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JP2000150704A - 半導体素子搭載用多層配線板の製造方法 - Google Patents

半導体素子搭載用多層配線板の製造方法

Info

Publication number
JP2000150704A
JP2000150704A JP10318251A JP31825198A JP2000150704A JP 2000150704 A JP2000150704 A JP 2000150704A JP 10318251 A JP10318251 A JP 10318251A JP 31825198 A JP31825198 A JP 31825198A JP 2000150704 A JP2000150704 A JP 2000150704A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
semiconductor element
cavity
mounting
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10318251A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Iijima
利行 飯島
Akira Murai
曜 村井
Fumio Ishigami
富美男 石上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP10318251A priority Critical patent/JP2000150704A/ja
Publication of JP2000150704A publication Critical patent/JP2000150704A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体素子搭載用多層配線板を製造する際
に、プレスの圧力を均一化すると共にキャビティー部へ
の接着絶縁シートの樹脂の流出を防止し、半導体素子の
埋設性やワイヤボンディングによる接続性を改善する製
造方法を提供する。 【解決手段】 ベース配線板1及び半導体素子搭載用の
キャビティー用穴3を設けた穴あき配線板2を、キャビ
ティー用穴を設けた接着絶縁シート4を介して重ね、加
熱加圧して積層する半導体素子搭載用多層配線板10の
製造方法において、最外層の穴あき配線板2と鏡板8と
の間に熱可塑性樹脂シート7の両面に離型フィルム6を
配したクッション材5を使用する半導体素子搭載用多層
配線板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子搭載用
多層配線板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、キャビティー仕様のBGA及び
PGAといわれている半導体素子搭載用パッケージは、
図1に示すような半導体素子を搭載するためのキャビテ
ィー9を有する多層配線板である。このようなキャビテ
ィー9を有する半導体素子搭載用多層配線板10は、ベ
ース配線板1の上に、キャビティー用穴3を設けた複数
枚の穴あき配線板2を、同じくキャビティー用穴3を設
けた接着絶縁シート4を介して重ね、2枚の鏡板8の間
に挟んで加熱加圧することにより積層成形して製造され
ていた。キャビティー9内には、半導体素子と回路配線
とを接続するための端子となる回路が露出している。こ
のため、接着絶縁シートとしては、加熱加圧するとき、
接着絶縁シートの樹脂がキャビティー9内に流出しない
ように、樹脂流れが小さいローフローの接着絶縁シート
が使用されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに樹脂流れの小さいローフロープリプレグを用いて
も、キャビティー9内への樹脂流れを皆無にすることは
できなかった。キャビティー9内に樹脂が流出すると、
キャビティー内に露出している回路の一部を覆ってしま
い、その部分については、半導体素子との接続に使用す
ることができない。このため、従来は、樹脂流出をある
程度見込んでキャビティー9の寸法を半導体素子の搭載
に必要な大きさより大きめにする必要があり、小型化の
障害になっていた。また、多層化プレス時にキャビティ
ー用穴内には圧力が掛からず、逆にその周辺に局所的な
圧力が掛かって板厚精度を悪くしたり、その局所的な圧
力のため、キャビティー9への樹脂流出が増大したりす
ることがある。半導体素子搭載用多層配線板の場合、こ
うした板厚精度の悪化やキャビティー部への樹脂流出
は、半導体素子の埋設や半導体素子とプリント配線板と
のワイヤボンディング性能を悪くするため、改善が望ま
れていた。本発明は、BGA及びPGA等に用いる半導
体素子搭載用多層配線板を製造する際に、プレスの圧力
を均一化すると共にキャビティー部への接着絶縁シート
の樹脂の流出を防止し、半導体素子の埋設性やワイヤボ
ンディングによる接続性を改善する製造方法を提供する
ことを課題とした。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、ベース配線板
及び半導体素子搭載用のキャビティー用穴を設けた穴あ
き配線板を、キャビティー用穴を設けた接着絶縁シート
を介して重ね、加熱加圧して積層する半導体素子搭載用
多層配線板の製造方法において、最外層の穴あき配線板
と鏡板との間に熱可塑性樹脂シートの両面に離型フィル
ムを配したクッション材を使用することを特徴とする半
導体素子搭載用多層配線板の製造方法である。まず発明
者らは、先にキャビティー用穴あけを行った多層化構成
品を面内圧カを均一にプレスする方法を検討し、多層化
プレスする際に鏡板と多層化構成品の間にクッションを
使用することが効果的であることを見出した。更にその
クッション材の構成や種類を検討し、熱可塑性樹脂シー
ト両面に離型フィルムを配したクッション材を使用する
方法を確立した。
【0005】
【発明の実施の形態】ベース配線板1、穴あき配線板2
としては、ガラス布を基材としこれに熱硬化性樹脂ワニ
スを含浸乾燥して得れれるプリプレグと、金属箔、例え
ば銅箔とを積層し、硬化させて金属張り積層板を得、こ
の金属張り積層板に回路加工や穴あけ加工したものが使
用される。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂が電気
的特性や価格の面から好ましい。耐熱性など特に必要が
あるときには、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド−トリ
アジン樹脂などの熱硬化性樹脂も使用することができ
る。接着絶縁シート4としては、前記のベース配線板1
又は穴あき配線板2の製造に用いたプリプレグ又は、エ
ポキシ樹脂にNBR等のゴム、アクリル樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂、フェノール樹脂等を配合してフィル
ム状に製膜して得られるフィルム状接着剤を使用するこ
とができる。ベース配線板1及び半導体素子搭載用のキ
ャビティー用穴3を設けた穴あき配線板2を、キャビテ
ィー用穴3を設けた接着絶縁シート4を介して重ね、加
熱加圧するときの条件は、温度150〜180℃、圧力
1〜20MPaの範囲とするのが好ましい。温度が15
0℃未満であると、接着強度が不足し、180℃を超え
ると樹脂がキャビティー用穴内に流れ出す傾向が大とな
る傾向にある。また、圧力が1MPa未満であると接着
強度が不足し、20MPaを超えると絶縁接着シートが
破断する傾向にある。このことから、温度160〜17
5℃、圧力2〜10MPaの範囲がより好ましい。ベー
ス配線板1及び半導体素子搭載用のキャビティー用穴3
を設けた穴あき配線板2を、キャビティー用穴3を設け
た接着絶縁シート4を介して重ね、加熱加圧するとき、
これらの構成材料を2枚の鏡板8の間に挟むが、この鏡
板8としては、配線板分野の積層成形で使用されている
ものがそのまま用いられ、例えば、厚さ0.5〜5mm
の金属板が使用される。金属板としては、耐食性の観点
から、ステンレス板が好適に用いられる。鏡板8と最外
層の穴あき配線板2との間には、クッション材5として
ポリエチレン樹脂シートのような熱可塑性樹脂シート7
の両面に三フッ化ポリエチレンフィルムのような離型フ
ィルム6を配した構成材を用いる。熱可塑性樹脂シート
としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等の熱可塑性樹脂シートが使用可能で、好ましくは、
溶融温度が80〜130℃のものが好ましい結果を得る
ことができる。離型フィルムは耐熱性のあるフィルムで
なければならない。少なくとも多層化プレス温度では溶
融しないもので、例えば三フッ化ポリエチレンのフィル
ムが使用できる。
【0006】離型フィルムで挟んだこの熱可塑性樹脂シ
ートはクッションとして働き、加熱により樹脂が流動
し、キャビティー用穴3へ流れ込んでキャビティー9と
同形状になる。キャビティーと同形状になるため製品全
体に圧力が均一に掛り、また、キャビティー9が、クッ
ション材で埋め込まれているため、多層板構成で使用さ
れている接着絶縁シートからの樹脂の流れ込みも防ぐこ
とができる。プレス後は、離型フィルムによりキャビテ
ィーと同形状になったクッション材を容易に剥がし取る
ことができる。クッション材5の厚みは、キャビティー
9の厚さであるベース配線板1の上面から最外層の穴あ
き配線板2の上面までのキャビティー高さ以上とし、そ
のキャビティー高さの3倍以内とするのが好ましい。キ
ャビティー高さ未満では、キャビティー内に充填し圧力
伝達に効果がなく、3倍を超えると圧力伝達に充分であ
り、それ以上では効果が飽和してくるため経済的でなく
なる。クッション材の熱可塑性樹脂シート7の厚みは、
キャビティー高さと同程度以上とすることが好ましく、
離型フィルム6は、熱可塑性樹脂シート7より薄い方が
好ましい。
【0007】
【実施例】(実施例)15×15mmのキャビティー用
穴あけ加工を行った穴あき配線板(厚み0.2mm)
と、10×10mmキャビティー用穴あけ加工を行った
穴あき配線板(厚み0.2mm)とを穴あけ加工を行っ
ていないベース配線板1の上に図1のように、それぞれ
15×15mmと10×10mmのキャビティー用穴を
設けた絶縁接着シート(ガラス基材エポキシ樹脂プリプ
レグ、GEA−67N、日立化成工業株式会社製商品
名、基材厚み0.05mm、樹脂の溶融粘度750Pa
・s、樹脂固形分65重量%)を介して構成した。更
に、多層構成の最外層の穴あき配線板面と鏡板との間に
厚み25μmの三フッ化ポリエチレンフィルムを表裏に
構成した溶融温度105℃、1.0mm厚みのポリエチ
レン樹脂シートを挿入し、圧力3MPa、温度170
℃、90分間加熱加圧した。得られた半導体素子搭載用
多層配線板は板厚のばらつきが小さい他、キャビティー
部への樹脂流出も無く、良好であった。
【0008】(比較例)実施例と同じ多層板構成を行
い、クッション材を使用せず同条件で多層化プレスを行
った。得られた半導体素子搭載用多層配線板は板厚ばら
つきが大きい上、キャビティー部への樹脂流出も大き
く、半導体チップの実装及びワイヤボンディングが不可
能であった。
【0009】
【発明の効果】本発明の熱可塑性樹脂シートの両面に離
型フィルムを配したクッション材を使用することにより
キャビティー内に均一の圧力を掛けることができるほ
か、クッション材がキャビティー内に埋め込まれている
ため、接着絶縁シートから樹脂の流れ込みを防ぎ、キャ
ビティー部以外のベース配線板や穴あき配線板の配線回
路を接着絶縁シートでボイドなく埋めることができ、穴
あき配線板周辺の多層配線板の厚みを均一に成形するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、本発明の半導体素子搭載用多層配線
板の構成を説明するための断面図である。
【符号の説明】
1.ベース配線板 2.穴あき配線板 3.キャビティー用穴 4.接着絶縁シート 5.クッション材 6.離型フィルム 7.熱可塑性樹脂シート 8.鏡板 9.キャビティー 10.半導体素子搭載用多層配線板
フロントページの続き (72)発明者 石上 富美男 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館工場内 Fターム(参考) 5E346 AA02 AA12 AA16 AA60 BB01 CC08 CC41 CC60 DD02 EE02 EE06 EE07 EE09 EE14 FF45 GG01 GG28 HH11

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ベース配線板及び半導体素子搭載用のキ
    ャビティー用穴を設けた穴あき配線板を、キャビティー
    用穴を設けた接着絶縁シートを介して重ね、加熱加圧し
    て積層する半導体素子搭載用多層配線板の製造方法にお
    いて、最外層の穴あき配線板と鏡板との間に熱可塑性樹
    脂シートの両面に離型フィルムを配したクッション材を
    使用することを特徴とする半導体素子搭載用多層配線板
    の製造方法。
JP10318251A 1998-11-10 1998-11-10 半導体素子搭載用多層配線板の製造方法 Pending JP2000150704A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003034798A1 (fr) * 2001-10-12 2003-04-24 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Procede de fabrication d'un substrat en forme de circuit
JP2008244177A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Matsushita Electric Works Ltd 凹凸回路基板の製造方法
JP2008244178A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Matsushita Electric Works Ltd 素子実装基板及びその製造方法並びに赤外線検出器

Cited By (4)

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WO2003034798A1 (fr) * 2001-10-12 2003-04-24 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Procede de fabrication d'un substrat en forme de circuit
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