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JP2000243791A - 2メタルtab及び両面csp、bgaテープ、並びにその製造方法 - Google Patents

2メタルtab及び両面csp、bgaテープ、並びにその製造方法

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JP2000243791A
JP2000243791A JP11043868A JP4386899A JP2000243791A JP 2000243791 A JP2000243791 A JP 2000243791A JP 11043868 A JP11043868 A JP 11043868A JP 4386899 A JP4386899 A JP 4386899A JP 2000243791 A JP2000243791 A JP 2000243791A
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hole
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double
tape
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Akira Ichiyanagi
彰 一柳
基信 ▲高▼橋
Motonobu Takahashi
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Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
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Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表裏面導体層の電気的接続の信頼性があり、
かつ、その製造コストが低減できる2メタルTAB及び
両面CSP、BGAテープ、並びにその製造方法を提供
する。 【解決手段】 絶縁性基板とその少なくとも両面に配線
層とを有し、該基板はパンチングプレスで形成されたス
ルーホールを有し、該スルーホールにはパンチングプレ
スにより導体が充填されており、該導体と該配線層とが
電気的に接続がなされていることを特徴とする2メタル
TAB及び両面CSP、BGAテープ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、2メタルTAB及
び両面CSP、BGAテープ、並びにその製造方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】表裏面
に導体層を有する配線基板として種々のものが使用され
ている。具体的には、基板にフレキシブルなポリイミド
等を用いたTAB(Tape Automated B
onding)テープ、CSP(Chip Size
Package)、BGA(Ball Grid Ar
ray)、FPC(Flexible Printed
Circuit)、また、ガラスエポキシ等のリジッ
ドな基板を用いた所謂多層基板等がある。
【0003】このような表裏面に導体層を有する基板の
製造方法として、基板の所望の個所に予めパンチングプ
レスやドリル又はレーザー光等でスルーホール又はブラ
インドビアホール等の孔を開けておく。レーザー光を用
いた場合は、レーザー光の熱により発生した所謂スミア
の除去(デスミア)を行う必要がある。
【0004】その後、スクリーン印刷機を用い導電性ペ
ースト等でこの孔を充填し表裏面の導体層を電気的に接
続する方法(以下、導電性ペースト印刷法という)で
は、スルーホール(貫通孔)の場合は裏回りを避けるた
め、孔開け工程後裏貼りシート等を貼付し、その後導電
性ペーストを印刷、硬化、裏貼りシートの剥離と長い工
程を経る必要がある。また、ブラインドビアホールにお
いては、孔への充填をつつが無く行うためマスクの開口
径の設定をシビアに行う必要から、印刷機には画像認識
装置等の正確な位置精度が要求され、勢い印刷機の仕様
が高価となり、ひいては製品コストの上昇に繋がってし
まう。
【0005】メッキを用いる場合には、孔に無電解銅メ
ッキやカーボン等を付着させて、その後電解銅メッキを
行う方法(以下、メッキ法という)であり、湿式法であ
るので、廃液の処理が問題がある。
【0006】これらの方法は、電気的接続の信頼性はと
もかく、コスト的に更に改良された新たな方法の開発が
当業界の間では待ち望まれている。例えば、特開昭59
−61992号公報や特開昭62−81789号公報に
は、この問題点を解決する提案がなされている。
【0007】特開昭59−61992号公報には、絶縁
基板の両面に、貫通孔(スルーホール)を覆う導電部を
有する配線パターンを形成し、さらに該導電部中央に貫
通孔の直径より小径の孔を打ち抜き、両面の導電部同士
を接触させ、次いで導電部同士を導電部材で固定して、
両面の銅箔を導通させるスルーホールプリント配線板の
製造方法が開示されている。
【0008】しかし、この方法においては、スルーホー
ルの形成、小孔の打ち抜き、導電部材による固定と工程
が煩雑になるという問題がある。また、導電部のダレに
よって他側の導電部と接触させるために、表面の平滑性
に劣り、電気的接続の信頼性にも欠ける。
【0009】また、特開昭62−81789号公報に
は、未焼成セラミック(グリーンシート)にパンチでス
ルーホール(導通孔)を形成し、この後導通孔に導通ピ
ンを挿入し、その後、スクリーン印刷法によって基板の
表面に導体層を印刷し、さらにグリーンシートを焼成す
ることによって、配線基板を製造するものである。
【0010】この方法は、上記のように基板としてグリ
ーンシートを用いるものであって、ポリイミド等の絶縁
性基板を用いるものではない。
【0011】従って、本発明の目的は、表裏面導体層の
電気的接続の信頼性があり、かつ、その製造コストが低
減できる2メタルTAB及び両面CSP、BGAテー
プ、並びにその製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、検討の結
果、スルーホールをパンチングプレスで形成した後、形
成されたスルーホールに同様にパンチングプレスによっ
て導体を充填することによって、上記目的が達成し得る
ことを知見した。
【0013】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
で、絶縁性基板とその少なくとも両面に配線層とを有
し、該基板はパンチングプレスで形成されたスルーホー
ルを有し、該スルーホールにはパンチングプレスにより
導体が充填されており、該導体と該配線層とが電気的に
接続がなされていることを特徴とする2メタルTAB及
び両面CSP、BGAテープを提供するものである。
【0014】また、本発明は、絶縁性基板の少なくとも
両面に配線層又は金属箔を設けた後、パンチングプレス
によりスルーホールを形成し、次いで該スルーホールに
パンチングプレスによって導体を充填し、該導体と該配
線層又は金属箔を電気的に接続させることを特徴とする
2メタルTAB及び両面CSP、BGAテープの製造方
法を提供するものである。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。本発明の2メタルTAB及び両面CSP、BGA
テープは、絶縁性基板とその少なくとも両面に配線層と
を有する。絶縁性基板としてはポリイミドフイルムが一
般に用いられ、配線層は銅箔等をエッチング等すること
により形成される。また、スルーホールに充填される導
体は、鉛、錫、銅、又はこれらを主成分とする合金の
箔、シートが適している。
【0016】次に、本発明の2メタルTAB及び両面C
SP、BGAテープの製造方法について説明する。本発
明は、上述のように、フレキシブルなポリイミド等を用
いたTABテープ、CSP、BGA、FPC、また、ガ
ラスエポキシ等のリジッドな基板を用いた所謂多層基板
等に広範囲に亘って応用可能であるが、ここでは、TA
Bテープへの応用、特に両面に配線層を有する所謂2メ
タルTABテープの製造方法について説明する。
【0017】図1は、2メタルTABテープの一般的な
製造方法を示す工程図である。図1に示されるように、
両面銅積層ポリイミドテープに、プレスによって、スプ
ロケットホール、時にはスルーホール等を形成する。
【0018】その後、表面を製面、フォトレジスト塗布
を行い、露光、現像、エッチングによって表面に配線層
を形成する。次に、同様に裏面を製面、フォトレジスト
塗布を行い、露光、現像、エッチングによって裏面に配
線層を形成する。
【0019】最後に、スクリーン印刷によってハンダレ
ジストを塗布した後、導通信頼性を向上させるために金
メッキ等の仕上げメッキを行い、製品とする。
【0020】本発明では、この工程において、パンチン
グプレスによりスルーホールを形成し、次いでスルーホ
ールに同様にパンチングプレスによって導体を充填し、
該導体と該配線層又は金属箔を電気的に接続させる。
【0021】上記工程において、パンチングプレスによ
るスルーホールの形成、導体の充填時期は任意である。
例えば表裏両面に配線層を形成した後、スルーホールを
形成し、次いでこのスルーホールに導体を充填すればよ
い。また、両面銅貼りテープに先ずスルーホールを形成
し、スプロケットホール形成と同時にスルーホールに導
体を充填してもよい。
【0022】本発明において、スルーホールの形成は、
デスミアが不要なパンチングによるものであり、かつ電
気的な接続を取る方法もパンチング同様、ごく普通のパ
ンチングプレス機を用いる。すなわち、パンチングによ
り孔を開けた基板の上にハンダ板や銅箔等の導体を重
ね、再度パンチングし、孔に導体を埋め込む極めて簡略
化された製造工程であり、コスト低減に繋がる。
【0023】しかし、工程は簡単ではあるが、基板厚
みと埋め込む(充填する)導体(板)の厚み、導体
(板)の材質(硬度)、パンチングストローク、か
しめ等の後処理等の選択や設定が極めて重要である。
【0024】導体の厚み(t1)と基板の厚み(t2)
には最適域が存在する。好ましくは1.4×t2≦t1
≦0.7×t2、より好ましくは1.3×t2≦t1≦
0.8×t2、更に好ましくは1.2×t2≦t1≦
0.9×t2である。下記に述べるかしめの条件にもよ
るが、余りに厚いと基板表面に凹凸が生じ、寸法精度等
に問題が起こり、余りに薄いと配線層との電気的な接続
が不充分になるからである。
【0025】導体の材質については上述した通り、ハン
ダや銅箔が適しているが、硬度が高すぎると基板自体に
凹凸が生じ好ましくない。ハンダは柔らかくそのままで
も使用可能であるが、銅箔の場合は、アニール等により
柔らかくする工夫が必要である。なお、コスト的にはリ
サイクルが容易なハンダのほうが有利である。
【0026】パンチングのストロークは、上記導体の厚
みのように数式で記載することには困難が伴うが、実際
にパンチングし、結果的に導体が基板に対し、所謂串刺
しのような状態になり、その後実施するかしめに好都合
なようにストロークを定める必要がある。
【0027】また、導体を充填した(埋め込んだ)後の
かしめは、導通の信頼性を左右する重要な工程である。
これは、導体を埋め込んだ後、その後の工程における搬
送や作業を円滑に行うためや、また、例えばテープ状の
基板に関しては、その後の工程においてリール等に巻き
取られることが多いが、そのような曲げに対する耐久性
も要求されるからである。
【0028】このようにして得られた本発明に係る2メ
タルTABのスルーホール部分の概略断面図を図2に示
す。同図において、1は絶縁性基板、2は配線層、3は
導体をそれぞれ示す。図2に示されるように、表裏両面
の配線層2と導体が良好な電気的な接続を示している。
【0029】なお、もし、スルーホールの形成とスルー
ホールへの導体の埋め込みが同時に実施できるならば、
より工程が簡略化されコストダウンに繋がるであろう
が、図3に示すように、導体3下端が丸くなる傾向があ
り、その後かしめたとしても、導通信頼性に劣る。
【0030】ハンダ等の低融点の金属を用いる場合に
は、工程は増えるが、リフロー等により、充填金属を再
溶融することにより、接触を確実にすることができる。
【0031】本発明は、上述したように、フレキシブル
なポリイミド等を用いたTABテープ、CSP、BG
A、FPC、また、ガラスエポキシ等のリジッドな基板
を用いた所謂多層基板等に広範囲に亘って応用可能であ
る。
【0032】
【実施例】以下、実施例等に基づき本発明を具体的に説
明する。
【0033】〔実施例1〕 (2メタルTABテープの製造例)36mm幅の両面銅
貼りポリイミドフィルム(ポリイミド層の厚み50μ
m、銅箔厚み表裏各18μm;商品名エスパネックス、
新日本化学社製)を用い、図1に示される2メタルTA
Bテープの製造工程に従い、図4及び図6に示すような
表裏面に配線層を有した所謂2メタルTABテープを製
造した。但し、表裏面の電気的接続は取れていない。
【0034】図4は、2メタルTABテープの表面図で
あり、図5は、そのランド近傍拡大図である。図6は2
メタルTABテープの裏面からの透視図であり、図7は
そのランド近傍拡大図である。図4〜7において、4は
2メタルTABテープ、5はスプロケットホール、6は
ランドをそれぞれ示す。但し、図6は透視図なので裏面
の配線層は記載していない。なお、ここでいうランドと
はスルーホールを形成し、導体を充填する箇所をいう。
【0035】エッチング等により、表裏面に配線層が形
成されたこのテープをパンチングプレス機を用いて図4
及び図6に示す位置にスルーホールを形成した。引き続
き厚み95ミクロンのハンダプレートをテープに重ね、
再度パンチングプレスすることにより、ハンダを埋め込
み(充填し)、その後同じくプレス機によりかしめるこ
とにより表裏面配線層の電気的な接続を取った。例えば
200μmφ孔の概略断面図である図2に示されるよう
に、配線層と導体の理想的な接触が観察され、いずれの
スルーホールにおいても、2メタルTABとして充分な
導通(<10mΩ/孔)が得られた。
【0036】〔実施例2〕 (2メタルTABテープの製造例)導体のスルーホール
への埋め込み(充填)をエッチング等による配線を形成
した後ではなく、予めスルーホールを形成した後、スプ
ロケットホールを形成すると同時に導体に埋め込む以外
は、実施例1と同様の工程により2メタルTABテープ
を得た。実施例1と同様に、いずれの孔においても、2
メタルTABとして充分な導通(<10mΩ/孔)が得
られた。
【0037】〔比較例1〕 (2メタルTABテープの製造例)予めスルーホールを
形成せず、パンチングプレスによるスルーホールの形成
とハンダの埋め込み(充填)を同時に実施し、その後か
しめた以外は、実施例1と全く同様の工程に従い2メタ
ルTABテープを作成した。すなわち、パンチングプレ
スによりスルーホールを形成すると共に、併せてハンダ
の埋め込みを行った。その結果、例えば200μmφ孔
の概略断面図である図3に示されるように、配線層と導
体との断線が観察されることが多く、2メタルTABと
して充分な導通が得られなかった。
【0038】〔比較例2〕 (2メタルTABテープの製造例)予めスルーホールを
形成せず、パンチングプレスによるスルーホールの形成
とハンダの埋め込み(充填)を同時に実施し、その後か
しめた以外は、実施例2と全く同様の工程に従い2メタ
ルTABテープを作成した。すなわち、パンチングプレ
スによりスルーホール及びスプロケットホールを形成す
ると共に、併せてハンダの埋め込みを行った。比較例1
と同様、配線層と導体との断線が観察されることが多
く、2メタルTABとして充分な導通が得られなかっ
た。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の2メタル
TAB及び両面CSP、BGAテープは、表裏面導体層
の電気的接続の高い信頼性を有する。また、本発明の製
造方法によって、従来法であるメッキ法や導電性ペース
ト印刷法に比較して、工程が極めて簡単であり、コスト
低減が可能となる。また、乾式で製造できることから、
廃液がでないことや使用材料のリサイクルが可能とな
り、環境保全の観点からも優れた工法といえる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、図1は、2メタルTABテープの一般
的な製造方法を示す工程図である。
【図2】図2は、実施例1に係る2メタルTABのスル
ーホール部分の概略断面図である。
【図3】図3は、比較例1に係る2メタルTABのスル
ーホール部分の概略断面図である。
【図4】図4は、実施例1に係る2メタルTABテープ
の表面図である。
【図5】図5は、図4のランド近傍拡大図
【図6】図6は、実施例1に係る2メタルTABテープ
の裏面からの透視図である。
【図7】図7は、図6のランド近傍拡大図である。
【符号の説明】
1:絶縁性基板(ポリイミド)、2:配線層、3:導
体、4:2メタルTABテープ、5:スプロケットホー
ル、6:ランド。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁性基板とその少なくとも両面に配線
    層とを有し、該基板はパンチングプレスで形成されたス
    ルーホールを有し、該スルーホールにはパンチングプレ
    スにより導体が充填されており、該導体と該配線層とが
    電気的に接続がなされていることを特徴とする2メタル
    TAB及び両面CSP、BGAテープ。
  2. 【請求項2】 金属層を含めて3層以上の多層からなる
    請求項1記載の2メタルTAB及び両面CSP、BGA
    テープ。
  3. 【請求項3】 上記導体が金属である請求項1又は2記
    載の2メタルTAB及び両面CSP、BGAテープ。
  4. 【請求項4】 上記金属が鉛、錫、銅、又はこれらを主
    成分とする合金である請求項3記載の2メタルTAB及
    び両面CSP、BGAテープ。
  5. 【請求項5】 絶縁性基板の少なくとも両面に配線層又
    は金属箔を設けた後、パンチングプレスによりスルーホ
    ールを形成し、次いで該スルーホールにパンチングプレ
    スによって導体を充填し、該導体と該配線層又は金属箔
    を電気的に接続させることを特徴とする2メタルTAB
    及び両面CSP、BGAテープの製造方法。
  6. 【請求項6】 金属層を含めて3層以上の多層からなる
    請求項5記載の2メタルTAB及び両面CSP、BGA
    テープの製造方法。
  7. 【請求項7】 上記導体が金属である請求項5又は6記
    載の2メタルTAB及び両面CSP、BGAテープの製
    造方法。
  8. 【請求項8】 上記金属が鉛、錫、銅、又はこれらを主
    成分とする合金である請求項7記載の2メタルTAB及
    び両面CSP、BGAテープの製造方法。
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