DE4429925C1 - Verfahren und Detektoreinrichtung zur elektronischen positionsbezogenen Erfassung von Strahlung - Google Patents
Verfahren und Detektoreinrichtung zur elektronischen positionsbezogenen Erfassung von StrahlungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bildsignal
auskopplung bei positionsgebenden Hochvakuum-Detek
toreinrichtungen für Quanten oder Teilchenstrahlung
gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 sowie eine
Detektoreinrichtung, die nach dem Verfahren arbeitet
und die Merkmale gemäß dem Oberbegriff des Patentan
spruchs 2 zur Grundlage hat.
Für den Nachweis einzelner UV- oder anderer elektro
magnetischer Strahlungsquanten, Teilchen oder der
gleichen, werden für unterschiedliche Anwendungen po
sitionsgebende, elektronisch arbeitende Detektorsy
steme benötigt. Um mit solchen Detektorsystemen ein
zelne Strahlungsquanten mit hoher Effizienz nachweisen
zu können, werden Vielkanal-Elektronen-Multiplier
verwendet, die je nach Anwendung in spezielle hocheva
kuierte Glaskörper eingebaut werden müssen. Um eine
zweidimensionale Ortsbestimmung oder Positionierung
des Photonennachweises zu erhalten, müssen bei den
herkömmlichen Systemen (vgl. Fig. 5) komplexe, resi
stive Anodenstrukturen 1 mit beispielsweise vier nach
außen geführten Kontakten im Hochvakuum 7 mit eingebaut
werden, die eine digitale ortsauflösende Bestimmung
des Strahlungsnachweises ermöglichen. Das Montieren
und Aufbringen der komplexen Anodenstruktur 1 im evaku
ierten Glaskörper 6 mit dazu notwendigen Drahtdurchführungen
für hochfrequente Signale bedeutet für die
Detektorherstellung nicht nur große technische Schwie
rigkeiten, sondern schließt auch die Möglichkeit aus,
die Anodenstruktur 1 später einer veränderten Meßauf
gabe individuell optimiert anpassen zu können. Bei den
herkömmlichen Verfahren und Detektoreinrichtungen
bilden die einzelnen Detektorkomponenten eine nicht
mehr trennbare oder veränderbare Einheit.
Bei dem bekannten Detektorsystem gemäß Fig. 5 sind au
ßer dem bereits erwähnten, evakuierten Glaskörper 6 und
der schichtförmigen, resistiven Anodenstruktur 1 mit
nachgeschalteter Elektronik mit Anschlüssen 13 für
beispielsweise jeweils vier Vorverstärker, eine Elek
tronenkonverterschicht 4 (UV-Quanten-Elektronen-Kon
verterschicht), aufgebracht auf der Innenseite eines
strahlungsdurchlässigen Decksubstrats 10, ein Chev
ron-Plattensystem 3 als Ladungsvervielfacher mit her
ausgeführten Hochspannungszuführungen 9 sowie die auf
der vakuumseitigen Innenfläche des Gegensubstrats 11
aufgebrachte, resistive Anodenstruktur 1 vorhanden.
Eine durch ein UV-Quant auf der Anodenstruktur 1 er
zeugte lokale Ladungslawine ist mit Bezugshinweis 8 an
gegeben.
Ein dem Aufbau nach Fig. 5 prinzipiell ähnliches Detek
torsystem ist in der Druckschrift DE 36 38 893 C2 be
schrieben. Um einen großen dynamischen Zählratenbe
reich zu erhalten, ist dort außerdem die Idee offen
bart, die gleichzeitige Möglichkeit einer elektro
nischen und einer optischen Auslesung vorzusehen. Bei
der elektronischen Auslesung wird jedoch eine Anoden
struktur verwendet, die im Vakuum montiert werden muß.
Dies macht, wie oben erläutert, den Aufbau kompliziert
und teuer. Die Anodenstruktur kann später nicht mehr
verändert oder repariert werden, so daß auch dieses De
tektorsystem mit den oben erläuterten, grundsätzlichen
Problemen behaftet ist.
In der Druckschrift DE 37 04 716 C2 ist ein lediglich für
hochenergetische Photonen geeigneter ortsempfindlich
er Detektor offenbart, bei dem die bildgebende Viel
drahtanode wiederum im Vakuum angeordnet ist. Entspre
chendes gilt für den in der DE-Patentanmeldung gemäß DE
43 10 622 A1 beschriebenen Mikrobilderzeuger, mit dem
sich ebenfalls nur höherenergetische Photonen nachwei
sen lassen, der jedoch keine Elektronenverstärkung er
laubt. Die ortsgebene Auslesung der Signale erfolgt di
rekt über die Ladungssammlung der primären Ionisation,
so daß das dort angewendete Verfahren zu einem wesent
lich anderen Systemaufbau führt als bei Detektoren der
hier in Rede stehenden Art.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei Detektor
einrichtungen der beschriebenen Art für Quanten oder
Teilchenstrahlung eine technisch wesentlich einfache
re und zuverlässigere elektronische Positionierung,
d. h. ortsbezogene Bildsignalauskopplung ohne direkte
elektrische Kontakte durch die Vakuum-Trennwand mit
der Möglichkeit der Anpassung an veränderte Meßaufga
ben zu schaffen.
Die Erfindung ist bei einem Verfahren zur Bildsignal
auskopplung bei positionsgebenden Hochvakuum-Detek
toreinrichtungen für Quanten oder Teilchenstrahlung,
die über eine Elektronen-Vervielfachereinrichtung als
Elektronenlawine auf eine ortsauflösende Anodenstruk
tur auftreffen, dadurch gekennzeichnet, daß die Elek
tronenlawine innerhalb des Vakuums auf der Anodenseite
der Detektoreinrichtung durch eine hochohmige, leiten
de Dünnschicht kurzzeitig örtlich gesammelt bleibt und
die gesammelte Ladung durch eine niederohmige, der
hochohmigen Dünnschicht außerhalb des Vakuums gegenü
berstehend angeordnete und für eine Ortsbestimmung ge
eignet strukturierte Anodenschicht als Bildladung ka
pazitiv durch eine Vakuum-Wand hindurch koppelnd aus
gelesen wird.
Während bei bisherigen Strahlungsquanten-Detektorein
richtungen die ortsauflösende Anodenstruktur im Inne
ren des Hochvakuums angeordnet ist mit einer Mehrzahl
von vakuumdichten Stromdurchführungen für hochfre
quente Signale für die nachgeschaltete Elektronik ohne
nachträgliche Justier- oder Anpassungsmöglichkeit an
unterschiedliche Meßaufgaben, beruht die Erfindung auf
dem Gedanken, die Strahlungsquanteninduzierten La
dungslawinen auf der dem Strahlungseintritt gegenüber
liegenden Innenfläche des Gegensubstrats durch eine
durchgängig einheitliche hochohmig leitende Schicht
kurzzeitig ortsgebunden zu sammeln und dann durch die
Vakuumwand (Substratschicht) hindurch kapazitiv auf
eine niederohmige, strukturierte Anodenschicht außer
halb des Vakuums zu koppeln.
Eine positionsgebende Detektoreinrichtung für elek
tromagnetische Strahlung oder Teilchenstrahlung, bei
der innerhalb eines durch ein flächiges, strahlungs
durchlässiges Decksubstrat und ein auf Abstand dazu ge
haltenes Gegen-Substrat umgrenzten und hochevakuier
ten Raums schichtartig aufeinanderfolgend auf der
Strahlungseinfallseite eine plattenartige Elektronen-
Vervielfacher-Anordnung und dieser auf Abstand gegenü
berstehend eine Flächen-Anode vorhanden sind, ist er
findungsgemäß dadurch gekennzeichnet, daß die Anode
zur kapazitiven, positionsbezogenen Bildsignalausle
sung als Schichtanordnung derart ausgebildet ist, daß
auf der vakuumseitigen Innenfläche des Gegen-Substrats
eine hochohmige Ladungssammelschicht und dieser auf
der Außenfläche des Gegen-Substrats, also außerhalb
des Vakuums gegenüberstehend eine für eine Ortsbestim
mung geeignet strukturierte, niederohmige Anoden
schicht vorhanden sind.
Gegenüber herkömmlichen Detektoreinrichtungen für
elektromagnetische Strahlungsquanten oder Teilchen
strahlung bietet die Erfindung vor allem den Vorteil,
daß vergleichsweise einfache, einheitliche Detektore
lemente oder Baugruppen verwendet werden können, deren
elektronische Positionsauslesung durch unterschiedli
che Strukturierung der niederohmigen, außerhalb des
Vakuums liegenden Anodenschicht an unterschiedliche
Meßaufgaben individuell und optimiert angepaßt werden
können. Ein weiterer wesentlicher Vorteil liegt darin,
daß in das Vakuum keine elektrischen Durchführungen für
hochfrequente Stromimpulse notwendig sind. Außerdem
ergibt sich die Möglichkeit, die Verstärker- und Digi
talisierungselektronik im Verbund mit der niederohmi
gen Anodenstruktur als hochintegrierte Schaltung (z. B.
in SMD Technologie, als Hybrid oder als ASIC) herzu
stellen.
Vorteilhaft ist es, die niederohmige, strukturierte
Anodenschicht etwa in Form einer sogenannten Wedge &
Strip-Anode (Keil- Streifen-Anode) auszubilden, wobei
die Ladungs-Sammelbereiche oder -Sammelschienen für
eine bildladungsanteilige Auslesung an wenigstens
zwei, vorzugsweise an drei Randseiten der Anoden
schicht jeweils im rechten Winkel zueinander stehend
angeordnet sind. Es sind jedoch auch beliebige andere
geeignete Strukturen anwendbar, wie z. B. eine Vernier-
Anode, eine Spiralstruktur, eine Delay-Line-Technik
oder ein Pixelsystem, das mittels eines CCDs digital
ausgelesen wird. Weiterhin ist es notwendig oder zumin
dest zweckmäßig, die inneren Widerstände von Ladungs
sammelschicht einerseits und kapazitiv gekoppelter äu
ßerer Anodenschicht und Folgeelektronik andererseits
im Hinblick auf eine Optimierung der Ortsauflösung zu
wählen unter gleichzeitiger Berücksichtigung des durch
die Gegen-Substratschicht gegebenen Dielektrikums.
Um Bildfehler im Randbereich der Detektoreinrichtung
zu vermeiden, ist es zweckmäßig, die sensitive Fläche
der äußeren, niederohmigen Anodenschicht über die
Bildränder der vakuumseitigen Ladungssammelschicht
hinausragen zu lassen.
Die Erfindung wird
nachfolgend unter Bezug auf die Zeichnungen an einem
Ausführungsbeispiel näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 die Prinzip-Schnittdarstellung einer De
tektoreinrichtung mit positionsgebender Auslesung für
elektromagnetische Strahlungsquanten bzw. Teilchen
strahlung gemäß der Erfindung;
Fig. 2 die Teilschnitt-Darstellung eines Ab
schnitts des Gegen-Substrats der Detektoreinrichtung
nach Fig. 1;
Fig. 3 in schematischer Draufsicht-Darstellung
einen Teilausschnitt einer Wedge & Strip-Anode, wie sie
zur positionsgebenden Bildsignal-Auskopplung gemäß
der Erfindung vorteilhaft verwendet werden kann;
Fig. 4 ein Beispiel für ein Meßergebnis (unten)
unter Verwendung eines Versuchsaufbaus (oben) mit ei
nem erfindungsgemäßen Detektor mit kapazitiv gekoppel
ter, positionsgebender Anodenstruktur; und
Fig. 5 die schematische Schnittdarstellung einer
herkömmlichen, positionsgebenden Detektoreinrichtung
für elektromagnetische Strahlungsquanten oder Teil
chenstrahlung.
Beim Detektorsystem nach Fig. 1 ist das Bildverstärker
system, nämlich die Photoelektronen-Konverterschicht
4, das darunter liegende Chevron-Plattensystem 3 eines
Vielkanal-Elektronen-Multipliers sowie die erfin
dungsgemäße, hochohmige Anodenschicht 1 wie bisher in
ein Hochvakuum 7 eingebaut. Anders als beim Stand der
Technik jedoch ist die komplexe Anodenstruktur 2 zur
elektronischen Positionsauslesung außerhalb des Vaku
ums 7 auf der Rückseite des Detektors, d. h. beispiels
weise auf der Rückseite des Gegen-Substrats 6 aufge
bracht oder angeordnet. Die Übertragung der genauen
Ortsinformation der Position eines einfallenden Strah
lungsquants (UV-Quant) oder Teilchens erfolgt nach
entsprechender Ladungsvervielfachung kapazitiv durch
das vorzugsweise aus Glas bestehende Gegen-Substrat 6
des Bildverstärkersystems auf die außerhalb des Vaku
ums sich befindende niederohmige Anodenstruktur 2.
Diese kapazitive Übertragung ist möglich, weil die auf
der Innenseite des Boden- oder Gegensubstrats 6, also
im Vakuum ausgebildete Ladungssammelschicht als hoch
ohmige (Anoden-)Schicht aufgebracht ist, auf der die
von einem einzelnen Strahlungsquant oder Teilchen in
duzierte Elektronenlawine 8 gesammelt wird und dort we
gen des voraussetzungsgemäß hohen Schichtwiderstands
(Mega-Ohmbereich) einige 10ns verharrt, wie die Fig. 2
verdeutlicht. Diese örtliche Ladungslawine 8 koppelt
kapazitiv durch die Glasschicht des Gegen-Subtrats 6
hindurch und erzeugt auf bzw. in der gegenüberliegen
den, niederohmigen Anodenstruktur 2 eine Bildladung.
Die niederohmige Anodenstruktur 2 kann beispielsweise
als Wedge & Strip-Anode mit drei Kontaktbereichen a, b
und c ausgebildet sein. Die Struktur dieser Anode läßt
sich auf vergleichsweise einfacher Weise an die jeweils
geforderte Positionsauflösung anpassen. Die Anoden
struktur 2 befindet sich dabei auf der Außenseite des
Gegen-Substrats 6, d. h. in normaler Luftatmosphäre.
Die genaue Position der Bildladung läßt sich dann über
entsprechend angepaßte, schnelle ladungsempfindliche
Vorverstärker und eine nicht dargestellte, prinzipiell
bekannte Auswertelogik bestimmen. Die kapazitive Aus
kopplung ermöglicht eine hohe Ortsauflösung, wenn die
inneren Widerstände der beiden Anodenschichten 1, 2 op
timal aufeinander angepaßt werden und die Anodenstruk
tur 2 geometrisch entsprechend hochauflösend struktu
riert ist. Außer einer Wedge & Strip-Anode, wie sie bei
spielsweise in den Veröffentlichungen Lit[1] und [2]
beschrieben ist, kommen auch andere ortsauflösende
Anodenstrukturen im Rahmen der Erfindung in Frage, bei
spielsweise eine Vernier-Anode, eine Anode in Spiral
struktur, eine Delay-Line-Technik oder ein Pixelsy
stem, das mittels eines CCDs digital ausgelesen wird.
Das Prinzip der kapazitiven, ortsbezogenen Signalaus
kopplung für eine digitale Positionsauslesung läßt
sich mit Bezug auf Fig. 2 wie folgt kurz beschreiben:
Die in der Chevron-Platte 3 im Vakuum erzeugte lokale
Ladungswolke 8 trifft auf die hochohmige Anodenschicht
1 auf, die beispielsweise eine Ge-Schicht mit einer
Dicke von einigen 100nm sein kann und verharrt dort für
einige 10ns. Während dieser Zeit baut sich durch kapa
zitive Kopplung auf der anderen, außerhalb des Vakuums
liegenden Seite des Gegen-Substrats 6 auf der niederoh
migen Anodenstruktur 2 eine Bildladung auf. Je nach der
Geometrie dieser niederohmigen Anodenstruktur 2, zum
Beispiel als dreiteilige Wedge-Strip-Anode (vgl. Fig.
3) ist jeder Ort durch ein spezifisches Bildladungsver
hältnis eindeutig bestimmt. Für eine niederohmige Ano
denstruktur kann diese Bildladungsverteilung durch
schnelle Elektronik-Komponenten bestimmt werden. Aus
den Verhältnissen der Bildladungen Q1, Q2 und Q3 kann
wiederum der Ort X, Y in der Bildebene präzise ermittelt
werden gemäß folgenden Beziehungen:
Eine auf der Anodenstruktur 2 sich ausbildende Bildla
dungswolke 20 ist in Fig. 3 durch einen schraffierten
Bereich angedeutet.
Mit einer erfindungsgemäßen Detektoreinrichtung las
sen sich Einzelereignisse mit sehr hoher ortsbezogener
Zeitauflösung erfassen. Die örtliche Auflösung beträgt
bei den zur Zeit in der Erprobung befindlichen Detekto
ren etwa 1/250 der Detektorbreite oder bei Verwendung
geeigneter Linsensysteme 0,5°.
Fig. 4 zeigt einen Meßaufbau (oben) und Ergebnisse (un
ten) zur Positionsbestimmung von einfallender Strah
lung. Als Strahlungsquelle 22 wurde ein Alphateilchen
strahlendes radioaktives Präparat verwendet. Bei die
ser Anordnung entfällt das strahlungsdurchlässige
Decksubstrat und die Photoelektronen-Konverter
schicht, da die Alphateilchen direkt am Eintritt in die
Chevron-Platte 3 Elektronen freisetzen können. Zwi
schen der Strahlungsquelle 22 und der Chevron-Platte 3
ist eine Schattenmaske 21 aus 0,2 mm dicken Drähten an
gebracht, deren Bild elektronisch erfaßt werden soll.
Das untere Bild der Fig. 4 zeigt das über die Wedge &
Stripstruktur der niederohmigen Anode 2 und die Folgee
lektronik aufgenommene Schattenbild der senkrecht zu
einander gespannten Drähte der Schattenmaske 2. Das bei
diesen Messungen ermittelte Auflösungsvermögen lag bei
unter 0,2 mm, bedingt durch die Wahl der Anodenstruk
tur.
Die besonderen Vorteile der Erfindung lassen sich wie
folgt zusammenfassen:
- 1. Die erfindungsgemäße Art der Bildsignalauskopp lung benötigt im Vakuum nur eine einfache hochohmige Monoschicht mit einer einzigen durchgeführten Span nungskontaktierung. Es werden keine Durchführungen für hochfrequente Stromimpulse benötigt. Dies führt zu ei ner wesentlichen Vereinfachung der Herstellung des Va kuum-Bauteils.
- 2. Im Vergleich zu herkömmlichen Detektoren dieser Art wird zwischen der Channel- oder Chevron-Platte 3 und der hochohmigen Anodenschicht 1 nur eine moderate Span nung von typischerweise 200 Volt benötigt, die einen einfacheren und zuverlässigeren Betrieb des Detektors ermöglicht. Damit wird die Dunkelentladungsrate des Detektorsystems merklich reduziert und eine Zerstörung der Anodenstruktur durch Spannungsüberschläge im De tektor praktisch ausgeschlossen.
- 3. Die ortsauflösende, niederohmige Anodenstruktur 2 ist außerhalb des Vakuums 7 angeordnet und läßt sich den Anwenderwünschen entsprechend nahezu beliebig anpas sen und austauschen, so daß eine Anpassung an die Genau igkeit der Ortsbestimmung individuell in einem weiten Bereich an jedes Anwenderproblem möglich ist, zum Bei spiel eine relative Ortsauflösung von 1 bis 0,1%.
- 4. Die Verstärker- und Digitalelektronik 5 läßt sich in moderner SMD- oder Hybrid-Technik direkt an der Ano denstruktur 2 außerhalb des Vakuums integriert anset zen, wodurch sich eine wesentlich bessere Auflösung so wie eine deutliche Vereinfachung der Elektronik mit entsprechenden Kosteneinsparungen ergibt. Die orts auflösende, niederohmige Anodenstruktur 2 läßt sich entweder auf einer getrennten Platte oder direkt auf die Außenseite der Vakuumtrennwände des Gegen-Sub strats 6 aufbringen.
- 5. Die Anodenstruktur 2 außerhalb des Vakuums 7 läßt sich mit größerer sensitiver Fläche anbringen als es der Chevron- oder Channel-Platte 3 entspricht. Dadurch können Bildfehler am Bildrand vermieden werden.
Claims (14)
1. Verfahren zur elektronischen, kontaktlosen Bild
signalauskopplung bei positionsgebenden Hochvakuum-
Detektoreinrichtungen für elektromagnetische Strah
lungsquanten oder Teilchenstrahlung, die über eine
Elektronen-Vervielfachereinrichtung (3) als Elektro
nenlawine (8) auf eine ortsauflösende Anodenstruktur
auftreffen, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektro
nenlawine (8) innerhalb des Vakuums (7) auf der Anoden
seite der Detektoreinrichtung durch eine hochohmige,
leitende Dünnschicht (1) kurzzeitig gesammelt und die
gesammelte Ladung durch eine niederohmige, der hochoh
migen Dünnschicht (1) außerhalb des Vakuums (7) gegenü
berstehend angeordnete und für eine Ortsbestimmung ge
eignet strukturierte Anodenschicht (2) als Bildladung
kapazitiv ausgelesen wird.
2. Positionsgebende Detektoreinrichtung für elektro
magnetische- oder Teilchen-Strahlung zur Durchführung des Verfahrens
nach Anspruch 1, bei der inner
halb eines durch ein flächiges, strahlungsdurchlässi
ges Decksubstrat (12) und ein auf Abstand dazu gehalte
nes Gegen-Substrat (6) umgrenzten und hochevakuierten
Raums (7) schichtartig aufeinanderfolgend auf der
Strahlungseinfallseite eine plattenartige Elektronen-
Vervielfacheranordnung (3) und dieser auf Abstand ge
genüberstehend eine Flächenanode (1) vorhanden sind,
dadurch gekennzeichnet, daß die Anode zur kapazitiven,
positionsbezogenen Bildsignalauslesung als Schicht
anordnung derart ausgebildet ist, daß auf der vakuum
seitigen Innenfläche des Gegen-Substrats (6) eine
hochohmige Ladungssammelschicht (1) und dieser auf der
Außenfläche des Gegen-Substrats (6) gegenüberstehend
eine für eine Ortsbestimmung geeignete, strukturierte,
niederohmige Anodenschicht (2) vorhanden sind.
3. Detektoreinrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die vakuumseitige, hochohmige La
dungssammelschicht (1) als einheitlich flächige Mono
schicht auf dem Gegen-Substrat (6) ausgebildet und über
eine vakuumdichte Durchführung (11) von außen mit einem
Hochspannungspotential beaufschlagbar ist.
4. Detektoreinrichtung nach Anspruch 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Ladungssammelschicht (1) eine
hochohmige Halbleiterschicht ist.
5. Detektoreinrichtung nach Anspruch 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Ladungssammelschicht (1) eine
Germanium (Ge-)Schicht ist.
6. Detektoreinrichtung nach einem der vorstehenden
Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
strukturierte, niederohmige Anodenschicht (2) in Form
einer Wedge & Strip-Anode ausgebildet ist mit Sammel
schienen (a, b, c) für bildladungsanteilige Ladungs
auslesung an wenigstens zwei im rechten Winkel zueinan
der stehenden Randseiten der Anodenschicht (2).
7. Detektoreinrichtung nach einem der vorstehenden
Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
strukturierte, niederohmige Anodenschicht (2) in Form
einer Vernier-Anode ausgebildet ist.
8. Detektoreinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis
5, dadurch gekennzeichnet, daß die strukturierte, nie
derohmige Anodenschicht (2) Spiralstruktur aufweist.
9. Detektoreinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis
5, dadurch gekennzeichnet, daß die strukturierte, nie
derohmige Anodenschicht (2) als Delay-Line-Schicht
ausgebildet ist.
10. Detektoreinrichtung nach einem der Ansprü
che 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die struktu
rierte, niederohmige Anodenschicht (2) in Form eines
Pixelsystems ausgebildet ist, das mittels eines CCDs
digital ausgelesen wird.
11. Detektoreinrichtung nach einem der vorste
henden Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß
die strukturierte Anodenschicht (2) auf eine separate
Platte (10) aufgebracht ist, die mechanisch an die Au
ßenfläche des Gegensubstrats (6) angepaßt ist.
12. Detektoreinrichtung nach einem der Ansprü
che 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die struktu
rierte Anodenschicht (2) direkt auf die Außenfläche des
Gegensubstrats (6) aufgebracht ist.
13. Detektoranordnung nach einem der vorste
henden Ansprüche 2 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß
die inneren Widerstände von Ladungssammelschicht (1)
und kapazitiv gekoppelter äußerer Anodenschicht (2) im
Hinblick auf eine Optimierung der Ortsauflösung ge
wählt sind.
14. Detektoreinrichtung nach einem der vorstehenden
Ansprüche 2 bis 1, dadurch gekennzeichnet, daß die äu
ßere, niederohmige Anodenschicht (2) eine über die
Bildränder der vakuumseitigen Ladungssammelschicht
(1) hinausragende, sensitive Fläche aufweist, so daß
Bildfehler im Randbereich vermieden werden.
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Owner name: ROENTDEK-HANDELS GMBH, 65779 KELKHEIM, DE |
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