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DE69522182T2 - Halbleitergehäuse mit mehreren Chips - Google Patents

Halbleitergehäuse mit mehreren Chips

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Publication number
DE69522182T2
DE69522182T2 DE69522182T DE69522182T DE69522182T2 DE 69522182 T2 DE69522182 T2 DE 69522182T2 DE 69522182 T DE69522182 T DE 69522182T DE 69522182 T DE69522182 T DE 69522182T DE 69522182 T2 DE69522182 T2 DE 69522182T2
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DE
Germany
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lead pin
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Application number
DE69522182T
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Inventor
Shin Soyano
Susumu Toba
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Publication of DE69522182D1 publication Critical patent/DE69522182D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69522182T2 publication Critical patent/DE69522182T2/de
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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft Halbleiterbauelemente, die "Leistungsmodule" genannt werden, in denen eine Leiterplatte untergebracht ist, auf der Halbleiterelemente in einem Isolationsgehäuse montiert sind, und insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung eine Struktur zum Installieren eines Zuleitungsstiftblocks, auf dem viele Zuleitungsstifte stehen.
  • Fig. 4 ist eine Draufsicht, die eine Struktur eines herkömmlichen Halbleiterbauelements zeigt, das als "Leistungsmodul" oder als "intelligentes Leistungsmodul" bekannt ist. Fig. 5 ist ein Querschnitt entlang der Linie Q-Q' von Fig. 4. Wie in diesen Figuren gezeigt ist, weist das Halbleiterbauelement ein Isolationsgehäuse in Form eines Rahmens 12 mit entgegengesetzten Stirnöffnungen und einer Innenfläche auf. Eine Radiatorgrundplatte (beispielsweise eine Metallplatte) 20 ist mit einem Klebstoff an eine Stufe 14 der ersten Öffnung geklebt, die an einem ersten Ende des Rahmens 12 ausgebildet ist, um eine erste Stirnöffnung des Gehäuses 10 zu verschließen. Leiterplatten (Keramikplatten) 30, 31 sind mit einem Lötmittel usw. an die Innenfläche der Radiatorgrundplatte 20 gebondet. Zuleitungsrahmen 40 bis 45 sind an ihren inneren Zuleitungsenden A mit den Kontaktflächen der auf der Leiterplatte 30 ausgebildeten Dickschichtverdrahtung verbunden. Ein Zuleitungsstiftblock 70, der einteilig mit vielen darauf stehenden Zuleitungsstiften P1 bis P16 ausgebildet ist, ist am Rahmen 12 des Isolationsgehäuses 10 befestigt. Die Enden B der inneren Zuleitungen der jeweiligen Zuleitungsstifte P1 bis P16 sind mit der auf der Leiterplatte 31 ausgebildeten Dickschichtverdrahtung verbunden. Die Leiterplatte 30, die inneren Zuleitungen der Zuleitungsrahmen 40 bis 45 und die inneren Zuleitungen der Zuleitungsstifte P1 bis P16 sind in ein Gelharzdichtungsmaterial 50 wie z. B. Silikonharz eingetaucht. Eine Isolationsdeckplatte 60 ist mit einem Klebstoff an eine Stufe 18 der zweiten Öffnung, die am zweiten Ende des Rahmens 12 ausgebildet ist, geklebt, um die zweite Stirnöffnung des Gehäuses 10 zu verschließen.
  • Halbleiterelemente (Chips) 32, 34, wie z. B. Leistungstransistoren, IGBTs (Bipolartransistoren mit isoliertem Gate) (Leitfähigkeitsmodulations-Transistoren), Dioden, Thyristoren usw., sind auf den Leiterplatten 30, 31 montiert. Die inneren Zuleitungsenden A der Zuleitungsrahmen 40 bis 45 sind mit Lötmittel oder dergleichen an Kontaktfleckteile der Dickschichtverdrahtung der Leiterplatte 30 gebondet und über Bonddrähte 32a und 34a mit den entsprechenden Halbleiterelementen 32 und 34 verbunden.
  • Die Zuleitungsrahmen 40 bis 45 werden in den Rahmen 12 eingesetzt und am Rahmen 12 an jeweiligen Anschlußscheiben 40a bis 45a mit Anschlußschrauben (nicht dargestellt) befestigt.
  • Fig. 6 ist eine isometrische Darstellung in auseinandergezogener Anordnung, die den Zuleitungsstiftblock und seine Installationsstruktur zeigt. Mit Bezug auf Fig. 6 ist der Zuleitungsstiftblock 70 ein Einsatzformkörper, der separat von dem Isolationsgehäuse 10 geformt ist. Der Zuleitungsstiftblock 70 umfaßt einen Sockel 71, auf dem die Zuleitungsstifte P1 bis P16 stehen, eine Stufe 72, eine Kopplungsklaue (nicht dargestellt), die auf der entgegengesetzten Seite zur Fläche, an der die Stufe 72 ausgebildet ist, ausgebildet ist, und Führungsstifte G1 und G2. Die obere Fläche der Stufe 72 ist in derselben Höhe angeordnet wie die obere Fläche der Stufe 18 der zweiten Stirnöffnung, wenn die Führungsstifte G1 und G2 in jeweilige Schlitze 12a eingesetzt sind, die an der Innenfläche des Rahmens 12 des Isolationsgehäuses 10 ausgebildet sind, um die Isolationsdeckplatte 60 aufzunehmen. Die Kopplungsklaue koppelt mit einer keilförmigen Kopplungsklaue 12b, die an der Innenfläche des Rahmens 12 ausgebildet ist, um der Entfernung des Zuleitungsstiftblocks, wenn er einmal eingesetzt ist, zu widerstehen. Die Führungsstifte G1 und G2 werden in jeweilige Führungslöcher eingesetzt, die an einer Steckerbuchse für die Zuleitungsstifte P1 bis P16 (nicht dargestellt) ausgebildet sind. Ein Paar von Stützstiften 12c, die den eingesetzten Zuleitungsstiftblock 70 in der vorbestimmten Höhe anordnen und tragen, sind an der Innenfläche des Rahmens 12 ausgebildet. Der Zuleitungsstiftblock wird separat von dem Isolationsgehäuse 10 geformt, um das Volumen des Harzformkörpers zu verringern und somit den Einfluß der Schrumpfung usw. des Harzes zu minimieren. Auf diese Weise werden sowohl die Präzision des Abstands zwischen den Zuleitungsstiften als auch die Senkrechtstellung der Zuleitungsstifte P1 bis P16 verbessert und daher wird die Produktionsausbeute des Halbleiterbauelements verbessert.
  • Der Zuleitungsstiftblock 70 wird auf dem Isolationsgehäuse 10 straff genug installiert, so daß er nicht leicht herauskommt, durch Einsetzen des Zuleitungsstiftblocks 70 in die Schlitze 12a und durch Zusammenkoppeln der Kopplungsklaue 12b des Rahmens 12 und der Kopplungsklaue des Zuleitungsstiftblocks 70. Fig. 7 ist ein teilweiser Querschnitt des Isolationsgehäuses mit dem darauf installierten Zuleitungsstiftblock. Wie in Fig. 7 gezeigt, wird das Isolationsgehäuse 10 mit dem Gelharzdichtungsmaterial 50 (wie z. B. Silikonharz) gefüllt und dann durch die Isolationsdeckplatte 60 verschlossen, die mit einem Klebstoff an die Stufe 18 der zweiten Stirnöffnung des Isolationsgehäuses 10 und an die Stufe 72 des Zuleitungsstiftblocks 70 geklebt wird.
  • Die vorstehend beschriebene Struktur zum Installieren des Zuleitungsstiftblocks 70 auf dem Halbleitermodul weist den Nachteil auf, daß das Gelharzdichtungsmaterial (Silikonharz) 50 aufgrund der zum Kleben der Isolationsdeckplatte 60 an das Isolationsgehäuse 10 aufgebrachten Erwärmung oder durch die Wärme, die von den in das Gelharzdichtungsmaterial 50 eingetauchten Leistungselementen des arbeitenden Halbleitermoduls erzeugt wird, aufgeheizt wird und sich ausdehnt. Das sich ausdehnende Gelharzdichtungsmaterial 50 breitet sich durch den Einsetzspalt G zwischen dem Sockel 71 des Zuleitungsstiftblocks 70 und der Innenfläche des Rahmens 12 aus oder hebt die Isolationsdeckplatte 60 ab.
  • Ein weiterer Nachteil besteht darin, daß, da die Zuleitungsstifte P1 bis P16 äußerst feine quadratische Stäbe sind, die weniger als 1 mm breit sind, sich die Zuleitungsstifte durch irgendeinen ungewollten Kontakt usw. während des Verpackens oder des Transports des Halbleitermoduls leicht biegen. Ferner werden die Harzführungsstifte G1 und G2 leicht zerbrochen.
  • EP-A-0 591 631 offenbart ein herkömmliches Halbleiterbauelement.
  • Angesichts des vorangehenden ist es eine Aufgabe der Erfindung, ein Halbleiterbauelement nach, Anspruch 1 mit einer Installationsstruktur zum Installieren eines Zuleitungsstiftblocks bereitzustellen, welche verhindert, daß sich das Gelharzdichtungsmaterial durch den Einsetzspalt zwischen dem Sockel des Zuleitungsstiftblocks und der Innenfläche des Rahmens ausbreitet.
  • Das Halbleiterbauelement der Erfindung kann auch mit einer Schutzstruktur versehen werden, die verhindert, daß die Zuleitungsstifte und Führungsstifte während des Transports und der Handhabung des Halbleiterbauelements sich biegen oder brechen.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung umfaßt ein Halbleiterbauelement ein Isolationsgehäuse 10 in Form eines Rahmens 12 und mit entgegengesetzten Stirnöffnungen und einer Innenfläche; einen separat ausgebildeten Zuleitungsstiftblock 80 mit einem Sockel 81 mit einer Vielzahl von darauf stehenden Zuleitungsstiften P1- P16, wobei der Zuleitungsstiftblock 80 an der Innenfläche des Rahmens installiert ist und die Zuleitungsstifte P1-P16 jeweilige innere Zuleitungen aufweisen; eine Radiatorgrundplatte 20, die eine erste Stirnöffnung des Isolationsgehäuses verschließt; eine Leiterplatte 30, 31, auf der Halbleiterchips 32, 34 montiert sind, die mit den Enden B der inneren Zuleitungen verbunden sind, wobei die Leiterplatte 30, 31 an die Innenfläche der Radiatorgrundplatte 20 gebondet ist; ein Gelharzdichtungsmaterial 50, in das die Leiterplatte 30, 31 und die inneren Zuleitungen eingetaucht sind, wobei das Gelharzdichtungsmaterial 50 den Innenraum des Isolationsgehäuses 10 im wesentlichen ausfüllt; eine Isolationsdeckplatte 60, die die zweite Stirnöffnung des Isolationsgehäuses 10 verschließt; und ein Dichtungsmaterial 85, das einen Einsetzspalt G zwischen dem Zuleitungsstiftblock 80 und dem Rahmen 12 verschließt; gekennzeichnet durch eine Entlüftungsöffnung 83, die aus dem Innenraum des Gehäuses führt und durch den Sockel 31 [81] des Zuleitungsstiftblocks 80 hindurch über der Höhe des Gelharzdichtungsmaterials 50 ausgebildet ist.
  • Vorzugsweise umfaßt der Zuleitungsstiftblock 80 eine erste Kopplungsklaue 81a mit einem Verriegelungsteil 81b, und der Rahmen umfaßt eine zweite Kopplungsklaue 12b, die an dessen Innenfläche ausgebildet ist, wobei die erste und die zweite Kopplungsklaue miteinander gekoppelt sind, und die Entlüftungsöffnung 83 über den Verriegelungsteil der ersten Kopplungsklaue 81a ausgebildet ist.
  • Der Zuleitungsstiftblock-Sockel kann Führungsstifte auf beiden Seiten der Zuleitungsstifte aufweisen und ein Mantelblock mit einer Vielzahl von Zuleitungslöchern h1 bis h22 und einer Vielzahl von Führungslöchern H1, H2 kann vorgesehen sein, wobei die Zuleitungsstifte P1-P16 und die Führungsstifte G1, G2 frei in die Zuleitungslöcher h1 bis h22 bzw. die Führungslöcher H1, H2 einsetzbar und aus diesen herausnehmbar sind.
  • Es ist bevorzugt, Anschlagvorsprünge auf dem Sockel des Zuleitungsstiftblocks auszubilden, um die Einsetztiefe des Mantelblocks zu begrenzen.
  • Stufen können auf der Kontaktfläche des Mantelblocks in der Nähe der Führungslöcher ausgebildet sein.
  • Überdies kann der Mantelblock mit einem ersten Führungsloch, das sich an einem ersten Ende desselben befindet, einem zweiten Führungsloch, das sich an einem zweiten Ende desselben befindet, einem dritten Führungsloch, das sich auf halbem Weg in einer Linie der Zuleitungsstifte befindet, und mindestens einem geschwächten Abschnitt, der durch eine Aussparung zum Aufteilen vorgesehen ist, die sich in der Nähe des dritten Führungslochs befindet, versehen sein.
  • Der Einsetzspalt zwischen dem Zuleitungsstiftblock und dem Rahmen wird auf der Innenseite des Gehäuses verschlossen, wenn der Zuleitungsstiftblock auf dem Gehäuse installiert wird. Obwohl das Gelharzdichtungsmaterial durch die von den Halbleiterelementen erzeugte Wärme erhitzt und ausgedehnt werden kann, breitet es sich nie durch den Einsetzspalt aus. Wenn sich das Gelharzdichtungsmaterial durch Wärme ausdehnt, steigt der Luftdruck im Innenraum gewöhnlich an. Die Entlüftungsöffnung verhindert jedoch, daß der Innendruck ansteigt, und die Höhe der freien Oberfläche des Gelharzdichtungsmaterials steigt ohne Probleme an. Somit werden eine übermäßige thermische Belastung und ein Abheben der Isolationsdeckplatte verhindert und die Zuverlässigkeit des Halbleiterbauelements wird verbessert. Die Entlüftungsöffnung ist vorzugsweise über den Stufenteil der ersten Kopplungsklaue ausgebildet, so daß die Entlüftungsöffnung mit dem Äußeren durch den Spalt der zweiten Kopplungsklaue, die auf der Seite des Gehäuses ausgebildet ist, in Verbindung stehen kann. Der Zuleitungsstiftblock, in dem die Entlüftungsöffnung ausgebildet ist, wird durch Einsatzformen ohne Verwendung einer beweglichen Kernform durch Ausbilden der Entlüftungsöffnung über den Stufenteil der ersten Kopplungsklaue des so geformten Zuleitungsstiftblocks hergestellt. Da eine bewegliche Kernform vermieden wird, werden die Herstellungskosten des Halbleiterbauelements verringert.
  • Die Zuleitungsstifte und die Führungsstifte werden durch Einsetzen des Mantelblocks auf die Zuleitungsstifte und die Führungsstifte vollständig von dem Mantelblock bedeckt. Der Mantelblock vermeidet, daß irgend etwas während des Transports mit den Stiften in direkten Kontakt kommt, und verhindert, daß sich die Stifte biegen oder brechen. Die Anschlagvorsprünge sind auf der oberen Fläche des Sockels des Zuleitungsstiftblocks ausgebildet, um das Ausmaß zu begrenzen, in dem der Mantelblock auf die Zuleitungsstifte geschoben werden kann, um einen minimalen Zwischenabstand zwischen den Stiften der Schaltungsanschlußgruppen auf einer Seite eines Zweigs sicherzustellen. Wenn der Mantelblock eingesetzt wird, berührt die Kontaktfläche die Anschlagvorsprünge, was einen Spalt um die Füße der Stifte beläßt. Dieser Spalt erleichtert das Herausziehen des eingesetzten Mantelblocks. Wenn ein Führungsstift zerbrochen wird, wird der zerbrochene Führungsstift durch Kleben mit einem Klebstoff repariert. Der Klebstoff breitet sich jedoch manchmal von dem reparierten Führungsstift weg aus und verfestigt sich an Stellen, die es schwierig machen, den Mantelblock vollständig einzusetzen. Der Entlastungsraum für den sich ausbreitenden Klebstoff, der durch die Bereitstellung der Stufen auf der Kontaktfläche des Mantelblocks benachbart zu den jeweiligen Führungslöchern ausgebildet ist, erleichtert das vollständige Einsetzen des Mantelblocks. Unter Verwendung des Mantelblocks, der das dritte Führungsloch und mindestens eine Aussparung zum Aufteilen aufweist, können Führungsblöcke [Zuleitungsstiftblöcke] mit einer unterschiedlichen Anzahl von Zuleitungsstiften leicht untergebracht werden. Diese Art Mantelblock wird entlang der Aussparung aufgeteilt, wenn der Gegenstück- Zuleitungsblock eine kleinere Anzahl von Führungsstiften aufweist.
  • Die bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nun im einzelnen mit Bezug auf die zugehörigen Zeichnungen erläutert, in welchen gilt:
  • Fig. 1(a) ist ein Querschnitt eines ersten Ausführungsbeispiels eines Halbleiterbauelements gemäß der vorliegenden Erfindung;
  • Fig. 1 (b) ist ein teilweiser Querschnitt, der die Installationsstruktur für den Zuleitungsstiftblock von Fig. 1(a) zeigt;
  • Fig. 2 ist eine isometrische Darstellung in auseinandergezogener Anordnung, die die Installationsstruktur für den Zuleitungsstiftblock der vorliegenden Erfindung zeigt;
  • Fig. 3(a) ist eine Draufsicht auf einen zweiten Mantelblock;
  • Fig. 3(b) ist eine Vorderansicht des Mantelblocks von Fig. 3(a);
  • Fig. 4 ist eine Draufsicht, die eine Struktur eines herkömmlichen Halbleiterbauelements zeigt, das "Leistungsmodul" oder "intelligentes Leistungsmodul" genannt wird;
  • Fig. 5 ist ein Querschnitt entlang Q-Q' von Fig. 4;
  • Fig. 6 ist eine isometrische Darstellung in auseinandergezogener Anordnung, die den Zuleitungsstiftblock und seine Installationsstruktur gemäß dem Stand der Technik zeigt; und
  • Fig. 7 ist ein teilweiser Querschnitt des Isolationsgehäuses, auf dem der Zuleitungsstiftblock installiert ist, gemäß dem Stand der Technik.
  • Mit Bezug auf die Figuren ist Fig. 1(a) ein Querschnitt eines ersten Ausführungsbeispiels eines Halbleiterbauelements gemäß der vorliegenden Erfindung. Fig. 1 (b) ist ein teilweiser Querschnitt, der die Installationsstruktur für den Zuleitungsstiftblock von Fig. 1 (a) zeigt, und Fig. 2 ist eine isometrische Darstellung in auseinandergezogener Anordnung, die die Installationsstruktur für den Zuleitungsstiftblock und den Mantelblock der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • Das Halbleiterbauelement der Erfindung wird "Leistungsmodul" oder "intelligentes Leistungsmodul" genannt und weist eine zweidimensionale Anordnung ähnlich der in Fig. 4 gezeigten auf. Mit Bezug auf die Fig. 1(a) und 1(b) weist das Halbleiterbauelement der Erfindung ein Isolationsgehäuse 10 in Form eines Rahmens 12 mit entgegengesetzten Stirnöffnungen und einer Innenfläche auf. Eine Wärme ableitende Grundplatte 20 (vorzugsweise eine Metallplatte) ist mit einem Klebstoff an eine Fuge oder Stufe 14 der ersten Stirnöffnung, die am ersten Ende des Rahmens 12 ausgebildet ist, geklebt, um die erste Stirnöffnung des Gehäuses 10 zu verschließen. Leiterplatten (Keramikplatten) 30, 31 sind beispielsweise mit Lötmittel usw. an die Innenfläche der Grundplatte 20 gebondet. Zuleitungsrahmen 40 bis 45 sind an ihren inneren Zuleitungsenden A mit der auf der Leiterplatte 30 ausgebildeten Dickschichtverdrahtung verbunden. Die Zuleitungsrahmen 41, 43, 44 und 45 sind in Fig. 1 (a) dargestellt. Ein Zuleitungsstiftblock 80, der ein Einsatzformkörper ist, der mit darauf stehenden Zuleitungsstiften P1 bis P16 integriert ist, ist am Rahmen 12 des Isolationsgehäuses 10 befestigt. Die Enden B der inneren Zuleitungen der jeweiligen Zuleitungsstifte P1 bis P16 sind mit der auf der Leiterplatte 31 ausgebildeten Dickschichtverdrahtung verbunden. Die Leiterplatte 30, die inneren Zuleitungen der Zuleitungsrahmen 40 bis 45 und die inneren Zuleitungen der Zuleitungsstifte P1 bis P16 sind in ein Gelharzdichtungsmaterial (beispielsweise Silikonharz) 50 eingetaucht. Eine Isolationsdeckplatte 60 ist mit einem Klebstoff an eine Stufe 18 der zweiten Stirnöffnung, die am zweiten Ende des Rahmens 12 ausgebildet ist, geklebt, um die zweite Stirnöffnung des Gehäuses 10 zu verschließen. Halbleiterelemente (Chips) 32, 34, wie z. B. Leistungstransistoren, IGBTs (Leitfähigkeitsmodulations-Transistoren), Dioden, Thyristoren usw., sind auf den Leiterplatten 30 und 31 montiert. Die inneren Zuleitungsenden A der Zuleitungsrahmen 40 bis 45 sind beispielsweise durch Löten usw. an die Kontaktfleckteile der Dickschichtverdrahtung der Leiterplatte 30 gebondet und über Bonddrähte 32a und 34a mit den entsprechenden Halbleiterelementen 32 und 34 verbunden. Die Zuleitungsrahmen 40 bis 45 sind in den Rahmen 12 eingesetzt und an jeweiligen Anschlußscheiben 40a bis 45a mit Anschlußschrauben (nicht dargestellt) an diesem befestigt.
  • Mit Bezug auf Fig. 1(b) und Fig. 2 ist der Zuleitungsstiftblock 80 ein Einsatzformkörper, der separat von dem Isolationsgehäuse 10 geformt ist. Der Zuleitungsstiftblock 80 umfaßt einen Sockel 81, auf dem die Zuleitungsstifte P1 bis P16 stehen; eine Stufe 82; eine erste Kopplungsklaue 81a mit einem Verriegelungsteil 81b, die auf der entgegengesetzten Seite des Sockels 81 zu der Fläche, an der die Stufe 82 ausgebildet ist, ausgebildet ist; Führungsstifte G1 und G2; eine Entlüftungsöffnung 83, die durch den Sockel 81 hindurch von einer Aussparung 82a der Stufe 82 zum Verriegelungsteil 81b der Kopplungsklaue 81 ausgebildet ist; und eine Vielzahl von Anschlagvorsprüngen 84, die auf der oberen Fläche des Sockels 81 ausgebildet sind. Die obere Fläche der Stufe 82 ist in derselben Höhe angeordnet wie die obere Fläche der Stufe 18 der zweiten Öffnung, wenn die Führungsstifte G1 und G2 in jeweilige Schlitze 12a eingesetzt sind, die an der Innenfläche des Rahmens 12 des Isolationsgehäuses 10 ausgebildet sind, um die Isolationsdeckplatte 60 aufzunehmen. Die Kopplungsklaue 81a koppelt mit einer keilförmigen Kopplungsklaue 12b, die an der Innenfläche des Rahmens 12 ausgebildet ist (siehe Fig. 1(b)). Die Führungsstifte G1 und G2 sind in jeweilige Führungslöcher eingesetzt, die an einer Steckerbuchse für die Zuleitungsstifte P1 bis P16 (nicht dargestellt) ausgebildet sind.
  • Der Zuleitungsstiftblock 80 wird auf dem Isolationsgehäuse 10 straff genug installiert, so daß er nicht leicht herauskommt, durch Einsetzen des Zuleitungsstiftblocks 80 in die Schlitze 12a und durch Koppeln der Kopplungsklaue 12b des Rahmens 12 und der Kopplungsklaue 81a des Zuleitungsstiftblocks 80 miteinander. Bei diesem Ausführungsbeispiel wird der Einsetzspalt G zwischen dem Zuleitungsstiftblock 80 und dem Rahmen 12 mit einem Dichtungsmaterial oder einem Klebstoff usw. 85 auf der Seite des Innenraums des Gehäuses 10, der durch die Entlüftungsöffnung 83 mit dem Äußeren in Verbindung steht, verschlossen.
  • Somit wird der Einsetzspalt G zwischen dem Zuleitungsstiflblock 80 und dem Rahmen 12 auf der Seite des Innenraums des Gehäuses 10 verschlossen, indem der Zuleitungsstiftblock 80 in die Schlitze 12a eingesetzt wird und auf dem Gehäuse 10 installiert wird. Obwohl das Gelharzdichtungsmaterial 50 durch die von den Halbleiterchips 32 und 34 erzeugte Wärme erhitzt und ausgedehnt werden kann, breitet es sich nie durch den Spalt G aus. Wenn sich das Gelharzdichtungsmaterial 50 durch Wärme ausdehnt, steigt der Luftdruck im Inneren gewöhnlich an. Die Entlüftungsöffnung 83 verhindert jedoch, daß der Innendruck ansteigt, und die Höhe der freien Oberfläche des Gelharzdichtungsmaterials 50 steigt ohne Probleme an, wenn sich das Gel ausdehnt. Somit werden eine übermäßige thermische Belastung und ein Abheben der Isolationsdeckplatte 60 verhindert und die Zuverlässigkeit des Halbleiterbauelements wird verbessert. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist die Entlüftungsöffnung 83 über den Verriegelungsteil 81b der Kopplungsklaue 81a ausgebildet, so daß die Entlüflungsöffnung mit dem Äußeren durch den Spalt der Kopplungsklaue 12b, die auf der Seite des Gehäuses 10 ausgebildet ist, in Verbindung stehen kann. Der Zuleitungsstiftblock 80, in dem die Entlüftungsöffnung 83 ausgebildet ist, wird durch Spritzgießen in einer einfachen Form ohne bewegliche Kerne durch Ausbilden der Entlüftungsöffnung 83 über den Stufenteil der Kopplungsklaue 81a des so geformten Zuleitungsstiftblocks hergestellt. Da die Formkonstruktion vereinfacht ist, werden die Herstellungskosten des Halbleiterbauelements verringert.
  • Wie in Fig. 2 gezeigt, weist ein Mantelblock 90, der aus Harz besteht, Zuleitungslöcher h1 bis h22 entsprechend den Zuleitungsstiften P1 bis P16 und Führungslöcher H1 und H2 entsprechend den Führungsstiften G1 und G2 auf. Die Zuleitungsstifte P1 bis P16 sind frei in die Zuleitungslöcher h1 bis h22 einsetzbar und aus diesen entfernbar. Die Führungsstifte G1 und G2 sind frei in die Führungslöcher H&sub1; und H2 einsetzbar und aus diesen entfernbar. Und Doppelstufen 92, 92 mit jeweils zwei Stufen daran sind auf einer Kontaktfläche 90a des Mantelblocks 90 auf den Seiten der jeweiligen Führungslöcher H1 und H2 ausgebildet.
  • Die Zuleitungsstifte und die Führungsstifte werden durch Einsetzen eines Mantelblocks 90 auf die Zuleitungsstifte P1 bis P16 und die Führungsstifte G1 und G2 vollständig von einem Mantelblock bedeckt. Der Mantelblock 90 verhindert, daß irgend etwas während des Transports mit den Stiften in direkten Kontakt kommt, und verhindert, daß sich die Stifte biegen oder brechen. Anschlagvorsprünge 84 sind auf der oberen Fläche des Sockels 81 des Zuleitungsstiftblocks 80 ausgebildet, um den Abstand zwischen den Schaltungsanschlußgruppen auf einer Seite eines Zweigs festzulegen. Wenn der Mantelblock 90 eingesetzt wird, berührt eine Kontaktfläche 90a die Anschlagvorsprünge 84, was einen Spalt um die Füße der Stifte beläßt. Der Spalt zwischen dem Mantelblock und dem Sockel 81 erleichtert die Entfernung des eingesetzten Mantelblocks 90.
  • Wenn entweder der Führungsstift G1 oder G2 zerbrochen wird, wird der zerbrochene Führungsstift repariert, indem seine Teile mit einem Klebstoff wieder zusammengeklebt werden. Der Klebstoff breitet sich jedoch manchmal von dem reparierten Führungsstift weg aus und klebt an den benachbarten Bereichen des Sockels 81, was es schwierig macht, den Mantelblock vollständig einzusetzen. Um dieses Problem zu vermeiden, sind Doppelstufen 92 auf der Kontaktfläche 90a des Mantelblocks 90 auf den Seiten der jeweiligen Führungslöcher H1 und H2 ausgebildet, um einen Entlastungsraum vorzusehen, um irgendwelchen überschüssigen Klebstoff aufzunehmen. Somit kann der Mantelblock 90 leicht auf einen reparierten Führungsstift aufgesetzt werden.
  • Fig. 3(a) ist eine Draufsicht auf einen weiteren Mantelblock und Fig. 3(b) ist eine Vorderansicht des Mantelblocks von Fig. 3(a). Dieser Mantelblock 100 weist ein erstes Führungsloch H1, das an einem Ende des Mantelblocks 100 ausgebildet ist, ein zweites Führungsloch H2, das an einem anderen Ende des Mantelblocks 100 ausgebildet ist, und ein drittes Führungsloch H3, das an einer Stelle auf halbem Weg in der Linie der Führungslöcher P1 bis P36 [Zuleitungslöcher h1 bis h36] ausgebildet ist, auf. Die Führungslöcher P1 bis P25 [Zuleitungslöcher h1 bis h25] sind zwischen dem ersten Führungsloch H1 und dem dritten Führungsloch H3 ausgerichtet. Aussparungen 109a zum Aufteilen sind auf der Vorder- und Rückfläche des Mantelblocks 100 zwischen dem dritten Führungsloch H3 und dem Führungsstift 26 ausgebildet. Doppelstufen (wie die Stufen 92) sind auf einer Kontaktfläche 100b des Mantelblocks 100 nahe den Führungslöchern H1 und H2 und H3 ausgebildet.
  • Dieser Mantelblock 100 kommt mit Zuleitungsstiftblöcken mit einer unterschiedlichen Anzahl von Zuleitungsstiften darauf zurecht. Zum Schützen eines Zuleitungsstiftblocks mit 36 Zuleitungsstiften darauf wird der Mantelblock 100 in dem Zustand wie in den Fig. 3(a) und 3(b) gezeigt verwendet. Zum Schützen eines Zuleitungsstiftblocks mit 25 Zuleitungsstiften darauf, wird der Mantelblock 100 durch Brechen des geschwächten Abschnitts zwischen den Aussparungen 104a, 100a aufgeteilt, und der Teil, der die Führungslöcher H1 und H3 aufweist, wird verwendet. Somit erleichtert der Mantelblock 100 das Verringern der Kosten der Form.
  • Wie vorstehend erläutert wurde, umfaßt das Halbleiterbauelement der Erfindung einen Zuleitungsstiftblock mit einer darin ausgebildeten Entlüftungsöffnung, und kann auch einen Mantelblock umfassen, der die auf dem Zuleitungsstiftblock stehenden Stifte bedeckt und schützt. Folglich weist das Halbleiterbauelement der Erfindung die folgenden Wirkungen auf:
  • Da der Einsetzspalt zwischen dem Zuleitungsstiftblock und dem Rahmen mit einem Dichtungsmaterial auf der Innenseite des Gehäuses verschlossen wird, breitet sich das Gelharzdichtungsmaterial, das durch die in den Halbleiterchips erzeugte Wärme erhitzt und ausgedehnt wird, nie durch den Einsetzspalt aus. Da die Entlüftungsöffnung verhindert, daß der Innendruck ansteigt, und da die Höhe der freien Oberfläche des Gelharzdichtungsmaterials ohne Probleme steigen kann, wenn sich das Gel ausdehnt, werden eine übermäßige thermische Belastung und ein Abheben der Isolationsdeckplatte 60 verhindert.
  • Durch Ausbilden der Entlüftungsöffnung über den Verriegelungsteil der Kopplungsklaue des Zuleitungsstiflblocks, die mit der Kopplungsklaue des Gehäuses koppelt, wird der Zuleitungsstiftblock leicht mit verringerten Kosten durch Formen des Zuleitungsstiftblocks ohne Verwendung einer beweglichen Kernform hergestellt.
  • Da die Zuleitungsstifte und die Führungsstifte des Zuleitungsstiftblocks von dem Mantelblock vollständig bedeckt werden, wenn der Mantelblock auf die Zuleitungsstifte und die Führungsstifte gesetzt wird, werden die Stifte vor einem Kontakt, einer Verformung und einem Bruch während des Transports geschützt.
  • Das Vorsehen der Anschlagvorsprünge, die auf der oberen Fläche des Sockels des Zuleitungsstiftblocks ausgebildet sind, bedeutet, daß um die Füße der Stifte ein Spalt belassen wird und somit der eingesetzte Mantelblock leicht entfernt werden kann.
  • Da ein Entlastungsraum für den sich ausbreitenden Klebstoff durch Ausbilden der Doppelstufen mit jeweils zwei Stufen daran auf der Kontaktfläche des Mantelblocks benachbart zu den jeweiligen Führungslöchern belassen wird, wird das vollständige Einsetzen des Mantelblocks erleichtert, selbst wenn zerbrochene Führungsstifte durch Klebstoffbinden repariert wurden.
  • Unter Verwendung des Mantelblocks, der das dritte Führungsloch und Aussparungen zum Aufteilen aufweist, ist es möglich, mit Führungsblöcken [Zuleitungsblöcken] mit einer unterschiedlichen Anzahl von Zuleitungsstiften zurechtzukommen. Diese Art Mantelblock wird entlang der Aussparungen aufgeteilt, wenn der Zuleitungsblock, auf den er aufgebracht werden soll, eine geringere Anzahl von Zuleitungsstiften aufweist.

Claims (6)

  1. Halbleiterbauelement mit:
    einem Isolationsgehäuse (10) in Form eines Rahmens (12) und mit entgegengesetzten Stirnöffnungen und einer Innenfläche;
    einem Zuleitungsstiftblock (80) mit einem Sockel (81) mit einer Vielzahl von darauf stehenden Zuleitungsstiften (P1-P16), wobei der Zuleitungsstiftblock (80) an der Innenfläche des Rahmens installiert ist und die Zuleitungsstifte (P1- P16) jeweilige innere Zuleitungen aufweisen;
    einer Radiatorgrundplatte (20), die eine erste Stirnöffnung des Isolationsgehäuses verschließt;
    einer Leiterplatte (30, 31), auf der Halbleiterchips (32, 34) montiert sind, die mit den Enden (B) der inneren Zuleitungen verbunden sind, wobei die Leiterplatte (30, 31) an die Innenfläche der Radiatorgrundplatte (20) gebondet ist;
    einem Gelharzdichtungsmaterial (50), in das die Leiterplatte (30, 31) und die inneren Zuleitungen eingetaucht sind, wobei das Gelharzdichtungsmaterial (50) den Innenraum des Isolationsgehäuses im wesentlichen ausfüllt;
    einer Isolationsdeckplatte (60), die die zweite Stirnöffnung des Isolationsgehäuses (10) verschließt; und
    einem Dichtungsmaterial (85), das einen Einsetzspalt (G) zwischen dem Zuleitungsstiftblock (80) und dem Rahmen (12) verschließt; gekennzeichnet durch
    eine Entlüftungsöffnung (83), die aus dem Innenraum des Gehäuses führt und durch den Sockel (31) [(81)] des Zuleitungsstiftblocks (80) hindurch ausgebildet ist.
  2. 2. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Zuleitungsstiftblock (80) eine erste Kopplungsklaue (81a) mit einem Verriegelungsteil (81b) umfaßt und der Rahmen eine zweite Kopplungsklaue (12b) umfaßt, die an dessen Innenfläche ausgebildet ist, wobei die erste und die zweite Kopplungsklaue miteinander gekoppelt sind, und daß die Entlüftungsöffnung (83) über den Verriegelungsteil der ersten Kopplungsklaue (81a) ausgebildet ist.
  3. 3. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Zuleitungsstiftblock-Sockel (81) Führungsstifte (G1, G2) auf beiden Seiten der Zuleitungsstifte (P1-P16) aufweist und ein Mantelblock (90) mit einer Vielzahl von Zuleitungslöchern (h1 bis h22) und einer Vielzahl von Führungslöchern (H1, H2) vorgesehen ist, wobei die Zuleitungsstifte (P1-P16) und die Führungsstifte (G1, G2) frei in die Zuleitungslöcher (h1 bis h22) bzw. die Führungslöcher (H1, H2) einsetzbar und aus diesen herausnehmbar sind.
  4. 4. Halbleiterbauelement nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß Anschlagvorsprünge (84) auf dem Sockel (81) des Zuleitungsstifiblocks (80) ausgebildet sind, um die Einsetztiefe des Mantelblocks (90) zu begrenzen.
  5. 5. Halbleiterbauelement nach Anspruch 3 oder Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß Stufen (92) auf der Kontaktfläche (90a) des Mantelblocks (90) in der Nähe der Führungslöcher (H1, H2) ausgebildet sind.
  6. 6. Halbleiterbauelement nach Anspruch 3, Anspruch 4 oder Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Mantelblock (90) ein erstes Führungsloch (H1), das sich an einem ersten Ende desselben befindet, ein zweites Führungsloch (H2), das sich an einem zweiten Ende desselben befindet, ein drittes Führungsloch (H3), das sich auf halbem Weg in einer Linie der Zuleitungsstifte (P1-P16) befindet, und mindestens einen geschwächten Abschnitt, der durch eine Aussparung (100a) zum Aufteilen vorgesehen ist, die sich in der Nähe des dritten Führungslochs (H3) befindet, aufweist.
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