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EP3760450B1 - Sicherheitselement für ein wertdokument - Google Patents

Sicherheitselement für ein wertdokument Download PDF

Info

Publication number
EP3760450B1
EP3760450B1 EP19184053.7A EP19184053A EP3760450B1 EP 3760450 B1 EP3760450 B1 EP 3760450B1 EP 19184053 A EP19184053 A EP 19184053A EP 3760450 B1 EP3760450 B1 EP 3760450B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
layer
oxide
security element
refractive index
fluoride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
EP19184053.7A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP3760450A1 (de
EP3760450C0 (de
Inventor
Martin EGGINGER
Gottfried Brandstetter
Marco Mayrhofer
Andreas WEINBERGER
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hueck Folien GmbH
Original Assignee
Hueck Folien GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hueck Folien GmbH filed Critical Hueck Folien GmbH
Priority to EP19184053.7A priority Critical patent/EP3760450B1/de
Priority to PCT/EP2020/068649 priority patent/WO2021001475A1/de
Publication of EP3760450A1 publication Critical patent/EP3760450A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP3760450C0 publication Critical patent/EP3760450C0/de
Publication of EP3760450B1 publication Critical patent/EP3760450B1/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/351—Translucent or partly translucent parts, e.g. windows
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/355—Security threads

Definitions

  • the invention relates to a security element for a document of value, a security paper and the like according to the preamble of claim 1.
  • the solution according to the invention creates an additional, measurable color shift effect in areas of the recesses, which is not superficially visible to a user and, as a hidden security feature, contributes significantly to increasing security against forgery.
  • the at least one recess is designed as a letter, number, character, symbol or part of an image or pattern.
  • a variant has proven to be particularly advantageous in which the at least one recess in the reflector layer is free of material from the at least one spacer layer or is at least partially filled, in particular completely filled, by at least a portion of the at least one spacer layer.
  • the at least one spacer layer extends uninterruptedly, at least over the entire length and width of the thin-film element.
  • the at least one absorber layer of the thin-film element completely covers the at least one recess in the reflector layer in a top view of the security element.
  • the first recesses and the second recesses overlap each other at least in sections, preferably completely, in a plan view of the security element.
  • the at least one first absorber layer is uninterrupted and extends over the entire length and width of the thin-film element.
  • the at least one first absorber layer has a transmittance that is between 0.1 and 0.99, in particular between 0.5 and 0.99, particularly preferably between 0.7 and 0.99.
  • the at least one reflector layer can be at least one metallic material, in particular selected from the group of aluminum, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or nickel, titanium, vanadium, chromium, cobalt and palladium or alloys thereof Materials, in particular cobalt-nickel alloys, or at least one high-index dielectric material with a refractive index of greater than 1.65, in particular selected from the group of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO 2 ), carbon (C ), indium oxide (In 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), cerium oxide (CeO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), europium oxide (Eu 2 O 3 ), iron oxides such as (II)iron(III) oxide (Fe 3 O 4 ) and iron oxide (Fe 2 O 3 ), ha
  • the at least one absorber layer can be at least one metallic material, in particular selected from the group of nickel, titanium, vanadium, cobalt, palladium, iron, tungsten, molybdenum, niobium, chromium, aluminum, also silver, copper or alloys of these materials include and/or be made from at least one of these materials.
  • the at least one spacer layer can contain at least one high-refractive index dielectric material with a refractive index greater than or equal to 1.65, in particular selected from the group of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO 2 ), carbon (C ), indium oxide (In 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), cerium oxide (CeO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), europium oxide (Eu 2 O 3 ), iron oxides such as (II)iron(III) oxide (Fe 3 O 4 ) and iron oxide (Fe 2 O 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (HfO 2 ), lanthanum oxide (La 2 O 3 ), Magnesium oxide (MgO), neodymium oxide (N
  • Na 3 AlF 6 or Na 5 Al 3 F 14 neodymium fluoride (NdF 3 ), lanthanum fluoride (LaF 3 ), samarium fluoride (SmF 3 ), barium fluoride (BaF 2 ), calcium fluoride (CaF 2 ), lithium fluoride (LiF), depressing organic monomers and/ or break-down organic polymers or be made from at least one of these materials.
  • the reflector layer facing away from the spacer layer there is at least one additional one Layer made of the same material as the spacer layer is arranged, the reflector layer being embedded, in particular completely embedded, between the additional layer and the spacer layer.
  • the security element has at least one carrier layer made of plastic, in particular made of a translucent plastic, which carries the at least one thin-film element, the carrier layer preferably having at least one of the materials from the group polyimide (PI), polypropylene (PP) , monoaxially oriented polypropylene (MOPP), biaxially oriented polypropylene (BOPP), polyethylene (PE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone, (PEEK) polyetherketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU), polyaryletherketone (PAEK), Polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystalline polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polyamide (PA), polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM), acrylonitrile butadiene sty
  • PI polyimide
  • All information on value ranges in this description should be understood to include any and all sub-ranges, e.g. the information 1 to 10 should be understood to include all sub-ranges, starting from the lower limit 1 and the upper limit 10 , i.e. all subranges start with a lower limit of 1 or greater and end with an upper limit of 10 or less, e.g. 1 to 1.7, or 3.2 to 8.1, or 5.5 to 10.
  • Fig.1 shows a security element 1.
  • This security element serves as anti-counterfeit protection for a document of value, a security paper, value cards, such as credit cards, and the like.
  • the security element can be applied to the object to be secured or embedded in it.
  • the security element is particularly suitable for attachment in a “window area” of the object, for example in a window area of a banknote.
  • a window is understood to be a transparent area of the object.
  • the security element is not limited to use in a window area, but can generally be attached to any surface area of a valuable document, security paper, a prepaid card and the like.
  • the security element 1 can have a carrier layer 2 made of plastic.
  • the carrier layer 2 can be made of a translucent plastic.
  • plastics such as transparent carrier films, preferably flexible plastic films, for example made of polyimide (PI), polypropylene (PP), monoaxially oriented polypropylene (MOPP), biaxially oriented polypropylene (BOPP), polyethylene (PE), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone (PEEK) polyether ketone (PEK), polyethyleneimide (PEI), polysulfone (PSU), polyaryl ether ketone (PAEK), polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystalline polymers (LCP), polyester, polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), polyamide (PA) , polycarbonate (PC), cycloolefin copolymers (COC), polyoxymethylene (POM), acrylonitrile butadiene styrene (ABS), polyvinyl chloride (P
  • a color-shifting thin-film element 3 can be applied to the carrier layer 2.
  • the thin-film element 3 has an absorber layer 4 and a reflector layer 5.
  • a spacer layer 6 is arranged between the absorber layer 4 and the reflector layer 5.
  • the reflector layer 5 has one or more recesses 7, which can be designed, for example, as letters, numbers, characters, symbols or as part of an image or pattern.
  • the spacer layer 6 covers the entire surface of the absorber layer 4 and the reflector layer 5 on mutually facing sides of these layers.
  • the recesses 7 in the reflector layer 5 are also covered by the spacer layer 6.
  • the recess 7 in the reflector layer can also be partially filled or completely filled by partial areas of the spacer layer 6.
  • the spacer layer 6 can extend over the entire length and width of the thin-film element 3 without interruptions in the layer.
  • a color-shifting element 3a consisting of the absorber layer 4 and the spacer layer 6 is formed.
  • the color-shifting element 3a formed from the spacer layer 6 and the absorber layer 4 generates a second color-shifting effect in the areas of the recesses 7 in addition to a first color-shifting effect caused by the absorber layer 4, the spacer layer 6 and the full-surface, uninterrupted areas of the reflector layer 5.
  • the first color shift effect can be seen with the naked eye, while the second color shift effect is significantly weaker due to the absence of the reflector layer 5 and can at least be detected mechanically.
  • FIG. 1 The absorber layer 4 of the thin-film element 3 can be seen, the recesses 7 in or in the reflector layer 5 in a top view of the security element 1 completely cover.
  • the absorber layer 4 can completely cover the recesses 7 when viewed from the direction of the carrier layer 2, with the recesses 7 lying behind the absorber layer 4 when viewed from the direction of the carrier layer 2.
  • the absorber layer 4 is preferably made of a metal, for example nickel, titanium, vanadium, cobalt, palladium, iron, tungsten, molybdenum, niobium, chromium, aluminum, copper or silver or alloys of these materials.
  • the absorber layer 4 can, for example, have a transmission coefficient that is between 0.1 and 0.99, in particular between 0.5 and 0.99, particularly preferably between 0.7 and 0.99.
  • the spacer layer is usually made of a dielectric material.
  • the spacer layer can be made from a material with a low refractive index, for example a refractive index less than or equal to 1.65.
  • Suitable materials with a low refractive index are, for example, silicon oxide ( SIOx ), silicon dioxide ( SiO2 ), aluminum oxide ( Al2O3 ) , metal fluorides, for example magnesium fluoride ( MgF2 ), aluminum fluoride ( AlF3 ), cerium fluoride ( CeF3 ), sodium -Aluminum fluorides (e.g.
  • Na 3 AlF 6 or Na 5 Al 3 F 14 Na 3 AlF 6 or Na 5 Al 3 F 14 ), neodymium fluoride (NdF 3 ), lanthanum fluoride (LaF 3 ), samarium fluoride (SmF 3 ), barium fluoride (BaF 2 ), calcium fluoride (CaF 2 ), lithium fluoride ( LiF), or combinations of these materials.
  • NdF 3 neodymium fluoride
  • LaF 3 lanthanum fluoride
  • SmF 3 samarium fluoride
  • BaF 2 barium fluoride
  • CaF 2 calcium fluoride
  • LiF lithium fluoride
  • the spacer layer can also be made from a material with a high refractive index, for example a refractive index greater than 1.65.
  • Suitable materials with a high refractive index are, for example, zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO 2 ), carbon (C), indium oxide (In 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), cerium oxide (CeO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), europium oxide (Eu 2 O 3 ), iron oxides such as (II)iron (III) oxide (Fe 3 O 4 ) and iron oxide (Fe 2 O 3 ), hafnium nitride (HfN), hafnium carbide (HfC), hafnium oxide (HfO 2 ), lanthanum oxide (La 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), neodymium
  • the layer thickness of the spacer layer 6 is preferably 50 nm - 800 nm, in particular between 100 nm - 700 nm, particularly preferably 150 - 600 nm.
  • the spacer layer 6 can have an optical thickness in Quarter Wave Optical Thinkness (QWOT) of approximately 2 QWOT at a wavelength of 400 nm to approximately 9 QWOT at a wavelength of approximately 700 nm, preferably the spacer layer 6 at 400 - 700 nm has an optical thickness of 2 - 6 QWOT.
  • QWOT Quarter Wave Optical Thinkness
  • the values given are not just areas of fluctuation, but the thickness of the layer 6 varies depending on the color shift effect to be achieved in each case.
  • the reflector layer 5 can be made, for example, from metals such as aluminum, silver, copper, gold, platinum, niobium, tin, or from nickel, titanium, chromium, vanadium, cobalt and palladium or cobalt-nickel alloys.
  • the reflection layer can also consist of a high-refractive index dielectric layer with a refractive index of greater than 1.65, in particular selected from the group consisting of zinc sulfide (ZnS), zinc oxide (ZnO), titanium dioxide (TiO 2 ), carbon (C).
  • an optical density (OD) of the reflector layer 5 is preferably between 1 and 3, preferably between 1.5 and 2.5%.
  • the reflector layer 5 can be quasi-transparent.
  • the spacer layer 6 is made of a dielectric material with a low refractive index and the reflection layer is made of a dielectric material with a high refractive index.
  • the absorber layer of the thin-film element 11 of the security element 10 has at least a first absorber layer 4, which completely covers the recesses 7 of the reflector layer 5 in a plan view of the security element 10, and a second absorber layer 8, which is applied to the first absorber layer 4.
  • the second absorber layer 8 can be partially applied to the first absorber layer 4 and has first recesses 12, with the reflector layer 5 having second recesses 7.
  • the second absorber layer 8 lies between the reflector layer 5 and the first absorber layer 4.
  • the spacer layer 6 is arranged between the reflector layer 5 and the first absorber layer 4 and between the reflector layer 5 and the second absorber layer 8.
  • the second absorber layer 8 preferably has an optical density (OD) of 0.1 - 0.9, in particular 0.3 - 0.4, and can be made from the same materials as the first absorber layer 4.
  • the first recesses 12 and the second recesses 7 can overlap one another in sections in a top view of the security element 1.
  • the first recesses 12 and the second recesses 7 preferably overlap completely.
  • the first recesses 12 and the second recesses 7 can be designed to be congruent with one another.
  • At least one further layer 9 made of the same material as the spacer layer 6 can be arranged on a side of the reflector layer 5 facing away from the spacer layer 6. After the layer 9 has been applied, it borders directly on the spacer layer 6 in areas of the recesses 12 or merges into it.
  • the reflector layer 5 can be embedded, in particular completely embedded, between the further layer 9 and the spacer layer 6.
  • the layer 9 preferably has a layer thickness between 100 nm - 400 nm, in particular between 150 nm - 300 nm, particularly preferably 160 - 200.
  • washing paint can be applied in the areas in which the second absorber layer 8 should have the recesses 12.
  • the second absorber layer 8 can then be applied and the washing color can be removed, leaving the recesses 12 as demetallized areas.
  • a coating with the spacer layer 6 can then take place.
  • Washing paint can in turn be applied to the spacer layer 6 in areas in which the reflector layer 5 should have the recesses 7.
  • the washing color can be removed, so that the recesses 7 remain as demetallized areas.
  • the layer 9 can then be applied to the reflector layer, whereby the recesses 7 in the reflector layer 5 are completely or partially filled with the material of the layer 9.
  • the recesses 7 in the reflector layer 5 can also be left unfilled so that no material is present in the recesses.
  • first absorber layer 4 and the second absorber layer 8 can be designed as a single absorber layer with varying layer thickness, onto which the spacer layer 6 and optionally washing ink as well as the reflector layer 5 are applied in the course of production.
  • the spacer layer 6 and the layer 9 can also form a single continuous layer.
  • the individual layers can be applied to one another in a manner known per se, for example using physical vapor deposition (PVD) processes, sputtering or printing processes.
  • PVD physical vapor deposition
  • the absorber layer 8 and the reflector layer 5 can only be partially applied or produced using etching processes.
  • the security element 1 can be produced analogously to the method described above.

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement für ein Wertdokument, ein Sicherheitspapier und dergleichen gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1.
  • Bereiche welche als Zeichen oder Muster erkennbar sind, werden üblicherweise bei einem Auftragen der Schichten ausgespart. Bei den bekannten Sicherheitselementen ist herstellungsbedingt in den Bereichen der Aussparungen kein Farbkippeffekt wahrnehmbar. Grundsätzlich sind die Aussparungen relativ einfach nachzuahmen und stellen für sich genommen nur einen geringen Schutz gegen Fälschungen dar, was insbesondere bei einfachen geometrischen Umrissformen der Aussparungen zutrifft. Sicherheitselemente der eingangs genannten Art sind aus der DE 10 2004 049 118 A1 sowie der WO 2004/097112 A1 bekannt geworden.
  • Es ist eine Aufgabe der Erfindung die Fälschungssicherheit von Sicherheitselementen mit farbkippenden Dünnschichtelementen, welche partielle Aussparungen aufweisen zu erhöhen.
  • Diese Aufgabe wird mit einem Sicherheitselement der eingangsgenannten Art erfindungsgemäß durch die Merkmale des kennzeichnende Teils von Anspruch 1 gelöst.
  • Durch die erfindungsgemäße Lösung wird in Bereichen der Aussparungen ein zusätzlicher, messbarer Farbkippeffekt erzeugt, der für einen Benutzer nicht vordergründig erkennbar ist und als verstecktes Sicherheitsmerkmal wesentlich zu einer Erhöhung der Fälschungssicherheit beiträgt.
  • Gemäß einer vorteilhaften Variante der Erfindung ist die zumindest eine Aussparung als Buchstabe, Zahl, Zeichen, Symbol oder Teil eines Bildes oder Musters ausgebildet.
  • Als besonders vorteilhaft hat sich eine Variante herausgestellt, bei der die zumindest eine Aussparung in der Reflektorschicht frei von Material der zumindest einen Distanzschicht oder durch zumindest einen Teilbereich der zumindest einen Distanzschicht zumindest teilweise ausgefüllt, insbesondere vollständig ausgefüllt, ist.
  • Günstig ist es zudem, wenn die zumindest eine Distanzschicht sich ununterbrochen, zumindest über die gesamte Länge und Breite des Dünnschichtelements erstreckt.
  • Weiters ist es von Vorteil, wenn die zumindest eine Absorberschicht des Dünnschichtelements die zumindest eine Aussparung der Reflektorschicht in einer Draufsicht auf das Sicherheitselement vollständig abdeckt.
  • Vorteilhafterweise überlappen die ersten Aussparungen und die zweiten Aussparungen in einer Draufsicht auf das Sicherheitselement einander zumindest abschnittsweise, bevorzugt vollständig überlappen.
  • Bei einer Weiterbildung der Erfindung ist die zumindest eine erste Absorberschicht ununterbrochen und erstreckt sich über die gesamte Länge und Breite des Dünnschichtelements.
  • Als besonders günstig hat sich erwiesen, dass die zumindest eine erste Absorberschicht einen Transmissionsgrad aufweist, der zwischen 0,1 und 0,99, insbesondere zwischen 0,5 und 0,99, besonders bevorzugt zwischen 0,7 und 0,99, liegt.
  • Gemäß einer Variante der Erfindung kann die zumindest eine Reflektorschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen, oder aus zumindest einem hochbrechenden dielektrischen Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (Fe3O4) and Eisenoxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.
  • Bei einer Ausführungsform der Erfindung kann die zumindest eine Absorberschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Nickel, Titan, Vanadium, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Chrom, Aluminium, auch Silber, Kupfer oder Legierungen dieser Materialien umfassen und/oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.
  • Entsprechend einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann die zumindest eine Distanzschicht zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (Fe3O4) and Eisenoxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere oder zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (SiO2), Aluminiumoxid (Al2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AlF3), Cerfluorid (CeF3), Natrium-Aluminium-Fluoride (z.B. Na3AlF6 oder Na5Al3F14), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.
  • Gemäß einer bevorzugten Variante der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass an einer der Distanzschicht abgewandten Seite der Reflektorschicht zumindest eine zusätzliche, aus dem gleichen Material wie die Distanzschicht hergestellte Schicht angeordnet ist, wobei die Reflektorschicht zwischen der zusätzlichen Schicht und der Distanzschicht eingebettet, insbesondere vollständig eingebettet, ist.
  • Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, dass das Sicherheitselement zumindest eine das zumindest eine Dünnschichtelement tragende Trägerschicht aus Kunststoff, insbesondere aus einem lichtdurchlässigen Kunststoff, aufweist, wobei die Trägerschicht bevorzugt zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT) , Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen ( PTFE), Polyvinylfluorid ( PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF ) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
  • Zum besseren Verständnis der Erfindung wird diese anhand der nachfolgenden Figuren näher erläutert.
  • Es zeigen jeweils in stark vereinfachter, schematischer Darstellung:
    • Fig. 1
    Eine erste Variante eines Sicherheitselements;
    Fig. 2
    Ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement.
  • Einführend sei festgehalten, dass in den unterschiedlich beschriebenen Ausführungsformen gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen versehen werden, wobei die in der gesamten Beschreibung enthaltenen Offenbarungen sinngemäß auf gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen übertragen werden können. Auch sind die in der Beschreibung gewählten Lageangaben, wie z.B. oben, unten, seitlich usw. auf die unmittelbar beschriebene sowie dargestellte Figur bezogen und sind diese Lageangaben bei einer Lageänderung sinngemäß auf die neue Lage zu übertragen.
  • Sämtliche Angaben zu Wertebereichen in gegenständlicher Beschreibung sind so zu verstehen, dass diese beliebige und alle Teilbereiche daraus mitumfassen, z.B. ist die Angabe 1 bis 10 so zu verstehen, dass sämtliche Teilbereiche, ausgehend von der unteren Grenze 1 und der oberen Grenze 10 mit umfasst sind, d.h. sämtliche Teilbereiche beginnen mit einer unteren Grenze von 1 oder größer und enden bei einer oberen Grenze von 10 oder weniger, z.B. 1 bis 1,7, oder 3,2 bis 8,1, oder 5,5 bis 10.
  • Fig.1 zeigt ein Sicherheitselement 1. Dieses Sicherheitselement dient als Fälschungssicherung für ein Wertdokument, ein Sicherheitspapier, Wertkarten, wie beispielsweise Kreditkarten, und dergleichen. Das Sicherheitselement kann auf den zu sichernden Gegenstand aufgebracht oder in diesen eingebettet sein. Besonders geeignet ist das Sicherheitselement für die Anbringung in einem "Fensterbereich" des Gegenstandes, beispielsweise in einem Fensterbereich einer Banknote. Als Fenster wird in diesem Dokument ein transparenter Bereich des Gegenstandes verstanden. An dieser Stelle sei jedoch darauf hingewiesen, dass das Sicherheitselement nicht auf eine Verwendung in einem Fensterbereich eingeschränkt ist, sondern allgemein in einem beliebigen Oberflächenbereich eines Wertdokuments, Sicherheitspapiers, einer Wertkarte und dergleichen angebracht werden kann. Das Sicherheitselement 1 kann eine Trägerschicht 2 aus Kunststoff aufweisen. Die Trägerschicht 2 kann aus einem lichtdurchlässigen Kunststoff hergestellt sein. Als Materialien können beispielsweise, Kunststoffe wie transparente Trägerfolien vorzugsweise flexible Kunststofffolien, beispielsweise aus Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT) , Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylchlorid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen (PTFE), Polyvinylfluorid (PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP), Mischungen oder Co-Polymere dieser Materialien zum Einsatz kommen. Es ist bevorzugt, dass das lichtdurchlässige Trägermaterial 14 im wesentlichen aus einem transparenten Material, wie zum Beispiel Polycarbonat, zusammengesetzt ist. Die Trägerschicht weist bevorzugt eine Dicke von ungefähr 5 µm bis ungefähr 1000 µm, besonders bevorzugt eine Dicke von 10 µm - 50 µm, auf.
  • Auf die Trägerschicht 2 kann ein farbkippendes Dünnschichtelement 3 aufgebracht sein. Das Dünnschichtelement 3 weist eine Absorberschicht 4 sowie eine Reflektorschicht 5 auf. Zwischen der Absorberschicht 4 und der Reflektorschicht 5 ist eine Distanzschicht 6 angeordnet. Die Reflektorschicht 5 weist eine oder mehrere Aussparungen 7 auf, die beispielsweise als Buchstaben, Zahlen, Zeichen, Symbole oder als Teil eines Bildes oder Musters ausgebildet sein können. An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, dass jede der oben genannten Schichten sowohl ein als auch mehrschichtig aufgebaut sein kann.
  • Die Distanzschicht 6 bedeckt die Absorberschicht 4 und die Reflektorschicht 5 an einander zugewandten Seiten dieser Schichten vollflächig. Auch die Aussparungen 7 in der Reflektorschicht 5 sind von der Distanzschicht 6 abgedeckt. Die Aussparung 7 in der Reflektorschicht können auch durch Teilbereiche der Distanzschicht 6 teilweise ausgefüllt oder vollständig ausgefüllt sein.
  • Die Distanzschicht 6 kann sich ohne Unterbrechungen in der Schicht über die gesamte Länge und Breite des Dünnschichtelements 3 erstrecken.
  • In Bereichen der Aussparungen 7 ist ein aus der Absorberschicht 4 und der Distanzschicht 6 bestehendes Farbkippelement 3a gebildet. Das aus der Distanzschicht 6 und der Absorberschicht 4 gebildete Farbkippelement 3a erzeugt in den Bereichen der Aussparungen 7 zusätzlich zu einem aus der Absorberschicht 4, der Distanzschicht 6 und den vollflächigen, nicht unterbrochenen Bereichen der Reflektorschicht 5 gebildeten Farbkippelement hervorgerufenen ersten Farbkippeffekt einen zweiten Farbkippeffekt. Der erste Farbkippeffekt ist hierbei mit unbewaffnetem Auge erkennbar, während der zweite Farbkippeffekt aufgrund des Fehlens der Reflektorschicht 5 deutlich schwächer ausfällt und zumindest maschinell erfasst werden kann.
  • Wie aus Fig. 1 erkennbar ist kann die Absorberschicht 4 des Dünnschichtelements 3 die Aussparungen 7 der bzw. in der Reflektorschicht 5 in einer Draufsicht auf das Sicherheitselement 1 vollständig abdecken. Anders gesagt kann die Absorberschicht 4 aus Richtung der Trägerschicht 2 betrachtet die Aussparungen 7 vollständig verdecken, wobei die Aussparungen 7 aus Richtung der Trägerschicht 2 betrachtet hinter der Absorberschicht 4 liegen.
  • Die Absorberschicht 4 ist bevorzugt aus einem Metall hergestellt, beispielsweise aus Nickel, Titan, Vanadium, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Chrom, Aluminium, Kupfer oder Silber oder aus Legierungen dieser Materialien.
  • Die Absorberschicht 4 kann beispielsweise einen Transmissionskoeffizienten aufweisen, der zwischen 0,1 und 0,99, insbesondere zwischen 0,5 und 0,99, besonders bevorzugt zwischen 0,7 und 0,99, liegt.
  • Die Distanzschicht ist üblicherweise aus einem dielektrischen Material gefertigt. Gemäß einer Variante der Erfindung kann die Distanzschicht aus einem Material mit einem niedrigen Brechungsindex, beispielsweise einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65 hergestellt sein. Geeignete Materialien mit einem niedrigen Brechungsindex sind beispielsweise Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (SiO2), Aluminiumoxid (Al2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AlF3), Cerfluorid (CeF3), Natrium-Aluminium-Fluoride (z.B. Na3AlF6 oder Na5Al3F14), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), oder Kombinationen dieser Materialien.
  • Gemäß einer Variante der Erfindung kann die Distanzschicht auch aus einem Material mit einem hohen Brechungsindex, beispielsweise einem Brechungsindex größer 1,65 hergestellt sein. Geeignete Materialien mit einem hohen Brechungsindex sind beispielsweise Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (Fe3O4) and Eisenoxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), oder Kombinationen dieser Materialien. Die Schichtdicke der Distanzschicht 6 beträgt bevorzugt 50 nm - 800 nm, insbesondere zwischen 100 nm - 700 nm, besonders bevorzugt 150 - 600 nm. Die Distanzschicht 6 kann je nach gewünschter Farbverschiebung eine optische Dicke angegeben in Quarter Wave Optical Thinkness (QWOT) von ungefähr 2 QWOT bei einer Wellenlänge von 400 nm bis ungefähr 9 QWOT bei einer Wellenlänge von ungefähr 700 nm reichen, bevorzugt weist die Distanzschicht 6 bei 400 - 700 nm eine optische Dicke von 2 - 6 QWOT auf. Bei den angegebenen Werten handelt sich nicht nur um Schwankungsbereiche, sondern die Dicke der Schicht 6 ist in Abhängigkeit von den jeweils zu erzielenden Farbkippeffekt unterschiedlich.
  • Die Reflektorschicht 5 kann beispielsweise aus Metallen, wie zum Beispiel Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Chrom, Vanadium, Kobalt und Palladium oder Kobalt-Nickel-Legierungen hergestellt sein. Alternativ zur Herstellung aus Metallen kann die Reflexionsschicht aber auch aus einer hochbrechenden dielektrischen Schicht mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (Fe3O4) and Eisenoxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.
  • Eine optische Dichte (OD) der Reflektorschicht 5 liegt bei Verwendung von Metallen bevorzugt zwischen 1 und 3 bevorzugt zwischen 1,5 und 2,5.%. Bei Verwendung von hochbrechenden dielektrischen Materialien kann die Reflektorschicht 5 quasi transparent sein.
  • Hierbei würde sich ein Schichtaufbau ergeben, bei dem die Distanzschicht 6 aus einem dielektrischen Material mit einem niedrigen Brechungsindex und die Reflexionsschicht aus einem dielektrischen Material mit einem hohen Brechungsindex hergestellt ist.
  • Die oben genannten Materialien und Eigenschaften, wie Schichtdicken, der einzelnen Schichten gelten für alle Ausführungsbeispiele in diesem Dokument.
  • Gemäß Fig. 2 weist die Absorberschicht des Dünnschichtelement 11 des erfindungsgemäßen Sicherheitselements 10 zumindest eine erste, die Aussparungen 7 der Reflektorschicht 5 in einer Draufsicht auf das Sicherheitselement 10 vollständig abdeckende Absorberschicht 4 sowie eine zweite Absorberschicht 8 auf, die auf der ersten Absorberschicht 4 aufgebracht ist. Die zweite Absorberschicht 8 kann partiell auf die erste Absorberschicht 4 aufgebracht sein und weist erste Aussparungen 12 aufweisen, wobei die Reflektorschicht 5 zweite Aussparungen 7 aufweist. Die zweite Absorberschicht 8 liegt zwischen der Reflektorschicht 5 und der ersten Absorberschicht 4. Die Distanzschicht 6 ist zwischen der Reflektorschicht 5 und der ersten Absorberschicht 4 und zwischen der Reflektorschicht 5 und der zweiten Absorberschicht 8 angeordnet.
  • Die zweite Absorberschicht 8 weist bevorzugt eine optische Dichte (OD) von 0,1 - 0,9, insbesondere von 0,3 - 0,4 und kann aus den gleichen Materialien, wie die erste Absorberschicht 4 hergestellt sein.
  • Die ersten Aussparungen 12 und die zweiten Aussparungen 7 können in einer Draufsicht auf das Sicherheitselement 1 einander abschnittsweise überlappen. Bevorzugt überlappen sich die ersten Aussparungen 12 und die zweiten Aussparungen 7 vollständig. Zudem können die ersten Aussparungen 12 und die zweiten Aussparungen 7 kongruent zueinander ausgebildet sein.
  • Wie aus Fig. 2 weiters ersichtlich ist, kann an einer der Distanzschicht 6 abgewandten Seite der Reflektorschicht 5 zumindest eine weitere Schicht 9 aus dem gleichen Material wie die Distanzschicht 6 angeordnet sein. Nach einem Auftragen der Schicht 9 grenzt diese in Bereichen der Aussparungen 12 direkt an die Distanzschicht 6 an bzw. geht in diese über. Die Reflektorschicht 5 kann zwischen der weiteren Schicht 9 und der Distanzschicht 6 eingebettet, insbesondere vollständig eingebettet, sein. Die Schicht 9 weist bevorzugt eine Schichtdicke zwischen 100 nm - 400 nm, insbesondere zwischen 150 nm - 300 nm, besonders bevorzugt 160 - 200 auf.
  • Zur Herstellung des Sicherheitselements 10 kann nach einem Beschichten der Trägerschicht 2 mit der ersten Absorberschicht 4 Waschfarbe in den Bereichen aufgetragen werden, in welchen die zweite Absorberschicht 8 die Aussparungen 12 aufweisen soll. Hierauf kann die zweite Absorberschicht 8 aufgebracht werden und die Waschfarbe abgetragen werden, wodurch die Ausparungen 12 als demetallisierte Bereiche zurückbleiben. Hierauf kann eine Beschichtung mit der Distanzschicht 6 erfolgen. Auf die Distanzschicht 6 kann wiederum in Bereichen, in welchen die Reflektorschicht 5 die Aussparungen 7 aufweisen soll, Waschfarbe aufgetragen werden. Nach einem Beschichten der Distanzschicht 6 mit der Reflektorschicht 5 kann die Waschfarbe entfernt werden, sodass die Aussparungen 7 als demetallisierte Bereiche zurückbleiben. Hierauf kann die Schicht 9 auf die Reflektorschicht aufgebracht werden, wodurch auch die Ausnehmungen 7 in der Reflektorschicht 5 mit dem Material der Schicht 9 ganz oder teilweise aufgefüllt werden. Alternativ können die Ausnehmungen 7 in der Reflektorschicht 5 auch ungefüllt gelassen werden, sodass kein Material in den Aussparungen vorhanden ist.
  • Alternativ können die erste Absorberschicht 4 und die zweite Absorberschicht 8 als eine einzige Absorberschicht mit variierender Schichtdicke ausgebildet sein, auf welche im Zuge der Herstellung die Distanzschicht 6 und gegebenenfalls Waschfarbe sowie die Reflektorschicht 5 aufgebracht werden. Weiters sei darauf hingewiesen, dass die Distanzschicht 6 und die Schicht 9 auch eine einzige durchgehende Schicht bilden können.
  • Die einzelnen Schichten können in an sich bekannter Weise beispielsweise mittels Physical Vapour Deposition (PVD) Verfahren, Sputtern oder mittels Druckverfahren aufeinander aufgebracht werden. Alternativ zur Verwendung von Waschfarben zur Erzeugung demetallisierter Bereiche (Ausnehmungen 7 und 12) können die Absorberschicht 8 und die Reflektorschicht 5 nur partiell aufgetragen oder mittels Ätzprozessen hergestellt werden.
  • Das Sicherheitselement 1 kann analog zu dem oben beschriebenen Verfahren hergestellt werden.
  • Der Ordnung halber sei abschließend darauf hingewiesen, dass zum besseren Verständnis des Aufbaus Elemente teilweise unmaßstäblich und/oder vergrößert und/oder verkleinert dargestellt wurden.
    • Bezugszeichenaufstellung
    • 1
    Sicherheitselement
    2
    Trägerschicht
    3
    Dünnschichtelement
    3a
    Farbkippelement
    4
    Absorberschicht
    5
    Reflektorschicht
    6
    Distanzschicht
    7
    Aussparung
    8
    Absorberschicht
    9
    Schicht
    10
    Sicherheitselement
    11
    Dünnschichtelement
    12
    Aussparung

Claims (13)

  1. Sicherheitselement (1, 10) für ein Wertdokument, ein Sicherheitspapier und dergleichen, wobei das Sicherheitselement (1, 10) zumindest ein farbkippendes Dünnschichtelement (3,11) mit zumindest einer Absorberschicht (4, 8), zumindest einer Reflektorschicht (5) und zumindest einer zwischen der Absorberschicht (4, 8) und der Reflektorschicht (5) angeordneten Distanzschicht (6) aufweist, wobei die zumindest eine Reflektorschicht (5) zumindest eine Aussparung (7) aufweist, wobei die zumindest eine Distanzschicht (6) die zumindest eine Absorberschicht (4, 8) und die Reflektorschicht (5) an einander zugewandten Seiten vollflächig bedeckt, wobei die Distanzschicht (6) auch die zumindest eine Aussparung (7) in der zumindest einen Reflektorschicht (5) vollflächig abdeckt, wobei in einem Bereich der zumindest einen Aussparung (7) ein zumindest aus der zumindest einen Absorberschicht (4) und der zumindest einen Distanzschicht (6) bestehendes Farbkippelement (3a) gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Absorberschicht (4, 8) des Dünnschichtelements (11) zumindest eine erste, die zumindest eine Aussparung (7) der Reflektorschicht (5) in einer Draufsicht auf das Sicherheitselement (1, 10) vollständig abdeckende Absorberschicht (4) und zumindest eine zweite Absorberschicht (8) aufweist, wobei die zumindest eine zweite Absorberschicht erste Aussparungen (12) und die zumindest eine Reflektorschicht zweite Aussparungen (7) aufweist, wobei die zumindest eine zweite Absorberschicht (8) zwischen der zumindest einen Reflektorschicht und der zumindest einen ersten Absorberschicht (4) und die zumindest eine Distanzschicht (6) zwischen der zumindest einen Reflektorschicht (5) und der zumindest einen ersten Absorberschicht (4) und zwischen der zumindest einen Reflektorschicht (5) und der zumindest einen zweiten Absorberschicht (8) angeordnet sind.
  2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Aussparung (7) als Buchstabe, Zahl, Zeichen, Symbol oder Teil eines Bildes oder Musters ausgebildet ist.
  3. Sicherheitselement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Aussparung (7) in der Reflektorschicht (5) frei von Material der zumindest einen Distanzschicht (6) oder durch zumindest einen Teilbereich der zumindest einen Distanzschicht (6) zumindest teilweise ausgefüllt, insbesondere vollständig ausgefüllt, ist.
  4. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht (6) sich ununterbrochen, zumindest über die gesamte Länge und Breite des Dünnschichtelements (3) erstreckt.
  5. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Absorberschicht (4) des Dünnschichtelements (3) die zumindest eine Aussparung (7) der Reflektorschicht in einer Draufsicht auf das Sicherheitselement (1) vollständig abdeckt.
  6. Sicherheitselement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten Aussparungen (12) und die zweiten Aussparungen (7) in einer Draufsicht auf das Sicherheitselement (1) einander zumindest abschnittsweise überlappen, bevorzugt vollständig überlappen.
  7. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Absorberschicht oder die zumindest eine erste Absorberschicht (4) ununterbrochen ist und sich über die gesamte Länge und Breite des Dünnschichtelements (3, 11) erstreckt.
  8. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine erste Absorberschicht (4) einen Transmissionskoeffizienten aufweist, der zwischen 0,1 und 0,99, insbesondere zwischen 0,5 und 0,99, besonders bevorzugt zwischen 0,7 und 0,99, liegt.
  9. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Reflektorschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder aus zumindest einem hochbrechenden dielektrischen Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (Fe3O4) and Eisenoxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
  10. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Absorberschicht (4, 8) zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
  11. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (SiO2), Aluminiumoxid (Al2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AlF3), Cerfluorid (CeF3), Natrium-Aluminium-Fluoride (z.B. Na3AlF6 oder Na5Al3F14), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organische Polymere oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta2O5), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2O3), Eisenoxide wie zum Beispiel (II)Eisen(III)oxid (Fe3O4) und Eisenoxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La2O3), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (Pr6O11), Samariumoxid (Sm2O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2O3), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
  12. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass an einer der Distanzschicht (6) abgewandten Seite der Reflektorschicht (5) zumindest eine zusätzliche, aus dem gleichen Material wie die Distanzschicht (6) hergestellte Schicht (9) angeordnet ist, wobei die Reflektorschicht (5) zwischen der zusätzlichen Schicht (9) und der Distanzschicht (6) eingebettet, insbesondere vollständig eingebettet, ist.
  13. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass es zumindest eine das zumindest eine Dünnschichtelement tragende Trägerschicht aus Kunststoff, insbesondere aus einem lichtdurchlässigen Kunststoff, aufweist, wobei die Trägerschicht bevorzugt zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT) , Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen ( PTFE), Polyvinylfluorid ( PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF ) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
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