DE704096C - Verfahren zur Gasanalyse - Google Patents
Verfahren zur GasanalyseInfo
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- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/12—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
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Description
Zum Nachweis von Gasen hat man bereits die Änderung des elektrischen Widerstandes
verschiedener Stoffe bei der Berührung mit Gasen benutzt. Beispielsweise hat man mit
Eisenoxyden oder Kupferoxyd gesättigte oder überzogene Körper aus Asbest, Knochenasche,
Ton oder Porzellan verwandt, um den reduzierenden oder oxydierenden Charakter von
Ofengasen durch die Widerstandsänderung beim Übergang der Oxyde in Metalle zu prüfen.
Insbesondere hat man auch schon die Widerstandsänderung der Metalle selbst, beispielsweise
von Platin, Palladium, Iridium oder Palladium-Silber-Legierungen, bei der
Berührung mit Gasen zum Nachweis dieser ausgewertet. Hierfür benutzt man beispielsweise
ein Metallband oder einen Metalldraht, dessen Widerstandsänderung in einer Wheatstoneschen
Brückenschaltung bestimmt wird.
ao Die Änderung des elektrischen Widerstandes beruht darauf, daß der Draht oder das Band
aus dem Metall das Gas infolge Adsorption aufnimmt, wodurch das Gitter des Metalls
aufgeweitet und so der elektrische Widerstand ein wenig geändert wird. Diese Änderung
des elektrischen Widerstandes beträgt jedoch nur wenige Prozente des ursprünglichen Wertes,
in einem günstigen Fall etwa 2 bis 3%. Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues, weit empfindlicheres Verfahren zur
Gasanalyse. Sie beruht auf der Beobachtung, daß äußerst dünne Metallschichten in Gegenwart
von geringen Mengen eines bestimmten Gases bei bestimmten Temperaturen eine außergewöhnliche Steigerung des elektrischen
Widerstandes erfahren; diese überraschende Erscheinung wurde bei Metallschichten mit
einer Dicke unter 0,2 μ ermittelt, welche erfindungsgemäß verwendet werden. Derart
dünne Metallschichten werden unter genau
festzulegenden Bedingungen, von denen die Temperatur die wichtigste ist, durch Anwesenheit
von geringen Gasmengen, die teilweise nur noch als Spuren bezeichnet werden können, so verändert, daß ihr elektrischer
Widerstand oft sogar um viele Zehnerpotenzen zunimmt. Hierbei sind die Bedingungen,
unter denen die Widerstandserhöhung eintritt, insbesondere die Temperatur, für die einzel
ίο nen Gase so spezifisch, daß die Erscheinung ohne weiteres zum Nachweis eines bestimmten
Gases benutzt werden kann.
Die dünne Metallschicht besteht bei dem neuen Verfahren zur Gasanalyse beispielsweise
aus einem Edelmetall, etwa einem Platin metall, insbesondere aus Palladium, und ist
auf elektrischen Nichtleitern, z. B. Glimmer, keramischen Materialien, Glas oder Quarz,
aufgebracht. Die Dicke der Metallschicht wird zweckmäßig so gewählt, daß der elektrische
Widerstand einer Fläche von ι qcm zwischen 100 und 1000 Ohm liegt. Die bei
dem neuen Verfahren benutzten Schichten können also so dünn sein, daß sie für Licht
schon teilweise durchlässig sind. Sie werden vorzugsweise im Hochvakuum hergestellt, um
die Anwesenheit von Gasresten auszuschalten. Bei Festhalten bestimmter Bedingungen,
indem also vor allem in einer gegebenen An-Ordnung konstante Temperaturen und Zeiten
eingehalten werden, läßt sich die Größe der Widerstandsänderung zur quantitativen Gasbestimmung
verwenden.
Diese Beschreibung der Erfindung zeigt, daß sie in ihren Wirkungen vollkommen verschieden
ist von dem bisher bekannten Effekt, der bei der Einwirkung von Gasen auf dikkere
Schichten auftritt. Die Ursache hierfür liegt in einem grundsätzlichen Unterschied
der zugrunde liegenden Erscheinungen. Während bei dickeren Schichten, wie oben auseinandergesetzt,
die Adsorption der Gase die Ursache für eine sehr geringe Änderung des elektrischen Widerstandes bildet, beruht die
außergewöhnlich hohe Änderung des elektrischen Widerstandes bei dem Verfahren nach
der Erfindung auf einer chemischen Reaktion der Gase mit den äußerst dünnen Metallschichten.
Bekanntlich reagiert jedes Metall mit einem Gas von einer ganz bestimmten
Temperatur an, wobei die Reaktionsgeschwindigkeit innerhalb weniger Temperaturgrade
sehr stark anwächst. Während beispielsweise Palladium bei 300 mit Wasserstoff noch
nicht reagiert und sich deshalb der elektrische Widerstand lediglich wegen der geringen
Adsorption des Gases um einige wenige Prozente ändert, reagiert das gleiche Metall mit Stickstoff schon bei einer Temperatur
von 280" derart, daß sich der elektrische
Widerstand innerhalb weniger Sekun- i den von einem endlosen Wert auf einen praktisch
unendlichen Wert steigern läßt.
Die eben beschriebene Widerstandsänderung der Metalle unter der Einwirkung
von Gasen läßt sich praktisch nur auswerten, wenn das Metall in so dünner Form vorliegt,
daß verhältnismäßig wenige Atomschichten zur Reaktion zur Verfugung stehen. Bei größerer
Schichtdicke tritt der Effekt praktisch nicht mehr in Erscheinung. Der Grund liegt
darin, daß nahezu jedes Metall in Gegenwart von Gasen gewisse Passivierungserscheinungen
zeigt, indem nur wenige Atomschichten der Oberfläche mit dem Gas unter Bildung einer chemischen Verbindung reagieren, die
das darunterliegende Metall vor der Berührung mit dem reaktionsfähigen Gas schützt.
Nach Bildung dieser Oberflächenschicht hört also die Reaktion auf. Deshalb wird erfindungsgemäß
eine Schichtdicke unter 0,2 μ angewandt, die eine außergewöhnliche Steigerung
des elektrischen Widerstandes bei Berührung mit Gasen erfährt, der im günstigsten
Fall von einem endlichen Wert sogar auf einen unendlichen Wert gesteigert werden
kann.
Während bei den Adsorptionseffekten, die bei den bisher bekannten Verfahren ausgewertet
wurden, eine Abhängigkeit von der Temperatur nur in sehr geringem Maße auftritt,
liegt der Wert des vorliegenden Verfahrens gerade in der Tatsache, daß die auf wenige
Grade beschränkte Reaktionsfähigkeit des Metalls mit dem bestimmten Gas ausgenutzt
wird. So reagiert z. B. Palladium mit Stickstoff bei einer Temperatur von 2300 noch
nicht merkbar, während bei einer Temperatur von 280" die Reaktion schon so stark ist,
daß innerhalb kürzester Zeit der Widerstand too auf einen praktisch unendlich großen Wert
steigt.
i. Auf einer Unterlage von Muskowit befindet sich eine Schicht von Palladium mit
einer Oberfläche von 2X3 cm, deren Dicke
so bemessen ist, daß der 3 cm lange und 2 cm breite Streifen einen Widerstand von
200 Ohm aufweist. Wird über diese Palladiumschicht bei einer Temperatür von 280^ C
bei Atmosphärendruck stickstoffhaltiger Wasserstoff geleitet, so reagiert die Schicht mit
dem Stickstoff derart, daß ihr Widerstand innerhalb weniger Minuten auf Werte oberhalb
von 100 000 Ohm steigt. Wasserstoff allein ruft bei der genannten Temperatur
keine Widerstandsänderung der Palladiumschicht hervor.
2. Auf einer Unterlage von Muskowit befindet sich eine Rliodiumschicht von 3 cm iao
Länge und 2 cm Breite, deren Dicke so bemessen ist, daß sie bei den angegebenen
Ausdehnungen einen Widerstand von 200 Ohm aufweist. Wird über diese Schicht bei Temperaturen
von 5 20° bei Atmosphärendruck Stickstoff geleitet, der durch Spuren von Sauerstoff verunreinigt ist, die unter Vioo0/0
des Stickstoffgehaltes liegen, so steigt der Ohmsche Widerstand innerhalb weniger Minuten
auf Werte über 100 000 Ohm. Stickstoff allein ergibt unter den angegebenen Bedingungen
keine Widerstandsänderung.
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Gasanalyse., bei dem man die zu untersuchenden Gase auf Metallschichten, die auf elektrischen Nichtleitern aufgebracht sind, einwirken läßt und die Änderung des elektrischen Widerstandes beobachtet, dadurch gekennzeichnet, daß Metallschichten mit einef Dicke unter 0,2 α verwendet werden.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1938H0156075 DE704096C (de) | 1938-06-05 | 1938-06-05 | Verfahren zur Gasanalyse |
FR855571D FR855571A (fr) | 1938-06-05 | 1939-06-01 | Procédé pour l'analyse des gaz |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1938H0156075 DE704096C (de) | 1938-06-05 | 1938-06-05 | Verfahren zur Gasanalyse |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE704096C true DE704096C (de) | 1941-03-22 |
Family
ID=7182302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1938H0156075 Expired DE704096C (de) | 1938-06-05 | 1938-06-05 | Verfahren zur Gasanalyse |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE704096C (de) |
FR (1) | FR855571A (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0095844A3 (de) * | 1982-05-27 | 1984-09-19 | Honeywell Inc. | Gasfühler |
EP0247789A3 (de) * | 1986-05-27 | 1989-08-02 | The BOC Group, Inc. | Messung und Aufzeichnung eines Gasbestandteils |
-
1938
- 1938-06-05 DE DE1938H0156075 patent/DE704096C/de not_active Expired
-
1939
- 1939-06-01 FR FR855571D patent/FR855571A/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR855571A (fr) | 1940-05-15 |
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