DE69316495T2

DE69316495T2 - Verwendung einer positiv arbeitenden vorsensibilisierten Druckplatte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte

Info

Publication number: DE69316495T2
Application number: DE1993616495
Authority: DE
Inventors: Ikuo Kawauchi; Kazuyoshi Mizutani; Akira Nagashima
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1992-09-14
Filing date: 1993-09-10
Publication date: 1998-05-07
Anticipated expiration: 2013-09-11
Also published as: JPH06282067A; JP2944327B2; EP0589309A1; DE69316495D1; EP0589309B1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung einer positiv arbeitenden vorsensibilisierten Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte.
Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte durch Belichten einer positiv arbeitenden vorsensibilisierten Platte, zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte (die im weiteren als (positiv arbeitende) PS-Platte bezeichnet wird), Entwickeln der belichteten positiv arbeitenden PS-Platte und anschließendes Unterwerfen der entwikkelten PS-Platte einer Wärmebehandlung (die im weiteren Brennbehandlung genannt wird) sind offenbart in, z.B., U.K.-Patent Nm. 1 151 199 und 1 154 749. Die Brennbehandlung wird im allgemeinen durch Aufheizen der entwickelten PS-Platte auf eine Temperatur im Bereich von 200 bis 320ºC für 1 bis 60 Minuten durchgeführt. Die Bildflächen auf der PS-Platte werden durch die Brennbehandlung gehärtet und ihre Druckbestandigkeit merklich verbessert. In den Nichtbildbereichen der PS-Platte, insbesondere die schattierten Bereiche, werden tintensaugfähige organische Substanzen die aus den Halbtonpunktbildem fließen fest auf die Nichtbildbereiche gebunden, dieses führt zu Hintergrundkontaminierung während der Druckoperationen. Dieses Phänomen wird im weiteren als Tintenverteulung durch Brennbehandlung genannt. Es ist allgemein bekannt, daß das Tintenverteilen durch Brennbehandlung auffallend wird mit steigender Temperatur der Brennbehandlung.
Um dieses Problem zu lösen offenbart die japanische Patentpublikation für Einspruchsverwendung (Japanese Patent Publication for Oppositfon Purpose), die im weiteren als J.P. KOKOKU bezeichnet wird, Nr. Hei 1-49932, Additive, die die Verbesserung der Druckbestandigkeit der resultierenden lithographischen Druckplatte, erhalten nach der Brennbehandlung, erlaubt. Dieses Patent offenbart, daß die Verwendung dieser Additive die Verbesserung der Druckbestandigkeit durch Brennbehandlung bei niedrigen Temperaturen (z.B. im Bereich von 180ºC), verglichen mit den üblichen Brennbehandlungen, die bei 200 bis 320ºC vorgenommen werden, erlaubt. Wie dem auch sei, das Tintenverteilen durch die Brennbehandung wird auch wenn die Brennbehandung bei 180ºC durchgeführt wird beobachtet, die Tintenverteilung durch die Brennbehandlung wird auffällig, wenn die Brennbehandlung bei Temperaturen wie sie üblicherweise verwendet werden durchgeführt wird, deshalb ist die Verwendung dieser Additive keine wesentliche Lösung für das obengenannte Problem. Daruber hinaus verlangt das Patent die Verwendung einer großen Menge eines hydrophilen Additivs was zur wesentlichen Verringerung anderer Druckeigenschaften wie Entwicklungsspielraum und/oder Tintensaugfähigkeit der resultierenden lithographischen Druckplatte führt.
Das europäische Patent Nr. 477691 offenbart eine Photoresistzusammensetzung vom Positivtyp, umfassend einen alkalilöslichen Phenolnovolak, eine 1,2-Chinondiazidverbindung und eine Verbindung mit geringem Molekulargewicht mit 12 bis 50 Kohlenstoffatomen pro Molekül und 2 bis 8 phenolische Hydroxylgruppen pro Molekül. Die Zusammensetzung ist geeignet für die Herstellung von Halbleitern wie z.B. integrierten Schaltungen.
Das europäische Patent Nr. 460416 offenbart eine positive Resistzusammensetzung, umfassend eine strahlungsempfindliche Verbindung und ein alkalilösliches Harz, das erhältlich ist durch eine Kondensationsreaktion eines Aldehyds und einer spezifischen Hydroxylgruppen-enthaltenden Verbindung. Die Zusammensetzung ist geeignet für die Herstellung von Halbleitern wie z.B. integrierten Schaltungen.
Das europäische Patent Nr. 424124 offenbart eine positiv arbeitende Photoresistzusammensetzung, umfassend ein alkalilösliches Bindemittel, umfassend eine Vielzahl von Phenolgruppen, ein spezifisches Iodoniumsalz und eine spezifische säurespaltbare Verbindung.
Das Ziel der vorliegenden Erfindung ist es eine neue Verwendung für eine positiv arbeitende vorsensibilisierte Platte bereitzustellen.
Dieses Ziel wird erreicht durch die Verwendung einer positiv arbeitenden vorsensibilisierten Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, wobei besagte positiv arbeitende vorsensibilisierte Platte ein Substrat umfaßt, mit einer darauf vorgesehenen lichtempfindlichen Schicht, wobei die lichtempfindliche Schicht aus einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung geformt wird, besagte Zusammensetzung umfaßt ein Phenolderivat, ein wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz und ein o-Chinondiazid oder ein Diazoniumsalz oder eine Mischung aus einer Verbindung, die fähig ist, bei Aussetzung zu Licht eine Säure zu formen, mit einer Verbindung, die mindestens eine C-O-C-Gruppe enthält, die durch Einwirkung der Saure zersetzt wird, besagtes Phenolderivat und besagtes wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz sind verschieden voneinander, besagtes Phenoderivat ist mindestens eins ausgewahlt aus der Gruppe bestehend aus Verbindungen, die durch die folgenden allgemeinen Formeln (II) bis (IX) dargestellt werden:
wobei R² bis R&sup4;, R&sup9;, R¹&sup7; und R¹&sup8; jeweils Wasserstoff oder ein Halogenatom oder eine Alkyl- oder Alkoxygruppe darstellen; R&sup5; und R¹³ bis R¹&sup6; jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe darstellen; R&sup8; bis R&sup8; jeweils ein Wasserstoffatom oder Halogenatom oder eine Alkylgruppe darstellen; R¹&sup0; bis R¹² jeweils eine Einfachbindung, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylen-, Alkenylen-, Phenylen-, Naphthylen-, Carbonyl-, Ether- oder Thioethergruppe, oder eine Amidobindung, oder eine Gruppe, geformt aus mindestens zweier dieser Gruppen darstellen; Y eine Gruppe der folgenden allgemeinen Formel (I) darstellt:
-CH&sub2;OR¹ (I)
wobei R¹ ein Wasserstoffatom, eine Alkyl- oder Acylgruppe darstellt; a, b, c, d, x und y jeweils eine ganze Zahl im Bereich von 0 bis 3 darstellen, vorausgesetzt daß die Summe aus a + b + c + d + x + y eine ganze Zahl im Bereich von 2 bis 16 ist; k, l, m und n jeweils eine ganze Zahl im Bereich von 0 bis 3 darstellen, vorausgesetzt daß nicht alle von ihnen gleichzeitig 0 sind; e, f, g, h, p, q, r, s, t und u jeweils eine ganze Zahl im Bereich von 0 bis 3 darstellen; und z 0 oder 1 ist.
Solch eine positiv arbeitende PS-Platte erleidet nicht das Problem der Kontaminierung (Tintenverteilung durch die Brennbehandlung) selbst wenn sie einer Brennbehandlung, durchgeführt bei einer hohen Temperatur, unterworfen wird.
Mehr noch, eine solche positiv arbeitende PS-Platte hat einen weiten Entwicklungsspielraum, was eine lithographische Druckplatte mit guter Tintensaugfähigkeit zur Verfügung stellen kann.
Die vorliegende Erfindung wird im weiteren detailliert beschrieben.

(I) Phenolderivate

Der beabsichtigte Effekt der vorliegenden Erfindung kann durch die Verwendung der spezifischen Phenolderivate wie oben definiert sichergestellt werden. In der ebengenannten Formel (I) kann die Alkylgruppe, dargestellt durch R¹, bevorzugt eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, wie Methyl-, Ethyl-, n-Propyl-, Isopropyl-, n-Butyl-, Isobutyl-, sec-Butyl- oder t-Butylgruppe sein, die Acylgruppe, dargestellt durch R¹, kann bevorzugt eine Formyl-, Acetyl-, Butyryl-, Benzoyt-, Cinnamoyl- oder Valerylgruppe sein.
Die Phenolderivate die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können z.B. hergestellt werden durch die Reaktion geeigneter Phenolverbindungen, wie die offenbart in der japanischen nichtgeprüften Patentpublikation (im weiteren als J.P. KOKAI bezeichnet) Nr. Hei 1-289946, Hei 3-179353, Hei 3-200252, Hei 3-128959 und Hei 3- 200254 und japanische Patentanmeldung (im weiteren als J.P.A. bezeichnet) Nm. Hei 3-320438 und Hei 4-25157, mit Formaldehyd bei einer Temperatur im Bereich von etwa 0 bis 80ºC, bevorzugt von 10 bis 60ºC, für 1 bis 30 Stunden in einem stark alkalischen Medium. Die Anzahl der Gruppen dargestellt durch die Formel (I) kann durch die Einstellung der Reaktionstemperatur und -zeit kontrolliert werden, die Anzahl dieser Gruppen ist geeigneterweise im Bereich von 2 bis 16 und bevorzugt von 4 bis 14.
Die Phenolderivate die in der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden sind die dargestellt durch die allgemeinen Formeln (II) bis (IX) die im weiteren detailliert beschrieben werden. Bevorzugt sind die Verbindungen der allgemeinen Formeln (II) bis (IX) bei denen a, b, c, d, x und y 0 sind. Diese Phenolderivate können alleine oder in Kombination verwendet werden, die Menge davon die in der lichtempfindlichen Zusammensetzung verwendet wird ist im Bereich von 0,2 bis 60 Gew.-%, bevorzugt von 0,5 bis 20 Gew.-% auf der Basis des Gesamtgewichts der Zusammensetzung.
Zusätzlich ist es bevorzugt, daß die lichtempfindliche Zusammensetzung im wesentlichen frei von einer Verbindung mit 1 bis 3 Benzolkemen, phenolischen Hydroxylgruppen und eine Gruppe dargestellt durch Formel (I) ist, daßdie Verbindung nicht den Effekt hat die Tintenverteng durch die Brennbehandlung zu eliminieren, weiterhin führt diese Verbindung zu einer Reduzierung der Tintensaugfähigkeit und des Entwicklungsspielraums der resultierenden PS-Platte. Spezieller, die Menge einer solchen Verbindung ist bevorzugt, nicht mehr als 5 Gew.-%, stärker bevorzugt nicht mehr als 3 Gew.-% und am meisten bevorzugt 0 Gew.-%, auf der Basis des Gewichts der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
In den Formeln (II) bis (IX) stellen R² bis R&sup4;, R&sup9;, R¹&sup7; und R¹&sup8; jeweils ein Wasserstoffatom oder ein Halogenatom oder eine Alkyl- oder Alkoxygruppe dar; R&sup5; und R¹³ bis R¹&sup6; stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe dar; R&sup6; bis R&sup8; stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder Halogenatom oder eine Alkylgruppe dar; R¹&sup0; bis R¹² stellen jeweils eine Einfachbindung, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylen-, Alkenylen-, Phenylen-, Naphthylen-, Carbonyl-, Ether- oder Thioethergruppe, oder eine Amidobindung, oder eine Gruppe, geformt aus mindestens zweier dieser Gruppen dar; Y stellt eine Gruppe dargestellt durch die allgemeine Formel (I) dar; a, b, c, d, x und y stellen jeweils eine ganze Zahl im Bereich von 0 bis 3 dar, vorausgesetzt, daß die Summe aus a+b+c+d+x+y eine ganze Zahl im Bereich von 2 bis 16 ist; k, l, m und n stellen jeweils eine ganze Zahl im Bereich von 0 bis 3 dar, vorausgesetzt, daß nicht alle von ihnen gleichzeitig 0 sind; e, f, g, h, p, q, r, s, t und u stellen jeweils eine ganze Zahl im Bereich von 0 bis 3 dar; und z ist 0 oder 1.
Speziellere Beispiele der Verbindupgen dargestellt durch die Formeln (II) bis (IX) sind die mit den folgenden allgemeinen Formeln (X) bis (XVII):
wobei Y¹ bis Y¹² jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Gruppe, dargestellt durch Formel (I) darstellt, vorausgesetzt daß mindestens zwei von ihnen, in jeder Verbindung, Gruppen dargestellt durch Formel (I) sind, vorzugsweise stellen alle diese Substituenten die Gruppe dargestellt durch die Formel (I) dar.

(ii) o-Chinondiazid oder Diazoniumsalz

Die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung die in der Erfindung in Kombination mit den obengenannten Phenoderivaten verwendet wird, wird im folgenden detailliert beschrieben. Die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung verwendbar in der Erfindung kann eine konventionelle bekannte lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend o-Chinondiazidverbindungen oder Diazoniumsalze sein. Die lichtempfindliche Zusammensetzung dieses Typs umfaßt im wesentlichen eine o- Chinondiazidverbindung oder ein Diazoniumsalz und ein alkalilösliches Bindemittel, wobei solche Zusammensetzungen insbesondere bevorzugt sind die phenolische Harze als alkalilösliche Bindemittel einsetzen.
Die o-Chinondiazidverbindungen verwendet in der Erfindung sind solche mit mindestens einer o-Chinondiazidgruppe deren Löslichkeit in alkalischen Lösungen durch Bestrahlung mit actinischer Strahlung erhöht wird, diese Verbindungen Können verschiedene Strukturen haben. Zum Beispiel können die Verbindungen offenbart in J. Koser, "Light- Sensitive Systems", S. 339-352, John Wiley & Sons, Inc. in der Erfindung verwendet werden, aber bevorzugt sind Sulfonsäureester oder Sulfonsaureamide von o-Chinondiaziden die mit verschiedenen aromatischen Polyhydroxyverbindungen oder aromatischen Aminverbindungen reagiert worden sind. Beispiele von weiteren o-Chinondiazidverbindungen die geeigneterweise in der Erfindung verwendet werden können, schließen Ester des Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-(1,2)- diazidsulfonsäurechlorid mit Pyrogallol-Acetonharzen, wie offenbart in J.P. KOKOKU Nr. Sho 43-28403, und Ester des Benzochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid oder Naphthochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid mit Phenol-Formaldehydharzen, wie in US-A-3 046 120 und 3 188 210 offenbart, ein. Andere geeignete o- Ohinondiazidverbindungen sind in einer Vielzahl von Patenten offenbart, wie z.B. J.P. KOKAI Sho 47-5303, Sho 48-63802, Sho 48-63803, Sho 48-96575, Sho 49-38701 und Sho 48-13354; J.P. KOKOKU Sho 41-11222, Sho 45-9610 und Sho 49-17481; US-A- 2 797 213, 3 454400, 3 544 323, 3 573 917, 3674495 und 3 785 825; UK-A- 1 227 602, 1 251 345, 1 267 005, 1 329 888 und 1 330 932 und DE-A-854 890.
Beispiele für Diazoniumsalze die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können sind bekannte, wie die offenbart in US-A-3 219447 und 3 211 553; J.P. KOKOKU Sho 39-7663; J.P. KOKAI Sho 52-2519; und JP-A-3-325859. Beispiele besonders effektiver Diazoniumsalze sind die, dargestellt durch die folgenden allgemeinen Formeln (XVIII), (XIX), (XX) und (XXI):
in diesen allgemeinen Formeln stellt R¹&sup7; eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe mit 3 bis 18 Kohlenstoffatomen dar; R¹&sup8; stellt ein Wasserstoffatom, eine substituierte oder nichtsubstituierte Alkygruppe, eine substituierte oder nichtsubstituierte Arylgruppe, eine substituierte oder nichtsubstituierte Alkoxygruppe, eine substituierte oder nichtsubstituierte Phenoxygruppe oder ein Halogenatom dar; X stellt ein Gegenanion dar; v ist eine ganze Zahl im Bereich von 1 bis 4 und w ist eine ganze Zahl im Bereich von 1 bis 3, unter der Voraussetzung, daß die Summe aus v und w 4 ist.
R¹&sup9; und R²&sup0; stellen jeweils unabhängig voneinander eine substituierte oder nichtsubstituierte Alkylgmppe oder eine substituierte oder nichtsubstituierte Arylgruppe dar, oder R¹&sup9; und R²&sup0; können miteinander verbunden werden um eine heterocyclische Gruppe wie eine Morpholino-, Piperidino-, Piperazinyl- oder Pyrrolidinylgruppe darzustellen.
W stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, oder -NH-, -CH&sub2;-, -CONH- oder -C(CH&sub3;)&sub2;-Gruppe dar.
Z stellt ein Wasserstoffatom, eine substituierte oder nichtsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder nichtsubstituierte Arylgruppe, eine substituierte oder nichtsubstituierte Alkoxygruppe, eine substituierte oder nichtsubstituierte Alkylcarbonylgruppe, eine substituierte oder nichtsubstituierte Arylcarbonylgruppe, eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe oder ein Halogenatom dar, z ist eine ganze Zahl im Bereich von 1 bis 5, und Q ist eine bivalente Verbindungsgruppe.
Diese o-Chinondiazidverbindungen oder Diazoniumsalze können alleine oder in Kombination verwendet werden. Die Menge der Verbindung oder des Salzes die in der Erfindung verwendet wird liegt im Bereich von 1 bis 50 Gew.-%, bevorzugt von 5 bis 30 Gew.-%, auf der Basis des Gesamtfeststoffgehalts der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
(III) Verbindungen die fähig sind bei Aussetzung zu Licht eine Säure zu formen und Verbindungen die durch Einwirkung der Säure zersetzt werden
Materialien (Kopiermaterialien) die im wesentlichen Verbindungen, die durch Einwirkung von Säure zersetzt werden umfassen können auch in der vorliegenden Zusammensetzung verwendet werden.
Kopiermaterialien dieses Typs sind bekannt und offenbart in, z.B., US-A-3 779 778 und 4 101 323; DE-A-2 718 254; und DEOS 2 829 512 und 2 829 511. Diese Materialien umfassen ein Derivat der Orthocarboxylsäure, ein monomeres oder polymeres Acetal, Enolether oder Acyliminocarbonat als Verbindung die fähig ist durch Einwirkung einer Säure zersetzt zu werden. Das Material enthält im wesentlichen eine organische Halogenverbindung, insbesondere ein 5-Triazin substituiert mit einer Halogenmethylgruppe, als Verbindung die lichtempfindlich ist und fähig ist eine Säure zu formen.
Unter den Orthocarboxylsäurederivaten offenbart in US-A-4 101 324 sind Bis-1,3- dioxan-2-ylether von aliphatischen Diolen besonders bevorzugt.
Unter den Polyacetalen die in der DE-A-2 718 254 offenbart sind werden bevorzugt solche verwendet die Einheiten abgeleitet aus aliphatischen Aldehyden und Diolen enthalten.
Weiterhin sind insbesonders bevorzugt die Verbindungen offenbart in DEOS 2 928 636. Dieses Patent offenbart polymere Orthoester die Orthoestergruppen besitzen die wiederholt in der Hauptkette erscheinen, als Beispiele für Verbindungen die fähig sind, durch Einwirkung einer Säure zersetzt zu werden.
Diese Gruppe ist eine 2-Alkylethergruppe von 1,3-Dioxacycloalkan die einen 5- oder 6-gliedrigen Ring trägt. Besonders bevorzugte Polymere haben 1,3-Dioxacyclohex-2- ylalkylethereinheiten (in diesem Fall kann die Alkylethergruppe etherisches Sauerstoffatom aufweisen und ist bevorzugt mit dem benachbarten Ring an der 5-Position verbunden).
Die Menge der Verbindung fähig mit einer Säure zersetzt zu werden, die zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung zugegeben wird liegt im allgemeinen im Bereich von 8 bis 65 Gew.-% und bevorzugt von 14 bis 44 Gew.-%, auf der Basis des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Zusammensetzung, während die Menge der säureerzeugenden Verbindung im Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-% und bevorzugt von 0,2 bis 5 Gew.-% liegt, auf der Basis des Gewichts der lichtempfindlichen Zusammensetzung.

(IV) Wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz

Das wasserunlösliche und in alkalischem Wasser lösliche Harz das in der Erfindung verwendet wird kann eins aus einer Vielzahl von Harzen mit den gewünschten Eigenschaften sein, bevorzugte Harze sind z.B. Novolakharze die im weiteren aufgeführt werden:
Beispiele solcher Novolakharze sind z.B. Phenol-Formaldehyd-Harze, Kresol-Formaldehyd-Harze wie m-Kresol-Formaldehyd-Harze, p-Kresol-Formaldehyd-Harze, o-Kresol- Formaldehyd-Harze, gemischte m-/p-Kresol-Formaldehyd-Harze und Phenol-Kresol(m- /p-/o-, oder m-/p-, m-/o- oder o-/p-gemischte Kresole)-Formaldehyd-Harze. Bevorzugte Beispiele sind weiterhin Phenolharze vom Resoltyp, wobei Phenol-Kresol(m-/p-/o-, oder m-/p-, m-/o- oder o-/p-gemischte Kresole)-Formaldehyd-Harze bevorzugt sind und Phenolharze offenbart in J.P. KOKAI Sho 61-217034 besonders bevorzugt sind.
Es ist auch möglich verschiedene alkalilösliche polymere Verbindungen wie Phenolmodifizierte Xylenharze, Polyhydroxystyrole, halogenierte Polyhydroxystyrole, acrylische Harze umfassend phenolische Hydroxylgruppen wie offenbart in J.P. KOKAI Sho 51- 34711, acrylische Harze mit Sulfonamidogruppen wie offenbart in J.P. KOKAI Hei 2-866 und Urethanharze zu verwenden. Diese alkalilöslichen polymere Verbindungen haben jeweils ein Gewichtsmittel des Molekulargewicht im Bereich von 500 bis 200.000 und ein Zahlenmittel des Molekulargewicht im Bereich von 200 bis 60.000.
Diese alkalilöslichen polymeren Verbindungen können alleine oder in Kombination verwendet werden und die Menge davon, verwendet in der lichtempfindlichen Zusammensetzung, ist im Bereich von 5 bis 99 Gew.-% und bevorzugt von 10 bis 90 Gew.-%, auf der Basis des Gesamtfeststoffgehalts der Zusammensetzung.

(V) Andere Komponenten

Zusätzlich kann die positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet in der Erfindung optional weitere verschiedene Additive enthalten.
Zum Beispiel ist es bevorzugt gleichzeitig ein Kondensat eines Phenols mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen als Substituent mit Formaldehyd wie ein Octylphenol-Formaldehyd-Harz zu verwenden, für die Verbesserung der Tintensaugfähigkeit der resultierenden Bilder.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung kann weiterhin cyclische Säureanhydride, Phenole und/oder organische Säuren zur Erhöhung der Empfindlichkeit der resultierenden Zusammensetzung enthalten. Beispiele von cyclischen Säureanhydriden sind Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ&sup4;-tetrahydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlörophthalsäureanhydrid, Malein säureanhydrid, Chloromaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid, Succininsäureanhydrid und Pyromellitinsäureanhydrid wie offenbart in US-A-4 115 128. Beispiele von Phenolen sind Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 2, 3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4"-Trihydroxytriphenylmethan und 4,4',3",4"-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan. Zusätzlich können die hier verwendeten organischen Säuren Sulfon säuren, Sulfinsäuren, Alkylsulfursäuren, Phosphonsäuren, Phosphorsäureester und Carboxylsäuren wie offenbart in J.P. KOKAI Sho 60-88942 und Hei 2-96755 sein, spezielle Beispiele davon sind p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfinsäure, Ethylsulfursäure, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluinsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure 1,4-Cyclohexen-2,2-dicarboxylsäure, Erucsäure, Laurinsäure, n-Undecansäure und Ascorbinsäure
Die Menge der vorgenannten cyclischen Säureanhydride, Phenole und organischen Säuren liegt im Bereich von 0,05 bis 15 Gew.-% und bevorzugt von 0,1 bis 5 Gew.-% auf der Basis des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet in der vorliegenden Erfindung kann weiterhin nichtionische oberflächenaktive Mittel wie die offenbart in KOKAI Sho 62- 252740 und Hei 3-208514 und/oder amphotere oberflächenaktive Mittel wie die offenbart in J.P. KOKAI Sho 59-121044 und Hei 4-13149 enthalten, um die Toleranz beim Behandeln gegen Bedingungen der Entwicklung zu vergrößern (Entwicklungsspielraum).
Spezielle Beispiele nichtionischer oberflächenaktiver Mittel sind Sorbitantristearate, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid und Polyoxyethylennonylphenylether.
Spezielle Beispiele amphoterer oberflächenaktiver Mittel sind Alkyl-di(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N- hydroxyethylimidazoliniumbetain und N-Tetradecyl-N,N-betain (z.B. ein Produkt erhältlich von Dai-Ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. unter dem Handelsnamen Amorgen K).
Die Menge der vorgenannten nichtionischen und amphoteren oberflächenaktiven Mittel verwendet in der lichtempfindlichen Zusammensetzung ist bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 15 Gew.-% und stärker bevorzugt von 0,1 bis 5 Gew.-%, auf der Basis des gesamten Gewichts der Zusammensetzung.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet in der vorliegenden Erfindung kann weiterhin ein Mittel oder eine Zusammensetzung zum Erhalt eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach bildweiser Belichtung (Auskopiermittel) und/oder ein Mittel zur Färbung von Bildern wie einen Farbstoff oder ein Pigment enthalten.
Auskopiermittel werden dargestellt durch Kombinationen von Verbindungen die fähig sind Säuren durch Aussetzung zu Licht zu erzeugen (photolytisch säureerzeugende Mittel) mit salzformenden organischen Farbstoffen. Spezielle Beispiele davon sind Kombinationen aus o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogeniden mit salzformenden organischen Farbstoffen wie offenbart in J.P. KOKAI Sho 50-36209 und Sho 53- 8128; und Kombinationen aus Trihalomethylverbindungen mit salzformenden organischen Farbstoffen wie offenbart in J.P. KOKAI Sho 53-36223, Sho 54-74728, Sho 60- 3626, Sho 61-143748, Sho 61-151644 und Sho 63-58440. Beispiele solchertrihalomethylverbindungen schließen Oxazolverbindungen und Triazinverbindungen ein, beide Arten von Verbindungen haben eine exzellente Zeitstabilität und können klare auskopierte Bilder ergeben.
Mittel zur Färbung von Bildern können salzformende organische Farbstoffe wie oben diskutiert und andere Farbstoffe sein. Beispiele davon (inklusive der salzformenden organischen Farbstoffen) sind öllösliche Farbstoffe und basische Farbstoffe. Spezielle Beispiele davon sind Oil Yellow #101 und #103, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS und #603, Oil Black BY, BS und T-505 (alle diese sind erhältlich von Orient Chemical lndustry Co., Ltd.); Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI 42555), Methylviolett (CI 42535), Ethylviolett, Rhodamin B (CI 1451708), Malachitgrün (CI 42000) und Methylenblau (CI 52015). Zusätzlich sind die Farbstoffe offenbart in J.P. KOKAI Sho 62- 293247 besonders bevorzugt. Diese Farbstoffe können der lichtempfindlichen Zusammensetzung in einer Menge von 0,01 bis 10 Gew.-%, bevorzugt von 0,1 bis 3 Gew.-% zugegeben werden, auf der Basis des Gesamtgewichts des Feststoffgehalts der Zusammensetzung.
Weiterhin kann die lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet in der Erfindung optional einen Plastifizierer enthalten, dieser verleiht dem resultierenden Film z.B. Flexibilität. Beispiele von Plastifizierern verwendbar in der Erfindung schließen Butylphthalyl, Polyethylenglycol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat, und Oligomere oder Polymere aus (Methyl)acrylsäure ein.

(VI) PS-Platte

Die positiv arbeitende PS-Platte verwendet in der vorliegenden Erfindung kann im allgemeinen hergestellt werden durch Lösen der vorgenannten Komponenten in einem Lösungsmittel und Auftragen der resultierenden Lösung auf ein geeignetes Substrat. Beispiele von Lösungsmitteln die verwendet werden sind Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglycolmonomethylether, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethoxyacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolacton und Toluol.
Diese Lösungsmittel können allein oder in Kombination verwendet werden. Die Konzentration der vorgenannten Komponenten (Gesamtfeststoffkomponenten einschließlich Additive) in dem Lösungsmittel liegt bevorzugt im Bereich von 1 bis 50 Gew.-%. Die Menge des aufgetragenen Films (Feststoffgehalt) erhalten nach Auftragung der Lösung auf das Substrat und anschließendem Trocknen, variiert in Abhängigkeit von der Anwendung aber liegt bevorzugt im Bereich von 0,5 bis 5,0 g/m² für PS-Platten. Der aufgetragene Film der lichtempfindlichen Zusammensetzung kann durch jedes Verfahren geformt werden, z.B. durch Streichstangenauftrag, Wirbelauftrag&sub3; Sprühauftrag, Vorhangbeschichten, Tauchauftrag, Luftbürstenauftrag, Rakelauftrag oder Walzenauftrag. Je kleiner die aufgetragene Menge desto höher die erscheinende Empfindlichkeit des resultierenden Films, aber desto schlechter sind die Eigenschaften des resultierenden Films.
Die in der Erfindung verwendete lichtempfindliche Zusammensetzung umfaßt optional ein oberflächenaktives Mittel zur Verbesserung der Ciberzugseigenschaften, wie z.B. ein fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel offenbart in J.P. KOKAI Sho 62-170950. Die Menge des oberflächenaktiven Mittels die zugegeben wird ist bevorzugt im Bereich von 0,01 bis 1 Gew.-% und stärker bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 0,5 Gew.-%, auf der Basis des Gesamtgewichts der lichtempfindlichen Zusammensetzung.

(VII) Substrat

Substrate, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können sind plattenförmige Materialien mit hoher Dimensionsstabilität, z.B. Papier, Papier laminiert mit einem Kunststoffilm wie z.B. Polyethylen-, Polypropylen- oder Polystyrolfilm; Metallplatten wie Aluminium-, Zink- und Kupferplatten; Kunststoffilme wie z.B. Cellulosediacetat-, Cellulosetriacetat-, Cellulosepropionat-, Cellulosebutyrat-, Celluloseacetatbutyrat-, Cellulosenitrat-, Polyethylenterephthalat-, Polyethylen-, Polystyrol-, Polypropylen-, Polycarbonat- und Polyvinylacetalfilme; und Papier oder Kunststoffilme laminiert mit einer Folie der vorgenannten Metalle oder Papier oder ein Kunststoffilm auf die eins der vorgenannten Metalle aus der Gasphase abgeschieden worden ist.
Unter diesen sind insbesondere Aluminiumplatten bevorzugt, aufgrund ihrer hohen Dimensionsstabilität und relativ geringen Kosten. Bevorzugte Aluminiumplatten sind, z.B. solche aus reinem Aluminium oder. aus Aluminiumlegierungen die Aluminium als prinzipielle Komponente enthalten neben Spuren anderer Elemente, ebenso wie Kunststoffilme laminiert mit einem Aluminiumfilm oder Kunststoffilme auf die Aluminium aus der Gasphase abgeschieden worden ist. Beispiele von Elementen die in Spuren in der Aluminiumlegierung vorhanden sein können sind Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismuth, Nickel undloder Titan. Die Menge dieser Spurenelemente vorhanden in der Aluminiumlegierung ist höchstens 10 Gew.-%. Besonders bevorzugte Aluminiumsubstrate die in der Erfindung verwendet werden sind reine Aluminiumplatten, es ist aber zur Zeit schwierig völlig reine Aluminiumplatten zu erhalten, im Hinblick auf die Raffinierungstechniken. Deshalb kann eine Aluminiumplatte die weitere Elemente in Spuren enthält verwendet werden. Wie oben beschrieben sind die verwendbaren Alumintumplatten nicht darauf beschränkt bestimmte Zusammensetzungen aufzuweisen, es können die üblichen bekannten und üblicherweise verwendeten Platten eingesetzt werden. Die Aluminiumplatte verwendet in der Erfindung hat eine Dicke im Bereich von etwa 0,1 bis 0,6 mm.
Die Aluminiumplatte ist im allgemeinen oberflächenaufgerauht. Die Platte ist, falls gewünscht, entfettet worden, durch Behandlung mit einer Lösung eines oberflächenaktiven Mittels, einem organischen Lösungsmittel oder einer alkalischen wäßrigen Lösung zur Entfernung der Walzöle die auf der Oberfläche vorliegen, bevor die Oberflächenaufrauhung stattfindet.
Das Aufrauhen der Oberfläche der Aluminiumplatte kann in Übereinstimmung mit verschiedenen Verfahren durchgeführt werden, z.B. Verfahren bei denen die Platte mechanisch aufgerauht wird, Verfahren bei denen die Oberfläche der Platte durch elektrochemische Auflösung aufgerauht wird und Verfahren bei denen selektiv die Oberfläche der Platte durch chemische Verfahren aufgelöst wird. Beispiele der mechanischen Verfahren schließen die bekannten Verfahren wie Kugegranulieren, Bürstengranulieren, Gebläsegranuliern und Schleifgranulieren ein. Beispiele der elektrochemischen Oberflächenaufrauhungsbehandlungen sind solche die das elektrochemische Oberflächenaufrauhen der Platten in einem Elektrolyten wie Salzsäure oder Salpetersäure umfassen. Weiterhin ist es möglich eine Kombination dieser Methoden zu verwenden, wie offenbart in J.P. KOKAI Sho 54-63902.
Die so aufgerauhte Aluminiumplatte wird, falls gewünscht, einer Ätzbehandlung mit Alkali und/oder einer Neutralisierungsbehandlung unterworfen, danach kann sie optional anodisiert werden, zur Verbesserung der Wasserrückhaltungscharakteristika und der Abriebsfestigkeit der Oberfläche. Als Elektrolyte können in der Anodisierung der Aluminiumplatte z.B. verschiedene Arten von Elektrolyten verwendet werden, die fähig sind poröse anodisierte Schichten auf der Aluminiumplatte zu bilden, wie z.B. Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder Mischungen daraus. Die Konzentrationen dieser Elektrolyten kann gezielt eingestellt werden, in Abhängigkeit von der Art der ausgewählten Elektrolyte.
Bedingungen für die Anodisierung können über große Bereiche variieren, in Abhängigkeit von den verwendeten Elektrolyten, sie können deshalb nicht spezifisch angegeben werden, aber allgemein und geeignet ist eine Elektrolytkonzentration im Bereich von 1 bis 80 Gew.-%, eine Anodisierungstemperatur im Bereich von 5 bis 70ºC, eine Stromdichte im Bereich von 5 bis 60 A/dm², eine elektrische Spannung im Bereich von 1 bis 100 V und eine Elektrolysezeit von 10 Sekunden bis 5 Minuten.
Die Menge der so geformten anodisierten Schicht darf nicht geringer als 1,0 g/m² sein. Der Grund dafür liegt darin, daß, wenn die Menge der anodisierten Schicht geringer als 1,0 g/m² ist die Druckbeständigkeit der resultierenden lithographischen Druckplatte nicht ausreichend ist, der Nichtbildbereich der lithographischen Druckplatte wird leicht beschädigt und dieses führt häufig zur sogenannten "Kontaminierung durch Defekte", d.h. Adhäsion von Druckfarbe in den beschädigten Bereichen während des Druckprozesses.
Nach Anodisierung wird die Oberfläche der Aluminiumplatte, falls gewünscht, hydrophilisiert. Die Hydrophilisierungsbehandlungen die in der Erfindung eingesetzt werden können schließen z.B. Alkalisilicatbehandlung (z.B. Behandlung mit einer wäßrigen Lösung von Natriumsilicat) wie offenbart in US-A-2 714 066, 3 181 461, 3 280 734 und 3 902 734, ein. In diesem Verfahren wird das Substrat in eine wäßrige Lösung aus Natriumsilicat eingetaucht oder elektrolysiert. Beispiele anderer Hydrophilisierungsverfahren die hier verwendet werden können schließen Behandlung mit einer Kaliumfluorozirconatlösung, wie offenbart in J.P. KOKOKU Sho 35-22063; und Behandlung mit einer Lösung von Polyvinylphosphonsäure, wie offenbart in US-A-3 276 868, 4 153 461 und 4689272, ein.

(VIII) Unterliegende Beschichtungsschicht und Mattenschicht

Die positiv arbeitende PS-Platte die in der vorliegenden Erfindung verwendet wird umfaßt ein Substrat mit einer darauf vorgesehenen Schicht einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung, aber die PS-Platte kann zusätzlich eine unterliegende Schicht, positioniert zwischen dem Substrat und der lichtempfindlichen Schicht umfassen, ebenso wie eine Mattenschicht auf der lichtempfindlichen Schicht. Solch eine unterliegende Schicht kann aus verschiedenen organischen Verbindungen geformt werden, z.B. aus Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummiarabikum, Phosphonsäure mit Aminogruppen wie z.B. 2-Aminoethylphosphonsäure, organische Phosphonsäuren mit Substituenten wie z.B. Phenylphosphonsäure, Naphthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerophosphonsäure, Methylendiphosphonsäure und Ethylendiphosphonsäure organische Phosphorsäuren die substituiert sein können wie z.B. Phenylphosphorsäure, Naphthylphosphorsäure, Alkylphosphorsäure und Glycerophosphorsaure, organische Phosphinsäuren die substituiert sein können wie z.B. Phenylphosphinsäure, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure und Glycerophosphinsäure, Aminosäuren wie z.B. Glycin und β-Alanin, und Hydrochloride von Aminen die Hydroxylgruppen aufweisen wie z.B. Triethanolaminhydrochlorid. Diese organischen Verbindungen können alleine oder in Kombination verwendet werden, um die unterliegende Schicht zu formen.
Diese organische unterliegende Schicht kann auf das Substrat mit verschiedenen Methoden aufgetragen werden, z.B. durch ein Verfahren das das Lösen der vorgenannten organischen Verbindung in einem Lösungsmittel, z.B. Wasser, einem organischen Lösungsmittel, wie z.B. Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder Mischungen daraus, umfaßt, anschließendes Auftragen der resultierenden Lösung auf eine Aluminiumplatte und Trocknung; oder ein Verfahren umfassend Lösen der vorgenannten organischen Verbindung in einem Lösungsmittel, z.B. Wasser, ein organisches Lösungsmittel wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon oder Mischungen daraus, Eintauchen einer Aluminiumplatte in die resultierende Lösung um die Verbindung auf der Platte zu adsorbieren, Waschen der Platte mit.z.B. Wasser und Trocknung. Im erstgenannten Verfahren kann eine Lösung aus der vorgenannten organischen Verbindung mit einer Konzentration im Bereich von 0,05 bis 10 Gew.-% durch eine Vielzahl von Überzugsverfahren aufgetragen werden, während in der zweiten Methode die Konzentration der Tauchlösung im Bereich von 0,01 bis 20 Gew.-%, bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 5 Gew.-% liegt, die Eintauchtemperatur im Bereich von 20 bis 90ºC, bevorzugt von 25 bis 50ºC liegt und die Eintauchzeit im Bereich von 0,1 Sekunden bis 20 Minuten, bevorzugt von 2 Sekunden bis 1 Minute liegt. Der pH-Wert der Eintauchlösung kann auf 1 bis 12 eingestellt werden, durch Zugabe einer basischen Substanz wie z.B. Ammoniak, Triethylamm oder Kaliumhydroxid öder einer sauren Substanz wie Salzsäure oder Phosphorsäure. Zusätzlich kann ein gelber Farbstoff zur Eintauchlösung gegeben werden um die Farbtonreproduktion der resultierenden PS-Platte zu verbessern.
Die Menge der organischen unterliegenden Schicht die aufgetragen wird ist geeigneterweise im Bereich von 2 bis 200 mg/m² und bevorzugt im Bereich von 5 bis 100 mg/m². ist die aufgetragene Menge der Verbindung weniger als 2 mglm² so zeigt die resultierende lithographische Druckplatte niemals ausreichende Druckbeständigkeit Zusätzlich, wenn die Menge 200 mg/m² übersteigt entsteht dasselbe Problem.
Eine Mattenschicht wird auf die Oberfläche der positiv arbeitenden lichtempfindlichen Schicht, verwendet in der Erfindung, aufgetragen um die Evakuierungszeit während der Kontaktbelichtung in einem Vakuumdruckrahmen zu verringern und um die Formung eines verschwommenen Bildes während des Druckens zu verhindern. Spezifische Mattenschicht-Formungsverfahren schließen ein z.B. die offenbart in J.P. KOKAI Sho 50- 125805 und J.P. KOKOKU Sho 57-6582 und Sho 61-28986 sowie ein Verfahren umfassend Verschmelzen eines festen Pulvers auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht, wie offenbart in J.P. KOKOKU Sho 62-62337.
Der mittlere Durchmesser der Projektionen geformt auf der Mattenschicht ist bevorzugt nicht mehr als 100 µm, stärker bevorzugt 2 bis 8 µm. Übersteigt der mittlere Durchmesser die obere Grenze so wird die Formung von Feinlinienbildern schwierig, die Punktdichte in Spitzlichtbereichen verringert und die Farbtonreproduktion auch beeinträchtigt. Andererseits ist wenn der mittlere Durchmesser weniger als 2 µm beträgt die resultierende PS-Platte nicht ausreichend im Hinblick auf die Adhäsion unter Vakuumbedingungen und erleidet deshalb Formung eines verschwommenen Bildes während des Druckvorgangs. Die Menge der aufgetragenen Mattenschicht ist bevorzugt im Bereich von 5 bis 200 mg/m² und stärker bevorzugt von 20 bis 150 mg/m². Übersteigt die Menge der aufgetragenen Mattenschicht die obere Grenze so werden Kratzmarken leicht auf der resultierenden PS-Platte gebildet, während die Druckplatte bei Unterschreitung der unteren Grenze nicht ausreichend im Hinblick auf Adhäsion unter Vakuumbedingungen während des Druckvorgangs ist.

(IX) Entwickler

Die so hergestellt positiv arbeitende PS-Platte wird. im allgemeinen bildweise belichtet und anschließend entwickelt um eine lithographische Druckplatte zu ergeben.
Im Belichtungsschritt kann eine Quecksilberlampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlampe, eine chemische Lampe oder eine Kohlefadenlampe verwendet werden als Quelle für actinische Strahlungen. Andere Strahlungen können ebenfalls für die bildweise Belichtung der PS-Platte verwendet werden z.B. Elektronenstrahlen, Röntgenstrahlen, Ionenstrahlen und fernes Infrarotlicht. Es ist ebenso möglich g-Strahlen, i-Strahlen, tiefes UV-Licht und hochenergetische Strahlen (Laserstrahlen) zu verwenden. Beispiele von Laserstrahlen sind He- Ne-Laser, Ar-Laser, Kr-Laser, He- Cd-Laser und KrF- Excimer-Laserstrahlen.
Entwickler und Nachfüller für die positiv arbeitende PS-Platte verwendet in der vorliegenden Erflndung können die konventionell bekannten alkalischen wäßrigen Lösungen sein. Beispiele solcher Lösungen die als Entwickler oder Nachfüller verwendet werden schließen anorganische Alkalisalze wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natrium-tert.phosphat, Kai um-tert. phosphat, Ammonium-tert. phosphat, Natrium-sec. phosphat, Kalium- sec.phosphat, Ammonium-sec.phosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat, Ammoniumbicarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithium hydroxid ein. Weitere Beispiele die als Entwickler oder Nachfüller verwendet werden können schließen weiterhin organische alkalische Mittel wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Dilsopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin ein.
In den hier verwendeten Entwicklern und Nachfüllern können diese Mittel alleine oder in Kombination verwendet werden.
Unter diesen Entwicklem umfassend die vorgenannten Mittel sind insbesondere wäßrige Lösungen der Silicate wie Natrlumsilicat und Kaliumsilicat bevorzugt. Der Grund dafür liegt darin, daß die Entwicklungsfähigkeit dieser Lösungen durch die genaue Einstellung des Verhältnis von Siliciumdioxid, SiO&sub2;, zum Alkalimetalloxid, M&sub2;O, kontrolliert werden kann, diese beiden Komponenten des Silicats und ihre Konzentrationen die effektiv in der Erfindung verwendet werden sind z.B. Alkalimetallsiheate wie offenbart in J.P. KOKAI Sho 54-62004 und J.P. KOKOKU Sho 57-7427.
Weiterhin ist bekannt, daß, wenn die Entwicklung mit automatischen Entwicklungsmaschinen durchgeführt wird eine große Anzahl von PS-Platten über eine lange Zeit behandelt werden kann ohne daß der Entwickler in einem Entwicklungstank ausgetauscht werden muß durch Zugabe einer wäßrigen Lösung (eines Nachfüllers) mit einer Alkalikonzentration die höher ist als die des Entwicklers. Dieses Nachfüllsystem kann aber ebenso bevorzugt in der vorliegenden Erfindung verwendet werden.
Eine ganze Reihe von oberflächenaktiven Mitteln und/oder organischen Lösungsmitteln können, falls nötig, zum Entwickler und Nachfüller, verwendet in der vorliegenden Erfindung, zugegeben werden um Entwicklung zu beschleunigen oder zu verlangsamen, zur Verbesserung der Dispersionsfähigkeit von unlöslichen Verbindungen geformt während der Entwicklung und zur Verbesserung der Tintensaugfähigkeit von Bildern der resultierenden lithographischen Druckplatte. Bevorzugte oberflächenaktive Mittel sind, z.B. anionische, kationische, nichtionische und amphotere oberflächenaktive Mittel.
Der Entwickler und Nachfüller, hier verwendet, kann, falls gewünscht, weitere Additive umfassen, z.B. reduzierende Mittel wie Hydrochinon, Resorcin, Natriumsalze und Kaliumsalze anorganischer Säuren wie Schwefelsäure und Hydrogenschwefelsäure, organische Carboxylsäuren, Antischaummittel und/oder Wasserweichmacher.
Die PS-Platte entwickelt mit den vorgenannten Entwicklern und Nachfüllern wird anschließend weiteren Behandlungen unterworfen, z.B. mit Waschwasser, einer Spüllösung, enthaltend z.B. ein oberflächenaktives Mittel und/oder eine Desensibilisierungslösung enthaltend Gummiarabikum oder ein Stärkederivat. Jede Kombination dieser Behandlungen kann für die Behandlung der PS-Platte in dieser Erfindung verwendet werden.
Seit kurzem werden automatische Entwicklungsmäschinen für PS-Platten verwendet, die die Operationen beim Herstellen der Platten im Bereich der Plattenherstellendenund Druckindustrie rationalisieren und standardisieren. Die automatische Entwicklungsmaschine dieses Typs umfaßt im allgemeinen eine Entwicklungszone und eine Nachbehandlungszone, genauer gesagt sie umfaßt eine Vorrichtung zur Beförderung der PS- Platten, Bäder gefüllt mit verschiedenen Behandlungslösungen und Sprühvorrichtungen, wobei eine bildweise belichtete PS-Platte entwickelt wird, durch Sprühen jeder Behandlungslösung, durch eine Pumpe, auf die Platte durch eine Sprühdüse während die PS-Platte horizontal befördert wird. Alternativ ist ein Verfahren bekannt, in dem eine bildweise belichtete PS-Platte entwickelt wird durch Befördern der Platte, während die Platte in ein Bad gefüllt mit Behandlungslösungen eingetaucht wird, durch die Aktion der eingetauchten Lenkrollen. In solch automatischen Verfahren kann die PS-Platte behandelt werden während ergänzende Nachfüller zu den korrespondierenden Behandlungsbädern gegeben werden, im Verhältnis zur Menge der behandelnden PS-Platten und der Operationszeit.
Die PS-Platte verwendet in der vorliegenden Erfindung kann ebenso durch ein sogenanntes wegwerfbares Behandlungsverfahren behandelt werden, indem die Platte behandelt wird in einer im wesentlichen frischen Behandungslösung.
Liegen unnötige Bildbereiche (z.B. Kantenmarkierungen eines Originalfilms geformt während der bildweisen Belichtung) auf der lithographischen Druckplatte, hergestellt durch bildweises Belichten der PS-Platte verwendet in der vorliegenden Erfindung, Entwickeln der belichteten Platte, Wasserwaschen unwoder Spülen und Gummierung, vor, so werden diese unnötigen Bildbereiche gelöscht. Die Löschung dieses Typs wird bevorzugt durch Auftragung einer Löschungslösung auf die unnötigen Bildbereiche durchgeführt, wie z.B. offenbart in J.P. KOKOKU Hei 2-13293, Ruhenlassen über eine vorbestimmte Zeitspanne und Waschen mit Wasser. Alternativ ist es ebenso möglich ein Verfahren zu benutzen, umfassend Bestrahlen der unnötigen Bildbereiche mit actinischer Strahlung die durch eine optische Faser geleitet wird und Entwickeln, wie offenbart in J.P. KOKAI Sho 59-174842.

(X) Brennbehandlung

Die lithographische Druckplatte so hergestellt wird, falls gewünscht, mit einem desensibilisierenden Gummi überzogen und dann in Druckoperationen verwendet, sollte es nötig sein eine Druckplatte mit höherer Druckbeständigkeit herzustellen so kann die resultierende Druckplatte einer Brennbehandlung unterworfen werden.
Wird eine lithographische Druckplatte gebrannt, so wird sie bevorzugt mit einer oberflächeneinstellenden Lösung behandelt, wie solche offenbart in J.P. KOKOKU 61-2518 und Sho 55-28062 und J.P. KOKAI Sho 62-31859 und Sho 61-159655, vor der Brennbehandlung.
Diese Oberflächeneinstellungsbehandlung kann durch Auftragung einer Oberflächeneinstellungslösung auf die lithographische Druckplatte vorgenommen werden, wobei die Lösung mit einem Schwamm oder einem absorbierenden Material enthaltend die Lösung aufgetragen wird, Eintauchen der Platte in einen Bottich gefüllt mit der oberflächeneinstellenden Lösung, oder Auftragung der oberflächeneinstellenden Lösung unter Nutzung eines automatischen Überzugsvorrichtung. Nach der Auftragung der oberflächeneinstellenden Lösung wird die Platte bevorzugt mit Druckwalzen behandelt, um die aufgetragene Menge der Lösung gleichmäßig zu machen, dieses Verfahren sichert ein optimales Ergebnis.
Im allgemeinen ist die Menge der oberflächeneinstellenden Lösung die aufgetragen wird im Bereich von 0,03 bis 0,8 g/m² (gewogen nach Trocknung).
Nach einer optionalen Trocknung der lithographischen Druckplatte auf die die Oberfläche einstellende Lösung aufgetraggn worden ist, wird die Platte auf eine hohe Temperatur erhitzt in einem Brennprozessor (wie z.B.: BP-1300 erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.). Die Heiztemperatur und -zeit der Brennbehandlung variiert in Abhängigkeit von der Art der bildformenden Komponenten, sie sind aber im allgemeinen im Bereich von 180 bis 300ºC und 1 bis 20 Minuten.
Nach der Brennbehandlung wird die lithographische Druckplatte, falls nötig, geeigneten Nachbehandlungen unterworfen die üblicherweise verwendet werden wie z.B. Wasserwaschen und Gummierungsbehandlungen. Wie dem auch sei, ist eine oberflächeneinstellende Lösung, umfassend z.B. ein wasserlösliches Polymer verwendet worden, so kann der sogenannte Desensibilisierungsschritt wie z.B. ein Gummierungsschritt weggelassen werden.
Die so erhaltene lithographische Druckplatte wird in eine Offset-Druckpresse eingepaßt um eine große Anzahl von Kopien zu ergeben.
Die PS-Platte verwendet in der vorliegenden Erfindung erzeugt niemals Tintenverteilung durch die Brennbehandlung, selbst wenn die Brennbehandlung bei hoher Temperatur erfolgt, sie hat einen großen Entwicklungsspielraum, weist eine exzellente Tintenaufnahmefähigkeit auf und kann lithographische Druckplatten mit exzellenter Druckbeständigkeit zur Verfügung stellen.
Die vorliegende Erfindung wird im folgenden im Detail durch die folgenden Arbeitsbeispiele beschrieben, die Effekte der vorliegenden Erfindung werden ebenso im Detail diskutiert, insbesondere im Vergleich mit den Vergleichsbeispielen.

Herstellungsbeispiel 1: Herstellung der Verbindung (X)

In einen 1 l eiförmigen Kolben werden 42,4 g (0,10 Mol) 1-[α-Methyl-α-(4-hydroxyphenyl)ethyl]-4-[α,α-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]benzol, 19,6 g (0,35 Mol) Kaliumhydroxid und 250 ml Wasser und anschließend 120 ml (1,5 Mol) einer wäßrigen Formalinlösung (37 %) gegeben. Anschließend wurde bei 50ºC für 8 Stunden gerührt. Nach Beendigung der Reaktion wurde das Reaktionssystem in 1250 ml eines Eis-Wasser- Gemisches gegeben, enthaltend 33,3 ml (0,4 Mol) konzentrierter Salzsäure, um ein weißes Pulver auszufällen. Nachdem das weiße Pulver abfiltriert und mit Wasser gewaschen worden war wurde das weiße Pulver aus einer 1:1 Methanollmethylethylketon- Mischung rekristallisiert, so wurden 54,8 g eines Hexamethylolderivats von 1-[α-Methyl- α-(4-hydroxyphenyl)ethyl]-4-[α,α-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]benzol erhalten (eine Verbindung der Formel (X) in der alle Substituenten Y¹ bis Ye Methylolgruppen sind).
Die resultierende Verbindung wies eine Reinheit von 99,2 % auf, bestimmt durch Flüssigchromatographie, die Bestätigung, daß es sich bei dieser Verbindung um ein Hexamethylolderivat handelte erfolgte durch NMR-Analyse.

Herstellungsbeispiel 2: Herstellung einer Verbindung (XI)

In einen 1 l eiförmigen Kolben wurden 48,1 g (0,10 Mol) α,α',α"-Tris(4-hydroxyphenyl)- 1,3,5-triisopropylbenzol, 16,0 g (0,40 Mol) Natriumhydroxid und 300 ml Wasser und anschließend 145 ml (1,8 Mol) einer wäßrigen Formalinlösung (37 %) gegeben. Anschließend wurde bei Raumtemperatur für 12 Stunden gerührt. Nach Beendigung der Reaktion wurde das Reaktionssystem auf 1500 ml eines Eis-Wasser-Gemisches gegeben, enthaltend 40 ml (0,48 Mol) konzentrierter Salzsäure, um ein weißes Pulver auszufällen.
Nachdem das weiße Pulver abfiltriert und mit Wasser gewaschen worden war wurde es aus einer 2:3 Methanol/Methylethylketon-Mischung rekristallisiert, so wurden 60,5 g eines Methylolderivats von α,α',α"-Tris(4-hydroxyphenyl)-1,3,5-triisopropylbenzol erhalten (eine Verbindung der Formel (XI)).
Die resultierende Verbindung wies einen Anteil an Methylolgruppen in den Substituenten Y der Formel (XI) von 95 % auf, bestimmt durch NMR-Analyse.

Beispiele 1 bis 8 und Vergleichsbeispiele 1 bis 7

Nach Entfettung einer Aluminiumplatte (Aluminium 1050) mit einer Dicke von 0,3 mm, durch Waschen mit Trichlorethylen, wurde die Platte mit einer Nylonbürste und einer wäßrigen Suspension von 400 mesh Birnsstein granuliert und anschließend ausreichend mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde geätzt durch Eintauchen in eine 25 %ige wäßrige Natriumhydroxidlösung bei 45ºC für 9 Sekunden. Anschließend wurde mit Wasser gewaschen, gefolgt von Eintauchen der Platte in eine 20 %ige Salpetersäurelösung für 20 Sekunden. Anschließend wurde mit Wasser gewaschen. Zu diesem Zeitpunkt betrug die Menge des Aluminiums das von der Plattenoberfläche durch das Ätzen entfernt worden war etwa 3 g/m². Dann wurde die Platte anodisiert, bei einer Stromdichte von 15 A/dm², in einer 7 %igen Schwefelsäurelösung als Elektrolyt um eine 3 g/m² DC-anodisierte Schicht zu bilden, gefolgt durch Wasserwaschung und Trocknung. Anschließend wurde eine unterliegende Überzugslösung der folgenden Zusammensetzung auf die Aluminiumplatte aufgetragen und bei 80ºC für 30 Sekunden getrocknet. Die aufgetragene Menge der unterliegenden Überzugslösung (gewogen nach Trocknung) wurde zu 10 mg/m² bestimmt.

(unterliegende Überzugslösung)

p-Alanin 0,1 g
Phenylphosphonsäure 0,05 g
Methanol 40 g
Wasser 60 g
Eine lichtempfindliche Lösung der folgenden Zusammensetzung wurde auf die so behandelte Aluminiumplatte aufgebracht und dann bei 100ºC für 2 Minuten getrocknet um so eine Serie an positiv arbeitenden PS-Platten zu ergeben. Die aufgetragene Menge der lichtempfindlichen Lösung für jede PS-Platte wurde zu 2,0 g/m² (gewogen nach Trocknung) bestimmt. Lichtempfindliche Lösung
*1: Ein Ester aus Naphthochinon-1,2-diazid-4-sulfonsäurechlorid mit einem Pyrogallol/Acetonharz wurde in Beispiel 3 verwendet.
*2: in Beispiel 1 wurden 0,15 g Megafac F-177 verwendet.
*3: in Beispiel 1 wurden 25 g Methylethylketon verwendet.
*4: in Beispiel 1 wurde kein 2-Methoxy-1-propanol verwendet. Tabelle 1
*: Vergleichsbeispiel
Die Verbindungen (XXII), (XXIII) und (XXIV) die in der Vergleichsbeispielen verwendet wurden, werden durch die folgenden allgemeinen Formeln (XXII), (XXIII) und (XXIV), die jeweils 1 bis 3 Benzolkerne enthalten, dargestellt. Verbindungen (XXII) und (XXIII) sind die Verbindungen wie sie in den Beispielen des Patents J.P. KOKOKU Hei 1-49932 offenbart sind.
Die positiv arbeitenden PS-Platten wurden jeweils mit Licht von einer 30 A-Kohlefaserlampe aus einer Distanz von 70 cm belichtet und anschließend mit DP4 (Handelsname eines Entwicklers erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) entwickelt, verdünnt achtmal, bei 25ºC für 40 Sekunden unter Nutzung einer automatischen Entwicklungsmaschine (800 U, erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.). Die optimale Belichtungszeit wurde für den Fall definiert bei der die 5. Stufe einer Grauskala (erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) mit einer Dichtedifferenz von 0,15 vollkommen klar wurde, die benötigte Zeit zur Erreichung der optimalen Belichtung wurde definiert als die Empfindlichkeit jeder korrespondierenden PS-Platte. Zusätzlich wurde die Zeit bestimmt (im weiteren als "Entwicklungsspielraum" bezeichnet) die benötigt wurde zwei weitere Stufen der Grauskala zu entwickeln, über die Anzahl der Stufen hinaus die beobachtet wurden wenn bei 25ºC für 40 Sekunden in einem Bottich mit 8fach-verdünntem DP-4 entwickelt wurde.
In einem Vakuumdruckrahmen wurden diese PS-Platten jeweils bildweise mit Licht einer Halogenlampe auf einer transparenten Basis durch einen positiven Originafilm, über einen Zeitraum von 60 Sekunden belichtet und anschließend in einer automatischen Entwicklungsmaschine entwickelt, in der ein Entwickler DP-4 (8fach verdünnt) und eine Spüllösung FR-3 (7fach verdünnt) (beide erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) jeweils in die korrespondierenden Tanks eingefüllt wurden. Die Plattenoberfläche wurde dann mit einer Gummierungsösung GU-7 (1:1, erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) behandelt, für einen Tag stehengelassen und dann in eine Druckpresse eingefügt, Heidelberg KOR-D, um Kopien zu ergeben. Die Anzahl der Kopien (Tintensaugfähigkeit) die nötig war um eine Kopie akzeptabler Qualität zu erhalten wurde bestimmt und ist in Tabelle 2 aufgeführt.
Anschließend wurde jeder dieser PS-Platten in einen Vakuumdruckrahmen eingefügt, bildweise belichtet mit Licht von einer Halogenlampe, auf einer transparenten Basis durch einen positiven Originalfilm über einen Zeitraum von 60 Sekunden, und anschließend entwickelt in einer automatischen Entwicklungsmaschine, in der ein Entwickler DP-4 (8fach verdünnt) und eine Spüllösung FR-3 (7fach verdünnt) (beide erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) in die jeweiligen korrespondierenden Tanks eingefüllt wurden. Weiterhin wurde die Plattenoberfläche mit einer oberflächeneinstellenden Lösung BC-3 (erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) behandelt und anschließend in einer Brennvorrichtung, BP-1300, für 7 Minuten behandelt. Dann wurde die Plattenoberfläche mit einer Gummierungsösung GU-7 (2fach mit Wasser verdünnt, erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) behandelt, für einen Tag stehengelassen und in eine Druckpresse eingefügt, Heidelberg KOR-D, um Kopien zu ergeben. Die Brenntemperatur, die Anzahl der erhaltenen Kopien und das Ausmaß an Tintenverteilung (I.S.) in Halbtonpunktbildern sind in der folgenden Tabelle 2 zusammengefaßt. Tabelle 2
*: Vergleichsbeispiel Tabelle 2 (Fortsetzung)
*: Vergleichsbeispiel
Ausmaß an Tintenverteilung (I.S.) im Punktbild
A: wurde überhaupt nicht beobachtet
B: wurde im wesentlichen nicht beobachtet
B: wurde etwas beobachtet
D: wurde beobachtet
E: wurde stark beobachtet
Die Ergebnisse aufgelistet in Tabelle 2 zeigen an, daß die PS-Platten der Beispiele 1 bis 8 verwendet in Übereinstimmung der vorliegenden Erfindung, in denen Phenolderivate in den lichtempfindlichen Schichten verwendet wurden niemals Kontaminierung der Nichtbildbereiche verursachten und verbesserte Druckbeständigkeit aufwiesen, verglichen mit der PS-Platte des Vergleichsbeispiels 1 in der kein Phenolderivat verwendet wurde, unabhängig von der Brenntemperatur. Andererseits zeigten die PS-Platten der Vergleichsbeispiele 2 bis 5 in denen Verbindungen offenbart in J.P. KOKOKU Hei 1- 49932 verwendet wurden, keinen Effekt im Hinblick auf die Eliminierung von Kontaminierung von Nichtbildbereichen und nur eine kleine Druckbeständigkeitsverbesserung wurde für die PS-Platten der Vergleichsbeispiele 3 und 5 beobachtet, in denen die Verbindungen in großen Mengen verwendet wurden.
Darüber hinaus wiesen die PS-Platten der Beispiele 1 bis 8, verwendet in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung, in denen Phenolderivate in den lichtempfindlichen Schichten verwendet wurden verbessere Empfindlichkeit (kurze optimale Belichtungszeit) auf, die der der PS-Platte des Vergleichsbeispiels 1 überlegen waren, während der Entwicklungsspielraum geringfügig verschlechtert war. Wie dem auch sei, es entstehen jeweils keine praktischen Probleme. Andererseits zeigten die Verbindungen offenbart in J.P. KOKOKU Hei 149932 verwendet in den PS-Platten der Vergleichsbeispiele 2 bis 5 eine gering verbesserte Empfindlichkeit aber eine wesentliche Verringerung des Entwicklungsspielraums der resultierenden PS-Platten.
Weiterhin zeigten die PS-Platten der Vergleichsbeispiele 3 und 5, deren Druckbeständigkeit durch die Verwendung der Verbindungen offenbart in J.P. KOKOKU Hei 1-49932 verbessert worden war, starke Verschlechterung der Tintensaugfähigkeit und sie formten eine große Menge an Papierabfall während det Druckoperation.
Das Vorgesagte zeigt deutlich, daß die Phenolderivate verwendet in der PS-Platte verwendet in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung niemals eine wesentliche Verringerung des Entwicklungsspielraums bewirken, der resultierenden PS-Platte hohe Empfindlichkeit verleihen können, die Tintensaugfähigkeit nicht verschlechtertern, wesentlich die Kontaminierung von Nichtbildbereichen während Brennbehandlung bei jeder Temperatur verringern und die Druckbeständigkeit der resultierende PS-Platte verbessern.

Beispiele 9 bis 16 und Vergleichsbeispiele 8 bis 15

Dieselben Prozeduren verwendet in Beispiel 1 wurden wiederholt, mit der Ausnahme, daß in der lichtempfindlichen Lösung verwendet in Beispiel 1 die 2,10 g Kresol/Formaldehydnovolakmenge durch die folgenden Verbindungen, aufgelistet in der folgenden Tabelle 3, ersetzt wurden. Tabelle 3: Zusammensetzung korrespondierend zu 2,10 g Kresol/Formaldehydnovolak (m-: p-Verhältnis = 6:4) verwendet in beispiel 1
Dieselben Verfahren wie oben wurden wiederholt, mit der Ausnahme, daß die korrespondierende Menge an Kresol-Formaldehydnovolak (m-/p-Verhältnis = 6: 4;Gewichtsmittel des Molekulargewichts = 1800; Gehalt an unreagiertem Kresol = 0,5 %); für die Verbindung der Formel (X) verwendet in Beispielen 9 bis 16 ersetzt wurde, um Vergleichs-PS-Platten (Vergleichsbeispiele 8 bis 15) zu ergeben, deren lichtempfindliche Schichten frei an Phenolderivaten sind.
Jede PS-Platte so hergestent wurde einer Brennbehandlung unterworfen und anschließend in eine Druckpresse eingepaßt um Kopien, in derselben Art wie in Beispiel 1, zu ergeben. Die so erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle 4 zusammengefaßt. Tabelle 4
*: Vergleichsbeispiel
Die in Tabelle 4 aufgelisteten Ergebnisse zeigen, daß die PS-Platten der Beispiele 9 bis 16 (vorliegende Erfindung) in denen Phenolderivate in der lichtempfindlichen Schicht verwendet wurden, exzellente Produkte sind. In anderen Worten, diese PS-Platten erlauben die wesentliche Verringerung von Kontaminierung von Nichtbildbereichen während der Brennbehandlung und eine Verbesserung der Druckbeständigkeit unabhängig von der Art der benutzten Bindemittel und der Temperaturen, im Vergleich mit den PS- Platten der Vergleichsbeispiele 8 bis 15 die frei an Phenolderivaten waren.

Claims

1. Verwendung einer positiv arbeitenden vorsensibilisierten Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, besagte positiv arbeitende vorsensibilisierte Platte umfaßt ein Substrat mit einer darauf vorgesehenen lichtempfindlichen Schicht, wobei die lichtempfindliche Schicht aus einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Zusammensetzung geformt wird, besagte Zusammensetzung umfaßt ein Phenoldenvat, ein wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz und ein o- Chinondiazid oder ein Diazoniumsalz oder eine Mischung aus einer Verbindung, die fähig ist, bei Aussetzung zu Licht eine Säure zu formen, mit einer Verbindung, die mindestens eine C-O-C-Gruppe enthält, die durch Einwirkung der Säure zersetzt wird, besagtes Phenolderivat und besagtes wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz sind verschieden voneinander, besagtes Phenolderivat ist mindestens eins ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Verbindungen, die durch die folgenden allgemeinen Formeln (II) bis (IX) dargestellt werden:

wobei R² bis R&sup4;, R&sup9;, R¹&sup7; und R¹&sup8; jeweils Wasserstoff oder ein Halogenatom oder eine Alkyl- oder Alkoxygruppe darstellen; R&sup5; und R¹³ bis R¹&sup6; jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe darstellen; R&sup6; bis R&sup8; jeweils ein Wasserstoffatom oder Habgenatom oder eine Alkylgruppe darstellen; R¹&sup0; bis R¹² jeweils eine Einfachbindung, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylen-, Alkenylen-, Phenylen-, Naphthylen-, Carbonyl-, Ether- oder Thioethergruppe, oder eine Amidobindung, oder eine Gruppe, geformt aus mindestens zweier dieser Gruppen darstellen; Y eine Gruppe der folgenden allgemeinen Formel (I) darstellt:

-CH&sub2;OR¹ (I)

wobei R¹ ein Wasserstoffatom, eine Alkyl- oder Acylgruppe darstellt; a, b, c, d, x und y jeweils eine ganze Zahl im Bereich von 0 bis 3 darstellen, vorausgesetzt daß die Summe aus a + b + c + d + x + y eine ganze Zahl im Bereich von 2 bis 16 ist; k, l, m und n jeweils eine ganze Zahl im Bereich von 0 bis 3 darstellen, vorausgesetzt daß nicht alle von ihnen gleichzeitig 0 sind; e, f, g, h, p, q, r, s, t und u jeweils eine ganze Zahl im Bereich von 0 bis 3 darstellen; und z 0 oder 1 ist.

2. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen Formel (I) die Alkylgruppe, dargestellt durch R¹, eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen ist und die Acylgruppe, dargestellt durch R¹, eine Formyl-, Acetyl-, Butyryl-, Benzoyl-, Cinnamoyl- oder Valerylgruppe ist.

3. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Phenolderivat mindestens ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Verbindungen, dargestellt durch die allgemeinen Formel (II) bis (IX), fn denen sowohl a, b, c, d, x und auch y 0 sind, ist.

4. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Phenolderivat mindestens ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus den Verbindungen, die durch allgemeinen Formeln (X) bis (XVII) dargestellt werden:

wobei Y¹ bis Y¹² jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Gruppe, dargestellt durch Formel (I) darstellt, vorausgesetzt daß mindestens zwei von ihnen, in jeder Verbindung, Gruppen dargestellt durch Formel (I) sind, ist.

5. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Zusammensetzung im wesentlichen frei von Verbindung mit 1 bis 3 Benzolkernen, phenolischen Hydroxylgruppen und einer Gruppe, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), ist.

6. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Phenolderivat in einer Menge von 0,2 bis 60 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, zur lichtempfindlichen Zusammensetzung zugegeben wird.

7. Verwendung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Phenolderivat in einer Menge von 0,5 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, zur lichtempfindlichen Zusammensetzung zugegeben wird.

8. Verwendung nach Anspruch 1, umfassend die Schritte:

Bildweises Belichten der in Anspruch 1 definierten positiv arbeitenden vorsensibilisierten Platte mit Licht, Entwickeln der belichteten vorsensibilisierten Platte und Unterwerfen der entwickelten Platte einer Brennbehandlung.