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JP2000268408A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

Info

Publication number
JP2000268408A
JP2000268408A JP11076140A JP7614099A JP2000268408A JP 2000268408 A JP2000268408 A JP 2000268408A JP 11076140 A JP11076140 A JP 11076140A JP 7614099 A JP7614099 A JP 7614099A JP 2000268408 A JP2000268408 A JP 2000268408A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
optical recording
recording medium
film
dielectric layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11076140A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Watanabe
利幸 渡辺
Takeshi Maro
毅 麿
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Maxell Ltd filed Critical Hitachi Maxell Ltd
Priority to JP11076140A priority Critical patent/JP2000268408A/en
Publication of JP2000268408A publication Critical patent/JP2000268408A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a dense diamond-like carbon film and to obtain an optical recording medium excellent in durability by forming at least one dielectric layer and using a transparent electrically conductive layer for the top dielectric layer. SOLUTION: The optical recording medium contains at least one dielectric layer and a transparent electrically conductive layer is used for the top dielectric layer. Since the transparent electrically conductive layer having a prescribed refractive index is used, DC negative bias can be applied and a DLC film excellent in durability can be formed. This method is particularly effective in the case of <=80 Å film thickness of DLC. Thus, the electrification of the disk is prevented and the sticking of dust due to static electricity is suppressed. The growth of carbon atoms on the surface of a substrate is facilitated and a dense DLC film is obtained. The transparent electrically conductive film comprises In2O3, In2O3-SnO2, SnO2 or ZnO2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、記録層側からレー
ザ光を照射して記録再生を行う光記録媒体に係わり、特
に光記録媒体の耐久性の向上に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium on which recording and reproduction are performed by irradiating a laser beam from the recording layer side, and more particularly to improvement of durability of the optical recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、マルチメディア化に対応して、大
量データを高密度で記録し、かつ迅速に記録再生する光
記録装置が注目されている。光記録装置の記録サイズ
は、光学系が記録メディア上に形成するスポットサイズ
で決定される。このスポットサイズは、レーザー光の波
長をλ、レンズの開口数をNAとすると、λ/NA程度で表
される。より高密度な記録再生を行うためには、より小
さいレーザー光のスポットサイズが必要となる。光スポ
ットを小さくするするためには、上式よりレーザー光波
長(λ)を小さくする、またはレンズの開口数(NA)を大き
くするという、2通りの方法が考えられる。現在用いら
れている光ディスク用半導体レーザーの波長は主に680
〜780nmである。さらに短波長の650nmの橙色レーザーに
ついては試作的に用いられ始めたところで、この橙色レ
ーザーより短波長の緑、青色レーザーについては未だ開
発途上であり、レーザー光波長を小さくすることで飛躍
的にスポットサイズを小さくすることは、かなりの困難
を伴う。
2. Description of the Related Art In recent years, an optical recording apparatus which records a large amount of data at a high density and rapidly records / reproduces the data in response to multimedia has been receiving attention. The recording size of the optical recording device is determined by the spot size formed on the recording medium by the optical system. This spot size is represented by about λ / NA, where λ is the wavelength of the laser beam and NA is the numerical aperture of the lens. In order to perform higher-density recording and reproduction, a smaller spot size of laser light is required. In order to reduce the light spot, two methods can be considered, such as reducing the laser light wavelength (λ) or increasing the numerical aperture (NA) of the lens from the above formula. Currently, the wavelength of semiconductor lasers for optical discs is mainly 680
780 nm. Furthermore, the short-wavelength 650 nm orange laser has just begun to be used as a prototype, and the green and blue lasers, which have shorter wavelengths than this orange laser, are still under development. Reducing the size involves considerable difficulty.

【0003】一方、レンズの開口数(NA)は、レンズの絞
り半角をθとするとNA=sinθとあらわされ、1より小さ
い値となる。現状使用しているレンズのNAが0.5程度で
あることから、理論上限界に近いNAである0.9として
も、レーザー光スポットサイズは1/1.8にしか小さくな
らない。実際には、NAを大きくすると球面収差の影響で
レンズ系の焦点深度が浅くなり、記録面上で焦点を維持
するための制御系が複雑になることから、NAをむやみに
大きくすることはできず、通常の光記録装置ではNAとし
ては最大0.6程度のレンズが用いられている。
On the other hand, the numerical aperture (NA) of a lens is expressed as NA = sin θ, where θ is a half angle of the aperture of the lens, and is a value smaller than 1. Since the NA of the lens currently used is about 0.5, even if the NA is 0.9, which is theoretically close to the limit, the laser beam spot size is reduced to only 1 / 1.8. Actually, when the NA is increased, the depth of focus of the lens system becomes shallow due to the influence of spherical aberration, and the control system for maintaining the focus on the recording surface becomes complicated, so the NA can not be increased unnecessarily. Instead, a normal optical recording apparatus uses a lens having a maximum NA of about 0.6.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】さらに最近の光記録装
置の記録密度を制約する回折限界の問題を解決する一手
法として、イマージョンレンズを使用して実効的にレン
ズのNAを上げる方法が提案されている。図1にージョン
レンズの一例を示す。半球状のイマージョンレンズ3を
用いレーザー光1を対物レンズ2表面に対し垂直に入射さ
せた場合、開口数NAはイマージョンレンズの屈折率をn
とするとn×NAとなる。さらに超半球イマージョンレン
ズを用いレーザービームを超半球レンズの底面で焦点を
結ばせた場合にはn2×NAとなる。イマージョンレンズを
ガラスで作成した場合、ガラスの屈折率は約1.8程度で
あることから、半球イマージョンレンズを用いたときで
スポットサイズは1/1.8に、また超半球イマージョンレ
ンズでは1/3.2に小さくできる。ただし、この技術で
は、記録再生にイマージョンレンズから滲み出る近接場
(near field)光を用いるため、イマージョンレンズと記
録膜4との隙間をレーザー波長の1/4程度にする必要があ
る。この値は、波長680nmの赤色レーザーを用いた場
合、170nmとなり、通常の光記憶装置の光ヘッドと光記
録媒体間の間隔数mmに比べはるかに小さい。そのため、
近接場光を用いる場合には、通常の光記憶装置のように
透明基板を通しての記録再生は不可能で、記録膜側から
レーザー光を入射させる必要がある。
As a method for solving the problem of the diffraction limit which restricts the recording density of a recent optical recording apparatus, there has been proposed a method of effectively increasing the NA of the lens by using an immersion lens. ing. FIG. 1 shows an example of a vision lens. When the laser beam 1 is perpendicularly incident on the surface of the objective lens 2 using the hemispherical immersion lens 3, the numerical aperture NA indicates the refractive index of the immersion lens as n.
Then, n × NA is obtained. Further, when the laser beam is focused on the bottom surface of the super-hemispherical lens using the super-hemispherical immersion lens, n2 × NA is obtained. When the immersion lens is made of glass, the refractive index of the glass is about 1.8, so the spot size can be reduced to 1 / 1.8 when using a hemispherical immersion lens and 1 / 3.2 when using a super hemispherical immersion lens. . However, in this technology, the near-field oozing from the immersion lens
Since (near field) light is used, the gap between the immersion lens and the recording film 4 needs to be set to about 1/4 of the laser wavelength. This value is 170 nm when a red laser having a wavelength of 680 nm is used, which is much smaller than the distance of several mm between the optical head and the optical recording medium of a normal optical storage device. for that reason,
When near-field light is used, recording / reproducing through a transparent substrate is impossible as in an ordinary optical storage device, and it is necessary to make laser light incident from the recording film side.

【0005】また、イマージョンレンズ等の光学系は、
図2に示すような固定型磁気ディスクで用いられている
のと似た空力学的に保持されるエアーサスペンション浮
上型のスライダー12に組み込んで用いることが提案さ
れている。この場合の媒体構造は、図3に示すように、
通常の透明基板を通して光記録再生を行う場合と逆にな
り、基板25上に反射層24、記録層23、誘電体層2
2、保護膜層21の順に積層した構造となる。また前述
したようにイマージョンレンズを用いて記録再生する場
合には、イマージョンレンズから滲み出る近接場光を記
録再生に用いるため、イマージョンレンズと記録層との
間隔を僅かにしなければいけない。少なくとも170nm以
下は必要である。
Further, an optical system such as an immersion lens
It has been proposed to incorporate and use in an aerodynamically held air suspension flying type slider 12 similar to that used in a fixed magnetic disk as shown in FIG. The medium structure in this case is as shown in FIG.
The reverse of the case where optical recording / reproduction is performed through a normal transparent substrate is performed, and the reflection layer 24, the recording layer 23, and the dielectric layer 2 are formed on the substrate 25.
2, a structure in which the protective film layer 21 is laminated in this order. Further, as described above, when recording and reproducing using an immersion lens, near-field light oozing from the immersion lens is used for recording and reproducing. Therefore, the distance between the immersion lens and the recording layer must be small. At least 170 nm or less is required.

【0006】このように、イマージョンレンズと記録層
との間隔が僅かで、イマージョンレンズを浮上型のスラ
イダーに組み込んで、記録再生を行うとなると、走行時
に記録層との接触を生じることになるから、記録層上に
保護膜を設けることが必要となる。但し、保護膜を厚く
するとスペーシングロスが大きくなり、イマージョンレ
ンズを使用した光記録再生方式に適合しない。
[0006] As described above, the distance between the immersion lens and the recording layer is small, and if the immersion lens is incorporated in a floating slider to perform recording and reproduction, contact with the recording layer occurs during traveling. In addition, it is necessary to provide a protective film on the recording layer. However, if the thickness of the protective film is increased, the spacing loss increases, which is not suitable for an optical recording / reproducing method using an immersion lens.

【0007】よって記録層上に設ける保護膜層として
は、高硬度でかつ薄膜化でき高い耐久性を有する、ダイ
ヤモンド・ライク・カーボン(以下DLCと略す)を使
用する。
Therefore, as a protective film layer provided on the recording layer, diamond-like carbon (hereinafter abbreviated as DLC) having high hardness, being thin and having high durability is used.

【0008】緻密なDLC膜を成膜する為には、基板に
DC負バイアスを印加する事が一般的である。しかし従
来の光記録媒体で用いられてきた、SiNx、SiOx、等の誘
電体層は、絶縁体であり、それを妨げ、十分な強度を有
するDLCの成膜が困難である。
In order to form a dense DLC film, it is common to apply a DC negative bias to the substrate. However, a dielectric layer such as SiNx, SiOx, etc., which has been used in a conventional optical recording medium, is an insulator, hinders it, and it is difficult to form a DLC film having sufficient strength.

【0009】本発明は、上記従来技術の欠点を解決する
ためのものであり、その目的は、基板にDC負バイアス
を印加して、緻密なDLC膜等の成膜を可能とし、耐久
性に優れる光記録媒体を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and an object of the present invention is to apply a DC negative bias to a substrate so that a dense DLC film or the like can be formed, thereby improving durability. It is to provide an excellent optical recording medium.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、基板上に反射層、記録層、保護層を順
に設け、記録層側から記録再生を行う光記録媒体におい
て、記録媒体は少なくとも一層の誘電体層を含み、最上
層の誘電体層に透明導電層を用いることにより、緻密な
DLC膜等の成膜が可能となり、耐久性に優れる光記録
媒体を提供するができる。
In order to achieve the above object, according to the present invention, a reflective layer, a recording layer, and a protective layer are sequentially provided on a substrate, and an optical recording medium for performing recording and reproduction from the recording layer side is provided. The medium includes at least one dielectric layer, and by using a transparent conductive layer as the uppermost dielectric layer, a dense DLC film or the like can be formed, and an optical recording medium with excellent durability can be provided. .

【0011】最上層の誘電体層には、透明導電膜を用い
る。従来用いられてきた、透明絶縁体膜であるSiNx、 S
iOxにおいては、成膜時の膜の帯電により、基板へのDC
負バイアスの印加を妨げたが、同等の屈折率を有する透
明導電膜を用いる事により、DC負バイアス印加が可能と
なり、耐久性に優れたDLC膜を作成できる。特にDLC
の膜厚が、80Å以下の場合に有効である。
A transparent conductive film is used for the uppermost dielectric layer. Conventionally used transparent insulator films such as SiNx and S
In iOx, DC charge on the substrate is
Although the application of a negative bias was prevented, a DC negative bias can be applied by using a transparent conductive film having an equivalent refractive index, and a DLC film having excellent durability can be produced. Especially DLC
Is effective when the film thickness is 80 ° or less.

【0012】上層の誘電体層に透明導電膜を用いる事に
より、ディスクの帯電を防ぎ、静電気による塵埃の付着
を低減できる。また、DC負バイアス印加を可能にし、
基板表面での炭素原子の成長を容易にし、緻密なDLC
膜を得る事ができる。
By using a transparent conductive film for the upper dielectric layer, charging of the disk can be prevented, and adhesion of dust due to static electricity can be reduced. Also, DC negative bias can be applied,
DLC facilitates the growth of carbon atoms on the substrate surface
A film can be obtained.

【0013】透明導電膜としては、In2O3、In2O3-Sn
O2、SnO2、ZnO2を用いる。誘電体層として単独で用いら
れる形態の他にも、従来のSiNx、 SiOx膜の誘電体層の
上層に、これらの透明導電膜を用いる構造でも大きな効
果が得られる。透明導伝膜の定義は、抵抗率で表され、
その値は、1000μΩcm以下である。また光吸収係
数に関しては、0.1以下である事が好ましい。
As the transparent conductive film, In 2 O 3 , In 2 O 3 -Sn
O 2 , SnO 2 , and ZnO 2 are used. A great effect can be obtained by a structure using these transparent conductive films on the dielectric layer of the conventional SiNx or SiOx film, in addition to the form used alone as the dielectric layer. The definition of transparent conductive film is expressed by resistivity,
Its value is 1000 μΩcm or less. The light absorption coefficient is preferably 0.1 or less.

【0014】本発明での層構成の代表例は、基板/反射
層/記録層/透明誘電体層/DLC保護膜である。反射層
としては、AlもしくはAl合金(AlTi、AlCr、AlTa、AlN
d、AlNb、AlCu、AlAg、AlAu等)、この他に、Cu、Ag、A
u、もしくはこれらの合金を用いることができる。記録
層としては、光磁気記録方式では、TbFeCo、DyFeCo、Gd
FeCoとTbFeCoの2層膜、その他磁気超解像構成膜等、相
変化方式ではGeSbTe,InAgSn等が,Write Once方式で
は、色素もしくはGeSbTe、TePbSe、AuSn等を用いること
ができる。基板と、反射層との間には、SiOx、SiNx、Al
Nx、TaOxなどのセラミック層もしくはNiP,NiB,CoZr,CoM
o,AlTi,AlTa,AlCr等の金属アモルファスを耐食性向上の
ため形成しても良い。また、このセラミック層もしくは
金属アモルファス層と反射層および基板との密着力を上
げるため、これらの層と反射層および/もしくは基板と
の間にさらにTi,Ta,Cr,Mo,V,Nb等の層を形成してもよ
い。本特許において、対象とする基板は、樹脂、ガラ
ス、セラミック、金属基板等である。レーザー光は基板
を通過しないため、透明な材料である必要は無い。樹脂
基板用の樹脂としては、ポリカーボネイト、ポリメタア
クリル酸(PMMA)、ノルボルネン系アモルファス樹脂、エ
ポキシ樹脂、ナイロン、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
イミドアミド、ポリエチレン、ポリスチレンなどがあ
る。セラミック基板としては、Si基板、結晶化ガラス、
カーボンなどを含む。
A typical example of the layer constitution in the present invention is a substrate / reflection layer / recording layer / transparent dielectric layer / DLC protective film. As the reflective layer, Al or an Al alloy (AlTi, AlCr, AlTa, AlN
d, AlNb, AlCu, AlAg, AlAu, etc.), in addition, Cu, Ag, A
u or an alloy thereof can be used. As the recording layer, TbFeCo, DyFeCo, Gd
GeSbTe, InAgSn and the like can be used in the phase change method such as a two-layer film of FeCo and TbFeCo and other magnetic super-resolution constituent films, and a dye or GeSbTe, TePbSe, and AuSn can be used in the Write Once method. Between the substrate and the reflective layer, SiOx, SiNx, Al
Ceramic layer such as Nx, TaOx or NiP, NiB, CoZr, CoM
Metallic amorphous such as o, AlTi, AlTa, AlCr may be formed to improve corrosion resistance. In addition, in order to increase the adhesion between the ceramic layer or the metal amorphous layer and the reflection layer and / or the substrate, a Ti, Ta, Cr, Mo, V, Nb, etc. A layer may be formed. In this patent, the target substrate is a resin, glass, ceramic, metal substrate, or the like. Since the laser beam does not pass through the substrate, it does not need to be a transparent material. Examples of the resin for the resin substrate include polycarbonate, polymethacrylic acid (PMMA), a norbornene-based amorphous resin, an epoxy resin, nylon, polyimide, polyamide, polyimide amide, polyethylene, and polystyrene. As the ceramic substrate, Si substrate, crystallized glass,
Including carbon.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】(実施例1)以下に本発明の一実
施例について説明する。本実施例における光記録媒体の
構成は、ポリオレフィン系樹脂を原料としたディスク上
に、AlTi反射層、TbFeCo記録層、In2O3透明導電膜(誘
電体層)、DLC保護層が順次積層した。なお、各層の
厚さは、AlTi反射層(600Å)、TbFeCo記録層(250
Å)、透明導電膜ITO(800Å)、DLC保護層(80
Å)であった。
(Embodiment 1) An embodiment of the present invention will be described below. The configuration of the optical recording medium in this example is such that an AlTi reflective layer, a TbFeCo recording layer, an In 2 O 3 transparent conductive film (dielectric layer), and a DLC protective layer were sequentially laminated on a disk made of a polyolefin-based resin. . The thickness of each layer is as follows: the AlTi reflective layer (600 mm), the TbFeCo recording layer (250 mm).
Å), transparent conductive film ITO (800 Å), DLC protective layer (80
Å).

【0016】(実施例2)透明導電膜In2O3-SnO2を用い
た場合以外は、実施例1と同様にして光記録媒体を作製
した。
Example 2 An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the transparent conductive film In 2 O 3 —SnO 2 was used.

【0017】(実施例3)透明導電膜SnO2を用いた場合
以外は、実施例1と同様にして光記録媒体を作製した。
Example 3 An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the transparent conductive film SnO 2 was used.

【0018】(実施例4)透明導伝膜ZnO2を用いた場合
以外は、実施例1と同様にして光記録媒体を作製した。
Example 4 An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the transparent conductive film ZnO 2 was used.

【0019】(実施例5)TbFeCo記録層とIn2O3透明導
伝膜との間に、SiN(100Å)を有する構成で、それ以外
は、実施例1と同様にして光記録媒体を作製した。
Example 5 An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that SiN (100 °) was provided between the TbFeCo recording layer and the In 2 O 3 transparent conductive film. did.

【0020】(比較例1)誘電体層に透明絶縁体膜SiN
を用いた場合以外は、実施例1と同様にして光記録媒体
を作製した。
Comparative Example 1 A transparent insulator film SiN was used for the dielectric layer.
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except for using.

【0021】(比較例2)誘電体層に透明絶縁体膜SiOx
を用いた場合以外は、実施例1と同様にして光記録媒体
を作製した。
Comparative Example 2 A transparent insulator film SiOx was used for the dielectric layer.
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except for using.

【0022】実施例及び、比較例において、グライドヘ
ッドを用いた基板表面状態の評価について以下に示す。
一般に、ヘッドの浮上高さが低下し、基板と摺動を始め
る直前においては、ヘッドと基板表面間の空気膜が非常
に薄くなる。このため、緩衝効果が小さくヘッドは、テ
クスチャレベルの微細な基板表面形状からも影響を受
け、振動を誘起される。そこで、この振動を電気信号に
変換するピエゾ素子を載せたグライドヘッドを用い、そ
の信号を観察することにより基板の表面状態を評価し
た。
In the examples and comparative examples, evaluation of the surface state of the substrate using a glide head will be described below.
Generally, the air film between the head and the surface of the substrate becomes very thin immediately before the flying height of the head is reduced and sliding starts with the substrate. For this reason, the head has a small buffering effect and is affected by the fine substrate surface shape at the texture level, and vibration is induced. Then, the surface state of the substrate was evaluated by observing the signal using a glide head on which a piezo element for converting this vibration into an electric signal was mounted.

【0023】評価方法として図4に示す様な装置に、デ
ィスクを組込み測定を行なった。グライドヘッド36よ
り得られた信号は、アンプ35で増幅され、D/Aコンバ
ータ32を経てコンピュータ31に取り込まれ、電圧値
の変化として観測される。ヘッドの基板からの浮上量
が、約100nmとなる様に、回転数を制御し測定を行なっ
た。この際、検出したAE信号の電圧値が、1.5Vの
スライスレベル以上の場合についてカウントし、その個
数の集計を行なった。
As an evaluation method, a disk was set in an apparatus as shown in FIG. 4 and measurement was performed. The signal obtained from the glide head 36 is amplified by the amplifier 35, taken into the computer 31 via the D / A converter 32, and observed as a change in the voltage value. The number of revolutions was controlled and the measurement was performed so that the flying height of the head from the substrate was about 100 nm. At this time, the case where the voltage value of the detected AE signal was equal to or higher than the slice level of 1.5 V was counted, and the number was counted.

【0024】また、光学顕微鏡を用い、測定終了後の基
板表面について観察を行い、傷のレベルを判定した。表
1に結果を示す。
Further, the surface of the substrate after the completion of the measurement was observed using an optical microscope to determine the level of scratches. Table 1 shows the results.

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【0026】実施例の場合、明らかに信号をカウントし
た個数が少なく、緻密なDLC膜が基板上に構成されて
いる事が分かる。比較例においては、ディスク全面でカ
ウント数が多く、その差が顕著に見られた。また光学顕
微鏡の観察結果からも、比較例の場合、明らかに目視レ
ベルの傷が見られた。
In the case of the embodiment, it is clear that the number of signals counted is small and a dense DLC film is formed on the substrate. In the comparative example, the count number was large on the entire surface of the disk, and the difference was remarkable. Also, from the observation result of the optical microscope, in the case of the comparative example, a scratch at a visual level was clearly observed.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明によれば、膜面側からレーザ光を
照射して記録再生を行う光記録媒体において、高い耐久
性を得る事ができ、光学ヘッドの良好な走行特性と、安
定な高密度記録化が可能となる。
According to the present invention, high durability can be obtained in an optical recording medium in which recording and reproduction are performed by irradiating a laser beam from the film surface side. High-density recording becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】半球状イマージョンレンズの構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a hemispherical immersion lens.

【図2】スライダー模式図である。FIG. 2 is a schematic view of a slider.

【図3】光記録媒体の膜構成を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing a film configuration of an optical recording medium.

【図4】グライドヘッドを用いた評価機の模式図であ
る。
FIG. 4 is a schematic diagram of an evaluation machine using a glide head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザー光 2 対物レンズ 3 イマージョンレンズ 4 記録膜 11 固定型磁気ディスク 12 スライダー 13 イマージョンレンズ 14 対物レンズ 15 磁気コイル 21 保護膜層(DLC) 22 誘電体層 23 磁性層 24 反射層 25 基板 31 コンピューター 32 D/Aコンバーター 33 モーターコントロール 34 フィルター 35 アンプ 36 グライドヘッド 37 ディスク 38 エアースピンドルモーター 39 リニアーステージ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser beam 2 Objective lens 3 Immersion lens 4 Recording film 11 Fixed magnetic disk 12 Slider 13 Immersion lens 14 Objective lens 15 Magnetic coil 21 Protective film layer (DLC) 22 Dielectric layer 23 Magnetic layer 24 Reflective layer 25 Substrate 31 Computer 32 D / A converter 33 Motor control 34 Filter 35 Amplifier 36 Glide head 37 Disk 38 Air spindle motor 39 Linear stage

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に少なくとも反射層、記録層、保
護層を順に設け、記録層側から記録再生を行う光記録媒
体において、前記光記録媒体は少なくとも一層の誘電体
層を含み、最上層の誘電体層に透明導電層を用いること
を特徴とした光記録媒体。
1. An optical recording medium in which at least a reflective layer, a recording layer, and a protective layer are sequentially provided on a substrate, and recording and reproduction are performed from the recording layer side, the optical recording medium includes at least one dielectric layer, An optical recording medium characterized in that a transparent conductive layer is used for the dielectric layer.
【請求項2】 請求項1記載の透明導電層が、In2O3、I
n2O3-SnO2、SnO2、ZnO2の少なくとも一種からなる事を
特徴とする光記録媒体。
2. The transparent conductive layer according to claim 1, wherein In 2 O 3 , I 2
An optical recording medium comprising at least one of n 2 O 3 -SnO 2 , SnO 2 and ZnO 2 .
JP11076140A 1999-03-19 1999-03-19 Optical recording medium Withdrawn JP2000268408A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008111193A (en) * 2007-11-15 2008-05-15 Nikko Kinzoku Kk Optical information recording medium
WO2009038143A1 (en) * 2007-09-19 2009-03-26 Asahi Glass Company, Limited Conductive laminate

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