JP2000066199A - Liquid crystal device and electronic equipment - Google Patents
Liquid crystal device and electronic equipmentInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置の技術分
野に属し、特に、反射型表示と透過型表示とを切り換え
て表示することのできる液晶装置及びこの液晶装置を用
いた電子機器の技術分野に属する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of a liquid crystal device, and more particularly, to a liquid crystal device capable of switching and displaying a reflection type display and a transmission type display, and a technique of an electronic apparatus using the liquid crystal device. Belongs to the field.
【0002】[0002]
【背景技術】従来、反射型液晶装置は消費電力が小さい
ために携帯機器や装置の付属的表示部などに多用されて
いるが、外光を利用して表示を視認可能にしているた
め、暗い場所では表示を読みとることができないという
問題点があった。このため、明るい場所では通常の反射
型液晶装置と同様に外光を利用するが、暗い場所では内
部の光源により表示を視認可能にした形式の液晶装置が
提案されている。これは、実開昭57−049271号
公報に記載されているように、液晶パネルの観察側と反
対側の外面に偏光板、半透過反射板、バックライトを順
次配置した構成をしている。この液晶装置では、周囲が
明るい場合には外光を取り入れて半透過反射板にて反射
された光を利用して反射型表示を行い、周囲が暗くなる
とバックライトを点灯して半透過反射板を透過させた光
により表示を視認可能とした透過型表示を行う。2. Description of the Related Art Conventionally, reflection type liquid crystal devices have been frequently used for portable devices and auxiliary display units of the devices due to low power consumption. However, since the display is made visible using external light, the reflection type liquid crystal device is dark. There was a problem that the display could not be read at the place. For this reason, there has been proposed a liquid crystal device of a type in which external light is used in a bright place similarly to a normal reflection type liquid crystal device, but in a dark place, the display can be visually recognized by an internal light source. In this configuration, as described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 57-049271, a polarizing plate, a transflective plate, and a backlight are sequentially arranged on the outer surface of the liquid crystal panel opposite to the observation side. In this liquid crystal device, when the surroundings are bright, external light is taken in and reflective display is performed using light reflected by the semi-transmissive reflecting plate. When the surroundings are dark, the backlight is turned on and the semi-transmissive reflecting plate is turned on. A transmissive display in which the display can be visually recognized by the light transmitted through is provided.
【0003】別の液晶装置としては、反射型表示の明る
さを向上させた特開平8−292413号公報に記載さ
れたものがある。この液晶装置は、液晶パネルの観察側
と反対側の外面に半透過反射板、偏光板、バックライト
を順次配置した構成をしている。周囲が明るい場合には
外光を取り入れて半透過反射板にて反射された光を利用
して反射型表示を行い、周囲が暗くなるとバックライト
を点灯して偏光板と半透過反射板を透過させた光により
表示を視認可能とした透過型表示を行う。このような構
成にすると、液晶セルと半透過反射板の間に偏光板がな
いため、前述した液晶装置よりも明るい反射型表示が得
られる。As another liquid crystal device, there is one disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-292413 in which the brightness of a reflective display is improved. This liquid crystal device has a configuration in which a transflective plate, a polarizing plate, and a backlight are sequentially arranged on the outer surface of the liquid crystal panel opposite to the observation side. When the surroundings are bright, external light is taken in and reflective display is performed using the light reflected by the semi-transmissive reflector. When the surroundings are dark, the backlight is turned on and the polarizing plate and the semi-transmissive reflector are transmitted. A transmissive display in which the display is visually recognizable by the applied light is performed. With such a configuration, since there is no polarizing plate between the liquid crystal cell and the transflective plate, a reflective display brighter than the above-described liquid crystal device can be obtained.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平8−292413号公報に記載された液晶装置で
は、液晶層と半透過反射板との間に透明基板が介在する
ため、二重映りや表示のにじみなどが発生してしまうと
いう問題点がある。However, in the liquid crystal device described in JP-A-8-292413, since a transparent substrate is interposed between the liquid crystal layer and the transflective plate, double reflection or display is not possible. There is a problem that blurring occurs.
【0005】更に、近年の携帯機器やOA機器の発展に
伴って液晶表示のカラー化が要求されるようになってお
り、反射型液晶装置を用いるような機器においてもカラ
ー化が必要な場合が多い。ところが、上記公報に記載さ
れている液晶装置とカラーフィルタを組み合わせた方法
では、半透過反射板を液晶パネルの後方に配置している
ため、液晶層やカラーフィルタと半透過反射板との間に
液晶パネルの厚い透明基板が介在し、視差によって二重
映りや表示のにじみなどが発生してしまい、十分な発色
を得ることができないという問題点がある。Further, with the development of portable equipment and OA equipment in recent years, colorization of liquid crystal display has been required, and there are cases where colorization is necessary even in equipment using a reflection type liquid crystal device. Many. However, in the method in which the liquid crystal device and the color filter described in the above publication are combined, the transflective plate is disposed behind the liquid crystal panel. There is a problem in that a thick transparent substrate of the liquid crystal panel is interposed, and a double reflection or blurring of display occurs due to parallax, so that sufficient coloring cannot be obtained.
【0006】この問題を解決するために、特開平9−2
58219号公報では、液晶層と接するように反射板を
配置する反射型カラー液晶装置が提案されている。しか
しながら、この液晶装置では、周囲が暗くなると表示を
認識することができない。To solve this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 9-2
Japanese Patent No. 58219 proposes a reflective color liquid crystal device in which a reflector is arranged so as to be in contact with a liquid crystal layer. However, in this liquid crystal device, when the surroundings are dark, the display cannot be recognized.
【0007】他方、特開平7−318929号公報で
は、液晶セルの内面に半透過反射膜を兼ねる画素電極を
設けた半透過反射型の液晶装置が提案されている。また
金属膜からなる半透過反射膜上に、ITO(Indium Tin
Oxide)膜からなる透明画素電極を絶縁膜を介して重ね
た構成を開示している。しかしながら、この液晶装置で
は、半透過反射膜を兼ねる画素電極に対して或いは透明
画素電極が重ねられる半透過反射膜に対して、孔欠陥、
凹入欠陥等の微細な欠陥部や微細な開口部を多数設ける
必要が有るため、装置構成が複雑化すると共にその製造
において特殊な工程が付加的に必要となり、信頼性のあ
る画素電極或いは半透過反射膜を製造するのが困難であ
る。On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-318929 proposes a transflective liquid crystal device in which a pixel electrode serving also as a transflective film is provided on the inner surface of a liquid crystal cell. Also, ITO (Indium Tin) is formed on a semi-transmissive reflective film made of a metal film.
Oxide) is disclosed in which a transparent pixel electrode made of a film is stacked via an insulating film. However, in this liquid crystal device, a hole defect or a defect occurs with respect to a pixel electrode which also serves as a transflective film or a transflective film on which a transparent pixel electrode is superimposed.
Since it is necessary to provide a large number of fine defects such as dent defects and fine openings, the structure of the device becomes complicated, and a special process is additionally required in the manufacture thereof. It is difficult to manufacture a transflective film.
【0008】本発明は上述の問題点に鑑みなされたもの
であり、反射型表示と透過型表示とを切換え可能な液晶
装置において、比較的簡単な装置構成を用いて、視差に
よる二重映りや表示のにじみなどが発生せず、反射型表
示時と透過型表示時の両方で高品位の画像表示が可能で
あると同時に装置信頼性が高い半透過反射型の液晶装置
及びその液晶装置を用いた電子機器を提供することを課
題とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems. In a liquid crystal device capable of switching between a reflective display and a transmissive display, a double image due to parallax is produced by using a relatively simple device configuration. Uses a transflective liquid crystal device with high display quality in both reflective and transmissive displays without causing display bleeding, etc. It is an object to provide an electronic device that has been used.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の液晶装置は上記
課題を解決するために、透明な一対の第1及び第2基板
と、該第1及び第2基板間に挟持された液晶層と、前記
第2基板の前記液晶層側の面上に形成されており、前記
第2基板に垂直な方向から平面的に見て相互に夫々分断
されている複数の反射層と、前記反射層に部分的に重ね
て形成されていると共に平面的に見て前記反射層に重な
らない部分を含む透明電極と、前記第2基板の前記液晶
層と反対側に配置された照明装置とを備える。According to the present invention, there is provided a liquid crystal device comprising: a pair of transparent first and second substrates; and a liquid crystal layer sandwiched between the first and second substrates. A plurality of reflective layers formed on a surface of the second substrate on the liquid crystal layer side, the plurality of reflective layers being separated from each other when viewed two-dimensionally from a direction perpendicular to the second substrate; A transparent electrode including a portion that is formed to partially overlap and does not overlap the reflective layer when viewed in plan; and a lighting device disposed on the second substrate on the side opposite to the liquid crystal layer.
【0010】本発明の液晶装置によれば、反射型表示時
には、反射層により、第1基板側から入射した外光を液
晶層側に反射する。この際、反射層は、第2基板の液晶
層側に配置されているため、該反射層と液晶層との間に
間隙が殆どなく、そのため視差に起因する表示の二重映
りや表示のにじみが発生しない。他方、透過型表示時に
は、照明装置から発せられ、第2基板側から入射した光
源光を、反射層の間隙及び透明電極を介して液晶層側に
透過する。従って、暗所では光源光を用いて明るい表示
が可能となる。According to the liquid crystal device of the present invention, at the time of the reflection type display, the external light incident from the first substrate side is reflected toward the liquid crystal layer side by the reflection layer. At this time, since the reflective layer is disposed on the liquid crystal layer side of the second substrate, there is almost no gap between the reflective layer and the liquid crystal layer, and therefore, double reflection of display and display bleeding due to parallax are caused. Does not occur. On the other hand, at the time of the transmissive display, the light source light emitted from the illumination device and incident from the second substrate side is transmitted to the liquid crystal layer side through the gap between the reflective layers and the transparent electrode. Therefore, a bright display can be performed in a dark place using the light from the light source.
【0011】本発明の液晶装置では特に、反射層におい
て透明電極が重なっている反射領域(非透過領域)で反
射された外光は、該反射領域にある透明電極部分によっ
て駆動される液晶部分を通過する。即ち、該反射領域に
ある透明電極部分により縦電界で駆動する液晶部分を用
いて反射型表示を行える。他方、照明装置から発せら
れ、反射層の間隙に当たる透過領域(非反射領域)を透
過する光源光は、当該反射層に重なっていない透明電極
部分を通過し、該透過領域にある透明電極部分によって
駆動される液晶部分を通過する。即ち、該透過領域にあ
る透明電極部分により縦電界で駆動する液晶部分を用い
て透過型表示を行える。このように、反射層に重なって
いる透明電極部分を用いて反射型表示時の液晶駆動を行
い、反射層に重なっていない透明電極部分を用いて透過
型表示時の液晶駆動を行うので、いずれの型の表示時に
も縦電界で良好に液晶駆動を行うことが可能となり、各
ドット内又は各画素内において液晶の配向方向が均一と
なり、配向方向の乱れに起因する表示品質の劣化を防止
できる。尚、反射層において透明電極が重なっていない
部分は、表示に寄与しない(即ち、コントラスト比を低
下させる)ため、基本的に不要であり、限られた画像表
示領域の有効利用の観点からも、この透明電極が重なっ
ていない反射層部分は、設けないように平面レイアウト
するのが好ましい。In the liquid crystal device of the present invention, in particular, the external light reflected on the reflection area (non-transmission area) where the transparent electrode overlaps on the reflection layer reflects the liquid crystal part driven by the transparent electrode part in the reflection area. pass. That is, a reflective display can be performed using a liquid crystal portion driven by a vertical electric field by a transparent electrode portion in the reflection region. On the other hand, the light source light emitted from the lighting device and transmitted through the transmission region (non-reflection region) corresponding to the gap of the reflection layer passes through the transparent electrode portion not overlapping the reflection layer, and is transmitted by the transparent electrode portion in the transmission region. It passes through the driven liquid crystal part. That is, transmissive display can be performed using a liquid crystal portion driven by a vertical electric field by a transparent electrode portion in the transmission region. As described above, the liquid crystal drive during the reflective display is performed using the transparent electrode portion overlapping the reflective layer, and the liquid crystal drive during the transmissive display is performed using the transparent electrode portion not overlapping the reflective layer. It is possible to drive the liquid crystal satisfactorily by the vertical electric field even during the display of the type (1), the liquid crystal alignment direction becomes uniform in each dot or each pixel, and it is possible to prevent the deterioration of the display quality due to the disorder of the alignment direction. . Note that a portion of the reflective layer where the transparent electrodes do not overlap does not contribute to display (that is, lowers the contrast ratio), and is basically unnecessary, and from the viewpoint of effective use of a limited image display area, It is preferable to lay out the reflective layer portion where the transparent electrode does not overlap so as not to provide the reflective layer portion.
【0012】更に本発明の液晶装置では、前述した従来
例の如く半透過反射膜を兼ねる画素電極に対して或いは
透明画素電極が重ねられる半透過反射膜に対して、孔欠
陥、凹入欠陥等の微細な欠陥部や微細な開口部を多数設
ける必要がないため、装置構成が複雑化することはな
く、また、その製造において特殊な工程が付加的に必要
となることもない。この結果、信頼性のある反射層上に
透明電極が積層された積層構造を構築することができ、
最終的には、比較的簡単な装置構成を用いて、反射型表
示時と透過型表示時の両方で高品位の画像表示が可能で
あると同時に装置信頼性が高い液晶装置が実現される。Further, in the liquid crystal device according to the present invention, a hole defect, a dent defect, etc., may be caused with respect to a pixel electrode which also functions as a transflective film as in the above-mentioned conventional example or a transflective film on which a transparent pixel electrode is superimposed. Since there is no need to provide a large number of fine defects and fine openings, the configuration of the device does not become complicated, and no special process is additionally required in its manufacture. As a result, a laminated structure in which the transparent electrode is laminated on the reliable reflective layer can be constructed,
Finally, using a relatively simple device configuration, a liquid crystal device that can display high-quality images in both the reflective display mode and the transmissive display mode and has high device reliability is realized.
【0013】このような反射層の材料としては、Al
(アルミニウム)が主成分の金属が用いられるが、Cr
(クロム)やAg(銀)などの可視光領域の外光を反射
させることのできる金属であれば、その材料は特に限定
されるものではない。As a material of such a reflective layer, Al is used.
(Aluminum) is used as the main component, but Cr
The material is not particularly limited as long as it is a metal such as (chromium) or Ag (silver) that can reflect external light in the visible light region.
【0014】本発明の液晶装置の駆動方式としては、パ
ッシブマトリクス駆動方式、TFT(Thin Film Transi
stor)アクティブマトリクス駆動方式、TFD(Thin F
ilmDiode)アクティブマトリクス駆動方式、セグメント
駆動方式等の公知の各種駆動方式を採用可能である。こ
の際、反射型表示と透過型表示とでは液晶セルの電圧−
反射率(透過率)特性が異なる場合が多いので、反射型
表示時と透過型表示時とで駆動電圧を相異ならせ、各々
で最適化した方が好ましい。また、第1基板上には、駆
動方式に応じて適宜、複数のストライプ状やセグメント
状の透明電極が形成されたり、第1基板のほぼ全面に透
明電極が形成されたりする。或いは、第1基板上に対向
電極を設けることなく、第2基板上の透明電極間におけ
る基板に平行な横電界で駆動してもよい。更に、液晶装
置には、表示方式に応じて適宜、第1基板や第2基板の
液晶層と反対側に、偏光板や位相差板などが夫々配置さ
れる。As a driving method of the liquid crystal device of the present invention, a passive matrix driving method, a TFT (Thin Film Transi
stor) active matrix drive system, TFD (Thin F
Various known driving methods such as an active matrix driving method and a segment driving method can be adopted. At this time, in the reflective display and the transmissive display, the voltage of the liquid crystal cell −
Since the reflectance (transmittance) characteristics often differ, it is preferable to make the drive voltage different between the reflective display mode and the transmissive display mode, and to optimize each of them. Further, on the first substrate, a plurality of stripe-shaped or segment-shaped transparent electrodes are formed as appropriate according to the driving method, or a transparent electrode is formed on almost the entire surface of the first substrate. Alternatively, the driving may be performed by a horizontal electric field parallel to the substrate between the transparent electrodes on the second substrate without providing the counter electrode on the first substrate. Further, in the liquid crystal device, a polarizing plate, a retardation plate, and the like are respectively disposed on the first substrate and the second substrate on the side opposite to the liquid crystal layer according to the display method.
【0015】本発明の液晶装置の一の態様では、前記透
明電極は、その面積が前記反射層の面積よりも大きくな
るように形成されている。In one aspect of the liquid crystal device of the present invention, the transparent electrode is formed such that its area is larger than the area of the reflective layer.
【0016】この態様によれば、平面的に見て透明電極
が反射層よりも大きいので、反射型表示に寄与する反射
層が重ねられた透明電極部分や透過型表示に寄与する反
射層が重ねられていない透明電極部分が画像表示領域に
占める割合を効率よく高めることができると同時に、こ
れらどちらの型の表示にも寄与しない透過電極に重なっ
ていない反射層部分が画像表示領域に占める割合を削減
できる。According to this aspect, since the transparent electrode is larger than the reflective layer in a plan view, the transparent electrode portion on which the reflective layer contributing to the reflective display is superimposed or the reflective layer contributing to the transmissive display is superposed. At the same time, the ratio of the transparent electrode portion not occupied in the image display region can be efficiently increased, and at the same time, the ratio of the reflection layer portion not overlapping the transmission electrode that does not contribute to either of these types of display to the image display region is reduced. Can be reduced.
【0017】例えば、平面的に見て、大きな透明電極の
片側に寄せて小さな反射層を形成することも可能とな
る。このように構成すれば、反射層が重なっている側の
透明電極部分によって、反射型表示時に、当該反射層に
より反射される外光が通過する液晶部分を縦電界により
駆動できる。また、反射層が重なっていない側の透明電
極部分によって、透過型表示時に、当該透明電極部分を
透過する光源光が通過する液晶部分を縦電界により駆動
できる。For example, when viewed two-dimensionally, it is also possible to form a small reflective layer near one side of a large transparent electrode. With this configuration, the liquid crystal portion through which the external light reflected by the reflective layer passes can be driven by the vertical electric field during reflective display by the transparent electrode portion on the side where the reflective layer overlaps. Further, by the transparent electrode portion on the side where the reflective layer does not overlap, it is possible to drive the liquid crystal portion through which the light source light passing through the transparent electrode portion passes by the vertical electric field during the transmissive display.
【0018】また例えば、平面的に見て透明電極を反射
層よりも一回り大きく形成すれば、反射層が重ねられた
中央寄りの透明電極部分によって、反射型表示時に、当
該反射層により反射される外光が通過する液晶部分を縦
電界により駆動できる。また、反射層が重なっていない
周辺寄りの透明電極部分によって、透過型表示時に、当
該透明電極部分を透過する光源光が通過する液晶部分を
縦電界により駆動できる。For example, if the transparent electrode is formed to be slightly larger than the reflective layer when viewed two-dimensionally, it is reflected by the reflective layer during reflective display by the transparent electrode portion near the center where the reflective layer is superimposed. The liquid crystal portion through which external light passes can be driven by the vertical electric field. Further, the liquid crystal portion through which the light source light passing through the transparent electrode portion passes can be driven by the vertical electric field during the transmissive display by the transparent electrode portion near the periphery where the reflective layer does not overlap.
【0019】本発明の液晶装置の他の態様では、前記透
明電極及び前記反射層は、ストライプ状に形成されてい
る。In another aspect of the liquid crystal device of the present invention, the transparent electrode and the reflective layer are formed in a stripe shape.
【0020】この態様によれば、平面的に見て、ストラ
イプ状の反射層に重ねられたストライプ状の透明電極部
分により反射型表示を行うことができ、ストライプ状の
反射層の片側又は両側で重なっていないストライプ状の
透明電極部分により透過型表示を行うことができる。従
って、例えば単純マトリクス駆動方式の液晶装置におい
て、比較的簡単な構成を用いて反射型表示及び透過型表
示を高品位で行える。According to this aspect, when viewed in a plan view, a reflective display can be performed by the stripe-shaped transparent electrode portions superposed on the stripe-shaped reflection layer, and one side or both sides of the stripe-shaped reflection layer can be displayed. Transmissive display can be performed by the striped transparent electrode portions that do not overlap. Therefore, for example, in a liquid crystal device of a simple matrix drive system, reflective display and transmissive display can be performed with high quality using a relatively simple configuration.
【0021】本発明の液晶装置の他の態様では、前記透
明電極及び前記反射層は、島状に形成されている。In another aspect of the liquid crystal device of the present invention, the transparent electrode and the reflective layer are formed in an island shape.
【0022】この態様によれば、平面的に見て、島状の
反射層に中央又は片側で重ねられた島状の透明電極部分
により反射型表示を行うことができ、島状の反射層にそ
の周囲で重なっていない透明電極部分により透過型表示
を行うことができる。従って、例えばアクティブマトリ
クス駆動方式の液晶装置において、比較的簡単な構成を
用いて反射型表示及び透過型表示を高品位で行える。According to this aspect, in a plan view, the reflective display can be performed by the island-shaped transparent electrode portion which is superimposed on the island-shaped reflection layer at the center or on one side. Transmissive display can be performed by a transparent electrode portion that does not overlap around the periphery. Therefore, for example, in a liquid crystal device of an active matrix drive system, reflective display and transmissive display can be performed with high quality using a relatively simple configuration.
【0023】本発明の液晶装置の他の態様では、前記透
明電極は、前記反射層上に直接形成されている。In another aspect of the liquid crystal device of the present invention, the transparent electrode is formed directly on the reflective layer.
【0024】この態様によれば、透明電極は、反射層上
に直接形成されているので、両者は電気的に接続され
る。このため、反射層をAl等の導電性材料から構成す
ることにより、ストライプ状や島状の各反射層を対応す
る透明電極の冗長構造として機能させることができ、透
明電極の電極としての低抵抗化或いはその配線の低抵抗
化が可能となる。他方、反射層を絶縁性材料から構成す
れば、透明電極を他の層から絶縁する機能や透明電極を
保護する機能をも等外反射層に持たせることができ、積
層構造全体の単純化が可能となる。According to this aspect, since the transparent electrode is formed directly on the reflective layer, both are electrically connected. For this reason, by forming the reflective layer from a conductive material such as Al, each of the stripe-shaped or island-shaped reflective layers can function as a redundant structure of the corresponding transparent electrode, and a low resistance as an electrode of the transparent electrode can be obtained. Or the resistance of the wiring can be reduced. On the other hand, if the reflective layer is made of an insulating material, the outer reflective layer can also have a function of insulating the transparent electrode from other layers and a function of protecting the transparent electrode, thereby simplifying the entire laminated structure. It becomes possible.
【0025】本発明の液晶装置の他の態様では、前記透
明電極は、絶縁膜、カラーフィルタ及び保護膜のうち少
なくとも一つを介して前記反射層上に形成されている。In another aspect of the liquid crystal device of the present invention, the transparent electrode is formed on the reflective layer via at least one of an insulating film, a color filter, and a protective film.
【0026】この態様によれば、例えば、第2基板に近
い側から順に反射層、カラーフィルタ、保護膜及び透明
電極の順番で、又は反射層、絶縁膜、カラーフィルタ、
保護膜及び透明電極の順番で積層される。或いは、第2
基板に近い側から順に反射層、絶縁膜及び透明電極の順
番で積層され、この場合には、第1基板の液晶層側の面
上に、カラーフィルタ及び保護膜を形成すればよい。According to this aspect, for example, the reflective layer, the color filter, the protective film, and the transparent electrode are arranged in this order from the side closer to the second substrate, or the reflective layer, the insulating film, the color filter,
The protective film and the transparent electrode are laminated in this order. Or the second
The reflective layer, the insulating film, and the transparent electrode are stacked in this order from the side closer to the substrate. In this case, a color filter and a protective film may be formed on the liquid crystal layer side surface of the first substrate.
【0027】特に、反射層上にカラーフィルタを形成す
れば、外光による反射型カラー表示と照明装置を利用し
た透過型カラー表示を行うことができる。尚、カラーフ
ィルタは、380nm以上780nm以下の波長範囲の
すべての光に対して25%以上の透過率を有しているの
が好ましい。このようにすることで、明るい反射型カラ
ー表示と透過型カラー表示を実現できる。In particular, if a color filter is formed on the reflection layer, a reflection type color display using external light and a transmission type color display using an illumination device can be performed. It is preferable that the color filter has a transmittance of 25% or more for all light in a wavelength range of 380 nm to 780 nm. By doing so, bright reflective color display and transmissive color display can be realized.
【0028】また通常、反射層にはAlが主成分の金属
が用いられるが、Al金属は耐溶剤性が弱く非常に扱い
にくく、また傷がつきやすい。そこで、Al金属などの
反射層における反射面を保護膜或いは絶縁膜で覆うこと
により、Alが直接ITO膜等の透明電極形成用の現像
液やカラーフィルタ形成用の現像液に触れないように構
成するとよい。このような保護膜には、アクリル系の透
明樹脂や酸化ケイ素などの材料を用いることができる。Normally, a metal mainly composed of Al is used for the reflective layer. However, Al metal is very difficult to handle due to weak solvent resistance and is easily scratched. Therefore, the reflective surface of the reflective layer such as Al metal is covered with a protective film or an insulating film so that Al does not directly come into contact with a developer for forming a transparent electrode such as an ITO film or a developer for forming a color filter. Good to do. For such a protective film, a material such as an acrylic transparent resin or silicon oxide can be used.
【0029】更に、透明電極を絶縁膜上に形成すれば、
透明電極とその下地層とを確実に絶縁できる。Further, if a transparent electrode is formed on an insulating film,
The transparent electrode and its underlying layer can be reliably insulated.
【0030】本発明の液晶装置の他の態様では、前記透
明電極は、絶縁膜を介して前記反射層上に形成されてお
り、該絶縁膜は、前記反射層の表面部分が酸化されてな
る。In another aspect of the liquid crystal device of the present invention, the transparent electrode is formed on the reflective layer via an insulating film, and the insulating film is formed by oxidizing a surface portion of the reflective layer. .
【0031】この態様によれば、非常に薄く且つ絶縁性
の高い絶縁膜が得られる。この場合においては、反射層
としてアルミニウムを用いると好ましい。アルミニウム
は酸化してもその反射率を維持できるからである。尚、
このように絶縁膜を酸化する際には、反射層を陽極酸化
してしてもよいし、熱酸化してよい。According to this embodiment, an extremely thin insulating film having high insulating properties can be obtained. In this case, it is preferable to use aluminum as the reflective layer. This is because aluminum can maintain its reflectance even if it is oxidized. still,
When oxidizing the insulating film in this manner, the reflective layer may be anodized or thermally oxidized.
【0032】この態様では、前記絶縁膜は、相異なる2
種類以上の絶縁膜から積層形成されてもよい。According to this aspect, the insulating film has two different layers.
It may be formed by laminating more than two kinds of insulating films.
【0033】このように構成すれば、絶縁膜の絶縁性を
高めることができる。尚、一方の絶縁膜としてアルミニ
ウムの酸化物等を用い、他方の絶縁膜としてSiO
2(酸化シリコン)膜や有機物質によるオーバーコート
膜等を用いることができる。SiO2膜を形成する際に
は、蒸着、スパッタやCVD法により形成すればよく、
有機膜を形成する際には、スピンコートなどにより形成
すればよい。With this configuration, the insulating property of the insulating film can be improved. Incidentally, an oxide of aluminum or the like is used as one insulating film, and SiO 2 is used as the other insulating film.
2 A (silicon oxide) film, an overcoat film made of an organic substance, or the like can be used. When forming the SiO 2 film, it may be formed by vapor deposition, sputtering or CVD.
When an organic film is formed, it may be formed by spin coating or the like.
【0034】本発明の液晶装置の他の態様では、非駆動
時が暗(黒)状態である。In another embodiment of the liquid crystal device of the present invention, the non-driving state is a dark (black) state.
【0035】この態様によれば、非駆動時が暗状態であ
るので、透過型表示時に液晶が駆動されない画素間また
はドット間からの光漏れを抑えることができ、よりコン
トラストが高い透過型表示を得ることができる。また、
反射型表示時に、画素間やドット間からの表示に不要な
反射光を抑えることができるので、よりコントラストが
高い表示を得ることができる。このように一般にブラッ
クマトリクス或いはブラックマスクと称される遮光膜を
反射電極の間隙に対向する位置に設けることなく、透過
型表示時及び反射型表示時におけるコントラストを向上
させることが可能となる。加えて、このような遮光膜を
設けることにより反射型表示時の明るさが低下する事態
を未然に防ぐこともできる。According to this aspect, since the non-driving state is a dark state, it is possible to suppress light leakage from between pixels or dots where the liquid crystal is not driven during the transmissive display, and to achieve a transmissive display with higher contrast. Obtainable. Also,
At the time of the reflection type display, reflected light unnecessary for display between pixels or between dots can be suppressed, so that a display with higher contrast can be obtained. As described above, it is possible to improve the contrast at the time of transmissive display and at the time of reflective display without providing a light-shielding film generally called a black matrix or a black mask at a position facing the gap between the reflective electrodes. In addition, by providing such a light-shielding film, it is possible to prevent a situation in which the brightness at the time of reflective display is reduced.
【0036】本発明の液晶装置の他の態様では、前記反
射層は、95重量%以上のAlを含み、かつ層厚が10
nm以上40nm以下である。In another aspect of the liquid crystal device of the present invention, the reflective layer contains 95% by weight or more of Al and has a layer thickness of 10%.
nm or more and 40 nm or less.
【0037】この態様によれば、比較的薄い反射層によ
り良好な反射率が得られ、同時に各反射層を良好に分断
できる。実験によると、この層厚の範囲で、反射率が5
0%以上95%以下であり、その間隙についての透過率
が1%以上40%以下となるように反射層が作製でき
る。According to this aspect, good reflectivity can be obtained by the relatively thin reflecting layer, and at the same time, each reflecting layer can be separated well. Experiments show that within this layer thickness range, the reflectivity is 5
The reflective layer can be manufactured so that the transmittance is 0% or more and 95% or less and the transmittance of the gap is 1% or more and 40% or less.
【0038】本発明の液晶装置の他の態様では、前記反
射層が凹凸を有する。In another aspect of the liquid crystal device of the present invention, the reflection layer has irregularities.
【0039】この態様によれば、反射層の鏡面感を凸凹
によってなくし、散乱面(白色面)に見せることができ
る。また、凹凸による散乱によって、広視野角の表示が
可能となる。この凹凸形状は、反射層の下地に感光性の
アクリル樹脂等を用いて形成したり、下地のガラス基板
自身をフッ酸によって荒らしたりすることによって形成
することができる。尚、反射層の凹凸表面上に透明な平
坦化膜を更に形成して、液晶層に面する表面(配向膜を
形成する表面)を平坦化しておくことが液晶の配向不良
を防ぐ観点から望ましい。According to this aspect, the mirror feeling of the reflection layer can be eliminated by the unevenness, and the reflection layer can be seen as a scattering surface (white surface). In addition, a display with a wide viewing angle can be performed by scattering due to unevenness. This uneven shape can be formed by using a photosensitive acrylic resin or the like for the base of the reflective layer, or by roughening the base glass substrate itself with hydrofluoric acid. In addition, it is desirable to further form a transparent flattening film on the uneven surface of the reflective layer and to flatten the surface facing the liquid crystal layer (the surface on which the alignment film is formed) from the viewpoint of preventing poor alignment of the liquid crystal. .
【0040】本発明の電子機器は上記課題を解決するた
めに、上述した本発明の液晶装置を備える。An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described liquid crystal device according to the present invention in order to solve the above problems.
【0041】本発明の電子機器によれば、比較的簡単な
装置構成を用いて、視差による二重映りや表示のにじみ
がなく、反射型表示と透過型表示とを切り換えて表示す
ることのできる装置信頼性の高い半透過反射型液晶装置
や半透過反射型カラー液晶装置を用いた各種の電子機器
を実現できる。According to the electronic apparatus of the present invention, the display can be switched between the reflective display and the transmissive display by using a relatively simple apparatus configuration without causing double reflection due to parallax or blurring of the display. Various electronic devices using a transflective liquid crystal device or a transflective color liquid crystal device with high device reliability can be realized.
【0042】本発明のこのような作用及び他の利得は次
に説明する実施の形態から明らかにされる。The operation and other advantages of the present invention will become more apparent from the embodiments explained below.
【0043】[0043]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0044】(第1実施形態)本発明に係る液晶装置の
第1実施形態を図1から図6を参照して説明する。図1
は本発明に係る液晶装置の第1実施形態の構造を示す概
略縦断面図である。この実施形態は基本的に単純マトリ
クス型の液晶表示装置に関するものであるが、同様の構
成によりアクティブマトリクス型の装置や他のセグメン
ト型の装置、その他の液晶装置にも適用することは可能
である。(First Embodiment) A first embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG.
1 is a schematic vertical sectional view showing a structure of a first embodiment of a liquid crystal device according to the present invention. Although this embodiment is basically related to a simple matrix type liquid crystal display device, it can be applied to an active matrix type device, another segment type device, and other liquid crystal devices with the same configuration. .
【0045】図1において、第1実施形態の液晶装置で
は、2枚の透明基板201及び202の間に液晶層20
3が枠状のシール材204によって封止された液晶セル
が形成されている。液晶層203は、所定のツイスト角
を持つネマチック液晶で構成されている。上側の透明基
板201の内面上にはカラーフィルタ213が形成さ
れ、このカラーフィルタ213には、R(赤)、G
(緑)、B(青)の3色の着色層が所定パターンで配列
されている。カラーフィルタ213の表面上には透明な
保護膜212が被覆されており、この保護膜212の表
面上に複数のストライプ状の透明電極211がITO
(Indium Tin Oxide)膜などにより形成されている。透
明電極211の表面上には配向膜210が形成され、所
定方向にラビング処理が施されている。In FIG. 1, in the liquid crystal device of the first embodiment, a liquid crystal layer 20 is disposed between two transparent substrates 201 and 202.
A liquid crystal cell 3 is sealed with a frame-shaped sealing material 204. The liquid crystal layer 203 is made of a nematic liquid crystal having a predetermined twist angle. A color filter 213 is formed on the inner surface of the upper transparent substrate 201. The color filter 213 has R (red), G
Three colored layers (green) and B (blue) are arranged in a predetermined pattern. A transparent protective film 212 is coated on the surface of the color filter 213, and a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 211 are formed on the surface of the protective film 212 by ITO.
(Indium Tin Oxide) film. An alignment film 210 is formed on the surface of the transparent electrode 211, and rubbing is performed in a predetermined direction.
【0046】一方、下側の透明基板202の内面上に
は、上記カラーフィルタ213の着色層毎に形成された
ストライプ状の反射層216上に反射層216より一回
り面積の広いストライプ状の透明電極215が透明電極
211と交差するように複数配列されている。On the other hand, on the inner surface of the lower transparent substrate 202, on the stripe-shaped reflective layer 216 formed for each color layer of the color filter 213, a stripe-shaped transparent layer having a larger area than the reflective layer 216 is formed. A plurality of electrodes 215 are arranged so as to intersect the transparent electrodes 211.
【0047】尚、TFD素子やTFT素子を備えたアク
ティブマトリクス型の装置である場合には、各透明電極
215は矩形状に形成され、アクティブ素子を介して配
線に接続される。In the case of an active matrix type device provided with a TFD element and a TFT element, each transparent electrode 215 is formed in a rectangular shape and is connected to a wiring via the active element.
【0048】反射層216はCrやAlなどにより形成
され、その表面は透明基板201の側から入射する光を
反射する反射面となっている。透明電極215の表面上
には配向膜214が形成され、所定方向にラビング処理
が施されている。The reflection layer 216 is formed of Cr, Al, or the like, and its surface is a reflection surface for reflecting light incident from the transparent substrate 201 side. An alignment film 214 is formed on the surface of the transparent electrode 215, and is rubbed in a predetermined direction.
【0049】このように第1実施形態では、所定間隔を
隔ててストライプ状に配列された複数の反射層216の
各間隙が、バックライトからの光源光を透過する機能を
担う。このような反射層216の間隔は、0.01μm
以上20μm以下であることが好ましい。このようにす
ることで、人間が認識することが困難であり、間隙を設
けたことで生じる表示品質の劣化を抑えることができ、
反射型表示と透過型表示を同時に実現できる。また、反
射層216の間隙は反射層216に対して、5%以上3
0%以下の面積比で形成することが好ましい。このよう
にすることで、反射型表示の明るさの低下を抑えること
ができるとともに、反射層の間隙から液晶層に導入され
る光源光によって透過型表示が実現できる。As described above, in the first embodiment, each gap between the plurality of reflective layers 216 arranged in a stripe pattern at a predetermined interval has a function of transmitting light from the backlight. The interval between such reflective layers 216 is 0.01 μm
It is preferably at least 20 μm. By doing so, it is difficult for humans to recognize, and it is possible to suppress deterioration in display quality caused by providing the gap,
Reflective display and transmissive display can be realized simultaneously. The gap between the reflective layer 216 and the reflective layer 216 is 5% or more and 3% or more.
It is preferable to form them at an area ratio of 0% or less. By doing so, it is possible to suppress a decrease in the brightness of the reflective display, and it is possible to realize a transmissive display by light source light introduced into the liquid crystal layer from the gap between the reflective layers.
【0050】ここで、図2を参照して、第1実施形態に
おいて反射層216上に積層された透明電極215によ
り液晶層203に印加される電界について説明する。図
2(a)は、微細な(例えば2μm径の)開口部216
a’が設けられた半透過反射層と画素電極とを兼ねる単
一層構造の半透過反射電極216’を用いた比較例にお
いて、該半透過反射電極216’により液晶層に印加さ
れる電界の様子を図式的に示した概念図である。図2
(b)は、第1実施形態において反射層216上に積層
された透明電極215により液晶層に印加される電界の
様子を図式的に示した概念図である。Here, an electric field applied to the liquid crystal layer 203 by the transparent electrode 215 laminated on the reflective layer 216 in the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 2A shows a fine (for example, 2 μm diameter) opening 216.
In the comparative example using the transflective electrode 216 ′ having a single-layer structure which also functions as the transflective layer provided with a ′ and the pixel electrode, the state of the electric field applied to the liquid crystal layer by the transflective electrode 216 ′ It is the conceptual diagram which showed typically. FIG.
(B) is a conceptual diagram schematically showing a state of an electric field applied to the liquid crystal layer by the transparent electrode 215 laminated on the reflective layer 216 in the first embodiment.
【0051】図2(a)に示すように、比較例において
単一導電層からなる半透過反射電極216’を利用する
場合には、反射型表示時には、透過領域Atを除く非透
過領域で反射される外光が通過する液晶部分を非透過領
域にある半透過反射電極216’部分により縦電界Fr
(基板に垂直な方向の電界)で駆動できる。しかしなが
ら、透過型表示時には、半透過反射電極216’の開口
部216a’から入射された光源光が通過する透過領域
Atにある液晶部分を、非透過領域にある半透過反射電
極216’部分により斜め電界Ft’で駆動せなばなら
ない。即ち、透過型表示時には、透過領域Atにおける
歪んだ電界により液晶を駆動して表示を行うため、縦電
界により液晶を駆動する場合と比較して液晶配向の乱れ
により表示品質が劣化してしまう。As shown in FIG. 2A, when the transflective electrode 216 'made of a single conductive layer is used in the comparative example, the light is reflected in the non-transmissive area except for the transmissive area At during reflective display. The liquid crystal portion through which the external light passes passes through the semi-transmissive reflective electrode 216 ′ in the non-transmissive region to generate the vertical electric field Fr.
(Electric field in a direction perpendicular to the substrate). However, at the time of transmissive display, the liquid crystal portion in the transmissive region At through which the light source light entering from the opening 216a 'of the transflective electrode 216' passes obliquely by the transflective electrode 216 'portion in the non-transmissive region. It must be driven by the electric field Ft '. That is, at the time of transmissive display, display is performed by driving the liquid crystal by the distorted electric field in the transmissive region At, so that the display quality is deteriorated due to disturbance of liquid crystal alignment as compared with the case of driving the liquid crystal by the vertical electric field.
【0052】図2(b)に示すように、これに対し第1
実施形態において分断された反射層216上に積層形成
された一回り大きい透明電極215を利用する場合に
は、反射型表示時には、反射層216に重なった透明電
極215部分により縦電界Frで駆動できる。しかも、
透過型表示時にも、反射層216の間隙から入射された
光源光が通過する透過領域Atにおける液晶部分を、反
射層216の間隙に対向する透明電極215部分により
縦電界Ftで駆動できる。このように反射層216のパ
ターンをどのようにしても透明電極215により液晶層
に印加される電界には影響がないので、反射層216に
おける間隙パターンに関係なく、透明電極215から印
加される縦電界により各ドット内又は各画素内において
液晶の配向方向が均一となり、配向方向の乱れに起因す
る表示品質の劣化を防止できる。As shown in FIG. 2B, the first
In the embodiment, when the one-size-larger transparent electrode 215 laminated on the divided reflective layer 216 is used, at the time of the reflective display, it can be driven by the vertical electric field Fr by the transparent electrode 215 overlapping the reflective layer 216. . Moreover,
Also in the transmissive display mode, the liquid crystal portion in the transmission region At where the light source light incident from the gap of the reflective layer 216 passes can be driven by the vertical electric field Ft by the transparent electrode 215 facing the gap of the reflective layer 216. As described above, since the electric field applied to the liquid crystal layer by the transparent electrode 215 is not affected irrespective of the pattern of the reflective layer 216, the vertical voltage applied from the transparent electrode 215 is independent of the gap pattern in the reflective layer 216. Due to the electric field, the alignment direction of the liquid crystal becomes uniform in each dot or each pixel, and it is possible to prevent the display quality from deteriorating due to the disorder in the alignment direction.
【0053】再び図1において、上側の透明基板201
の外面上に偏光板205が配置され、偏光板205と透
明基板201との間に位相差板206及び散乱板207
がそれぞれ配置されている。また、液晶セルの下側に
は、透明基板202の背後に位相差板209が配置さ
れ、この位相差板209の背後に偏光板208が配置さ
れている。そして、偏光板208の下側には、白色光を
発する蛍光管218と、この蛍光管218に沿った入射
端面を備えた導光板217とを有するバックライトが配
置されている。導光板217は裏面全体に散乱用の粗面
が形成され、或いは散乱用の印刷層が形成されたアクリ
ル樹脂板などの透明体であり、光源である蛍光管218
の光を端面にて受けて、図の上面からほぼ均一な光を放
出するようになっている。その他のバックライトとして
は、LED(発光ダイオード)やEL(エレクトロルミ
ネセンス)などを用いることができる。Referring again to FIG. 1, the upper transparent substrate 201
A polarizing plate 205 is disposed on the outer surface of the substrate, and a retardation plate 206 and a scattering plate 207 are provided between the polarizing plate 205 and the transparent substrate 201.
Are arranged respectively. Further, a retardation plate 209 is disposed behind the transparent substrate 202 below the liquid crystal cell, and a polarizing plate 208 is disposed behind the retardation plate 209. A backlight having a fluorescent tube 218 that emits white light and a light guide plate 217 having an incident end face along the fluorescent tube 218 is disposed below the polarizing plate 208. The light guide plate 217 is a transparent body such as an acrylic resin plate on which a rough surface for scattering is formed on the entire back surface or a printed layer for scattering is formed.
Is received at the end face, and substantially uniform light is emitted from the upper surface of the drawing. As another backlight, an LED (light emitting diode), an EL (electroluminescence), or the like can be used.
【0054】他方、散乱板207は、Al反射層216
によって反射された反射光を広角に出射させることがで
き、反射層216の鏡面感を散乱板207によって散乱
面(白色面)に見せることができる。なお、散乱板20
7の位置は、透明基板201の液晶層203と反対側で
あれば、どの位置にあっても特に構わない。散乱板20
7の後方散乱(外光が入射した場合、入射光側への散
乱)の影響を考えると、本実施形態のように偏光板20
5と透明基板201との間に配置するのが望ましい。後
方散乱は、液晶装置の表示には関係のない散乱光であ
り、この後方散乱が存在すると、反射型表示時のコント
ラストを低下させる。偏光板205と透明基板201と
の間に配置させることで、後方散乱光の光量を偏光板2
05によって約半分にすることができる。On the other hand, the scattering plate 207 has an Al reflecting layer 216.
Thus, the reflected light reflected by the reflecting layer 216 can be emitted at a wide angle, and the mirror effect of the reflecting layer 216 can be made to look like a scattering surface (white surface) by the scattering plate 207. The scattering plate 20
The position of 7 may be any position as long as it is on the opposite side of the transparent substrate 201 from the liquid crystal layer 203. Scattering plate 20
Considering the effect of back scattering (scattering on the incident light side when external light enters) of the polarizing plate 20 as in the present embodiment,
5 and the transparent substrate 201. Backscattering is scattered light that is irrelevant to the display of the liquid crystal device, and the presence of this backscattering reduces the contrast during reflective display. By disposing it between the polarizing plate 205 and the transparent substrate 201, the amount of backscattered light can be reduced.
05 can reduce it by about half.
【0055】このように第1実施形態では、液晶セルの
上側に偏光板205及び位相差板206が配置されてお
り、液晶セルの下側に偏光板208及び位相差板209
が配置されているので、反射型表示と透過型表示とのい
ずれにおいても良好な表示制御ができる。より具体的に
は、位相差板206により反射型表示時における光の波
長分散に起因する色付きなどの色調への影響を低減する
(即ち、位相差板206を用いて反射型表示時における
表示の最適化を図る)と共に、位相差板209により透
過型表示時における光の波長分散に起因する色付きなど
の色調への影響を低減する(即ち、位相差板206によ
り反射型表示時における表示の最適化を図った条件下
で、更に、位相差板209により透過型表示時における
表示の最適化を図る)ことが可能となる。なお、位相差
板206及び209については夫々、液晶セルの着色補
償、もしくは視角補償により複数枚位相差板を配置する
ことも可能である。このように位相差板206又は20
9として、位相差板を複数枚用いれば着色補償或いは視
角補償の最適化をより容易に行える。更にまた、偏光板
205、位相差板106、液晶層103及び反射層21
6における光学特性を反射型表示時におけるコントラス
トを高める設定とすると共に、この条件下で偏光板20
8及び位相差板209における光学特性を透過型表示時
におけるコントラストを高める設定とすることにより、
反射型表示と透過型表示とのいずれにおいても高いコン
トラスト特性を得ることができる。As described above, in the first embodiment, the polarizing plate 205 and the retardation plate 206 are disposed above the liquid crystal cell, and the polarizing plate 208 and the retardation plate 209 are disposed below the liquid crystal cell.
, Good display control can be performed in both the reflective display and the transmissive display. More specifically, the phase difference plate 206 reduces the influence on the color tone such as coloring caused by the wavelength dispersion of light in the reflection type display (that is, the display in the reflection type display using the phase difference plate 206). In addition, the phase difference plate 209 reduces the influence on the color tone such as coloring caused by the wavelength dispersion of light in the transmission type display (that is, the phase difference plate 206 optimizes the display in the reflection type display). Under such conditions, the phase difference plate 209 can further optimize the display at the time of transmissive display). It is also possible to arrange a plurality of retardation plates 206 and 209 by color compensation of a liquid crystal cell or visual angle compensation, respectively. Thus, the retardation plate 206 or 20
Ninth, optimization of coloring compensation or viewing angle compensation can be more easily performed by using a plurality of retardation plates. Furthermore, the polarizing plate 205, the retardation plate 106, the liquid crystal layer 103, and the reflection layer 21
6 are set to enhance the contrast during the reflective display, and the polarizing plate 20 is set under this condition.
8 and the optical characteristics of the phase difference plate 209 are set so as to increase the contrast at the time of transmission type display.
High contrast characteristics can be obtained in both the reflective display and the transmissive display.
【0056】次に図1を参照して、以上の如く構成され
た本実施形態における反射型表示及び透過型表示につい
て説明する。Next, with reference to FIG. 1, a description will be given of the reflective display and the transmissive display in the present embodiment configured as described above.
【0057】先ず反射型表示の場合、図の上側から当該
液晶装置に入射する外光は、偏光板205、位相差板2
06及び散乱板207をそれぞれ透過し、カラーフィル
タ213、液晶層203を通過後、反射層216によっ
て反射され、再び偏光板205から出射される。このと
き、液晶層203への印加電圧によって明状態と暗状
態、及びその中間の明るさを制御することができる。First, in the case of the reflection type display, external light entering the liquid crystal device from the upper side of the figure is divided into a polarizing plate 205 and a retardation plate 2.
After passing through the color filter 06 and the scattering plate 207, pass through the color filter 213 and the liquid crystal layer 203, are reflected by the reflection layer 216, and are again emitted from the polarizing plate 205. At this time, the bright state, the dark state, and the intermediate brightness can be controlled by the voltage applied to the liquid crystal layer 203.
【0058】また透過型表示の場合、バックライトから
の光は偏光板208及び位相差板209によって所定の
偏光となり、反射層216の形成されていない間隙部分
より液晶層203及びカラーフィルタ213に導入さ
れ、その後、散乱板207、位相差板206を透過す
る。このとき、液晶層203への印加電圧に応じて、偏
光板205を透過(明状態)する状態と吸収(暗状態)
する状態、及びその中間の状態(明るさ)を制御するこ
とができる。In the case of the transmissive display, light from the backlight is converted into predetermined polarized light by the polarizing plate 208 and the phase difference plate 209, and is introduced into the liquid crystal layer 203 and the color filter 213 from a gap where the reflective layer 216 is not formed. Then, the light passes through the scattering plate 207 and the phase difference plate 206. At this time, depending on the voltage applied to the liquid crystal layer 203, the polarizing plate 205 is transmitted (bright state) and absorbed (dark state).
And the intermediate state (brightness) can be controlled.
【0059】ここで反射型表示と透過型表示について、
図3から図6を用いて更に詳しく説明する。図3は、T
FD素子を用いたアクティブマトリクス型液晶装置に本
発明を適用したときの下側透明基板202の正面概略図
である。走査線501に接続されたTFD素子(または
MIM素子)502が、島状のAl反射層503上に積
層形成されておりAl反射層503よりも面積が一回り
広い島状のITO透明電極504に接続されている。
尚、 図3においては、ITO透明電極504はAl反
射層503を完全に覆うようには形成されてはいない
が、もちろん、ITO透明電極504は、Al反射層5
03を完全に覆うように形成されていても構わない。
ITO透明電極504がAl反射層503を完全に覆う
ように形成されていれば、バックライトからの光をより
多く液晶層に透過させることができるのでより明るい透
過型表示が実現する。図4は、単純マトリクス型の液晶
装置に本発明を適用したときの下側透明基板202の一
例における正面概略図である。液晶セルの上側透明基板
内面に形成されたストライプ状のITO透明電極601
に交差するように、下側透明基板内面にAl反射層60
2及びAl反射層602よりも面積が一回り広いストラ
イプ状のITO透明電極603が形成されている。尚、
図4においては、ITO透明電極603はAl反射層
602を完全には覆うように形成されてはいないが、も
ちろん、ITO透明電極603はAl反射層602を完
全に覆うように形成されていても構わない。 ITO透
明電極603がAl反射層602を完全に覆うように形
成されていれば、バックライトからの光をより多く液晶
層に透過させることができるのでより明るい透過型表示
が実現する。また図5は、単純マトリクス型の液晶装置
に本発明を適用したときの下側透明基板202の他の例
における正面概略図である。液晶セルの上側透明基板内
面に形成されたストライプ状のITO透明電極601に
交差するように、下側透明基板内面に島状のAl反射層
602’の各辺よりも幅が一回り広いストライプ状のI
TO透明電極603が形成されている。更にまた図6
は、単純マトリクス型の液晶装置に本発明を適用したと
きの下側透明基板202の他の例における正面概略図で
ある。液晶セルの上側透明基板内面に形成されたストラ
イプ状のITO透明電極601に交差するように、下側
透明基板内面にAl反射層602”及びAl反射層60
2”よりも面積が一回り広いストライプ状のITO透明
電極603が形成されている。図4の例では、Al反射
層602がITO透明電極603の中央に重なっている
のに対し、図6の例ではAl反射層602”がITO透
明電極603の片側に寄って重なっている 反射型表示時には、液晶セルに入射した外光を反射層5
03(図3の場合)、反射層602(図4の場合)、反
射層602’(図5の場合)又は反射層602”(図6
の場合)により反射させる。つまり、外光は反射層50
3、602、602’又は602”に入射したものだけ
が液晶層に印加された電圧によって変調される。透過型
表示時は、バックライトから液晶セルに入射した光のう
ち、反射層503、602、602’又は602”の間
隙を通った光源光だけが、液晶層に導入される。しか
し、画素電極またはドット電極以外に入射した光は、表
示に関係がなく、透過型表示のコントラストを低下させ
るだけであるので、遮光膜(ブラックマトリクス層)や
液晶層の表示モードをノーマリーブラックとすること
で、遮断する。即ち、Al反射層503、602、60
2’又は602”と重なり合っていないITO透明電極
504又は603部分に入射するバックライトからの光
によって、透過型の表示が可能になる。Here, regarding the reflection type display and the transmission type display,
This will be described in more detail with reference to FIGS. FIG.
1 is a schematic front view of a lower transparent substrate 202 when the present invention is applied to an active matrix type liquid crystal device using an FD element. A TFD element (or MIM element) 502 connected to the scanning line 501 is laminated on the island-shaped Al reflective layer 503, and is formed on the island-shaped ITO transparent electrode 504 having an area slightly larger than the Al reflective layer 503. It is connected.
In FIG. 3, the ITO transparent electrode 504 is not formed so as to completely cover the Al reflective layer 503, but, of course, the ITO transparent electrode 504 is
03 may be completely formed.
If the ITO transparent electrode 504 is formed so as to completely cover the Al reflective layer 503, more light from the backlight can be transmitted to the liquid crystal layer, so that a brighter transmissive display is realized. FIG. 4 is a schematic front view of an example of the lower transparent substrate 202 when the present invention is applied to a simple matrix type liquid crystal device. Striped ITO transparent electrode 601 formed on the inner surface of the upper transparent substrate of the liquid crystal cell
The Al reflection layer 60 is formed on the inner surface of the lower transparent substrate so as to cross
An ITO transparent electrode 603 in the form of a stripe having an area slightly larger than that of the second and Al reflective layers 602 is formed. still,
In FIG. 4, the ITO transparent electrode 603 is not formed so as to completely cover the Al reflective layer 602, but, of course, the ITO transparent electrode 603 may be formed so as to completely cover the Al reflective layer 602. I do not care. If the ITO transparent electrode 603 is formed so as to completely cover the Al reflective layer 602, more light from the backlight can be transmitted to the liquid crystal layer, so that a brighter transmissive display is realized. FIG. 5 is a schematic front view of another example of the lower transparent substrate 202 when the present invention is applied to a simple matrix type liquid crystal device. A stripe shape having a width that is slightly wider than each side of the island-shaped Al reflective layer 602 ′ on the inner surface of the lower transparent substrate so as to intersect with the stripe-shaped ITO transparent electrode 601 formed on the inner surface of the upper transparent substrate of the liquid crystal cell. I
A TO transparent electrode 603 is formed. FIG. 6
FIG. 7 is a schematic front view of another example of the lower transparent substrate 202 when the present invention is applied to a simple matrix type liquid crystal device. The Al reflective layer 602 ″ and the Al reflective layer 60 are formed on the inner surface of the lower transparent substrate so as to intersect the stripe-shaped ITO transparent electrodes 601 formed on the inner surface of the upper transparent substrate of the liquid crystal cell.
A stripe-shaped ITO transparent electrode 603 having an area slightly larger than 2 ″ is formed. In the example of FIG. 4, the Al reflective layer 602 overlaps the center of the ITO transparent electrode 603, whereas FIG. In the example, the Al reflective layer 602 ″ is overlapped on one side of the ITO transparent electrode 603. In a reflective display, external light incident on the liquid crystal cell is reflected by the reflective layer 5.
3 (in the case of FIG. 3), the reflective layer 602 (in the case of FIG. 4), the reflective layer 602 ′ (in the case of FIG. 5) or the reflective layer 602 ″ (FIG. 6).
In the case of). That is, external light is reflected by the reflection layer 50.
Only the light incident on 3, 602, 602 'or 602 "is modulated by the voltage applied to the liquid crystal layer. In transmissive display, of the light incident on the liquid crystal cell from the backlight, the reflective layers 503, 602 are provided. , 602 'or 602 ", only the source light is introduced into the liquid crystal layer. However, light incident on a portion other than the pixel electrode or the dot electrode has nothing to do with the display and only lowers the contrast of the transmissive display. Therefore, the display mode of the light-shielding film (black matrix layer) and the liquid crystal layer is set to normally black. To shut off. That is, the Al reflective layers 503, 602, 60
Light from the backlight incident on the portion of the ITO transparent electrode 504 or 603 which does not overlap with 2 ′ or 602 ″ enables transmission type display.
【0060】例えば図4における上側透明基板内面のI
TO透明電極601のライン幅(L)を198μmと
し、下側基板内面のAl反射層602のライン幅(W
1)を46μmとし、その上に形成したITO透明電極
603のライン幅(W2)を56μmとすれば、液晶層
に導入された外光のうち約70%を反射し、バックライ
トから出射し下側の透明基板に導入された光のうち約1
0%を透過させることができる。For example, in FIG. 4, I on the inner surface of the upper transparent substrate
The line width (L) of the TO transparent electrode 601 is 198 μm, and the line width (W) of the Al reflective layer 602 on the inner surface of the lower substrate is
If 1) is 46 μm and the line width (W2) of the ITO transparent electrode 603 formed thereon is 56 μm, about 70% of the external light introduced into the liquid crystal layer is reflected and emitted from the backlight. About 1% of the light introduced into the transparent substrate on the side
0% can be transmitted.
【0061】上述したような本実施形態の構成によれ
ば、二重映りや表示のにじみのない反射型表示と透過型
表示とを切り換えて表示することのできるカラー液晶装
置が実現される。特に本実施形態によれば、透過型表示
時にバックライトからの光源光を透過させるために、反
射層216に対して、孔欠陥、凹入欠陥等の微細な欠陥
部や微細な開口部を多数設ける必要がないため、装置構
成が複雑化することはなく、その製造において特殊な工
程が付加的に必要となることもなく、液晶装置の信頼性
も高まる。According to the configuration of the present embodiment as described above, a color liquid crystal device which can switch and display between a reflective display and a transmissive display without a double reflection or display bleeding is realized. In particular, according to the present embodiment, in order to transmit the light source light from the backlight at the time of the transmissive display, a large number of fine defects such as hole defects and pit defects and fine openings are provided in the reflective layer 216. Since there is no need to provide such a device, the structure of the device does not become complicated, no special process is additionally required in its manufacture, and the reliability of the liquid crystal device is improved.
【0062】また、本実施形態のAl反射層216はそ
の表面にITO透明電極215を形成したので、Al反
射層216に傷が付き難くすることができ、またAl反
射層216とITO透明電極215の2つが電極ライン
となるので、電極ラインの低抵抗化が可能となる。尚、
このような反射層216としては、好ましくは95重量
%以上のAlを含み、かつ層厚が10nm以上40nm
以下である。In addition, since the ITO transparent electrode 215 is formed on the surface of the Al reflective layer 216 of this embodiment, the Al reflective layer 216 can be hardly damaged, and the Al reflective layer 216 and the ITO transparent electrode 215 can be hardly damaged. Are the electrode lines, so that the resistance of the electrode lines can be reduced. still,
Such a reflective layer 216 preferably contains 95% by weight or more of Al and has a layer thickness of 10 nm to 40 nm.
It is as follows.
【0063】更に、液晶セルの上側の面に配置した散乱
板207は、Al反射層216によって反射された反射
光を広角に出射させることができるので、広視野角の液
晶装置が実現される。Further, the scattering plate 207 disposed on the upper surface of the liquid crystal cell can emit the light reflected by the Al reflection layer 216 at a wide angle, so that a liquid crystal device having a wide viewing angle is realized.
【0064】(第2実施形態)本発明に係る液晶装置の
第2実施形態を図7を参照して説明する。図7は本発明
に係る液晶装置の第2実施形態の構造を示す概略縦断面
図である。この実施形態は基本的に単純マトリクス型の
液晶表示装置に関するものであるが、同様の構成により
アクティブマトリクス型の装置や他のセグメント型の装
置、その他の液晶装置にも適用することは可能である。(Second Embodiment) A liquid crystal device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a schematic longitudinal sectional view showing the structure of the second embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. Although this embodiment is basically related to a simple matrix type liquid crystal display device, it can be applied to an active matrix type device, another segment type device, and other liquid crystal devices with the same configuration. .
【0065】この実施形態では、第1実施形態の場合と
同様、2枚の透明基板301及び302の間に液晶層3
03が枠状のシール材304によって封止された液晶セ
ルが形成されている。液晶層303は、所定のツイスト
角を持つネマチック液晶で構成されている。上側の透明
基板301の内面上にはカラーフィルタ313が形成さ
れ、このカラーフィルタ313には、R、G、Bの3色
の着色層が所定パターンで配列されている。カラーフィ
ルタ313の表面上には透明な保護膜312が被覆され
ており、この保護膜312の表面上に複数のストライプ
状の透明電極311がITOなどにより形成されてい
る。透明電極311の表面上には配向膜310が形成さ
れ、所定方向にラビング処理が施されている。In this embodiment, as in the first embodiment, the liquid crystal layer 3 is placed between two transparent substrates 301 and 302.
A liquid crystal cell in which 03 is sealed with a frame-shaped sealing material 304 is formed. The liquid crystal layer 303 is composed of a nematic liquid crystal having a predetermined twist angle. A color filter 313 is formed on the inner surface of the upper transparent substrate 301, and three color layers of R, G, and B are arranged in the color filter 313 in a predetermined pattern. A transparent protective film 312 is coated on the surface of the color filter 313, and a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 311 are formed on the surface of the protective film 312 by ITO or the like. An alignment film 310 is formed on the surface of the transparent electrode 311 and rubbed in a predetermined direction.
【0066】一方、下側の透明基板302の内面上に
は、上記カラーフィルタ313の着色層毎に形成された
ストライプ状の反射層317上にこの反射層317より
一回り面積の広いストライプ状の透明電極315が保護
膜316を介して形成されている。そして、透明電極3
11と交差するように複数配列されている。TFD素子
やTFT素子を備えたアクティブマトリクス型の装置で
ある場合には、各反射層317、透明電極315は矩形
状に形成され、アクティブ素子を介して配線に接続され
る。この反射層317はCrやAlなどにより形成さ
れ、その表面は透明基板301の側から入射する光を反
射する反射面となっている。透明電極315の表面上に
は配向膜314が形成され、所定方向にラビング処理が
施されている。On the other hand, on the inner surface of the lower transparent substrate 302, a stripe-shaped reflection layer 317 having a larger area than the reflection layer 317 is formed on a stripe-shaped reflection layer 317 formed for each color layer of the color filter 313. A transparent electrode 315 is formed via a protective film 316. And the transparent electrode 3
11 are arranged so as to intersect. In the case of an active matrix type device including a TFD element and a TFT element, each of the reflective layers 317 and the transparent electrodes 315 are formed in a rectangular shape, and are connected to wiring via the active elements. The reflection layer 317 is formed of Cr, Al, or the like, and its surface is a reflection surface that reflects light incident from the transparent substrate 301 side. An alignment film 314 is formed on the surface of the transparent electrode 315 and rubbed in a predetermined direction.
【0067】このように第2実施形態では、所定間隔を
隔ててストライプ状に配列された反射層317の各間隙
が、バックライトからの光源光を透過する機能を担う。As described above, in the second embodiment, each gap between the reflective layers 317 arranged in a stripe pattern at a predetermined interval has a function of transmitting light from the backlight.
【0068】上側の透明基板301の外面上に偏光板3
05が配置され、偏光板305と透明基板301との間
に位相差板306及び散乱板307がそれぞれ配置され
ている。また、液晶セルの下側には、透明基板302の
背後に位相差板309が配置され、この位相差板309
の背後に偏光板308が配置されている。そして、偏光
板308の下側には、白色光を発する蛍光管319と、
この蛍光管319に沿った入射端面を備えた導光板31
8とを有するバックライトが配置されている。導光板3
18は裏面全体に散乱用の粗面が形成され、或いは散乱
用の印刷層が形成されたアクリル樹脂板などの透明体で
あり、光源である蛍光管319の光を端面にて受けて、
図の上面からほぼ均一な光を放出するようになってい
る。その他のバックライトとしては、LED(発光ダイ
オード)やEL(エレクトロルミネセンス)などを用い
ることができる。The polarizing plate 3 is placed on the outer surface of the upper transparent substrate 301.
05, and a retardation plate 306 and a scattering plate 307 are disposed between the polarizing plate 305 and the transparent substrate 301, respectively. In addition, a retardation plate 309 is disposed below the liquid crystal cell and behind the transparent substrate 302.
Behind the polarizing plate 308. A fluorescent tube 319 that emits white light is provided below the polarizing plate 308.
Light guide plate 31 having an incident end face along fluorescent tube 319
8 is disposed. Light guide plate 3
Reference numeral 18 denotes a transparent body such as an acrylic resin plate on which a rough surface for scattering is formed on the entire back surface, or a printed layer for scattering is formed.
A substantially uniform light is emitted from the upper surface of the drawing. As another backlight, an LED (light emitting diode), an EL (electroluminescence), or the like can be used.
【0069】次に図7を参照して、以上の如く構成され
た本実施形態における反射型表示及び透過型表示につい
て説明する。Next, with reference to FIG. 7, a description will be given of the reflective display and the transmissive display in the present embodiment configured as described above.
【0070】先ず反射型表示の場合、図の上側から当該
液晶装置に入射する外光は、偏光板305、位相差板3
06、散乱板307をそれぞれ透過し、カラーフィルタ
313、液晶層303を通過後、反射層317によって
反射され、再び偏光板305から出射される。このと
き、液晶層303への印加電圧によって明状態と暗状
態、及びその中間の明るさを制御することができる。First, in the case of the reflection type display, external light entering the liquid crystal device from the upper side of the drawing is reflected by the polarizing plate 305 and the retardation plate 3.
06, the light passes through the scattering plate 307, passes through the color filter 313 and the liquid crystal layer 303, is reflected by the reflection layer 317, and is again emitted from the polarizing plate 305. At this time, a bright state, a dark state, and intermediate brightness can be controlled by a voltage applied to the liquid crystal layer 303.
【0071】また透過型表示の場合、バックライトから
の光は偏光板308及び位相差板309によって所定の
偏光となり、反射層317の形成されていない間隙部分
より液晶層303、カラーフィルタ313に導入され、
その後、散乱板307、位相差板306を透過する。こ
のとき、液晶層303への印加電圧に応じて、偏光板3
05を透過(明状態)する状態と吸収(暗状態)する状
態、及びその中間の状態(明るさ)を制御することがで
きる。In the case of a transmissive display, light from a backlight is converted into predetermined polarized light by a polarizing plate 308 and a retardation plate 309, and is introduced into a liquid crystal layer 303 and a color filter 313 from a gap where the reflective layer 317 is not formed. And
After that, the light passes through the scattering plate 307 and the phase difference plate 306. At this time, depending on the voltage applied to the liquid crystal layer 303, the polarizing plate 3
It is possible to control a state of transmitting (bright state), a state of absorbing (dark state), and an intermediate state (brightness).
【0072】上述の透明電極315及び反射層317の
平面形状については、第1実施形態の場合と同様に、T
FD素子を用いたアクティブマトリクス型液晶装置に適
用する場合には、図3に示した如きであり、単純マトリ
クス型の液晶装置に適用する場合には、図4から図6に
示した如きである。The planar shapes of the transparent electrode 315 and the reflective layer 317 are the same as in the first embodiment.
FIG. 3 shows a case where the present invention is applied to an active matrix type liquid crystal device using FD elements, and FIGS. 4 to 6 shows a case where the present invention is applied to a simple matrix type liquid crystal device. .
【0073】例えば図4における上側透明基板内面のI
TO透明電極601のライン幅(L)を240μmと
し、下側基板内面のAl反射層602のライン幅(W
1)を60μmとし、その上に保護膜を介して形成した
ITO透明電極603のライン幅(W2)を70μmと
すれば、液晶層に導入された外光のうち約75%を反射
し、バックライトから出射し、下側の透明基板に導入さ
れた光のうち約8%を透過させることができる。For example, the I on the inner surface of the upper transparent substrate in FIG.
The line width (L) of the TO transparent electrode 601 is 240 μm, and the line width (W) of the Al reflection layer 602 on the inner surface of the lower substrate is
If 1) is set to 60 μm, and the line width (W2) of the ITO transparent electrode 603 formed thereon via the protective film is set to 70 μm, about 75% of the external light introduced into the liquid crystal layer is reflected, About 8% of the light emitted from the light and introduced into the lower transparent substrate can be transmitted.
【0074】上述したような本実施形態の構成によれ
ば、二重映りや表示のにじみのない反射型表示と透過型
表示とを切り換えて表示することのできるカラー液晶装
置が実現される。特に、反射層317に対して、孔欠
陥、凹入欠陥等の微細な欠陥部や微細な開口部を多数設
ける必要がないため、装置構成が複雑化することはな
く、その製造において特殊な工程が付加的に必要となる
こともない。According to the configuration of the present embodiment as described above, a color liquid crystal device capable of switching between a reflective display and a transmissive display without double reflection and blurring of display is realized. In particular, since it is not necessary to provide a large number of fine defects such as hole defects and pit defects and fine openings in the reflective layer 317, the device configuration does not become complicated, and a special process for manufacturing the device is not required. Is not additionally required.
【0075】また、本実施形態のAl反射層317はそ
の表面に保護膜316を形成してから、ITO透明電極
315を形成しているので、Al反射層317はITO
透明電極315の現像液やエッチング液と直接、触れる
ことがない。さらに、保護膜316があるため、傷を付
き難くすることができた。Al反射層317とITO透
明電極315を短絡しておくことによって、断線の確率
を小さくすることができるとともに、電極ラインの低抵
抗化を行うことも可能となる。Further, since the Al reflective layer 317 of the present embodiment has the protective film 316 formed on its surface and then the ITO transparent electrode 315, the Al reflective layer 317 is formed of ITO.
There is no direct contact with the developing solution or etching solution of the transparent electrode 315. Further, the presence of the protective film 316 made it difficult to damage. By short-circuiting the Al reflection layer 317 and the ITO transparent electrode 315, the probability of disconnection can be reduced and the resistance of the electrode line can be reduced.
【0076】更に液晶セルの上側の面に配置した散乱板
307は、Al反射層317によって反射された反射光
を広角に出射させることができるので、広視野角の液晶
装置が実現される。Further, the scattering plate 307 disposed on the upper surface of the liquid crystal cell can emit the light reflected by the Al reflection layer 317 at a wide angle, so that a liquid crystal device having a wide viewing angle is realized.
【0077】(第3実施形態)本発明に係る液晶装置の
第3実施形態を図8を参照して説明する。図8は本発明
に係る液晶装置の第3実施形態の構造を示す概略縦断面
図である。第3実施形態は、上述した第2実施形態とほ
ぼ同様の構成を有し、唯一反射層の構造が異なる。尚、
図8において、第2実施形態に係る図7と同じ構成要素
には同じ参照符号を付し、その説明は省略する。(Third Embodiment) A third embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a schematic vertical sectional view showing the structure of the third embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. The third embodiment has substantially the same configuration as the above-described second embodiment, and differs only in the structure of the reflective layer. still,
8, the same components as those in FIG. 7 according to the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0078】即ち図8において、反射層317’は次の
ように形成される。That is, in FIG. 8, the reflection layer 317 'is formed as follows.
【0079】先ず、透明基板302の内面上に感光性レ
ジストをスピンコートなどにより塗布し、微少な開口部
を有するマスクを介して調整された光量にて露光する。
その後、必要に応じて感光性レジストの焼成を行い、現
像する。現像によってマスクの開口部に対応した部分が
部分的に除去され、波形の断面形状を備えた支持層が形
成される。ここで、上記フォトリソグラフィ工程によっ
てマスクの開口部に対応する部分のみを除去したり、マ
スクの開口部に対応した部分のみを残したりし、その
後、エッチングや加熱などによって凹凸形状を滑らかに
して波形の断面形状を形成してもよく、また、一旦形成
した上記支持層の表面状にさらに別の層を積層して表面
をより滑らかに形成してもよい。First, a photosensitive resist is applied onto the inner surface of the transparent substrate 302 by spin coating or the like, and is exposed with a controlled amount of light through a mask having minute openings.
Thereafter, if necessary, the photosensitive resist is baked and developed. The portion corresponding to the opening of the mask is partially removed by development, and a support layer having a corrugated cross-sectional shape is formed. Here, only the portion corresponding to the opening of the mask is removed by the above photolithography process, or only the portion corresponding to the opening of the mask is left. May be formed, or another layer may be laminated on the surface of the support layer once formed to form a smoother surface.
【0080】次に、支持層の表面上に金属を蒸着、スパ
ッタリングなどによって薄膜状に被着して反射面を備え
た金属膜を形成し、その後ストライプ状(図4又は図6
参照)或いは島状(図3又は図5参照)にパターニング
する。金属としては、Al、CrAg、Auなどが用い
られる。反射層317’は、支持層の表面の波形凹凸に
従った形状を反映して形成されるため、表面が全体的に
粗面化されている。Next, a metal film having a reflecting surface is formed by depositing a metal on the surface of the support layer by vapor deposition or sputtering to form a metal film having a reflection surface.
(See FIG. 3 or FIG. 5). Al, CrAg, Au or the like is used as the metal. Since the reflection layer 317 'is formed reflecting the shape according to the corrugations on the surface of the support layer, the surface is entirely roughened.
【0081】上述したような本実施形態の構成によれ
ば、二重映りや表示のにじみのない反射型表示と透過型
表示とを切り換えて表示することのできるカラー液晶装
置が実現できる。According to the configuration of the present embodiment as described above, it is possible to realize a color liquid crystal device capable of switching and displaying between a reflective display and a transmissive display without double reflection or blurring of display.
【0082】特に本実施形態によれば、凹凸を付与した
反射層317’は、反射光を広角に反射させることがで
きるので、広視野角の液晶装置が実現される。In particular, according to the present embodiment, the reflection layer 317 'provided with the unevenness can reflect the reflected light at a wide angle, so that a liquid crystal device having a wide viewing angle is realized.
【0083】(第4実施形態)本発明に係る液晶装置の
第4実施形態を図9及び図10を参照して説明する。図
9は本発明に係る液晶装置の第4実施形態の構造を示す
概略縦断面図である。この実施形態は基本的に単純マト
リクス型の液晶表示装置に関するものであるが、同様の
構成によりアクティブマトリクス型の装置や他のセグメ
ント型の装置、その他の液晶装置にも適用することは可
能である。(Fourth Embodiment) A fourth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a schematic vertical sectional view showing the structure of the fourth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. Although this embodiment is basically related to a simple matrix type liquid crystal display device, it can be applied to an active matrix type device, another segment type device, and other liquid crystal devices with the same configuration. .
【0084】この実施形態では、2枚の透明基板401
及び402の間に液晶層403が枠状のシール材404
によって封止された液晶セルが形成されている。液晶層
403は、誘電異方性が負のネマチック液晶で構成され
ている。上側の透明基板401の内面上には、複数のス
トライプ状の透明電極409がITOなどによって形成
されていて、透明電極409の表面上には液晶を垂直に
配向させる配向膜410が形成され、所定方向にラビン
グ処理が施されている。このラビング処理によって、液
晶分子はラビング方向に約85度のプレティルト角を有
している。TFD素子やTFT素子を備えたアクティブ
マトリクス型の装置である場合には、透明電極409は
矩形状に形成され、アクティブ素子を介して配線に接続
される。In this embodiment, two transparent substrates 401
The liquid crystal layer 403 has a frame-like sealing material 404 between
To form a sealed liquid crystal cell. The liquid crystal layer 403 is composed of a nematic liquid crystal having a negative dielectric anisotropy. On the inner surface of the upper transparent substrate 401, a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 409 are formed by ITO or the like. On the surface of the transparent electrode 409, an alignment film 410 for vertically aligning liquid crystal is formed. Rubbing treatment is performed in the direction. Due to this rubbing treatment, the liquid crystal molecules have a pretilt angle of about 85 degrees in the rubbing direction. In the case of an active matrix type device including a TFD element and a TFT element, the transparent electrode 409 is formed in a rectangular shape and is connected to a wiring via the active element.
【0085】一方、下側の透明基板402の内面上に
は、感光性のアクリル樹脂によって高低さ約0.8μm
の凹凸が形成されており、その表面上に1.0重量%の
Ndを添加したAlを25nmの厚みでスパッタし、そ
の後ストライプ状(図4又は図6参照)或いは島状(図
3又は図5参照)にパターニングして、反射層411を
形成する。この反射層411上には、保護膜412を介
して、カラーフィルタ414が形成され、このカラーフ
ィルタ414には、R、G、Bの3色の着色層が所定パ
ターンで配列されている。カラーフィルタ414の表面
上には透明な保護膜415が被覆されており、この保護
膜415の表面上に複数のストライプ状の透明電極41
6がITO膜などにより、上記カラーフィルタ414の
着色層毎に上記透明電極409と交差するように形成さ
れている。透明電極416の表面上には配向膜417が
形成される。なお、この配向膜417にはラビング処理
を施さない。On the other hand, on the inner surface of the lower transparent substrate 402, a height of about 0.8 μm
Al having 1.0% by weight of Nd added thereto was sputtered to a thickness of 25 nm on the surface thereof, and then striped (see FIG. 4 or FIG. 6) or island-shaped (see FIG. 3 or FIG. 5) to form a reflective layer 411. On the reflective layer 411, a color filter 414 is formed via a protective film 412. On the color filter 414, three colored layers of R, G, and B are arranged in a predetermined pattern. A transparent protective film 415 is coated on the surface of the color filter 414, and a plurality of stripe-shaped transparent electrodes 41 are formed on the surface of the protective film 415.
6 is formed of an ITO film or the like so as to intersect the transparent electrode 409 for each color layer of the color filter 414. An alignment film 417 is formed on the surface of the transparent electrode 416. Note that rubbing treatment is not performed on the alignment film 417.
【0086】上側の透明基板401の外面上に偏光板4
05が配置され、偏光板405と透明基板401との間
に位相差板(1/4波長板)406が配置されている。
また、液晶セルの下側には、透明基板402の背後に位
相差板(1/4波長板)408が配置され、この位相差
板(1/4波長板)408の背後に偏光板407が配置
されている。そして、偏光板407の後方には、白色光
を発する蛍光管419と、この蛍光管419に沿った入
射端面を備えた導光板418とを有するバックライトが
配置されている。導光板418は裏面全体に散乱用の粗
面が形成され、或いは散乱用の印刷層が形成されたアク
リル樹脂板などの透明体であり、光源である蛍光管41
9の光を端面にて受けて、図の上面からほぼ均一な光を
放出するようになっている。その他のバックライトとし
ては、LED(発光ダイオード)やEL(エレクトロル
ミネセンス)などを用いることができる。The polarizing plate 4 is formed on the outer surface of the upper transparent substrate 401.
A retardation plate (1/4 wavelength plate) 406 is disposed between the polarizing plate 405 and the transparent substrate 401.
A retardation plate (1/4 wavelength plate) 408 is disposed behind the transparent substrate 402 below the liquid crystal cell, and a polarizing plate 407 is disposed behind the retardation plate (1/4 wavelength plate) 408. Are located. A backlight having a fluorescent tube 419 for emitting white light and a light guide plate 418 having an incident end face along the fluorescent tube 419 is disposed behind the polarizing plate 407. The light guide plate 418 is a transparent body such as an acrylic resin plate on which a rough surface for scattering is formed on the entire back surface or a printed layer for scattering is formed.
9 is received at the end face, and substantially uniform light is emitted from the upper surface of the drawing. As another backlight, an LED (light emitting diode), an EL (electroluminescence), or the like can be used.
【0087】この実施形態では、透過型表示のときに各
ドット間の領域から光が漏れるのを防ぐために、カラー
フィルタ414の各着色層の間に形成された遮光部であ
るブラックマトリクス層413が平面的にほぼ対応して
設けられている。ブラックマトリクス層413はCr層
を被着したり、感光性ブラック樹脂で形成する。In this embodiment, in order to prevent light from leaking from the area between the dots during the transmissive display, the black matrix layer 413 which is a light shielding portion formed between the colored layers of the color filter 414 is formed. It is provided substantially corresponding to a plane. The black matrix layer 413 is formed by depositing a Cr layer or using a photosensitive black resin.
【0088】ここで図10(a)に示すように、偏光板
405と偏光板407の透過軸P1及びP2は同方向に
設定されており、これら偏光板の透過軸P1及びP2に
対して、位相差板(1/4波長板)406及び408の
遅相軸C1及びC2の方向は、θ=45度時計方向に回
転した方向に設定されている。さらに、透明基板401
の内面上の配向膜410のラビング処理の方向R1もま
た、位相差板(1/4波長板)406及び408の遅相
軸C1及びC2の方向と一致する方向に施されている。
このラビング方向R1は、液晶層403の電界印加時に
おける液晶分子長軸の倒れる方向を規定する。液晶層4
03には、負のネマティック液晶を用いる。As shown in FIG. 10A, the transmission axes P1 and P2 of the polarizing plate 405 and the polarizing plate 407 are set in the same direction, and the transmission axes P1 and P2 of these polarizing plates are The directions of the slow axes C1 and C2 of the phase difference plates (1/4 wavelength plates) 406 and 408 are set to directions rotated by θ = 45 degrees clockwise. Further, the transparent substrate 401
The direction R1 of the rubbing treatment of the alignment film 410 on the inner surface is also performed in a direction coinciding with the directions of the slow axes C1 and C2 of the phase difference plates (1/4 wavelength plates) 406 and 408.
The rubbing direction R1 defines the direction in which the long axis of the liquid crystal molecules falls when an electric field is applied to the liquid crystal layer 403. Liquid crystal layer 4
For 03, a negative nematic liquid crystal is used.
【0089】また図10(b)に、本実施形態による反
射型表示における反射率Rの駆動電圧特性と、透過型表
示における透過率Tの駆動電圧特性とを示す。電界無印
加時の表示状態は暗(黒)である。この液晶セルを用い
ると、ブラックマトリクス層413を形成する必要がな
くなる。FIG. 10B shows a driving voltage characteristic of the reflectance R in the reflection type display according to the present embodiment and a driving voltage characteristic of the transmittance T in the transmission type display. The display state when no electric field is applied is dark (black). When this liquid crystal cell is used, it is not necessary to form the black matrix layer 413.
【0090】次に図9を参照して、以上の如く構成され
た本実施形態における反射型表示及び透過型表示につい
て説明する。Next, with reference to FIG. 9, a description will be given of the reflective display and the transmissive display in the present embodiment configured as described above.
【0091】先ず反射型表示の場合、図の上側から当該
液晶装置に入射する外光は、偏光板405、位相差板4
06をそれぞれ透過し、液晶層403を通過後、カラー
フィルタ414を通過し反射層411によって反射さ
れ、再び偏光板405から出射される。このとき、液晶
層403への印加電圧によって明状態と暗状態、及びそ
の中間の明るさを制御する。First, in the case of the reflection type display, external light incident on the liquid crystal device from the upper side of the drawing is reflected by the polarizing plate 405 and the retardation plate 4.
06 pass through the liquid crystal layer 403, pass through the color filter 414, are reflected by the reflective layer 411, and are again emitted from the polarizing plate 405. At this time, the bright state, the dark state, and the intermediate brightness are controlled by the voltage applied to the liquid crystal layer 403.
【0092】また透過型表示の場合、バックライトから
の光は偏光板407及び位相差板408によって所定の
偏光となり、反射層411の各間隙より液晶層403に
導入され、カラーフィルタ414、液晶層403を通過
後、位相差板406を透過する。このとき、液晶層40
3への印加電圧に応じて、偏光板405から透過(明状
態)した状態と吸収(暗状態)した状態、及びその中間
の明るさを制御することができる。In the case of a transmissive display, light from a backlight is converted into predetermined polarized light by a polarizing plate 407 and a phase difference plate 408, introduced into the liquid crystal layer 403 from each gap of the reflective layer 411, After passing through 403, the light passes through the phase difference plate 406. At this time, the liquid crystal layer 40
Depending on the voltage applied to 3, the state of transmission (bright state) from the polarizing plate 405, the state of absorption (dark state), and the intermediate brightness can be controlled.
【0093】上述したような本実施形態の構成によれ
ば、二重映りや表示のにじみのない反射型表示と透過型
表示とを切り換えて表示することのできるカラー液晶装
置が実現される。According to the configuration of the present embodiment as described above, a color liquid crystal device capable of switching and displaying between a reflective display and a transmissive display without double reflection or display bleeding is realized.
【0094】また、本実施形態の反射層411にはAl
が主成分の金属層を用いて、この表面を保護膜412で
覆い、その上にカラーフィルタ414や保護膜415、
透明電極416を形成している。このため、Al金属層
が直接ITO現像液やカラーフィルタ現像液と触れるこ
とがないので、Al金属層が現像液で溶解することがな
い。さらに、傷がつきやすいAl金属層を取り扱いやす
くすることができる。例えば、1.0重量%のNdを添
加した25nm厚のAlは、反射率80%及び透過率1
0%の値を示し、反射層411として十分に機能する。The reflective layer 411 of this embodiment has Al
Is covered with a protective film 412 using a metal layer mainly composed of, for example, a color filter 414, a protective film 415,
A transparent electrode 416 is formed. For this reason, since the Al metal layer does not directly come into contact with the ITO developer or the color filter developer, the Al metal layer does not dissolve in the developer. Further, the Al metal layer which is easily damaged can be easily handled. For example, Al having a thickness of 25 nm to which 1.0 wt% of Nd is added has a reflectance of 80% and a transmittance of 1%.
It shows a value of 0% and functions sufficiently as the reflective layer 411.
【0095】更に凹凸を付与した反射層411は、反射
光を広角に反射させることができるので、広視野角の液
晶装置が実現される。Further, the reflection layer 411 provided with irregularities can reflect the reflected light at a wide angle, so that a liquid crystal device having a wide viewing angle is realized.
【0096】(第5実施形態)本発明に係る液晶装置の
第5実施形態を図11を参照して説明する。図11は本
発明に係る液晶装置の第5実施形態の概略縦断面図であ
る。第5実施形態は、上述した第2実施形態とほぼ同様
の構成を有し、反射層及びその保護膜に係る構造が異な
る。尚、図11において、第2実施形態に係る図7と同
じ構成要素には同じ参照符号を付し、その説明は省略す
る。(Fifth Embodiment) A fifth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a schematic longitudinal sectional view of a fifth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. The fifth embodiment has substantially the same configuration as that of the above-described second embodiment, and differs in the structure relating to the reflective layer and its protective film. In FIG. 11, the same components as those in FIG. 7 according to the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0097】即ち図11において、反射層617は、ア
ルミニウムからなる反射層として蒸着法により50〜3
00nmの厚みで各ドットごとに島状に或いはストライ
プ状に形成されている(図3から図6参照)。尚、反射
層617としてはアルミニウムを用いると好ましいがク
ロム等の他の金属でも代用可能である。That is, in FIG. 11, a reflective layer 617 is formed as a reflective layer made of aluminum by 50 to 3 by an evaporation method.
Each dot is formed in an island shape or a stripe shape with a thickness of 00 nm (see FIGS. 3 to 6). It is preferable that aluminum is used for the reflective layer 617, but other metals such as chromium can be used instead.
【0098】更に、反射層617上には、第2実施形態
のように保護膜が形成されてはおらず、蒸着後の反射層
を陽極酸化することによってAl2O3か(酸化アルミ
ニウム)からなる絶縁層616が形成される。陽極酸化
は、サリチル酸アンモニウム1〜10重量%とエチレン
グリコール20〜80重量%とを含有する溶液を用いて
化成電圧5〜250V、電流密度0.001〜0.1mA/
cm2の条件で行えばよい。このように形成される酸化
膜の膜厚は140nm又はその整数倍とすると干渉によ
る着色の発生を防止できる。そして、絶縁層616上に
は、透明電極615が配置されており、その他の構成に
ついては図7に示した第2実施形態の場合と同様であ
る。Further, a protective film is not formed on the reflective layer 617 as in the second embodiment, and is made of Al 2 O 3 or (aluminum oxide) by anodizing the reflective layer after vapor deposition. An insulating layer 616 is formed. The anodic oxidation is carried out using a solution containing 1 to 10% by weight of ammonium salicylate and 20 to 80% by weight of ethylene glycol at a formation voltage of 5 to 250 V and a current density of 0.001 to 0.1 mA /.
It may be performed under the condition of cm 2 . When the thickness of the oxide film thus formed is 140 nm or an integral multiple thereof, coloring due to interference can be prevented. Then, a transparent electrode 615 is disposed on the insulating layer 616, and the other configuration is the same as that of the second embodiment shown in FIG.
【0099】以上説明したように第5実施形態によれ
ば、非常に薄く且つ絶縁性の高い絶縁膜616が得られ
る。特に、アルミニウムから反射層617を形成するこ
とにより、酸化後もその反射率を維持できる。尚、この
ように絶縁膜616を酸化により形成する際には、陽極
酸化を利用してもよいし、熱酸化を利用してもよい。As described above, according to the fifth embodiment, an extremely thin insulating film 616 having high insulating properties can be obtained. In particular, by forming the reflective layer 617 from aluminum, its reflectance can be maintained even after oxidation. When the insulating film 616 is formed by oxidation, anodic oxidation may be used, or thermal oxidation may be used.
【0100】(第6実施形態)本発明に係る液晶装置の
第6実施形態を図12を参照して説明する。図12は、
本発明の第6実施形態におけるTFT駆動素子を画素電
極等と共に拡大して示す断面図である。尚、第6実施形
態における基板上にTFT駆動素子を形成し、この上に
絶縁膜を介して形成された透明電極に接続する構成は、
本発明の各実施形態に適用可能である。(Sixth Embodiment) A sixth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG.
It is sectional drawing which expands and shows the TFT drive element in 6th Embodiment of this invention with a pixel electrode etc. In the sixth embodiment, a TFT drive element is formed on a substrate and connected to a transparent electrode formed on the TFT drive element via an insulating film.
It is applicable to each embodiment of the present invention.
【0101】図12において、透明基板702上に形成
された層間絶縁膜721上は、ゲート電極722、ゲー
ト絶縁膜723、i―Si層724、n+―Si層72
5、ソース電極726及びドレイン電極727を持つT
FT素子が設けられている。アルミニウムからなる反射
層728はTFT素子上に形成した層間絶縁膜731上
に形成され、反射層728上には、蒸着後の反射層を陽
極酸化して形成した絶縁層729が設けられている。絶
縁層729上にはドレイン電極727にコンタクトホー
ルを介して接続されたITOからなる透明電極730
(画素電極)が形成されている。In FIG. 12, a gate electrode 722, a gate insulating film 723, an i-Si layer 724, and an n + -Si layer 72 are formed on an interlayer insulating film 721 formed on a transparent substrate 702.
5. T having source electrode 726 and drain electrode 727
An FT element is provided. The reflective layer 728 made of aluminum is formed on the interlayer insulating film 731 formed on the TFT element, and the reflective layer 728 is provided with an insulating layer 729 formed by anodizing the deposited reflective layer. On the insulating layer 729, a transparent electrode 730 made of ITO connected to the drain electrode 727 via a contact hole is provided.
(Pixel electrode) is formed.
【0102】以上説明したように第6実施形態によれ
ば、TFT素子を介して各透明電極(画素電極)730
に電力を供給するため、透明電極730間におけるクロ
ストークを低減でき、より高品位の画像表示が可能とな
る。尚、このように構成されるTFT素子は、LDD構
造、オフセット構造、セルフアライン構造等いずれの構
造のTFTであってもよい。更に、シングルゲート構造
の他、デュアルゲート或いはトリプルゲート以上で構成
してもよい。As described above, according to the sixth embodiment, each transparent electrode (pixel electrode) 730 is provided via a TFT element.
, The crosstalk between the transparent electrodes 730 can be reduced, and higher-quality image display can be performed. The TFT element configured as described above may be a TFT having any structure such as an LDD structure, an offset structure, and a self-aligned structure. Further, in addition to the single gate structure, a dual gate or triple gate or more may be used.
【0103】(第7実施形態)本発明に係る液晶装置の
第7実施形態を図13を参照して説明する。図13は、
本発明の第7実施形態におけるTFD駆動素子を画素電
極等と共に拡大して示す断面図である。尚、第7実施形
態における基板上にTFD駆動素子を形成し、この上に
絶縁膜を介して形成された透明電極に接続する構成は、
本発明の各実施形態に適用可能である。(Seventh Embodiment) A seventh embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG.
It is sectional drawing which expands and shows the TFD drive element in 7th Embodiment of this invention with a pixel electrode etc. The configuration in which a TFD drive element is formed on a substrate in the seventh embodiment and connected to a transparent electrode formed on the TFD drive element via an insulating film is as follows.
It is applicable to each embodiment of the present invention.
【0104】図13においては、基板802上に形成さ
れた層間絶縁膜821上には、タンタルからなる第1導
電層841が形成されており、第1導電層841上には
タンタルを陽極酸化して得た絶縁層842が形成されて
いる。絶縁層842上にはクロムからなる第2導電層8
43が形成されている。また、アルミニウムからなる反
射層844は層間絶縁膜821上に形成されており、反
射層844上には蒸着後の反射層を陽極酸化して得た絶
縁膜845が形成されている。絶縁膜845上に形成さ
れた透明電極(画素電極)846は、第2導電層843
に接続されている。In FIG. 13, a first conductive layer 841 made of tantalum is formed on an interlayer insulating film 821 formed on a substrate 802, and tantalum is anodically oxidized on the first conductive layer 841. The obtained insulating layer 842 is formed. A second conductive layer 8 made of chromium is formed on the insulating layer 842.
43 are formed. A reflective layer 844 made of aluminum is formed on the interlayer insulating film 821, and an insulating film 845 obtained by anodizing the deposited reflective layer is formed on the reflective layer 844. The transparent electrode (pixel electrode) 846 formed over the insulating film 845 is
It is connected to the.
【0105】以上説明したように第7実施形態によれ
ば、TFD素子を介して各透明電極(画素電極)846
に電力を供給するため、透明電極846間におけるクロ
ストークを低減でき、より高品位の画像表示が可能とな
る。尚、図示したTFD素子に代えて、ZnO(酸化亜
鉛)バリスタ、MSI(Metal Semi-Insulator)駆動
素子、RD(Ring Diode)などの双方向ダイオード特
性を有する2端子型非線形素子を設けるようにしてもよ
い。As described above, according to the seventh embodiment, each transparent electrode (pixel electrode) 846 is provided via the TFD element.
, The crosstalk between the transparent electrodes 846 can be reduced, and higher-quality image display can be performed. It should be noted that a two-terminal nonlinear element having bidirectional diode characteristics such as a ZnO (zinc oxide) varistor, an MSI (Metal Semi-Insulator) driving element, and an RD (Ring Diode) is provided in place of the illustrated TFD element. Is also good.
【0106】(第8実施形態)本発明に係る液晶装置の
第8実施形態を図14を参照して説明する。図14は本
発明に係る液晶装置の第8実施形態の概略縦断面図であ
る。第8実施形態は、上述した第5実施形態とほぼ同様
の構成を有し、絶縁膜に係る構造が異なる。尚、図14
において、第5実施形態に係る図11と同じ構成要素に
は同じ参照符号を付し、その説明は省略する。(Eighth Embodiment) An eighth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a schematic longitudinal sectional view of an eighth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. The eighth embodiment has substantially the same configuration as the above-described fifth embodiment, but differs in the structure related to the insulating film. FIG.
In the figure, the same reference numerals are given to the same components as those in FIG. 11 according to the fifth embodiment, and the description thereof will be omitted.
【0107】即ち図14において、所定間隔を隔てて配
置された反射層617上に設けられる絶縁層は、絶縁膜
616a及び616bを含む多層構造からなる。より具
体的には、絶縁層として、金属からなる反射層617を
陽極酸化して得た酸化膜616aに加えて、スピンコー
トにより有機物質を塗布した絶縁膜616bが積層形成
されている。尚、絶縁膜616bとしては有機絶縁膜の
他、SiO2膜等を蒸着してもよい。他の点については
第5実施形態と同様であるので、ここではその説明は省
略する。That is, in FIG. 14, the insulating layer provided on the reflective layer 617 disposed at a predetermined interval has a multilayer structure including insulating films 616a and 616b. More specifically, in addition to an oxide film 616a obtained by anodizing the reflective layer 617 made of metal, an insulating film 616b coated with an organic substance by spin coating is formed as an insulating layer. In addition, as the insulating film 616b, an SiO 2 film or the like may be deposited in addition to the organic insulating film. The other points are the same as in the fifth embodiment, and a description thereof will not be repeated.
【0108】以上説明したように第8実施形態によれ
ば、絶縁膜の絶縁性を高めることができる。尚、一方の
絶縁膜にアルミニウムの酸化物等を用い、他方の絶縁膜
としては、SiO2膜や有機物質によるオーバーコート
膜等を用いることができ、係るSiO2膜を形成する際
には、蒸着、スパッタやCVD法により形成すればよ
く、有機膜を形成する際には、スピンコートなどにより
形成すればよい。As described above, according to the eighth embodiment, the insulating property of the insulating film can be improved. In addition, an oxide of aluminum or the like can be used for one insulating film, and an SiO 2 film or an overcoat film made of an organic substance can be used as the other insulating film. When such an SiO 2 film is formed, The organic film may be formed by vapor deposition, sputtering, or CVD, and may be formed by spin coating or the like when forming the organic film.
【0109】尚、以上説明した各実施形態では反射層2
16、317、317’、411等の間隙をバックライ
トからの光が透過するように構成されているが、これに
加えて、反射層自体に微細な開口部或いはスリットを形
成することにより、バックライトからの光を間隙を介し
てだけではなく該開口部を介して液晶層に導入するよう
に構成しても良い。この場合、各画素毎に一又は複数の
正方形、矩形、スリット、円、楕円等の開口部を規則的
に或いは不規則的に配置してよい。この際好ましくは、
開口部の総面積は反射層の総面積に対して約10%の割
合で設ける。このような開口部は、レジストを用いたフ
ォト工程/現像工程/剥離工程で容易に作製することが
できる。また、反射層を形成するときに同時に開口部を
開孔することも可能であり、このようにすれば製造工程
数を増やさず済む。また、いずれの形状であっても、開
口部の径は、0.01μm以上20μm以下であること
が好ましく、開口部は反射層に対して、5%以上30%
以下の面積比で形成することが好ましい。In each of the embodiments described above, the reflection layer 2
16, 317, 317 ′, 411, etc., the light from the backlight is transmitted. In addition to this, a fine opening or slit is formed in the reflection layer itself, so that the backlight is formed. The light from the light may be introduced into the liquid crystal layer not only through the gap but also through the opening. In this case, one or a plurality of openings such as a square, a rectangle, a slit, a circle, and an ellipse may be arranged regularly or irregularly for each pixel. In this case, preferably,
The total area of the openings is provided at a rate of about 10% with respect to the total area of the reflective layer. Such an opening can be easily formed in a photo process / developing process / stripping process using a resist. It is also possible to open the opening at the same time as forming the reflective layer, so that the number of manufacturing steps does not need to be increased. Also, in any shape, the diameter of the opening is preferably 0.01 μm or more and 20 μm or less, and the opening is 5% or more and 30% or less of the reflection layer.
It is preferable to form with the following area ratio.
【0110】以上説明した第1から第10実施形態に用
いるカラーフィルタ213、313、414等の着色層
について図15を参照して説明する。図15は、カラー
フィルタ213等の各着色層の透過率を示す特性図であ
る。各実施形態においては、反射型表示を行う場合、入
射光が一旦カラーフィルタ213等のいずれかの着色層
を透過した後、液晶層を通過して反射層によって反射さ
れ、再び着色層を透過してから放出される。したがっ
て、通常の透過型の液晶装置とは異なり、カラーフィル
タ213等を二回通過することになるため、通常のカラ
ーフィルタでは表示が暗くなり、コントラストが低下す
る。そこで、各実施形態では、図19に示すように、カ
ラーフィルタ213等のR、G、Bの各着色層の可視領
域における最低透過率61が25〜50%になるように
淡色化して形成している。着色層の淡色化は、着色層の
膜厚を薄くしたり、着色層に混合する顔料若しくは染料
の濃度を低くしたりすることによってなされる。このこ
とによって、反射型表示を行う場合に表示の明るさを低
下させないように構成することができる。The coloring layers such as the color filters 213, 313, and 414 used in the first to tenth embodiments described above will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a characteristic diagram showing the transmittance of each colored layer such as the color filter 213. In each embodiment, when performing the reflective display, the incident light passes through one of the coloring layers such as the color filter 213 and then passes through the liquid crystal layer, is reflected by the reflecting layer, and passes through the coloring layer again. And then released. Therefore, unlike a normal transmission type liquid crystal device, the light passes through the color filter 213 and the like twice, so that the display becomes dark and the contrast is reduced in the normal color filter. Therefore, in each embodiment, as shown in FIG. 19, the R, G, and B colored layers of the color filter 213 and the like are formed in a light color so that the minimum transmittance 61 in the visible region becomes 25 to 50%. ing. Lightening of the colored layer is achieved by reducing the thickness of the colored layer or reducing the concentration of the pigment or dye mixed in the colored layer. Thus, it is possible to configure so as not to lower the brightness of the display when performing the reflective display.
【0111】このカラーフィルタ213等の淡色化は、
透過型表示を行う場合にはカラーフィルタ213等を一
回しか透過しないため、表示の淡色化をもたらすが、各
実施形態では反射層によってバックライトの光が多く遮
られることが多いため、表示の明るさを確保する上でむ
しろ好都合である。The lightening of the color filter 213 and the like is performed by
In the case of performing transmissive display, the light is transmitted only once through the color filter 213 and the like, so that the display is lightened. However, in each embodiment, a large amount of light from the backlight is often blocked by the reflective layer. This is rather convenient in securing brightness.
【0112】(第9実施形態)本発明の第9実施形態を
図16を参照して説明する。第9実施形態は、以上説明
した第1から第8実施形態のいずれか一つを備えた電子
機器の実施形態である。即ち、第9実施形態は、上述し
た第1から第8実施形態に示した液晶装置を様々な環境
下で低消費電力が必要とされる携帯機器の表示部として
好適に用いた各種電子機器に係わる。図16に本発明の
電子機器の例を3つ示す。(Ninth Embodiment) A ninth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The ninth embodiment is an embodiment of an electronic apparatus including any one of the first to eighth embodiments described above. That is, the ninth embodiment is directed to various electronic devices that suitably use the liquid crystal device described in the above first to eighth embodiments as a display unit of a portable device that requires low power consumption in various environments. Get involved. FIG. 16 shows three examples of the electronic device of the present invention.
【0113】図16(a)は、携帯電話を示し、本体7
1の前面上方部に表示部72が設けられる。携帯電話
は、屋内屋外を問わずあらゆる環境で利用される。特に
自動車内で利用されることが多いが、夜間の車内は大変
暗い。従って携帯電話に利用される表示装置は、消費電
力が低い反射型表示をメインに、必要に応じて補助光を
利用した透過型表示ができる半透過反射型液晶装置が望
ましい。上記した第1実施形態乃至第8実施形態に記載
の液晶装置を携帯電話の表示部72として用いれば、反
射型表示でも透過型表示でも従来より明るく、コントラ
スト比が高い携帯電話が得られる。FIG. 16A shows a mobile phone, and the main body 7
A display unit 72 is provided in an upper part of the front surface of the device 1. Mobile phones are used in all environments, both indoors and outdoors. Especially, it is often used in cars, but the inside of cars at night is very dark. Therefore, it is desirable that the display device used in the mobile phone is a transflective liquid crystal device capable of performing transmissive display using auxiliary light as needed, mainly reflective display with low power consumption. When the liquid crystal device described in the first to eighth embodiments is used as the display unit 72 of the mobile phone, a mobile phone that is brighter and has a higher contrast ratio than the conventional one in both the reflective display and the transmissive display can be obtained.
【0114】図16(b)は、ウォッチを示し、本体の
中央73に表示部74が設けられる。ウォッチ用途にお
ける重要な観点は、高級感である。本発明の第1実施形
態乃至第8実施形態に記載の液晶をウォッチの表示部7
4として用いれば、明るくコントラストが高いことはも
ちろん、光の波長による特性変化が少ないために色づき
も小さい。従って、従来のウォッチと比較して、大変に
高級感あるカラー表示が得られる。FIG. 16B shows a watch, in which a display section 74 is provided at the center 73 of the main body. An important aspect in watch applications is luxury. The liquid crystal described in the first embodiment to the eighth embodiment of the present invention is displayed on the display unit 7 of the watch.
When used as 4, the coloration is small because the characteristic change due to the light wavelength is small, as well as bright and high contrast. Therefore, a very high-quality color display can be obtained as compared with the conventional watch.
【0115】図16(c)は、携帯情報機器を示し、本
体75の上側に表示部76、下側に入力部77が設けら
れる。また表示部76の前面にはタッチ・キーを設ける
ことが多い。通常のタッチ・キーは表面反射が多いた
め、表示が見づらい。従って、従来は携帯型と言えども
透過型液晶装置を表示部として利用することが多い。と
ころが透過型液晶装置は、常時バックライトを利用する
ため消費電力が大きく、電池寿命が短かい。このような
場合にも上記した第1実施形態乃至第8実施形態の液晶
装置を携帯情報機器の表示部76として用いれば、反射
型でも半透過反射型でも、透過型でも表示が明るく鮮や
かな携帯情報機器を得ることができる。FIG. 16C shows a portable information device, in which a display section 76 is provided above a main body 75 and an input section 77 is provided below. In addition, touch keys are often provided on the front surface of the display unit 76. Normal touch keys have a lot of surface reflections, making it difficult to see the display. Therefore, conventionally, a transmissive liquid crystal device is often used as a display even though it is a portable type. However, since the transmissive liquid crystal device always uses a backlight, the power consumption is large and the battery life is short. Even in such a case, if the liquid crystal device according to the first to eighth embodiments described above is used as the display unit 76 of the portable information device, the display is bright and vivid regardless of the reflective type, the transflective type, or the transmissive type. Information equipment can be obtained.
【0116】本発明の液晶装置は、上述した各実施形態
に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体か
ら読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適
宜変更可能であり、そのような変更を伴なう液晶装置も
また本発明の技術的範囲に含まれるものである。The liquid crystal device of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be appropriately changed without departing from the spirit or spirit of the invention which can be read from the claims and the entire specification. A liquid crystal device with a change is also included in the technical scope of the present invention.
【図1】本発明に係る液晶装置の第1実施形態の概略構
造を示す概略縦断面図である。FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view showing a schematic structure of a first embodiment of a liquid crystal device according to the present invention.
【図2】比較例において単一層構造の半透過反射電極に
より液晶層に印加される電界の様子を図式的に示した概
念図(図2(a))と、第1実施形態において半透過反
射層上に積層された透明電極により液晶層に印加される
電界の様子を図式的に示した概念図である(図2
(b))。FIG. 2 is a conceptual diagram schematically showing the state of an electric field applied to a liquid crystal layer by a transflective electrode having a single-layer structure in a comparative example (FIG. 2A), and the transflective reflection in the first embodiment. FIG. 2 is a conceptual diagram schematically showing a state of an electric field applied to a liquid crystal layer by a transparent electrode laminated on the layer (FIG. 2).
(B)).
【図3】第1実施形態における間隙をおいて配置された
反射層の一例を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view illustrating an example of a reflective layer disposed with a gap in the first embodiment.
【図4】第1実施形態における間隙をおいて配置された
反射層の他の例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing another example of the reflection layer arranged with a gap in the first embodiment.
【図5】第1実施形態における間隙をおいて配置された
反射層の他の例を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing another example of the reflective layer arranged with a gap in the first embodiment.
【図6】第1実施形態における間隙をおいて配置された
反射層の他の例を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing another example of the reflection layer arranged with a gap in the first embodiment.
【図7】本発明に係る液晶装置の第2実施形態の概略構
造を示す概略縦断面図である。FIG. 7 is a schematic longitudinal sectional view showing a schematic structure of a liquid crystal device according to a second embodiment of the invention.
【図8】本発明に係る液晶装置の第3実施形態の概略構
造を示す概略縦断面図である。FIG. 8 is a schematic longitudinal sectional view showing a schematic structure of a liquid crystal device according to a third embodiment of the present invention.
【図9】本発明に係る液晶装置の第4実施形態の概略構
造を示す概略縦断面図である。FIG. 9 is a schematic vertical sectional view showing a schematic structure of a fourth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention.
【図10】第4実施形態の偏光板、位相差板及び液晶セ
ルのラビング方向の関係を示す説明図(図10(a))
及びこのときの液晶装置の駆動電圧−反射率R/透過率
T特性を示す特性図(図10(b))である。FIG. 10 is an explanatory diagram showing a relationship between a rubbing direction of a polarizing plate, a retardation plate, and a liquid crystal cell of a fourth embodiment (FIG. 10A).
FIG. 10B is a characteristic diagram showing a driving voltage-reflectance R / transmittance T characteristic of the liquid crystal device at this time (FIG. 10B).
【図11】本発明に係る液晶装置の第5実施形態の概略
構造を示す概略縦断面図である。FIG. 11 is a schematic vertical sectional view showing a schematic structure of a liquid crystal device according to a fifth embodiment of the present invention.
【図12】本発明の第6実施形態におけるTFT駆動素
子を画素電極等と共に拡大して示す断面図である。FIG. 12 is an enlarged sectional view showing a TFT driving element according to a sixth embodiment of the present invention together with a pixel electrode and the like.
【図13】本発明の第7実施形態におけるTFD駆動素
子を画素電極等と共に拡大して示す断面図である。FIG. 13 is an enlarged sectional view showing a TFD drive element according to a seventh embodiment of the present invention together with a pixel electrode and the like.
【図14】本発明に係る液晶装置の第8実施形態の概略
構造を示す概略縦断面図である。FIG. 14 is a schematic vertical sectional view showing a schematic structure of an eighth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention.
【図15】各実施形態におけるカラーフィルタの着色層
毎の光透過率を示すグラフである。FIG. 15 is a graph showing light transmittance of each color layer of a color filter in each embodiment.
【図16】本発明に係る第9実施形態の各種の電子機器
の概略斜視図である。FIG. 16 is a schematic perspective view of various electronic devices according to a ninth embodiment of the present invention.
201、202、301、302、401、402…透
明基板 203、303、403…液晶層 204、304、404…シール材 205、208、305、308、405、407…偏
光板 206、209、306、309、406、408…位
相差板 207、307…散乱板 211、215、311、315、409、416、6
15…透明電極 210、214、310、314、410、417…配
向膜 212、312、316、412、415…保護膜 213、313、414…カラーフィルタ 216、317、317’、411、617…反射層 217、318、418…導光板 218、319、419…蛍光管 413…ブラックマトリクス層(遮光膜) 501…走査線 502…TFD素子 601…上側基板内面に形成された透明電極 603…下側基板内面に形成された透明電極201, 202, 301, 302, 401, 402: transparent substrate 203, 303, 403: liquid crystal layer 204, 304, 404: sealing material 205, 208, 305, 308, 405, 407: polarizing plate 206, 209, 306; 309, 406, 408: retardation plates 207, 307: scattering plates 211, 215, 311, 315, 409, 416, 6
15: Transparent electrode 210, 214, 310, 314, 410, 417: Alignment film 212, 312, 316, 412, 415: Protective film 213, 313, 414: Color filter 216, 317, 317 ', 411, 617: Reflection Layers 217, 318, 418 Light guide plate 218, 319, 419 Fluorescent tube 413 Black matrix layer (light shielding film) 501 Scanning line 502 TFD element 601 Transparent electrode formed on inner surface of upper substrate 603 Lower substrate Transparent electrode formed on inner surface
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡本 英司 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 関 ▲琢▼巳 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Eiji Okamoto, Inventor 3-3-5 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture Inside Seiko Epson Corporation (72) Inventor Seki ▲ Takumi, 3-5, Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture No. Seiko Epson Corporation
Claims (12)
前記第2基板に垂直な方向から平面的に見て相互に夫々
分断されている複数の反射層と、 前記反射層に部分的に重ねて形成されていると共に平面
的に見て前記反射層に重ならない部分を含む透明電極
と、 前記第2基板の前記液晶層と反対側に配置された照明装
置とを備えたことを特徴とする液晶装置。1. A pair of transparent first and second substrates, a liquid crystal layer sandwiched between the first and second substrates, and a liquid crystal layer formed on a surface of the second substrate on the liquid crystal layer side. ,
A plurality of reflective layers each separated from each other when viewed in a plan view from a direction perpendicular to the second substrate; and a plurality of reflective layers formed so as to partially overlap the reflective layers and viewed in a plan view. A liquid crystal device comprising: a transparent electrode including a non-overlapping portion; and a lighting device disposed on a side of the second substrate opposite to the liquid crystal layer.
の面積よりも大きくなるように形成されていることを特
徴とする請求項1に記載の液晶装置。2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the transparent electrode is formed so that an area thereof is larger than an area of the reflection layer.
イプ状に形成されていることを特徴とする請求項1又は
2に記載の液晶装置。3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the transparent electrode and the reflection layer are formed in a stripe shape.
形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載
の液晶装置。4. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the transparent electrode and the reflection layer are formed in an island shape.
成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれ
か一項に記載の液晶装置。5. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the transparent electrode is formed directly on the reflection layer.
タ及び保護膜のうち少なくとも一つを介して前記反射層
上に形成されていることを特徴とする請求項1から4の
いずれか一項に記載の液晶装置。6. The transparent electrode according to claim 1, wherein the transparent electrode is formed on the reflective layer via at least one of an insulating film, a color filter, and a protective film. 3. The liquid crystal device according to claim 1.
射層上に形成されており、該絶縁膜は、前記反射層の表
面部分が酸化されてなることを特徴とする請求項1から
4のいずれか一項に記載の液晶装置。7. The method according to claim 1, wherein the transparent electrode is formed on the reflective layer via an insulating film, and the insulating film is formed by oxidizing a surface portion of the reflective layer. 5. The liquid crystal device according to any one of 4.
縁膜から積層形成されていることを特徴とする請求項7
に記載の液晶装置。8. The semiconductor device according to claim 7, wherein the insulating film is formed by laminating two or more different types of insulating films.
3. The liquid crystal device according to claim 1.
徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の液晶装
置。9. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a non-driving state is a dark (black) state.
を含み、かつ層厚が10nm以上40nm以下であるこ
とを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の
液晶装置。10. The reflective layer comprises 95% by weight or more of Al
10. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the thickness is 10 nm or more and 40 nm or less.
とする請求項1から10のいずれか一項に記載の液晶装
置。11. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the reflection layer has irregularities.
載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。12. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1. Description:
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