EP3800062A1 - Sicherheitselement mit einer als dünnschichtelement ausgebildeten optischen effektschicht - Google Patents
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- G07D7/12—Visible light, infrared or ultraviolet radiation
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Definitions
- the invention relates to a security element, in particular for securities, security paper or security objects such as bank notes, ID cards, credit cards, ATM cards, tickets.
- Security elements of the type mentioned above are usually used to increase the security against forgery of securities or security papers, such as bank notes, ID cards, credit cards, ATM cards, tickets, etc.
- the object of the present invention is to create a security element with increased security against forgery.
- the advantage achieved in this way is that such an overlapping position of the first area to form the image motif designed as a moving image and of the second area to form at least one optical appearance or one optical effect creates a great variety of combinations and designs. This increases the security against forgery of the security element designed in this way even further. In this way, the movement image formed by the structures is combined directly with the optical effect generated or caused by the optical effect layer to form an overall image. One viewer of the security element can thus quickly and reliably determine its authenticity through a purely visual inspection without the aid of aids.
- the optical effect layer embodied as a thin-layer element comprises at least one absorber layer and at least one spacer layer.
- the at least one spacer layer is applied to the structures, in particular printed and / or vapor-deposited.
- a layer is applied to something is to be understood in such a way that the layer can be applied directly, or that there is one or more between the applied layer and that to which the layer is applied Interlayers can be located.
- the absorber layer can be applied to the structures, in particular printed and / or vapor-deposited.
- the spacer layer and the absorber layer can be applied to the structures in the sequence absorber layer - spacer layer or spacer layer-absorber layer.
- At least one absorber layer is arranged on both sides of the at least one spacer layer and that the at least one absorber layer is applied to the structures, in particular printed and / or vapor-deposited.
- the optical effect layer designed as a thin-film element further comprises at least one reflective layer, the at least one spacer layer being arranged between the at least one absorber layer and the at least one reflective layer.
- Another preferred embodiment is characterized in that the reflective layer is applied to the structures, in particular printed and / or vapor-deposited.
- the at least one absorber layer is applied to the structures, in particular printed and / or vapor-deposited.
- Another embodiment provides that when the light source is moved and / or the viewing angle is changed in the optical effect layer designed as a color-shifting layer or in the color-shifting layer, a color shifting effect is created.
- the security element contains metallic pigments and / or magnetic pigments and / or fluorescent pigments and / or fluorescent substances and / or colored pigments and / or dyes.
- a carrier layer made of a plastic, the plastic in particular being formed from a translucent and / or thermoplastic plastic, and that the carrier layer preferably includes at least one of the materials from the group polyimide (PI), polypropylene (PP), monoaxially oriented polypropylene (MOPP), biaxially oriented polypropylene (BOPP), polyethylene (PE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone, (PEEK) polyetherketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU), polyaryletherketone ( PAEK), polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystalline polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polyamide (PA), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM), acrylonitrile butadiene styrene (AB
- the carrier layer has a thickness with a thickness value which comes from a thickness value range whose lower limit is 5 ⁇ m, preferably 10 ⁇ m, and whose upper limit is 1000 ⁇ m, preferably 50 ⁇ m.
- the at least one absorber layer has at least one metallic material, in particular selected from the group of Nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt, palladium, iron, tungsten, molybdenum, niobium, aluminum, silver, copper and / or alloys of these materials comprises or is made from at least one of these materials.
- Another embodiment is characterized in that the at least one spacer layer is formed from a dielectric material.
- the at least one spacer layer has at least one low-refractive dielectric material with a refractive index less than or equal to 1.65, in particular selected from the group aluminum oxide (Al 2 O 3 ), metal fluorides, for example magnesium fluoride (MgF 2 ), Aluminum fluoride (AlF 3 ), silicon oxide (SIO x ), silicon dioxide (SiO 2 ), cerium fluoride (CeF 3 ), sodium-aluminum fluoride (e.g.
- Al 2 O 3 aluminum oxide
- metal fluorides for example magnesium fluoride (MgF 2 ), Aluminum fluoride (AlF 3 ), silicon oxide (SIO x ), silicon dioxide (SiO 2 ), cerium fluoride (CeF 3 ), sodium-aluminum fluoride (e.g.
- Na 3 AlF 6 or Na 5 Al 3 F 14 neodymium fluoride (NdF 3 ), Lanthanum fluoride (LaF 3 ), samarium fluoride (SmF 3 ) barium fluoride (BaF 2 ), calcium fluoride (CaF 2 ), lithium fluoride (LiF), low-refractive organic monomers and / or low-refractive organic polymers or at least one high-refractive dielectric material with a refractive index greater than 1, 65, in particular selected from the group of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO 2 ), carbon (C), indium oxide (In 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), Cerium oxide (CeO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), europium oxide (Eu 2 O 3 ), iron oxides such as iron (II, III) oxide (
- the at least one reflective layer has at least one metallic material, in particular selected from the group consisting of silver, copper, aluminum, gold, platinum, niobium, tin, or from nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt and palladium or alloys these materials, in particular cobalt-nickel alloys or at least one high-index dielectric material with a refractive index greater than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO 2 ), carbon (C), indium oxide (In 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), cerium oxide (CeO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), europium oxide (Eu 2 O 3 ), iron oxides such as iron (II, III) oxide (Fe 3 O 4 ) and iron (III) oxide (Fe 2 O 3 ), hafnium
- Another embodiment is characterized in that the structures are designed as diffractive structures, as micromirrors, as ray-optically effective facets or as achromatic, reflective structures.
- Another preferred embodiment is characterized in that the structures are introduced into the carrier layer by means of a molding device, in particular by an embossing process, or that the structures are formed in a layer, in particular an embossing lacquer layer, applied directly or with the interposition of at least one intermediate layer on the carrier layer , are embossed in particular by means of an impression device.
- the further layer with the structures formed therein has a layer thickness with a layer thickness value that originates from a layer thickness value range whose lower limit is 0.5 ⁇ m, in particular 0.8 ⁇ m, preferably 1 ⁇ m, and where upper limit is 300 ⁇ m, in particular 50 ⁇ m, preferably 10 ⁇ m.
- the security element is equipped with further color-shifting layers, in particular layers with color-shifting pigments or liquid crystals, and / or machine-readable features, the machine-readable features in particular being magnetic codings, electrically conductive layers, electromagnetic waves absorbing and / or re-emitting substances.
- the security element has additional layers, which additional layers comprise in particular colored lacquers, protective lacquers, adhesives, primers and / or foils.
- each of the layers described below can thus also comprise several layers, preferably connected to one another or adhering to one another.
- the Fig. 1 shows a security element 1, in particular for securities, banknotes, card applications or security papers, in a strongly stylized and not to scale representation.
- the security element 1 has at least one first region 2 and at least one second region 3 covering this at least in regions.
- the at least one first area 2 is arranged below the second area 3 in the position or position of the security element 1 shown.
- the two areas 2, 3 or those layers or plies forming them are designed differently from one another and will be described in more detail below.
- the at least one first region 2 comprises structures 4 or is formed by them.
- An image motif 5 is reflected from the structures 4 of the first area 2 into different spatial areas, so that a so-called movement image is created for the viewer when a light source 6 moves accordingly and / or when a viewing angle changes.
- the second region 3 which at least partially covers or overlays the first region 2 is formed by an optical effect layer 7.
- the optical effect layer 7 can also be designed as an optically variable layer or be referred to as this.
- the optical effect layer 7 can have or form an optically variable effect that is dependent on the viewing angle and / or the illumination angle and / or the type of illumination.
- the optically variable effect can be, for example, a top / see-through effect and / or a color-changing effect and / or a fluorescence effect or the like.
- the structures 4 can be provided partially or over the entire area. This also applies to the optical effect layer 7, which can also be provided partially or over the entire surface.
- the optical effect layer 7 can also be formed from a plurality of layers or comprise them.
- the security element 1 can also comprise a carrier layer 8.
- the carrier layer 8 can be formed from a plastic material. Furthermore, several layers can also form the carrier layer 8.
- the plastic can be formed from a translucent and / or thermoplastic plastic material. At least one of the materials from the group polyimide (PI), polypropylene (PP), monoaxially oriented polypropylene (MOPP), biaxially oriented polypropylene (BOPP), polyethylene (PE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone, (PEEK) Polyetherketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU), polyaryletherketone (PAEK), polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystalline polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polyamide (PA) , Polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM), acryl
- the carrier layer 8 for its part can have a thickness with a thickness value which originates from a thickness value range whose lower limit is 5 ⁇ m, preferably 10 ⁇ m, and whose upper limit is 1000 ⁇ m, preferably 50 ⁇ m.
- the structures 4 described above can be designed, for example, as diffractive structures, as micromirrors, as ray-optically effective facets or as achromatic, reflective structures.
- the formation of the structures 4 as diffractive structures is, for example, from EP2782765B1 and the EP2885135B1 as well as the WO2015107347A1 known.
- an embodiment of the structures 4 as micromirrors for example from the US10189294A1 as well as the EP3362827A1 is familiar to the person skilled in the art.
- a facet-like shape of the structures 4 is based, for example, on FIG EP2632739A1 emerged.
- the structures 4 can be or will be introduced into the carrier layer 8 by means of an impression device, in particular by means of an embossing process.
- the further layer 9 can be applied directly to the carrier layer 8.
- the further layer 9 is indicated with a dashed line.
- the further layer 9 can be formed by an embossing lacquer, which is reshaped accordingly to form the structures 4. This can in turn take place by means of the molding device or a molding element in an embossing process. In this way, the structures 4 can in turn be shaped.
- the further layer 9 with the structures 4 formed therein can have a layer thickness with a layer thickness value which originates from a layer thickness value range whose lower limit is 0.5 ⁇ m, in particular 0.8 ⁇ m, preferably 1 ⁇ m, and whose upper limit is 300 ⁇ m , in particular 50 ⁇ m, preferably 20 ⁇ m.
- an intermediate layer 10 can be provided, which is formed, for example, by an adhesion promoter, a primer, an adhesive or the like.
- the structures 4 can be designed, for example, as diffractive structures, as micromirrors, as ray-optically effective facets or as achromatic, reflective structures.
- the structures 4 can be formed or introduced directly into the carrier layer 8, for example, by means of a molding device, in particular by means of an embossing process.
- the further layer 9 described above can be formed in the further layer 9 applied to the carrier layer 8.
- the further layer 9 can in particular be formed by an embossing lacquer layer.
- the structures 4 can in turn be molded in or out, for example by means of a molding device, in particular by means of an embossing process.
- the structures 4 form the at least one first area 2 of the security element 1, the at least one first area 2 being covered or overlaid at least in sections by the at least one second area 3.
- the at least one second region 3 is formed by the optical effect layer 7, which in all exemplary embodiments is designed as a so-called thin-film element, which has a thin-layer structure or can itself be referred to as a thin-layer structure.
- the layer thickness of the individual layers or plies forming the thin-film element is greatly exaggerated and shown not to scale.
- the structures 4 can thus be covered over the entire area or partially by the optical effect layer 7.
- the optical effect layer 7 embodied as a thin-layer element comprises at least one absorber layer 11 and at least one spacer layer 12. Further possible additional layers or plies of the optical effect layer 7 are described in the following figures.
- the at least one absorber layer 11 can comprise or comprise at least one metallic material, in particular selected from the group of nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt, palladium, iron, tungsten, molybdenum, niobium, aluminum, silver, copper and / or alloys of these materials be made of at least one of these materials.
- the at least one spacer layer 12 can be formed from a dielectric material, for example. Furthermore, the at least one spacer layer 12 can have at least one low-refractive dielectric material with a refractive index less than or equal to 1.65, in particular selected from the group aluminum oxide (Al 2 O 3 ), metal fluorides, for example magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), silicon oxide (SIO x ), silicon dioxide (SiO 2 ), cerium fluoride (CeF 3 ), sodium-aluminum fluoride (e.g.
- Al 2 O 3 aluminum oxide
- metal fluorides for example magnesium fluoride (MgF 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), silicon oxide (SIO x ), silicon dioxide (SiO 2 ), cerium fluoride (CeF 3 ), sodium-aluminum fluoride (e.g.
- Na 3 AlF 6 or Na 5 Al 3 F 14 neodymium fluoride (NdF 3 ), lanthanum fluoride (LaF 3 ), samarium fluoride (SmF 3 ) barium fluoride (BaF 2 ), calcium fluoride (CaF 2 ), lithium fluoride (LiF), low-refractive organic monomers and / or low-refractive organic polymers or at least one high-refractive dielectric material with a Refractive index greater than 1.65, in particular selected from the group zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO 2 ), carbon (C), indium oxide (In 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), Tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), cerium oxide (CeO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), europium oxide (Eu 2 O 3 ), iron oxides such as iron (II, III) oxide (
- the optical effect layer 7 embodied as a thin-layer element is always arranged or applied to the structures 4. It is possible to apply the entire thin-film element as an optical effect layer 7 to the structures 4. However, it would also be possible to apply only individual layers or plies of the optical effect layer 7 one after the other or also in groups. The application of the optical effect layer 7 or individual plies or layers of the same can take place in a wide variety of ways, depending on the material selected. Printing and / or vapor deposition and / or painting are cited as possible examples.
- optical effect layer 7 can thus be arranged or applied to the structures 4 either directly and / or with the interposition of its own additional intermediate layer 10.
- optical effect layer 7 embodied as a thin-layer element
- further layers can be provided, for example an optically non-linear layer an optically non-linear position.
- Such a layer or such materials or layers forming this layer are also referred to as an IR upconverter or UV downconverter.
- These can be materials which, under the influence of electromagnetic radiation outside the visible wavelength range of light, have a visible color. Such materials can be excited to emit visible light under these conditions, for example when irradiated with infrared (IR) ( ⁇ > 780 nm) and / or ultraviolet (UV) light ( ⁇ ⁇ 380).
- IR infrared
- UV ultraviolet
- the optical effect layer 7 embodied as a thin-layer element can also be embodied as a color-shifting layer or comprise a color-shifting layer. Any variations of the optical effects are also possible through appropriate combinations of the most varied of layers or layers. This makes it possible, for example, that when the light source 6 is moved and / or the viewing angle is changed in the optical effect layer 7 designed as a color-shifting layer or in the color-shifting position, a color shifting effect is created.
- metallic pigments and / or magnetic pigments and / or fluorescent pigments and / or fluorescent substances and / or colored pigments and / or dyes can be provided.
- the at least one spacer layer 12 is applied to the structures 4, in particular printed and / or vapor-deposited. As described above, the at least one spacer layer 12 can be applied directly and immediately to the structures 4, or the interposition of its own intermediate layer 10 can be provided.
- a protective layer 13 can be applied to the optical effect layer 7 as the uppermost or outermost layer or layer.
- the protective layer 13 can be provided, but need not be provided.
- a planar design of the security element 1 can preferably also be achieved by means of the protective layer 13, as indicated by a dashed line in FIG Fig. 1 is indicated.
- Fig 3 the previously described configuration of the security element 1 is shown in a simplified manner.
- the direction of view of the security element 1 is indicated by an arrow and takes place through the optical effect layer 7 onto the structures 4.
- the structures 4 which define the first area 2 are covered by the second area 3 of the optical effect layer 7.
- the optical effect layer 7 designed as a thin-layer element comprises the spacer layer 12 facing the structures 4 and the absorber layer 11 located above it.
- the protective layer 13 is also indicated on the side of the absorber layer 11 facing away from the structures 4 as a possible additional layer or layer.
- the protective layer 13 can be provided, but need not be provided.
- the carrier layer 8 is also indicated, wherein the structures 4 can either be formed directly on the carrier layer 8 or the further layer 9 described above can be provided and the structures 4 can be formed thereon.
- FIG. 4 shows a possible further exemplary embodiment of the security element 1.
- the security element 1 is designed in its layer structure similar to that previously in FIG Fig. 3 described security element 1.
- the direction of view of the security element 1 is also indicated by an arrow and takes place through the optical effect layer 7 onto the structures 4.
- the structures 4 which define the first area 2 are covered by the second area 3 of the optical effect layer 7.
- the optical effect layer 7 designed as a thin-layer element comprises the absorber layer 11 facing the structures 4, then the spacer layer 12 and again the absorber layer 11 above it.
- at least one absorber layer 11 is arranged or provided on each side of the spacer layer 12. That absorber layer 11 located closer to the structures 4 is thus applied to the structures 4 or arranged on them. This can be done directly or with the interposition of its own intermediate layer 10.
- the protective layer 13 is also indicated as a possible additional layer or layer on the side of the outer absorber layer 11 facing away from the structures 4.
- the protective layer 13 can be provided, but need not be provided.
- the carrier layer 8 is also indicated, the structures 4 either being formed directly on the carrier layer 8 can or the previously described further layer 9 can be provided and the structures 4 can be formed on this.
- FIG. 5 Another possible embodiment of the security element 1 with its optical effect layer 7 is shown.
- the direction of view of the security element 1 is also indicated by an arrow and also takes place here through the optical effect layer 7 onto the structures 4.
- the basic structure of the security element 1 corresponds to that in FIG Fig. 1 and 3 has been shown and described.
- the optical effect layer 7 also comprises at least one reflective layer 14 as an additional layer.
- the at least one spacer layer 12 is arranged between the at least one absorber layer 11 and the at least one reflective layer 14.
- the reflective layer 14 is applied or arranged here on the structures 4, and can in particular be printed and / or vapor-deposited thereon.
- the at least one reflective layer 14 can be at least one metallic material, in particular selected from the group consisting of silver, copper, aluminum, gold, platinum, niobium, tin, or from nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt and palladium or alloys of these materials, in particular cobalt -Nickel alloys or at least one high-index dielectric material with a refractive index greater than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO 2 ), carbon (C), indium oxide (In 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), cerium oxide (CeO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), europium oxide (Eu 2 O 3 ), iron oxides such as iron (II , III) oxide (Fe 3 O 4 ) and iron (III) oxide (Fe 2 O 3 ), ha
- the structures 4 which define the first area 2 are covered by the second area 3 of the optical effect layer 7.
- the optical effect layer 7, designed as a thin-film element, here comprises the reflective layer 14 facing the structures 4, then the spacer layer 12 and in turn the absorber layer 11 located above it.
- the reflective layer 14 can be applied to the structures 4 and arranged in a direct manner or else with the interposition of its own intermediate layer 10.
- the protective layer 13 is also indicated as a possible additional layer or layer on the side of the outer absorber layer 11 facing away from the structures 4.
- the protective layer 13 can be provided, but need not be provided.
- the carrier layer 8 is also indicated, wherein the structures 4 can either be formed directly on the carrier layer 8 or the further layer 9 described above can be provided and the structures 4 can be formed thereon.
- FIG. 6 Another possible embodiment of the security element 1 with its optical effect layer 7 is shown.
- the direction of view of the security element 1 is also indicated by an arrow and, in contrast to the exemplary embodiments described above, takes place through the structures 4 onto the optical effect layer 7.
- the optical effect layer 7 designed as a thin-layer element comprises, starting from the side facing away from the structures 4 in the direction of the structures 4, at least the reflective layer 14, the spacer layer 12 and then the absorber layer 11.
- the absorber layer 11 closer to the structures 4 is on the structures 4 applied or arranged on this. This can be done directly or with the interposition of its own additional intermediate layer 10.
- the protective layer 13 is also indicated as a possible additional layer or layer on the side of the outer reflective layer 14 facing away from the structures 4.
- the protective layer 13 can be provided, but need not be provided.
- the carrier layer 8 is also indicated, the structures 4 either being formed directly on the carrier layer 8 or the above-described further layer 9 can be provided and the structures 4 can be formed on this.
- FIG. 12 shows only one possible layer structure of the optical effect layer 7 designed as a thin-film element.
- the layer structure of the optical effect layer 7 is similar to that in FIG Fig. 5 elected.
- the optical effect layer 7 comprises at least the absorber layer 11, the spacer layer 12, the reflective layer 14, a further spacer layer 12 and finally a further absorber layer 11.
- the two absorber layers 11 are arranged on opposite sides of the optical effect layer 7.
- the reflective layer 14 is for its part arranged between the two spacer layers 12.
- One of the two absorber layers 11 is in turn arranged or applied to the structures 4.
- the structures 4 and other possible layers or plies are no longer shown in greater detail or are only indicated, but are still described below.
- the protective layer 13 can also be arranged or provided on the side of the outer absorber layer 11 facing away from the structures 4.
- the protective layer 13 can be provided, but need not be provided.
- the structures 4 can either be formed directly on the carrier layer 8 or the further layer 9 described above can be provided and the structures 4 can be formed on this.
- the security element 1 can again be formed in combination with the structures 4.
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Abstract
Description
- Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement, insbesondere für Wertpapiere, Sicherheitspapier oder Sicherheitsgegenstände, wie Banknoten, Ausweise, Kreditkarten, Bankomatkarten, Tickets.
- Sicherheitselemente der eingangsgenannten Art werden üblicherweise verwendet, um die Fälschungssicherheit von Wertpapieren oder Sicherheitspapieren, wie Banknoten, Ausweise, Kreditkarten, Bankomatkarten, Tickets etc. zu erhöhen.
- Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Sicherheitselement mit erhöhter Fälschungssicherheit zu schaffen.
- Diese Aufgabe wird durch ein Sicherheitselement der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass das Sicherheitselement zumindest einen ersten Bereich mit Strukturen aufweist, und die Strukturen ein Bildmotiv in unterschiedliche Raumbereiche reflektieren, sodass für den Betrachter bei entsprechender Bewegung einer Lichtquelle und/oder bei Veränderung eines Beobachtungswinkels ein Bewegungsbild entsteht, wobei bei Bewegung der Lichtquelle und/oder Veränderung des Beobachtungswinkels gleichzeitig eine Bewegung des Bildmotivs entsteht, und dabei weiters vorgesehen ist
- dass eine optische Effektschicht vorgesehen ist, welche optische Effektschicht zumindest einen zweiten Bereich definiert,
- dass die optische Effektschicht als Dünnschichtelement ausgebildet ist, und
- dass die Strukturen vollflächig oder partiell von der optischen Effektschicht abgedeckt sind.
- Der dadurch erzielte Vorteil liegt darin, dass so eine einander überdeckende Lage des ersten Bereichs zur Bildung des als Bewegungsbild ausgebildeten Bildmotivs und des zweiten Bereichs zur Bildung von zumindest einem optischen Erscheinungsbild oder einem optischen Effekt eine hohe Kombinations- und Gestaltungsvielfalt geschaffen wird. Damit wird die Fälschungssicherheit des so ausgebildeten Sicherheitselements noch weiter erhöht. So wird das von den Strukturen gebildete Bewegungsbild direkt mit dem von der optischen Effektschicht erzeugten oder hervorgerufenen optischen Effekt zu einem Gesamtbild kombiniert. Ein Betrachter des Sicherheitselements kann damit ohne Zuhilfenahme von Hilfsmitteln rasch und sicher die Echtheit durch eine rein visuelle Inaugenscheinnahme feststellen.
- Weiters kann es vorteilhaft sein, wenn die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht zumindest eine Absorberschicht und zumindest eine Distanzschicht umfasst.
- Eine weitere mögliche Ausführungsform hat die Merkmale, dass die zumindest eine Distanzschicht auf den Strukturen aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist. An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, dass unter dem Begriff eine Schicht ist auf etwas aufgebracht so zu verstehen ist, dass die Schicht direkt aufgebracht sein kann, oder dass sich zwischen der aufgebrachten Schicht und dem, worauf die Schicht aufgebracht ist, noch eine oder mehrere Zwischenschichten befinden können.
- Darüber hinaus kann die Absorberschicht auf die Strukturen aufgebracht sein, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft sein.
- Gemäß einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung können die Distanzschicht und die Absorberschicht in der Reihenfolge Absorberschicht - Distanzschicht oder Distanzschicht-Absorberschicht auf die Strukturen aufgebracht sein.
- Eine weitere Ausbildung sieht vor, dass beidseits der zumindest einen Distanzschicht jeweils zumindest eine Absorberschicht angeordnet ist und dass die zumindest eine Absorberschicht auf den Strukturen aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist. Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht weiters noch zumindest eine Reflexionsschicht umfasst, wobei die zumindest eine Distanzschicht zwischen der zumindest einen Absorberschicht und der zumindest einen Reflexionsschicht angeordnet ist.
- Eine weitere bevorzugte Ausführungsform ist dadurch gekennzeichnet, dass die Reflexionsschicht auf den Strukturen aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist.
- Weiters kann es vorteilhaft sein, wenn die zumindest eine Absorberschicht auf den Strukturen aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist.
- Eine weitere Ausbildung sieht vor, dass bei der Bewegung der Lichtquelle und/oder der Veränderung des Beobachtungswinkels in der als farbkippenden Schicht ausgebildeten optischen Effektschicht oder in der farbkippenden Lage ein Farbkippeffekt entsteht.
- Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass das Sicherheitselement zusätzlich zu dem Dünnschichtelement metallische Pigmente und/oder magnetische Pigmente und/oder fluoreszierende Pigmente und/oder fluoreszierenden Stoffe und/oder Farbpigmente und/oder Farbstoffe enthält.
- Eine weitere bevorzugte Ausführungsform ist dadurch gekennzeichnet, dass dieses eine Trägerschicht aus einem Kunststoff umfasst, wobei insbesondere der Kunststoff aus einem lichtdurchlässigen und/oder thermoplastischen Kunststoff gebildet ist, und dass die Trägerschicht bevorzugt zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT), Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen (PTFE), Polyvinylfluorid (PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
- Weiters kann es vorteilhaft sein, wenn die Trägerschicht eine Dicke mit einem Dickenwert aufweist, der aus einem Dicken-Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 5 µm, bevorzugt von 10 µm, und dessen obere Grenze 1000 µm, bevorzugt von 50 µm, beträgt.
- Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass die zumindest eine Absorberschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe von Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
- Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass die zumindest eine Distanzschicht aus einem dielektrischen Material gebildet ist.
- Eine weitere mögliche Ausführungsform hat die Merkmale, dass die zumindest eine Distanzschicht zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminiumoxid (Al2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AlF3), Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (SiO2), Cerfluorid (CeF3), Natrium-Aluminium-Fluoride (z.B. Na3AlF6 oder Na5Al3F14), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organische Polymere oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe3O4) und Eisen(III)oxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
- Eine weitere Ausbildung sieht vor, dass die zumindest eine Reflexionsschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Silber, Kupfer, Aluminium, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe3O4) and Eisen(III)oxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
- Eine andere Ausführungsform zeichnet sich dadurch aus, dass die Strukturen als diffraktive Strukturen, als Mikrospiegel, als strahlenoptisch wirksame Facetten oder als achromatische, reflektierende Strukturen ausgebildet sind.
- Eine weitere bevorzugte Ausführungsform ist dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturen in die Trägerschicht mittels einer Abformvorrichtung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, eingebracht sind oder dass die Strukturen in einer direkt oder unter Zwischenschaltung zumindest einer Zwischenschicht auf die Trägerschicht aufgebrachten Schicht, insbesondere einer Prägelackschicht, ausgeformt sind, insbesondere mittels einer Abformvorrichtung eingeprägt sind.
- Schließlich kann es vorteilhaft sein, wenn die weitere Schicht mit den darin ausgeformten Strukturen eine Schichtdicke mit einem Schichtdickenwert aufweist, der aus einem Schichtdicken-Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 0,5 µm, insbesondere 0,8 µm, bevorzugt 1 µm, und dessen obere Grenze 300 µm, insbesondere 50 µm, bevorzugt 10 µm, beträgt.
- Gemäß einer Weiterbildung ist es möglich, dass das Sicherheitselement mit weiteren farbkippenden Schichten, insbesondere Schichten mit farbkippenden Pigmenten oder Flüssigkristallen, und/oder maschinenlesbaren Merkmalen, ausgestattet ist, wobei es sich bei den maschinenlesbaren Merkmalen insbesondere um Magnetcodierungen, elektrisch leitfähige Schichten, elektromagnetische Wellen absorbierende und/oder reemittierende Stoffe handelt.
- Ferner kann es zweckmäßig sein, wenn das Sicherheitselement zusätzliche Schichten aufweist, welche zusätzlichen Schichten insbesondere Farblacke, Schutzlacke, Kleber, Primer und/oder Folien umfassen.
- Zum besseren Verständnis der Erfindung wird diese anhand der nachfolgenden Figuren näher erläutert.
- Es zeigen jeweils in stark vereinfachter, schematischer Darstellung:
- Fig. 1
- einen Schnitt durch ein mögliches Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Sicherheitselements;
- Fig. 2
- einen Schnitt durch ein anderes Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Sicherheitselements;
- Fig. 3
- einen ersten möglichen Schicht- und/oder Lagenaufbau des Sicherheitselements, in Ansicht und stilisierter Darstellung;
- Fig. 4
- einen zweiten möglichen Schicht- und/oder Lagenaufbau des Sicherheitselements, in Ansicht und stilisierter Darstellung;
- Fig. 5
- einen dritten möglichen Schicht- und/oder Lagenaufbau des Sicherheitselements, in Ansicht und stilisierter Darstellung;
- Fig. 6
- einen vierten möglichen Schicht- und/oder Lagenaufbau des Sicherheitselements, in Ansicht und stilisierter Darstellung;
- Fig. 7
- einen weiteren möglichen Schichtaufbau der optischen Effektschicht, in Ansicht und stilisierter Darstellung.
- Einführend sei festgehalten, dass in den unterschiedlich beschriebenen Ausführungsformen gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen versehen werden, wobei die in der gesamten Beschreibung enthaltenen Offenbarungen sinngemäß auf gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen übertragen werden können. Auch sind die in der Beschreibung gewählten Lageangaben, wie z.B. oben, unten, seitlich usw. auf die unmittelbar beschriebene sowie dargestellte Figur bezogen und sind bei einer Lageänderung sinngemäß auf die neue Lage zu übertragen.
- Der Begriff "insbesondere" wird nachfolgend so verstanden, dass es sich dabei um eine mögliche speziellere Ausbildung oder nähere Spezifizierung eines Gegenstands oder eines Verfahrensschritts handeln kann, aber nicht unbedingt eine zwingende, bevorzugte Ausführungsform desselben oder eine zwingende Vorgehensweise darstellen muss.
- Die Figuren werden übergreifend beschrieben und stets gleiche Bauteile oder gleiche Komponenten mit den gleichen Bezugszeichen versehen. Weiters wird der Begriff der "Schicht" grundsätzlich für einen mehrlagigen, zusammengehörigen Bauteilverbund verwendet. Damit kann jede der nachfolgend beschriebenen Schichten auch mehrere, bevorzugt miteinander verbundene oder aneinander anhaftende Lagen umfassen.
- Die
Fig. 1 zeigt ein Sicherheitselement 1, insbesondere für Wertpapiere, Banknoten, Kartenanwendungen oder Sicherheitspapiere, in einer stark stilisiert und unmaßstäblichen Darstellung. - Das Sicherheitselement 1 weist zumindest einen ersten Bereich 2 und zumindest einen diesen zumindest bereichsweise abdeckenden zweiten Bereich 3 auf. Der zumindest eine erste Bereich 2 ist in der dargestellten Lage bzw. Position des Sicherheitselements 1 unterhalb des zweiten Bereichs 3 angeordnet. Die beiden Bereiche 2, 3 bzw. jene diese bildenden Schichten oder Lagen, sind zueinander unterschiedlich ausgebildet und werden nachfolgend noch detaillierter beschrieben.
- Der zumindest eine erste Bereich 2 umfasst Strukturen 4 oder ist durch diese gebildet. Von den Strukturen 4 des ersten Bereichs 2 wird ein Bildmotiv 5 in unterschiedliche Raumbereiche reflektiert, sodass für den Betrachter bei entsprechender Bewegung einer Lichtquelle 6 und/oder bei Veränderung eines Beobachtungswinkels ein sogenanntes Bewegungsbild entsteht.
- Der den ersten Bereich 2 zumindest abschnittsweise überdeckende oder überlagernde zweite Bereich 3 ist bei diesem Ausführungsbeispiel von einer optischen Effektschicht 7 gebildet. Die optische Effektschicht 7 kann auch als optisch variable Schicht ausgebildet sein oder als diese bezeichnet werden.
- Die optische Effektschicht 7 kann einen vom Betrachtungswinkel und/oder vom Beleuchtungswinkel und/oder von der Art der Beleuchtung abhängigen optisch variablen Effekt aufweisen oder diesen ausbilden. Der optisch variable Effekt kann z.B. ein Aufsicht- / Durchsichtseffekt und/oder ein farbkippender Effekt und/oder ein Fluoreszenz-Effekt oder dergleichen sein.
- Dabei sei erwähnt, dass die Strukturen 4 partiell oder vollflächig vorgesehen sein können. Dies gilt auch für die optische Effektschicht 7, welche ebenfalls partiell oder vollflächig vorgesehen sein kann. Es kann die optische Effektschicht 7 auch aus mehreren Lagen gebildet sein oder diese umfassen.
- Das Sicherheitselement 1 kann auch noch eine Trägerschicht 8 umfassen. Die Trägerschicht 8 kann aus einem Kunststoffwerkstoff gebildet sein. Weiters können auch mehrere Lagen die Trägerschicht 8 bilden. Der Kunststoff kann aus einem lichtdurchlässigen und/oder thermoplastischen Kunststoffmaterial gebildet sein. Als Werkstoff für die Trägerschicht 8 kann zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT), Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen (PTFE), Polyvinylfluorid (PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.
- Die Trägerschicht 8 kann ihrerseits eine Dicke mit einem Dickenwert aufweisen, der aus einem Dicken-Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 5 µm, bevorzugt von 10 µm, und dessen obere Grenze 1000 µm, bevorzugt von 50 µm, beträgt.
- Die zuvor beschriebenen Strukturen 4 können z.B. als diffraktive Strukturen, als Mikrospiegel, als strahlenoptisch wirksame Facetten oder als achromatische, reflektierende Strukturen ausgebildet sein. Die Ausbildung der Strukturen 4 als diffraktive Strukturen ist beispielsweise aus der
EP2782765B1 und derEP2885135B1 sowie derWO2015107347A1 bekannt geworden. Während eine Ausgestaltung der Strukturen 4 als Mikrospiegel beispielsweise aus derUS10189294A1 EP3362827A1 dem Fachmann geläufig ist. Eine facettenartige Ausformung der Strukturen 4 geht beispielsweise aus derEP2632739A1 hervor. Weiters können die Strukturen 4 in die Trägerschicht 8 mittels einer Abformvorrichtung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, eingebracht sein oder werden. - Eine weitere alternative Möglichkeit bestünde darin, zur Ausbildung der Strukturen 4 eine eigene weitere Schicht 9 vorzusehen. Die weitere Schicht 9 kann direkt auf die Trägerschicht 8 aufgebracht sein. Die weitere Schicht 9 ist mit einer strichlierten Linie angedeutet. So kann z.B. die weitere Schicht 9 von einem Prägelack gebildet sein, welcher entsprechend zur Bildung der Strukturen 4 umgeformt ist. Dies kann wiederum mittels der Abformvorrichtung oder eines Abformelements in einem Prägeverfahren erfolgen. Damit können wiederum die Strukturen 4 ausgeformt werden. Die weitere Schicht 9 mit den darin ausgeformten Strukturen 4 kann eine Schichtdicke mit einem Schichtdickenwert aufweisen, der aus einem Schichtdicken-Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 0,5 µm, insbesondere 0,8 µm, bevorzugt 1 µm, und dessen obere Grenze 300 µm, insbesondere 50 µm, bevorzugt 20 µm, beträgt.
- In der
Fig. 2 ist noch dargestellt, dass die Strukturen 4 zwar durch die weitere Schicht 9 ausgebildet sind, jedoch die weitere Schicht 9 nicht direkt auf die Trägerschicht 8 aufgebracht ist. Es kann dazu eine Zwischenschicht 10 vorgesehen sein, welche z.B. durch einen Haftvermittler, einen Primer, einen Kleber oder dergleichen ausgebildet ist. - Die Strukturen 4 können z.B. als diffraktive Strukturen, als Mikrospiegel, als strahlenoptisch wirksame Facetten oder als achromatische, reflektierende Strukturen ausgebildet sein. Die Ausbildung bzw. das Einbringen der Strukturen 4 direkt in der Trägerschicht 8 kann z.B. mittels einer Abformvorrichtung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, erfolgen.
- Ist die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 zur Ausbildung der Strukturen 4 vorgesehen, können diese in der auf die Trägerschicht 8 aufgebrachten weiteren Schicht 9 ausgeformt sein. Die weitere Schicht 9 kann insbesondere von einer Prägelackschicht gebildet sein. Das Einformen oder Ausformen der Strukturen 4 kann wiederum z.B. mittels einer Abformvorrichtung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, erfolgen.
- Bei den gezeigten Ausführungsbeispielen bilden die Strukturen 4 den zumindest einen ersten Bereich 2 des Sicherheitselements 1, wobei der zumindest eine erste Bereich 2 zumindest abschnittsweise von dem zumindest einen zweiten Bereich 3 abgedeckt oder überlagert ist. Der zumindest eine zweite Bereich 3 ist von der optischen Effektschicht 7 gebildet, welche bei allen Ausführungsbeispielen als sogenanntes Dünnschichtelement ausgebildet ist, welches einen Dünnschichtaufbau aufweist oder selbst als Dünnschichtaufbau bezeichnet werden kann. Die Schichtstärke der einzelnen das Dünnschichtelement bildenden Schichten oder Lagen ist stark übertrieben und unmaßstäblich dargestellt. So können die Strukturen 4 vollflächig oder partiell von der optischen Effektschicht 7 abgedeckt sein.
- Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 umfasst zumindest eine Absorberschicht 11 und zumindest eine Distanzschicht 12. Weitere mögliche zusätzliche Schichten oder Lagen der optischen Effektschicht 7 werden in den nachfolgenden Fig. noch beschrieben.
- Die zumindest eine Absorberschicht 11 kann zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe von Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.
- Die zumindest eine Distanzschicht 12 kann z.B. aus einem dielektrischen Material gebildet sein. Weiters kann die zumindest eine Distanzschicht 12 zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminiumoxid (Al2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AlF3), Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (SiO2), Cerfluorid (CeF3), Natrium-Aluminium-Fluoride (z.B. Na3AlF6 oder Na5Al3F14), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organische Polymere oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe3O4) und Eisen(III)oxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.
- Es ist stets die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 auf den Strukturen 4 angeordnet oder aufgebracht. Es ist möglich, das gesamte Dünnschichtelement als optische Effektschicht 7 auf die Strukturen 4 aufzubringen. Es wäre aber auch möglich, nur einzelne Schichten oder Lagen der optischen Effektschicht 7 nacheinander oder auch gruppenweise aufzubringen. Das Aufbringen der optischen Effektschicht 7 oder einzelner Lagen oder Schichten derselben kann je nach gewähltem Werkstoff unterschiedlichst erfolgen. Als mögliche Beispiele sei das Aufdrucken und/oder Aufdampfen und/oder Lackieren angeführt.
- Es wäre auch noch zusätzlich möglich, eine eigene Zwischenschicht 10, wie z.B. eine Haftvermittlerschicht oder Haftvermittlerlage, eine Primerschicht oder Primerlage oder dergleichen, zwischen den den ersten Bereich 2 bildenden Strukturen 4 und der optischen Effektschicht 7 mit ihrem zweiten Bereich 3 vorzusehen. Damit kann das Anordnen oder Aufbringen der optischen Effektschicht 7 auf die Strukturen 4 entweder direkt und/oder unter Zwischenschaltung der eigenen, zusätzlichen Zwischenschicht 10 erfolgen.
- Zusätzlich zu der als Dünnschichtelement ausgebildeten optischen Effektschicht 7 können weitere Schichten vorgesehen sein, beispielsweise eine optisch nicht lineare Schicht sein oder eine optisch nicht lineare Lage. Eine derartige Schicht oder solche diese Schicht bildenden Materialien oder Lagen werden auch als IR-Upconverter oder UV-Downconverter bezeichnet. Dabei kann es sich um Materialien handeln, welche unter dem Einfluss von elektromagnetischer Strahlung außerhalb des sichtbaren Wellenlängenbereiches des Lichtes eine sichtbare Farbe aufweisen. Solche Materialien können unter diesen Bedingungen, beispielsweise bei Einstrahlung von Infrarot(IR)- (λ > 780 nm) und/oder Ultraviolet(UV)-Licht (λ < 380), so zur Emission von sichtbarem Licht angeregt werden.
- Weiters kann die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 auch als farbkippende Schicht ausgebildet sein oder eine farbkippende Lage umfassen. Es sind auch beliebige Variationen der optischen Effekte durch entsprechende Kombinationen von unterschiedlichsten Lagen oder Schichten möglich. Damit wird es z.B. möglich, dass bei der Bewegung der Lichtquelle 6 und/oder der Veränderung des Beobachtungswinkels in der als farbkippenden Schicht ausgebildeten optischen Effektschicht 7 oder in der farbkippenden Lage ein Farbkippeffekt entsteht.
- Weiters können zusätzlich zur optischen Effektschicht 7 metallische Pigmente und/oder magnetische Pigmente und/oder fluoreszierende Pigmente und/oder fluoreszierenden Stoffe und/oder Farbpigmente und/oder Farbstoffe vorgesehen sein.
- Bei dem in der
Fig. 1 gezeigten Ausführungsbeispiel ist die zumindest eine Distanzschicht 12 auf den Strukturen 4 aufgebracht, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft. Wie zuvor beschrieben, kann die zumindest eine Distanzschicht 12 direkt und unmittelbar auf den Strukturen 4 aufgebracht sein oder es kann die Zwischenschaltung der eigenen Zwischenschicht 10 vorgesehen sein. - Als oberste oder äußerste Lage oder Schicht kann auf die optische Effektschicht 7 eine Schutzschicht 13 aufgebracht sein. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Bevorzugt kann mittels der Schutzschicht 13 auch eine ebenflächige Ausbildung des Sicherheitselements 1 erzielt werden, wie dies mit einer strichlierten Linie in der
Fig.1 angedeutet ist. - In der
Fig 3 ist die zuvor beschriebene Ausbildung des Sicherheitselements 1 noch vereinfacht dargestellt. Die Blickrichtung auf das Sicherheitselement 1 ist mit einem Pfeil angedeutet und erfolgt durch die optische Effektschicht 7 hindurch auf die Strukturen 4. - Die Strukturen 4, welche den ersten Bereich 2 definieren, sind von dem zweiten Bereich 3 der optischen Effektschicht 7 abgedeckt. Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 umfasst die den Strukturen 4 zugewendete Distanzschicht 12 und die darüber befindliche Absorberschicht 11. Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage ist noch auf der von den Strukturen 4 abgewendeten Seite der Absorberschicht 11 die Schutzschicht 13 angedeutet. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Es ist weiters die Trägerschicht 8 angedeutet, wobei die Strukturen 4 entweder direkt an der Trägerschicht 8 ausgebildet sein können oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vorgesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.
- Die
Fig. 4 zeigt ein mögliches weiters Ausführungsbeispiel des Sicherheitselements 1. Das Sicherheitselement 1 ist in seinem Schichtaufbau ähnlich ausgebildet, wie das zuvor in derFig. 3 beschriebene Sicherheitselement 1. Die Blickrichtung auf das Sicherheitselement 1 ist ebenfalls mit einem Pfeil angedeutet und erfolgt durch die optische Effektschicht 7 hindurch auf die Strukturen 4. - Die Strukturen 4, welche den ersten Bereich 2 definieren, sind von dem zweiten Bereich 3 der optischen Effektschicht 7 abgedeckt. Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 umfasst die den Strukturen 4 zugewendete Absorberschicht 11, anschließend die Distanzschicht 12 und wiederum die darüber befindliche Absorberschicht 11. Damit ist beidseits der Distanzschicht 12 jeweils zumindest eine Absorberschicht 11 angeordnet oder vorgesehen. Jene den Strukturen 4 näherliegend befindliche Absorberschicht 11 ist somit auf den Strukturen 4 aufgebracht oder auf diesen angeordnet. Dies kann in direkter Weise oder aber auch unter Zwischenschaltung der eigenen Zwischenschicht 10 erfolgen.
- Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage ist noch auf der von den Strukturen 4 abgewendeten Seite der äußeren Absorberschicht 11 die Schutzschicht 13 angedeutet. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Es ist weiters die Trägerschicht 8 angedeutet, wobei die Strukturen 4 entweder direkt an der Trägerschicht 8 ausgebildet sein können oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vorgesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.
- In der
Fig. 5 ist ein weiteres mögliches Ausführungsbeispiel des Sicherheitselements 1 mit dessen optischen Effektschicht 7 gezeigt. Die Blickrichtung auf das Sicherheitselement 1 ist ebenfalls mit einem Pfeil angedeutet und erfolgt auch hier durch die optische Effektschicht 7 hindurch auf die Strukturen 4. - Der grundsätzliche Aufbau des Sicherheitselements 1 entspricht dabei jenem, wie dieser in den
Fig. 1 und3 gezeigt und beschrieben worden ist. Als zusätzliche Schicht umfasst die optische Effektschicht 7 auch noch zumindest eine Reflexionsschicht 14. Die zumindest eine Distanzschicht 12 ist dabei zwischen der zumindest einen Absorberschicht 11 und der zumindest einen Reflexionsschicht 14 angeordnet. Die Reflexionsschicht 14 ist hier auf den Strukturen 4 aufgebracht oder angeordnet, und kann insbesondere auf diese aufgedruckt und/oder aufgedampft werden. - Die zumindest eine Reflexionsschicht 14 kann zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe, Silber, Kupfer, Aluminium Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe3O4) and Eisen(III)oxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein. Dies gilt für alle in den Ausführungsbeispielen beschrieben Reflexionsschichten 14.
- Die Strukturen 4, welche den ersten Bereich 2 definieren, sind von dem zweiten Bereich 3 der optischen Effektschicht 7 abgedeckt. Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 umfasst hier die den Strukturen 4 zugewendete Reflexionsschicht 14, anschließend die Distanzschicht 12 und wiederum die darüber befindliche Absorberschicht 11. Durch das Anordnen oder Aufbringen der Reflexionsschicht 14 auf den Strukturen 4, kann diese die Raumform der Strukturen 4 bei Betrachtung wiedergeben. Die Reflexionsschicht 14 kann in direkter Weise oder aber auch unter Zwischenschaltung der eigenen Zwischenschicht 10 auf die Strukturen 4 aufgebracht und angeordnet werden.
- Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage ist noch auf der von den Strukturen 4 abgewendeten Seite der äußeren Absorberschicht 11 die Schutzschicht 13 angedeutet. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Es ist weiters die Trägerschicht 8 angedeutet, wobei die Strukturen 4 entweder direkt an der Trägerschicht 8 ausgebildet sein können oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vorgesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.
- In der
Fig. 6 ist ein weiteres mögliches Ausführungsbeispiel des Sicherheitselements 1 mit dessen optischen Effektschicht 7 gezeigt. Die Blickrichtung auf das Sicherheitselement 1 ist ebenfalls mit einem Pfeil angedeutet und erfolgt im Gegensatz zu den zuvor beschriebenen Ausführungsbeispielen durch die Strukturen 4 hindurch auf die optische Effektschicht 7. - Die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht 7 umfasst ausgehend von der von den Strukturen 4 abgewendeten Seite hin in Richtung auf die Strukturen 4 zumindest die Reflexionsschicht 14, die Distanzschicht 12 und anschließend die Absorberschicht 11. Die den Strukturen 4 näherliegend befindliche Absorberschicht 11 ist auf den Strukturen 4 aufgebracht oder auf diesen angeordnet. Dies kann in direkter Weise oder aber auch unter Zwischenschaltung der eigenen, zusätzlichen Zwischenschicht 10 erfolgen.
- Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage ist noch auf der von den Strukturen 4 abgewendeten Seite der hier äußeren Reflexionsschicht 14 die Schutzschicht 13 angedeutet. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Es ist weiters die Trägerschicht 8 angedeutet, wobei die Strukturen 4 entweder direkt an der Trägerschicht 8 ausgebildet sein können oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vorgesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.
- Die
Fig. 7 zeigt nur einen möglichen Schichtaufbau der als Dünnschichtelement ausgebildeten optischen Effektschicht 7. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist ein ähnlicher Schichtaufbau der optischen Effektschicht 7 wie in derFig. 5 gewählt. - Die optische Effektschicht 7 umfasst zumindest die Absorberschicht 11, die Distanzschicht 12, die Reflexionsschicht 14, eine weitere Distanzschicht 12 und schließlich eine weitere Absorberschicht 11. Die beiden Absorberschichten 11 sind auf voneinander abgewendeten Seiten der optische Effektschicht 7 angeordnet. Die Reflexionsschicht 14 ist ihrerseits zwischen den beiden Distanzschichten 12 angeordnet. Eine der beiden Absorberschichten 11 ist wiederum auf den Strukturen 4 angeordnet oder aufgebracht. Die Strukturen 4 sowie weitere mögliche Schichten oder Lagen sind der besseren Übersichtlichkeit halber nicht mehr näher dargestellt oder nur angedeutet, jedoch nachfolgend noch beschrieben.
- Als mögliche zusätzliche Schicht oder Lage kann noch auf der von den Strukturen 4 abgewendeten Seite der äußeren Absorberschicht 11 die Schutzschicht 13 angeordnet oder vorgesehen sein. Die Schutzschicht 13 kann vorgesehen sein, muss aber nicht vorgesehen sein. Die Strukturen 4 können entweder direkt an der Trägerschicht 8 ausgebildet sein oder es kann die zuvor beschriebene weitere Schicht 9 vorgesehen sein und an dieser können die Strukturen 4 ausgebildet sein.
- Zur Verbindung der optischen Effektschicht 7 mit den Strukturen 4 kann auch wiederum die zuvor beschriebene Zwischenschicht 10 vorgesehen sein, welche in strichlierten Linien angedeutet ist. Mittels der hier dargestellten und als Dünnschichtelement ausgebildeten optischen Effektschicht 7 kann wiederum in Kombination mit den Strukturen 4 das Sicherheitselement 1 ausgebildet werden.
- Die Ausführungsbeispiele zeigen mögliche Ausführungsvarianten, wobei an dieser Stelle bemerkt sei, dass die Erfindung nicht auf die speziell dargestellten Ausführungsvarianten derselben eingeschränkt ist, sondern vielmehr auch diverse Kombinationen der einzelnen Ausführungsvarianten untereinander möglich sind und diese Variationsmöglichkeit aufgrund der Lehre zum technischen Handeln durch gegenständliche Erfindung im Können des auf diesem technischen Gebiet tätigen Fachmannes liegt.
- Der Schutzbereich ist durch die Ansprüche bestimmt. Die Beschreibung und die Zeichnungen sind jedoch zur Auslegung der Ansprüche heranzuziehen. Einzelmerkmale oder Merkmalskombinationen aus den gezeigten und beschriebenen unterschiedlichen Ausführungsbeispielen können für sich eigenständige erfinderische Lösungen darstellen. Die den eigenständigen erfinderischen Lösungen zugrundeliegende Aufgabe kann der Beschreibung entnommen werden.
- Sämtliche Angaben zu Wertebereichen in gegenständlicher Beschreibung sind so zu verstehen, dass diese beliebige und alle Teilbereiche daraus mitumfassen, z.B. ist die Angabe 1 bis 10 so zu verstehen, dass sämtliche Teilbereiche, ausgehend von der unteren Grenze 1 und der oberen Grenze 10 mit umfasst sind, d.h. sämtliche Teilbereiche beginnen mit einer unteren Grenze von 1 oder größer und enden bei einer oberen Grenze von 10 oder weniger, z.B. 1 bis 1,7, oder 3,2 bis 8,1, oder 5,5 bis 10.
- Der Ordnung halber sei abschließend darauf hingewiesen, dass zum besseren Verständnis des Aufbaus Elemente teilweise unmaßstäblich und/oder vergrößert und/oder verkleinert dargestellt wurden.
-
- 1
- Sicherheitselement
- 2
- erster Bereich
- 3
- zweiter Bereich
- 4
- Struktur
- 5
- Bildmotiv
- 6
- Lichtquelle
- 7
- optische Effektschicht
- 8
- Trägerschicht
- 9
- weitere Schicht
- 10
- Zwischenschicht
- 11
- Absorberschicht
- 12
- Distanzschicht
- 13
- Schutzschicht
- 14
- Reflexionsschicht
Claims (22)
- Sicherheitselement (1), insbesondere für Wertpapiere, Sicherheitspapier oder Sicherheitsgegenstände, wie Banknoten, Ausweise, Kreditkarten, Bankomatkarten, Tickets, wobei das Sicherheitselement (1) zumindest einen ersten Bereich (2) mit Strukturen (4) aufweist, und die Strukturen (4) ein Bildmotiv (5) in unterschiedliche Raumbereiche reflektieren, sodass für den Betrachter bei entsprechender Bewegung einer Lichtquelle (6) und/oder bei Veränderung eines Beobachtungswinkels ein Bewegungsbild entsteht, wobei bei Bewegung der Lichtquelle (6) und/oder Veränderung des Beobachtungswinkels gleichzeitig eine Bewegung des Bildmotivs (5) entsteht,
dadurch gekennzeichnet,- dass eine optische Effektschicht (7) vorgesehen ist, welche optische Effektschicht (7) zumindest einen zweiten Bereich (3) definiert,- dass die optische Effektschicht (7) als Dünnschichtelement ausgebildet ist, und- dass die Strukturen (4) vollflächig oder partiell von der optischen Effektschicht (7) abgedeckt sind. - Sicherheitselement (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht (7) zumindest eine Absorberschicht (11) und zumindest eine Distanzschicht (12) umfasst.
- Sicherheitselement (1) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht (12) und/oder die zumindest eine Absorberschicht auf den Strukturen (4) aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist, sodass sich eine Reihenfolge Strukturen (4) - Distanzschicht - Absorberschicht oder eine Reihenfolge Strukturen (4) - Absorberschicht - Distanzschicht ergibt.
- Sicherheitselement (1) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass beidseits der zumindest einen Distanzschicht (12) jeweils zumindest eine Absorberschicht (11) angeordnet ist und dass die zumindest eine Absorberschicht (11) auf den Strukturen (4) aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist.
- Sicherheitselement (1) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht (7) weiters noch zumindest eine Reflexionsschicht (14) umfasst, wobei die zumindest eine Distanzschicht (12) zwischen der zumindest einen Absorberschicht (11) und der zumindest einen Reflexionsschicht (14) angeordnet ist.
- Sicherheitselement (1) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Reflexionsschicht (14) auf den Strukturen (4) aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist.
- Sicherheitselement (1) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Absorberschicht (11) auf den Strukturen (4) aufgebracht ist, insbesondere aufgedruckt und/oder aufgedampft ist.
- Sicherheitselement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass es zusätzlich zu der als Dünnschichtelement ausgebildeten optischen Effektschicht (7) eine optisch nicht lineare Schicht oder eine optisch nicht lineare Lage vorhanden ist.
- Sicherheitselement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die als Dünnschichtelement ausgebildete optische Effektschicht (7) als farbkippende Schicht ausgebildet ist oder eine farbkippende Lage umfasst.
- Sicherheitselement (1) nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Bewegung der Lichtquelle (6) und/oder der Veränderung des Beobachtungswinkels in der als farbkippenden Schicht ausgebildeten optischen Effektschicht (7) oder in der farbkippenden Lage ein Farbkippeffekt entsteht.
- Sicherheitselement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass es zusätzlich zur optischen Effektschicht (7) metallische Pigmente und/oder magnetische Pigmente und/oder fluoreszierende Pigmente und/oder fluoreszierenden Stoffe und/oder Farbpigmente und/oder Farbstoffe enthält.
- Sicherheitselement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass dieses eine Trägerschicht (8) aus einem Kunststoff umfasst, wobei insbesondere der Kunststoff aus einem lichtdurchlässigen und/oder thermoplastischen Kunststoff gebildet ist, und dass die Trägerschicht (8) bevorzugt zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT), Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen (PTFE), Polyvinylfluorid (PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
- Sicherheitselement (1) nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerschicht (8) eine Dicke mit einem Dickenwert aufweist, der aus einem Dicken-Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 5 µm, bevorzugt von 10 µm, und dessen obere Grenze 1000 µm, bevorzugt von 50 µm, beträgt.
- Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 2 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Absorberschicht (11) zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe von Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
- Sicherheitselement (1) nach einem der Anspruch 2 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht (12) aus einem dielektrischen Material gebildet ist.
- Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 2 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht (12) zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminiumoxid (Al2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AlF3), Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (SiO2), Cerfluorid (CeF3), Natrium-Aluminium-Fluoride (z.B. Na3AlF6 oder Na5Al3F14), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organische Polymere oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe3O4) und Eisen(III)oxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
- Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 6 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Reflexionsschicht (14) zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Silber, Kupfer, Aluminium, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe3O4) and Eisen(III)oxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
- Sicherheitselement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturen (4) als diffraktive Strukturen, als Mikrospiegel, als strahlenoptisch wirksame Facetten oder als achromatische, reflektierende Strukturen ausgebildet sind.
- Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 13 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturen (4) in die Trägerschicht (8) mittels einer Abformvorrichtung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, eingebracht sind oder dass die Strukturen (4) in einer direkt oder unter Zwischenschaltung zumindest einer Zwischenschicht (10) auf die Trägerschicht (8) aufgebrachten Schicht (9), insbesondere einer Prägelackschicht, ausgeformt sind, insbesondere mittels einer Abformvorrichtung eingeprägt sind.
- Sicherheitselement (1) nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass die weitere Schicht (9) mit den darin ausgeformten Strukturen (4) eine Schichtdicke mit einem Schichtdickenwert aufweist, der aus einem Schichtdicken-Wertebereich stammt, dessen untere Grenze 0,5 µm, insbesondere 0,8 µm, bevorzugt 1 µm, und dessen obere Grenze 300 µm, insbesondere 50 µm, bevorzugt 20 µm, beträgt.
- Sicherheitselement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Sicherheitselement (1) mit weiteren farbkippenden Schichten, insbesondere Schichten mit farbkippenden Pigmenten oder Flüssigkristallen und/oder mit maschinenlesbaren Merkmalen, ausgestattet ist, wobei es sich bei den maschinenlesbaren Merkmalen insbesondere um Magnetcodierungen, elektrisch leitfähige Schichten, elektromagnetische Wellen absorbierende und/oder reemittierende Stoffe handelt.
- Sicherheitselement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Sicherheitselement (1) zusätzliche Schichten aufweist, welche zusätzlichen Schichten insbesondere Schutzlacke, Heißsiegellacke, Kleber, Primer und/oder Folien umfassen.
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