JP2000178268A

JP2000178268A - トリケトン誘導体および除草剤

Info

Publication number: JP2000178268A
Application number: JP11177562A
Authority: JP
Inventors: Masatoshi Saito; 雅俊斉藤; Hironori Sekiguchi; 浩紀関口; Shinichiro Ogawa; 新一郎尾川
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1998-10-06
Filing date: 1999-06-23
Publication date: 2000-06-27

Abstract

(57)【要約】【課題】栽培作物に対する薬害が少なく、かつ広
範囲な雑草を低薬量で防除することのできる除草剤を提
供する。【解決手段】下記の一般式〔１〕、【化１】〔式中、Ｒはメチル基、ＸおよびＹは水素原子、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ヒドロキシ
基、メルカプト基、アルキル基、アルコキシ基などであ
り、Ｍは水素原子、アルカリ金属など、Ｒ⁴は水素原子
またはアルキル基、ｍは０〜４の整数である。〕で表さ
れるトリケトン誘導体と、該トリケトン誘導体を有効成
分とする除草剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なトリケトン
誘導体とこのトリケトン誘導体を有効成分とする除草剤
に関する。さらに詳しくは、栽培植物の育成を阻害する
雑草、ことにヒエ、ホタルイなどの水田雑草に効率的な
除草剤として有用性の高いトリケトン誘導体とこれを有
効成分として含有する除草剤に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】除草剤は、栽培植物の育成を阻害する雑
草の防除作業の省力化と、農園芸作物などの生産性向上
にとって重要な薬剤であり、長年にわたって、安全でか
つ低薬量においても除草効果の高い除草剤の開発が進め
られてきた。ある種の二環式ベンゾイル構造を有するト
リケトン誘導体を有効成分とする除草剤が、畑作物に対
して安全性が高く、また畑雑草に対して優れた除草活性
を示すものが提案されている。例えば、特許登録第２５
７９６６３号公報や国際公開９７／０８１６４号公報に
記載の化合物を有効成分とする除草剤は、畑作物用の除
草剤として優れた効果を有している。しかしながら、こ
れら化合物を有効成分とする除草剤は、水田雑草に対す
る除草効果が充分でなく、また、水稲に対する安全性に
おいて充分であるとはいえないという難点があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な状況に鑑み、栽培作物とくに水稲に対する薬害が少な
く、かつ広範囲な雑草を低薬量で防除することのできる
トリケトン誘導体を有効成分として含有する除草剤の提
供を目的とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、特定の化学構
造を有するトリケトン誘導体が、栽培作物に対する薬害
が少なく、広範囲な種類の雑草を低薬量で防除しうるこ
とを見出し、これら知見に基づいて本発明を完成するに
至った。すなわち、本発明の要旨は、下記のとおりであ
る。（１）下記一般式〔１〕で表されるトリケトン誘導体。

【０００５】

【化５】

【０００６】〔式〔１〕中、Ｒはメチル基であり、Ｘお
よびＹは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニ
トロ基、アミノ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基、−Ｒ¹、−ＯＲ¹、−ＳＲ¹、−ＳＯ₂Ｒ¹、−
ＮＲ²Ｒ³または−ＮＨＣＯＲ ¹（ただし、Ｒ¹は、分
岐構造、環構造および不飽和結合を有していてもよい炭
素数１〜６のアルキル基、分岐構造、環構造および不飽
和結合を有していてもよい炭素数１〜６のハロアルキル
基、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基
を有していてもよいベンジル基であり、Ｒ²およびＲ³
は、それぞれ独立に水素原子、分岐構造、環構造および
不飽和結合を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル
基、分岐構造、環構造および不飽和結合を有していても
よい炭素数１〜６のハロアルキル基、置換基を有してい
てもよいフェニル基、置換基を有していてもよいベンジ
ル基またはＲ²とＲ³が互いに結合した環構造の基であ
る）で表される基であり、Ｍは、水素原子、アルカリ金
属、アルカリ土類金属または有機塩基であり、Ｒ⁴は、
水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、ｍは
０〜４の整数である（ただし、Ｘ、ＹおよびＲ⁴の全て
がメチル基である場合を除く）〕（２）下記一般式
〔２〕で表されるトリケトン誘導体。

【０００７】

【化６】

【０００８】〔式〔２〕中のＲ、Ｘ、Ｙ、Ｍおよびｍ
は、式〔１〕中のＲ、Ｘ、Ｙ、Ｍおよびｍと同一の意味
を有する。〕（３）下記一般式〔３〕で表されるトリケトン誘導体。

【０００９】

【化７】

【００１０】〔式〔３〕中のＲ、Ｘ、Ｍ、Ｒ⁴およびｍ
は、式〔１〕中のＲ、Ｘ、Ｍ、Ｒ⁴およびｍと同一の意
味を有する。〕（４）下記一般式〔４〕で表されるトリケトン誘導体。

【００１１】

【化８】

【００１２】〔式〔４〕中、Ｒはメチル基であり、Ｘお
よびＹは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニ
トロ基、シアノ基、−Ｒ¹、−ＯＲ¹、−ＳＲ¹または
−ＮＲ ²Ｒ³（ただし、Ｒ¹は、分岐構造、環構造およ
び不飽和結合を有していてもよい炭素数１〜６のアルキ
ル基、分岐構造、環構造および不飽和結合を有していて
もよい炭素数１〜６のハロアルキル基、置換基を有して
いてもよいフェニル基または置換基を有していてもよい
ベンジル基であり、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に
水素原子、分岐構造、環構造および不飽和結合を有して
いてもよい炭素数１〜６のアルキル基、分岐構造、環構
造および不飽和結合を有していてもよい炭素数１〜６の
ハロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル
基、置換基を有していてもよいベンジル基またはＲ²と
Ｒ³が互いに結合した環構造の基である）で表される基
であり、Ｚは、−ＯＲ¹−ＳＯ_PＲ¹、−Ａ（ＣＨ₂）
_nＱＲ ¹、−ＮＲ²Ｒ³、−Ｎ（ＯＲ¹）Ｒ²、−Ｏ
（Ｃ＝Ｏ）Ｒ¹、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＯＲ¹、−Ｏ（Ｃ＝
Ｏ）ＳＲ¹、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＲ²Ｒ³または−Ｏ（Ｃ
＝Ｓ）ＮＲ²Ｒ³（ただし、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、前記
ＸおよびＹにおけるＲ¹、Ｒ ²、Ｒ³と同一の意味を有
し、ＡおよびＱは、各々独立に酸素原子または硫黄原子
であり、ｐは０、１または２であり、ｎは１または２で
ある）、−ＯＭ（ただし、Ｍは、水素原子、アルカリ金
属、アルカリ土類金属または有機塩基である）で表され
る基またはハロゲン原子であり、ｍは０〜４の整数であ
る。〕

【００１３】（５）Ｚが、−ＯＭ（ただし、Ｍは、水素
原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属または有機塩基
である）で表される基である前記（４）に記載のトリケ
トン誘導体。

【００１４】（６）Ｙが、水素原子または炭素数１〜６
のアルキル基またはハロゲン原子である前記（１）、
（２）、（４）または（５）に記載のトリケトン誘導
体。（７）Ｙが、水素原子またはメチル基である前記
（１）、（２）、（４）または（５）に記載のトリケト
ン誘導体。（８）Ｙが、水素原子である前記（２）、（４）または
（５）に記載のトリケトン誘導体。

【００１５】（９）Ｘが、ハロゲン原子、−Ｒ¹、−Ｏ
Ｒ¹または−ＳＲ¹である前記（１）〜（８）に記載の
トリケトン誘導体。（１０）Ｘが、ハロゲン原子またはメチル基である前記
（１）または（９）に記載のトリケトン誘導体。

【００１６】（１１）Ｍが、水素原子である前記（１）
〜（１０）のいずれかに記載のトリケトン誘導体。（１２）前記（１）〜（１１）のいずれかに記載のトリ
ケトン誘導体を有効成分として含有することを特徴とす
る除草剤。（１３）前記（１）〜（１１）のいずれかに記載のトリ
ケトン誘導体を有効成分として含有することを特徴とす
る水稲用除草剤。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明のトリケトン誘導体は、前
記の一般式〔１〕で表される化学構造を有するトリケト
ン誘導体である。そして、この一般式〔１〕で表される
化学構造を有するトリケトン誘導体の中でも、さらに、
一般式〔２〕および〔３〕で表される化学構造を有する
トリケトン誘導体が、栽培植物に対する薬害が少なく、
かつ雑草に対する防除効果に優れることから、より好ま
しい化合物である。

【００１８】ここで、前記一般式〔１〕〜〔４〕におけ
るＲ¹〜Ｒ³が表す分岐構造、環構造および不飽和結合
を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基の具体例
としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ
ｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｉ−ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、ｉ−ヘキシル基が挙げられ、エチル基や各種のプ
ロピル基およびブチル基の場合は不飽和結合を含んでい
てもよく、また各種のプロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基の場合は直鎖状、分岐状または環状のい
ずれであってもよい。これらの中でも、メチル基または
エチル基が好ましい。

【００１９】また、上記一般式〔１〕〜〔４〕における
Ｒ¹〜Ｒ³が表す分岐構造、環構造および不飽和結合を
有していてもよい炭素数１〜６のハロアルキル基の具体
例としては、上記アルキル基中の一部または全部の水素
原子が塩素原子、フッ素原子、臭素原子または沃素原子
などのハロゲン原子により置換されたハロアルキル基、
例えば、クロロメチル基、シフルオロメチル基、トリク
ロロメチル基、トリフルオロメチル基、２−クロロエチ
ル基、２−フルオロエチル基、３−クロロプロピル基、
３−フルオロプロピル基などが挙げられる。これらの中
でも、トリフルオロメチル基またはトリクロロメチル基
が好ましい。

【００２０】さらに、上記一般式〔１〕〜〔４〕におけ
るＲ¹〜Ｒ³が表す置換基を有していてもよいフェニル
基の具体例としては、フェニル基、トリル基、ｍ−クロ
ロフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ニトロフ
ェニル基、ｐ−シアノフェニル基などが挙げられる。ま
た、上記Ｒ¹〜Ｒ³が表す置換基を有していてもよいベ
ンジル基の具体例としては、ベンジル基、α−メチルベ
ンジル基、ｏ−メチルベンジル基、ｍ−クロロベンジル
基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、
ｐ−シアノベンジル基などが挙げられる。

【００２１】つぎに、前記一般式〔１〕〜〔４〕におけ
るＸ、Ｙおよび一般式〔４〕におけるＺが表す−ＯＲ¹
基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プ
ロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−
ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｉ−ペンチルオキシ基、ｓ
ｅｃ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｉ−
ヘキシルオキシ基どのアルコキシ基が挙げられる。これ
らプロポキシ基やブトキシ基の場合には不飽和結合を含
んでいてもよく、直鎖状、分岐状もしくは環状の形態を
有する基であってもよい。さらにこれらアルコキシ基中
の一部または全部の水素原子がハロゲン原子で置換され
たハロアルコキシ基、例えば、クロロメチルオキシ基、
ジフルオロメチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ
基、トリフルオロメチルオキシ基、２−クロロエチルオ
キシ基、２−フルオロエチルオキシ基、３−クロロプロ
ピルオキシ基、３−フルオロプロピルオキシ基などが挙
げられる。これらの中でもメトキシ基、エトキシ基、ジ
フルオロメチルオキシ基またはトリフルオロメチルオキ
シ基が好ましい。

【００２２】また、前記一般式〔１〕〜〔４〕における
Ｘおよび、Ｙが表す−ＳＲ¹基の具体例としては、メチ
ルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プ
ロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、
ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｎ−
ペンチルチオ基、ｉ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチ
オ基、ｉ−ヘキシルチオ基などのアルキルチオ基が挙げ
られる。これらプロピルチオ基またはブチルチオ基の場
合には不飽和結合を含んでいてもよく、直鎖構造、分岐
構造もしくは環構造の形態を有する基であってもよい。
さらにこれらアルキルチオ基中の一部または全部の水素
原子がハロゲン原子で置換されたハロアルキルチオ基、
例えば、クロロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ
基、トリクロロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ
基、２−クロロエチルチオ基、２−フルオロエチルチオ
基、３−クロロプルピルチオ基、３−フルオロプルピル
チオ基などが挙げられる。これらの中でも、メチルチオ
基、エチルチオ基またはトリフルオロメチルチオ基が好
ましい。

【００２３】また、−ＳＯ₂Ｒ¹の具体例としては、例
えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プ
ロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−
ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ
−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基
などを挙げることができる。これらの中でも、メチルス
ルホニル基またはエチルスルホニル基が好ましい。ま
た、前記一般式〔１〕〜〔４〕におけるＸ、ＹおよびＺ
が表す−ＮＲ²Ｒ³基の具体例としては、メチルアミノ
基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ピロリジニル
基、ピペリジノ基などが挙げられる。また、−Ｎ（ＯＲ
¹）Ｒ²基の具体例としては、メトキシアミノ基、メト
キシメチルアミノ基、ベンジルオキシアミノ基、アリル
オキシアミノ基などが挙げられる。そして、−ＮＨＣＯ
Ｒ¹の具体例としては、−ＮＨＣＯＣＨ₃、−ＮＨＣＯ
Ｃ ₂Ｈ₅、−ＮＨＣＯＣ₃Ｈ₇、−ＮＨＣＯＣ₄Ｈ₁₀な
どが挙げられる。

【００２４】さらに、一般式〔１〕、〔３〕におけるＲ
⁴は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す
が、この炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ
−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ｓｅｃ
−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−ヘキシル基が挙げ
られる。このＲ⁴としては、水素原子またはメチル基が
好ましく、水素原子が特に好ましい。

【００２５】そして、これら一般式〔１〕〜〔４〕にお
けるＸとして示した上記の置換基の中では、ハロゲン原
子、−Ｒ¹、−ＯＲ¹、−ＳＲ¹が好ましく、さらにハ
ロゲン原子またはメチル基が特に好ましい。また、上記
一般式〔１〕〜〔４〕におけるＹとして示した上記の置
換基の中では、水素原子、ハロゲン原子、−Ｒ¹が好ま
しく、水素原子、メチル基、フッ素原子が特に好まし
い。また、これら一般式〔Ｉ〕〜〔４〕におけるｍは、
０〜４であるが、０〜２が好ましく、０が特に好まし
い。

【００２６】また、前記一般式〔４〕におけるＺが表す
−ＳＯ_PＲ¹基の具体例としては、メチルスルホニル
基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチ
ルスルホニル基、ペンチルスルホニル基またはヘキシル
スルホニル基のアルキルスルホニル基；メチルスルフィ
ニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル
基、ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基ま
たはヘキシルスルフィニル基などのアルキルスルフィニ
ル基；メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、
ブチルチオ基、ペンチルチオ基およびヘキシルチオ基な
どのアルキルチオ基などが挙げられる。

【００２７】さらに、前記一般式〔１〕〜〔３〕におけ
る−ＯＭ基あるいは一般式〔４〕におけるＺが表す−Ｏ
Ｍ基の具体例としては、このＭが水素原子、リチウムや
ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属原子、マグ
ネシウムやカルシウム、バリウムなどのアルカリ土類金
属原子、トリメチルアミン、トリエチルアミンもしくは
アニリンなどの有機塩基が挙げられる。これらの中で
も、Ｍとしては、水素原子が特に好ましい。また、前記
一般式〔４〕で表されるトリケトン誘導体における式中
のＺが水酸基である場合には、下記、

【００２８】

【化９】

【００２９】〔上記式中のＲ、Ｒ⁴ 、Ｘ、Ｙ、ｍは、前
記式〔４〕におけるＲ、Ｒ⁴ 、Ｘ、Ｙ、ｍと同じ意味を
有する〕に示すとおりの互換異性体の構造をとり得る
が、本発明のトリケトン誘導体は、これらすべての化合
物とその混合物も包含するものである。つぎに、本発明
のトリケトン誘導体を製造するにあたっては、まず下記
に示す本発明のトリケトン誘導体を製造するための中間
体を製造する。この中間体のベンゾチオフェン−２−カ
ルボン酸は、例えば、下記の製造工程により効果的に製
造することができる。（１）第１工程においては、化合物（ａ）と化合物
（ｂ）を、各々１モルづつあるいは一方の化合物を等モ
ルよりも過剰に用い、これに１モルあるいは１モル以上
の塩基の存在下に、下記反応によって、化合物（ｃ）を
得る。

【００３０】

【化１０】

【００３１】この場合に用いる塩基としては、アルカリ
金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属水
酸化物などを用いることができる。また、反応溶媒とし
ては、メタノールやエタノールなどのアルコール類、ク
ロロホルムやジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素
類、ヘキサンやトルエンなどの炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、水などのこの反応に不活性な溶媒
が用いられる。そして、この反応を行う際には、０℃な
いし溶媒の沸点の間の温度において反応が完結するまで
攪拌すればよい。

【００３２】さらに、この反応を、四級アンモニウム塩
の存在下に、２相系で行うこともできる。さらには、上
記化合物（ａ）と水硫化ナトリウムまたは水硫化カリウ
ムおよびクロロ酢酸、ブロモ酢酸との反応によっても、
化合物（ｃ）を得ることができる。ここで、化合物
（ｃ）における置換基のＸまたはＹが、脱離能を有する
置換基である場合には、生成物が混合物として得られる
こともあるが、このような場合、つぎの工程の後に蒸
留、再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製して、
目的物を得るようにすればよい。（２）第２工程においては、化合物（ｃ）を下記のとお
りに環化することにより、化合物（ｄ）とする。

【００３３】

【化１１】

【００３４】この環化反応においては、触媒量または等
モル量以上の酸性試薬の存在下に行えばよい。この場合
に用いる酸性試薬としては、塩酸、硫酸、三塩化リン、
五塩化リン、オキシ塩化リン、ポリリン酸、酢酸、無水
酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸無水物、塩化スルフリルなどが好適であ
る。また、この反応は無溶媒で行ってもよいが、反応溶
媒を用いる場合には、ヘキサン、ジクロロメタン、１，
２−ジクロロメタン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアルデヒドなどが好適に使用できる。そして、こ
の反応を行う際には、−２０℃ないし溶媒の沸点の間の
温度において反応が完結するまで攪拌すればよい。

【００３５】また、別法として、化合物（ｃ）のカルボ
ン酸を酸ハロゲン化物に変換し、その後、ルイス酸の存
在下に反応させてもよい。この場合、酸ハロゲン化する
に際しては、オキサリルクロリドやチオニルクロリドな
どのハロゲン化試薬を等モル以上用い、無溶媒あるいは
塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム
などの溶媒を用いて、室温ないし溶媒の沸点の間の温度
において、反応が完結するまで攪拌すればよい。後段の
反応においては、ルイス酸として、塩化アルミニウムや
四塩化チタン、四塩化スズなどを用い、−２０℃ないし
溶媒の沸点の間の温度において反応が完結するまで攪拌
すればよい。この化合物（ｄ）の式におけるＹが水素原
子である場合には、異性体が不純物として混入してくる
ことがあるので、上記と同様の精製方法で精製して使用
すればよい。（３）第３工程においては、化合物（ｄ）を下記のとお
りに還元して、化合物（ｅ）とする。

【００３６】

【化１２】

【００３７】この還元反応に用いる還元剤としては、水
素化ホウ素ナトリウムやアルミニウムトリイソプロポキ
シドなどが好適である。そして、反応溶媒としては、メ
タノール、エタノール、水、ジクロロメタン、トルエン
などが適している。この反応を行う際には、−２０℃な
いし溶媒の沸点の間の温度において反応が完結するまで
攪拌すればよい。（４）第４工程においては、化合物（ｅ）を下記のとお
りに脱水して、化合物（ｆ）とする。

【００３８】

【化１３】

【００３９】この脱水反応においては、触媒量の塩酸、
硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、アンバーリストなどの
酸性物質の存在下に行うことができる。この場合の反応
溶媒としては、ベンゼン、トルエンなどの、生成水を共
沸により除去できるものが好都合である。そして、この
場合、生成水をモレキュラーシーブなどに吸着させる
か、溶媒との共沸により除去することにより、反応を促
進することができる。モレキュラーシーブなどに吸着さ
せる場合には、室温ないし５０℃において反応が完結す
るまで攪拌すればよい。また、共沸脱水する場合には、
溶媒の沸点において加熱還流しながら、理論量の水が共
沸脱水されるまで行う。（５）第５工程においては、化合物（ｆ）を酸化して化
合物（ｇ）とする。

【００４０】

【化１４】

【００４１】この酸化反応では、過酸化水素やｍ−クロ
ロ過安息香酸などの有機過酸化物が２モル以上存在する
条件下で行う。この場合の反応溶媒としては、酢酸や塩
化メチレンが好適である。そして、この反応は、−２０
℃〜１００℃の温度において反応が完結するまで攪拌す
ればよい。（６）第６工程においては、化合物（ｇ）を下記のとお
りに水素化して、化合物（ｈ）とする。

【００４２】

【化１５】

【００４３】この水素化反応は、一般的な接触水添反応
と同様の条件下に行えばよい。ここで用いる触媒として
は、活性炭担持パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金
などが好適である。ここでの反応溶媒としては、テトラ
ヒドロフラン、メタノール、エタノール、酢酸エチル、
水などが用いられる。そして、この場合の条件は、水素
ガス雰囲気で、常圧ないし加圧下、室温ないし溶媒の沸
点の間の温度において反応が完結するまで攪拌すればよ
い。（７）第７工程においては、化合物（ｈ）を下記のとお
りに加水分解して、化合物（ｉ）とする。

【００４４】

【化１６】

【００４５】この加水分解においては、アルカリ金属水
酸化物の等モル以上の存在下に、エタノールなどのアル
コールと水との混合溶媒中、室温ないし溶媒の沸点の間
の温度において反応が完結するまで攪拌すればよい。つ
ぎに、このようにして得られた中間体のベンゾチオフェ
ン−２−カルボン酸を用いて、下記

【００４６】

【化１７】

【００４７】〔上記各式中のＲ、Ｒ⁴ 、Ｘ、Ｙおよびｍ
は、前記式〔１〕〜〔４〕におけるＲ、Ｒ⁴ 、Ｘ、Ｙお
よびｍと同一の意味を有する〕に示す反応を行うことに
より、前記一般式〔１〕〜〔３〕で表されるトリケトン
誘導体および前記一般式〔４〕におけるＺが水酸基であ
るトリケトン誘導体を得ることができる。この反応にお
いては、上記中間体のカルボキシル酸を上記環化反応と
同様にしてハロゲン化物に変換し、これに反応溶媒とし
てアセトニトリルのような反応に不活性な有機溶媒を用
い、トリエチルアミンなどの有機塩基の存在下、０〜２
０℃において反応させ、ついで、アセトンシアンヒドリ
ンのようなシアニド供与体を触媒量添加し、室温で攪拌
下に反応させればよい。

【００４８】さらに、上記で得られた前記一般式〔１〕
〜〔３〕で表されるトリケトン誘導体および前記一般式
〔４〕におけるＺが水酸基であるトリケトン誘導体に、
例えば、特開昭６２−２９８５６３号公報、同６２−２
４２７５５号公報および特開昭６３−２９４７号公報に
記載の反応を用いることによって、その水酸基の一部ま
たは全部を置換し得る化合物を反応させることにより、
前記一般式〔１〕〜〔３〕で表されるトリケトン誘導
体、およびＺとして様々な基の導入された前記一般式
〔４〕で表されるトリケトン誘導体を得ることができ
る。

【００４９】つぎに、本発明の除草剤は、前記一般式
〔Ｉ〕〜〔４〕で表される本発明のトリケトン誘導体を
有効成分として含むものであリ、このトリケトン誘導体
を溶媒などの液状担体または鉱物質微粉などの固体担体
と混合し、水和剤、乳剤、粉剤または粒剤等の形態に製
剤化して使用することができる。さらに、この除草剤の
製剤化に際して、除草剤に乳化性、分散性および展着性
などを付与するため、界面活性剤を添加するとよい。

【００５０】本発明の除草剤を水和剤の形態で使用する
場合、通常、このトリケトン誘導体を５〜５５重量％、
固体担体を４０〜９３重量％および界面活性剤を２〜５
重量％の割合で配合した組成物を調整し、これを除草に
使用すればよい。また、本発明の除草剤を乳剤の形態で
使用する場合には、通常、このトリケトン誘導体を１０
〜５０重量％、溶剤３５〜８５重量％および界面活性剤
を５〜１５重量％の割合で配合した組成物を調整し、こ
れを除草に使用すればよい。

【００５１】そして、本発明の除草剤を粉剤の形態で使
用する場合には、通常、このトリケトン誘導体を１〜１
５重量％、固体担体を８０〜９７重量％および界面活性
剤を２〜５重量％の割合で配合した組成物を調整して使
用すればよい。さらに、本発明の除草剤を粒剤の形態で
使用する場合には、通常、このトリケトン誘導体を１〜
１５重量％、固体担体を８０〜９７重量％および界面活
性剤を２〜５重量％の割合で配合した組成物を粒状に成
形したものを、除草に使用すればよい。

【００５２】前記固体担体としては、例えばケイソウ土
や消石灰などの酸化物、リン灰石などのリン酸塩、セッ
コウなどの硫酸塩、タルク、パイロフェライト、クレ
ー、カオリン、ベントナイト、酸性白土、ホワイトカー
ボン、石英粉末、ケイ石粉などの鉱物質の微粉などが好
適なものとして挙げられる。また、前記溶剤としては、
例えばベンゼン、トルエンもしくはキシレン等の芳香族
炭化水素、ｏ−クロロトルエン、トリクロロエタンもし
くはトリクロロエチレンなどの塩素化炭化水素、シクロ
キサノール、アミルアルコール、エチレングリコールな
どのアルコール、イソホロン、シクロヘキサノン、シク
ロヘキセニル−シクロヘキサノンなどのケトン、ブチル
セロソルブ、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル
などのエーテル、酢酸イソプロピル、酢酸ベンジル、フ
タル酸メチルなどのエステル、ジメチルホルムアミドな
どのアミド、これらの混合物などの有機溶媒が好適なも
のとして挙げられる。

【００５３】さらに、前記界面活性剤としては、アニオ
ン型、ノニオン型、カチオン型またはアミノ酸またはベ
タインなどの両性イオン型の界面活性剤のいずれも使用
することができる。本発明の除草剤には、有効成分とし
て前記一般式〔Ｉ〕〜〔４〕で表されるトリケトン誘導
体と共に、必要に応じて、他の除草活性を有する成分を
含有させることができる。このような他の除草活性成分
としては、例えばジフェニルエーテル系、トリアジン
系、尿素系、カーバメイト系、チオカーバメイト系、酸
アニリド系、ピラゾール系、リン酸系、スルホニルウレ
ア系、オキサジアゾン系などが挙げられ、これら除草活
性成分を適宜選択して併用することができる。

【００５４】さらに、本発明の除草剤に、必要に応じ
て、殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料などを含有
させることもできる。つぎに、本発明の除草剤を施用す
るに際しては、雑草の発芽前または発芽後に、雑草また
はその生育地に施用する。この場合の施用手段として
は、栽培植物の種類や使用環境によって異なるが、たと
えば噴霧、散布、散水、注水などの形態を採用すること
ができる。

【００５５】そして、前記栽培植物としては、たとえば
イネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、エンバク、ソ
ルガムなどのイネ科植物や、ダイズ、ワタ、ビート、ヒ
マワリ、ナタネなどの広葉作物のほか、果樹、果菜類や
根菜類、葉菜類などの野菜、芝生などが挙げられる。本
発明の除草剤により防除の対象とする雑草としては、水
田雑草（Ｐａｄｄｙｗｅｅｄｓ）のヘラオモダカ（Ａｌ
ｉｓｍａｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）、オモダカ
（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｔｒｉｆｏｌｉａ）、ウリカ
ワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａ）などのオ
モダカ科（Ａｌｉｓｍａｔａｃｅａｅ）雑草、タマガヤ
ツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、ミズカ
ヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、ホタ
ルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、クログ
ワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓｋｕｒｏｇｕｗａｉ）な
どのカヤツリグサ科（Ｃｙｐｅｒａｃｅａｅ）雑草、ア
ゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａｐｙｘｉｄａｒｉａ）など
のゴマノハグサ科（Ｓｃｒｏｔｈｕｌａｒｉａｃｅａ
ｅ）雑草、コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａｖａｇｉｎ
ａｌｉｓ）などのミズアオイ科（Ｐｏｎｔｅｎｄｅｒｉ
ａｃｅａｅ）雑草、ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏ
ｎｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）などのヒルムシロ科（Ｐｏ
ｔａｍｏｇｅｔｏｎａｃｅａｅ）雑草、キカシグサ（Ｒ
ｏｔａｌａｉｎｄｉｃａ）等のミソハギ科（Ｌｙｔｈ
ｒａｃｅａｅ）雑草、タイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌ
ｏａｃｒｕｇ−ｇａｌｌｉ）などのイネ科（Ｇｒａｍｉ
ｎｅａｅ）雑草などが挙げられる。

【００５６】また、畑雑草としては、イヌホウズキ（Ｓ
ｏｌａｎｕｍｎｉｇｒｕｍ）、チョウセンアサガオ
（Ｄａｔｕｒａｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）などのナス科
（Ｓｏｌａｎａｃｅａｅ）雑草、イチビ（Ａｂｕｔｉｌ
ｏｎｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ
（ｓｉｄａｓｐｉｎｏｓａ）などのアオイ科（Ｍａｌ
ｖａｃｅａｅ）雑草、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ
ｐｕｒｐｕｒｅａ）などのヒルガオ科（Ｃｏｎｖｏｌ
ｖｕｌａｃｅａｅ）雑草、イヌビユ（Ａｍａｒａｎｔｈ
ｕｓｌｉｖｉｄｕｓ）などのヒユ科（Ａｍａｒａｎｔ
ｈａｃｅａｅ）雑草、オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍｓ
ｔｒｕｍａｒｉｕｍ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ
ａｒｔｅｍｉｓｉｆｏｌｉａ）、ハキダメギク（Ｇａｌ
ｉｎｓｏｇａｃｉｌｉａｔａ）、セイヨウトゲアザミ
（Ｃｉｒｓｉｕｍａｒｖｅｎｓｅ）、ノボロギク（Ｓ
ｅｎｅｃｉｏＶｕｌｇａｒｉｓ）、ヒメジヨン（Ｅｒ
ｉｇｅｒｏｎａｎｎｕｓ）などのキク科（Ｃｏｍｐｏ
ｓｉｔａｅ）雑草、イヌガラシ（Ｒｏｒｉｐｐａｉｎ
ｄｉｃａ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓａｒｖｅ
ｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａｂｕｒｓａ−
ｐａｓｔｏｒｉｓ）などのアブラナ科（Ｂｒａｓｓｉｃ
ａｃｅａｅ）雑草、イヌタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍｂ
ｕｌｕｍｅｉ）、ソバカズラ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍｃ
ｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）などのタデ科（ｐｏｌｙｇｏｎ
ａｃｅａｅ）雑草、スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ
ｏｌｅｒａｃｅａ）などのスベリヒユ科（Ｐｏｒｔｕｌ
ａｃａｃｅａｅ）雑草、シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕ
ｍａｌｕｂｕｍ）、コアカザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕ
ｍｆｉｃｉｏｌｉｕｍ）、ホウキザ（Ｋｏｃｈｉａ
ｓｃｏｐａｒｉａ）などのアカザ科（Ｃｈｅｎｏｐｏｄ
ｉａｃｅａｅ）雑草、ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａｍ
ｅｄｉａ）等のナデシコ科（Ｃａｒｙｏｐｈｙｌｌａｃ
ｅａｅ）雑草、オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ
ｐｅｒｓｉｃａ）などのゴマノハグサ科（Ｓｃｒｏｐｈ
ｕｌａｒｉａｃｅａｅ）雑草、ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌ
ｉｎａｃｏｍｍｕｎｉｓ）などのツユクサ科（Ｃｏｍ
ｍｅｌｉｎａｃｅａｅ）雑草、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕ
ｍａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）、ヒメオドニシキソウ
（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｓｕｐｉｎａ）、オオニシキソ
ウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｍａｃｕｌａｔａ）などのト
ウダイグサ科（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｃｅａｅ）雑草、ト
ゲナシヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍｓｐｕｒｉｕｍ）、
ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍａｐａｒｉｎｅ）、アカネ
（Ｒｕｂｉａａｋａｎｅ）などのアカネ科（Ｒｕｂｉ
ａｃｅａｅ）雑草、スミレ（Ｖｉｏｌａａｒｖｅｎｓ
ｉｓ）などのスミレ科（Ｖｉｌａｃｅａｅ）雑草、アメ
リカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａｅｘａｌｔａｔ
ａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａｏｂｔｕｓｉｆｏｌ
ｉａ）などのマメ科（Ｌｅｇｕｍｉｎｏｓａｅ）雑草な
どの広葉雑草（Ｂｒｏａｄ−ｌｅａｖｅｄｗｅｅｄ
ｓ）、野性ソルガム（Ｓｏｒｇｈｕｍｂｉｃｏｌｏ
ｒ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍｄｉｃｈｏｔｏ
ｍｉｆｌｏｒｕｍ）、ジョンソングラス（Ｓｏｒｇｈｕ
ｍｈａｅｐｅｎｓｅ）、イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈ
ｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉ
ｔａｒｉａａｄｓｃｅｎｄｅｓ）、カラスムギ（Ａｖ
ｅｎａｆａｔｕａ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ
ｉｎｄｉｃａ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｖｉｒ
ｉｄｉｓ）もしくはスズメノテッポウ（Ａｌｏｐｅｃｕ
ｒｕｓａｅｑｕａｌｉｓ）などのイネ科雑草（Ｇｒａ
ｍｉｎａｃｅｏｕｓｗｅｅｄｓ）、ハマスゲ（Ｃｙｐ
ｅｒｕｓｒｏｔｕｎｄｕｓ、Ｃｙｐｅｒｕｓｅｓｃ
ｕｌｅｎｔｕｓ）などのカヤツリグサ科雑草（Ｃｙｐｅ
ｒａｃｅｏｕｓｗｅｅｄｓ）などがある。

【００５７】

〔実施例１〕

〔１〕４−クロロ−５−オキシカルボニル−２，３−ジ
ヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキシドの合成（１）４−カルボキシメチルスルフェニル−２−クロロ
安息香酸エチルエステルの合成２，４−ジクロロ安息香酸エチルエステル１０．０ｇ
と、炭酸カリウム９．４４ｇ、ジメチルホルムアミド５
０ミリリットルおよびメルカプト酢酸３．８ミリリット
ルを、８０℃において、４時間加熱して反応させた。つ
いで、得られた反応混合物を氷水に注ぎ込み、酢酸エチ
ルにより抽出した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾別し
た後、濃縮して、粗反応生成物１２．３ｇを得た。

【００５８】（２）４−クロロ−５−エトキシカルボニ
ル−３−オキソ−２，３−ジヒドロベンゾチオフェンの
合成上記（１）で得られた４−カルボキシメチルスルフェニ
ル−２−クロロ安息香酸エチルエステル１２．３ｇと、
１，２−ジクロロエタン３６ミリリットルおよび塩化チ
オニル３．９ミリリットルを、１時間にわたり、加熱還
流した。ここで得られた反応混合物を濃縮して得られた
酸塩化物を、ジクロロメタン３６ミリリットルに溶解し
た。そして、この溶液を、先に調製しておいた塩化アル
ミニウム１４．３ｇ（１０７ミリモル）とジクロロメタ
ン１５０ミリリットルの溶液に、氷温で１時間かけて滴
下し、さらに室温で２時間反応した。得られた反応混合
物を氷水に注ぎ込み、ジクロロメタンにより抽出した
後、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾別した後、濃縮して、
粗反応生成物の茶褐色オイル１２．３ｇを得た。さら
に、この粗反応生成物をカラムクロマトグラフィーで精
製することにより、目的物の茶色オイル５．３ｇ（収率
２３％）を得た。

【００５９】（３）４−クロロ−５−エトキシカルボニ
ル−３−ヒドロキシ−２，３−ジヒドロベンゾチオフェ
ンの合成上記（２）で得られた４−クロロ−５−エトキシカルボ
ニル−３−オキソ−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン
５．３ｇと、ジクロロメタン２５ミリリットル、エタノ
ール２５ミリリットルの溶液を、氷浴で冷却し、これに
水素化ホウ素ナトリウム０．２６ｇを加え、一晩放置し
た。ついで、得られた反応溶液を氷水に注ぎ込み、ジク
ロロメタンにより抽出した後、硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾別することにより、目的物５．３ｇ（収率９８
％）を得た。

【００６０】（４）４−クロロ−５−エトキシカルボニ
ルベンゾチオフェンの合成上記（３）で得られた４−クロロ−５−エトキシカルボ
ニル−３−ヒドロキシ−２，３−ジヒドロベンゾチオフ
ェン５．３ｇと、トルエン５０ミリリットルおよびｐ−
トルエンスルホン酸０．２ｇを、１時間にわたり共沸脱
水した。得られた反応溶液をトルエンで希釈し、飽和炭
酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾別した後、濃縮して、目的物の茶色オイル４．６
ｇ（収率９５％）を得た。

【００６１】（５）４−クロロ−５−エトキシカルボニ
ルベンゾチオフェン−１，１−ジオキシドの合成上記（４）で得られた４−クロロ−５−エトキシカルボ
ニルベンゾチオフェン４．６ｇと、酢酸３０ミリリット
ルおよび３０重量％濃度の過酸化水素水５．４ミリリッ
トルを、８０℃において２時間攪拌下に反応させた。つ
いで、反応生成物を室温まで冷却し、反応溶液を水で希
釈した後、生成した固体を濾別した。得られた固体を乾
燥後、カラムクロマトグラフィーで精製し、目的物の無
色結晶３．７ｇ（収率９５％）を得た。

【００６２】（６）４−クロロ−５−エトキシカルボニ
ル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジオ
キシドの合成上記（５）で得られた４−クロロ−５−エトキシカルボ
ニルベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド３．７ｇ
と、テトラヒドロフラン４０ミリリットルおよび５％パ
ラジウム／カーボンを、水素ガス雰囲気下、常圧常温に
おいて、８時間反応させた。ついで、得られた反応混合
物を濾別して濃縮することにより、目的物の淡黄色オイ
ル３．４４ｇ（収率９１％）を得た。

【００６３】（７）４−クロロ−５−オキシカルボニル
−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキ
シドの合成上記（６）で得られた４−クロロ−５−エトキシカルボ
ニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジ
オキシド３．４４ｇをエタノール３５ミリリットルに溶
解した溶液に、２０重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶
液５ミリリットルを加えて、一晩放置した。ついで、こ
の反応混合物を濃縮し、５重量％濃度の塩酸水溶液を加
えて酸性化し、生成した沈殿を濾別し、乾燥して目的物
の無色結晶２．６ｇ（収率８４％）を得た。

【００６４】ここで得られた無色結晶については、¹Ｈ
−ＮＭＲ（アセトン−ｄ⁶；ＴＭＳ標準）による分析か
ら、３．４〜３．８（ｍ，４Ｈ）、７．８５（１Ｈ，
ｄ）、８．０６（１Ｈ，ｄ）の結果が得られ、また赤外
線スペクトル分析において、３０８０ｃｍ^-1，３０１０
ｃｍ^-1，１６９０ｃｍ^-1，１４１０ｃｍ^-1，１４００ｃ
ｍ^-1，１３１０ｃｍ^-1，１２９０ｃｍ^-1，１２５０ｃｍ
^-1，１１９０ｃｍ^-1，１１３０ｃｍ^-1に吸収ピークが観
察され、これら結果より、４−クロロ−５−オキシカル
ボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−
ジオキシドであることを確認した。また、この化合物の
融点は、２３２〜２３３℃であった。

【００６５】〔２〕４−クロロ−５−（１，３−ジオキ
ソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒ
ドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番
号Ａ−１〕の合成原料として、上記（１）で得られた４−クロロ−５−オ
キシカルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−
１，１−ジオキシド１．０ｇと、塩化チオニル０．５４
ｇの１，２−ジクロロエタン懸濁液４ミリリットルを、
１時間にわたり、加熱還流下に反応させた。

【００６６】得られた反応生成物より減圧下に溶媒を留
去し、得られた酸塩化物と、１，３−シクロヘキサンジ
オン０．４７ｇを用い、これらを溶媒のアセトニトリル
１０ミリリットルに溶解させた溶液に、室温において、
トリエチルアミン０．８２ｇをアセトニトリル５ミリリ
ットルに溶解させた溶液を滴下した。ついで、この混合
液を室温で２時間攪拌した後、これに、アセトンシアン
ヒドリン０．０１ｇを加え、室温において２０時間攪拌
した。

【００６７】つぎに、この反応混合物に、酢酸エチルを
加え、飽和炭酸ナトリウムで抽出した。水相には、１０
％濃度の塩酸を加えてｐＨ値を１とし、酢酸エチルによ
り抽出した。得られた有機相は、水および飽和食塩水に
より洗浄し、さらに無水硫酸ナトリウムにより乾燥し
た。このようにして得られた生成物より、減圧下に溶媒
を留去して、目的とする４−クロロ−５−（１，３−ジ
オキソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−
ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド１．２
４ｇ（収率９０％）を得た。ここで得られた目的化合物
について、¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃；ＴＭＳ標準）お
よび赤外線スペクトル分析を行った測定結果および化学
構造式ならびに融点の測定結果を第１表に示す。

【００６８】〔実施例２〕４−メチル−５−（１，３−ジオキソシクロヘキサ−２
−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェ
ン−１，１−ジオキシド〔化合物番号Ａ−２〕の合成原料として、実施例１で用いた４−クロロ−５−オキシ
カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，
１−ジオキシドに代えて、４−メチル−５−オキシカル
ボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−
ジオキシドを用いた他は、実施例１と同様にして、目的
化合物を得た。ここで得られた目的化合物についての¹
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および赤外線ス
ペクトル分析の測定結果および化学構造式ならびに融点
の測定結果を、第１表に示す。

【００６９】〔実施例３〕４−クロロ−７−メチル−５−（１，３−ジオキソシク
ロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロベ
ンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番号Ａ−
３〕の合成原料として、実施例１で用いた４−クロロ−５−オキシ
カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，
１−ジオキシドに代えて、４−クロロ−７−メチル−５
−オキシカルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェ
ン−１，１−ジオキシドを用いた他は、実施例１と同様
にして、目的化合物を得た。ここで得られた目的化合物
についての¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）お
よび赤外線スペクトル分析の測定結果および化学構造式
ならびに融点の測定結果を、第１表に示す。

【００７０】〔実施例４〕４，７−ジメチル−５−（１，３−ジオキソシクロヘキ
サ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチ
オフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番号Ａ−４〕の
合成原料として、実施例１で用いた４−クロロ−５−オキシ
カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，
１−ジオキシドに代えて、４，７−ジメチル−５−オキ
シカルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−
１，１−ジオキシドを用いた他は、実施例１と同様にし
て、目的化合物を得た。ここで得られた目的化合物につ
いての¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および
赤外線スペクトル分析の測定結果および化学構造式なら
びに融点の測定結果を、第１表に示す。

【００７１】〔実施例５〕４−メトキシ−５−（１，３−ジオキソシクロヘキサ−
２−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフ
ェン−１，１−ジオキシド〔化合物番号Ａ−５〕の合成原料として、実施例１で用いた４−クロロ−５−オキシ
カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，
１−ジオキシドに代えて、４−メトキシ−５−オキシカ
ルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１
−ジオキシドを用いた他は、実施例１と同様にして、目
的化合物を得た。ここで得られた目的化合物についての
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および赤外線
スペクトル分析の測定結果および化学構造式ならびに融
点の測定結果を、第１表に示す。

【００７２】〔実施例６〕４−メチルチオ−５−（１，３−ジオキソシクロヘキサ
−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオ
フェン−１，１−ジオキシド〔化合物番号Ａ−６〕の合
成原料として、実施例１で用いた４−クロロ−５−オキシ
カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，
１−ジオキシドに代えて、４−メチルチオ−５−オキシ
カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，
１−ジオキシドを用いた他は、実施例１と同様にして、
目的化合物を得た。ここで得られた目的化合物について
の¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および赤外
線スペクトル分析の測定結果および化学構造式ならびに
融点の測定結果を、第１表に示す。

【００７３】〔実施例７〕４−クロロ−５−（４−メチル−１，３−ジオキソシク
ロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロベ
ンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番号Ａ−
７〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、４−メチル−１，３−シクロヘキサン
ジオンを用いた他は、実施例１と同様にして、目的化合
物を得た。ここで得られた目的化合物についての¹Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および赤外線スペク
トル分析の測定結果および化学構造式ならびに融点の測
定結果を、第１表に示す。

【００７４】〔実施例８〕４−クロロ−５−（４，４−ジメチル−１，３−ジオキ
ソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒ
ドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番
号Ａ−８〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、４，４−ジメチル−１，３−シクロヘ
キサンジオンを用いた他は、実施例１と同様にして、目
的化合物を得た。ここで得られた目的化合物についての
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および赤外線
スペクトル分析の測定結果および化学構造式ならびに融
点の測定結果を、第１表に示す。

【００７５】〔実施例９〕４−クロロ−５−（５，５−ジメチル−１，３−ジオキ
ソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒ
ドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番
号Ａ−９〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、５，５−ジメチル−１，３−シクロヘ
キサンジオンを用いた他は、実施例１と同様にして、目
的化合物を得た。ここで得られた目的化合物についての
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および赤外線
スペクトル分析の測定結果および化学構造式ならびに融
点の測定結果を、第１表に示す。

【００７６】〔実施例１０〕４−クロロ−７−メチル−５−（５，５−ジメチル−
１，３−ジオキソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル
−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキ
シド〔化合物番号Ａ−１０〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、５，５−ジメチル−１，３−シクロヘ
キサンジオンを用いるとともに、４−クロロ−５−オキ
シカルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−
１，１−ジオキシドに代えて、４−クロロ−７−メチチ
ル−５−オキシカルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチ
オフェン−１，１−ジオキシドを用いた他は、実施例１
と同様にして、目的化合物を得た。ここで得られた目的
化合物についての¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標
準）および赤外線スペクトル分析の測定結果および化学
構造式ならびに融点の測定結果を、第１表に示す。

【００７７】〔実施例１１〕４−クロロ−７−メチル−５−（４，４−ジメチル−
１，３−ジオキソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル
−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキ
シド〔化合物番号Ａ−１１〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、４，４−ジメチル−１，３−シクロヘ
キサンジオンを用いるとともに、４−クロロ−５−オキ
シカルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−
１，１−ジオキシドに代えて、４−クロロ−７−メチル
−５−オキシカルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオ
フェン−１，１−ジオキシドを用いた他は、実施例１と
同様にして、目的化合物を得た。ここで得られた目的化
合物についての¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標
準）および赤外線スペクトル分析の測定結果および化学
構造式ならびに融点の測定結果を、第１表に示す。

【００７８】〔実施例１２〕４−クロロ−５−（５−メチル−１，３−ジオキソシク
ロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロベ
ンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番号Ａ−
１２〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、５−メチル−１，３−シクロヘキサン
ジオンを用いた他は、実施例１と同様にして、目的化合
物を得た。ここで得られた目的化合物についての¹Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および赤外線スペク
トル分析の測定結果および化学構造式ならびに融点の測
定結果を、第１表に示す。

【００７９】〔実施例１３〕４−クロロ−５−（４，４，６−トリメチル−１，３−
ジオキソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３
−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化
合物番号Ａ−１３〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、４，４，６−トリメチル−１，３−シ
クロヘキサンジオンを用いた他は、実施例１と同様にし
て、目的化合物を得た。ここで得られた目的化合物につ
いての¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および
赤外線スペクトル分析の測定結果および化学構造式なら
びに融点の測定結果を、第１表に示す。

【００８０】〔実施例１４〕４−クロロ−５−（４，６−ジメチル−１，３−ジオキ
ソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒ
ドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番
号Ａ−１４〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、４，６−ジメチル−１，３−シクロヘ
キサンジオンを用いた他は、実施例１と同様にして、目
的化合物を得た。ここで得られた目的化合物についての
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および赤外線
スペクトル分析の測定結果および化学構造式ならびに融
点の測定結果を、第１表に示す。

【００８１】〔実施例１５〕４−クロロ−５−（４，４，６，６−テトラメチル−
１，３−ジオキソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル
−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキ
シド〔化合物番号Ａ−１５〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、４，４，６，６−テトラメチル−１，
３−シクロヘキサンジオンを用いた他は、実施例１と同
様にして、目的化合物を得た。ここで得られた目的化合
物についての¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）
および赤外線スペクトル分析の測定結果および化学構造
式ならびに融点の測定結果を、第１表に示す。

【００８２】〔実施例１６〕４−クロロ−５−（４，５−ジメチル−１，３−ジオキ
ソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒ
ドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番
号Ａ−１６〕の合成原料として、実施例１で用いた１，３−シクロヘキサン
ジオンに代えて、４，５−ジメチル−１，３−シクロヘ
キサンジオンを用いた他は、実施例１と同様にして、目
的化合物を得た。ここで得られた目的化合物についての
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）および赤外線
スペクトル分析の測定結果および化学構造式ならびに融
点の測定結果を、第１表に示す。

【００８３】〔実施例１７〕４−クロロ−２−メチル−５−（１，３−ジオキソシク
ロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロベ
ンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番号Ａ−
１７〕の合成原料として、実施例１で用いた４−クロロ−５−オキシ
カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，
１−ジオキシドに代えて、４−クロロ−２−メチチル−
５−オキシカルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフ
ェン−１，１−ジオキシドを用いた他は、実施例１と同
様にして、目的化合物を得た。ここで得られた目的化合
物についての¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）
および赤外線スペクトル分析の測定結果および化学構造
式ならびに融点の測定結果を、第１表に示す。

【００８４】〔実施例１８〕４−メトキシ−２−メチル−５−（１，３−ジオキソシ
クロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロ
ベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド〔化合物番号Ａ
−１８〕の合成原料として、実施例１で用いた４−クロロ−５−オキシ
カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェン−１，
１−ジオキシドに代えて、４−メトキシ−２−メチル−
５−オキシカルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフ
ェン−１，１−ジオキシドを用いた他は、実施例１と同
様にして、目的化合物を得た。ここで得られた目的化合
物についての¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ標準）
および赤外線スペクトル分析の測定結果および化学構造
式ならびに融点の測定結果を、第１表に示す。

【００８５】〔実施例１９〕４−クロロ−５−（１，３−ジオキソシクロヘキサ−２
−イル）カルボニル−２，３−ジヒドロベンゾチオフェ
ン−１，１−ジオキシドのナトリウム塩〔化合物番号Ａ
−２０〕の合成実施例１と同様にして得た４−クロロ−５−（１，３−
ジオキソシクロヘキサ−２−イル）カルボニル−２，３
−ジヒドロベンゾチオフェン−１，１−ジオキシド０．
１ｇを、テトラヒドロフラン８ミリリットルに溶解さ
せ、水素化ナトリウム０．００６ｇのテトラヒドロフラ
ン２ミリリットル懸濁液に滴下した。

【００８６】ついで、室温において、２５時間攪拌した
後、減圧下に溶媒を留去し、酢酸エチルにて抽出した。
この抽出物を乾燥し、結晶化することにより、目的化合
物０．０８ｇ（収率７５％）を得た。ここで得られた目
的化合物の化学構造式ならびに融点の測定結果を、第１
表に示す。

【００８７】

【表１】

【００８８】

【表２】

【００８９】

【表３】

【００９０】

【表４】

【００９１】〔実施例２０〕（１）除草剤の調製担体としてタルク５７重量部およびベントナイト４０重
量部、界面活性剤としてアルキルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム３重量部を均一に粉砕混合して、水和剤用の担
体を得た。ついで、この水和剤用担体９０重量部に、実
施例１で得られたトリケトン誘導体〔化合物番号Ａ−
１〕１０重量部を加えて、均一に粉砕混合することによ
り、除草剤を得た。

【００９２】（２）除草剤の生物試験生物試験−１（湛水試験／移植３日後処理試験）１／２０００アールのワグナルポットに、水田土壌を充
填してその表層にノビエの種子を播種し、さらにこの土
壌に２．５葉期の稲苗を移植した。

【００９３】つぎに、このポット内の湛水深さを３ｃｍ
として、ポットを２０〜２５℃に温度調節されている温
室内に入れ、植物の生育条件下にこれらを育成した。そ
して、稲苗の移植後３日目に、上記（１）で調製した除
草剤を所定量加えて処理をした。この薬剤処理をした後
３０日目に、殺草率、除草効果、水稲薬害を求めた。

【００９４】生物試験−２（湛水試験／移植１０日
後処理試験）１／２０００アールのワグナルポットに、水田土壌を充
填してその表層にノビエの種子を播種し、さらにこの土
壌に２．５葉期の稲苗を移植した。つぎに、このポット
内の湛水深さを３ｃｍとして、ポットを２０〜２５℃に
温度調節されている温室内に入れ、植物の生育条件下に
これらを育成した。

【００９５】そして、稲苗の移植後１０日目に、上記
（１）で調製した除草剤を所定量加えて処理をした。こ
の薬剤処理をした後３０日目に、殺草率、除草効果、水
稲薬害を求めた。上記生物試験−１および２における除
草効果、薬害については、下記の基準にしたがって求め
た。

【００９６】１）殺草率薬剤処理区の地上部生草重量と、無処理区の地上部生草
重量を測定し、殺草率（％）＝〔１−（薬剤処理区の地
上部生草重量）／（無処理区の地上部生草重量）〕×１
００の式によって、殺草率（％）を算出した。

【００９７】２）除草効果下記の判定基準にしたがって、除草効果を求めた。

【００９８】３）水稲薬害下記の判定基準にしたがって、水稲薬害を求めた。〔水稲薬害の程度〕〔水稲薬害〕０水稲に対する薬害は認められず１水稲に対する薬害はほとんど認められず２水稲に対する薬害が若干認められる３水稲に対する薬害が認められる４水稲に対する薬害が顕著に認められる５水稲はほとんど完全枯死これら生物試験の結果を第３表に示す。

【００９９】〔実施例２１〜３８〕（１）除草剤の調製実施例２０の（１）において用いたトリケトン誘導体に
代えて、実施例２〜１９で得られた各トリケトン誘導体
を用いた他は、実施例２０の（１）と同様にして、除草
剤の調製をした。

【０１００】（２）除草剤の生物試験実施例２０の（１）において調製した除草剤に代えて、
上記（１）で調製した各除草剤を用いた他は、実施例２
０の（２）と同様にして、除草剤の生物試験を行った。
これら生物試験の結果を第３表に示す。

【０１０１】〔比較例１〕（１）除草剤の調製実施例２０の（１）において用いたトリケトン誘導体に
代えて、公知の下記、

【０１０２】

【化１８】

【０１０３】で表される化合物を用いた他は、実施例２
０の（１）と同様にして、除草剤の調製をした。（２）除草剤の生物試験実施例２０の（１）において調製した除草剤に代えて、
上記（１）で調製した各除草剤を用いた他は、実施例２
０の（２）と同様にして、除草剤の生物試験を行った。
これら生物試験の結果を第３表に示す。

【０１０４】〔比較例２〕（１）除草剤の調製実施例２０の（１）において用いたトリケトン誘導体に
代えて、公知の下記、

【０１０５】

【化１９】

【０１０６】で表される化合物を用いた他は、実施例２
０の（１）と同様にして、除草剤の調製をした。（２）除草剤の生物試験実施例２０の（１）において調製した除草剤に代えて、
上記（１）で調製した各除草剤を用いた他は、実施例２
０の（２）と同様にして、除草剤の生物試験を行った。
これら生物試験の結果を第３表に示す。

【０１０７】〔比較例３〕（１）除草剤の調製実施例２０の（１）において用いたトリケトン誘導体に
代えて、公知の下記、

【０１０８】

【化２０】

【０１０９】で表される化合物を用いた他は、実施例２
０の（１）と同様にして、除草剤の調製をした。（２）除草剤の生物試験実施例２０の（１）において調製した除草剤に代えて、
上記（１）で調製した各除草剤を用いた他は、実施例２
０の（２）と同様にして、除草剤の生物試験を行った。
これら生物試験の結果を第３表に示す。

【０１１０】〔比較例４〕（１）除草剤の調製実施例２０の（１）において用いたトリケトン誘導体に
代えて、公知の下記、

【０１１１】

【化２１】

【０１１２】で表される化合物を用いた他は、実施例２
０の（１）と同様にして、除草剤の調製をした。（２）除草剤の生物試験実施例２０の（１）において調製した除草剤に代えて、
上記（１）で調製した各除草剤を用いた他は、実施例２
０の（２）と同様にして、除草剤の生物試験を行った。
これら生物試験の結果を第３表に示す。

【０１１３】

【表５】

【０１１４】

【表６】

【０１１５】

【発明の効果】本発明によれば、栽培作物、殊に水稲に
対する薬害が少なく、かつ広範囲な雑草を低薬量で防除
することのできるトリケトン誘導体を有効成分として含
有する除草剤を提供することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式〔１〕で表されるトリケトン
誘導体。【化１】〔式〔１〕中、Ｒはメチル基であり、ＸおよびＹは、そ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミ
ノ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、−
Ｒ¹、−ＯＲ¹、−ＳＲ¹、−ＳＯ₂Ｒ¹、−ＮＲ²Ｒ
³または−ＮＨＣＯＲ ¹（ただし、Ｒ¹は、分岐構造、
環構造および不飽和結合を有していてもよい炭素数１〜
６のアルキル基、分岐構造、環構造および不飽和結合を
有していてもよい炭素数１〜６のハロアルキル基、置換
基を有していてもよいフェニル基または置換基を有して
いてもよいベンジル基であり、Ｒ²およびＲ³は、それ
ぞれ独立に水素原子、分岐構造、環構造および不飽和結
合を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、分岐
構造、環構造および不飽和結合を有していてもよい炭素
数１〜６のハロアルキル基、置換基を有していてもよい
フェニル基、置換基を有していてもよいベンジル基また
はＲ²とＲ³が互いに結合した環構造の基である）で表
される基であり、Ｍは、水素原子、アルカリ金属、アル
カリ土類金属または有機塩基であり、Ｒ⁴は、水素原子
または炭素数１〜６のアルキル基であり、ｍは０〜４の
整数である（ただし、Ｘ、ＹおよびＲ⁴の全てがメチル
基である場合を除く）〕
【請求項２】下記一般式〔２〕で表されるトリケトン
誘導体。【化２】〔式〔２〕中のＲ、Ｘ、Ｙ、Ｍおよびｍは、式〔１〕中
のＲ、Ｘ、Ｙ、Ｍおよびｍと同一の意味を有する。〕
【請求項３】下記一般式〔３〕で表されるトリケトン
誘導体。【化３】〔式〔３〕中のＲ、Ｘ、Ｍ、Ｒ⁴およびｍは、式〔１〕
中のＲ、Ｘ、Ｍ、Ｒ⁴およびｍと同一の意味を有す
る。〕
【請求項４】下記一般式〔４〕で表されるトリケトン
誘導体。【化４】〔式〔４〕中、Ｒはメチル基であり、ＸおよびＹは、そ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、−Ｒ¹、−ＯＲ¹、−ＳＲ¹または−ＮＲ ²Ｒ³
（ただし、Ｒ¹は、分岐構造、環構造および不飽和結合
を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、分岐構
造、環構造および不飽和結合を有していてもよい炭素数
１〜６のハロアルキル基、置換基を有していてもよいフ
ェニル基または置換基を有していてもよいベンジル基で
あり、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に水素原子、分
岐構造、環構造および不飽和結合を有していてもよい炭
素数１〜６のアルキル基、分岐構造、環構造および不飽
和結合を有していてもよい炭素数１〜６のハロアルキル
基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有
していてもよいベンジル基またはＲ²とＲ³が互いに結
合した環構造の基である）で表される基であり、Ｚは、
−ＯＲ¹−ＳＯ_PＲ¹、−Ａ（ＣＨ₂）_nＱＲ ¹、−Ｎ
Ｒ²Ｒ³、−Ｎ（ＯＲ¹）Ｒ²、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ¹、
−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＯＲ¹、−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＳＲ¹、−Ｏ
（Ｃ＝Ｏ）ＮＲ²Ｒ³または−Ｏ（Ｃ＝Ｓ）ＮＲ²Ｒ³
（ただし、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、前記ＸおよびＹにおけ
るＲ¹、Ｒ ²、Ｒ³と同一の意味を有し、ＡおよびＱ
は、各々独立に酸素原子または硫黄原子であり、ｐは
０、１または２であり、ｎは１または２である）、−Ｏ
Ｍ（ただし、Ｍは、水素原子、アルカリ金属、アルカリ
土類金属または有機塩基である）で表される基またはハ
ロゲン原子であり、ｍは０〜４の整数である。〕
【請求項５】Ｚが、−ＯＭ（ただし、Ｍは、水素原
子、アルカリ金属、アルカリ土類金属または有機塩基で
ある）で表される基である請求項４記載のトリケトン誘
導体。
【請求項６】Ｙが、水素原子、炭素数１〜６のアルキ
ル基またはハロゲン原子である請求項１、２、４または
５のいずれかに記載のトリケトン誘導体。
【請求項７】Ｙが、水素原子またはメチル基である請
求項１、２、４または５のいずれかに記載のトリケトン
誘導体。
【請求項８】Ｙが、水素原子である請求項２、４また
は５のいずれかに記載のトリケトン誘導体。
【請求項９】Ｘが、ハロゲン原子、−Ｒ¹、−ＯＲ¹
または−ＳＲ¹である請求項１〜８のいずれかに記載の
トリケトン誘導体。
【請求項１０】Ｘが、ハロゲン原子またはメチル基であ
る請求項１〜９のいずれかに記載のトリケトン誘導体。
【請求項１１】Ｍが、水素原子である請求項１〜１０の
いずれかに記載のトリケトン誘導体。
【請求項１２】請求項１〜１１のいずれかに記載のトリ
ケトン誘導体を有効成分として含有することを特徴とす
る除草剤。
【請求項１３】請求項１〜１１のいずれかに記載のトリ
ケトン誘導体を有効成分として含有することを特徴とす
る水稲用除草剤。