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）６０
ｇ、ＰＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デ
ュポンフロロケミカル社製）２０ｇ及びＰＥＥＫ（商品
名：１５０ＸＦ）２０ｇを使用し、実施例２７〜３０と
同様にして改質粉体を得、この改質粉体２０ｇと表６に
示す各種ポリマー８０ｇをブラベンダーブラストミルで
それぞれのポリマーに適した加工温度条件で混合し、厚
み２mm、５０mmの角シートを得、供試試料とした。ブラ
ベンダーブラストミル混合温度は、ＰＦＡ：３８０℃、
ＰＦＥＰ：３５０℃、ＥＴＦＥ：３２０℃、ＰＰＳ：３
００℃、ＰＥＳ：３２０℃、ＰＡ：３００℃とした。
【００７２】［実施例４０］水添加ＮＢＲ（商品名：Ｚ
ｅｔｐｏｌ２０２０）１００ｇ、メタクリル酸亜鉛３０
ｇ、有機過酸化物系加硫剤５ｇ、実施例３２〜３９と同
様にして得た平均粒径が１００μｍの改質粉体１００ｇ
をロール混練後、１６０℃で圧縮成形して厚さ２mm、１
０cm角の加硫シートを得、供試試料とした。
ｅｔｐｏｌ２０２０）１００ｇ、メタクリル酸亜鉛３０
ｇ、有機過酸化物系加硫剤５ｇ、実施例３２〜３９と同
様にして得た平均粒径が１００μｍの改質粉体１００ｇ
をロール混練後、１６０℃で圧縮成形して厚さ２mm、１
０cm角の加硫シートを得、供試試料とした。
【００７３】［実施例４１］Ｐ−ＴＦＥ（ふっ素ゴム、
商品名：アフラス２００、旭硝子社製）１００ｇ、ステ
アリン酸ナトリウム１ｇ、酸化マグネシウム５ｇ、水酸
化カルシウム６ｇ、ビスフェノールＡＦ２ｇ、実施例３
２〜３９と同様にして得た平均粒径が１００μｍの改質
粉体１００ｇを実施例４０と同様に加硫成形して厚さ２
mm、１０cm角の加硫シートを得、供試試料とした。
商品名：アフラス２００、旭硝子社製）１００ｇ、ステ
アリン酸ナトリウム１ｇ、酸化マグネシウム５ｇ、水酸
化カルシウム６ｇ、ビスフェノールＡＦ２ｇ、実施例３
２〜３９と同様にして得た平均粒径が１００μｍの改質
粉体１００ｇを実施例４０と同様に加硫成形して厚さ２
mm、１０cm角の加硫シートを得、供試試料とした。
【００７４】［比較例２４］ＰＦＡ粉末（商品名：テフ
ロンＭＰ１０、三井・デュポンフロロケミカル社製）に
γ線を空気中で１００ｋＧｙ照射して低分子量に分解し
た粉末２０ｇとＰＦＡ（３４０Ｊ、未改質）８０ｇをブ
ラストミルで３８０℃で混練して成形してシートを得、
供試試料とした。
ロンＭＰ１０、三井・デュポンフロロケミカル社製）に
γ線を空気中で１００ｋＧｙ照射して低分子量に分解し
た粉末２０ｇとＰＦＡ（３４０Ｊ、未改質）８０ｇをブ
ラストミルで３８０℃で混練して成形してシートを得、
供試試料とした。
【００７５】実施例２６〜４１、比較例２４の各供試試
料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果
を表６に示す。
料について、摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果
を表６に示す。
【００７６】
【表６】
【００７７】［実施例４２］ＰＴＦＥモールディングパ
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰ
ＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポン
フロロケミカル社製）２０ｇをジューサー型ミキサーで
混合し、混合物を３４０℃の加熱炉に入れて１時間経過
後に真空ポンプで吸引し、酸素濃度が０．５torrになっ
た段階で吸引を停止して窒素ガスを封入し、電子線を１
０ｋＧｙ照射して改質した。この改質試料を冷却後卓上
型ジェットミルで粉砕して平均粒径が４０μｍの改質粉
体を得、この改質粉体３０ｇとＰＴＦＥモールディング
パウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）１００ｇ
をジューサーミキサーで混合し、予備成形金型を使用し
て圧力１５ＭＰａで厚さ２mm、外径５０mmの円板シート
を予備成形し、３６０℃で１時間焼成し、供試試料とし
た。
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）８０ｇとＰ
ＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポン
フロロケミカル社製）２０ｇをジューサー型ミキサーで
混合し、混合物を３４０℃の加熱炉に入れて１時間経過
後に真空ポンプで吸引し、酸素濃度が０．５torrになっ
た段階で吸引を停止して窒素ガスを封入し、電子線を１
０ｋＧｙ照射して改質した。この改質試料を冷却後卓上
型ジェットミルで粉砕して平均粒径が４０μｍの改質粉
体を得、この改質粉体３０ｇとＰＴＦＥモールディング
パウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）１００ｇ
をジューサーミキサーで混合し、予備成形金型を使用し
て圧力１５ＭＰａで厚さ２mm、外径５０mmの円板シート
を予備成形し、３６０℃で１時間焼成し、供試試料とし
た。
【００７８】［実施例４３］実施例４２で得た改質粉体
３０ｇとＰＦＡ（商品名：３４０Ｊ）７０ｇをブラベン
ダープラストミルを使用して３８０℃で混練し、溶融物
を速やかに厚み２mmのシート圧縮型に移行し、加圧
（０．２ＭＰａ）冷却して厚さ２mm、５０mm角のシート
を得、供試試料とした。
３０ｇとＰＦＡ（商品名：３４０Ｊ）７０ｇをブラベン
ダープラストミルを使用して３８０℃で混練し、溶融物
を速やかに厚み２mmのシート圧縮型に移行し、加圧
（０．２ＭＰａ）冷却して厚さ２mm、５０mm角のシート
を得、供試試料とした。
【００７９】実施例４２、４３の各供試試料について、
摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果を表７に示
す。
摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果を表７に示
す。
【００８０】
【表７】
【００８１】［実施例４４〜４６］電子線の照射線量を
１０００ｋＧｙ（５０ｋＧｙ／回電子線照射線量で２０
回照射）、２０００ｋＧｙ（５０ｋＧｙ／回電子線照射
線量で４０回照射）、３０００ｋＧｙ（５０ｋＧｙ／回
電子線照射線量で６０回照射）として実施例４２と同様
にしてシートを得、供試試料とした。なお、各例ではビ
ーム加熱による照射温度が３８０℃以下になるように照
射と冷却時間（非照射時間）を制御した。
１０００ｋＧｙ（５０ｋＧｙ／回電子線照射線量で２０
回照射）、２０００ｋＧｙ（５０ｋＧｙ／回電子線照射
線量で４０回照射）、３０００ｋＧｙ（５０ｋＧｙ／回
電子線照射線量で６０回照射）として実施例４２と同様
にしてシートを得、供試試料とした。なお、各例ではビ
ーム加熱による照射温度が３８０℃以下になるように照
射と冷却時間（非照射時間）を制御した。
【００８２】実施例４４〜４６の各供試試料について、
摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果を表８に示
す。
摩擦係数及び摩耗係数を測定し、その結果を表８に示
す。
【００８３】
【表８】
【００８４】［実施例４７］ＰＴＦＥモールディングパ
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）２０ｇとＰ
ＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポン
フロロケミカル社製）８０ｇをジューサー型ミキサーで
混合し、混合物をブラベンダープラストミルを使用して
３６０℃で混練し、溶融物を厚み２mmのシート金型に取
出し、速やかに加圧（３ＭＰａ）冷却して厚さ２mm、５
０mm角のシートを得た。このシートを酸素濃度０．５to
rrの窒素ガスの雰囲気下、３３０℃の加熱温度のもとで
電子線を照射線量１０００ｋＧｙ照射して（５０ｋＧｙ
／回の電子線照射線量で２０回照射）改質した。ビーム
加熱による照射温度が３６０℃以下になるように照射と
冷却時間（非照射時間）を制御した。この改質シートを
ハンマーミルで粉砕後、卓上型ジェットミルで粉砕して
平均粒径が１００μｍの改質粉体を得、この改質粉体８
０ｇとＰＦＡ（商品名：３４０Ｊ）２０ｇをブラベンダ
ーブラストミルで３８０℃の温度条件で混練し、溶融物
を厚み２mmのシート金型に取出し、速やかに加圧（０．
２ＭＰａ）冷却して厚さ２mm、５０mm角のシートを得、
供試試料とした。このシートは、透明性に優れ、ゴム弾
性特性を示した。
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）２０ｇとＰ
ＦＡ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポン
フロロケミカル社製）８０ｇをジューサー型ミキサーで
混合し、混合物をブラベンダープラストミルを使用して
３６０℃で混練し、溶融物を厚み２mmのシート金型に取
出し、速やかに加圧（３ＭＰａ）冷却して厚さ２mm、５
０mm角のシートを得た。このシートを酸素濃度０．５to
rrの窒素ガスの雰囲気下、３３０℃の加熱温度のもとで
電子線を照射線量１０００ｋＧｙ照射して（５０ｋＧｙ
／回の電子線照射線量で２０回照射）改質した。ビーム
加熱による照射温度が３６０℃以下になるように照射と
冷却時間（非照射時間）を制御した。この改質シートを
ハンマーミルで粉砕後、卓上型ジェットミルで粉砕して
平均粒径が１００μｍの改質粉体を得、この改質粉体８
０ｇとＰＦＡ（商品名：３４０Ｊ）２０ｇをブラベンダ
ーブラストミルで３８０℃の温度条件で混練し、溶融物
を厚み２mmのシート金型に取出し、速やかに加圧（０．
２ＭＰａ）冷却して厚さ２mm、５０mm角のシートを得、
供試試料とした。このシートは、透明性に優れ、ゴム弾
性特性を示した。
【００８５】［実施例４８］ＰＴＦＥモールディングパ
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）２kgとＰＦ
Ａ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポンフ
ロロケミカル社製）８kgをヘンシェル型ミキサーで混合
し、混合粉体を平均厚み５mm、無加圧で３４０℃に加熱
後、酸素濃度０．５torrの窒素ガスの雰囲気下で電子線
を照射線量３００ｋＧｙ照射して（２０ｋＧｙ／回の電
子線照射線量で１５回照射）改質した。ビーム加熱によ
る照射温度が３６０℃以下になるように照射と冷却時間
（非照射時間）を制御した。この改質処理品をエアージ
ェットミルで粉砕して平均粒径が５μｍの改質粉体を得
た。この改質粉体６０ｇとＰＦＡ粉末（商品名：テフロ
ンＭＰ１０、三井・デュポンフロロケミカル社製）４０
ｇをジューサー型ミキサーで混合して静電塗装用粉体原
料を得、これを静電塗装した食品工業向け炊飯用容器を
得た。この炊飯用容器は、従来のＰＦＡ塗装製品に比べ
て優れた耐久性を有していた。
ウダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）２kgとＰＦ
Ａ粉末（商品名：テフロンＭＰ１０、三井・デュポンフ
ロロケミカル社製）８kgをヘンシェル型ミキサーで混合
し、混合粉体を平均厚み５mm、無加圧で３４０℃に加熱
後、酸素濃度０．５torrの窒素ガスの雰囲気下で電子線
を照射線量３００ｋＧｙ照射して（２０ｋＧｙ／回の電
子線照射線量で１５回照射）改質した。ビーム加熱によ
る照射温度が３６０℃以下になるように照射と冷却時間
（非照射時間）を制御した。この改質処理品をエアージ
ェットミルで粉砕して平均粒径が５μｍの改質粉体を得
た。この改質粉体６０ｇとＰＦＡ粉末（商品名：テフロ
ンＭＰ１０、三井・デュポンフロロケミカル社製）４０
ｇをジューサー型ミキサーで混合して静電塗装用粉体原
料を得、これを静電塗装した食品工業向け炊飯用容器を
得た。この炊飯用容器は、従来のＰＦＡ塗装製品に比べ
て優れた耐久性を有していた。
【００８６】［実施例４９］実施例４８で得た平均粒径
が５μｍの改質粉体４００ｇとＰＦＡ（商品名：３４０
Ｊ）６００ｇを２軸スクリュウ押出機で溶融混練してペ
レットを得、このペレットを原料にして１０mmＴダイ押
出機により厚み６０μｍ、幅２０cmのフィルムを押出
し、同時にフィルム表面をＰＡＩ（ポリアミドイミド）
プライマー処理したアルミ合金シートとのラミネート板
を得、このラミネート板を圧延加工して内面がＰＦＡ面
になる縦１０cm、横６cm、深さ２cmの容器形状製品を得
た。この容器の非粘着性は従来のＰＦＡラミネート板使
用製品と同等であったが、耐摩耗性は１０００倍であっ
た。また、フィルム自体は透明性が高く、非球晶体であ
って、表面平滑性に優れており、異物付着対策に効果的
であった。
が５μｍの改質粉体４００ｇとＰＦＡ（商品名：３４０
Ｊ）６００ｇを２軸スクリュウ押出機で溶融混練してペ
レットを得、このペレットを原料にして１０mmＴダイ押
出機により厚み６０μｍ、幅２０cmのフィルムを押出
し、同時にフィルム表面をＰＡＩ（ポリアミドイミド）
プライマー処理したアルミ合金シートとのラミネート板
を得、このラミネート板を圧延加工して内面がＰＦＡ面
になる縦１０cm、横６cm、深さ２cmの容器形状製品を得
た。この容器の非粘着性は従来のＰＦＡラミネート板使
用製品と同等であったが、耐摩耗性は１０００倍であっ
た。また、フィルム自体は透明性が高く、非球晶体であ
って、表面平滑性に優れており、異物付着対策に効果的
であった。
【００８７】［実施例５０］実施例４８で得た平均粒径
が５μｍの改質粉体２００ｇとＰＦＡ（商品名：ＡＰ２
０１）８００ｇを混合し、混合物を原料にして１０mm２
軸スクリュー押出機を用いて１００μｍ口径マルチダイ
から繊維状モノフィラメントを押出し、１０〜３０倍引
落しをかけ、平均径１０μｍの繊維を得た。この繊維を
用い、１mm厚の不織布軸受け及び１μｍ開孔径の濾布を
得た。不織布軸受けのジャーナル型軸受けに採用したと
ころ、従来のＰＴＦＥ充填剤入り品と遜色ない耐摩耗性
を示し、且つ非充填系であることから、半導体、医薬プ
ラント、食品工業においてはクリーン性が評価されてい
る。
が５μｍの改質粉体２００ｇとＰＦＡ（商品名：ＡＰ２
０１）８００ｇを混合し、混合物を原料にして１０mm２
軸スクリュー押出機を用いて１００μｍ口径マルチダイ
から繊維状モノフィラメントを押出し、１０〜３０倍引
落しをかけ、平均径１０μｍの繊維を得た。この繊維を
用い、１mm厚の不織布軸受け及び１μｍ開孔径の濾布を
得た。不織布軸受けのジャーナル型軸受けに採用したと
ころ、従来のＰＴＦＥ充填剤入り品と遜色ない耐摩耗性
を示し、且つ非充填系であることから、半導体、医薬プ
ラント、食品工業においてはクリーン性が評価されてい
る。
【００８８】［実施例５１］実施例４８で得た平均粒径
が５μｍの改質粉体４kgとＰＴＦＥモールディングパウ
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）１kgを高速混
合型ヘンシェルにより均一に混合し、混合物を用いて高
さ２０cm、径２０cmのビレットを予備成形金型で加圧成
形した（成形圧０．５ＭＰａ）。予備成形品を無負荷で
３４０〜３６０℃で２時間加熱して焼成し、その後圧力
０．５ＭＰａで加圧し状態で冷却し、ＰＴＦＥ切削用旋
盤を用いて１００μｍから５mm厚さの製品を得た。
が５μｍの改質粉体４kgとＰＴＦＥモールディングパウ
ダー（商品名：Ｇ−１６３、旭硝子社製）１kgを高速混
合型ヘンシェルにより均一に混合し、混合物を用いて高
さ２０cm、径２０cmのビレットを予備成形金型で加圧成
形した（成形圧０．５ＭＰａ）。予備成形品を無負荷で
３４０〜３６０℃で２時間加熱して焼成し、その後圧力
０．５ＭＰａで加圧し状態で冷却し、ＰＴＦＥ切削用旋
盤を用いて１００μｍから５mm厚さの製品を得た。
【００８９】［実施例５２］ＰＴＦＥ産業廃棄物（切削
屑、工場廃材等ロス品、使用済み製品はモールディング
パウダー、ファインパウダー、ディスパージョン等を原
料としたもの、形状はバルク、テープ、ヤーン、繊維等
のいずれでもよく、異物混入を除けば１００％ＰＴＦ
Ｅ）とＰＦＡ産業廃棄物（半導体容器、チューブ等で、
異物を除き１００％ＰＦＡ）を、必要に応じ洗浄等で異
物を除去し、エアージェットミルで粉砕して平均粒径約
１００μｍの粉体を得た。この粉体ＰＴＦＥ８００ｇと
粉体ＰＦＡ２００ｇをヘンシェルミキサーで混合し、こ
の混合物を３４０℃に加熱後、酸素濃度０．５torrの窒
素ガスの雰囲気下で電子線を照射線量２０００ｋＧｙ照
射して（５０ｋＧｙ／回の電子線照射線量で４０回照
射）改質した。この改質処理品をエアージェットミルで
粉砕して平均粒径が１０μｍの改質粉体を得た。平均粒
径が１０μｍの改質粉体が得られるので、従来のＰＴＦ
Ｅルブリカントの代品としての広範囲の用途（プラスチ
ック、ゴム、塗料、インク、グリース、オイル、メッキ
等）に適用できることが確認された。なお、１０μｍ以
下サブミクロン粒子系については塗料液状体、オイル等
の湿式粉砕で実現できることが確認できた。
屑、工場廃材等ロス品、使用済み製品はモールディング
パウダー、ファインパウダー、ディスパージョン等を原
料としたもの、形状はバルク、テープ、ヤーン、繊維等
のいずれでもよく、異物混入を除けば１００％ＰＴＦ
Ｅ）とＰＦＡ産業廃棄物（半導体容器、チューブ等で、
異物を除き１００％ＰＦＡ）を、必要に応じ洗浄等で異
物を除去し、エアージェットミルで粉砕して平均粒径約
１００μｍの粉体を得た。この粉体ＰＴＦＥ８００ｇと
粉体ＰＦＡ２００ｇをヘンシェルミキサーで混合し、こ
の混合物を３４０℃に加熱後、酸素濃度０．５torrの窒
素ガスの雰囲気下で電子線を照射線量２０００ｋＧｙ照
射して（５０ｋＧｙ／回の電子線照射線量で４０回照
射）改質した。この改質処理品をエアージェットミルで
粉砕して平均粒径が１０μｍの改質粉体を得た。平均粒
径が１０μｍの改質粉体が得られるので、従来のＰＴＦ
Ｅルブリカントの代品としての広範囲の用途（プラスチ
ック、ゴム、塗料、インク、グリース、オイル、メッキ
等）に適用できることが確認された。なお、１０μｍ以
下サブミクロン粒子系については塗料液状体、オイル等
の湿式粉砕で実現できることが確認できた。
【００９０】［実施例５３］実施例５２と同様にして得
た平均粒径約１００μｍのＰＴＦＥ粉体８００ｇとＰＦ
Ａ粉体２００ｇの混合物を、３４０℃に加熱し、酸素が
存在する雰囲気で電子線を１０ｋＧｙ照射し、続いて、
３４０℃に加熱した状態で酸素濃度０．５torrの窒素ガ
スの雰囲気下で電子線を照射線量１００ｋＧｙ照射して
（５０ｋＧｙ／回の電子線照射線量で２回照射）改質し
た。この改質処理品をエアージェットミルで粉砕して平
均粒径が１０μｍの改質粉体を得た。予め低分子量にし
ておいて比較的低線量、短時間の電子線照射による改質
ふっ素樹脂製品を低コストで得られることが確認でき
た。
た平均粒径約１００μｍのＰＴＦＥ粉体８００ｇとＰＦ
Ａ粉体２００ｇの混合物を、３４０℃に加熱し、酸素が
存在する雰囲気で電子線を１０ｋＧｙ照射し、続いて、
３４０℃に加熱した状態で酸素濃度０．５torrの窒素ガ
スの雰囲気下で電子線を照射線量１００ｋＧｙ照射して
（５０ｋＧｙ／回の電子線照射線量で２回照射）改質し
た。この改質処理品をエアージェットミルで粉砕して平
均粒径が１０μｍの改質粉体を得た。予め低分子量にし
ておいて比較的低線量、短時間の電子線照射による改質
ふっ素樹脂製品を低コストで得られることが確認でき
た。
【００９１】［実施例５４］実施例５２と同様にして得
た平均粒径約１００μｍのＰＴＦＥ粉体８００ｇとＰＦ
Ａ粉体２００ｇの混合物を、３４０℃に加熱し、酸素が
存在する雰囲気で電子線を１０ｋＧｙ照射し、続いて、
３４０℃に加熱加熱後、酸素濃度０．５torrの窒素ガス
の雰囲気下で電子線を照射線量２０００ｋＧｙ照射し
（５０ｋＧｙ／回の電子線照射線量で４０回照射）、続
いて１０００ｋＧｙ照射し（５０ｋＧｙ／回の電子線照
射線量で２０回照射）、合計３０００ｋＧｙ照射した。
なお、第一回目の照射では、部分的には材料温度が３８
０℃を越えるときがあり、第二回目の照射では材料温度
が３６０℃以下になるように、冷却期間を制御した。こ
れによって、高線量照射を経済的に行えることが確認さ
れた。得られた改質ふっ素樹脂はＤＳＣの観察では観察
では結晶融点の存在が確認できなかった。また、この改
質品はエアージェットミルの超微粉化を試みた結果、特
定条件では１μｍレベルに迫る超微粒子化が確認でき、
更に液体（含むオイル）中の超微細化はナノミクロン粒
子も得られることがわかった。この事実はインク、オイ
ルへの添加はもとより、ナノテクノロジー分野に応用さ
れ得ることが確認できた。
た平均粒径約１００μｍのＰＴＦＥ粉体８００ｇとＰＦ
Ａ粉体２００ｇの混合物を、３４０℃に加熱し、酸素が
存在する雰囲気で電子線を１０ｋＧｙ照射し、続いて、
３４０℃に加熱加熱後、酸素濃度０．５torrの窒素ガス
の雰囲気下で電子線を照射線量２０００ｋＧｙ照射し
（５０ｋＧｙ／回の電子線照射線量で４０回照射）、続
いて１０００ｋＧｙ照射し（５０ｋＧｙ／回の電子線照
射線量で２０回照射）、合計３０００ｋＧｙ照射した。
なお、第一回目の照射では、部分的には材料温度が３８
０℃を越えるときがあり、第二回目の照射では材料温度
が３６０℃以下になるように、冷却期間を制御した。こ
れによって、高線量照射を経済的に行えることが確認さ
れた。得られた改質ふっ素樹脂はＤＳＣの観察では観察
では結晶融点の存在が確認できなかった。また、この改
質品はエアージェットミルの超微粉化を試みた結果、特
定条件では１μｍレベルに迫る超微粒子化が確認でき、
更に液体（含むオイル）中の超微細化はナノミクロン粒
子も得られることがわかった。この事実はインク、オイ
ルへの添加はもとより、ナノテクノロジー分野に応用さ
れ得ることが確認できた。
【００９２】
【発明の効果】以上説明してきた本発明によれば、優れ
た機械的耐性を有し、しかも、広い分野において利用で
きる改質ふっ素樹脂、改質ふっ素樹脂組成物及び改質ふ
っ素樹脂成形体を実現することが可能となり、ふっ素樹
脂の応用範囲を広げる上で大きく貢献するものである。
た機械的耐性を有し、しかも、広い分野において利用で
きる改質ふっ素樹脂、改質ふっ素樹脂組成物及び改質ふ
っ素樹脂成形体を実現することが可能となり、ふっ素樹
脂の応用範囲を広げる上で大きく貢献するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西 甫 茨城県日立市日高町５丁目１番１号 日立 電線株式会社パワーシステム研究所内 Ｆターム(参考） 4F073 AA05 AA32 BA15 BA16 BB02 CA41 CA42 DA01 HA04 HA05 HA11
Claims (18)
- 【請求項１】結晶融点が比較的近いふっ素樹脂を２種類
以上共存させ、酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰
囲気下で、且つ２種類以上のふっ素樹脂のうち結晶融点
が最も高いふっ素樹脂の結晶融点以上の温度下で、電離
性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照
射してなることを特徴とする改質ふっ素樹脂。 - 【請求項２】ポリテトラフルオロエチレンとテトラフル
オロエチレン−パーフルオロ（アルキルビニルエーテ
ル）系共重合体の２種類のふっ素樹脂を共存させ、ポリ
テトラフルオロエチレンの結晶融点以上の温度下で、電
離性放射線を照射してなる請求項１記載の改質ふっ素樹
脂。 - 【請求項３】３３０℃〜３８０℃、好ましくは３３５℃
〜３５０℃の温度下で電離性放射線を照射してなる請求
項２記載の改質ふっ素樹脂。 - 【請求項４】テトラフルオロエチレン−パーフルオロ
（アルキルビニルエーテル）系共重合体とテトラフルオ
ロエチレン−ヘキサフルオロエチレン系共重合体の２種
類のふっ素樹脂を共存させ、テトラフルオロエチレン−
パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）系共重合体の
結晶融点以上の温度下で、電離性放射線を照射してなる
請求項１記載の改質ふっ素樹脂。 - 【請求項５】３１０℃〜３６０℃、好ましくは３１５℃
〜３３０℃の温度下で電離性放射線を照射してなる請求
項４記載の改質ふっ素樹脂。 - 【請求項６】テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
エチレン系共重合体とエチレン−テトラフルオロエチレ
ン共重合体、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共
重合体、ポリふっ化ビニリデンから選ばれる少なくとも
１種を共存させ、テトラフルオロエチレン−ヘキサフル
オロエチレン系共重合体の結晶融点以上の温度下で、電
離性放射線を照射してなる請求項１記載の改質ふっ素樹
脂。 - 【請求項７】２８０℃〜３３０℃、好ましくは２８５℃
〜３１０℃の温度下で電離性放射線を照射してなる請求
項６記載の改質ふっ素樹脂。 - 【請求項８】請求項１記載の改質ふっ素樹脂と未改質高
分子材料を含有する改質ふっ素樹脂組成物。 - 【請求項９】未改質高分子材料は、ポリテトラフルオロ
エチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ（ア
ルキルビニルエーテル）系共重合体、テトラフルオロエ
チレン−ヘキサフルオロエチレン系共重合体、ふっ化ビ
ニリデン、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合
体、ポリふっ化ビニリデン、エチレン−クロロトリフル
オロエチレン共重合体、ポリクロロフルオロエチレン、
テトラフルオロエチレン−パーフルオロジイオキサソー
ル共重合体、ポリふっ化ビニル、ふっ化ビニリデン−ヘ
キサフルオロプロペン系共重合体、プロピレン−テトラ
フルオロエチレン系共重合体、ふっ化ビニリデン−パー
フルオロメチルビニルエーテル−テトラフルオロエチレ
ン系共重合体、フルオロホスファゼン系ゴム、ポリイミ
ド、芳香族ポリアミド、ポリアリーレンスルフィド及び
芳香族ポリエステルから選ばれる少なくとも１種である
請求項８記載の改質ふっ素樹脂組成物。 - 【請求項１０】ふっ素樹脂とふっ素ゴムとを共存させ、
酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気下で、且つ
ふっ素樹脂の結晶融点以上の温度下で、電離性放射線を
照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照射してなる
ことを特徴とする改質ふっ素樹脂組成物。 - 【請求項１１】ふっ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチ
レン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ（アルキ
ルビニルエーテル）系共重合体、テトラフルオロエチレ
ン−ヘキサフルオロエチレン系共重合体から選ばれる少
なくとも１種であり、ふっ素ゴムは、ふっ化ビニリデン
−ヘキサフルオロプロペン系共重合体、プロピレン−テ
トラフルオロエチレン系共重合体、ふっ化ビニリデン−
パーフルオロメチルビニルエーテル−テトラフルオロエ
チレン系共重合体、フルオロホスファゼン系ゴムから選
ばれる少なくとも１種である請求項１０記載の改質ふっ
素樹脂組成物。 - 【請求項１２】ふっ素樹脂と当該ふっ素樹脂を改質する
ときの電離性放射線照射条件下で機械的耐性を保持可能
な耐熱高分子材料を共存させ、酸素濃度１００torr以下
の不活性ガス雰囲気下で、ふっ素樹脂の結晶融点以上の
温度下で、電離性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０Ｍ
Ｇｙの範囲で照射してなることを特徴とする改質ふっ素
樹脂組成物。 - 【請求項１３】ふっ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチ
レン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ（アルキ
ルビニルエーテル）系共重合体、テトラフルオロエチレ
ン−ヘキサフルオロエチレン系共重合体から選ばれる少
なくとも１種であり、耐熱高分子材料は、ポリイミド、
芳香族ポリアミド、ポリアリレンスルフィド及び芳香族
ポリエステルから選ばれる少なくとも１種である請求項
１２記載の改質ふっ素樹脂組成物。 - 【請求項１４】結晶融点が比較的近いふっ素樹脂が２種
類以上共存する混合物を所定形状に成形し、当該成形体
に酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気下で、且
つ２種類以上のふっ素樹脂のうち結晶融点が最も高いふ
っ素樹脂の結晶融点以上の温度下で、電離性放射線を照
射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照射してなるこ
とを特徴とする改質ふっ素樹脂成形体。 - 【請求項１５】結晶融点が比較的近いふっ素樹脂が２種
類以上共存する混合物に、酸素濃度１００torr以下の不
活性ガス雰囲気下で、且つ２種類以上のふっ素樹脂のう
ち結晶融点が最も高いふっ素樹脂の結晶融点以上の温度
下で、電離性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙ
の範囲で照射し、照射後の混合物を粉砕した粉体を所定
形状に成形してなることを特徴とする改質ふっ素樹脂成
形体。 - 【請求項１６】結晶融点が比較的近いふっ素樹脂が２種
類以上共存する混合物に、酸素濃度１００torr以下の不
活性ガス雰囲気下で、且つ２種類以上のふっ素樹脂のう
ち結晶融点が最も高いふっ素樹脂の結晶融点以上の温度
下で、電離性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙ
の範囲で照射し、照射後の混合物を粉砕した粉体と未改
質の高分子材料を含有する改質ふっ素樹脂組成物を所定
形状に成形してなることを特徴とする改質ふっ素樹脂成
形体。 - 【請求項１７】ふっ素樹脂とふっ素ゴムが共存する混合
物を所定形状に成形し、当該成形体に酸素濃度１００to
rr以下の不活性ガス雰囲気下で、且つふっ素樹脂の結晶
融点以上の温度下で、電離性放射線を照射線量１０ｋＧ
ｙ〜１０ＭＧｙの範囲で照射してなることを特徴とする
改質ふっ素樹脂成形体。 - 【請求項１８】ふっ素樹脂と当該ふっ素樹脂を改質する
ときの電離性放射線照射条件下で機械的特性を保持可能
な耐熱高分子材料が共存する混合物を所定形状に成形
し、当該成形体に酸素濃度１００torr以下の不活性ガス
雰囲気下で、且つふっ素樹脂の結晶融点以上の温度下
で、電離性放射線を照射線量１０ｋＧｙ〜１０ＭＧｙの
範囲で照射してなることを特徴とする改質ふっ素樹脂成
形体。
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