DE889548C - Verfahren zur Entwicklung von wasserabstossenden Diazo-Lichtpausschichten - Google Patents
Verfahren zur Entwicklung von wasserabstossenden Diazo-LichtpausschichtenInfo
- Publication number
- DE889548C DE889548C DEK4403D DEK0004403D DE889548C DE 889548 C DE889548 C DE 889548C DE K4403 D DEK4403 D DE K4403D DE K0004403 D DEK0004403 D DE K0004403D DE 889548 C DE889548 C DE 889548C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- water
- layers
- repellent
- development
- diazo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/31—Regeneration; Replenishers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
- Verfahren zur Entwicklung von wasserabstoßenden Diazo-Lichtpausschichten Es ist bekannt, Diazo-Lichtpausmaterial nach dem sogenannten Feuchtentwicklungsverfa:hren in der Weise zu entwickeln, daß man es mit einer wäßrigen Lösung behandelt, (die Soda oder ein anderes alkalisch reagierendes Salz und gegebenenfalls eineAzokomponente enthält. Dieses Verfahren führt jedoch nicht zu befriedigenden Resultaten, wenn die die Diazoverbindung enthaltende Schicht etwas wasserabstoßend ist, also z. B. aus Celltuloseestern, insbesondere Acetylcellulose besteht. Die Entwicklung solcher Schichten mit Hilfe der üblichen Entwiaklerlösun:gen kann man, zwar dadurch etwas beschleunigen, diaß man den Entwicklern Alkohol oder andere Lösungsmittel für die wasserabstoßende Schicht zusetzt. Bei Verwendung solcher läsungsmittelhaltiger Entwickler kommt es jedoch leicht zu einem Auslaufen der Linien in den Pausen.
- Es ist nun gefunden worden, daß man die erwähnten wasserabstoßenden Schichten gut entwickeln kann, -wenn man als Entwickler wäßrige Lösungen von aliphatischen Basen benutzt. Vorzugsweise verwendet Iman solche Basen, die für die wasserabstoßende Schicht ein gutes Quellungsvermögen :besitzen. In erster Linie kommeen wäßri,ge Lösungen von Mono-, Di- oder Triäthanolamin in Frage. Die Entwicklerlösungen können gegebenenfalls noch die Azokomponente oder
sonstige Zusätze üblicher Art, wie Natriumthio- sulfat oder Thioharnstoff enthalten. Ein Zusatz geringer Mengen, von Alkohol und ähnlichen Lö- sungsmitteln ist zuweilen empfehlenswert. B,eispie(le i. Eint mit einem Lack aus 709 Methylacetat, 30,9 Äthylalkohol, 5 com Wasser, o,6 g i=Di@azo- 2-naphthol-q_-sulfosäure, o,6g Resorcim, zg Gly- kolmiethylphthalat, 5,g Methylglykol und 5. g Ace- ty.lcellulose nach dem Tauch- oder Spritzverfahren oder durch Bestreichen lichtempfindlich gemachtes Aluminiumblech. wird nach Belichtung unter einer Vorlage durch Antrag einer ioo/oigen wäßrigen Lösung von Monoäthanolamin entwickelt. 2,. Eine durch Aufstreichen eines Lacks aus 5o g Methylacetat, 2o g Äthylalkohol, 30g Butylacetat, 5 ccm, Wasser, 0,7 g des chlorbenzolsu,lfosauren Salzes der i-Di.a.zo-q.,d@imethyl@aminobenzol-2-car- bonsäure, i g- Glykolmethylpihthalat und z g Aceton lichtempfindlich gemachte Platte aus einem Poly- merisat von Vinylchlorid@ wird entwickelt, indem - In den Beispielen kann an Stelle von Monoäthanolamin auch Di- oder Triäthanolamin verwendet werden.
Claims (2)
- PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zum Entwickeln von wasserabstoßenden Diazo - Lichtpausschichten, insbesondere. mit Diazoverbindungen lichtempfind'-lich gemachten Celluloseesterschichten, dadurch ,gekennzeichnet, daß als Entwickler eine wäßrige Lösung einer aliphatischen Base verwendet wird, wobei, die Azokomponen.te entweder dem Entwickler oder der lichtempfindlichen Schicht zugesetzt wird.
- 2. Verfahren gemäß Anspruch, i, dadurch. ge-,kennzeichnet, daß als aliphatische Base Mono-, Di- oder Triäthanolam;in verwendet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEK4403D DE889548C (de) | 1942-02-19 | 1942-02-20 | Verfahren zur Entwicklung von wasserabstossenden Diazo-Lichtpausschichten |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE230279X | 1942-02-19 | ||
DEK4403D DE889548C (de) | 1942-02-19 | 1942-02-20 | Verfahren zur Entwicklung von wasserabstossenden Diazo-Lichtpausschichten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE889548C true DE889548C (de) | 1953-09-10 |
Family
ID=25764562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEK4403D Expired DE889548C (de) | 1942-02-19 | 1942-02-20 | Verfahren zur Entwicklung von wasserabstossenden Diazo-Lichtpausschichten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE889548C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1522449A1 (de) * | 1965-03-18 | 1970-07-30 | Addressograph Multigraph | Verfahren zum Entwickeln von Zweikomponenten-Diazotypiematerialien und hierfuer geeignete Entwickler |
-
1942
- 1942-02-20 DE DEK4403D patent/DE889548C/de not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1522449A1 (de) * | 1965-03-18 | 1970-07-30 | Addressograph Multigraph | Verfahren zum Entwickeln von Zweikomponenten-Diazotypiematerialien und hierfuer geeignete Entwickler |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1035660B (de) | Verfahren zur Herstellung von Farbentwicklersubstanzen | |
DE906406C (de) | Verfahren zur Empfindlichkeitssteigerung von Diazo-Lichtpausschichten | |
DE889548C (de) | Verfahren zur Entwicklung von wasserabstossenden Diazo-Lichtpausschichten | |
DE1213735B (de) | Mit Alkylenoxydaddukten sensibilisierte lichtempfindliche, photographische Silberhalogenidemulsion | |
DE1264252B (de) | Verfahren zur Herstellung eines photographischen Reliefbildes | |
DE813230C (de) | Lichtpausmaterial fuer Diazotypieverfahren | |
DE893142C (de) | Lichtempfindliches Material fuer die Bilderzeugung und Reproduktionstechnik | |
DE1289736B (de) | Lichtempfindliches Kopiermaterial, das als lichtempfindliche Substanz mindestens einDerivat des einseitig diazotierten p-Phenylendiamins mit einer Alkoxygruppe in m-Stellung zur Diazogruppe enthaelt | |
DE488148C (de) | Verfahren zur Erhoehung der Wasserbestaendigkeit von Diazotypien | |
US2326782A (en) | Photosensitive material | |
DE684620C (de) | Verfahren zum Entwickeln von Diazotypiefolien | |
DE2263602A1 (de) | Verfahren zur schnellentwicklung eines lichtempfindlichen silberhalogenidhaltigen farbfotografischen materials | |
DE954311C (de) | Verfahren zur Herstellung von farbigen Bildern durch chromogene Entwicklung | |
DE929590C (de) | Lichtempfindliches Diazotypiematerial | |
DE1547969A1 (de) | Waermeentwickelbare,lichtempfindliche Zusammensetzungen und Materialien | |
DE810107C (de) | Lichtempfindliche Schichten fuer Diazotypien | |
CH336257A (de) | Verfahren zum Bleichfixieren von photographischen Bildern | |
DE1132798B (de) | Photographisches Silbersalzdiffusionsueber-tragungsverfahren | |
DE894960C (de) | Verfahren zur direkten Herstellung von Positiven | |
DE1229844B (de) | Verfahren zur Herstellung von Lichtpausen | |
DE881446C (de) | Lichtempfindliche Schichten mit Diazoverbindungen | |
DE679469C (de) | Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen Schichten | |
DE1522422A1 (de) | Verbessertes farbphotographisches Material | |
DE2224843C3 (de) | Naphthochinondiazldsulfonsäureester und diese enthaltende lichtempfindliche Massen | |
DE726820C (de) | Verfahren zum Lackieren photographischer Schichten |