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DE60236302D1 - Mehrachsige Verbundlinse, Strahlvorrichtung und Verfahren zur Anwendung dieser kombinierten Linse - Google Patents

Mehrachsige Verbundlinse, Strahlvorrichtung und Verfahren zur Anwendung dieser kombinierten Linse

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DE60236302D1
DE60236302D1 DE60236302T DE60236302T DE60236302D1 DE 60236302 D1 DE60236302 D1 DE 60236302D1 DE 60236302 T DE60236302 T DE 60236302T DE 60236302 T DE60236302 T DE 60236302T DE 60236302 D1 DE60236302 D1 DE 60236302D1
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DE
Germany
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lens
blasting device
axis compound
combined
compound lens
Prior art date
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DE60236302T
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English (en)
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Juergen Frosien
Pavel Adamec
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ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH
Original Assignee
ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft fuer Halbleiterprueftechnik mbH
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60235636D1 (de) * 2002-12-17 2010-04-22 Integrated Circuit Testing it dieser Linse, und Herstellungsverfahren für diese Linse
EP1620895B1 (de) * 2003-05-08 2016-03-02 The Science and Technology Facilities Council Sensor zur detektion von beschleunigten teilchen und hochenergiestrahlung
EP1657736B1 (de) * 2004-11-15 2016-12-14 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Elektronenstrahlvorrichtung für hohe Stromdichten
TWI415162B (zh) * 2005-03-03 2013-11-11 Toshiba Kk 映像投影型電子線裝置及使用該裝置之缺陷檢查系統
WO2006101116A1 (ja) * 2005-03-22 2006-09-28 Ebara Corporation 電子線装置
JP2007019192A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Canon Inc 荷電ビームレンズ、及び荷電ビーム露光装置
US8067732B2 (en) * 2005-07-26 2011-11-29 Ebara Corporation Electron beam apparatus
EP1760762B1 (de) * 2005-09-06 2012-02-01 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Vorrichtung und Verfahren zur Auswahl einer Emissionsfläche einer Emissionsstruktur
JP4878501B2 (ja) * 2006-05-25 2012-02-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線応用装置
JP2008066359A (ja) * 2006-09-05 2008-03-21 Canon Inc 荷電ビームレンズアレイ、露光装置及びデバイス製造方法
US7667208B2 (en) * 2006-10-17 2010-02-23 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Technique for confining secondary electrons in plasma-based ion implantation
US8164057B2 (en) 2006-10-24 2012-04-24 Dov Shachal Interface, a method for observing an object within a non-vacuum environment and a scanning electron microscope
JP5227512B2 (ja) * 2006-12-27 2013-07-03 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子線応用装置
US8642959B2 (en) 2007-10-29 2014-02-04 Micron Technology, Inc. Method and system of performing three-dimensional imaging using an electron microscope
WO2009113169A1 (ja) * 2008-03-13 2009-09-17 株式会社アドバンテスト マルチコラム電子ビーム露光装置
US8981294B2 (en) 2008-07-03 2015-03-17 B-Nano Ltd. Scanning electron microscope, an interface and a method for observing an object within a non-vacuum environment
US8253923B1 (en) 2008-09-23 2012-08-28 Pinebrook Imaging Technology, Ltd. Optical imaging writer system
US9405203B2 (en) 2008-09-23 2016-08-02 Applied Materials, Inc. Pixel blending for multiple charged-particle beam lithography
US8670106B2 (en) 2008-09-23 2014-03-11 Pinebrook Imaging, Inc. Optical imaging writer system
WO2010035265A1 (en) * 2008-09-28 2010-04-01 B-Nano Ltd. A vacuumed device and a scanning electron microscope
DE102008062450B4 (de) * 2008-12-13 2012-05-03 Vistec Electron Beam Gmbh Anordnung zur Beleuchtung eines Substrats mit mehreren individuell geformten Partikelstrahlen zur hochauflösenden Lithographie von Strukturmustern
JP5634052B2 (ja) * 2009-01-09 2014-12-03 キヤノン株式会社 荷電粒子線描画装置およびデバイス製造方法
EP2478548B1 (de) 2009-09-18 2017-03-29 Mapper Lithography IP B.V. Optisches system für geladene teilchen mit mehreren strahlen
US8003953B2 (en) 2009-12-11 2011-08-23 Hermes Microvision, Inc. Multi-axis magnetic lens
US8399852B2 (en) * 2010-11-24 2013-03-19 Alexander Klein Systems and methods for control of multiple charged particle beams
US8445862B2 (en) 2010-12-14 2013-05-21 Hermes Microvision, Inc. Apparatus of plural charged particle beams with multi-axis magnetic lens
US8294095B2 (en) * 2010-12-14 2012-10-23 Hermes Microvision, Inc. Apparatus of plural charged particle beams with multi-axis magnetic lens
TWI593961B (zh) 2010-12-15 2017-08-01 日立全球先端科技股份有限公司 Charged particle line application device, and irradiation method
JP5749028B2 (ja) * 2011-02-11 2015-07-15 株式会社ホロン 走査型電子顕微鏡
WO2012112894A2 (en) * 2011-02-18 2012-08-23 Applied Materials Israel, Ltd. Focusing a charged particle imaging system
NL2006868C2 (en) * 2011-05-30 2012-12-03 Mapper Lithography Ip Bv Charged particle multi-beamlet apparatus.
US8455838B2 (en) * 2011-06-29 2013-06-04 Kla-Tencor Corporation Multiple-column electron beam apparatus and methods
JP5970213B2 (ja) * 2012-03-19 2016-08-17 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
NL2009053C2 (en) 2012-06-22 2013-12-24 Univ Delft Tech Apparatus and method for inspecting a surface of a sample.
JP2014116518A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Canon Inc 描画装置及び物品の製造方法
JP6087154B2 (ja) * 2013-01-18 2017-03-01 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置、試料面へのビーム入射角調整方法、および荷電粒子ビーム描画方法
CN105143866A (zh) 2013-02-20 2015-12-09 B-纳米股份有限公司 扫描电子显微镜
WO2015138130A1 (en) * 2014-03-10 2015-09-17 Applied Materials, Inc. Pixel blending for multiple charged-particle beam lithography
US9431209B2 (en) 2014-08-26 2016-08-30 Hermes-Microvision, Inc. Apparatus of plural charged particle beams with multi-axis magnetic lenses
EP3010031B1 (de) * 2014-10-16 2017-03-22 Fei Company Geladenes Teilchenmikroskop mit spezieller Aperturplatte
US9922799B2 (en) * 2015-07-21 2018-03-20 Hermes Microvision, Inc. Apparatus of plural charged-particle beams
JP6684586B2 (ja) * 2015-12-22 2020-04-22 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム装置
US9984848B2 (en) * 2016-03-10 2018-05-29 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Multi-beam lens device, charged particle beam device, and method of operating a multi-beam lens device
US10157723B2 (en) 2016-08-03 2018-12-18 Nuflare Technology, Inc. Multi charged particle beam writing apparatus and method of adjusting the same
US10453645B2 (en) * 2016-12-01 2019-10-22 Applied Materials Israel Ltd. Method for inspecting a specimen and charged particle multi-beam device
WO2018189817A1 (ja) * 2017-04-11 2018-10-18 株式会社アドバンテスト 露光装置
US10354832B2 (en) * 2017-06-07 2019-07-16 Kla-Tencor Corporation Multi-column scanning electron microscopy system
US10504687B2 (en) * 2018-02-20 2019-12-10 Technische Universiteit Delft Signal separator for a multi-beam charged particle inspection apparatus
NL2020465B1 (en) * 2018-02-20 2019-08-29 Univ Delft Tech Apparatus and method for inspecting a surface of a sample, using a multi-beam charged particle column
US10395887B1 (en) 2018-02-20 2019-08-27 Technische Universiteit Delft Apparatus and method for inspecting a surface of a sample, using a multi-beam charged particle column
JP2021532545A (ja) 2018-08-09 2021-11-25 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 複数の荷電粒子ビームのための装置
EP3618095A1 (de) * 2018-08-28 2020-03-04 ASML Netherlands B.V. Verfahren und systeme zur inspektion mit mehreren elektronenstrahlen
DE102018007652B4 (de) * 2018-09-27 2021-03-25 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahl-System sowie Verfahren zur Stromregulierung von Einzel-Teilchenstrahlen
WO2021140035A1 (en) 2020-01-06 2021-07-15 Asml Netherlands B.V. Charged particle assessment tool, inspection method

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19605855A1 (de) * 1996-02-16 1997-08-21 Act Advanced Circuit Testing Detektorobjektiv für Korpuskularstrahlgeräte
AU1926501A (en) * 1999-11-23 2001-06-04 Ion Diagnostics, Inc. Electron optics for multi-beam electron beam lithography tool
KR20020084288A (ko) * 2000-04-04 2002-11-04 주식회사 아도반테스토 다축전자렌즈를 이용한 멀티빔 노광장치, 반도체소자제조방법
JP4535602B2 (ja) * 2000-11-13 2010-09-01 株式会社アドバンテスト 電子ビーム露光装置及び電子レンズ
US6750455B2 (en) * 2001-07-02 2004-06-15 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for multiple charged particle beams
JP2003203836A (ja) * 2001-12-28 2003-07-18 Canon Inc 露光装置及びその制御方法並びにデバイス製造方法

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US7253417B2 (en) 2007-08-07
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