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FR2388371A1 - Procede d'alignement, dans un photorepeteur, d'une plaquette semi-conductrice et des motifs a y projeter et photorepeteur mettant en oeuvre un tel procede - Google Patents

Procede d'alignement, dans un photorepeteur, d'une plaquette semi-conductrice et des motifs a y projeter et photorepeteur mettant en oeuvre un tel procede

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Publication number
FR2388371A1
FR2388371A1 FR7711908A FR7711908A FR2388371A1 FR 2388371 A1 FR2388371 A1 FR 2388371A1 FR 7711908 A FR7711908 A FR 7711908A FR 7711908 A FR7711908 A FR 7711908A FR 2388371 A1 FR2388371 A1 FR 2388371A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
photorepeater
pattern
projected
patterns
mark
Prior art date
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Granted
Application number
FR7711908A
Other languages
English (en)
Other versions
FR2388371B1 (fr
Inventor
Michel Lacombat
Marcel Chartier
Georges Dubroeucq
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Thales SA
Original Assignee
Thomson CSF SA
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Filing date
Publication date
Application filed by Thomson CSF SA filed Critical Thomson CSF SA
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Priority to US05/897,167 priority patent/US4172656A/en
Priority to DE19782817400 priority patent/DE2817400A1/de
Priority to JP4715978A priority patent/JPS53132271A/ja
Publication of FR2388371A1 publication Critical patent/FR2388371A1/fr
Application granted granted Critical
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Granted legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

L'invention se rapporte à un procédé d'alignement dans un photorépéteur, d'une plaquette semi-conductrice et des motifs à y projeter successivement et au photorépéteur mettant en oeuvre un tel procédé. Le procédé consiste à inscrire au moins un repère sur chacun des motifs correspondant aux différents niveaux du circuit à un emplacement fixe, à inscrire le repère du premier motif dans le semi-conducteur en même temps que le premier motif, puis après chaque remise en position de la plaquette après les traitements chimiques, à centrer, en déplaçant la plaquette par rapport au motif les images dans le plan du motif suivant d'au moins deux repères situes dans les zones différentes avec le repère complémentaire porté par le motif suivant à projeter, la plaquette étant alors alignée avec le motif suivant à projeter. Application notamment à la fabrication de composants en microstructure par photorépétition directe.
FR7711908A 1977-04-20 1977-04-20 Procede d'alignement, dans un photorepeteur, d'une plaquette semi-conductrice et des motifs a y projeter et photorepeteur mettant en oeuvre un tel procede Granted FR2388371A1 (fr)

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