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JP2000260914A - Bonder for integrated circuit package element - Google Patents

Bonder for integrated circuit package element

Info

Publication number
JP2000260914A
JP2000260914A JP6017499A JP6017499A JP2000260914A JP 2000260914 A JP2000260914 A JP 2000260914A JP 6017499 A JP6017499 A JP 6017499A JP 6017499 A JP6017499 A JP 6017499A JP 2000260914 A JP2000260914 A JP 2000260914A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reinforcing plate
adhesive
stage
heat
bonding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP6017499A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hironori Ono
浩徳 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Engineering Ltd
Original Assignee
NEC Engineering Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Engineering Ltd filed Critical NEC Engineering Ltd
Priority to JP6017499A priority Critical patent/JP2000260914A/en
Publication of JP2000260914A publication Critical patent/JP2000260914A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure sufficient bonding strength while employing a quick thermosetting adhesive where thermosetting progresses in a several seconds when the reinforcing plate of TAB(tape automated bonding) tape and the heat dissipation plate of a semiconductor chip are bonded to manufacture a BGA(ball grid array) integrated circuit package. SOLUTION: The bonder 10 comprises a pasting stage 14 independently from a thermosetting stage 24 and a reinforcing plate 5 coated with a not yet set thermosetting adhesive 8 is mounted, at first, on the pasting stage 14 and pasted to a heat dissipation plate 6 thus spreading the adhesive uniformly. The pasted reinforcing plate 5 and heat dissipation plate 6 are transferred to the thermosetting stage 24 of a hot press 16 where it is hot pressed by means of a hot press head 22 thus setting the adhesive 8.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ボールグリッドア
レー(BGA)型集積回路パッケージの製造装置に係
り、より詳しくは、ボールグリッドアレー型集積回路パ
ッケージの製造にあたりTABテープの補強板と半導体
チップの放熱板とを熱硬化性接着剤により接合するため
の接合装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a ball grid array (BGA) type integrated circuit package, and more particularly, to a method for manufacturing a ball grid array type integrated circuit package. The present invention relates to a joining device for joining a heat sink with a thermosetting adhesive.

【0002】[0002]

【従来の技術】ボール・グリッド・アレー型集積回路パ
ッケージをテープ・オートメイテッド・ボンディング
(Tape Automated Bonding。TAB)方式で製造するこ
とは知られている。TAB方式では、半導体チップに形
成した電極パッドとTABテープに形成した外部リード
はボンディングワイヤーを用いることなく熱圧着などに
より接続される。ボンディングが終わると、半導体チッ
プのインナーリードを保護するため、個々の半導体チッ
プ1は図1(A)に示したようにポッティング樹脂2に
よって封止され、一連の半導体チップ1が実装された長
いTABテープ3が得られる。このTABテープは次に
各集積回路チップ単位に切断される。TABテープ3は
フレキシブルフィルムで形成されているので、接着剤4
により補強板5を接着することによりTABテープ3が
補強される。
2. Description of the Related Art It is known to manufacture ball grid array type integrated circuit packages by a Tape Automated Bonding (TAB) method. In the TAB method, electrode pads formed on a semiconductor chip and external leads formed on a TAB tape are connected by thermocompression bonding without using a bonding wire. When the bonding is completed, the individual semiconductor chips 1 are sealed with a potting resin 2 as shown in FIG. 1A to protect inner leads of the semiconductor chips, and a long TAB on which a series of semiconductor chips 1 are mounted is mounted. Tape 3 is obtained. The TAB tape is then cut into integrated circuit chip units. Since the TAB tape 3 is formed of a flexible film, the adhesive 4
The TAB tape 3 is reinforced by bonding the reinforcing plate 5 to the TAB tape 3.

【0003】図1(B)に示したように、このようにT
ABテープ3に固定した補強板5には熱硬化性接着剤8
を用いて放熱板6が接着され、両者は機械的に接合され
る。また、半導体チップ1にはそれが発生する熱を拡散
するための放熱板(ヒートスプレッダ)6が接着され
る。これは銀ペーストのような熱伝達剤を含む接着剤7
を用いて行われる。こうして半導体チップ1が実装され
たTABテープ3の補強板5と放熱板6が接合される
と、図1(B)に示したようにバンプと呼ばれる半田球
9がTABテープの外部リードに接続され、ボールグリ
ッドアレー型集積回路パッケージが得られる。この集積
回路パッケージは半田バンプ9を基板に熱圧着すること
により基板に実装することができる。
[0003] As shown in FIG.
A thermosetting adhesive 8 is applied to the reinforcing plate 5 fixed to the AB tape 3.
The heat radiating plate 6 is adhered by using, and both are mechanically joined. Further, a heat radiating plate (heat spreader) 6 for diffusing the heat generated by the heat is bonded to the semiconductor chip 1. This is an adhesive 7 containing a heat transfer agent such as silver paste.
This is performed using When the reinforcing plate 5 and the heat radiating plate 6 of the TAB tape 3 on which the semiconductor chip 1 is mounted are joined in this way, solder balls 9 called bumps are connected to external leads of the TAB tape as shown in FIG. Thus, a ball grid array type integrated circuit package is obtained. This integrated circuit package can be mounted on a substrate by thermocompression bonding the solder bumps 9 to the substrate.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前述したボールグリッ
ドアレー型集積回路パッケージの製造工程において、熱
硬化性接着剤8による補強板5と放熱板6との接着は、
未硬化の熱硬化性接着剤8を補強板5に塗布し、その上
に放熱板6を重ねて加熱プレスの加熱硬化ステージに載
置し、加熱された加圧ヘッドにより加熱しながら加圧し
て熱硬化性接着剤8を硬化させることにより行われる。
加熱プレスの稼働中には、加熱された加圧ヘッドとの接
触により、加熱プレスの加熱硬化ステージの温度は使用
に伴い上昇する。
In the above-described manufacturing process of the ball grid array type integrated circuit package, the bonding between the reinforcing plate 5 and the heat radiating plate 6 by the thermosetting adhesive 8 is performed as follows.
The uncured thermosetting adhesive 8 is applied to the reinforcing plate 5, the heat radiating plate 6 is superimposed on the thermosetting adhesive 8, placed on a heat curing stage of a heating press, and pressurized while being heated by a heated pressure head. This is performed by curing the thermosetting adhesive 8.
During operation of the heating press, the temperature of the heat curing stage of the heating press rises with use due to contact with the heated pressure head.

【0005】ところで、生産性を向上させるためには、
補強板5と放熱板6とを接着するための熱硬化性接着剤
8としては、数秒で硬化が進行する急速硬化型の接着剤
を使用するのが望ましい。しかるに、このように急速硬
化型の熱硬化性接着剤を使用した場合には、加熱硬化ス
テージの温度は前述したように使用に伴い高くなってい
るので、未硬化の接着剤を塗布した補強板5を加熱プレ
スの加熱硬化ステージに載置すると直ちに接着剤の硬化
が始まる。その結果、補強板5および放熱板6に対する
接着剤の濡れが不均一になったり、接着剤が充分に延ば
されずに接着面積が不充分となり、接着強度が不足した
り接着強度にバラツキが生じる。
By the way, in order to improve productivity,
As the thermosetting adhesive 8 for bonding the reinforcing plate 5 and the heat radiating plate 6, it is desirable to use a quick-curing adhesive that cures in a few seconds. However, when a rapid-curing thermosetting adhesive is used as described above, since the temperature of the heat-curing stage increases with use as described above, a reinforcing plate coated with an uncured adhesive is used. As soon as 5 is placed on the heat-curing stage of the heat press, the curing of the adhesive starts. As a result, the wetting of the adhesive to the reinforcing plate 5 and the heat radiating plate 6 becomes uneven, the adhesive is not sufficiently spread, and the bonding area becomes insufficient, and the bonding strength becomes insufficient or the bonding strength varies.

【0006】本発明の目的は、TABテープの補強板と
半導体チップの放熱板とを熱硬化性接着剤を用いて接合
するにあたり、生産性を向上させながらも補強板と放熱
板との接着強度を向上させ均一にすることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to bond a reinforcing plate of a TAB tape and a heat sink of a semiconductor chip using a thermosetting adhesive, while improving the productivity and improving the adhesive strength between the reinforcing plate and the heat sink. To improve the uniformity.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明はボールグリッド
アレー型集積回路パッケージの製造にあたりパッケージ
のTABテープの補強板と放熱板とを熱硬化性接着剤に
より接合するための接合装置を提供するもので、この装
置は、未硬化の熱硬化性接着剤が塗布された補強板と放
熱板とを加熱に先立って予め貼り合わせるための貼り合
わせステージと、未硬化の接着剤によって斯く貼り合わ
された補強板および放熱板を載置するための加熱硬化ス
テージと加熱された加圧ヘッドを備えた加熱プレス、と
を備えていることを特徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a bonding apparatus for bonding a TAB tape reinforcing plate and a heat radiating plate of a package with a thermosetting adhesive in manufacturing a ball grid array type integrated circuit package. In this apparatus, a bonding stage for bonding the reinforcing plate coated with the uncured thermosetting adhesive and the heat radiating plate in advance prior to heating, and the reinforcing member bonded by the uncured adhesive are used. A heat curing stage for mounting a plate and a heat radiating plate, and a heating press having a heated pressure head are provided.

【0008】本発明の装置においては、貼り合わせステ
ージは加熱プレスの加熱硬化ステージとは別に設けてあ
るので、貼り合わせステージは加熱プレスの加圧ヘッド
に接触することがなく、加圧ヘッドによって加熱される
ことがない。従って、貼り合わせステージは常に低温に
維持されている。補強板と放熱板との接合に際しては、
未硬化の熱硬化性接着剤が塗布された補強板をこの貼り
合わせステージに載置し、その上に放熱板を重ね合わ
せ、両者に圧力を加えることにより加熱に先立って両者
を予め貼り合わせる。貼り合わせステージは低温に維持
されているので、この貼り合わせ工程において熱硬化性
接着剤の硬化が始まることがなく、接着剤は充分に展延
される。図面を参照しながら後述するように、好ましく
は、放熱板に圧力をかけながら放熱板を僅かに揺動させ
ることにより接着剤をスクライブし、接着剤の塗布ムラ
を消失させ、接着剤を均一に展延させる。
In the apparatus of the present invention, since the bonding stage is provided separately from the heat-curing stage of the heating press, the bonding stage does not come into contact with the pressing head of the heating press, and is heated by the pressing head. Never be. Therefore, the bonding stage is always kept at a low temperature. When joining the reinforcing plate and the heat sink,
A reinforcing plate to which an uncured thermosetting adhesive has been applied is placed on this bonding stage, a heat radiating plate is superimposed on the reinforcing plate, and pressure is applied to both to preliminarily bond them before heating. Since the bonding stage is maintained at a low temperature, the curing of the thermosetting adhesive does not start in this bonding step, and the adhesive is sufficiently spread. As described later with reference to the drawings, preferably, the adhesive is scribed by slightly swinging the heat radiating plate while applying pressure to the heat radiating plate, thereby eliminating uneven coating of the adhesive and uniformly dispersing the adhesive. Spread it.

【0009】好ましい実施態様においては、この接合装
置は、未硬化の接着剤によって貼り合わされた補強板お
よび放熱板を貼り合わせステージから加熱硬化ステージ
に移送するための移送機構を備え、この移送機構は、未
硬化の接着剤によって貼り合わされた補強板と放熱板と
を互いにクランプするためのクランプ機構を備えてい
る。
In a preferred embodiment, the bonding apparatus includes a transfer mechanism for transferring the reinforcing plate and the heat radiating plate bonded by the uncured adhesive from the bonding stage to the heat curing stage. And a clamp mechanism for clamping the reinforcing plate and the heat radiating plate bonded by the uncured adhesive to each other.

【0010】他の実施態様においては、加熱硬化ステー
ジは、補強板と放熱板とを相互に位置決めするための位
置決めピンを備えている。また、好ましい実施態様にお
いては加熱硬化ステージは弾力的に支持されており、補
強板と放熱板とを均一に加圧するようになっている。
[0010] In another embodiment, the heat-curing stage includes a positioning pin for positioning the reinforcing plate and the heat sink with respect to each other. Further, in a preferred embodiment, the heat-curing stage is elastically supported so as to uniformly press the reinforcing plate and the heat radiating plate.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】図2から図4を参照するに、ボー
ルグリッドアレー型集積回路パッケージのTABテープ
の補強板と半導体チップの放熱板とを接合するための本
発明の接合装置10は、機台12と、この機台12に固
定された貼り合わせステージ14と、加熱プレス16
と、貼り合わせステージ14から加熱プレス16へとワ
ークを移送するための移送機構18を有する。加熱プレ
ス16は、ヒーター20を内蔵した加圧ヘッド22と、
加熱硬化ステージ24を有する。加熱硬化ステージ24
は水平なガイドレール26に摺動可能に装着されたスラ
イダー28に搭載してあり、加圧ヘッド22の下方の作
動位置と図2に実線で示した非作動位置との間で移動す
るようになっている。加圧ヘッド22は、スライダー3
0によって垂直なガイドレール32に摺動可能に案内さ
れた可動ブロック34に搭載してあり、加圧シリンダ3
6によって上下に移動されるようになっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIGS. 2 to 4, a joining apparatus 10 of the present invention for joining a reinforcing plate of a TAB tape of a ball grid array type integrated circuit package and a heat radiating plate of a semiconductor chip is provided. A machine base 12, a bonding stage 14 fixed to the machine base 12, a heating press 16
And a transfer mechanism 18 for transferring the work from the bonding stage 14 to the heating press 16. The heating press 16 includes a pressure head 22 having a built-in heater 20;
It has a heat curing stage 24. Heat curing stage 24
Is mounted on a slider 28 slidably mounted on a horizontal guide rail 26 so as to move between an operating position below the pressure head 22 and a non-operating position indicated by a solid line in FIG. Has become. The pressure head 22 includes the slider 3
0 on a movable block 34 slidably guided by a vertical guide rail 32,
6 move up and down.

【0012】移送機構18は搬送ハンド38を有する。
この搬送ハンド38は、垂直なガイドレール40に沿っ
て摺動するスライダー42に装着してあり、シリンダ4
4によって垂直方向に移動される。垂直ガイドレール4
0そて自体は水平ガイドレール46に案内されたスライ
ダー48に搭載してある。ガイドレール46に内蔵され
たエアーシリンダを作動させることにより、搬送ハンド
38は貼り合わせステージ14の上方の位置と非作動位
置における加熱硬化ステージ24の上方の位置との間で
水平方向に移動する。搬送ハンド38にはクランプ機構
50が装着されている。図4に示したように、このクラ
ンプ機構50は、天板52と、シリンダ54によって夫
々駆動される一対のクランプ56とで構成されている。
The transfer mechanism 18 has a transfer hand 38.
The transport hand 38 is mounted on a slider 42 that slides along a vertical guide rail 40,
4 is moved vertically. Vertical guide rail 4
0 itself is mounted on a slider 48 guided by a horizontal guide rail 46. By operating an air cylinder built in the guide rail 46, the transport hand 38 moves in a horizontal direction between a position above the bonding stage 14 and a position above the heat curing stage 24 at the non-operation position. A clamp mechanism 50 is mounted on the transport hand 38. As shown in FIG. 4, the clamp mechanism 50 includes a top plate 52 and a pair of clamps 56 each driven by a cylinder 54.

【0013】次に、この接合装置10の作動と使用の態
様を説明する。作業効率を良くするため、接合すべき補
強板5および放熱板6は、図5および図6に夫々示した
ように、例えば4個取りのフレーム58および60の形
に形成しておくことができる。図6に示したように、接
合すべき補強板フレーム58には、ポッティング樹脂2
で封止した半導体チップ1を備えた個々のTABテープ
3が予め接着してある。図5および図6に示したよう
に、放熱板フレーム60および補強板フレーム58には
位置決め用のピン穴62が対角方向に穿孔してあり、加
熱硬化ステージ24には図2に示したようにこれらのピ
ン穴62に対応して1対の位置決めピン64が配置して
ある。
Next, the mode of operation and use of the joining device 10 will be described. In order to improve work efficiency, the reinforcing plate 5 and the heat radiating plate 6 to be joined can be formed in the form of, for example, four-piece frames 58 and 60 as shown in FIGS. . As shown in FIG. 6, the reinforcing plate frame 58 to be joined has a potting resin 2
The individual TAB tapes 3 each having the semiconductor chip 1 sealed with are previously bonded. As shown in FIGS. 5 and 6, positioning pin holes 62 are formed in the heat-radiating plate frame 60 and the reinforcing plate frame 58 in diagonal directions, and the heat-curing stage 24 is formed as shown in FIG. A pair of positioning pins 64 are arranged corresponding to these pin holes 62.

【0014】接合装置10による接合工程に先立って、
補強板フレーム58の上面には図7に示したように未硬
化の熱硬化性接着剤8と銀ペースト含有接着剤7が塗布
される。接着剤8の塗布はディスペンサのノズルから接
着剤を押し出すことにより行われる。作業者は熱硬化性
接着剤8と銀ペースト含有接着剤7が予め塗布された補
強板フレーム58を接合装置10の貼り合わせステージ
14上に載置し、補強板フレーム58の上に放熱板フレ
ーム60を重ねることにより、補強板フレーム58と放
熱板フレーム60とを貼り合わせる。
Prior to the joining process by the joining device 10,
The uncured thermosetting adhesive 8 and the silver paste-containing adhesive 7 are applied to the upper surface of the reinforcing plate frame 58 as shown in FIG. The application of the adhesive 8 is performed by extruding the adhesive from a nozzle of the dispenser. The operator places the reinforcing plate frame 58 on which the thermosetting adhesive 8 and the silver paste-containing adhesive 7 are applied in advance on the bonding stage 14 of the joining device 10, and places the heat sink frame on the reinforcing plate frame 58. The reinforcing plate frame 58 and the heat radiating plate frame 60 are attached to each other by stacking 60.

【0015】ノズルからの押し出しにより補強板フレー
ム58の上面に塗布された接着剤8のパターンは、図9
(A)に拡大して示したように、必ずしも一様ではない
ことがあり得る。このため、補強板フレーム58の上に
放熱板フレーム60を重ねて加圧したときには、接着剤
8のパターンが図9(B)に示したように不均一になる
おそれがある。そこで、好ましくは、作業者は図8に矢
印66で示したように放熱板フレーム60を指で前後左
右に僅かに揺動させることにより接着剤のスクライブを
行い、図9(C)に示したように接着剤を均一に延ば
す。貼り合わせステージ14は加熱プレス16の加圧ヘ
ッド22に接触することはなく、加圧ヘッド22によっ
て加熱されることはないので、貼り合わせステージ14
は常温に維持されている。従って、接着剤のスクライブ
を行っている間に接着剤の硬化が始まることがない。接
着剤のスクライブは温度の高い加熱硬化ステージ24と
は別個に貼り合わせステージ14を設けたことにより可
能となるものである。
The pattern of the adhesive 8 applied to the upper surface of the reinforcing plate frame 58 by extrusion from the nozzle is shown in FIG.
As shown in an enlarged manner in (A), it may not always be uniform. Therefore, when the heat radiating plate frame 60 is overlaid on the reinforcing plate frame 58 and pressed, the pattern of the adhesive 8 may be non-uniform as shown in FIG. 9B. Therefore, preferably, the worker scribes the adhesive by slightly swinging the heat radiating plate frame 60 back and forth and right and left with a finger as shown by an arrow 66 in FIG. 8, and as shown in FIG. 9C. Spread the adhesive evenly. Since the bonding stage 14 does not come into contact with the pressure head 22 of the heating press 16 and is not heated by the pressure head 22, the bonding stage 14
Is maintained at room temperature. Therefore, the curing of the adhesive does not start while the adhesive is scribed. The scribing of the adhesive becomes possible by providing the bonding stage 14 separately from the heat curing stage 24 having a high temperature.

【0016】貼り合わせステージ14上での補強板フレ
ーム58と放熱板フレーム60との貼り合わせが終わる
と、図8に示したように補強板フレーム58と放熱板フ
レーム60との組立体に位置決め部材68および70を
当てることにより組立体を位置決めする。次に、クラン
プ機構50のクランプ56を作動させることにより図4
に示したように組立体をクランプし、移送機構18のエ
アーシリンダを作動させて搬送ハンド38を加熱硬化ス
テージ24の上方に移動させ、次いで搬送ハンド38を
下降させる。加熱硬化ステージ24の位置決めピン64
は補強板フレーム58および放熱板フレーム60のピン
穴62に係合し、補強板フレーム58と放熱板フレーム
60との組立体は加熱硬化ステージ24上に位置決めさ
れる。
When the reinforcing plate frame 58 and the radiator plate frame 60 have been bonded on the bonding stage 14, the positioning member is attached to the assembly of the reinforcing plate frame 58 and the radiator plate frame 60 as shown in FIG. Position the assembly by hitting 68 and 70. Next, by operating the clamp 56 of the clamp mechanism 50, FIG.
As shown in (1), the assembly is clamped, and the air cylinder of the transfer mechanism 18 is operated to move the transfer hand 38 above the heat curing stage 24, and then lower the transfer hand 38. Positioning pins 64 of the heat curing stage 24
Are engaged with the pin holes 62 of the reinforcing plate frame 58 and the heat sink frame 60, and the assembly of the reinforcing plate frame 58 and the heat sink frame 60 is positioned on the heat curing stage 24.

【0017】次に、加熱硬化ステージ24を加圧ヘッド
22の下に移動させ、加圧シリンダ36を作動させる。
ヒーター20により加熱された加圧ヘッド22は補強板
フレーム58と放熱板フレーム60との組立体を加圧・
加熱し、熱硬化性接着剤8と銀ペースト含有接着剤7を
硬化させる。このようにして得られた集積回路パッケー
ジの中間製品は次の工程に送られる。
Next, the heat curing stage 24 is moved below the pressure head 22, and the pressure cylinder 36 is operated.
The pressure head 22 heated by the heater 20 presses the assembly of the reinforcing plate frame 58 and the radiating plate frame 60 to press the assembly.
By heating, the thermosetting adhesive 8 and the silver paste-containing adhesive 7 are cured. The intermediate product of the integrated circuit package thus obtained is sent to the next step.

【0018】図10には加熱硬化ステージ24の変化形
を示す。この変化形においては、加熱硬化ステージ24
Aは、ベース72と高さ制御板74を備え、このベース
72にはワーク載置板76を支持するガイドピン78が
摺動可能に挿通してある。ベース72とワーク載置板7
6との間にはバネ80が配置してあり、ワーク載置板7
6を弾力的に支持している。この加熱硬化ステージ24
Aを使用すれば、加圧ヘッド22の下降時に加圧ヘッド
22が加熱硬化ステージ24Aに載置された補強板フレ
ーム58と放熱板フレーム60との組立体の放熱板フレ
ーム60に接触すると、ワーク載置板76はバネ80の
作用に抗して後退するので、放熱板フレーム60は加圧
ヘッド22に対して平行に保持される。加圧ヘッド22
の高さは高さ制御板74によって規制される。この加熱
硬化ステージ24Aにおいては、放熱板フレーム60は
加圧ヘッド22に対して平行に保持されるので、接着剤
を均一に加圧することができる。補強板と放熱板に加わ
る加圧力は、バネ80の荷重からワーク載置板76の重
量を減じた値となる。従って、バネ80のバネ力を変更
することにより加圧力を変更することが可能となる。
FIG. 10 shows a variation of the heat curing stage 24. In this variation, the heat curing stage 24
A includes a base 72 and a height control plate 74, and guide pins 78 for supporting a work mounting plate 76 are slidably inserted through the base 72. Base 72 and work mounting plate 7
6, a spring 80 is arranged, and the work mounting plate 7
6 is elastically supported. This heat curing stage 24
When the pressure head 22 descends, when the pressure head 22 comes into contact with the radiator plate frame 60 of the assembly of the reinforcing plate frame 58 and the radiator plate frame 60 mounted on the heat curing stage 24A, the work Since the mounting plate 76 retreats against the action of the spring 80, the heat sink frame 60 is held parallel to the pressure head 22. Pressure head 22
Is regulated by a height control plate 74. In the heat-curing stage 24A, the radiator plate frame 60 is held parallel to the pressure head 22, so that the adhesive can be pressed uniformly. The pressure applied to the reinforcing plate and the heat sink is a value obtained by subtracting the weight of the work mounting plate 76 from the load of the spring 80. Therefore, it is possible to change the pressing force by changing the spring force of the spring 80.

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明の装置によれば、集積回路パッケ
ージの補強板と放熱板との貼り合わせは低温に維持され
た貼り合わせステージの上で行われるので、数秒で硬化
が進行する急速硬化型の熱硬化性接着剤を用いた場合で
も、接着剤を充分な面積にわたって均一に展延させるこ
とができる。また、必要に応じて貼り合わせステージ上
で接着剤のスクライブを行うことが可能となり、接着剤
の塗布ムラを解消させることができる。従って、補強板
と放熱板との間の機械的接着強度を向上させ、半導体チ
ップと放熱板との間の熱伝導を促進させることができ
る。
According to the apparatus of the present invention, since the bonding between the reinforcing plate and the heat sink of the integrated circuit package is performed on the bonding stage maintained at a low temperature, rapid hardening proceeds in a few seconds. Even when a mold-type thermosetting adhesive is used, the adhesive can be spread uniformly over a sufficient area. In addition, it is possible to scribe the adhesive on the bonding stage as needed, and it is possible to eliminate uneven application of the adhesive. Therefore, the mechanical bonding strength between the reinforcing plate and the heat sink can be improved, and the heat conduction between the semiconductor chip and the heat sink can be promoted.

【0020】移送機構にクランプ機構を設けた実施態様
にあっては、未硬化の接着剤によって貼り合わされた補
強板と放熱板との位置ずれを防止することができる。加
熱硬化ステージを弾力的に支持した実施態様にあって
は、加圧力を均一にすることができる。
In the embodiment in which the clamp mechanism is provided in the transfer mechanism, it is possible to prevent the displacement between the reinforcing plate and the heat radiating plate bonded by the uncured adhesive. In the embodiment in which the heat curing stage is elastically supported, the pressing force can be made uniform.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ボールグリッドアレー型集積回路パッケージの
一般的な製造工程を示す模式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a general manufacturing process of a ball grid array type integrated circuit package.

【図2】本発明の接合装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of the joining device of the present invention.

【図3】図2のII−II線に沿った加熱プレスの側面図で
ある。
FIG. 3 is a side view of the hot press taken along the line II-II of FIG. 2;

【図4】図2に示した装置のクランプ機構の側面図であ
る。
4 is a side view of a clamp mechanism of the device shown in FIG.

【図5】本発明の接合装置によって接合される放熱板フ
レームの平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a heat sink frame joined by the joining apparatus of the present invention.

【図6】本発明の接合装置によって接合される補強板フ
レームの平面図である。
FIG. 6 is a plan view of a reinforcing plate frame joined by the joining device of the present invention.

【図7】図6に示した補強板フレームに接着剤を塗布し
たところを示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a state where an adhesive is applied to the reinforcing plate frame shown in FIG. 6;

【図8】補強板フレームに重ねた放熱板フレームを揺動
させる状態を示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing a state in which a radiator plate frame laid on a reinforcing plate frame is swung.

【図9】補強板フレームに塗布した接着剤のパターンを
示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing a pattern of an adhesive applied to a reinforcing plate frame.

【図10】加熱硬化ステージの変化形を示す断面図で、
(A)は非加圧時における位置を示し、(B)は加圧時
における位置を示す。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a variation of the heat curing stage;
(A) shows the position when no pressure is applied, and (B) shows the position when pressure is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1: BGA型集積回路パッケージの半導体チップ 2: ポッティング樹脂 3: BGA型集積回路パッケージのTABテープ 5: BGA型集積回路パッケージの補強板 6: BGA型集積回路パッケージの放熱板 10: 接合装置 14: 貼り合わせステージ 16: 加熱プレス 18: 移送機構 22: 加圧ヘッド 24: 加熱硬化ステージ 50: クランプ機構 64: 位置決めピン 1: semiconductor chip of BGA type integrated circuit package 2: potting resin 3: TAB tape of BGA type integrated circuit package 5: reinforcing plate of BGA type integrated circuit package 6: heat sink of BGA type integrated circuit package 10: joining device 14: Laminating stage 16: Heat press 18: Transfer mechanism 22: Pressurizing head 24: Heat curing stage 50: Clamp mechanism 64: Positioning pin

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ボールグリッドアレー型集積回路パッケ
ージの製造にあたり該パッケージのTABテープの補強
板と放熱板とを熱硬化性接着剤により接合するための接
合装置であって、 未硬化の熱硬化性接着剤が塗布された補強板と放熱板と
を加熱に先立って予め貼り合わせるための貼り合わせス
テージと、 未硬化の接着剤によって斯く貼り合わされた補強板およ
び放熱板を載置するための加熱硬化ステージと加熱され
た加圧ヘッドを備えた加熱プレス、とを備えていること
を特徴とする接合装置。
1. A joining device for joining a reinforcing plate of a TAB tape and a heat radiating plate of a package of a ball grid array type integrated circuit package with a thermosetting adhesive in the manufacture of the package. A bonding stage for bonding the reinforcing plate and the radiator plate to which the adhesive has been applied in advance prior to heating, and heat curing for placing the reinforcing plate and the radiator plate thus bonded by the uncured adhesive A bonding apparatus comprising a stage and a heating press having a heated pressure head.
【請求項2】 未硬化の接着剤によって貼り合わされた
補強板および放熱板を前記貼り合わせステージから加熱
硬化ステージに移送するための移送機構を更に備えてい
ることを特徴とする請求項1に基づく接合装置。
2. The apparatus according to claim 1, further comprising a transfer mechanism for transferring the reinforcing plate and the heat sink bonded by the uncured adhesive from the bonding stage to the heat curing stage. Joining equipment.
【請求項3】 前記移送機構は、未硬化の接着剤によっ
て貼り合わされた補強板と放熱板とを互いにクランプす
るための手段を備えていることを特徴とする請求項2に
基づく接合装置。
3. The bonding apparatus according to claim 2, wherein the transfer mechanism includes a means for clamping the reinforcing plate and the heat radiating plate bonded by the uncured adhesive to each other.
【請求項4】 前記加熱硬化ステージは、補強板と放熱
板とを相互に位置決めするための位置決めピンを備えて
いることを特徴とする請求項1から3のいづれかに基づ
く接合装置。
4. The bonding apparatus according to claim 1, wherein the heat curing stage includes a positioning pin for positioning the reinforcing plate and the heat radiating plate relative to each other.
【請求項5】 前記加熱硬化ステージは機台に弾力的に
支持されており、補強板と放熱板とを均一に加圧するよ
うになっていることを特徴とする請求項1から4のいづ
れかに基づく接合装置。
5. The heat curing stage according to claim 1, wherein the heat curing stage is elastically supported by a machine base so as to uniformly press the reinforcing plate and the heat radiating plate. Based joining equipment.
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